KR20190036271A - The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby - Google Patents

The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby Download PDF

Info

Publication number
KR20190036271A
KR20190036271A KR1020170125292A KR20170125292A KR20190036271A KR 20190036271 A KR20190036271 A KR 20190036271A KR 1020170125292 A KR1020170125292 A KR 1020170125292A KR 20170125292 A KR20170125292 A KR 20170125292A KR 20190036271 A KR20190036271 A KR 20190036271A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
source
shell
core
carbon
nanoparticles
Prior art date
Application number
KR1020170125292A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102037382B1 (en
Inventor
정남조
김찬수
최지연
황교식
양승철
남주연
한지형
김한기
좌은진
박순철
서용석
장문석
Original Assignee
한국에너지기술연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국에너지기술연구원 filed Critical 한국에너지기술연구원
Priority to KR1020170125292A priority Critical patent/KR102037382B1/en
Publication of KR20190036271A publication Critical patent/KR20190036271A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102037382B1 publication Critical patent/KR102037382B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/05Preparation or purification of carbon not covered by groups C01B32/15, C01B32/20, C01B32/25, C01B32/30
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G39/00Compounds of molybdenum
    • C01G39/06Sulfides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/36Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
    • H01M4/362Composites
    • H01M4/366Composites as layered products
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/36Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
    • H01M4/38Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of elements or alloys
    • H01M4/386Silicon or alloys based on silicon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/62Selection of inactive substances as ingredients for active masses, e.g. binders, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/04Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/80Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40Electric properties
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Abstract

Disclosed is a method for manufacturing a porous carbon shell-contained core-shell nanoparticle having two or more layers of a shell, which comprises steps of: supplying a core nanoparticle and a primary coating source to a high-temperature and high-pressure sealed reactor; sealing the reactor; firstly heating the reactor in an inert gas atmosphere; supplying a secondary coating source to the reactor; and secondarily heating the reactor in the inert gas atmosphere. When an electrode material is manufactured by using the core-shell nanoparticle according to the present invention as an electrode active material, it is possible to increase the charging amount and maintain an excellent charging amount even when charging and discharging are repeated many times.

Description

포러스 카본 쉘을 포함하는 다중 층 코어-쉘 나노입자의 제조방법 및 이를 통해 제조된 코어-쉘 나노입자{The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby}The present invention relates to a method of preparing multi-layer core-shell nanoparticles comprising porous carbon shells and core-shell nanoparticles prepared thereby. }

본 발명은 코어-쉘 나노입자의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 하나 이상의 포러스 카본 쉘을 포함하는 다중 층 코어-쉘 나노입자의 제조방법 및 이를 통해 제조된 코어-쉘 나노입자에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing core-shell nanoparticles, and more particularly to a method for producing multilayer core-shell nanoparticles comprising at least one porous carbon shell and core-shell nanoparticles prepared thereby .

대부분의 물질은 나노 크기의 상태로 존재할 때와 그렇지 않을 때는 서로 다른 특징들을 보인다. 경우에 따라서 더 우수한 전기적, 물리적 특징을 보이기도 하고, 더 치명적인 화학적 변화를 겪기도 한다. 가장 일반적으로 관찰되는 변화는 산소에 의해 쉽게 산화되거나, 녹는점이 더 낮아지는 현상이다. 또한, 이온이나 가스의 흡착 과정에서 지나친 부피 팽창에 의해 쉽게 그 형상이나 결정구조가 변화되는 현상도 보인다. 이러한 변화는 나노입자의 사용을 크게 제한하는 요인으로 작용할 수 있다. 그러므로 나노 크기의 상태에서도 그 특징을 그대로 유지 또는 더 우수한 특징을 나타낼 수 있도록 할 수 있는 표면 코팅 물질 및 그 방식의 개발은 매우 중요하다.Most materials exhibit different characteristics when they are present in the nano-sized state and when they are not. In some cases, they exhibit better electrical and physical characteristics, and may experience more fatal chemical changes. The most commonly observed change is a phenomenon in which oxygen is easily oxidized or the melting point is lowered. In addition, there is a phenomenon that its shape and crystal structure are easily changed by excessive volume expansion during adsorption process of ions or gases. These changes can act as a limiting factor for the use of nanoparticles. Therefore, it is very important to develop a surface coating material and its method that can maintain its characteristics even in a nano-sized state or exhibit better characteristics.

탄소나노튜브, 그라핀 등으로 대표되는 나노 탄소 소재는 매우 우수한 특성 때문에 최근에 다양한 응용 분야에서 많은 각광을 받고 있다. 탄소소재의 가장 큰 장점은 우수한 탄성과 전기전도도, 그리고 내부식성, 내화학성 특징이다. 그러므로 나노 탄소 소재를 이용한 나노입자의 코팅은 나노입자가 가혹한 물리적, 화학적 분위기에서도 쉽게 변화되는 것을 막아줄 수 있을 뿐 아니라, 탄소의 고유한 특성을 더하여, 더욱 우수하면서 특이한 특성을 나타낼 수 있게 해 줄 수 있다.Nano carbon materials such as carbon nanotubes and graphene have attracted much attention in recent years due to their excellent properties. The main advantages of carbon materials are their excellent elasticity, electrical conductivity, corrosion resistance and chemical resistance. Therefore, the coating of nanoparticles using nanocarbon materials can not only prevent nanoparticles from being easily changed in harsh physical and chemical environments, but also adds to the inherent properties of carbon, thereby providing better and more specific properties. .

또한 탄소 코팅된 나노입자는 각종 전극용 소재, 촉매소재, 열저장 소재 등 에너지분야, 가스 및 액체의 흡착소재, 광반응 소재 등 환경분야, 약물전달 및 진단 등 바이오분야, 그리고 자기장 소재 및 전기 전도성 또는 차폐성 소재 등 전기·전자분야 등 그 응용 범위가 매우 넓다. 그러므로 이러한 나노입자의 탄소코팅을 단순하고 저렴한 방법으로 균일하게 대량 생산하는 기술의 개발은 나노입자의 상용화를 위해 매우 중요하다.Carbon-coated nanoparticles are also used in various fields such as electrode materials, catalytic materials, heat storage materials, gas and liquid adsorption materials, environmental materials such as photoreactive materials, drug delivery and diagnosis, magnetic fields and electric conductivity Or shielding materials. The application range is very wide. Therefore, the development of a technology for uniformly mass-producing carbon coatings of these nanoparticles in a simple and inexpensive manner is very important for the commercialization of nanoparticles.

현재까지 알려진 탄소 코팅된 나노입자를 형성하는 방법은 크게 CVD(Chemical Vapor Deposition) 방법과 열분해 방법(Thermal Decomposition)이 널리 알려져 있다.CVD (Chemical Vapor Deposition) method and thermal decomposition method are widely known as methods for forming carbon-coated nanoparticles known to date.

C.N.He 등에 따른 CVD 방법(Low temperature CVD synthesis of carbon-encapsulated magnetic Ni nanoparticles with a narrow distribution of diameters, 2006, 44, 2330~2333)에 따르면, 지지체 표면에 코딩된 금속 촉매(supported metal catalyst) 위로 탄소 소스를 공급하거나, 유기 금속 소스를 전구체 형태로 반응기 내의 증착판 위로 직접 공급하여, 반응 온도에서 탄소 소스 또는 유기 금속 소스가 열분해되면서 금속 표면에 탄소가 코팅된다. 그러나, 일반적인 CVD 방법은 한 번에 탄소 코팅된 나노입자를 수 또는 수십 kg 단위로 생산이 불가능하며, 코팅 소스가 나노입자의 공극 사이로 균일한 농도로 공급되기가 힘들기 때문에 지지층 위에 존재하는 촉매의 위치에 따라 코팅층의 두께가 불균일하게 형성될 수 있다.According to a CVD method according to CNHe et al. (2006, 44, 2330-2333), a supported metal catalyst is coated on a support metal The carbon source or the organic metal source is pyrolyzed at the reaction temperature so that the metal surface is coated with the carbon at the reaction temperature by supplying the source or directly supplying the organometallic source in the form of a precursor onto the evaporation plate in the reactor. However, in general CVD methods, it is impossible to produce carbon coated nanoparticles at a time in several tens of kilograms, and since the coating source is difficult to be supplied uniformly between the pores of the nanoparticles, The thickness of the coating layer may be non-uniformly formed depending on the position.

이에, 유동층 베드(fluidized bed)와 초임계 안티솔벤트(supercritical antisolvent)를 적용하여 나노입자를 탄소코팅하는 방법이 제안되었다(Coating of nanoparticle agglomerates via gas in fluidized bed, 2104, 14th European meeting on supercritical fluids). 이 방법을 적용할 경우 대량생산이 가능하기는 하나, 표면 반응A method of carbon coating a nanoparticle by applying a fluidized bed and a supercritical antisolvent has been proposed (Coating of nanoparticle agglomerates via gas in fluidized bed, 2104, 14 th European meeting on supercritical fluids ). Although this method can be applied to mass production, surface reaction

조건 조절이 용이하지 않아서 미세 코팅을 하기 어렵다는 단점이 있다.It is difficult to control the condition and it is difficult to make micro-coating.

열분해 방법(Thermal Decomposition)으로는 금속과 탄소가 결합되어 있는 유기금속 (organometallics) 물질을 전구체(precursor)로 사용하는 방법(Sn78Ge22@Carbon Core-Shell Nanowires as Fast and High-Capacity Lithium Storage Media. Nanoletters 2007, 7, 2638-2641 및 Stabilization of Metastable Face-Centered Cubic Cobalt and the Tetragonal Phase of Zirconia by a Carbon Shell: Reaction under Autogenic Pressure at Elevated Temperature of CoZr2(acac)2(OiPr)8 Chem. Mater. 2004, 16, 1793-1798)이 알려져 있다. 이들 방법은 유기 금속(Metal-CxHy) 또는 염(Metal/metal oxide-OCOCH3)이 열분해 되면서 금속은 결정화되고 이 과정에서 분해된 탄소원자가 금속 표면에 코팅되는 현상을 이용한 것이다. 그러나 이 방법에 따르면, 금속이 포함된 유기금속 물질을 소스로 사용하기 때문에 유기금속 물질에 포함된 금속과 탄소 성분의 원자비에 따라 탄소 코팅층의 두께가 결정되기 때문에 탄소 코팅층 두께의 제어가 불가능하다. 또한, 대부분의 유기금속 소스는 고가의 원료로 대량생산 및 경제성이 떨어진다. 게다가 유기금속 소스의 종류에 따라 코어 물질의 종류가 정해지기 때문에 제조할 수 있는 탄소 코팅된 금속 나노입자의 종류가 제한적이다.As a thermal decomposition method, a method of using an organometallic material having a metal-carbon bond as a precursor (Sn78Ge22, Carbon Core-Shell Nanowires as Fast and High Capacity Lithium Storage Media. Nanoletters 2007 , 7, 2638-2641 and Stabilization of Metastable Face-Centered Cubic Cobalt and the Tetragonal Phase of Zirconia by a Carbon Shell: Reaction under Autogenic Pressure at Elevated Temperature of CoZr2 (acac) 2 (OiPr) 8 Chem. , 1793-1798). These methods utilize the phenomenon that the metal is crystallized while the metal (CxHy) or salt (Metal / metal oxide-OCOCH3) is pyrolyzed and the decomposed carbon is coated on the metal surface. However, according to this method, since the metal-containing organometallic material is used as a source, the thickness of the carbon coating layer is determined according to the atomic ratio of the metal and carbon components contained in the organometallic material, . In addition, most of the organometallic sources are expensive raw materials and are not mass-produced and economical. Furthermore, since the type of the core material is determined depending on the kind of the organic metal source, the kind of carbon-coated metal nanoparticles that can be produced is limited.

열 분해 방법에서 사용할 수 있는 염 중에서 가장 저렴한 염으로는 질산(NO3)이나 염화물(Cl) 계열 염이 가장 저렴하지만, 고압의 조건을 견디기 위해 대부분 스테인레스 스틸 계열의 금속 반응기가 사용되기 때문에 산에 의한 반응기 부식성의 본 염들은 사용이 힘들다. 대신 가격이 조금 더 비싼 아세테이트(-OCOCH3) 계열의 염을 사용하고 있다. 그런데, 아세테이트 금속 전구체를 사용할 경우, 아세테이트 기에 포함된 산소 때문에 코어가 내산화성 특성이 있는 귀금속(Ag, Pt, Au)을 제외하고는 대부분 산화 금속 형태로 형성된다.The nitrate (NO3) or chloride (Cl) series salts are the cheapest salts among the salts that can be used in the thermal decomposition method. However, since most of the stainless steel type metal reactors are used to withstand high pressure conditions, Reactor corrosive salts are difficult to use. Instead, it uses a slightly more expensive acetate (-OCOCH3) salt. However, when an acetate metal precursor is used, the core is formed in a mostly metal oxide form except for noble metals (Ag, Pt, Au) having oxidation resistance characteristics because of the oxygen contained in the acetate group.

이에, 본 발명자들은 상기 기존에 존재하였던 코어-쉘 제조 방법의 단점을 극복하고 경제성이 우수하고 대량생산이 가능한 코어-쉘 나노입자 제조 방법을 연구하던 중, 밀폐상태에서의 가열처리를 통해 코어-쉘 나노입자 제조 공정을 구성할 경우, 사용되는 코팅소스의 손실율을 감소시키면서 대량생산이 가능한 제조 방법을 구성할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하였다.Accordingly, the inventors of the present invention have been studying a method for manufacturing core-shell nanoparticles which can overcome the disadvantages of the existing core-shell manufacturing method and have excellent economic efficiency and mass production, It is possible to constitute a manufacturing method capable of mass production while reducing the loss rate of the used coating source when the shell nanoparticle manufacturing process is constituted, thus completing the present invention.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 코어-쉘 나노입자 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for producing core-shell nanoparticles.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 코어-쉘 나노입자를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide core-shell nanoparticles.

나아가, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 코어-쉘 나노입자를 포함하는 전극재를 제공하는 것이다.Furthermore, another object of the present invention is to provide an electrode material comprising core-shell nanoparticles.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 한정되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. There will be.

상기 과제를 달성하기 위해서 본 발명은, 고온 고압 밀폐형 반응기에 코어 나노입자 및 1차 코팅 소스를 공급하는 단계, 상기 반응기를 밀폐하는 단계, 상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 1차 가열하는 단계, 상기 반응기에 2차 코팅 소스를 공급하는 단계 및 상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 2차 가열하는 단계를 포함하는 포러스(porous) 카본 쉘이 포함된 2개 층 이상의 쉘을 가지는 코어-쉘 나노입자 제조 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a reactor comprising the steps of: supplying core nanoparticles and a first coating source to a high-temperature high-pressure hermetically sealed reactor; sealing the reactor; firstly heating the reactor in an inert gas atmosphere; Providing a core-shell nanoparticle having two or more shells including a porous carbon shell including a step of supplying a secondary coating source to the reactor and a step of secondarily heating the reactor in an inert gas atmosphere do.

이때, 상기 포러스 카본 쉘의 기공크기는 0.3 내지 1.0 nm인 것을 특징으로 할 수 있다.At this time, the porous carbon shell may have a pore size of 0.3 to 1.0 nm.

또한, 상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 2차 코팅 소스는 포스파이드(phosphide) 소스 또는 칼코게나이드(chalcogenide) 소스 일 수 있고, 상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 2차 코팅 소스는 카본 소스일 수 있다.Also, when the primary coating source is a carbon source, the secondary coating source may be a phosphide source or a chalcogenide source, and the primary coating source may be a phosphide source or a chalcogenide source , The secondary coating source may be a carbon source.

상기 카본 소스는 벤젠(Benzene, C6H6), 톨루엔(Toluene, C7H8), 스티렌(Styrene, C8H8), 인덴(Indene, C9H8), 헥산(Hexane, C6H14), 옥탄(Octane, C8H18), 액체 파라핀 오일(Paraffin oil, CxHy), 나프탈렌(Naphthalene, C10H8), 안트라센(Anthracene, C14H10), 플루오렌(Fluorene, C13H10), 고체 파라핀 (Paraffin, CxHy), 파이렌(Pyrene, C16H10), 탄소수 2 내지 8인 모노머로 이루어진 폴리머, 아세틸렌(Acetylene, C2H2), 에틸렌(Ethylene, C2H4), 프로판 (Propane, C3H8), 메탄(Methane, CH4), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스티렌(Polystyrene) 및 폴리프로필렌(Polypropylene)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있고, N, P 및 B로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 도핑 원소를 함유하는 카본 소스일 수 있고, 멜라민(melamin, C3H6N6), 피리딘(pyridine, C5H5N), 아크릴로니트릴(acrylonitrile, C3H3N), 피롤(Pyrrole, C4H5N), 암모니아(NH3) 와 탄화수소 가스의 혼합 가스, 트리부틸포스핀(tributylphosphine, [CH3(CH2)3]3P), 포스포린(phosphorine, C5H5P), 트리페닐보란(triphenylborane, (C6H5)3B), 보리닌(Borinine, C5H5B), 트리에틸보란(triethylborane((C2H5)3B), 트리메틸보란 (trimethylboron, B(CH3)3), 또는 트리메틸보론-d9(trimethylboron-d9, B(CD3)3), 보란 디메틸아민(borane dimethylamine), 보란 피리딘(borane pyridine), 보란 트리메틸아민(borane trimethylamine), 보란 암모니아(borane-ammonia), 테트라부틸암모늄 시아노보로하이드라이드(tetrabutylammonium cyanoborohydride), 암모늄 테트라페닐보레이트(ammonium tetraphenylborate), 테트라부틸암모늄 보로하이드라이드(tetrabutylammonium borohydride), 테트라메틸암모늄 트리아세톡시보로하이드라이드(tetramethylammonium triacetoxyborohydride), 2,4,6-트리페닐보라진 (2,4,6-triphenylborazine) 및 보란 디페닐포스핀(borane diphenylphosphine)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.The carbon source is benzene (Benzene, C 6 H 6) , toluene (Toluene, C 7 H 8) , styrene (Styrene, C 8 H 8) , indene (Indene, C 9 H 8) , hexane (Hexane, C 6 H 14 ), octane (C 8 H 18 ), paraffin oil (C x H y ), naphthalene (C 10 H 8 ), anthracene (C 14 H 10 ) Fluorene, C 13 H 10), solid paraffin (paraffin,, pyrene C x H y) (pyrene, C 16 H 10), having 2 to 8 carbon atoms polymer consisting of monomers, acetylene (acetylene, C 2 H 2), And any one selected from the group consisting of ethylene, C 2 H 4 , propane, C 3 H 8 , methane, CH 4 , polyethylene, polystyrene and polypropylene. And may be a carbon source containing at least one doping element selected from the group consisting of N, P and B, and may be melamine (C 3 H 6 N 6 ), pyridine (C 5 H 5 N), an arc Lilo nitrile (acrylonitrile, C 3 H 3 N ), pyrrole (Pyrrole, C 4 H 5 N ), ammonia (NH 3) and a mixed gas of hydrocarbon gas, tributylphosphine (tributylphosphine, [CH 3 (CH 2) 3 ] 3 P), phosphorine (C 5 H 5 P), triphenylborane (C 6 H 5 ) 3 B), borinine (C 5 H 5 B), triethylborane ((C 2 H 5 ) 3 B), trimethylboron, B (CH 3 ) 3 , trimethylboron-d 9, B (CD 3 ) 3 , borane dimethylamine, Borane pyridine, borane trimethylamine, borane-ammonia, tetrabutylammonium cyanoborohydride, ammonium tetraphenylborate, tetrabutylammonium borohydride, tetrabutylammonium borohydride, Tetrabutylammonium borohydride, tetramethylammonium triacetoxyborate, tetramethylammonium triacetoxyborohydride, and borane diphenylphosphine. In the present invention, it is also possible to use at least one compound selected from the group consisting of 2,4,6-triphenylborazine, 2,4,6-triphenylborazine and borane diphenylphosphine.

나아가, 상기 포스파이드 소스는 P, Ni(CO)6, Fe2(CO)9, Zn(CH3)2, Zn(C2H5)2, In(CH3)3, Mo(CO)6, Ga(CH3)3 및 Ga(C2H5)3로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있고, 상기 칼코게나이드 소스는 설파이드(sulfide) 소스, 셀레나이드(selenide) 소스, 텔루라이드(telluride) 소스 또는 폴로나이드(polonide) 소스일 수 있으며, 상기 칼코게나이드 소스는 S, HS, C6H5SeH, C12H10Se, Se(CH3)2, Se(C2H5)2 Mo(CO)6, Ni(CO)6, Fe2(CO)9, W(CO)6, Cr(CO)6, Mn2(CO)10, Ru3(CO)12, Rh4(CO)12, Re2(CO)10, 및 Co2(CO)8로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다.Further, the phosphide source P, Ni (CO) 6, Fe 2 (CO) 9, Zn (CH 3) 2, Zn (C 2 H 5) 2, In (CH 3) 3, Mo (CO) 6 , Ga (CH 3 ) 3 and Ga (C 2 H 5 ) 3 , and the chalcogenide source may be at least one selected from the group consisting of a sulfide source, a selenide source, a telluride ) Source or a polonide source, wherein the chalcogenide source is selected from the group consisting of S, H 2 S, C 6 H 5 SeH, C 12 H 10 Se, Se (CH 3 ) 2 , Se (C 2 H 5 ) 2 Mo (CO) 6, Ni (CO) 6, Fe 2 (CO) 9, W (CO) 6, Cr (CO) 6, Mn 2 (CO) 10, Ru 3 (CO) 12, Rh 4 (CO) 12, Re 2 (CO) 10, and can be one or more which is Co 2 (CO) selected from the group consisting of 8 have.

또한, 상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 1차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 일 수 있고, 상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 1차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃일 수 있고, 상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 2차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃일 수 있고, 상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 2차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃일 수 있다.Also, when the primary coating source is a carbon source, the primary heating temperature may be 550 ° C to 850 ° C, and when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the primary heating temperature May be from 400 ° C to 850 ° C, and when the secondary coating source is a carbon source, the secondary heating temperature may be 550 ° C to 850 ° C, and the secondary coating source may be a phosphide source or a chalcogenide source , The secondary heating temperature may be 400 ° C to 850 ° C.

나아가, 상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 1차 가열 시간은 10 내지 120 분일 수 있고, 상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 1차 가열 시간은 10 내지 60 분일 수 있고, 상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 2차 가열 시간은 10 내지 120 분일 수 있고, 상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 2차 가열 시간은 10 내지 60 분일 수 있다.Further, when the primary coating source is a carbon source, the primary heating time may be 10 to 120 minutes, and when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the primary heating time is 10 To 60 minutes, and when the secondary coating source is a carbon source, the secondary heating time may be 10 to 120 minutes, and when the secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, The heating time may be 10 to 60 minutes.

더 나아가, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 코어 나노입자의 종류에 상관없이 공급되는 1차 코팅 소스 및 2차 코팅 소스가 손실 없이 상기 코어 나노입자의 코팅을 위해 사용되는 것을 특징으로 할 수 있으며, 상기 1차 코팅 소스 및 2차 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 비코팅된 코어 나노입자 또는 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자가 형성되지 않도록 하는 것을 특징으로 할 수 있다.Furthermore, the core-shell nanoparticle manufacturing method may be characterized in that the primary coating source and the secondary coating source, which are supplied regardless of the type of the core nanoparticles, are used for coating the core nanoparticles without loss , The supply amount of the primary coating source and the secondary coating source is controlled so that uncoated core nanoparticles or micro-sized core-shell nanoparticles are not formed.

한편, 상기 코어 나노입자는 금속, 금속산화물, 반도체 물질 또는 반도체산화물일 수 있다.Meanwhile, the core nanoparticles may be a metal, a metal oxide, a semiconductor material, or a semiconductor oxide.

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 1차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계 및 상기 2차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계를 더 포함할 수 있으며, 상기 2차 가열 이후에, 반응기에 3차 코팅 소스를 공급하는 단계, 상기 반응기를 밀폐하는 단계 및 상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 3차 가열하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method for manufacturing core-shell nanoparticles may further include, after the primary heating, stabilizing the inside of the reactor by releasing the internal pressure of the reactor and removing residual gas, and after the secondary heating, releasing the internal pressure of the reactor And stabilizing the inside of the reactor by removing residual gas, wherein after the secondary heating, supplying a third coating source to the reactor, sealing the reactor, and sealing the reactor in an inert gas atmosphere And the third heating step.

이때, 상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 코팅 소스는 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 수 있고, 상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 코팅 소스는 카본 소스일 수 있다.When the second coating source is a carbon source, the third coating source may be a phosphide source or a chalcogenide source, and when the second coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, The tea coating source may be a carbon source.

상기 3차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 일 수 있고, 상기 3차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃일 수 있으며, 상기 3차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 가열 시간은 10 내지 120 분일 수 있고, 상기 3차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 가열 시간은 10 내지 60 분일 수 있다.When the third coating source is a carbon source, the tertiary heating temperature may be 550 ° C to 850 ° C, and when the third coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the tertiary heating temperature is 400 And when the third coating source is a carbon source, the third heating time may be 10 to 120 minutes, and when the third coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, The third heating time may be 10 to 60 minutes.

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 3차 가열 이후에, 상기 반응기의 내부 압력을 해제 하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include, after the third heating, stabilizing the inside of the reactor by releasing the internal pressure of the reactor and removing the residual gas.

나아가, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 나노입자 코어, 상기 나노입자 코어를 둘러싸는 제1쉘, 상기 제1쉘을 둘러싸는 제2쉘을 포함하고, 상기 제1쉘 또는 제2쉘은 포러스 카본 또는 포스파이드 및 칼코게나이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 상기 제1쉘과 제2쉘은 서로 상이한 물질인 코어-쉘 나노입자를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a nanoparticle core comprising a nanoparticle core, a first shell surrounding the nanoparticle core, and a second shell surrounding the first shell, wherein the first shell or the second shell comprises Shell carbon or phosphide and chalcogenide, wherein the first shell and the second shell provide core-shell nanoparticles which are different materials from each other.

이때, 상기 코어-쉘 나노입자는 상기 제2쉘을 둘러싸는 제3쉘을 더 포함하고, 상기 제3쉘은 포러스 카본 또는 포스파이드 및 칼코게나이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 상기 제2쉘과 제3쉘은 서로 상이한 물질일 수 있다.The core-shell nanoparticles may further include a third shell surrounding the second shell, wherein the third shell is any one selected from the group consisting of porous carbon or phosphide and chalcogenide, The two shells and the third shells can be different materials.

또한, 상기 코어-쉘 나노입자에 있어서, 상기 포러스 카본은 기공크기가 0.3 내지 1.0 nm인 것을 특징으로 할 수 있으며, 상기 포스파이드는 MoP, Ni2P, Fe2P, Fe3P, Zn3P2, InP 및 GaP로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있고, 상기 칼코게나이드는 MoS2, NiS, FeS, WS2, Cr2S3, MnS, RuS2, Re2S7, CoS, MoSe2, NiSe, FeSe, WSe2, CrSe, MnSe, RuSe, RhSe2, ReSe2 및 CoSe로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있고, 상기 나노입자 코어는 금속, 금속산화물, 반도체 물질 또는 반도체산화물일 수 있다.In the core-shell nanoparticles, the porous carbon may have a pore size of 0.3 to 1.0 nm. The phosphide may be MoP, Ni 2 P, Fe 2 P, Fe 3 P, Zn 3 P 2 , InP and GaP, and the chalcogenide may be at least one selected from the group consisting of MoS 2 , NiS, FeS, WS 2 , Cr 2 S 3 , MnS, RuS 2 , Re 2 S 7 , CoS, The nanoparticle core may be at least one selected from the group consisting of MoSe 2 , NiSe, FeSe, WSe 2 , CrSe, MnSe, RuSe, RhSe 2 , ReSe 2, and CoSe, Lt; / RTI >

더 나아가, 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 상기 코어-쉘 나노입자를 포함하는 전극 활물질을 제공한다.Furthermore, in order to accomplish the above object, the present invention provides an electrode active material comprising the core-shell nanoparticles.

본 발명의 일실시예에 따른 코어-쉘 나노입자 제조방법은 사용되는 코어 나노입자의 종류에 상관없이 코팅 소스의 99% 이상이 코어 나노입자의 코팅을 위해 사용됨으로써 손실되는 코팅소스의 양을 최소화 할 수 있다.In the method of manufacturing core-shell nanoparticles according to an embodiment of the present invention, 99% or more of the coating sources are used for coating the core nanoparticles regardless of the type of the core nanoparticles used, thereby minimizing the amount of the coating source can do.

또한, 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 비코팅된 코어 나노입자 또는 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자가 형성되지 않도록 할 수 있다.In addition, the amount of the coating source to be supplied can be controlled so that uncoated core nanoparticles or micro-sized core-shell nanoparticles are not formed.

나아가, 본 발명의 일실시예에 따른 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 종래 기술보다 효율적인 공정을 제공함으로써 종래 코어-쉘 나노입자 제조방법 보다 높은 경제성을 가질 수 있다. 구체적으로, 반응기를 사용한 열처리 공정만을 포함함으로써 공정을 단순화 시킬 수 있고, 반응기에 다량의 코어 나노입자와 코팅 소스를 공급하여 코어-쉘 입자의 대량생산이 가능하다.Furthermore, the method for manufacturing core-shell nanoparticles according to an embodiment of the present invention can provide a more economical process than the conventional method for manufacturing core-shell nanoparticles by providing an efficient process than the prior art. Specifically, the process can be simplified by including only a heat treatment process using a reactor, and mass production of core-shell particles is possible by supplying a large amount of core nanoparticles and a coating source to the reactor.

더 나아가, 본 발명에 일실시예에 따른 코어-쉘 나노입자를 전극활물질로 사용하여 전극재를 제조할 경우 전지의 충전량이 증가하고, 여러번의 충방전에도 우수한 충전량을 유지할 수 있다.Furthermore, when the electrode material is manufactured using the core-shell nanoparticles according to an embodiment of the present invention as an electrode active material, the charged amount of the battery increases, and an excellent charge amount can be maintained even when charging and discharging are repeated several times.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above effects and include all effects that can be deduced from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도 1(a)는 실시예 1-1에 따라 제조된 Si 코어 - MoS2(0 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 1(b)는 실시예1-2에 따라 제조된 Si 코어 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 1(c)는 실시예1-3에 따라 제조된 Si 코어 - MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 1(d)는 실시예1-4에 따라 제조된 Si 코어 - MoS2(56 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 2는 실시예2에 따라 제조된 Si 코어 - MoS2(38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 3(a)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 3(b)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 3(c)는 실시예3-3에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 3(d)는 실시예3-4에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(56 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 4(a)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 Si 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 4(b)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 C 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 4(c)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 N 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 5(a)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자 Si 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 5(b)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 C 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 5(c)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 N 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 5(d)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 Mo 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 5(e)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 S 성분 분포를 촬영한 사진이다.
도 6은 실시예4-3에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.
도 7은 1차 코팅 소스 및 3차 코팅 소스가 카본 소스이고 2차 코팅 소스가 MoS2 소스일 경우의 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조 과정을 나타낸 모식도이다.
도 8은 1차 코팅 소스 및 3차 코팅 소스가 MoS2 소스이고 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우의 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조 과정을 나타낸 모식도이다.
도 9는 제조예 1 ~ 3 에서 제조한 코인형 반쪽전지(Half-cell)의 50회 반복 사이클링 실험을 수행했을 때의 충전량(capacity) 및 쿨롱효율(coulombic efficiency)을 나타낸 그래프이다.
1 (a) is a high magnification TEM (HRTEM) photograph of Si core-MoS 2 (0 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 1-1.
1 (b) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 1-2.
1 (c) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 1-3.
1 (d) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (56 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 1-4.
2 is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles prepared according to Example 2. FIG.
3 (a) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1.
3 (b) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.
3 (c) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-3.
3 (d) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (56 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-4.
4 (a) is a photograph of the Si component distribution of Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1.
4 (b) is a photograph of the C component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1.
4 (c) is a photograph of the N component distribution of Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1.
5 (a) is a photograph of the Si component distribution of Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.
5 (b) is a photograph of the C component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.
5 (c) is a photograph of the N component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.
5 (d) is a photograph of the Mo component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.
5 (e) is a photograph of the S component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.
6 is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles prepared according to Example 4-3.
7 is a schematic diagram illustrating a process for preparing core-shell nanoparticles according to the present invention when the primary coating source and the tertiary coating source are carbon sources and the secondary coating source is a MoS 2 source.
8 is a schematic diagram illustrating a process for preparing core-shell nanoparticles according to the present invention when the primary coating source and the tertiary coating source are MoS 2 sources and the secondary coating source is a carbon source.
FIG. 9 is a graph showing a capacity and a coulombic efficiency of a coin type half cell manufactured in Production Examples 1 to 3 when the cyclic cycling test was repeated 50 times.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 일측면에 따르면, 본 발명은 고온 고압 밀폐형 반응기에 코어 나노입자 및 1차 코팅 소스를 공급하는 단계, 상기 반응기를 밀폐하는 단계, 상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 1차 가열하는 단계, 상기 반응기에 2차 코팅 소스를 공급하는 단계 및 상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 2차 가열하는 단계를 포함하는 포러스(porous) 카본 쉘이 포함된 2개 층 이상의 쉘을 가지는 코어-쉘 나노입자 제조 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method for producing a nanoparticle, comprising the steps of: supplying a core nanoparticle and a primary coating source to a high-temperature high-pressure sealed reactor; sealing the reactor; firstly heating the reactor in an inert gas atmosphere; A method for manufacturing a core-shell nanoparticle having two or more layers of shells including a porous carbon shell including a step of supplying a secondary coating source to the reactor and a step of secondary heating the reactor in an inert gas atmosphere to provide.

이하, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법을 각 단계 별로 상세히 설명한다.Hereinafter, the core-shell nanoparticle production method will be described in detail.

먼저, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 고온 고압 밀폐형 반응기에 코어 나노입자 및 1차 코팅 소스를 공급하는 단계를 포함한다.First, the core-shell nanoparticle manufacturing method includes supplying core nanoparticles and a primary coating source to a high-temperature high-pressure hermetically sealed reactor.

여기서, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기는 반응이 일어나는 온도와 압력하에서 완전밀폐가 가능한 반응기를 의미한다.Here, the high-temperature high-pressure sealed reactor means a reactor which can be completely sealed under the temperature and pressure at which the reaction occurs.

이때, 고온은 200℃ 이상의 온도, 300℃ 이상의 온도, 400℃ 이상의 온도 또는 500℃ 이상의 온도일 수 있다. 고압은 상압보다 높은 압력을 의미하며, 1기압 이상의 압력, 10기압 이상의 압력, 20 기압 이상의 압력, 30기압 이상의 압력 또는 40기압 이상의 압력일 수 있다.At this time, the high temperature may be a temperature of 200 ° C or more, a temperature of 300 ° C or more, a temperature of 400 ° C or more, or a temperature of 500 ° C or more. The high pressure means a pressure higher than the atmospheric pressure and may be a pressure of 1 atm or more, a pressure of 10 atm or more, a pressure of 20 atm or more, a pressure of 30 atm or more, or a pressure of 40 atm or more.

상기 고온 고압의 밀폐형 반응기의 가장 단순한 형태로써 스테인레스 스틸의 스웨즈락형 반응기(Swagelok-typereactor)를 예로 들 수 있으나, 반응기의 형태는 상기 예시에 한정되지 않고 반응 원료, 반응 조건 등에 따라 다양하게 변형할 수 있다.As a simplest form of the high-temperature high-pressure sealed reactor, a stainless steel Swagelok-typereactor can be mentioned. However, the reactor is not limited to the above-mentioned examples but may be variously modified according to reaction materials, .

상기 반응기의 용량은 적게는 1cc부터 가능하며, 최대 용량은 특별한 제한 없이 수행하고자 하는 반응조건에 따라 변경할 수 있다. The capacity of the reactor can be from 1 cc to less, and the maximum capacity can be changed according to the reaction conditions to be carried out without particular limitation.

또한, 상기 코어 나노입자는 금속, 금속산화물, 반도체 물질 또는 반도체산화물 등이 사용될 수 있다.As the core nanoparticles, a metal, a metal oxide, a semiconductor material, or a semiconductor oxide may be used.

이때, 상기 금속은 알칼리금속원소(Li, Na, K, Rb, Cs, Fr), 알칼리토금속원소(Ca, Sr, Ba, Ra), 알루미늄족원소(Al, Ga, In, Tl), 주석족원소(Sn, Pb), 화폐금속원소(Cu, Ag, Au), 아연족원소(Zn, Cd, Hg), 희토류원소(Sc, Y, 원소번호57∼71), 타이타늄족원소(Ti, Zr, Hf), 바나듐족원소(V, Nb, Ta), 크로뮴족원소(Cr, Mo, W), 망가니즈족원소(Mn, Tc, Re), 철족원소(Fe, Co, Ni), 백금족원소(Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt) 또는 악티늄족원소(원소번호 89∼103) 등일 수 있으며, 보다 구체적으로는 Zn, Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Zr, Mo, Al, Pt, Ag, Ru, Rh, Ir 또는 Au 등일 수 있으나, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 금속 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.The metal is selected from the group consisting of alkali metal elements (Li, Na, K, Rb, Cs and Fr), alkaline earth metal elements (Ca, Sr, Ba and Ra) (Sc, Y, element Nos. 57 to 71), a titanium group element (Ti, Zr (Zr), and a rare earth element (Fe, Co, Ni), a platinum group element (Cr, Mo, W), Hf, a vanadium group element (V, Nb, Ta), a chromium group element (Ni, Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Zr, Mo, Al, Rh, Pd, Os, Ir, Pt) or an actinide group element (element number 89 to 103) Pt, Ag, Ru, Rh, Ir, Au, or the like. However, any metallic material conventionally used in the field can be used without limitation.

또한, 상기 금속 산화물은 Fe3O4, ZnO, ZrO2, NiO 또는 Al2O3 등일 수 있으며, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.The metal oxide may be Fe 3 O 4 , ZnO, ZrO 2 , NiO, Al 2 O 3 , or the like, and may be any semiconductor material conventionally used in the field.

나아가, 상기 반도체 물질은 Si, Ge, Sn, In 또는 Ga 등일 수 있으며, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.Further, the semiconductor material may be Si, Ge, Sn, In, Ga, or the like, and any semiconductor material conventionally used in the field may be used without limitation.

또한, 상기 반도체 산화물은 SiOx, GeO2, SnO2, In2O3 또는 Ga2O3 등일 수 있으며, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.The semiconductor oxide may be SiO x , GeO 2 , SnO 2 , In 2 O 3, Ga 2 O 3 , or the like, and may be any semiconductor material conventionally used in the field.

더 나아가, 상기 코어 나노입자는 상기 제시된 나노입자 종류들을 조합한 나노입자 복합체일 수 있다.Furthermore, the core nanoparticles may be nanoparticle complexes combining the proposed nanoparticle species.

상기 코어 나노입자의 크기는 직경 1 nm 내지 1000 nm일 수 있고, 1 nm 내지 500nm일 수 있고, 10nm 내지 200nm일 수 있으나, 제조하고자 하는 입자의 용도에 따라 특별한 제한없이 사용할 수 있다.The core nanoparticles may have a size of 1 nm to 1000 nm in diameter, 1 nm to 500 nm, and 10 nm to 200 nm, but the core nanoparticles may be used without particular limitation depending on the intended use of the particles to be produced.

상기 1차 코팅 소스는 카본소스 또는 포스파이드(phosphide) 소스 및 칼코게나이드(chalcogenide) 소스로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다.The primary coating source may be any one selected from the group consisting of a carbon source or a phosphide source and a chalcogenide source.

이때, 상기 카본 소스는 해당 분야에서 통상적으로 카본 층 형성에 사용되는 탄화수소 물질이라면 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.At this time, the carbon source is not limited to the hydrocarbon material used in the conventional carbon layer formation, but can be used.

예를들어, 벤젠(Benzene, C6H6), 톨루엔(Toluene, C7H8), 스티렌(Styrene, C8H8), 인덴(Indene, C9H8), 헥산(Hexane, C6H14), 옥탄(Octane, C8H18), 액체 파라핀 오일(Paraffin oil, CxHy), 나프탈렌(Naphthalene, C10H8), 안트라센(Anthracene, C14H10), 플루오렌(Fluorene, C13H10), 고체 파라핀 (Paraffin, CxHy), 파이렌(Pyrene, C16H10), 탄소수 2 내지 8인 모노머로 이루어진 폴리머, 아세틸렌(Acetylene, C2H2), 에틸렌(Ethylene, C2H4), 프로판 (Propane, C3H8), 메탄(Methane, CH4), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스티렌(Polystyrene) 또는 폴리프로필렌(Polypropylene) 등이 사용될 수 있으며, 카본 층 형성에 영향을 미치지 않을 경우, 상기 카본 소스의 혼합물 또한 사용될 수 있다.For example, benzene (Benzene, C 6 H 6) , toluene (Toluene, C 7 H 8) , styrene (Styrene, C 8 H 8) , indene (Indene, C 9 H 8) , hexane (Hexane, C 6 H 14 ), octane (C 8 H 18 ), paraffin oil (C x H y ), naphthalene (C 10 H 8 ), anthracene (C 14 H 10 ) Fluorene, C 13 H 10), solid paraffin (paraffin,, pyrene C x H y) (pyrene, C 16 H 10), having 2 to 8 carbon atoms polymer consisting of monomers, acetylene (acetylene, C 2 H 2), It is possible to use ethylene, C 2 H 4 , propane, C 3 H 8 , methane, CH 4 , polyethylene, polystyrene or polypropylene, If the layer formation is not affected, a mixture of the carbon sources may also be used.

나아가, 상기 카본 소스는 N, P 및 B로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 도핑 원소를 함유하는 카본 소스가 사용될 수 있다.Furthermore, a carbon source containing at least one doping element selected from the group consisting of N, P and B may be used as the carbon source.

이때, 상기 도핑 원소를 함유하는 카본 소스는 해당 분야에서 통상적으로 카본 층 형성에 사용되는 N, P 또는 B 도핑된 탄화수소라면 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.At this time, the carbon source containing the doping element is not limited to the N, P or B-doped hydrocarbon species used in the carbon layer in the related art.

예를들어, 상기 카본 소스는 멜라민(melamin, C3H6N6), 피리딘(pyridine, C5H5N), 아크릴로니트릴(acrylonitrile, C3H3N), 피롤(Pyrrole, C4H5N), 암모니아(NH3) 와 탄화수소 가스의 혼합 가스, 트리부틸포스핀(tributylphosphine, [CH3(CH2)3]3P), 포스포린(phosphorine, C5H5P), 트리페닐보란(triphenylborane, (C6H5)3B), 보리닌(Borinine, C5H5B), 트리에틸보란(triethylborane((C2H5)3B), 트리메틸보란 (trimethylboron, B(CH3)3), 또는 트리메틸보론-d9(trimethylboron-d9, B(CD3)3), 보란 디메틸아민(borane dimethylamine), 보란 피리딘(borane pyridine), 보란 트리메틸아민(borane trimethylamine), 보란 암모니아(borane-ammonia), 테트라부틸암모늄 시아노보로하이드라이드(tetrabutylammonium cyanoborohydride), 암모늄 테트라페닐보레이트(ammonium tetraphenylborate), 테트라부틸암모늄 보로하이드라이드(tetrabutylammonium borohydride), 테트라메틸암모늄 트리아세톡시보로하이드라이드(tetramethylammonium triacetoxyborohydride), 2,4,6-트리페닐보라진 (2,4,6-triphenylborazine) 또는 보란 디페닐포스핀(borane diphenylphosphine) 등이 사용될 수 있으며, 카본 층 형성에 영향을 미치지 않을 경우, 상기 카본 소스의 혼합물 또한 사용될 수 있다.For example, the carbon source is melamine (melamin, C 3 H 6 N 6), pyridine (pyridine, C 5 H 5 N ), acrylonitrile (acrylonitrile, C 3 H 3 N ), pyrrole (Pyrrole, C 4 H 5 N), a mixed gas of ammonia (NH 3 ) and a hydrocarbon gas, tributylphosphine [CH 3 (CH 2 ) 3 ] 3 P, phosphorine (C 5 H 5 P) (C 6 H 5 ) 3 B), borinine (C 5 H 5 B), triethylborane ((C 2 H 5 ) 3 B), trimethylboron CH 3 ) 3 or trimethylboron-d 9, B (CD 3 ) 3 ), borane dimethylamine, borane pyridine, borane trimethylamine, borane ammonia borane-ammonia, tetrabutylammonium cyanoborohydride, ammonium tetraphenylborate, tetrabutylammonium borohydride, tetrabutylammonium borohydride, tetramethylammonium triacetoxyborohydride, 2,4,6-triphenylborazine or borane diphenylphosphine, etc. may be used, for example, And if it does not affect the carbon layer formation, a mixture of the carbon sources may also be used.

또한, 상기 포스파이드(phosphide) 소스는 P, Ni(CO)6, Fe2(CO)9, Zn(CH3)2, Zn(C2H5)2, In(CH3)3, Mo(CO)6, Ga(CH3)3 및 Ga(C2H5)3로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다.In addition, the phosphide (phosphide) source P, Ni (CO) 6, Fe 2 (CO) 9, Zn (CH 3) 2, Zn (C 2 H 5) 2, In (CH 3) 3, Mo ( CO) 6 , Ga (CH 3 ) 3 and Ga (C 2 H 5 ) 3 .

나아가, 상기 칼코게나이드 소스는 설파이드(sulfide) 소스, 셀레나이드(selenide) 소스, 텔루라이드(telluride) 소스 또는 폴로나이드(polonide) 소스일 수 있으며이때, 상기 칼코게나이드 소스는 S, HS, C6H5SeH, C12H10Se, Se(CH3)2, Se(C2H5)2 Mo(CO)6, Ni(CO)6, Fe2(CO)9, W(CO)6, Cr(CO)6, Mn2(CO)10, Ru3(CO)12, Rh4(CO)12, Re2(CO)10, 및 Co2(CO)8로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다.Further, the chalcogenide source may be a sulfide source, a selenide source, a telluride source, or a polonide source, wherein the chalcogenide source is selected from the group consisting of S, H 2 S , C 6 H 5 SeH, C 12 H 10 Se, Se (CH 3) 2, Se (C 2 H 5) 2 Mo (CO) 6, Ni (CO) 6, Fe 2 (CO) 9, W (CO ) 6 , Cr (CO) 6, Mn 2 (CO) 10, Ru 3 (CO) 12, Rh 4 (CO) 12, Re 2 (CO) 10, and can be one or more which is Co 2 (CO) selected from the group consisting of 8 have.

나아가, 상기 1차 코팅 소스의 물질 상태는 고체, 액체, 및 기체로 구분될 수 있으며, 공급하고자 하는 1차 코팅 소스의 물질 상태에 따라 적합한 방식으로 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 공급할 수 있다.Further, the material state of the primary coating source may be divided into solid, liquid, and gas, and may be supplied to the high-temperature high-pressure sealed reactor in a suitable manner according to the material state of the primary coating source to be supplied.

이때, 상기 1차 코팅 소스가 고체인 경우, 코어 나노입자와 1차 코팅 소스를 밀폐형 반응기 내에 함께 공급할 수 있으며, 1차 코팅 소스의 공급량은 코어 나노입자의 공급 중량에 대한 1차 코팅 소스의 중량비를 조절함으로써 제어할 수 있다.When the primary coating source is a solid, the core nanoparticles and the primary coating source may be supplied together in the closed reactor. The amount of the primary coating source to be supplied may be a weight ratio of the primary coating source to the supply weight of the core nanoparticles As shown in FIG.

상기 1차 코팅 소스가 액체인 경우, 코어 나노입자와 1차 코팅 소스를 밀폐형 반응기 내에 함께 공급하거나, 코어 나노입자를 먼저 반응기 내에 공급한 후 반응기에 외부 펌프를 사용하여 1차 코팅소스를 추가 공급할 수 있다. 이때, 1차 코팅 소스가 유해물질인 경우에는 외부 펌프를 통해 공급함으로써 유해물질의 배출 없이 공정을 수행할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 1차 코팅소스의 공급량은 반응기 부피에 대한 1차 코팅 소스의 부피비를 조절함으로써 제어할 수 있다.If the primary coating source is a liquid, the core nanoparticles and the primary coating source may be fed together in a closed reactor, or the core nanoparticles may be first fed into the reactor and then the primary coating source may be further fed to the reactor using an external pump . At this time, when the primary coating source is a harmful substance, it is supplied through an external pump, and thus the process can be performed without discharging harmful substances. Also, the feed rate of the primary coating source can be controlled by adjusting the volume ratio of the primary coating source to the reactor volume.

상기 1차 코팅 소스가 기체인 경우, 코어 나노입자를 먼저 반응기 내에 공급한 후 반응기에 외부 펌프나 고압가스공급장비를 사용하여 1차 코팅 소스를 추가 공급할 수 있다. 이때, 1차 코팅소스의 공급량은 주입되는 1차 코팅소스 기체의 압력을 조절함으로써 제어할 수 있다.If the primary coating source is a gas, the core nanoparticles may first be fed into the reactor and then the primary coating source may be additionally supplied to the reactor using an external pump or high pressure gas supply equipment. At this time, the supply amount of the primary coating source can be controlled by adjusting the pressure of the primary coating source gas to be injected.

상기 코어-쉘 나노입자 제조방법은 1차 코팅 소스 공급 시 상술한 바와 같이 공급량을 제어함으로써 코팅되는 쉘의 두께를 원하는 두께로 선택할 수 있다.The core-shell nanoparticle manufacturing method can select the desired thickness of the coated shell by controlling the amount of supply as described above when supplying the primary coating source.

예를들어, 공급되는 코팅 소스가 칼코게나이드 소스일 경우 공급되는 칼코게나이드 소스의 양을 제어함으로써 칼코게나이드 쉘층의 두께를 0nm 내지100nm 의 범위에서 선택하여 제조할 수 있다.(실시예 1 참조) 다만, 상기 제시된 쉘의 두께 범위는 코어-쉘 나노입자의 제조 분야에서 주로 요구되는 두께 범위에 따라 예시한 것일 뿐이며, 탄소 소스의 공급량을 제어하여 사용하고자 하는 기술 분야에서 요구하는 쉘의 두께를 얼마든지 선택하여 형성 가능하다.For example, the thickness of the chalcogenide shell layer can be selected within the range of 0 nm to 100 nm by controlling the amount of the chalcogenide source to be supplied when the supplied coating source is a chalcogenide source. (Example 1 However, the thickness range of the shell shown above is only exemplified in accordance with the thickness range required in the manufacturing of core-shell nanoparticles, and the thickness of the shell required in the technical field for controlling the supply amount of the carbon source Can be formed.

따라서, 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 나노입자-탄소 코어-쉘의 쉘 두께를 다양하게 제어할 수 있으며, 공급되는 코어 나노입자의 직경 또한 자유롭게 선택할 수 있기 때문에 사용하고자 하는 용도에 따라 코어-쉘 나노입자의 크기를 최적화하여 제조할 수 있다.Therefore, by controlling the supply amount of the coating source, it is possible to variously control the shell thickness of the nanoparticle-carbon core-shell, and the diameter of the core nanoparticles to be supplied can be freely selected. Therefore, Can be produced by optimizing the particle size.

또한, 상기 1차 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 비코팅된 코어 나노입자 또는 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자가 형성되지 않도록 할 수 있다.In addition, controlling the supply amount of the primary coating source can prevent uncoated core nanoparticles or micro-sized core-shell nanoparticles from being formed.

1차 코팅 소스의 공급량이 너무 적을 경우 카본 코팅, 포스파이드 코팅 또는 칼코게나이드 코팅이 거의 되지 않은 코어 나노입자 그대로 존재할 수 있다. 반면 1차 코팅 소스의 공급량이 너무 많을 경우, 코어-쉘 나노입자 구조뿐만 아니라 부산물로써 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자, 탄소구, 포스파이드구 또는 칼코게나이드구 가 함께 형성되어 합성물의 불균일성을 초래할 수 있다. 따라서, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서 코어 나노입자, 마이크로 크기의 탄소구, 포스파이드구 또는 칼코게나이드구가 생성되지 않도록 하는 범위 내에서 1차 코팅 소스의 공급량을 제어하는 것이 바람직하다.If the supply amount of the primary coating source is too low, core nanoparticles with little carbon coating, phosphide coating or chalcogenide coating may be present. On the other hand, if the supply amount of the primary coating source is too high, micro-sized core-shell nanoparticles, carbon spheres, phosphated spheres or chalcogenide spheres are formed together with the core-shell nanoparticle structure as a byproduct, . Therefore, it is preferable to control the supply amount of the primary coating source within the range that the core nanoparticles, the micro-sized carbon spheres, the phosphated spheres or the chalcogenide spheres are not generated in the core-shell nanoparticle production method .

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조방법은 상기 코어 나노입자의 종류에 상관없이 공급되는 1차 코팅 소스가 손실 없이 90% 이상 또는 99% 이상 상기 코어 나노입자의 코팅을 위해 사용될 수 있다.In addition, the core-shell nanoparticle manufacturing method can be used for coating the core nanoparticles with a primary coating source of 90% or more or 99% or more without loss regardless of the kind of the core nanoparticles.

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 코어 나노입자 및 1차 코팅 소스가 공급된 고온 고압 밀폐형 반응기를 밀폐하는 단계를 포함한다.Next, the core-shell nanoparticle manufacturing method includes sealing the high-temperature high-pressure hermetically sealed reactor supplied with the core nanoparticles and the primary coating source.

고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐함으로써, 투입되는 코팅 소스의 손실 없이 코어 나노입자를 코팅할 수 있으며, 밀폐에 따른 감압 조건을 통해 온도 조건만을 제어하여 코어 나노입자를 종래 기술보다 단순한 공정으로 코팅할 수 있다는 장점이 있다.It is possible to coat core nanoparticles without loss of coating source by completely sealing the high-temperature high-pressure sealed reactor and to coat the core nanoparticles with a simple process more than the prior art by controlling only the temperature condition through the pressure- .

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 밀폐된 고온 고압 밀폐형 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 1차 가열하는 단계를 포함한다.Next, the core-shell nanoparticle manufacturing method includes a step of firstly heating the sealed high-temperature high-pressure sealed reactor in an inert gas atmosphere.

여기서, 상기 비활성 기체는 헬륨, 네온, 아르곤, 크립톤, 제논, 라돈 또는 질소 등일 수 있으며, 이밖에 다른 물질과의 반응성이 낮은 비활성 기체라면 상기 종류에 제한되지 않고 모두 사용될 수 있다.Here, the inert gas may be helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, nitrogen, or the like, and any inert gas having low reactivity with other substances may be used.

또한, 상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 1차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 일 수 있고, 500℃ 내지 900℃일 수 있고, 400℃ 내지 1000℃일 수 있다.In addition, when the primary coating source is a carbon source, the primary heating temperature may be 550 캜 to 850 캜, 500 캜 to 900 캜, and 400 캜 to 1000 캜.

이때, 상기 1차 가열 온도가 400℃ 미만일 경우 반응 온도가 너무 낮아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 카본소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.If the primary heating temperature is less than 400 ° C, the reaction temperature may be too low to allow some carbon sources to be coated on the core nanoparticles, and the uncoated carbon source residue may be generated as a by-product to cause non-uniformity of the product have.

또한, 상기 1차 가열 온도가 1000℃ 초과일 경우 반응 온도가 너무 높아 코어 나노입자의 상변형 또는 물리적 화학적 특성이 변형되는 현상이 일어날 수 있다. 예를들어, 녹는점이 낮은 Al, Zn, Sn, In 등의 코어 나노입자를 사용할 경우 코어 나노입자로부터 기화되는 분자와 카본 소스의 열분해 분자 사이의 부반응에 의한 2차 부산물이 생성될 수 있다. 나아가, 반응기의 변형 등에 대비한 재질선정에 어려움이 있어, 반응기 제작 단가가 상승하여, 생산비 상승하므로 경제성이 떨어질 수 있다. Also, when the primary heating temperature is higher than 1000 ° C, the reaction temperature is too high, so that the phase deformation or physical and chemical properties of the core nanoparticles may be deformed. For example, when core nanoparticles such as Al, Zn, Sn, and In having low melting points are used, secondary by-products may be generated due to a side reaction between the molecules vaporized from the core nanoparticles and the thermal decomposition molecules of the carbon source. Furthermore, there is a difficulty in selecting a material for the deformation of the reactor, etc., and the production cost of the reactor is increased and the production cost is increased.

또한, 상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 1차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃일 수 있고, 350℃ 내지 900℃일 수 있고, 300℃ 내지 1000℃일 수 있다.In addition, when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the primary heating temperature may be 400 ° C. to 850 ° C., 350 ° C. to 900 ° C., and may be 300 ° C. to 1000 ° C. have.

이때, 상기 1차 가열 온도가 300℃ 미만일 경우 반응 온도가 너무 낮아 일부 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.If the primary heating temperature is less than 300 ° C, the reaction temperature is too low to allow coating of the phosphide source or the chalcogenide source on the core nanoparticles, and the uncoated phosphide source or residual chalcogenide source Water can be generated as a by-product and result in product non-uniformity.

또한, 상기 1차 가열 온도가 1000℃ 초과일 경우 반응 온도가 너무 높아 코어 나노입자의 상변형 또는 물리적 화학적 특성이 변형되는 현상이 일어날 수 있다. 그 일례로써, 녹는점이 낮은 Al, Zn, Sn, In 등의 코어 나노입자를 사용할 경우 코어 나노입자로부터 기화되는 분자와 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스의 열분해 분자 사이의 부반응에 의한 2차 부산물이 생성될 수 있다. 나아가, 반응기의 변형 등에 대비한 재질선정에 어려움이 있어, 반응기 제작 단가가 상승하여, 생산비 상승하므로 경제성이 떨어질 수 있다. Also, when the primary heating temperature is higher than 1000 ° C, the reaction temperature is too high, so that the phase deformation or physical and chemical properties of the core nanoparticles may be deformed. As an example, when using core nanoparticles such as Al, Zn, Sn, and In having a low melting point, a secondary by-product due to a side reaction between a molecule vaporized from the core nanoparticle and a pyrolyzing source of a phosphide source or a chalcogenide source Lt; / RTI > Furthermore, there is a difficulty in selecting a material for the deformation of the reactor, etc., and the production cost of the reactor is increased and the production cost is increased.

본 단계에 있어서, 상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 1차 가열 시간은 10분 내지 120분일 수 있고, 5분 내지 130분일 수 있고, 1분 내지 140분일 수 있다.In this step, when the primary coating source is a carbon source, the primary heating time may be from 10 minutes to 120 minutes, from 5 minutes to 130 minutes, and from 1 minute to 140 minutes.

이때, 상기 반응시간은 사용되는 코어 나노입자의 크기, 형성하고자 하는 카본 쉘의 두께 등에 따라 달라질 수 있다.At this time, the reaction time may vary depending on the size of the core nanoparticles to be used, the thickness of the carbon shell to be formed, and the like.

한편, 상기 1차 가열 시간이 1분 미만일 경우 반응 시간이 너무 짧아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.On the other hand, when the first heating time is less than 1 minute, the reaction time is too short, so that some carbon sources may not be coated on the core nanoparticles, and uncoated phosphide sources or chalcogenide source residues are generated as byproducts Resulting in non-uniformity of the product.

또한, 상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 1차 가열 시간은 10분 내지 60분일 수 있고, 5분 내지 70분일 수 있고, 1분 내지 80분일 수 있다.In addition, when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the primary heating time may be from 10 minutes to 60 minutes, from 5 minutes to 70 minutes, and from 1 minute to 80 minutes.

이때, 상기 반응시간은 사용되는 코어 나노입자의 크기, 형성하고자하는 포스파이드 또는 칼코게나이드 쉘의 두께 등에 따라 달라질 수 있다.At this time, the reaction time may vary depending on the size of core nanoparticles to be used, the thickness of the phosphide or the chalcogenide shell to be formed, and the like.

한편, 상기 1차 가열 시간이 1분 미만일 경우 반응 시간이 너무 짧아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.On the other hand, when the first heating time is less than 1 minute, the reaction time is too short, so that some carbon sources may not be coated on the core nanoparticles, and uncoated phosphide sources or chalcogenide source residues are generated as byproducts Resulting in non-uniformity of the product.

나아가, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서 상기 1차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.Further, in the method for manufacturing core-shell nanoparticles, after the primary heating, releasing the internal pressure of the reactor and removing residual gas may stabilize the inside of the reactor.

구체적으로, 압력 조절 밸브를 서서히 개방하여 반응기의 내부 온도 및 압력을 상온 및 상압으로 낮출 수 있다. 반응기의 내부 온도 및 압력이 상온, 상압 상태에 도달하면, 아르곤 또는 질소 등의 비활성 기체를 이용하여 반응기 내부를 퍼지(purge)하고 반응기를 열어 제조된 코어-쉘 나노입자를 수득할 수 있다.Specifically, the pressure regulating valve can be gradually opened to lower the internal temperature and pressure of the reactor to room temperature and normal pressure. When the internal temperature and pressure of the reactor reach room temperature and pressure, an inert gas such as argon or nitrogen is used to purge the inside of the reactor and open the reactor to obtain core-shell nanoparticles.

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 1차 가열 이후 상기 반응기에 2차 코팅 소스를 공급하는 단계를 포함한다.Next, the method for producing the core-shell nanoparticles comprises supplying a secondary coating source to the reactor after the primary heating.

여기서, 상기 2차 코팅 소스는 상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 수 있고, 상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우 카본 소스일 수 있다.Here, the secondary coating source may be a phosphide source or a chalcogenide source when the primary coating source is a carbon source, and may be a carbon source when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source have.

이때, 상기 카본 소스 및 상기 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스의 종류 및 공급 방법은 상술한 바와 같다.At this time, the types and supply methods of the carbon source, the phosphide source or the chalcogenide source are as described above.

상기 코어-쉘 나노입자 제조방법은 2차 코팅 소스 공급 시 상술한 바와 같이 공급량을 제어함으로써 코팅되는 쉘의 두께를 원하는 두께로 선택할 수 있다.The core-shell nanoparticle manufacturing method can select the desired thickness of the coated shell by controlling the amount of supply as described above when supplying the secondary coating source.

예를들어, 공급되는 코팅 소스가 칼코게나이드 소스일 경우 공급되는 칼코게나이드 소스의 양을 제어함으로써 칼코게나이드 쉘층의 두께를 0nm 내지100nm 의 범위에서 선택하여 제조할 수 있다.(실시예 1 참조) 다만, 상기 제시된 쉘의 두께 범위는 코어-쉘 나노입자의 제조 분야에서 주로 요구되는 두께 범위에 따라 예시한 것일 뿐이며, 탄소 소스의 공급량을 제어하여 사용하고자 하는 기술 분야에서 요구하는 쉘의 두께를 얼마든지 선택하여 형성 가능하다.For example, the thickness of the chalcogenide shell layer can be selected within the range of 0 nm to 100 nm by controlling the amount of the chalcogenide source to be supplied when the supplied coating source is a chalcogenide source. (Example 1 However, the thickness range of the shell shown above is only exemplified in accordance with the thickness range required in the manufacturing of core-shell nanoparticles, and the thickness of the shell required in the technical field for controlling the supply amount of the carbon source Can be formed.

따라서, 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 나노입자-탄소 코어-쉘의 쉘 두께를 다양하게 제어할 수 있으며, 공급되는 코어 나노입자의 직경 또한 자유롭게 선택할 수 있기 때문에 사용하고자 하는 용도에 따라 코어-쉘 나노입자의 크기를 최적화하여 제조할 수 있다.Therefore, by controlling the supply amount of the coating source, it is possible to variously control the shell thickness of the nanoparticle-carbon core-shell, and the diameter of the core nanoparticles to be supplied can be freely selected. Therefore, Can be produced by optimizing the particle size.

또한, 상기 2차 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 비코팅된 코어 나노입자 또는 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자가 형성되지 않도록 할 수 있다.In addition, the amount of the secondary coating source can be controlled so that uncoated core nanoparticles or micro-sized core-shell nanoparticles are not formed.

2차 코팅 소스의 공급량이 너무 적을 경우 카본 코팅 또는 포스파이드 또는 칼코게나이드 코팅이 거의 되지 않은 코어 나노입자 그대로 존재할 수 있다. 반면 2차 코팅 소스의 공급량이 너무 많을 경우, 코어-쉘 나노입자 구조뿐만 아니라 부산물로써 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자, 탄소구, 포스파이드구 또는 칼코게나이드구가 함께 형성되어 합성물의 불균일성을 초래할 수 있다. 따라서, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서 코어 나노입자, 마이크로 크기의 탄소구, 포스파이드구 또는 칼코게나이드구가 생성되지 않도록 하는 범위 내에서 2차 코팅 소스의 공급량을 제어하는 것이 바람직하다.If the supply amount of the secondary coating source is too low, core nanoparticles with little carbon coating or phosphide or chalcogenide coating may be present. On the other hand, if the supply amount of the secondary coating source is too large, micro-sized core-shell nanoparticles, carbon spheres, phosphated spheres or chalcogenide spheres are formed together with the core-shell nanoparticle structure as a byproduct, . Therefore, it is preferable to control the supply amount of the secondary coating source within the range that the core nanoparticles, the micro-sized carbon spheres, the phosphated spheres or the chalcogenide spheres are not generated in the core-shell nanoparticle production method .

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조방법은 상기 코어 나노입자의 종류에 상관없이 공급되는 2차 코팅 소스가 손실 없이 90% 이상 또는 99% 이상 상기 코어 나노입자의 코팅을 위해 사용될 수 있다.In addition, the core-shell nanoparticle production method can be used for coating the core nanoparticles with 90% or more of 99% or more of the supplied secondary coating source without loss, irrespective of the kind of the core nanoparticles.

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 2차 코팅 소스가 공급된 고온 고압 밀폐형 반응기를 밀폐하는 단계를 더 포함할 수 있다.Next, the core-shell nanoparticle manufacturing method may further include sealing the high-temperature high-pressure hermetically closed reactor supplied with the secondary coating source.

고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐함으로써, 투입되는 코팅 소스의 손실 없이 코어 나노입자를 코팅할 수 있으며, 밀폐에 따는 감압 조건을 통해 온도 조건만을 제어하여 코어 나노입자를 종래 기술보다 단순한 공정으로 코팅할 수 있다는 장점이 있다.It is possible to coat core nanoparticles without loss of coating source by completely sealing the high-temperature high-pressure sealed reactor and to coat core nanoparticles with simple process than the prior art by controlling only temperature condition through the pressure- .

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 밀폐된 고온 고압 밀폐형 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 2차 가열하는 단계를 포함한다.Next, the core-shell nanoparticle manufacturing method includes a step of secondarily heating the sealed high-temperature high-pressure sealed reactor in an inert gas atmosphere.

여기서, 상기 비활성 기체는 헬륨, 네온, 아르곤, 크립톤, 제논, 라돈 또는 질소 등일 수 있으며, 이밖에 다른 물질과 비교적 반응하기 어려운 비활성 기체라면 상기 종류에 제한되지 않고 모두 사용될 수 있다.Here, the inert gas may be helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, nitrogen, or the like, and any inert gas that is relatively difficult to react with other substances may be used.

또한, 상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 2차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 일 수 있고, 500℃ 내지 900℃일 수 있고, 400℃ 내지 1000℃일 수 있다.Further, when the secondary coating source is a carbon source, the secondary heating temperature may be 550 캜 to 850 캜, 500 캜 to 900 캜, and 400 캜 to 1000 캜.

이때, 상기 2차 가열 온도가 400℃ 미만일 경우 반응 온도가 너무 낮아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 카본소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.If the secondary heating temperature is lower than 400 ° C., the reaction temperature may be too low to allow the carbon nanotubes to be coated on some of the carbon nanotubes, and uncoated carbon source residues may be generated as byproducts, have.

나아가, 상기 2차 가열 온도가 1000℃ 초과일 경우 반응 온도가 너무 높아 코어 나노입자의 상변형 또는 물리적 화학적 특성이 변형되는 현상이 일어날 수 있다. 그 일례로써, 녹는점이 낮은 Al, Zn, Sn, In 등의 코어 나노입자를 사용할 경우 코어 나노입자로부터 기화되는 분자와 카본 소스의 열분해 분자 사이의 부반응에 의한 2차 부산물이 생성될 수 있다. 나아가, 반응기의 변형 등에 대비한 재질선정에 어려움이 있어, 반응기 제작 단가가 상승하여, 생산비 상승하므로 경제성이 떨어질 수 있다. Furthermore, when the secondary heating temperature is higher than 1000 ° C., the reaction temperature may be too high to deform the phase distortion or physical and chemical properties of the core nanoparticles. For example, when core nanoparticles such as Al, Zn, Sn, and In have low melting points, second byproducts may be generated due to side reactions between molecules vaporized from the core nanoparticles and thermal decomposition molecules of the carbon source. Furthermore, there is a difficulty in selecting a material for the deformation of the reactor, etc., and the production cost of the reactor is increased and the production cost is increased.

상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 2차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃일 수 있고, 350℃ 내지 900℃일 수 있고, 300℃ 내지 1000℃일 수 있다.When the secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the secondary heating temperature may be 400 ° C to 850 ° C, 350 ° C to 900 ° C, and 300 ° C to 1000 ° C.

이때, 상기 2차 가열 온도가 300℃ 미만일 경우 반응 온도가 너무 낮아 일부 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.If the secondary heating temperature is less than 300 ° C, the reaction temperature is too low to allow coating of the phosphide source or the chalcogenide source on the core nanoparticles, and an uncoated phosphide source or residual chalcogenide source Water can be generated as a by-product and result in product non-uniformity.

또한, 상기 2차 가열 온도가 1000℃ 초과일 경우 반응 온도가 너무 높아 코어 나노입자의 상변형 또는 물리적 화학적 특성이 변형되는 현상이 일어날 수 있다. 그 일례로써, 녹는점이 낮은 Al, Zn, Sn, In 등의 코어 나노입자를 사용할 경우 코어 나노입자로부터 기화되는 분자와 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스의 열분해 분자 사이의 부반응에 의한 2차 부산물이 생성될 수 있다. 나아가, 반응기의 변형 등에 대비한 재질선정에 어려움이 있어, 반응기 제작 단가가 상승하여, 생산비 상승하므로 경제성이 떨어질 수 있다. If the secondary heating temperature is higher than 1000 ° C, the reaction temperature may be excessively high, which may result in deformation of the core nanoparticles or deformation of the physical and chemical properties of the core nanoparticles. As an example, when using core nanoparticles such as Al, Zn, Sn, and In having a low melting point, a secondary by-product due to a side reaction between a molecule vaporized from the core nanoparticle and a pyrolyzing source of a phosphide source or a chalcogenide source Lt; / RTI > Furthermore, there is a difficulty in selecting a material for the deformation of the reactor, etc., and the production cost of the reactor is increased and the production cost is increased.

나아가, 상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 2차 가열 시간은 10분 내지 120분일 수 있고, 5분 내지 130분일 수 있고, 1분 내지 140분일 수 있다.Further, when the secondary coating source is a carbon source, the secondary heating time can be 10 minutes to 120 minutes, 5 minutes to 130 minutes, and 1 minute to 140 minutes.

이때, 상기 반응시간은 사용되는 코어 나노입자의 크기, 형성하고자 하는 카본 쉘의 두께 등에 따라 달라질 수 있다.At this time, the reaction time may vary depending on the size of the core nanoparticles to be used, the thickness of the carbon shell to be formed, and the like.

한편, 상기 2차 가열 시간이 1분 미만일 경우 반응 시간이 너무 짧아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다. On the other hand, if the second heating time is less than 1 minute, the reaction time is too short, so that some carbon sources may not be coated on the core nanoparticles, and uncoated phosphide sources or chalcogenide source residues are generated as byproducts Resulting in non-uniformity of the product.

또한, 상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 2차 가열 시간은 10분 내지 60분일 수 있고, 5분 내지 70분일 수 있고, 1분 내지 80분일 수 있다.Also, when the secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the secondary heating time can be 10 minutes to 60 minutes, 5 minutes to 70 minutes, and 1 minute to 80 minutes.

이때, 상기 반응시간은 사용되는 코어 나노입자의 크기, 형성하고자 하는 포스파이드 또는 칼코게나이드 쉘층의 두께 등에 따라 달라질 수 있다.At this time, the reaction time may vary depending on the size of the core nanoparticles to be used, the thickness of the phosphide or the chalcogenide shell layer to be formed, and the like.

한편, 상기 2차 가열 시간이 1분 미만일 경우 반응 시간이 너무 짧아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.On the other hand, if the second heating time is less than 1 minute, the reaction time is too short, so that some carbon sources may not be coated on the core nanoparticles, and uncoated phosphide sources or chalcogenide source residues are generated as byproducts Resulting in non-uniformity of the product.

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서 상기 2차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.Further, in the method for manufacturing core-shell nanoparticles, after the secondary heating, releasing the internal pressure of the reactor and removing residual gas may stabilize the inside of the reactor.

구체적으로, 압력 조절 밸브를 서서히 개방하여 반응기의 내부 온도 및 압력을 상온 및 상압으로 낮출 수 있다. 반응기의 내부 온도 및 압력이 상온, 상압 상태에 도달하면, 아르곤 또는 질소 등의 비활성 기체를 이용하여 반응기 내부를 퍼지(purge)하고 반응기를 열어 제조된 코어-쉘 나노입자를 수득할 수 있다.Specifically, the pressure regulating valve can be gradually opened to lower the internal temperature and pressure of the reactor to room temperature and normal pressure. When the internal temperature and pressure of the reactor reach room temperature and pressure, an inert gas such as argon or nitrogen is used to purge the inside of the reactor and open the reactor to obtain core-shell nanoparticles.

나아가, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 2차 가열 이후에, 반응기에 3차 코팅 소스를 공급하는 단계 및 상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 3차 가열하는 단계를 더 포함할 수 있다.Furthermore, the method for producing the core-shell nanoparticles may further include, after the secondary heating, supplying a tertiary coating source to the reactor and heating the reactor in a tertiary atmosphere in an inert gas atmosphere.

이때, 상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 코팅 소스는포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스이고,Wherein when the secondary coating source is a carbon source, the tertiary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source,

상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 코팅 소스는 카본 소스일 수 있다. When the secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the tertiary coating source may be a carbon source.

이때, 상기 카본 소스 및 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스의 종류 및 공급방법은 상술한 바와 동일하다.At this time, the types and supply methods of the carbon source, the phosphide source, or the chalcogenide source are the same as those described above.

상기 코어-쉘 나노입자 제조방법은 3차 코팅 소스 공급 시 상술한 바와 같이 공급량을 제어함으로써 코팅되는 쉘의 두께를 원하는 두께로 선택할 수 있다.The core-shell nanoparticle manufacturing method can select the desired thickness of the coated shell by controlling the amount of supply as described above when supplying the third coating source.

예를들어, 공급되는 코팅 소스가 칼코게나이드 소스일 경우 공급되는 칼코게나이드 소스의 양을 제어함으로써 칼코게나이드 쉘층의 두께를 0nm 내지100nm 의 범위에서 선택하여 제조할 수 있다.(실시예 1 참조) 다만, 상기 제시된 쉘의 두께 범위는 코어-쉘 나노입자의 제조 분야에서 주로 요구되는 두께 범위에 따라 예시한 것일 뿐이며, 탄소 소스의 공급량을 제어하여 사용하고자 하는 기술 분야에서 요구하는 쉘의 두께를 얼마든지 선택하여 형성 가능하다.For example, the thickness of the chalcogenide shell layer can be selected within the range of 0 nm to 100 nm by controlling the amount of the chalcogenide source to be supplied when the supplied coating source is a chalcogenide source. (Example 1 However, the thickness range of the shell shown above is only exemplified in accordance with the thickness range required in the manufacturing of core-shell nanoparticles, and the thickness of the shell required in the technical field for controlling the supply amount of the carbon source Can be formed.

또한, 상기 3차 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 비코팅된 코어 나노입자 또는 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자가 형성되지 않도록 할 수 있다.In addition, by controlling the amount of the third coating source to be supplied, it is possible to prevent the formation of uncoated core nanoparticles or micro-sized core-shell nanoparticles.

본 단계에 있어서 3차 코팅 소스의 공급량이 너무 적을 경우 카본 코팅 및 포스파이드 또는 칼코게나이드 코팅이 거의 되지 않은 코어 나노입자 그대로 존재할 수 있다. 반면 3차 코팅 소스의 공급량이 너무 많을 경우, 코어-쉘 나노입자 구조뿐만 아니라 부산물로써 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자, 탄소구, 포스파이드구 또는 칼코게나이드구가 함께 형성되어 합성물의 불균일성을 초래할 수 있다. 따라서, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서 코어 나노입자, 마이크로 크기의 탄소구, 포스파이드구 또는 칼코게나이드구가 생성되지 않도록 하는 범위 내에서 3차 코팅 소스의 공급량을 제어하는 것이 바람직하다.In this step, if the supply amount of the third coating source is too small, core nanoparticles having almost no carbon coating and phosphide or chalcogenide coating may be present. On the other hand, if the supply amount of the third coating source is too high, micro-sized core-shell nanoparticles, carbon spheres, phosphide spheres or chalcogenide spheres are formed together with the core-shell nanoparticle structure as a byproduct, . Therefore, it is preferable to control the supply amount of the third coating source within the range that the core nanoparticles, the micro-sized carbon spheres, the phosphated spheres or the chalcogenide spheres are not generated in the core-shell nanoparticle production method .

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조방법은 상기 코어 나노입자의 종류에 상관없이 공급되는 3차 코팅 소스가 손실 없이 90% 이상 또는 99% 이상 상기 코어-쉘 나노입자의 코팅을 위해 사용될 수 있다.In addition, the core-shell nanoparticle production method can be used for coating the core-shell nanoparticles with 90% or more of 99% or more of the supplied third coating source, regardless of the kind of the core nanoparticles.

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 3차 코팅 소스가 공급된 고온 고압 밀폐형 반응기를 밀폐하는 단계를 더 포함할 수 있다.Next, the core-shell nanoparticle manufacturing method may further include sealing the high-temperature high-pressure hermetically closed reactor supplied with the third coating source.

고온 고압 밀폐형 반응기를 완전 밀폐함으로써, 투입되는 코팅 소스의 손실 없이 코어 나노입자를 코팅할 수 있으며, 밀폐에 따른 감압 조건을 통해 온도 조건만을 제어하여 코어 나노입자를 종래 기술보다 단순한 공정으로 코팅할 수 있다는 장점이 있다.It is possible to coat core nanoparticles without loss of coating source by completely sealing the high-temperature high-pressure sealed reactor and to coat the core nanoparticles with a simple process more than the prior art by controlling only the temperature condition through the pressure- .

다음으로, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법은 상기 밀폐된 고온 고압 밀폐형 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 3차 가열하는 단계를 포함할 수 있다.Next, the method for manufacturing the core-shell nanoparticles may include a third step of heating the sealed high-temperature high-pressure sealed reactor in an inert gas atmosphere.

본 단계에 있어서, 상기 비활성 기체는 헬륨, 네온, 아르곤, 크립톤, 제논, 라돈 또는 질소 등일 수 있으며, 이밖에 다른 물질과 비교적 반응하기 어려운 비활성 기체라면 상기 종류에 제한되지 않고 모두 사용될 수 있다.In this step, the inert gas may be helium, neon, argon, krypton, xenon, radon, nitrogen, or the like, and any inert gas which is relatively difficult to react with other substances may be used.

상기 3차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 일 수 있고, 500℃ 내지 900℃일 수 있고, 400℃ 내지 1000℃일 수 있다.When the third coating source is a carbon source, the tertiary heating temperature may be 550 캜 to 850 캜, 500 캜 to 900 캜, and 400 캜 to 1000 캜.

이때, 상기 3차 가열 온도가 400℃ 미만일 경우 반응 온도가 너무 낮아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 카본소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.If the tertiary heating temperature is less than 400 ° C, the reaction temperature may be too low to allow the carbon nanotubes to be coated on some of the carbon nanotubes, and uncoated carbon source residues may be generated as byproducts, have.

또한, 상기 3차 가열 온도가 1000℃ 초과일 경우 반응 온도가 너무 높아 코어 나노입자의 상변형 또는 물리적 화학적 특성이 변형되는 현상이 일어날 수 있다. 그 일례로써, 녹는점이 낮은 Al, Zn, Sn, In 등의 코어 나노입자를 사용할 경우 코어 나노입자로부터 기화되는 분자와 카본 소스의 열분해 분자 사이의 부반응에 의한 2차 부산물이 생성될 수 있다. 나아가, 반응기의 변형 등에 대비한 재질선정에 어려움이 있어, 반응기 제작 단가가 상승하여, 생산비가 상승하므로 경제성이 떨어질 수 있다. If the tertiary heating temperature is higher than 1000 ° C, the reaction temperature may be too high to deform the phase distortion or physical and chemical properties of the core nanoparticles. For example, when core nanoparticles such as Al, Zn, Sn, and In have low melting points, second byproducts may be generated due to side reactions between molecules vaporized from the core nanoparticles and thermal decomposition molecules of the carbon source. Further, there is a difficulty in selecting a material for the deformation of the reactor, etc., and the manufacturing cost of the reactor is increased and the production cost is increased.

또한, 상기 3차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃일 수 있고, 350℃ 내지 900℃일 수 있고, 300℃ 내지 1000℃일 수 있다.In addition, when the third coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the tertiary heating temperature may be 400 캜 to 850 캜, may be 350 캜 to 900 캜, may be 300 캜 to 1000 캜 have.

이때, 상기 3차 가열 온도가 300℃ 미만일 경우 반응 온도가 너무 낮아 일부 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.If the tertiary heating temperature is less than 300 ° C, the reaction temperature is too low to allow coating of the phosphide source or the chalcogenide source on the core nanoparticles, and an uncoated phosphide source or residual chalcogenide source Water can be generated as a by-product and result in product non-uniformity.

또한, 상기 3차 가열 온도가 1000℃ 초과일 경우 반응 온도가 너무 높아 코어 나노입자의 상변형 또는 물리적 화학적 특성이 변형되는 현상이 일어날 수 있다. 그 일례로써, 녹는점이 낮은 Al, Zn, Sn, In 등의 코어 나노입자를 사용할 경우 코어 나노입자로부터 기화되는 분자와 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스의 열분해 분자 사이의 부반응에 의한 3차 부산물이 생성될 수 있다. 나아가, 반응기의 변형 등에 대비한 재질선정에 어려움이 있어, 반응기 제작 단가가 상승하여, 생산비 상승하므로 경제성이 떨어질 수 있다. If the tertiary heating temperature is higher than 1000 ° C, the reaction temperature may be too high to deform the phase distortion or physical and chemical properties of the core nanoparticles. As an example, when using core nanoparticles such as Al, Zn, Sn, and In, which have low melting points, tertiary by-products due to side reactions between molecules vaporized from core nanoparticles and pyrolysis sources of phosphide or chalcogenide sources Lt; / RTI > Furthermore, there is a difficulty in selecting a material for the deformation of the reactor, etc., and the production cost of the reactor is increased and the production cost is increased.

또한, 상기 3차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 가열 시간은 10분 내지 120분일 수 있고, 5분 내지 130분일 수 있고, 1분 내지 140분일 수 있다.In addition, when the third coating source is a carbon source, the third heating time may be from 10 minutes to 120 minutes, from 5 minutes to 130 minutes, and from 1 minute to 140 minutes.

이때, 상기 반응시간은 사용되는 코어 나노입자의 크기, 형성하고자 하는 카본 쉘의 두께 등에 따라 달라질 수 있다.At this time, the reaction time may vary depending on the size of the core nanoparticles to be used, the thickness of the carbon shell to be formed, and the like.

한편, 상기 3차 가열 시간이 1분 미만일 경우 반응 시간이 너무 짧아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다.On the other hand, if the third heating time is less than 1 minute, the reaction time is too short, so that some carbon sources may not be coated on the core nanoparticles, and uncoated phosphide sources or chalcogenide source residues are generated as byproducts. Resulting in non-uniformity of the product.

또한, 상기 3차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 가열 시간은 10분 내지 60분일 수 있고, 5분 내지 70분일 수 있고, 1분 내지 80분일 수 있다.In addition, when the third coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the tertiary heating time may be 10 minutes to 60 minutes, 5 minutes to 70 minutes, and 1 minute to 80 minutes.

이때, 상기 반응시간은 사용되는 코어 나노입자의 크기, 형성하고자하는 포스파이드 또는 칼코게나이드 쉘의 두께 등에 따라 달라질 수 있다.At this time, the reaction time may vary depending on the size of core nanoparticles to be used, the thickness of the phosphide or the chalcogenide shell to be formed, and the like.

한편, 상기 3차 가열 시간이 1분 미만일 경우 반응 시간이 너무 짧아 일부 카본 소스가 코어 나노입자에 코팅이 되지 않을 수 있으며, 코팅되지 않은 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스 잔여물이 부산물로 발생해 생성물의 불균일성을 초래할 수 있다. On the other hand, if the third heating time is less than 1 minute, the reaction time is too short, so that some carbon sources may not be coated on the core nanoparticles, and uncoated phosphide sources or chalcogenide source residues are generated as byproducts. Resulting in non-uniformity of the product.

또한, 상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서 상기 3차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.Further, in the method for manufacturing core-shell nanoparticles, after the third heating, the step of releasing the internal pressure of the reactor and removing the residual gas may stabilize the inside of the reactor.

구체적으로, 압력 조절 밸브를 서서히 개방하여 반응기의 내부 온도 및 압력을 상온 및 상압으로 낮출 수 있다. 반응기의 내부 온도 및 압력이 상온, 상압 상태에 도달하면, 아르곤 또는 질소 등의 비활성 기체를 이용하여 반응기 내부를 퍼지(purge)하고 반응기를 열어 제조된 코어-쉘 나노입자를 수득할 수 있다.Specifically, the pressure regulating valve can be gradually opened to lower the internal temperature and pressure of the reactor to room temperature and normal pressure. When the internal temperature and pressure of the reactor reach room temperature and pressure, an inert gas such as argon or nitrogen is used to purge the inside of the reactor and open the reactor to obtain core-shell nanoparticles.

도 7 및 도 8은 상술한 바에 따른 코어-쉘 나노입자 제조 과정의 일실시예를 나타낸 모식도이다.FIGS. 7 and 8 are schematic diagrams showing one embodiment of a process for manufacturing core-shell nanoparticles according to the above-described method.

도 7은 1차 코팅 소스 및 3차 코팅 소스가 카본 소스이고 2차 코팅 소스가 MoS2 소스일 경우의 제조 과정이고, 도 8은 1차 코팅 소스 및 3차 코팅 소스가 MoS2 소스이고 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우의 제조 과정이다.Figure 7 is a manufacturing process when the primary coating source and the tertiary coating source are carbon sources and the secondary coating source is a MoS 2 source, Figure 8 shows that the primary coating source and the tertiary coating source are MoS 2 sources and the secondary It is a manufacturing process when the coating source is a carbon source.

상기 코어-쉘 나노입자 제조 방법에 있어서, 상기 포러스 카본 쉘의 기공크기는 0.3 내지 1.0 nm일 수 있고, 0.2 내지 1.1nm일 수 있고, 0.1 내지 1.2nm일 수 있다. 상기 포러스 카본 쉘의 기공크기를 0.3 내지 1.0 nm로 조절함으로써, 카본층의 기공 구조를 통해 외부 반응물질의 코어 침투를 원활하게 할 수 있다. 반응 물질의 코어 침투가 원활함으로써 반응물질과 코어 나노입자 간의 반응 활성도를 높이는 장점을 가질 수 있다.In the method for manufacturing the core-shell nanoparticles, the pore size of the porous carbon shell may be 0.3 to 1.0 nm, may be 0.2 to 1.1 nm, and may be 0.1 to 1.2 nm. By adjusting the pore size of the porous carbon shell to 0.3 to 1.0 nm, it is possible to smoothly penetrate the core of the external reactant through the pore structure of the carbon layer. The penetration of the reaction material into the core can be facilitated, thereby enhancing the reaction activity between the reactant and the core nanoparticles.

또한, 본 발명의 일측면에 따르면, 본 발명은 나노입자 코어, 상기 나노입자 코어를 둘러싸는 제1쉘, 상기 제1쉘을 둘러싸는 제2쉘을 포함하고, 상기 제1쉘 또는 제2쉘은 포러스 카본 또는 포스파이드 및 칼코게나이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 상기 제1쉘과 제2쉘은 서로 상이한 물질인 코어-쉘 나노입자를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a nanoparticle core comprising a nanoparticle core, a first shell surrounding the nanoparticle core, and a second shell surrounding the first shell, Shell nanoparticles are any one selected from the group consisting of porous carbon or phosphides and chalcogenides, and the first shell and the second shell provide a core-shell nanoparticle which is a material that is different from each other.

이때, 상기 포러스 카본은 기공크기가 0.3 내지 1.0 nm일 수 있고, 0.2 내지 1.1nm일 수 있고, 0.1 내지 1.2nm일 수 있다. At this time, the porous carbon may have a pore size of 0.3 to 1.0 nm, may be 0.2 to 1.1 nm, and may be 0.1 to 1.2 nm.

상기 코어-쉘 나노입자는 상기 포러스 카본 쉘의 기공크기를 0.3 내지 1.0 nm로 조절함으로써, 카본층의 기공 구조를 통해 외부 반응물질의 코어 침투를 원활하게 할 수 있다. 반응 물질의 코어 침투가 원활함으로써 반응물질과 코어 나노입자 간의 반응 활성도를 높이는 장점을 가질 수 있다.By adjusting the pore size of the porous carbon shell to 0.3 to 1.0 nm, the core-shell nanoparticles can smoothly penetrate the core of the external reaction material through the pore structure of the carbon layer. The penetration of the reaction material into the core can be facilitated, thereby enhancing the reaction activity between the reactant and the core nanoparticles.

나아가, 상기 상기 포스파이드는 MoP, Ni2P, Fe2P, Fe3P, Zn3P2, InP 및 GaP로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.Further, the phosphide may be at least one selected from the group consisting of MoP, Ni 2 P, Fe 2 P, Fe 3 P, Zn 3 P 2 , InP and GaP.

또한, 상기 칼코게나이드는 MoS2, NiS, FeS, WS2, Cr2S3, MnS, RuS2, Re2S7, CoS, MoSe2, NiSe, FeSe, WSe2, CrSe, MnSe, RuSe, RhSe2, ReSe2 및 CoSe로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.The chalcogenide may be selected from the group consisting of MoS 2 , NiS, FeS, WS 2 , Cr 2 S 3 , MnS, RuS 2 , Re 2 S 7 , CoS, MoSe 2 , NiSe, FeSe, WSe 2 , CrSe, MnSe, RuSe, RhSe 2 , ReSe 2, and CoSe.

또한, 상기 나노입자 코어는 금속, 금속산화물, 반도체 물질 또는 반도체산화물 등일 수 있다.The nanoparticle core may be a metal, a metal oxide, a semiconductor material, or a semiconductor oxide.

이때, 상기 금속은 알칼리금속원소(Li, Na, K, Rb, Cs, Fr), 알칼리토금속원소(Ca, Sr, Ba, Ra), 알루미늄족원소(Al, Ga, In, Tl), 주석족원소(Sn, Pb), 화폐금속원소(Cu, Ag, Au), 아연족원소(Zn, Cd, Hg), 희토류원소(Sc, Y, 원소번호57∼71), 타이타늄족원소(Ti, Zr, Hf), 바나듐족원소(V, Nb, Ta), 크로뮴족원소(Cr, Mo, W), 망가니즈족원소(Mn, Tc, Re), 철족원소(Fe, Co, Ni), 백금족원소(Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt) 또는 악티늄족원소(원소번호 89∼103) 등일 수 있으며, 보다 구체적으로는 Zn, Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Zr, Mo, Al, Pt, Ag, Ru, Rh, Ir 또는 Au 등일 수 있으나, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.The metal is selected from the group consisting of alkali metal elements (Li, Na, K, Rb, Cs and Fr), alkaline earth metal elements (Ca, Sr, Ba and Ra) (Sc, Y, element Nos. 57 to 71), a titanium group element (Ti, Zr (Zr), and a rare earth element (Fe, Co, Ni), a platinum group element (Cr, Mo, W), Hf, a vanadium group element (V, Nb, Ta), a chromium group element (Ni, Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Zr, Mo, Al, Rh, Pd, Os, Ir, Pt) or an actinide group element (element number 89 to 103) Pt, Ag, Ru, Rh, Ir, Au, or the like. However, any semiconductor material conventionally used in the field can be used without limitation.

또한, 상기 금속 산화물은 Fe3O4, ZnO, ZrO2, NiO 또는 Al2O3 등일 수 있으며, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.The metal oxide may be Fe 3 O 4 , ZnO, ZrO 2 , NiO, Al 2 O 3 , or the like, and may be any semiconductor material conventionally used in the field.

나아가, 상기 반도체 물질은 Si, Ge, Sn, In 또는 Ga 등일 수 있으며, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.Further, the semiconductor material may be Si, Ge, Sn, In, Ga, or the like, and any semiconductor material conventionally used in the field may be used without limitation.

또한, 상기 반도체 산화물은 SiOx, GeO2, SnO2, In2O3 또는 Ga2O3 등일 수 있으며, 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 반도체 물질이라면 상기 종류에 한정되지 않고 모두 사용될 수 있다.The semiconductor oxide may be SiO x , GeO 2 , SnO 2 , In 2 O 3, Ga 2 O 3 , or the like, and may be any semiconductor material conventionally used in the field.

더 나아가, 상기 나노입자 코어는 상기 제시된 나노입자 종류들을 조합한 나노입자 복합체일 수 있다.Furthermore, the nanoparticle core may be a nanoparticle complex in which the proposed nanoparticle species are combined.

상기 나노입자 코어의 크기는 직경 1 내지 900 nm일 수 있고, 1 내지 500nm일 수 있고, 10nm 내지 200nm일 수 있으나, 제조하고자 하는 입자의 용도에 따라 코어 나노입자의 크기는 특별한 제한없이 사용될 수 있다.The size of the nanoparticle core may be from 1 to 900 nm in diameter, from 1 to 500 nm, and from 10 nm to 200 nm, but the size of the core nanoparticles may be used without any particular limitation depending on the intended use of the particles to be produced .

또한, 상기 코어-쉘 나노입자는 상기 코어-쉘 나노입자는 상기 제2쉘을 둘러싸는 제3쉘을 더 포함할 수 있고, 상기 제3쉘은 포러스 카본 또는 포스파이드 및 칼코게나이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 상기 제2쉘과 제3쉘은 서로 상이한 물질일 수 있다.The core-shell nanoparticles may further include a third shell that surrounds the second shell, and the third shell may be formed of porous carbon or a mixture of a phosphide and a chalcogenide And the second shell and the third shell may be materials different from each other.

이때, 상기 포러스 카본은 기공크기가 0.3 내지 1.0 nm일 수 있고, 0.2 내지 1.1nm일 수 있고, 0.1 내지 1.2nm일 수 있다. At this time, the porous carbon may have a pore size of 0.3 to 1.0 nm, may be 0.2 to 1.1 nm, and may be 0.1 to 1.2 nm.

나아가, 상기 상기 포스파이드는 MoP, Ni2P, Fe2P, Fe3P, Zn3P2, InP 및 GaP로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.Further, the phosphide may be at least one selected from the group consisting of MoP, Ni 2 P, Fe 2 P, Fe 3 P, Zn 3 P 2 , InP and GaP.

또한, 상기 칼코게나이드는 MoS2, NiS, FeS, WS2, Cr2S3, MnS, RuS2, Re2S7, CoS, MoSe2, NiSe, FeSe, WSe2, CrSe, MnSe, RuSe, RhSe2, ReSe2 및 CoSe로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상일 수 있다.The chalcogenide may be selected from the group consisting of MoS 2 , NiS, FeS, WS 2 , Cr 2 S 3 , MnS, RuS 2 , Re 2 S 7 , CoS, MoSe 2 , NiSe, FeSe, WSe 2 , CrSe, MnSe, RuSe, RhSe 2 , ReSe 2, and CoSe.

또한, 본 발명은 상기 코어-쉘 나노입자를 포함하는 전극재를 제공한다.The present invention also provides an electrode material comprising the core-shell nanoparticles.

이때, 상기 전극재는 폴리불화비닐리덴(polyvinylidene fluoride, PVdF) 또는 폴리테트라플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE)을 포함하는 불소 수지계 바인딩 고분자, 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부티디엔 고무, 스티렌-이소프렌 고무를 포함하는 고무계 바인딩 고분자, 카르복시메틸 셀룰로우즈(CMC), 전분, 히드록시프로필 셀룰로우즈, 재생 셀룰로우즈를 포함하는 셀룰로오스계 바인딩 고분자, 폴리 알코올계 바인딩 고분자, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌를 포함하는 폴리 올레핀계 바인딩 고분자, 폴리 이미드계 바인딩 고분자 또는 폴리 에스테르계 바인딩 고분자 등을 포함할 수 있으며, 상기 종류에 한정되지 않고 해당 분야에서 통상적으로 사용되는 전극재의 구성 요소라면 함께 사용될 수 있다.The electrode material may be a fluorine resin binding polymer including polyvinylidene fluoride (PVdF) or polytetrafluoroethylene (PTFE), a styrene-butadiene rubber, an acrylonitrile-butadiene rubber, a styrene-isoprene rubber Cellulose-based binding polymers including carboxymethylcellulose (CMC), starch, hydroxypropylcellulose, regenerated cellulose, polyalcohol-based binding polymers, polyethylene, polypropylene, A polyimide-based binding polymer, a polyolefin-based binding polymer, a polyimide-based binding polymer, or a polyester-based binding polymer, and is not limited to the above-described type. Any other component of the electrode material commonly used in the related art may be used.

나아가, 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자는 역전기투석 염분차발전용 촉매 및 전극, 수전해를 통한 수소생산용 촉매 및 전극, 광전기화학반응용 촉매 전극, sodium 배터리용 전극 또는 리튬 배터리용 전극 등의 재료로 사용될 수 있다.Furthermore, the core-shell nanoparticles according to the present invention can be used as a catalyst and electrode for reverse electrodialysis salt generation, a catalyst and electrode for hydrogen production through electrolysis, a catalyst electrode for photoelectrochemical reaction, an electrode for sodium battery or an electrode for lithium battery And the like.

이하, 하기 실시예 및 실험예에 의하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples and experimental examples.

단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.However, the following examples and experimental examples are illustrative of the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예1: 코어-쉘 나노입자의 제조 1Example 1: Preparation of core-shell nanoparticles 1

본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조방법의 쉘 형성 효과를 확인하기 위하여 MoS2의 양을 각각 20 wt%, 38 wt% 및 56 wt%로 변경하며 Si 코어-MoS2 쉘 나노입자를 제조하였다.In order to confirm the shell formation effect of the core-shell nanoparticle manufacturing method according to the present invention, the amount of MoS 2 was changed to 20 wt%, 38 wt% and 56 wt%, respectively, and Si core-MoS 2 shell nanoparticles were prepared .

실시예1-1: Si 코어- MoSExample 1-1: Si core-MoS 22 (20 wt%) 쉘 나노입자의 제조(20 wt%) shell nanoparticles

먼저, 고온 고압 밀폐형 반응기에 Si 나노입자를 공급하고, MoS2의 함량이 20wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황을 공급하였다. First, Si nanoparticles were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur were supplied so that the content of MoS 2 was 20 wt%.

다음으로, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자, Hexacarbonyl Molybdenum 및 황을 30분 동안 반응시켰다.Next, 100% argon gas was supplied to the high-temperature high-pressure sealed reactor, and the reactor was completely closed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 DEG C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles, hexacarbonyl molybdenum and sulfur for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화한 후, 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어- MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the pressure inside the reactor was released and the argon gas supply was stabilized. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles.

도 1(b)는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어- MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.1 (b) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to the present embodiment.

도1(b)에서 확인할 수 있듯이, Si 코어와 MoS2층 사이에 1-2nm 두께의 native oxide(SiOx) 층이 형성됨을 알 수 있고, MoS2가 Si 코어표면을 둘러싸면서 약 3-4nm 두께의 수평구조 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다.1 (b), a native oxide (SiO x ) layer having a thickness of 1-2 nm is formed between the Si core and the MoS 2 layer, and MoS 2 surrounds the Si core surface, It can be seen that the shell is formed on the horizontal structure layer of thickness.

실시예1-2: Si 코어- MoSExample 1-2: Si core-MoS 22 (38 wt%) 쉘 나노입자의 제조(38 wt%) Preparation of shell nanoparticles

MoS2의 함량이 38 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 제조방법으로 Si 코어 - MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자를 제조하였다.The amount of MoS 2 to be 38 wt%, Hexacarbonyl Molybdenum (Mo (CO) 6) , and sulfur and with the same manufacturing method as that of Example 1-1 except that the supply (S) Si core - MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles.

도 1(c)는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어- MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.1 (c) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles prepared according to this example.

도1(c)에서 확인할 수 있듯이, Si 코어와 MoS2층 사이에 1-2nm 두께의 native oxide(SiOx) 층이 형성됨을 알 수 있고, MoS2가 Si 코어표면을 둘러싸면서 약 6-8nm 두께의 수평 및 수직 구조의 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다.1 (c), it can be seen that a native oxide (SiO x ) layer with a thickness of 1-2 nm is formed between the Si core and the MoS 2 layer, while MoS 2 surrounds the Si core surface, It can be seen that the shell is formed on layers of horizontal and vertical structures of thickness.

실시예1-3: Si 코어- MoSExample 1-3: Si core-MoS 22 (56 wt%) 쉘 나노입자의 제조(56 wt%) Preparation of shell nanoparticles

MoS2의 함량이 56 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 동일한 제조방법으로 Si 코어 - MoS2(56 wt%) 쉘 나노입자를 제조하였다.The amount of MoS 2 to be 56 wt%, Hexacarbonyl Molybdenum (Mo (CO) 6) , and sulfur Si-core and with the same manufacturing method as that of Example 1-1 except that the supply (S) - MoS 2 (56 wt%) shell nanoparticles.

도 1(d)는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어- MoS2(56 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.1 (d) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (56 wt%) shell nanoparticles prepared according to this example.

도1(d)에서 확인할 수 있듯이, Si 코어와 MoS2층 사이에 1-2nm 두께의 native oxide(SiOx) 층이 형성됨을 알 수 있고, MoS2가 Si 코어표면을 둘러싸면서 약 12-14nm 두께의 수평 및 수직 구조의 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다.1 (d), it can be seen that a native oxide (SiO x ) layer of 1-2 nm thickness is formed between the Si core and the MoS 2 layer, and MoS 2 surrounds the Si core surface, It can be seen that the shell is formed on layers of horizontal and vertical structures of thickness.

상기 실시예 1-1 내지 1-3를 통해 본 발명에 따른 밀폐 구조 반응에 있어서 MoS2의 함량이 증가할수록 MoS2 층의 층상구조 형태가 수평 구조로부터 수직 구조로 점차 전환되는 것을 확인 할 수 있다.In the sealing structure according to the invention through the reaction of Example 1-1 to 1-3 increase the amount of MoS 2 As can be confirmed to be a layered structure in the form of MoS 2 layer gradually switched to the vertical structure from the horizontal structure .

실시예 2: 코어-쉘 나노입자의 제조 2Example 2: Preparation of core-shell nanoparticles 2

본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조방법을 이용하여 Si 코어 - MoS2 쉘(38 wt%) - 카본 쉘 나노입자를 제조하였다.Si core-MoS 2 shell (38 wt%) -carbon shell nanoparticles were prepared using the core-shell nanoparticle manufacturing method according to the present invention.

먼저, 고온 고압 밀폐형 반응기에 Si 나노입자를 공급하고, MoS2의 함량이 38 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급하였다. First, Si nanoparticles were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur (S) were supplied so that the MoS 2 content was 38 wt%.

다음으로, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자, Hexacarbonyl Molybdenum 및 황을 30분 동안 반응시켰다.Next, 100% argon gas was supplied to the high-temperature high-pressure sealed reactor, and the reactor was completely closed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 DEG C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles, hexacarbonyl molybdenum and sulfur for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the pressure inside the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles.

상기 수득한 Si 코어- MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자 및 피리딘(pyridine, g)을 고온 고압 밀폐형 반응기에 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 상기 Si 코어- MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자와 피리딘을 60분 동안 반응시켰다.The obtained Si core-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles and pyridine (g) were fed to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 ° C under an argon gas atmosphere to react the Si core-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles with pyridine for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 최종적으로 Si 코어 - MoS2(38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the inside pressure of the reactor was released and the argon gas supply was stabilized, and then the temperature was lowered to room temperature to finally obtain Si core-MoS 2 (38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles.

도 2는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어- MoS2(38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.2 is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-MoS 2 (38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles prepared according to this example.

도2에서 확인할 수 있듯이, MoS2가 Si 코어표면을 둘러싸면서 약 6-8nm 두께의 수평 구조의 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다. 또한, 카본 층이 MoS2 층 표면을 둘러싸면서 약 8-10nm 두께의 쉘을 형성함을 알 수 있다.As can be seen in FIG. 2, it can be seen that MoS 2 surrounds the surface of the Si core and forms a shell on a horizontal structure layer of about 6-8 nm thickness. It can also be seen that the carbon layer surrounds the surface of the MoS 2 layer and forms a shell of about 8-10 nm in thickness.

실시예 3: 코어-쉘 나노입자의 제조 3Example 3: Preparation of core-shell nanoparticles 3

본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조방법을 이용하여MoS2의 양을 각각 0 wt%, 20 wt%, 38 wt% 및 56 wt%로 변경하며 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2 쉘 나노입자를 제조하였다.The amount of MoS 2 was changed to 0 wt%, 20 wt%, 38 wt%, and 56 wt%, respectively, using the core-shell nanoparticle manufacturing method according to the present invention, and Si core-carbon shell-MoS 2 shell nanoparticles .

실시예 3-1: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 3-1: Si core-carbon shell-MoS 22 쉘(0 wt%)의 제조 Preparation of shell (0 wt%)

먼저, Si 나노입자 및 피리딘(pyridine)을 고온 고압 밀폐형 반응기에 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자와 피리딘을 60분 동안 반응시켰다.First, Si nanoparticles and pyridine were fed to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 ° C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles with pyridine for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어- 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the inside pressure of the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell nanoparticles.

다음으로, 고온 고압 밀폐형 반응기에 상기 Si 코어- 카본 쉘 나노입자 및 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 30분 동안 반응시켰다.Next, the Si core-carbon shell nanoparticles and 100% argon gas were supplied to a high-temperature high-pressure hermetically sealed reactor and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 DEG C under an argon gas atmosphere and reacted for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the pressure inside the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell nanoparticles.

도 3(a)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.3 (a) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1.

도3(a)에서 확인할 수 있듯이, 카본 층이 Si 코어표면을 둘러싸면서 약 8-10nm 두께의 쉘을 형성함을 알 수 있다. As can be seen in FIG. 3 (a), it can be seen that the carbon layer surrounds the surface of the Si core and forms a shell of about 8-10 nm in thickness.

도 4(a)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 Si 성분 분포를 촬영한 사진이고,4 (a) is a photograph of the Si component distribution of Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1,

도 4(b)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 C 성분 분포를 촬영한 사진이고,4 (b) is a photograph of the C component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1,

도 4(c)는 실시예3-1에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 나노입자의 N 성분 분포를 촬영한 사진이다.4 (c) is a photograph of the N component distribution of Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-nanoparticles prepared according to Example 3-1.

도 4(a) ~ 도 4(c)에서 확인할 수 있듯이, Si 성분이 나노입자의 코어 중심부에 집중적으로 분포하며 나노입자의 외부 쉘층에는 분포하지 않는 것을 알 수 있다. 또한, C 및 N의 경우 나노입자의 전체 표면에 골고루 분포되는 동시에 나노입자의 바깥쪽 영역에 상대적으로 밀집되어 분포되는 것을 알 수 있다.As can be seen from Figs. 4 (a) to 4 (c), it can be seen that the Si component is concentrated in the core of the nanoparticles and is not distributed in the outer shell layer of the nanoparticles. In addition, it can be seen that C and N are uniformly distributed on the entire surface of the nanoparticles, and are distributed densely in the outer region of the nanoparticles.

실시예 3-2: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 3-2: Si core-carbon shell-MoS 22 (20 wt%) 쉘 나노입자의 제조(20 wt%) shell nanoparticles

먼저, Si 나노입자 및 피리딘(pyridine)을 고온 고압 밀폐형 반응기에 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자와 피리딘을 60분 동안 반응시켰다.First, Si nanoparticles and pyridine were fed to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 ° C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles with pyridine for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어- 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the inside pressure of the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell nanoparticles.

다음으로, 고온 고압 밀폐형 반응기에 상기 Si 코어 - 카본 쉘 나노입자를 공급하고 MoS2의 함량이 20 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급하였다. Next, the Si core-carbon shell nanoparticles were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur (S) were supplied so that the content of MoS 2 was 20 wt%.

다음으로, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 상기 Si 코어 - 카본 쉘 나노입자, Hexacarbonyl Molybdenum 및 황을 30분 동안 반응시켰다.Next, 100% argon gas was supplied to the high-temperature high-pressure sealed reactor, and the reactor was completely closed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 DEG C under an argon gas atmosphere to react the Si core-carbon shell nanoparticles, Hexacarbonyl Molybdenum and sulfur for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the pressure inside the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles.

도 3(b)는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.3 (b) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to this example.

도3(b)에서 확인할 수 있듯이, Si 코어 표면을 둘러싸며 8-10nm 두께의 카본 쉘이 형성되고, 상기 카본 쉘 표면을 둘러싸면서 MoS2가 약 2nm 두께의 수평 구조 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다.As shown in FIG. 3 (b), a carbon shell having a thickness of 8-10 nm is formed surrounding the surface of the Si core, and MoS 2 surrounds the carbon shell surface to form a shell on a horizontal structure layer having a thickness of about 2 nm Able to know.

도 5(a)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자 Si 성분 분포를 촬영한 사진이고,5 (a) is a photograph of the Si component distribution of Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2,

도 5(b)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 C 성분 분포를 촬영한 사진이고,5 (b) is a photograph of the C component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2,

도 5(c)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 N 성분 분포를 촬영한 사진이고,5 (c) is a photograph of the N component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2,

도 5(d)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 Mo 성분 분포를 촬영한 사진이고,5 (d) is a photograph of the Mo component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2,

도 5(e)는 실시예3-2에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자의 S 성분 분포를 촬영한 사진이다.5 (e) is a photograph of the S component distribution of the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles prepared according to Example 3-2.

도 5(a) ~ 도 5(e)에서 확인할 수 있듯이, Si 성분이 나노입자의 코어 중심부에 집중적으로 분포하며 나노입자의 외부 쉘층에는 분포하지 않는 것을 알 수 있다. 또한, C 및 N의 경우 나노입자의 전체 표면에 골고루 분포되는 동시에 나노입자의 바깥쪽 영역에 상대적으로 밀집되어 분포하는 것을 알 수 있다. 나아가, Mo 및 S의 경우 나노입자의 전체 표면에 골고루 분포되며 나노입자의 최외곽 영역에 상대적으로 밀집되어 분포하는 것을 알 수 있다. 이를 통해 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조방법을 사용하여 코어-쉘 나노입자를 제조할 경우, 각 구성성분에 따른 코어-쉘 구조가 명확하게 형성됨을 알 수 있다.As can be seen from Figs. 5 (a) to 5 (e), it can be seen that the Si component is concentrated in the core of the nanoparticles and is not distributed in the outer shell layer of the nanoparticles. In addition, it can be seen that C and N are uniformly distributed on the entire surface of the nanoparticles, and are distributed densely in the outer region of the nanoparticles. Further, it can be seen that Mo and S are uniformly distributed on the entire surface of the nanoparticles, and are densely distributed in the outermost region of the nanoparticles. Thus, it can be seen that core-shell nanoparticles according to the present invention are clearly formed when core-shell nanoparticles are prepared using core-shell nanoparticles according to the present invention.

실시예 3-3: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 3-3: Si core-carbon shell-MoS 22 (38 wt%) 쉘 나노입자의 제조(38 wt%) Preparation of shell nanoparticles

MoS2의 함량이 38 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급한 것을 제외하고는 상기 실시예 3-2와 동일한 제조방법으로 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자를 제조하였다.The amount of MoS 2 to be 38 wt%, Hexacarbonyl Molybdenum (Mo (CO) 6) , and sulfur and the Si-core prepared in the same manner as in Example 3-2 except that the supply (S) - carbonyl shell - MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles were prepared.

도 3(c)는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(38 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.3 (c) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (38 wt%) shell nanoparticles prepared according to this example.

도3(c)에서 확인할 수 있듯이, Si 코어 표면을 둘러싸며 8-10nm 두께의 카본 쉘이 형성되고, 상기 카본 쉘 표면을 둘러싸면서 MoS2가 약 5nm 두께의 수평 구조 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다.As shown in FIG. 3 (c), a carbon shell having a thickness of 8-10 nm is formed surrounding the surface of the Si core, and the MoS 2 surrounds the carbon shell surface to form a shell on a horizontal structure layer having a thickness of about 5 nm Able to know.

실시예 3-4: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 3-4: Si core-carbon shell-MoS 22 (56 wt%) 쉘 나노입자의 제조(56 wt%) Preparation of shell nanoparticles

MoS2의 함량이 56 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급한 것을 제외하고는 상기 실시예 3-2와 동일한 제조방법으로 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(56 wt%) 쉘 나노입자를 제조하였다.Carbon core-MoS (carbon monoxide) was prepared in the same manner as in Example 3-2, except that hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur (S) were supplied so that the content of MoS 2 was 56 wt% 2 (56 wt%) shell nanoparticles were prepared.

도 3(d)는 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(56 wt%) 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.3 (d) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (56 wt%) shell nanoparticles prepared according to this embodiment.

도3(d)에서 확인할 수 있듯이, Si 코어 표면을 둘러싸며 8-10nm 두께의 카본 쉘이 형성되고, 상기 카본 쉘 표면을 둘러싸면서 MoS2가 약 15nm 두께의 수평 및 수직 구조 층상으로 쉘을 형성함을 알 수 있다.As shown in FIG. 3 (d), a carbon shell having a thickness of 8-10 nm is formed surrounding the surface of the Si core, and the MoS 2 surrounds the surface of the carbon shell to form a shell on a horizontally and vertically structured layer having a thickness of about 15 nm .

실시예 4: 코어-쉘 나노입자의 제조 4Example 4: Preparation of core-shell nanoparticles 4

본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자 제조방법을 이용하여MoS2의 양을 각각 0 wt%, 20 wt%, 38 wt% 및 56 wt%로 변경하며 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2 쉘 - 카본 쉘 나노입자를 제조하였다.The amount of MoS 2 was changed to 0 wt%, 20 wt%, 38 wt% and 56 wt% respectively by using the core-shell nanoparticle manufacturing method according to the present invention, and the Si core-carbon shell-MoS 2 shell- Nanoparticles were prepared.

실시예 4-1: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 4-1: Si core-carbon shell-MoS 22 쉘(0 wt%) - 카본 쉘의 제조 Shell (0 wt%) - Preparation of carbon shell

먼저, Si 나노입자 및 피리딘(pyridine)을 고온 고압 밀폐형 반응기에 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자와 피리딘을 60분 동안 반응시켰다.First, Si nanoparticles and pyridine were fed to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 ° C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles with pyridine for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어- 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the inside pressure of the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell nanoparticles.

다음으로, 고온 고압 밀폐형 반응기에 상기 Si 코어- 카본 쉘 나노입자 및 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 30분 동안 반응시켰다.Next, the Si core-carbon shell nanoparticles and 100% argon gas were supplied to a high-temperature high-pressure hermetically sealed reactor and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 DEG C under an argon gas atmosphere and reacted for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the pressure inside the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell nanoparticles.

다음으로, 고온 고압 밀폐형 반응기에 상기 Si 코어- 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 나노입자 및 피리딘(pyridine)을 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 60분 동안 반응시켰다.Next, the Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell nanoparticles and pyridine were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and then 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 DEG C under an argon gas atmosphere and reacted for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(0 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the reaction was completed, the inside pressure of the reactor was released, and the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell-MoS 2 (0 wt%) shell-carbon shell nanoparticles.

실시예 4-2: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 4-2: Si core-carbon shell-MoS 22 (20 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 제조(20 wt%) shell-carbon shell nanoparticles

먼저, Si 나노입자 및 피리딘(pyridine)을 고온 고압 밀폐형 반응기에 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자와 피리딘을 60분 동안 반응시켰다.First, Si nanoparticles and pyridine were fed to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 ° C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles with pyridine for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어- 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the inside pressure of the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell nanoparticles.

다음으로, 고온 고압 밀폐형 반응기에 상기 Si 코어 - 카본 쉘 나노입자를 공급하고 MoS2의 함량이 20 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급하였다. Next, the Si core-carbon shell nanoparticles were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur (S) were supplied so that the content of MoS 2 was 20 wt%.

다음으로, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 상기 Si 코어 - 카본 쉘 나노입자, Hexacarbonyl Molybdenum 및 황을 30분 동안 반응시켰다.Next, 100% argon gas was supplied to the high-temperature high-pressure sealed reactor, and the reactor was completely closed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 DEG C under an argon gas atmosphere to react the Si core-carbon shell nanoparticles, Hexacarbonyl Molybdenum and sulfur for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the pressure inside the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles.

다음으로, 고온 고압 밀폐형 반응기에 상기 Si 코어- 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 나노입자 및 피리딘(pyridine)을 공급한 후, 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 700℃까지 가열하여 60분 동안 반응시켰다.Next, the Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell nanoparticles and pyridine were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor, and 100% of argon gas was supplied and completely sealed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 700 DEG C under an argon gas atmosphere and reacted for 60 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(20 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, the inside pressure of the reactor was released and the argon gas supply was stabilized, and then the temperature was lowered to room temperature to obtain Si core-carbon shell-MoS 2 (20 wt%) shell-carbon shell nanoparticles.

실시예 4-3: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 4-3: Si core-carbon shell-MoS 22 (38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 제조(38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles

MoS2의 함량이 38 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급한 것을 제외하고는 상기 실시예 4-2와 동일한 제조방법으로 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자를 제조하였다.Carbon core-MoS (silicon carbide) was prepared in the same manner as in Example 4-2, except that hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur (S) were supplied so that the content of MoS 2 was 38 wt% 2 (38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles were prepared.

도 6은 본 실시예에 따라 제조된 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(38 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.6 is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of the Si core-carbon shell-MoS 2 (38 wt%) shell-carbon shell nanoparticles prepared according to this example.

도6에서 확인할 수 있듯이, Si 코어 표면을 둘러싸며 8-10nm 두께의 카본 쉘이 형성되고, 상기 카본 쉘 표면을 둘러싸면서 MoS2가 약 6-8nm 두께의 수평 구조 층상으로 쉘을 형성되며, 상기 MoS2 쉘을 둘러싸면서 약 2nm 두께의 카본 쉘이 형성됨을 알 수 있다.6, a carbon shell having a thickness of 8-10 nm is formed to surround the surface of the Si core, a MoS 2 surrounds the carbon shell surface, a shell is formed on a horizontal structure layer having a thickness of about 6-8 nm, It can be seen that a carbon shell having a thickness of about 2 nm is formed while surrounding the MoS2 shell.

실시예 4-4: Si 코어 - 카본 쉘 - MoSExample 4-4: Si core-carbon shell-MoS 22 (56 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자의 제조(56 wt%) shell-carbon shell nanoparticles

MoS2의 함량이 56 wt%가 되도록, Hexacarbonyl Molybdenum(Mo(CO)6) 및 황(S)을 공급한 것을 제외하고는 상기 실시예 4-2와 동일한 제조방법으로 Si 코어 - 카본 쉘 - MoS2(56 wt%) 쉘 - 카본 쉘 나노입자를 제조하였다.Carbon core-MoS (silicon carbide) was prepared in the same manner as in Example 4-2, except that hexacarbonyl molybdenum (Mo (CO) 6 ) and sulfur (S) were supplied so that the content of MoS 2 was 56 wt% 2 (56 wt%) shell-carbon shell nanoparticles were prepared.

비교예 1: 나노입자의 제조Comparative Example 1: Preparation of nanoparticles

Si 코어에 쉘층을 입히지 않고 가열시켜 나노입자를 제조하였다.The Si core was heated without being coated with a shell layer to prepare nanoparticles.

먼저, 고온 고압 밀폐형 반응기에 Si 나노입자를 공급하였다. First, Si nanoparticles were supplied to a high-temperature and high-pressure sealed reactor.

다음으로, 상기 고온 고압 밀폐형 반응기에 아르곤 가스 100%를 공급하고 완전 밀폐하였다. 상기 밀폐된 고온 고압 반응기를 아르곤 가스 분위기 하에서 500℃까지 가열하여 상기 Si 나노입자를 30분 동안 반응시켰다.Next, 100% argon gas was supplied to the high-temperature high-pressure sealed reactor, and the reactor was completely closed. The sealed high-temperature high-pressure reactor was heated to 500 ° C under an argon gas atmosphere to react the Si nanoparticles for 30 minutes.

반응이 종료된 후, 상기 반응기 내부의 압력을 해제하고 아르곤 가스 공급을 안정화시킨 후 상온 상태까지 온도를 낮추어 Si 나노입자를 수득하였다.After the completion of the reaction, pressure inside the reactor was released, the argon gas supply was stabilized, and the temperature was lowered to room temperature to obtain Si nanoparticles.

도 1(a)는 본 비교예 1에 따라 제조된 Si 코어 나노입자의 고배율 TEM(High-Resolution TEM, HRTEM) 촬영 사진이다.1 (a) is a high-resolution TEM (HRTEM) photograph of Si core nanoparticles prepared according to Comparative Example 1. FIG.

도1(a)에서 확인할 수 있듯이, MoS2를 공급하지 않고 Si만을 가열하였을 때, Si 코어표면에 약 2-3nm 두께의 SiOx층이 생기는 것을 알 수 있다.1 (a), when only Si was heated without supplying MoS 2 , It can be seen that a SiO x layer of about 2-3 nm thickness is formed on the surface of the Si core.

상기 실시예 1 내지 실시예 4 및 비교예 1에서 제조된 코어-쉘 나노입자의 코어 쉘 구성을 하기 표 1에 정리하여 나타내었다.The core shell structure of the core-shell nanoparticles prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 is summarized in Table 1 below.

코어core 제1쉘The first shell 제2쉘The second shell 제3쉘The third shell 실시예 1-1Example 1-1 SiSi MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) -- -- 실시예 1-2Examples 1-2 SiSi MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) -- -- 실시예 1-3Example 1-3 SiSi MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) -- -- 실시예 2Example 2 SiSi MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) CC -- 실시예 3-1Example 3-1 SiSi CC -- -- 실시예 3-2Example 3-2 SiSi CC MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) -- 실시예 3-3Example 3-3 SiSi CC MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) -- 실시예 3-4Example 3-4 SiSi CC MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) -- 실시예 4-1Example 4-1 SiSi CC -- -- 실시예 4-2Example 4-2 SiSi CC MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) CC 실시예 4-3Example 4-3 SiSi CC MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) CC 실시예 4-4Example 4-4 SiSi CC MoS2(20wt%)MoS 2 (20 wt%) CC 비교예 1Comparative Example 1 SiSi -- -- --

제조예 1: 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자를 사용한 전지의 제조 1Preparation Example 1: Preparation of a cell using core-shell nanoparticles according to the present invention 1

실시예 2-1에서 제조된 코어-쉘 나노입자를 전극활물질로 사용하여 코인형 반쪽전지(Half-cell)를 제조하였다.A core-shell half-cell was prepared using the core-shell nanoparticles prepared in Example 2-1 as an electrode active material.

먼저, 전극 활물질로 실시예 2-1에서 제조된 코어-쉘 나노입자, Denka black, 바인더(카르복시메틸 셀룰로오스 및 스티렌 부타디엔 공중합체의 혼합체)를 각각 6:2:2의 비율로 혼합하여 90 ℃에서 30 분 동안 진공건조하여 전극재를 제조하였다.First, core-shell nanoparticles, Denka black, a binder (a mixture of carboxymethyl cellulose and styrene butadiene copolymer) prepared in Example 2-1 were mixed at a ratio of 6: 2: 2, respectively, at 90 ° C Followed by vacuum drying for 30 minutes to prepare an electrode material.

다음으로, 에틸렌 카보네이트 및 디에틸렌 카보네이트를 1:1의 비율로 혼합한 용액에 1M의 LiPF6 용액이 되도록 LiPF6를 첨가한 후 불화에틸렌 카보네이트를 3wt% 첨가하여 전해질을 제조하였다.Next, ethylene carbonate and diethylene carbonate 1: an electrolyte and a fluorinated ethylene carbonate was added and LiPF 6 was added 3wt% was prepared in a solution mixed at a ratio of 1: 1 so that the solution of LiPF 6 1M.

상기 제조된 전극재 및 전해질과 대전극(counter electrode)으로 리튬 호일을 사용하여 코인형 반쪽전지(Half-cell)를 제조하였다.A coiled half-cell was fabricated using lithium foil as the counter electrode and the electrode material and electrolyte prepared above.

제조예 2: 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자를 사용한 전지의 제조 2Preparation Example 2: Preparation of a cell using core-shell nanoparticles according to the present invention 2

전극 활물질로 실시예 3-2에서 제조된 코어-쉘 나노입자를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 코인형 반쪽전지(Half-cell)를 제조하였다.A coiled half-cell was prepared in the same manner as in Production Example 1, except that the core-shell nanoparticles prepared in Example 3-2 were used as an electrode active material.

제조예 3: 나노입자를 사용한 전지의 제조Preparation Example 3: Preparation of a cell using nanoparticles

전극 활물질로 비교예 1에서 제조된 나노입자를 사용한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 코인형 반쪽전지(Half-cell)를 제조하였다.A coin-shaped half-cell was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the nanoparticles prepared in Comparative Example 1 were used as the electrode active material.

실험예 1: 코인형 반쪽전지(Half-cell)의 사이클링(cycling) 측정Experimental Example 1: Measurement of cycling of a coin type half cell

제조예 1 ~ 3 에서 제조한 코인형 반쪽전지(Half-cell)의 50회 반복 사이클링 실험을 수행하였다.A 50-cycle cycling experiment of the coin-shaped half-cells prepared in Production Examples 1 to 3 was carried out.

도 9는 제조예 1 ~ 3 에서 제조한 코인형 반쪽전지(Half-cell)의 50회 반복 사이클링 실험을 수행했을 때의 충전량(capacity) 및 쿨롱효율(coulombic efficiency)을 나타낸 그래프이다.FIG. 9 is a graph showing a capacity and a coulombic efficiency when the coin type half-cell manufactured in Production Examples 1 to 3 was subjected to 50 cycles of repeated cycling experiments.

도 9에서 확인할 수 있듯이, 제조예 1 및 제조예 2의 경우 사이클이 증가하여도 충전량이 초기 상태와 비슷하게 유지되는 것을 알 수 있다. 구체적으로, 제조예 2의 경우 초기 충전량 약 2250 mAh/g에서 50회 사이클이 수행될 경우 약 1750 mAh/g의 충전량을 나타내는 것을 알 수 있다. 반면, 제조예 3의 경우 충전 사이클이 증가할 수록 전지 용량이 급격히 감소하는 것을 알 수 있으며, 최초 충전량 2250 mAh/g에서 50 회 사이클이 수행될 경우 충전량이 약 700mAh/g 까지 감소하는 것을 확인할 수 있다.As can be seen from FIG. 9, it can be seen that, in the case of Production Example 1 and Production Example 2, the charge amount is kept similar to the initial state even if the cycle is increased. Specifically, it can be seen that, in the case of Production Example 2, when the initial charge amount is about 2250 mAh / g and 50 cycles are carried out, the charge amount is about 1750 mAh / g. On the other hand, in the case of Production Example 3, it can be seen that as the charging cycle increases, the battery capacity sharply decreases. When 50 cycles are performed at the initial charging capacity of 2250 mAh / g, the charging amount is reduced to about 700 mAh / g have.

따라서, 본 발명에 따른 코어-쉘 나노입자는 전극활물질로 활용하여 전극재 및 전지를 제조할 경우 반복적인 충방전에도 우수한 충전량을 유지하므로, 전지의 전극활물질로 유용하게 사용될 수 있다.Therefore, the core-shell nanoparticles according to the present invention can be effectively used as an electrode active material of a battery, because the core-shell nanoparticles according to the present invention are used as an electrode active material and maintain an excellent charge amount even in repetitive charging and discharging when an electrode material and a battery are manufactured.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

Claims (27)

고온 고압 밀폐형 반응기에 코어 나노입자 및 1차 코팅 소스를 공급하는 단계;
상기 반응기를 밀폐하는 단계;
상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 1차 가열하는 단계;
상기 반응기에 2차 코팅 소스를 공급하는 단계; 및
상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 2차 가열하는 단계
를 포함하는 포러스(porous) 카본 쉘이 포함된 2개 층 이상의 쉘을 가지는 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
Supplying a core nanoparticle and a primary coating source to a high-temperature high-pressure hermetically sealed reactor;
Sealing the reactor;
Firstly heating the reactor in an inert gas atmosphere;
Supplying a secondary coating source to the reactor; And
A step of secondly heating the reactor in an inert gas atmosphere
Wherein the core-shell nanoparticles have at least two shells including a porous carbon shell comprising at least two shells.
제1항에 있어서,
상기 포러스 카본 쉘의 기공크기는 0.3 내지 1.0 nm인 것을 특징으로 하는 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the porous carbon shell has a pore size of 0.3 to 1.0 nm.
제1항에 있어서,
상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 2차 코팅 소스는 포스파이드(phosphide) 소스 또는 칼코게나이드(chalcogenide) 소스 이고,
상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 2차 코팅 소스는 카본 소스인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
When the primary coating source is a carbon source, the secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source,
Wherein the secondary coating source is a carbon source when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source.
제3항에 있어서,
상기 카본 소스는 벤젠(Benzene, C6H6), 톨루엔(Toluene, C7H8), 스티렌(Styrene, C8H8), 인덴(Indene, C9H8), 헥산(Hexane, C6H14), 옥탄(Octane, C8H18), 액체 파라핀 오일(Paraffin oil, CxHy), 나프탈렌(Naphthalene, C10H8), 안트라센(Anthracene, C14H10), 플루오렌(Fluorene, C13H10), 고체 파라핀 (Paraffin, CxHy), 파이렌(Pyrene, C16H10), 탄소수 2 내지 8인 모노머로 이루어진 폴리머, 아세틸렌(Acetylene, C2H2), 에틸렌(Ethylene, C2H4), 프로판 (Propane, C3H8), 메탄(Methane, CH4), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리스티렌(Polystyrene) 및 폴리프로필렌(Polypropylene)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 코어-쉘 나노입자 제조방법.
The method of claim 3,
The carbon source is benzene (Benzene, C 6 H 6) , toluene (Toluene, C 7 H 8) , styrene (Styrene, C 8 H 8) , indene (Indene, C 9 H 8) , hexane (Hexane, C 6 H 14 ), octane (C 8 H 18 ), paraffin oil (C x H y ), naphthalene (C 10 H 8 ), anthracene (C 14 H 10 ) Fluorene, C 13 H 10), solid paraffin (paraffin,, pyrene C x H y) (pyrene, C 16 H 10), having 2 to 8 carbon atoms polymer consisting of monomers, acetylene (acetylene, C 2 H 2), And any one selected from the group consisting of ethylene, C 2 H 4 , propane, C 3 H 8 , methane, CH 4 , polyethylene, polystyrene and polypropylene. At least one core-shell nanoparticle.
제3항에 있어서,
상기 카본 소스는 N, P 및 B로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 도핑 원소를 함유하는 카본 소스인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method of claim 3,
Wherein the carbon source is a carbon source containing at least one doping element selected from the group consisting of N, P and B. 15. The core-
제3항에 있어서,
상기 카본 소스는 멜라민(melamin, C3H6N6), 피리딘(pyridine, C5H5N), 아크릴로니트릴(acrylonitrile, C3H3N), 피롤(Pyrrole, C4H5N), 암모니아(NH3) 와 탄화수소 가스의 혼합 가스, 트리부틸포스핀(tributylphosphine, [CH3(CH2)3]3P), 포스포린(phosphorine, C5H5P), 트리페닐보란(triphenylborane, (C6H5)3B), 보리닌(Borinine, C5H5B), 트리에틸보란(triethylborane((C2H5)3B), 트리메틸보란 (trimethylboron, B(CH3)3), 또는 트리메틸보론-d9(trimethylboron-d9, B(CD3)3), 보란 디메틸아민(borane dimethylamine), 보란 피리딘(borane pyridine), 보란 트리메틸아민(borane trimethylamine), 보란 암모니아(borane-ammonia), 테트라부틸암모늄 시아노보로하이드라이드(tetrabutylammonium cyanoborohydride), 암모늄 테트라페닐보레이트(ammonium tetraphenylborate), 테트라부틸암모늄 보로하이드라이드(tetrabutylammonium borohydride), 테트라메틸암모늄 트리아세톡시보로하이드라이드(tetramethylammonium triacetoxyborohydride), 2,4,6-트리페닐보라진 (2,4,6-triphenylborazine) 및 보란 디페닐포스핀(borane diphenylphosphine)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method of claim 3,
The carbon source may be melamine (C 3 H 6 N 6 ), pyridine (C 5 H 5 N), acrylonitrile (C 3 H 3 N), pyrrole (C 4 H 5 N) , A mixed gas of ammonia (NH 3 ) and hydrocarbon gas, tributylphosphine [CH 3 (CH 2 ) 3 ] 3 P), phosphorine (C 5 H 5 P), triphenylborane , (C 6 H 5) 3 B), barley Nin (Borinine, C 5 H 5 B ), triethylborane (triethylborane ((C 2 H 5 ) 3 B), trimethyl borane (trimethylboron, B (CH 3) 3 ), or trimethylboron -d9 (trimethylboron-d9, B ( CD 3) 3), borane-dimethyl amine (dimethylamine borane), borane pyridine (pyridine borane), borane trimethylamine (trimethylamine borane), borane ammonia (borane-ammonia) Tetrabutylammonium cyanoborohydride, ammonium tetraphenylborate, tetrabutylammonium borohydride, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, tetrabutylammonium tetrafluoroborate, Which is selected from the group consisting of tetramethylammonium triacetoxyborohydride, 2,4,6-triphenylborazine, and borane diphenylphosphine. At least one core-shell nanoparticle.
제3항에 있어서,
상기 포스파이드 소스는 P, Ni(CO)6, Fe2(CO)9, Zn(CH3)2, Zn(C2H5)2, In(CH3)3, Mo(CO)6, Ga(CH3)3 및 Ga(C2H5)3로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method of claim 3,
The phosphide source P, Ni (CO) 6, Fe 2 (CO) 9, Zn (CH 3) 2, Zn (C 2 H 5) 2, In (CH 3) 3, Mo (CO) 6, Ga (CH 3 ) 3 and Ga (C 2 H 5 ) 3 .
제3항에 있어서,
상기 칼코게나이드 소스는 설파이드(sulfide) 소스, 셀레나이드(selenide) 소스, 텔루라이드(telluride) 소스 또는 폴로나이드(polonide) 소스인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method of claim 3,
Wherein the chalcogenide source is a sulfide source, a selenide source, a telluride source, or a polonide source.
제3항에 있어서,
상기 칼코게나이드 소스는 S, HS, C6H5SeH, C12H10Se, Se(CH3)2, Se(C2H5)2 Mo(CO)6, Ni(CO)6, Fe2(CO)9, W(CO)6, Cr(CO)6, Mn2(CO)10, Ru3(CO)12, Rh4(CO)12, Re2(CO)10, 및 Co2(CO)8로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method of claim 3,
The chalcogenide source S, H 2 S, C 6 H 5 SeH, C 12 H 10 Se, Se (CH 3) 2, Se (C 2 H 5) 2 Mo (CO) 6, Ni (CO) 6 , Fe 2 (CO) 9 , W (CO) 6 , Cr (CO) 6, Mn 2 (CO) 10, Ru 3 (CO) 12, Rh 4 (CO) 12, Re 2 (CO) 10, and the core is at least one which is Co 2 (CO) selected from the group consisting of 8 Method for manufacturing shell nanoparticles.
제1항에 있어서,
상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 1차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 이고,
상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 1차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃이고,
상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 2차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 이고,
상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 2차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
If the primary coating source is a carbon source, the primary heating temperature is between 550 캜 and 850 캜,
Wherein when the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the primary heating temperature is 400 ° C. to 850 ° C.,
When the secondary coating source is a carbon source, the secondary heating temperature is 550 캜 to 850 캜,
Wherein said secondary heating temperature is 400 ° C. to 850 ° C. when said secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source.
제1항에 있어서,
상기 1차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 1차 가열 시간은 10 내지 120 분이고,
상기 1차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 1차 가열 시간은 10 내지 60 분이고,
상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 2차 가열 시간은 10 내지 120 분이고,
상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 2차 가열 시간은 10 내지 60 분인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
When the primary coating source is a carbon source, the primary heating time is 10 to 120 minutes,
When the primary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, the primary heating time is 10 to 60 minutes,
When the secondary coating source is a carbon source, the secondary heating time is 10 to 120 minutes,
Wherein the secondary heating time is 10 to 60 minutes when the secondary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source.
제1항에 있어서,
상기 코어 나노입자의 종류에 상관없이 공급되는 1차 코팅 소스 및 2차 코팅 소스가 손실 없이 상기 코어 나노입자의 코팅을 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the primary coating source and the secondary coating source to be supplied are used for coating the core nanoparticles without loss regardless of the type of the core nanoparticles.
제1항에 있어서,
상기 1차 코팅 소스 및 2차 코팅 소스의 공급량을 제어함으로써 비코팅된 코어 나노입자 또는 마이크로 크기의 코어-쉘 나노입자가 형성되지 않도록 하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the supply amount of the primary coating source and the secondary coating source is controlled so that uncoated core nanoparticles or micro-sized core-shell nanoparticles are not formed.
제1항에 있어서,
상기 코어 나노입자는 금속, 금속산화물, 반도체 물질 또는 반도체산화물인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the core nanoparticles are a metal, a metal oxide, a semiconductor material, or a semiconductor oxide.
제1항에 있어서,
상기 1차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계; 및
상기 2차 가열 이후에, 반응기의 내부 압력을 해제하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화시키는 단계를 더 포함하는 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
The method according to claim 1,
After the primary heating, releasing the internal pressure of the reactor and removing the residual gas to stabilize the inside of the reactor; And
Further comprising, after the secondary heating, releasing the internal pressure of the reactor and removing residual gas to stabilize the inside of the reactor.
제1항에 있어서,
상기 2차 가열 이후에, 반응기에 3차 코팅 소스를 공급하는 단계;
상기 반응기를 밀폐하는 단계; 및
상기 반응기를 비활성 기체 분위기 하에서 3차 가열하는 단계를 더 포함하는 코어-쉘 나노입자 제조방법.
The method according to claim 1,
After the secondary heating, supplying a tertiary coating source to the reactor;
Sealing the reactor; And
Further comprising a third step of heating the reactor in an inert gas atmosphere.
제16항에 있어서,
상기 2차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 코팅 소스는 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스이고,
상기 2차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 코팅 소스는 카본 소스인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
17. The method of claim 16,
When the secondary coating source is a carbon source, the tertiary coating source is a phosphide source or a chalcogenide source,
Wherein the second coating source is a phosphide source or a chalcogenide source, and wherein the third coating source is a carbon source.
제16항에 있어서,
상기 3차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 가열 온도는 550℃ 내지 850℃ 이고,
상기 3차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 가열 온도는 400℃ 내지 850℃인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
17. The method of claim 16,
When the third coating source is a carbon source, the third heating temperature is 550 캜 to 850 캜,
Wherein the third heating temperature is 400 ° C to 850 ° C when the third coating source is a phosphide source or a chalcogenide source.
제16항에 있어서,
상기 3차 코팅 소스가 카본 소스일 경우, 상기 3차 가열 시간은 10 내지 120 분이고,
상기 3차 코팅 소스가 포스파이드 소스 또는 칼코게나이드 소스일 경우, 상기 3차 가열 시간은 10 내지 60 분인 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
17. The method of claim 16,
When the third coating source is a carbon source, the third heating time is 10 to 120 minutes,
Wherein the third heating time is 10 to 60 minutes when the third coating source is a phosphide source or a chalcogenide source.
제16항에 있어서,
상기 3차 가열 이후에, 상기 반응기의 내부 압력을 해제 하고 잔여 가스를 제거하여 반응기 내부를 안정화하는 단계를 더 포함하는 코어-쉘 나노입자 제조 방법.
17. The method of claim 16,
Further comprising, after the third heating, releasing the internal pressure of the reactor and removing residual gas to stabilize the inside of the reactor.
나노입자 코어;
상기 나노입자 코어를 둘러싸는 제1쉘; 및
상기 제1쉘을 둘러싸는 제2쉘
을 포함하고,
상기 제1쉘 또는 제2쉘은 포러스 카본 또는 포스파이드 및 칼코게나이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고,
상기 제1쉘과 제2쉘은 서로 상이한 물질인 코어-쉘 나노입자.
Nanoparticle cores;
A first shell surrounding the nanoparticle core; And
A second shell surrounding the first shell,
/ RTI >
Wherein the first shell or the second shell is any one selected from the group consisting of porous carbon or phosphide and chalcogenide,
Wherein the first shell and the second shell are materials that are different from each other.
제21항에 있어서,
상기 제2쉘을 둘러싸는 제3쉘
을 더 포함하고,
상기 제3쉘은 포러스 카본 또는 포스파이드 및 칼코게나이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이고,
상기 제2쉘과 제3쉘은 서로 상이한 물질인 코어-쉘 나노입자.
22. The method of claim 21,
A third shell surrounding the second shell,
Further comprising:
Wherein the third shell is any one selected from the group consisting of porous carbon or phosphide and chalcogenide,
Wherein the second shell and the third shell are different materials from each other.
제21항에 있어서,
상기 포러스 카본은 기공크기가 0.3 내지 1.0 nm인 것을 특징으로 하는 코어-쉘 나노입자.
22. The method of claim 21,
Wherein the porous carbon has a pore size of 0.3 to 1.0 nm.
제21항에 있어서,
상기 포스파이드는 MoP, Ni2P, Fe2P, Fe3P, Zn3P2, InP 및 GaP로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 코어-쉘 나노입자.
22. The method of claim 21,
Wherein the phosphide is at least one selected from the group consisting of MoP, Ni 2 P, Fe 2 P, Fe 3 P, Zn 3 P 2 , InP and GaP.
제21항에 있어서,
상기 칼코게나이드는 MoS2, NiS, FeS, WS2, Cr2S3, MnS, RuS2, Re2S7, CoS, MoSe2, NiSe, FeSe, WSe2, CrSe, MnSe, RuSe, RhSe2, ReSe2 및 CoSe로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 코어-쉘 나노입자.
22. The method of claim 21,
The chalcogenide may be MoS 2 , NiS, FeS, WS 2 , Cr 2 S 3 , MnS, RuS 2 , Re 2 S 7 , CoS, MoSe 2 , NiSe, FeSe, WSe 2 , CrSe, MnSe, RuSe, RhSe 2 , ReSe 2, and CoSe.
제21항에 있어서,
상기 나노입자 코어는 금속, 금속산화물, 반도체 물질 또는 반도체산화물인 코어-쉘 나노입자.
22. The method of claim 21,
Wherein the nanoparticle core is a metal, a metal oxide, a semiconductor material, or a semiconductor oxide.
제21항에 따른 코어-쉘 나노입자를 포함하는 전극재.An electrode material comprising core-shell nanoparticles according to claim 21.
KR1020170125292A 2017-09-27 2017-09-27 The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby KR102037382B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170125292A KR102037382B1 (en) 2017-09-27 2017-09-27 The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170125292A KR102037382B1 (en) 2017-09-27 2017-09-27 The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190036271A true KR20190036271A (en) 2019-04-04
KR102037382B1 KR102037382B1 (en) 2019-10-28

Family

ID=66105469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170125292A KR102037382B1 (en) 2017-09-27 2017-09-27 The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102037382B1 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110357161A (en) * 2019-07-03 2019-10-22 山东省分析测试中心 A kind of MCHS@molybdenum disulfide nano-composite material and its preparation method and application based on core-shell structure
CN110504424A (en) * 2019-08-15 2019-11-26 中南大学 A kind of two iron lithium ion battery negative material of porous spherical phosphatization and preparation method thereof
CN112694126A (en) * 2019-10-22 2021-04-23 中国科学院大连化学物理研究所 Preparation method of high-dispersion nickel modified molybdenum disulfide
CN113299895A (en) * 2021-05-24 2021-08-24 武汉纺织大学 Controllable synthesis and energy storage application of cake-shaped sulfur-based compound composite material
CN114084876A (en) * 2021-11-22 2022-02-25 安徽师范大学 One-dimensional multilayer nano-chain composite material, preparation method thereof and application thereof in lithium ion battery
CN114497473A (en) * 2021-12-17 2022-05-13 安徽师范大学 N-doped porous carbon-coated Mn-Co-Ni oxide core-shell structure electrode material and preparation method and application thereof
CN114937775A (en) * 2022-07-21 2022-08-23 北京科技大学 Potassium ion battery negative electrode material and preparation method thereof
KR20230103129A (en) * 2021-12-31 2023-07-07 주식회사 아이에스시 Conductive particle and test connector comprising the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101592487B1 (en) * 2012-06-18 2016-02-05 실라 나노테크놀로지스 인코포레이티드 Multi-shell structures for battery active materials with expansion properties
KR101653962B1 (en) * 2015-09-17 2016-09-23 한국에너지기술연구원 Method of doped carbon coating on nanoparticle, method of doped carbon nano structure, doped carbon coated nano particle, doped carbon nanoscale structure produced by the same, and use thereof
KR101678187B1 (en) * 2015-09-17 2016-11-22 한국에너지기술연구원 Method of carbon coating on nanoparticle and carbon coated nanoparticle produced by the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101592487B1 (en) * 2012-06-18 2016-02-05 실라 나노테크놀로지스 인코포레이티드 Multi-shell structures for battery active materials with expansion properties
KR101653962B1 (en) * 2015-09-17 2016-09-23 한국에너지기술연구원 Method of doped carbon coating on nanoparticle, method of doped carbon nano structure, doped carbon coated nano particle, doped carbon nanoscale structure produced by the same, and use thereof
KR101678187B1 (en) * 2015-09-17 2016-11-22 한국에너지기술연구원 Method of carbon coating on nanoparticle and carbon coated nanoparticle produced by the same

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110357161A (en) * 2019-07-03 2019-10-22 山东省分析测试中心 A kind of MCHS@molybdenum disulfide nano-composite material and its preparation method and application based on core-shell structure
CN110357161B (en) * 2019-07-03 2021-09-28 山东省分析测试中心 MCHS @ molybdenum disulfide nanocomposite based on core-shell structure and preparation method and application thereof
CN110504424B (en) * 2019-08-15 2022-05-17 中南大学 Porous spherical lithium iron phosphide ion battery cathode material and preparation method thereof
CN110504424A (en) * 2019-08-15 2019-11-26 中南大学 A kind of two iron lithium ion battery negative material of porous spherical phosphatization and preparation method thereof
CN112694126A (en) * 2019-10-22 2021-04-23 中国科学院大连化学物理研究所 Preparation method of high-dispersion nickel modified molybdenum disulfide
CN112694126B (en) * 2019-10-22 2021-09-14 中国科学院大连化学物理研究所 Preparation method of high-dispersion nickel modified molybdenum disulfide
CN113299895B (en) * 2021-05-24 2022-06-17 武汉纺织大学 Controllable synthesis and energy storage application of cake-shaped sulfur-based compound composite material
CN113299895A (en) * 2021-05-24 2021-08-24 武汉纺织大学 Controllable synthesis and energy storage application of cake-shaped sulfur-based compound composite material
CN114084876A (en) * 2021-11-22 2022-02-25 安徽师范大学 One-dimensional multilayer nano-chain composite material, preparation method thereof and application thereof in lithium ion battery
CN114084876B (en) * 2021-11-22 2023-09-01 乌海瑞森新能源材料有限公司 One-dimensional multilayer nano-chain composite material, preparation method thereof and application thereof in lithium ion battery
CN114497473A (en) * 2021-12-17 2022-05-13 安徽师范大学 N-doped porous carbon-coated Mn-Co-Ni oxide core-shell structure electrode material and preparation method and application thereof
KR20230103129A (en) * 2021-12-31 2023-07-07 주식회사 아이에스시 Conductive particle and test connector comprising the same
CN114937775A (en) * 2022-07-21 2022-08-23 北京科技大学 Potassium ion battery negative electrode material and preparation method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR102037382B1 (en) 2019-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102037382B1 (en) The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby
Dou et al. Rational design of transition metal‐based materials for highly efficient electrocatalysis
Zhang et al. Recent advances in 1D electrospun nanocatalysts for electrochemical water splitting
Yang et al. Secondary‐component incorporated hollow MOFs and derivatives for catalytic and energy‐related applications
Zhang et al. MOF-derived nanohybrids for electrocatalysis and energy storage: current status and perspectives
KR102001454B1 (en) The preparation method of multi-layer core-shell nano particles comprising porous carbon shell and core-shell nano particles thereby
US9700877B2 (en) Metal-carbon hybrid composite having nitrogen-doped carbon surface and method for manufacturing the same
Saad et al. Three-dimensional mesoporous phosphide–spinel oxide heterojunctions with dual function as catalysts for overall water splitting
KR100917697B1 (en) Transition metal-carbon nitride nanotube hybrids catalyst, fabrication method thereof and method for producing hydrogen using the same
Gage et al. Deep eutectic solvent approach towards nickel/nickel nitride nanocomposites
KR101341550B1 (en) Preparation method of catalyst for fuel cell electrode using covaporization and preparation method of fuel cell electrode including catalyst prepared by and fuel cell including the same
EP2691560B1 (en) Method for the production of carbon nanotubes
Hu et al. Surface modification and functionalization of powder materials by atomic layer deposition: a review
Lee et al. Atomic layer deposition enabled PtNi alloy catalysts for accelerated fuel-cell oxygen reduction activity and stability
Park et al. Spherical nickel doped cobalt phosphide as an anode catalyst for oxygen evolution reaction in alkaline media: From catalysis to system
Yang et al. Recent progress in the synthesis of transition metal nitride catalysts and their applications in electrocatalysis
KR101653962B1 (en) Method of doped carbon coating on nanoparticle, method of doped carbon nano structure, doped carbon coated nano particle, doped carbon nanoscale structure produced by the same, and use thereof
KR20110135305A (en) Preparation method of electrode catalyst for fuel cell using atomic layer deposition
Li et al. Origin of chemisorption energy scaling relations over perovskite surfaces
Wang et al. Temperature‐Induced Low‐Coordinate Ni Single‐Atom Catalyst for Boosted CO2 Electroreduction Activity
Seo et al. Oxidative Strong Metal–Support Interaction Induced by an Amorphous TiOx Seed Layer Boosts the Electrochemical Performance and High-Temperature Durability of Pt Nanocatalysts
KR101678187B1 (en) Method of carbon coating on nanoparticle and carbon coated nanoparticle produced by the same
KR20190036275A (en) Core-shell high temperature heat storage material and method of manufacturing the same
TWI830049B (en) The formation of catalyst pt nanodots by pulsed/sequential cvd or atomic layer deposition
Mahmood et al. Factors Effecting and Structural Engineering of Molybdenum Nitride‐Based Electrocatalyst for Overall Water Splitting: A Critical Review

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant