KR20190041204A - Reclamation apparatus used for salts removal - Google Patents

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KR20190041204A
KR20190041204A KR1020170132494A KR20170132494A KR20190041204A KR 20190041204 A KR20190041204 A KR 20190041204A KR 1020170132494 A KR1020170132494 A KR 1020170132494A KR 20170132494 A KR20170132494 A KR 20170132494A KR 20190041204 A KR20190041204 A KR 20190041204A
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박수율
고민수
전유일
윤호병
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삼성중공업 주식회사
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

A post-treatment apparatus for salt removal is disclosed. The post-treatment apparatus for salt removal according to an embodiment of the present invention comprises: a salt removing unit for removing salts by evaporating MEG from a MEG mixed fluid in a vacuum-depressurized state; a cooler for cooling the evaporated MEG; a vacuum receiver provided at a rear end of the cooler; and an ejector for ejecting the fluid introduced from an inlet side to an outlet at a high speed to recover gas in the vacuum receiver so as to make the vacuum receiver and the salt removing unit forming a front end thereof into a vacuum state. The post-treatment apparatus for salt removal according to the embodiment of the present invention can effectively remove the salts from the MEG mixed fluid by turning a post-treatment process into a vacuum state by the ejector.

Description

염 제거용 후처리장치{RECLAMATION APPARATUS USED FOR SALTS REMOVAL}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a post-

본 발명은 염 제거용 후처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a post-treatment apparatus for desalting.

심해에서 천연가스의 생산 시, 저온 고압의 조건으로 인해 천연가스에 포함된 물은 하이드레이트(hydrate)로 존재한다. 파이프라인을 통하여 천연가스를 공급하는 경우, 하이드레이트가 파이프라인의 내측을 타격하여 손상을 주거나 부식시킬 수 있으며, 심한 경우 파이프라인이나 가스전이 막히는 사고가 발생할 수 있다. 따라서, 하이드레이트의 생성을 억제하기 위하여 MEG(Mono Ethylene Glycol; 모노에틸렌글리콜)를 주입한다.In the production of natural gas in the deep sea, water contained in natural gas exists as a hydrate due to the conditions of low temperature and high pressure. When natural gas is supplied through the pipeline, the hydrate may strike the inside of the pipeline to damage or corrode it, and in severe cases, a pipeline or a gas field may be clogged. Therefore, MEG (Mono Ethylene Glycol) is injected to inhibit the formation of hydrate.

MEG는 습기를 흡수하는 강력한 친수성을 갖고 있으며, 투입된 양의 90% 이상이 해양 생산 탑 상부에서 회수될 수 있어 경제적으로 사용 가능한 장점이 있다. 생산 탑 상부에서 회수된 MEG 용액은 물, 고용해도염, 저용해도염 등의 불순물을 포함하고 있으므로, MEG 재생 공정을 통해 물과 염을 제거하여 고농도의 MEG를 추출한다.MEG has a strong hydrophilic property to absorb moisture, and more than 90% of the input amount can be recovered from the upper part of the ocean production tower, which is economically advantageous. Since the MEG solution recovered from the upper part of the production tower contains impurities such as water, solubilizing salt and low solubility salt, the MEG regeneration process removes water and salts to extract MEG of high concentration.

MEG 재생 공정은 MEG 용액을 한 번에 기화하여 염을 제거하는 전체 처리방식(FULL STREAM CONCEPT)과, 전처리 과정을 통해 저용해도염을 먼저 제거한 후 용액을 증발시키고 흐름 중 일부를 빼내어 고용해도염을 제거하는 일부 처리방식(SLIP STREAM CONCEPT)이 있다. The MEG regeneration process consists of a full treatment method (vapor treatment) in which the MEG solution is vaporized at one time to remove the salt, and a pretreatment process is performed to remove the salt first, then to evaporate the solution, There are some processing methods to remove (SLIP STREAM CONCEPT).

도 1은 종래 전체 처리방식 및 일부 처리방식의 처리 과정을 나타낸 것이다.FIG. 1 shows the processing procedure of the entire conventional processing method and some processing methods.

도 1의 (a)를 참조하면, 전체 처리방식은 전처리장치(10)에 의해 MEG 혼합유체 중 탄화수소(Hydrocarbon)를 제거한다. Referring to FIG. 1 (a), the entire treatment system removes hydrocarbons in the MEG mixed fluid by the pretreatment apparatus 10.

다음으로, 후처리장치(20)는 기화(Flash)를 이용하여 고용해도염과 저용해도염을 제거한다. Next, the post-treatment apparatus 20 removes the salt and the low-solubility salt even if it is solubilized by using the flash.

다음으로, 수분처리장치(30)는 끊는점 차이를 이용하여 물을 제거한다. Next, the water treatment apparatus 30 removes water by using a breaking point difference.

도 1의 (b)를 참조하면, 일부 처리방식은 전처리장치(40)에 의해 MEG 혼합유체 중 저용해도염과 탄화수소를 제거한다.Referring to FIG. 1 (b), some of the treatment methods remove low solubility salts and hydrocarbons in the MEG mixed fluid by the pretreatment device 40.

다음으로, 수분처리장치(50)는 MEG 혼합유체에서 물을 증발시키며, 해당 MEG 혼합유체의 일부 흐름은 후처리장치(60)로 제공된다.Next, the water treatment apparatus 50 evaporates water in the MEG mixed fluid, and a part of the flow of the MEG mixed fluid is supplied to the post-treatment apparatus 60.

후처리장치(60)는 수분처리장치(50)를 거친 MEG 혼합유체에서 고용해도염을 제거한다. 고용해도염이 제거된 MEG에는 소량의 물이 포함될 수 있으며, 앞서 수분처리장치(50)에 의해 물이 제거된 MEG 혼합유체 흐름에 합류된다.The post-treatment apparatus 60 removes the salt even when it is used in the MEG mixed fluid through the water treatment apparatus 50. The saline-free MEG may include a small amount of water, and it is joined to the MEG mixed fluid stream from which the water has previously been removed by the water treatment device 50.

상술한 전체 처리방식은 모든 염을 기화(Flash)를 이용하여 모두 제거하기 때문에 염에 의한 문제는 발생하지 않지만, 염을 제거하기 위하여 MEG 혼합유체 전체를 기화시켜야 하기 때문에 많은 양의 에너지가 소모된다.The above-mentioned whole treatment method does not cause any problem due to salt because all the salts are removed by using the flash, but a large amount of energy is consumed because the entire MEG mixed fluid must be vaporized to remove the salt .

또, 일부 처리방식은 제거해야 하는 염을 고용해도염과 저용해도염으로 분류한다. 저용해도염은 물에 잘 녹지 않는 염으로 Ca2+, Mg2+, Ba2+ 등이 있다. 이는 용해도가 낮고, 쉽게 침적되어 장치에 스케일을 발생시켜 공정 효율을 나빠지게 하므로 모두 제거해야 한다. 반면, 고용해도염은 Na2+, K2+ 등이 있는데, 이러한 염들은 용해도가 커서 모두 제거할 필요가 없다. In addition, some treatment methods are classified as salt and low-solubility salts even if the salt to be removed is solubilized. Low solubility salts are salts that are not soluble in water and include Ca2 +, Mg2 +, and Ba2 +. This should be eliminated, since it is low in solubility and easily deposited to scale the device and degrade process efficiency. On the other hand, the solute salt is Na2 +, K2 +, etc., and these salts do not need to be removed because of their high solubility.

고용해도염 제거를 위해, 전체 처리방식 및 일부 처리방식은 MEG 혼합유체를 낮은 온도에서 증발시키기 위해 진공펌프를 이용하여 감압하게 된다. 이때, 예컨대 수봉식 진공펌프(Liquid Ring Vacuum Pump)가 이용될 수 있다.For salt removal by solubilization, the entire treatment regime and some treatment regimes are depressurized using a vacuum pump to evaporate the MEG mixed fluid at low temperatures. At this time, for example, a liquid ring vacuum pump may be used.

그러나, 종래의 진공펌프를 이용하여 운전 시 도달 압력에 한계가 있고, 다량의 보급수를 필요로 하는 문제점이 있다. However, there is a problem in that the reaching pressure during operation is limited by using a conventional vacuum pump, and a large amount of water is required.

또, 물의 온도에 따라 성능이 변하고, 진공펌프 내 물을 회전시켜야 하므로 큰 구동 동력이 필요하다. In addition, since the performance varies with the temperature of the water and the water in the vacuum pump must be rotated, a large driving power is required.

상술한 내용과 관련된 기술로서 한국공개특허 제10-2016-0001283호(2016.01.06. 공개)를 참조하기 바란다.Please refer to Korean Patent Laid-Open No. 10-2016-0001283 (published on June 01, 2016) as a technology related to the above-mentioned contents.

한국공개특허 제10-2016-0001283호(2016.01.06. 공개)Korean Patent Laid-Open No. 10-2016-0001283 (published on June 1, 2016)

본 발명의 실시 예는 이젝터에 의해 후처리공정을 진공 상태로 만들어 MEG 혼합유체로부터 효과적으로 염을 제거할 수 있는 염 제거용 후처리장치를 제공하고자 한다.An embodiment of the present invention is to provide a post-treatment apparatus for removing a salt effectively from a MEG mixed fluid by turning a post-treatment process into a vacuum state by an ejector.

본 발명의 일 측면에 따르면, 진공의 감압된 상태에서 MEG 혼합유체로부터 MEG를 증발시켜 염(salts)을 제거하는 염제거부; 상기 증발된 MEG를 냉각시키는 냉각기; 상기 냉각기 후단에 마련된 진공리시버; 입구 쪽에서 유입된 유체를 출구 쪽으로 고속 분출시켜 상기 진공리시버 내의 기체를 회수하여 상기 진공리시버 및 그 전단을 구성하는 상기 염제거부를 진공 상태로 만드는 이젝터;를 포함하는 염 제거용 후처리장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method for removing MEG from a MEG mixed fluid in a vacuum depressurized state to remove salts; A cooler for cooling the evaporated MEG; A vacuum receiver disposed downstream of the cooler; There is provided an apparatus for desalting treatment for desalting, comprising: an ejector for rapidly injecting a fluid introduced from an inlet side into an outlet so as to recover gas in the vacuum receiver to turn the vacuum receiver and the defatting unit constituting the front end thereof into a vacuum state; .

상기 이젝터를 통과한 유체를 가열하는 히터와, MEG, 염 및 물이 혼합된 MEG 혼합유체와 상기 가열된 유체간 열교환을 수행하여, 상기 MEG 혼합유체에서 수분을 증발시키는 열교환부와, 상기 이젝터, 히터 및 열교환부를 연결하며, 상기 이젝터를 통과한 유체를 상기 히터를 거쳐 상기 열교환부로 제공하는 제1공급라인과, 상기 열교환부, 히터 및 염제거부를 연결하며, 상기 열교환에 의해 수분이 증발된 상기 MEG 혼합유체를 상기 염제거부로 제공하는 제2공급라인을 더 포함할 수 있다.A heat exchanger for performing heat exchange between the MEG mixed fluid in which MEG, salt, and water are mixed and the heated fluid to evaporate moisture in the MEG mixed fluid; A first supply line connecting the heater and the heat exchange unit to the heat exchanger through the heater, and a second supply line connecting the heat exchanger, the heater and the rejection unit, and the moisture is evaporated by the heat exchange, And a second supply line for providing the MEG mixed fluid to the rejection.

상기 열교환에 의해 증발된 수분을 액화시키는 액화기와, 상기 액화기의 하류에 마련된 환류드럼과, 상기 열교환부, 액화기, 환류드럼 및 이젝터를 연결하며, 상기 액화된 수분 중 일부를 상기 환류드럼으로부터 상기 이젝터 입구 쪽으로 유입시켜 상기 진공 상태 형성을 위한 유체로 제공하는 유체제공라인을 더 포함할 수 있다.A reflux drum provided downstream of the liquefier and a heat exchanger, a liquefier, a reflux drum and an ejector, and a part of the liquefied moisture is discharged from the reflux drum And a fluid supply line that flows into the ejector inlet side to provide a fluid for forming the vacuum state.

본 발명의 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치는 이젝터에 의해 후처리공정을 진공 상태로 만들어 MEG 혼합유체로부터 효과적으로 염을 제거할 수 있다.The post-treatment apparatus for desalting according to the embodiment of the present invention can effectively remove the salt from the MEG mixed fluid by turning the post-treatment process into a vacuum state by the ejector.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

도 1은 종래 전체 처리방식 및 일부 처리방식의 처리 과정을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치를 나타낸 것이다.
FIG. 1 shows the processing procedure of the entire conventional processing method and some processing methods.
2 shows a post-treatment apparatus for desalting according to an embodiment of the present invention.
3 shows a post-treatment apparatus for desalting according to another embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명의 실시 예들을 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하에 소개되는 실시 예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 본 발명은 이하 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 도면에서 생략하였으며 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below are provided by way of example so that those skilled in the art will be able to fully understand the spirit of the present invention. The present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In order to clearly explain the present invention, parts not related to the description are omitted from the drawings, and the width, length, thickness, etc. of the components may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)는 진공의 감압된 상태에서 MEG 혼합유체로부터 MEG를 증발시켜 염(salts)을 제거하는 염제거부(110)와, 염제거부(110)를 통과한 증발된 MEG를 냉각시키는 냉각기(120)와, 냉각기(120) 후단에 마련된 진공리시버(130)와, 입구 쪽에서 유입된 유체를 출구 쪽으로 고속 분출시켜 진공리시버(130) 내의 기체를 회수하여 진공리시버(130) 및 그 전단을 구성하는 염제거부(110)를 진공 상태로 만드는 이젝터(140)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the post-treatment apparatus 100 for removing salts according to an embodiment of the present invention includes a dechlorination unit 110 for removing salts by evaporating MEG from a MEG mixed fluid under vacuum, A cooler 120 for cooling the vaporized MEG that has passed through the decanter 110, a vacuum receiver 130 provided at the rear end of the cooler 120, and a vacuum receiver 130 for rapidly ejecting the fluid, And an ejector 140 for evacuating the vacuum receiver 130 and the defatting unit 110 constituting the front end of the vacuum receiver 130 to a vacuum state.

본 발명의 일 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)가 전체 처리방식(FULL STREAM CONCEPT)에 적용될 경우, MEG, 물, 고용해도염, 저용해도염 및 탄화수소가 혼합된 MEG 혼합유체가 전처리장치(10, 도 1의 (a) 참조)에 의해 탄화수소가 제거된 상태에서 염제거부(110)로 유입될 수 있다. 이때, MEG 혼합유체에는 다량의 물과, MEG, 고용해도염, 저용해도염이 함유되어 있다.When the post-treatment apparatus 100 for salt removal according to an embodiment of the present invention is applied to a full treatment method, an MEG mixed fluid in which MEG, water, an ammonium salt, a low solubility salt and a hydrocarbon are mixed Can be introduced into the desorbent 110 in a state in which hydrocarbons are removed by the pretreatment apparatus 10 (see Fig. 1 (a)). At this time, the MEG mixed fluid contains a large amount of water, MEG, solute salt, and low solubility salt.

이 경우, 염제거부(110)는 후술할 이젝터(140)에 의해 진공의 감압된 상태가 되어 MEG 혼합유체로부터 MEG를 증발시키고, 고용해도염 및 저용해도염을 제거할 수 있다. 예컨대, 고용해도염은 고체 상태로 결정되어 제거될 수 있다. 이때, 도시하지는 않았으나 염제거부(110)는 염 제거를 위한 분리기를 포함할 수 있다. In this case, the deionized water 110 is depressurized by the ejector 140, which will be described later, to evaporate the MEG from the MEG mixed fluid and remove the salt and the low-solubility salt by solubilization. For example, the salt can be determined to be in a solid state and removed when it is solubilized. At this time, although not shown, the decontamination unit 110 may include a separator for removing the salt.

또, 본 발명의 일 실시예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)가 일부 처리방식(SLIP STREAM CONCEPT)에 적용될 경우, MEG, 물, 고용해도염, 저용해도염 및 탄화수소가 혼합된 MEG 혼합유체가 전처리장치(40, 도 1의 (b) 참조) 및 수분처리장치(50, 도 1의 (b) 참조)에 의해 저용해도염 및 탄화수소, 물이 제거된 상태에서 열교환부(160)로 유입될 수 있다. 이때, MEG 혼합유체에는 소량의 물과, MEG, 고용해도염이 함유되어 있다.When the post-treatment apparatus 100 for desalting according to an embodiment of the present invention is applied to some treatment method (SLIP STREAM CONCEPT), a MEG mixed with MEG, water, an ammonium sulfate salt, a low solubility salt and a hydrocarbon The fluid is supplied to the heat exchanging unit 160 in a state where the salt is low in solubility by the pretreatment apparatus 40 (see FIG. 1B) and the water treatment apparatus 50 (see FIG. 1B) Can be introduced. At this time, the MEG mixed fluid contains a small amount of water, MEG, and solute salt.

이 경우, 염제거부(110)는 후술할 이젝터(140)에 의해 진공의 감압된 상태가 되어 MEG 혼합유체로부터 MEG를 증발시키고, 고용해도염을 제거할 수 있다.In this case, the deionized water 110 becomes a vacuum-depressurized state by an ejector 140 to be described later, so that the MEG can be evaporated from the MEG mixed fluid, and the salt can be removed even if it is solubilized.

냉각기(120)는 염제거부(110)를 거쳐 증발된 MEG를 냉각시켜 액체 상태로 만든다. 해당 증발된 MEG에는 물이 포함될 수 있다.The cooler 120 cools the vaporized MEG via the dechlorination 110 and turns it into a liquid state. The vaporized MEG may contain water.

진공리시버(130)는 후술할 이젝터(140)에 의해 진공 상태가 되며, 이를 통해 공정의 안정성 및 버퍼(buffer)를 확보할 수 있다. 냉각기(120)로부터 유입된 액체 상태의 MEG는 진공리시버(130)를 거쳐 배출펌프(125)를 통해 다음 공정으로 배출된다. 이때, 액체 상태의 MEG는 진공리시버(130)를 거치면서 일부 증발이 이루어져 기체 상태가 되고, 기체 상태의 MEG는 이젝터(140)에 의해 회수되어 이젝터(140)의 출구를 통해 분출되는 유체에 혼합될 수 있다.The vacuum receiver 130 is brought into a vacuum state by an ejector 140 to be described later, thereby securing process stability and a buffer. The liquid MEG introduced from the cooler 120 is discharged to the next process via the vacuum receiver 130 and the discharge pump 125. At this time, the liquid MEG is partially evaporated through the vacuum receiver 130 to be in a gaseous state, and the gaseous MEG is recovered by the ejector 140 and mixed with the fluid ejected through the outlet of the ejector 140 .

본 발명의 일 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)가 전체 처리방식에 적용될 경우, 상술한 배출펌프(125)를 통해 배출된 액체 상태의 MEG는 수분 제거를 위해 수분처리장치(30, 도 1의 (a) 참조)로 보내질 수 있다.When the post-treatment apparatus 100 for desalting according to an embodiment of the present invention is applied to the entire treatment method, the liquid MEG discharged through the discharge pump 125 described above is supplied to the water treatment apparatus 30 , See Fig. 1 (a)).

또, 본 발명의 일 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)가 일부 처리방식에 적용될 경우, 상술한 배출펌프(125)를 통해 배출된 액체 상태의 MEG는 수분처리장치(50, 도 1의 (b) 참조)를 거친 MEG 혼합유체의 흐름에 합류될 수 있다.In addition, when the post-treatment apparatus 100 for desalting according to an embodiment of the present invention is applied to some treatment methods, the liquid MEG discharged through the discharge pump 125 described above is supplied to the water treatment apparatus 50 1 (b)). ≪ / RTI >

이젝터(140)는 입구 쪽에서 유입된 중압 또는 고압의 유체를 고속 분출시켜 진공리시버(130) 내의 기체를 회수하여 진공리시버(130) 및 그 전단을 구성하는 염제거부(110)를 진공 상태로 만든다. 이때 회수된 기체에는 상술한 바와 같이 진공리시버(130)를 거치면서 일부 증발이 이루어진 MEG를 포함할 수 있다. The ejector 140 recovers the gas in the vacuum receiver 130 by ejecting the medium or high pressure fluid introduced from the inlet side at a high speed so as to vacuum the vacuum receiver 130 and the defatted refuse 110 constituting the front end of the vacuum receiver 130. At this time, the recovered gas may include an MEG that has been partially evaporated while passing through the vacuum receiver 130 as described above.

이젝터(140)를 통과한 중압 또는 고압의 유체는 저압의 고온 유체로 변화된다. 이러한 이젝터(140)에 사용되는 유체는 스팀, 물, 오일 등을 포함할 수 있다. 이젝터(140)는 예컨대 1단으로 이루어질 수 있고, 흡인 압력은 100 ~ 760 torr, 도달 압력은 50 torr로 공정 운전 조건에 부합할 수 있다.The medium or high-pressure fluid that has passed through the ejector 140 is changed to a low-temperature, high-temperature fluid. The fluid used for the ejector 140 may include steam, water, oil, and the like. The ejector 140 can be, for example, a single stage, and can meet the process operating conditions at a suction pressure of 100 to 760 torr and a final pressure of 50 torr.

상술한 바와 같이, 진공리시버(130) 및 그 전단을 구성하는 염제거부(110)를 진공 상태로 만드는 이젝터(140)를 염 제거용 후처리장치(100)에 구성함으로써, 별도의 가동부 및 윤활이 필요 없고, 간편한 조작 및 유지보수가 이루어질 수 있다. 또한, 설계, 제작에 대한 용량 제한이 없고, 설치 및 부식성 유체에 대한 재료 선택이 용이하고, 설치 후 교체 주기가 길어질 수 있다.As described above, by constituting the vacuum receiver 130 and the ejector 140 that makes the salt rejection 110 constituting the front end of the vacuum receiver 130 into a vacuum state in the post-treatment apparatus 100 for desalination, So that the operation and maintenance can be performed easily. In addition, there is no capacity limitation for designing and manufacturing, the material selection for installation and corrosive fluid is easy, and the replacement period after installation may be long.

도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)는 이젝터(140)를 통과한 유체를 가열하는 히터(150)와, MEG 혼합유체와 가열된 유체간 열교환을 수행하여, MEG 혼합유체에서 수분을 증발시키는 열교환부(160)와, 이젝터(140), 히터(150) 및 열교환부(160)를 연결하여, 이젝터(140)를 통과한 유체를 히터(150)를 거쳐 열교환부(160)로 제공하는 제1공급라인(L1)과, 열교환부(160), 히터(150) 및 염제거부(110)를 연결하여, 열교환된 MEG 혼합유체를 염제거부(110)로 제공하는 제2공급라인(L2)과, 열교환에 의해 증발된 수분을 액화시키는 액화기(170)와, 액화기(170)의 하류에 마련된 환류드럼(180)과, 열교환부(160), 액화기(170), 환류드럼(180) 및 이젝터(140)를 연결하며, 액화기(170)에 의해 액화된 수분 중 일부를 환류드럼(180)을 거쳐 이젝터(140) 입구 쪽으로 유입시켜 진공 상태 형성을 위한 유체로 제공하는 유체제공라인(L4)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, a post-treatment apparatus 100 for desalting according to another embodiment of the present invention includes a heater 150 for heating a fluid that has passed through an ejector 140, a heat exchanger The heat exchanging unit 160 for evaporating water in the MEG mixed fluid and the ejector 140 and the heater 150 and the heat exchanging unit 160 are connected to the heater 150 The heat exchanging unit 160, the heater 150 and the desiccant 110 are connected to the first supply line L1 through the first supply line L1 and the second supply line L1 to the heat exchanging unit 160, A reflux drum 180 provided downstream of the liquefier 170, a heat exchanger 160, and a second heat exchanger 160. The heat exchanger 160 is connected to the heat exchanger 160, A part of the water liquefied by the liquefier 170 flows toward the inlet of the ejector 140 via the reflux drum 180. The liquid refiner 170 is connected to the reflux drum 180 and the ejector 140, By it may include a fluid supply line (L4) for providing a fluid for vacuum forming.

본 발명의 다른 실시 예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)가 전체 처리방식에 적용될 경우, MEG, 물, 고용해도염, 저용해도염 및 탄화수소가 혼합된 MEG 혼합유체가 전처리장치(10, 도 1의 (a) 참조)에 의해 탄화수소가 제거된 상태에서 열교환부(160)로 유입될 수 있다. 이때, MEG 혼합유체에는 다량의 물과, MEG, 고용해도염, 저용해도염이 함유되어 있다.When the salt removal post-treatment apparatus 100 according to another embodiment of the present invention is applied to the entire treatment method, the MEG mixed fluid in which the MEG, water, solvant bile salt, low solubility salt and hydrocarbon are mixed is supplied to the pretreatment apparatuses 10, (See FIG. 1 (a)), the hydrocarbon may be introduced into the heat exchanging unit 160 in a state where the hydrocarbon is removed. At this time, the MEG mixed fluid contains a large amount of water, MEG, solute salt, and low solubility salt.

또, 본 발명의 다른 실시예에 따른 염 제거용 후처리장치(100)가 일부 처리방식(SLIP STREAM CONCEPT)에 적용될 경우, MEG, 물, 고용해도염, 저용해도염 및 탄화수소가 혼합된 MEG 혼합유체가 전처리장치(40, 도 1의 (b) 참조) 및 수분처리장치(50, 도 1의 (b) 참조)에 의해 저용해도염 및 탄화수소, 물이 제거된 상태에서 열교환부(160)로 유입될 수 있다. 이때, MEG 혼합유체에는 소량의 물과, MEG, 고용해도염이 함유되어 있다.In addition, when the post-treatment apparatus 100 for desalting according to another embodiment of the present invention is applied to some treatment method (SLIP STREAM CONCEPT), a MEG mixed with water, an ammonium salt, a low solubility salt and a hydrocarbon The fluid is supplied to the heat exchanging unit 160 in a state where the salt is low in solubility by the pretreatment apparatus 40 (see FIG. 1B) and the water treatment apparatus 50 (see FIG. 1B) Can be introduced. At this time, the MEG mixed fluid contains a small amount of water, MEG, and solute salt.

열교환부(160)는 MEG 혼합유체에서 수분을 증발시키기 위해 증류탑으로 마련되어 분류 증류방식으로 수분을 증발시킬 수 있다. 이젝터(140)를 통과한 유체는 히터(150)에 의해 가열되고, 열교환부(160)는 해당 유체(예컨대 저압 고온의 스트림)를 이용하여 MEG 혼합유체를 가열하여 끊는점이 가장 낮은 수분을 증발시킬 수 있다. 이젝터(140)를 통과하여 열교환부(160)로 유입되는 유체에는 진공리시버(130)로부터 회수된 MEG 기체 성분이 포함될 수 있다. 이러한 MEG 기체 성분은 이후 열교환부(160)를 거쳐 다시 염제거부(110)로 제공될 수 있으므로 MEG 손실을 효과적으로 줄일 수 있다.The heat exchanging unit 160 may be provided as a distillation tower for evaporating moisture in the MEG mixed fluid, and may be used to evaporate moisture by a distillation method. The fluid that has passed through the ejector 140 is heated by the heater 150 and the heat exchanger 160 heats the MEG mixed fluid by using the fluid (for example, a stream of low pressure and high temperature) . The fluid passing through the ejector 140 and flowing into the heat exchanging unit 160 may contain the MEG gas component recovered from the vacuum receiver 130. The MEG gas component may be supplied to the rejection unit 110 through the heat exchanger 160, thereby effectively reducing the MEG loss.

구체적으로, MEG 혼합유체에 포함된 수분의 끊는점은 대기압에서 100℃이고, MEG의 끊는점은 198℃ 정도이다. 고용해도염의 끊는점은 MEG보다 훨씬 높다. 열교환부(160)는 100℃로 MEG 혼합유체를 가열하여 끊는점이 가장 낮은 수분을 증발시킬 수 있다. 이때, 열교환부(160)는 다단 증류를 통해 반복적으로 수분을 증발시킬 수 있다. Specifically, the breaking point of moisture contained in the MEG mixed fluid is 100 ° C at atmospheric pressure, and the breaking point of the MEG is about 198 ° C. Even when employed, the break of salt is much higher than MEG. The heat exchanger 160 can heat the MEG mixed fluid at 100 ° C. to break the moisture, thereby minimizing moisture evaporation. At this time, the heat exchanger 160 can repeatedly evaporate moisture through multi-stage distillation.

이때, 열교환부(160)에 의해 추출된 고농도의 MEG 혼합유체 중 일부는 제2공급라인(L2)을 통해 염제거부(110)로 제공되어 MEG 혼합유체에 포함된 염 제거 작업이 이루어진다. At this time, a part of the high concentration MEG mixed fluid extracted by the heat exchanging unit 160 is supplied to the desorizing unit 110 through the second supply line L2 to perform the desalting work contained in the MEG mixed fluid.

전체 처리방식에 적용될 경우, 상술한 열교환부(160)를 거친 MEG 혼합유체의 나머지 부분은 배출라인(L3)을 통해 수분 제거를 위해 수분처리장치(30, 도 1의 (a) 참조)로 보내질 수 있다.When applied to the entire treatment mode, the remaining portion of the MEG mixed fluid through the above-described heat exchanging portion 160 is sent to the water treatment device 30 (see Fig. 1 (a)) for moisture removal through the discharge line L3 .

또, 일부 처리방식에 적용될 경우, 상술한 열교환부(160)를 거친 MEG 혼합유체의 나머지 부분은 배출라인(L3)을 통해 수분처리장치(50, 도 1의 (b) 참조)를 거친 MEG 혼합유체의 흐름에 합류될 수 있다.The remaining part of the MEG mixed fluid passing through the above-described heat exchanging unit 160, when applied to some of the treatment methods, is mixed with the MEG mixed through the water treatment unit 50 (see Fig. 1 (b)) through the discharge line L3 It can join the flow of the fluid.

한편, 열교환부(160)에 의해 증발된 수분은 액화기(170)와 환류드럼(180)을 거쳐 환류로서 열교환부(160)로 다시 보내지고 나머지는 배출될 수 있다. On the other hand, the moisture evaporated by the heat exchanging unit 160 may be returned to the heat exchanging unit 160 as a reflux through the liquefier 170 and the reflux drum 180, and the remainder may be discharged.

이때, 유체제공라인(L4)을 통해 액화기(170)에 의해 액화된 수분 중 일부를 환류드럼(180)을 거쳐 이젝터(140) 입구 쪽으로 유입시켜 진공 상태 형성을 위한 유체로 제공할 수도 있다. At this time, a part of the water liquefied by the liquefier 170 through the fluid supply line L4 may be introduced into the inlet of the ejector 140 through the reflux drum 180 to provide a fluid for forming the vacuum state.

이를 통해 유체제공라인(L4)을 통해 제공되는 유체를 이젝터(140)의 작동유체로 활용함으로써 염 제거용 후처리장치(100)의 운용 효율성을 높일 수 있다.By using the fluid supplied through the fluid supply line L4 as the working fluid of the ejector 140, the operation efficiency of the post-treatment apparatus 100 for salt removal can be improved.

이상에서는 특정의 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였다. 그러나, 본 발명은 상기한 실시 예에만 한정되지 않으며, 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 청구범위에 기재된 발명의 기술적 사상의 요지를 벗어남이 없이 얼마든지 다양하게 변경 실시할 수 있을 것이다.The foregoing has shown and described specific embodiments. However, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and modifications may be made without departing from the scope of the technical idea of the present invention described in the following claims It will be possible.

110: 염제거부 120: 냉각기
130: 진공리시버 140: 이젝터
150: 배출펌프 160: 열교환부
170: 액화기 180: 환류드럼
L1: 제1공급라인 L2: 제2공급라인
L3: 배출라인 L4: 유체제공라인
110: defatted 120: cooler
130: Vacuum receiver 140: Ejector
150: exhaust pump 160: heat exchanger
170: liquefier 180: reflux drum
L1: first supply line L2: second supply line
L3: discharge line L4: fluid supply line

Claims (3)

진공의 감압된 상태에서 MEG 혼합유체로부터 MEG를 증발시켜 염(salts)을 제거하는 염제거부;
상기 증발된 MEG를 냉각시키는 냉각기;
상기 냉각기 후단에 마련된 진공리시버;
입구 쪽에서 유입된 유체를 출구 쪽으로 고속 분출시켜 상기 진공리시버 내의 기체를 회수하여 상기 진공리시버 및 그 전단을 구성하는 상기 염제거부를 진공 상태로 만드는 이젝터;를 포함하는 염 제거용 후처리장치.
Deionization to remove salts by evaporating MEG from the MEG mixed fluid in a vacuum depressurized state;
A cooler for cooling the evaporated MEG;
A vacuum receiver disposed downstream of the cooler;
And an ejector for rapidly ejecting the fluid introduced from the inlet side toward the outlet so as to recover the gas in the vacuum receiver and to bring the vacuum receiver and the defatting unit constituting the front end thereof into a vacuum state.
제1항에 있어서,
상기 이젝터를 통과한 유체를 가열하는 히터와,
MEG, 염 및 물이 혼합된 MEG 혼합유체와 상기 가열된 유체간 열교환을 수행하여, 상기 MEG 혼합유체에서 수분을 증발시키는 열교환부와,
상기 이젝터, 히터 및 열교환부를 연결하며, 상기 이젝터를 통과한 유체를 상기 히터를 거쳐 상기 열교환부로 제공하는 제1공급라인과,
상기 열교환부, 히터 및 염제거부를 연결하며, 상기 열교환에 의해 수분이 증발된 상기 MEG 혼합유체를 상기 염제거부로 제공하는 제2공급라인을 더 포함하는 염 제거용 후처리장치.
The method according to claim 1,
A heater for heating the fluid that has passed through the ejector,
A heat exchange unit for performing heat exchange between the MEG mixed fluid in which MEG, salt, and water are mixed and the heated fluid to evaporate moisture in the MEG mixed fluid,
A first supply line connecting the ejector, the heater, and the heat exchanger, the fluid passing through the ejector to the heat exchanger through the heater,
Further comprising a second supply line connecting the heat exchanger, the heater and the rejection, and providing the MEG mixed fluid with moisture evaporated by the heat exchange to the rejection of the salt.
제2항에 있어서,
상기 열교환에 의해 증발된 수분을 액화시키는 액화기와,
상기 액화기의 하류에 마련된 환류드럼과,
상기 열교환부, 액화기, 환류드럼 및 이젝터를 연결하며, 상기 액화된 수분 중 일부를 상기 환류드럼으로부터 상기 이젝터 입구 쪽으로 유입시켜 상기 진공 상태 형성을 위한 유체로 제공하는 유체제공라인을 더 포함하는 염 제거용 후처리장치.
3. The method of claim 2,
A liquefier for liquefying the water evaporated by the heat exchange,
A reflux drum provided downstream of the liquefier,
Further comprising a fluid supply line connecting the heat exchanger, the liquefier, the reflux drum and the ejector, and introducing a part of the liquefied moisture from the reflux drum toward the ejector inlet to provide the fluid for the vacuum state formation. Removal device.
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