KR20190022188A - Diffraction light guide plate and manufacturing method for diffraction light guide plate - Google Patents

Diffraction light guide plate and manufacturing method for diffraction light guide plate Download PDF

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Abstract

The present invention provides a diffraction light guide plate and a manufacturing method thereof. According to an embodiment of the present invention, the diffraction light guide plate includes at least one diffraction region. A light refractive index of the diffraction region is gradually increased from one side surface to the other side surface, wherein the light refractive index of the diffraction region is adjusted by nanopore content inside a polymer matrix.

Description

회절 도광판 및 회절 도광판의 제조 방법{DIFFRACTION LIGHT GUIDE PLATE AND MANUFACTURING METHOD FOR DIFFRACTION LIGHT GUIDE PLATE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a diffractive light guide plate and a diffractive light guide plate,

본 발명은 회절 도광판 및 회절 도광판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a diffracting light guide plate and a diffracting light guide plate.

최근 증강현실(AR: Augmented Reality), 혼합현실(MR: Mixed Reality), 또는 가상현실(VR: Virtual Reality)을 구현하는 디스플레이 유닛에 관심이 커지면서, 이를 구현하는 디스플레이 유닛에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있는 추세이다. 증강현실, 혼합현실, 또는 가상현실을 구현하는 디스플레이 유닛은 광의 파동적 성질에 기초한 회절 현상을 이용하는 회절 도광판을 포함하고 있다. 회절 도광판은 회절 도광판에 입사되는 광을 내부 반사 또는 내부 전반사시켜, 회절 도광판에 입사된 광을 일 지점으로 가이드할 수 있다. 회절 도광판으로 입사되는 광은 회절 도광판 내에서 여러 번의 회절되는 과정에서 광량이 감소될 수 있다. 회절 도광판 내 광이 회절됨에 따라 광량이 감소되는 경우, 회절 도광판의 위치별 회절되는 광량이 상이할 수 있다. 회절 도광판의 위치별 회절되는 광량이 상이한 경우, 회절되는 광량이 많은 위치에서는 광도가 높은 광이 출사되고, 회절되는 광량이 적은 위치에서는 광도가 낮은 광이 출사된다. 이에 따라, 회절 도광판을 사용한 디스플레이 유닛의 경우, 디스플레이 유닛에 의해 구현되는 영상의 광도가 일정하지 않은 문제가 발생될 수 있다.Recently, as interest in a display unit implementing Augmented Reality (AR), Mixed Reality (MR), or Virtual Reality (VR) has increased, There is a trend. A display unit implementing an augmented reality, a mixed reality, or a virtual reality includes a diffused light guide plate using a diffraction phenomenon based on the wave-like property of light. The diffracting light guide plate can guide the light incident on the diffracting light guide plate to one point by internally reflecting or totally reflecting the light incident on the diffracting light guide plate. The light incident on the diffraction light guide plate may be reduced in the process of being diffracted several times in the diffraction light guide plate. When the amount of light is reduced as the light in the diffracted light guide plate is diffracted, the amount of light diffracted by the position of the diffracted light guide plate may be different. When the amount of diffracted light differs for each position of the diffracting light guide plate, light having high light intensity is emitted at a position where the amount of diffracted light is large, and light having low light intensity is emitted at a position where diffracted light amount is small. Accordingly, in the case of a display unit using a diffracting light guide plate, a problem that the brightness of an image realized by the display unit is not constant may occur.

이에 따라, 회절 도광판의 전 위치에서 회절되는 광량이 동일한 회절 도광판 및 회절 도광판을 용이하게 제조할 수 있는 기술이 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need for a technique capable of easily manufacturing a diffracting light guide plate and a diffracting light guide plate having the same amount of light diffracted at all positions of the diffracting light guide plate.

본 명세서는 회절 도광판 및 회절 도광판의 제조 방법을 제공하고자 한다.The present specification is intended to provide a method of manufacturing a diffracting light guide plate and a diffracting light guide plate.

본 발명의 일 실시예는 회절 도광판으로서, 상기 회절 도광판은 적어도 하나의 회절 영역을 포함하고, 상기 회절 영역은 일측면에서 타측면까지 점진적으로 광굴절률이 증가하며, 상기 회절 영역의 광굴절률은 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량에 의하여 조절되는 것인 회절 도광판을 제공한다.One embodiment of the present invention is a diffracting light guide plate, wherein the diffracting light guide plate includes at least one diffractive area, the diffractive area has an optical refractive index gradually increased from one side to the other side, Wherein the refractive index of the diffractive optical waveguide is controlled by the content of nanopores in the matrix.

본 발명의 다른 실시예는 열경화성 화합물을 포함하는 제1 조성물, 및 열경화성 화합물 및 광분해성 화합물을 포함하는 제2 조성물을 준비하는 단계; 기재 상의 일 영역에 상기 제2 조성물을 도포하고, 상기 기재의 타 영역에 상기 제1 조성물을 도포하는 단계; 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 열경화하여, 고분자 매트릭스를 형성하는 단계; 및 상기 고분자 매트릭스에 광조사를 하여 상기 광분해성 화합물이 나노포어를 형성시키는 단계;를 포함하고, 상기 기재 상의 일 영역은 상기 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 단위 영역별로 조절하여, 상기 일 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 점진적으로 증가하는 것인 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판의 제조 방법을 제공한다.Another embodiment of the present invention is directed to a method of preparing a composition comprising: preparing a first composition comprising a thermosetting compound, and a second composition comprising a thermosetting compound and a photodegradable compound; Applying the second composition to one region of the substrate and applying the first composition to another region of the substrate; Thermosetting the first composition and the second composition to form a polymer matrix; And a step of irradiating the polymer matrix with light to form nanopores, wherein one region on the substrate controls the content of the nanopores in the polymer matrix by unit regions, And the refractive index gradually increases from one side to the other side of the diffractive optical waveguide according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 회절 영역에서의 광굴절률을 조절하여, 회절 영역에 입사되는 광에 대한 회절 효율을 용이하게 제어할 수 있는 회절 도광판을 제공할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a diffraction light guide plate capable of easily controlling the diffraction efficiency with respect to the light incident on the diffraction area by adjusting the optical index of refraction in the diffraction area.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 회절 영역의 일측면으로부터 타측면까지 회절되는 광량이 동일한 회절 도광판을 제공할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a diffraction light guide plate having the same amount of light diffracted from one side to the other side of the diffraction region.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 일측면으로부터 타측면을 따라, 광굴절률이 점진적으로 변화되는 영역을 포함하는 회절 도광판을 용이하게 제조할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, it is possible to easily manufacture a diffraction light guide plate including a region in which the refractive index of light is gradually changed along the other side from one side.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 영역에 포함되는 회절 격자 패턴을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 2 이상의 회절 영역을 포함하는 회절 도광판의 평면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 2 이상의 회절 영역을 포함하는 회절 도광판의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 2 이상의 단위 회절 영역을 포함하는 회절 영역을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기재를 포함하는 회절 도광판을 개략적으로 나타낸 도면이다. BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a diffraction light guide plate according to an embodiment of the present invention; FIG.
2 is a schematic view of a diffraction grating pattern included in a diffraction region according to an embodiment of the present invention.
3 is a view schematically showing a plane of a diffracting light guide plate including two or more diffractive regions according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic view of a diffraction light guide plate according to an embodiment of the present invention.
5 is a diagram schematically showing a cross section of a diffracting light guide plate including two or more diffractive regions according to an embodiment of the present invention.
6 is a view schematically showing a diffraction region including two or more unit diffraction regions according to an embodiment of the present invention.
7 is a view schematically showing a diffraction light guide plate including a substrate according to an embodiment of the present invention.

명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.When an element is referred to as "including" an element throughout the specification, it is to be understood that the element may include other elements as well, without departing from the spirit or scope of the present invention.

또한, 본 명세서에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. Further, when a member is referred to herein as being "on " another member, this includes not only when a member is in contact with another member but also when there is another member between the two members.

본 발명자들은 고분자를 포함하는 회절 도광판에 나노포어가 형성되는 경우, 나노포어에 의해 회절 도광판의 광굴절률이 조절되며, 나아가, 회절 도광판에 포함되는 나노포어의 함량이 증가되면 회절 도광판의 광굴절률이 감소되고, 나노포어의 함량이 감소되면 회절 도광판의 광굴절률이 증가될 수 있음을 밝혀내어, 하기와 같은 회절 도광판을 개발하였다.The present inventors have found that when a nanopore is formed on a diffractive light guide plate including a polymer, the refractive index of the diffracted light guide plate is controlled by the nanopore, and furthermore, when the content of the nanofoar included in the diffractive light guide plate is increased, And the refractive index of the diffraction light guide plate can be increased if the content of the nanopore is decreased. Thus, the following diffraction light guide plate is developed.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 실시예는 회절 도광판으로서, 상기 회절 도광판은 적어도 하나의 회절 영역을 포함하고, 상기 회절 영역은 일측면에서 타측면까지 점진적으로 광굴절률이 증가하며, 상기 회절 영역의 광굴절률은 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량에 의하여 조절되는 것인 회절 도광판을 제공한다.One embodiment of the present invention is a diffracting light guide plate, wherein the diffracting light guide plate includes at least one diffractive area, the diffractive area has an optical refractive index gradually increased from one side to the other side, Wherein the refractive index of the diffractive optical waveguide is controlled by the content of nanopores in the matrix.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 회절 영역에서의 광굴절률을 조절하여, 회절 영역에 입사되는 광에 대한 회절 효율을 용이하게 제어할 수 있는 회절 도광판을 제공할 수 있다. 구체적으로, 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 상기 회절 영역의 광굴절률은 점진적으로 증가될 수 있으며, 이에 의해, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 상기 회절 영역에 입사되는 광의 회절 효율이 점진적으로 증가될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a diffraction light guide plate capable of easily controlling the diffraction efficiency with respect to the light incident on the diffraction area by adjusting the optical index of refraction in the diffraction area. Specifically, the refractive index of the diffraction region can be gradually increased from one side to the other side of the diffraction region, whereby the diffraction efficiency of light incident on the diffraction region from one side to the other side of the diffraction region gradually increases Lt; / RTI >

증강현실(AR: Augmented Reality), 혼합현실(MR: Mixed Reality), 또는 가상현실(VR: Virtual Reality)을 구현하는 디스플레이 유닛은 광의 파동적 성질에 기초한 회절 현상을 이용하는 회절 도광판을 포함하고 있다. 회절 도광판은, 회절 도광판에 입사되는 광을 내부 반사 또는 내부 전반사시켜, 회절 도광판에 입사된 광을 일 지점으로 가이드할 수 있다. 구체적으로, 회절 도광판에 입사되는 광은 회절 도광판의 내부에서 반사 또는 전반사되어, 회절 도광판에 광이 입사된 지점과 다른 지점으로 가이드되어 출사될 수 있다.A display unit implementing Augmented Reality (AR), Mixed Reality (MR), or Virtual Reality (VR) includes a diffractive light guide plate using a diffraction phenomenon based on the wave property of light. The diffracting light guide plate can guide the light incident on the diffracting light guide plate to one point by internal reflection or total internal reflection of the light incident on the diffracting light guide plate. Specifically, the light incident on the diffracting light guide plate is reflected or totally reflected inside the diffracting light guide plate, and can be guided out to a point different from the point where the light is incident on the diffracting light guide plate.

종래의 회절 도광판의 경우, 회절 도광판의 전 영역에서의 광 회절 효율이 동일하였다. 회절 도광판의 전 영역에서 광 회절 효율이 동일한 경우, 회절 도광판 내부에서 광이 반사 또는 전반사되는 과정에서, 회절 도광판에 의해 회절되는 광량이 감소하게 된다. 구체적으로, 회절 도광판의 일측면에 광이 입사되어 회절 도광판의 타측면으로 광이 가이드되는 경우, 회절 도광판의 일측면에서 타측면으로 갈수록 회절되는 광량이 감소하게 된다. 회절 도광판의 부분별 회절되는 광량이 서로 상이한 경우, 회절되는 광량이 많은 부분에서는 광도가 높은 광이 출사되나, 회절되는 광량이 적은 부분에서는 광도가 낮은 광이 출사되어, 회절 도광판의 부분별 출사되는 광의 광도가 일정하지 않은 문제가 발생될 수 있다.In the case of the conventional diffraction light guide plate, the light diffraction efficiency in the entire region of the diffraction light guide plate was the same. When the light diffraction efficiency is the same in the entire region of the diffractive light guide plate, the amount of light diffracted by the diffractive light guide plate is reduced in the process of reflection or total reflection of light in the diffused light guide plate. Specifically, when light is incident on one side of the diffracting light guide plate and the light is guided to the other side of the diffracting light guide plate, the amount of light diffracted from one side to the other side of the diffracting light guide plate is reduced. When the amount of light diffracted by the diffracting light guide plate is different from each other, light having a high light intensity is emitted in the portion where the diffracted light amount is large, while light having low light intensity is emitted in the portion where the diffracted light amount is small, A problem that the light intensity of the light is not constant may occur.

반면, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판에 포함되는 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 나노포어의 함량을 조절함으로써 광 회절 효율이 점진적으로 증가될 수 있으므로, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 회절되는 광량이 동일하게 제어될 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 영역의 일측면에 광이 입사되어 상기 회절 영역의 타측면으로 광이 가이드되는 경우, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광 회절 효율이 점진적으로 증가됨에 따라, 회절 도광판 내 광이 회절되는 과정에서 광량이 감소되는 것이 억제되어, 상기 회절 영역 전 영역에서의 회절되는 광량이 동일하게 제어될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, since the light diffraction efficiency can be gradually increased by adjusting the content of the nanopores from one side to the other side of the diffraction region included in the diffraction light guide plate, The amount of light diffracted from the side to the other side can be controlled equally. Specifically, when light is incident on one side of the diffraction region and light is guided to the other side of the diffraction region, the light diffraction efficiency gradually increases from one side to the other side of the diffraction region, The amount of light diffracted in the entire region of the diffractive region can be controlled in the same manner.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 회절 영역 전 영역에서 광도가 일정한 광을 출사할 수 있는 회절 도광판을 제공할 수 있다.Therefore, according to the embodiment of the present invention, it is possible to provide a diffracting light guide plate capable of emitting light having a constant light intensity in the entire region of the diffractive region.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역의 광굴절률은 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량에 의하여 조절될 수 있다. 상기 회절 도광판은 고분자를 포함할 수 있으며, 상기 고분자 매트릭스(matrix) 내에 나노포어가 포함될 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 도광판은 나노포어를 포함하는 고분자로 이루어질 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the refractive index of the diffraction region can be controlled by the content of the nanopore in the polymer matrix. The diffraction light guide plate may include a polymer, and nanopores may be included in the polymer matrix. Specifically, the diffraction light guide plate may be made of a polymer including nanopores.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 고분자는 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트 등의 아크릴계 고분자, 폴리아미드 고분자, 폴리이미드 고분자, 실리콘 고분자, 에폭시 고분자, 폴리에스테르 고분자 등을 포함할 수 있으나, 그 종류를 제한하는 것은 아니다.According to an embodiment of the present invention, the polymer may include an acrylic polymer such as urethane acrylate and epoxy acrylate, a polyamide polymer, a polyimide polymer, a silicone polymer, an epoxy polymer, a polyester polymer, .

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역에 포함되는 상기 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량이 증가될수록, 상기 회절 영역의 광굴절률은 감소될 수 있다. 반면, 상기 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량이 감소될수록, 상기 회절 영역의 광굴절률은 증가될 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량을 조절하여, 상기 회절 영역의 광굴절률을 용이하게 제어할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, as the content of the nanopore in the polymer matrix included in the diffractive region is increased, the refractive index of the diffractive region can be reduced. On the other hand, as the content of the nanopore in the polymer matrix is decreased, the refractive index of the diffractive region can be increased. Therefore, according to one embodiment of the present invention, the refractive index of the diffractive region can be easily controlled by adjusting the content of the nanopore in the polymer matrix.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 나노포어의 함량은 회절 도광판의 단위부피당 상기 나노포어의 함량을 의미할 수 있으며, 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 상기 회절 도광판의 단위부피에 대한 나노포어의 부피에 대한 비율을 나타내는 공극률(%)을 의미할 수 있다. 상기 나노포어에 의한 공극률은 포로셔티미터(porositimeter)에 의하여 측정될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the content of the nanopore may be an amount of the nanopore per unit volume of the diffraction light guide plate, and the content of the nanopore per unit volume may be a value of the amount of the nanopore (%) That represents the ratio to volume. The porosity by the nanopore can be measured by a porosity meter.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 나노포어의 함량은 회절 도광판의 단위 부피당 상기 나노포어의 분포 및/또는 상기 나노포어의 직경을 조절하여 제어할 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 동일한 직경을 가지는 나노포어의 분포를 점진적으로 감소시켜, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 상기 나노포어의 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 상기 회절 영역 전체에서의 나노포어 분포를 동일하게 하되, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 나노포어의 직경을 점진적으로 감소시켜, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 상기 나노포어의 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 상기 나노포어의 분포 및 나노포어의 직경을 조절하여, 상기 회절 영역의 광굴절률을 제어할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the content of the nanopore can be controlled by controlling the distribution of the nanopore and / or the diameter of the nanopore per unit volume of the diffraction light guide plate. Specifically, the distribution of the nanopores having the same diameter along the other lateral direction on one side of the diffractive region may be gradually reduced to gradually decrease the content of the nanopore from one side to the other side of the diffractive region have. In addition, it is preferable that the nanopore distribution in the entire diffractive region is the same, and the diameter of the nanopore is gradually decreased along the other lateral direction from one side of the diffractive region, The content of pores can be gradually reduced. In addition, the refractive index of the diffractive region can be controlled by controlling the distribution of the nanopores and the diameter of the nanopore.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 점진적으로 감소될 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 상기 나노포어에 의한 공극률이 점진적으로 감소될 수 있다. 따라서, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 상기 회절 영역의 광굴절률은 점진적으로 증가될 수 있고, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 상기 회절 영역의 광 회절 효율이 점진적으로 증가될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the content of the nanopore per unit volume along the other lateral direction in one side of the diffractive region may be gradually reduced. Specifically, the porosity of the nanopore may be gradually reduced along the other lateral direction in one side of the diffraction region. Therefore, the optical refraction index of the diffraction region can be gradually increased along one side of the diffraction region along the other lateral direction, and the light diffraction efficiency of the diffraction region progressively increases along one side of the diffraction region Can be increased.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로 도 1은 회절 영역(200)의 일측면(A)에서 타측면(B) 방향을 따라 상기 나노포어(300)의 함량이 점진적으로 감소되는 회절 도광판(100)의 단면을 나타낸 도면이다. 즉, 회절 영역(200)의 일측면(A)에서 타측면(B)까지 상기 나노포어(300)의 의한 공극률이 점진적으로 감소되며, 이에 의해, 회절 영역(200)의 일측면(A)에서 타측면(B)까지 광 회절 효율이 점진적으로 증가될 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a diffraction light guide plate according to an embodiment of the present invention; FIG. More specifically, FIG. 1 is a cross-sectional view of a diffraction light guide plate 100 in which the content of the nanopore 300 gradually decreases along one side A to another side B of the diffraction region 200. That is, the porosity of the nanopore 300 from the one side A to the other side B of the diffraction region 200 is gradually reduced, The light diffraction efficiency up to the other side B can be gradually increased.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역은 회절 격자 패턴을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 영역은, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 이격되어 구비되는 2 이상의 패턴 단위체를 포함하는 회절 격자 패턴을 포함할 수 있다. 도 1을 참고하면, 상기 패턴 단위체(400)는 상기 회절 영역(200)의 일측면(A)에서 타측면(B) 방향에 수직하는 방향을 따라 연속되어 구비될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the diffraction area may include a diffraction grating pattern. Specifically, the diffraction region may include a diffraction grating pattern including two or more pattern units separated from one side of the diffraction region along the other side direction. Referring to FIG. 1, the pattern unit 400 may be continuously formed along a direction perpendicular to the other side A of the diffractive zone 200.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 영역에 포함되는 회절 격자 패턴을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 2는 회절 도광판(100)의 일면으로부터 패턴 단위체(400)가 θ의 경사각을 이루며 구비되고, 패턴 단위체(400)는 h의 높이를 가지며, 2 이상의 패턴 단위체(400)가 d의 주기(pitch)를 가지며 구비된 것을 나타낸 도면이다. 본 발명에서 “주기”는 패턴 단위체가 반복되는 간격을 의미하며, 도 2와 같이, 하나의 패턴 단위체(400)의 일 지점과 이와 인접하는 다른 하나의 패턴 단위체(400)의 일 지점 사이의 길이를 의미할 수 있다. 하나의 패턴 단위체(400)의 일 지점과 다른 하나의 패턴 단위체(400)의 일 지점은 패턴 단위체(400) 간에 서로 대응되는 위치를 의미할 수 있다.2 is a schematic view of a diffraction grating pattern included in a diffraction region according to an embodiment of the present invention. 2 shows that the pattern unit 400 is provided at an angle of inclination of θ from one surface of the diffused light guide plate 100 and the pattern unit 400 has a height of h, FIG. 7 is a diagram showing a configuration having a pitch. 2, the distance between one point of one pattern unit 400 and one point of another pattern unit 400 adjacent to the pattern unit 400, . ≪ / RTI > One point of one pattern unit 400 and one point of another pattern unit 400 may correspond to each other.

도 2를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 격자 패턴은 2 이상의 패턴 단위체(400)를 포함할 수 있고, 상기 패턴 단위체(400)는 회절 도광판(100)의 일면으로부터 50°이상 90°이하의 경사각(θ)을 이루며 구비될 수 있다. 또한, 상기 2 이상의 패턴 단위체(400)는 100 nm 이상 600 nm 이하의 주기(d)를 가지며 구비될 수 있으며, 상기 패턴 단위체(400)의 높이(h)는 0 nm 초과 600 nm 이하일 수 있다. 다만, 상기 패턴 단위체의 경사각, 주기, 높이를 전술한 내용으로 제한하는 것은 아니다.2, the diffraction grating pattern according to an embodiment of the present invention may include two or more pattern units 400, Deg.] Or less. The pattern unit 400 may have a period d of 100 nm or more and 600 nm or less and a height h of the pattern unit 400 may be more than 0 nm and less than 600 nm. However, the inclination angle, the period, and the height of the pattern unit are not limited to the above-described contents.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 격자 패턴에 포함되는 상기 2 이상의 패턴 단위체의 형태는 동일할 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 영역은 회절 격자 패턴을 포함하며, 상기 회절 격자 패턴에 포함되는 2 이상의 패턴 단위체는 패턴 단위체의 경사각, 주기, 높이가 서로 동일한 것일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the shapes of the two or more pattern unit bodies included in the diffraction grating pattern may be the same. Specifically, the diffraction region includes a diffraction grating pattern, and the at least two pattern units included in the diffraction grating pattern may have the same inclination angle, period, and height of the pattern unit.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 동일한 형태를 가지는 2 이상의 패턴 단위체를 포함하는 회절 도광판은 복잡하지 않은 단순한 구조를 가짐과 동시에, 회절 격자 패턴을 포함하는 상기 회절 영역의 전 영역에서의 회절되는 광량이 동일할 수 있다.Therefore, according to one embodiment of the present invention, the diffracting light guide plate including two or more pattern unit pieces having the same shape has a simple structure which is not complicated, and at the same time, diffraction grating patterns having diffraction grating patterns May be the same.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 격자 패턴에 포함되는 상기 2 이상의 패턴 단위체의 형태가 서로 상이할 수도 있다. 구체적으로, 상기 회절 격자 패턴에 포함되는 2 이상의 패턴 단위체는 패턴 단위체의 경사각은 동일하나 패턴 단위체의 높이가 상이할 수 있고, 또한, 패턴 단위체의 높이는 동일하나 패턴 단위체의 경사각이 상이할 수 있다.Also, according to an embodiment of the present invention, the shapes of the two or more pattern unit bodies included in the diffraction grating pattern may be different from each other. More specifically, the two or more pattern unit bodies included in the diffraction grating pattern have the same inclination angle of the pattern unit bodies but different height of the pattern unit bodies, and the height of the pattern unit bodies is the same, but the inclination angle of the pattern unit bodies may be different.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 나노포어의 직경은 100 nm 이하일 수 있다. 구제적으로, 상기 나노포어의 직경은 10 nm 이상 100 nm 이하, 10 nm 이상 90 nm 이하, 20 nm 이상 80 nm 이하, 30 nm 이상 60 nm 이하, 40 nm 이상 50 nm 이하, 20 nm 이상 100 nm 이하, 30 nm 이상 90 nm 이하, 40 nm 이상 80 nm 이하, 50 nm 이상 70 nm 이하일 수 있고, 보다 구체적으로 20 nm 이상 40 nm 이하, 35 nm 이상 50 nm 이하, 50 nm 이상 80 nm 이하, 60 nm 이상 90 nm 이하일 수 있다. 상기 나노포어의 직경은 B.E.T(Brunauer. Emmett. Teller) 비표면적분석장비를 이용한 B.E.T. 측정 방법에 의하여 측정될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the diameter of the nanopore may be 100 nm or less. The nanopore has a diameter of 10 nm or more and 100 nm or less, 10 nm or more and 90 nm or less, 20 nm or more and 80 nm or less, 30 nm or more and 60 nm or less, 40 nm or more and 50 nm or less, 20 nm or more and 100 nm or less And more specifically, not less than 20 nm and not more than 40 nm, not less than 35 nm and not more than 50 nm, not less than 50 nm and not more than 80 nm, not more than 60 nm, nm or more and 90 nm or less. The diameters of the nanopores were measured using a B.E.T. (Brunauer. Emmett.Teller) specific surface area analyzer. It can be measured by measuring method.

전술한 직경을 가지는 나노포어를 포함하는 회절 도광판은 디스플레이 유닛에 적용 시, 광경로를 방해하지 않으며 효과적으로 광을 회절시킬 수 있다. 또한, 회절 도광판에 포함되는 나노포어의 직경을 전술한 범위로 조절함으로써, 회절 영역에서의 광굴절률을 효과적으로 제어할 수 있으며, 회절 도광판의 기계적 물성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.When the diffractive light guide plate including nanopores having the aforementioned diameters is applied to a display unit, the light can be effectively diffracted without disturbing the optical path. Further, by adjusting the diameter of the nanopore included in the diffraction light guide plate to the above-mentioned range, the optical refractive index in the diffractive region can be effectively controlled and the mechanical properties of the diffracting light guide plate can be prevented from being lowered.

상기 나노포어의 직경이 100 nm를 초과하는 경우에는 회절 도광판에 입사되는 광이 설정된 광경로를 벗어나 가이드되어 출사되는 문제 및 회절 도광판의 내구성, 강도 등의 기계적 물성이 저하되는 문제가 발생될 수 있다. 또한, 상기 나노포어의 직경이 10 nm 미만인 경우에는 상기 회절 영역에서의 광굴절률을 효과적으로 제어하기 어려운 문제가 있다.When the diameter of the nanopore is more than 100 nm, there is a problem that the light incident on the diffraction light guide plate is guided out of the set light path and the mechanical properties such as durability and strength of the diffraction light guide plate are lowered . Further, when the diameter of the nanopore is less than 10 nm, there is a problem that it is difficult to effectively control the optical refraction index in the diffractive region.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판은 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 점진적으로 증가되는 회절 영역을 적어도 하나 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 도광판은 2 이상의 회절 영역을 포함할 수 있으며, 2 이상의 회절 영역 중 적어도 하나의 회절 영역은, 고분자 매트릭스 내의 나노포어 함량에 따라 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 점진적으로 증가될 수 있다. 일 예로, 상기 회절 도광판은 5 개의 회절 영역을 포함할 수 있고, 5 개의 회절 영역 중 일부 회절 영역은 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 점진적으로 증가될 수 있다. 또한, 상기 회절 도광판에 포함되는 2 이상의 회절 영역은 서로 이격되어 구비될 수 있고, 서로 접하여 구비될 수도 있다.According to an embodiment of the present invention, the diffracting light guide plate may include at least one diffractive region in which a refractive index gradually increases from one side to the other side of the diffractive region. Specifically, the diffracting light guide plate may include two or more diffractive areas, and at least one of the two or more diffractive areas may have a refractive index gradually increasing from one side to the other side of the diffractive area depending on the nanopore content in the polymer matrix Lt; / RTI > In one example, the diffracting light guide plate may include five diffraction areas, and some diffraction areas of the five diffraction areas may be gradually increased in refractive index from one side to the other side of the diffraction area. In addition, the two or more diffraction regions included in the diffraction light guide plate may be spaced apart from each other, or may be provided in contact with each other.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판은 상기 회절 도광판의 일측면으로부터 타측면 방향을 따라 구획되는 제1 회절 영역, 제2 회절 영역 및 제3 회절 영역 중 적어도 제1 회절 영역과 제3 회절 영역을 포함할 수 있다. 즉, 상기 회절 도광판은 제1 회절 영역과 제3 회절 영역을 포함하고, 제2 회절 영역을 추가적으로 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the diffracting light guide plate includes at least a first diffractive region and a third diffractive region out of a first diffractive region, a second diffractive region, and a third diffractive region, Diffraction region. That is, the diffraction light guide plate may include a first diffractive region and a third diffractive region, and may additionally include a second diffractive region.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 2 이상의 회절 영역을 포함하는 회절 도광판의 평면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 회절 도광판(100)의 일측면(A)에서 타측면(B) 방향을 따라 제1 회절 영역(210), 제2 회절 영역(220) 및 제3 회절 영역(230)이 구획된 회절 도광판을 나타낸 도면이다.3 is a view schematically showing a plane of a diffracting light guide plate including two or more diffractive regions according to an embodiment of the present invention. Specifically, the diffraction grating 100 is divided into the first diffraction region 210, the second diffraction region 220, and the third diffraction region 230 along the direction of the other side B from one side A of the diffused light guide plate 100 Fig.

도 3을 참고하면, 상기 제1 회절 영역(210)은 다양한 파장값을 가지는 광 들을 포함하는 입사광이 입사되는 영역일 수 있다. 또한, 상기 제2 회절 영역(220)은 상기 회절 도광판(100) 내로 입사된 광 들이 회절되는 영역이며, 상기 제1 회절 영역(210)에 입사된 광을 상기 제3 회절 영역(230)으로 확장하는 영역일 수 있다. 상기 제3 회절 영역(230)은 상기 회절 도광판(100)에서 광이 출사되는 영역으로, 상기 회절 도광판(100)을 디스플레이 유닛에 사용하는 경우, 상기 제3 회절 영역(230)은 디스플레이 유닛 사용자의 안구와 인접하는 영역으로, 광이 출사되어 사용자에게 디스플레이 정보를 제공하는 영역일 수 있다.Referring to FIG. 3, the first diffraction region 210 may be a region where incident light including light having various wavelength values is incident. The second diffraction region 220 is a region in which light incident into the diffraction light guide plate 100 is diffracted and the light incident on the first diffraction region 210 is extended to the third diffraction region 230 . ≪ / RTI > The third diffraction region 230 is a region where light is emitted from the diffraction light guide plate 100. When the diffraction light guide plate 100 is used for a display unit, And may be an area adjacent to the eyeball in which light is emitted to provide display information to a user.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 4는 회절 도광판(100)의 제1 회절 영역(210)으로 광이 입사된 후, 제3 회절 영역(230)으로 광이 출사되어 사용자에게 디스플레이 정보가 제공되는 것을 나타낸 도면이다. 도 4에서, 제 3 회절 영역(230) 내에 나노포어가 도시되어 있지 않으나, 제3 회절 영역의 일측면(A)에서 타측면(B) 방향을 따라 제3 회절 영역(230)에서의 나노포어의 함량이 점진적으로 감소됨에 따라, 광 회절 효율이 점진적으로 증가되어 광량이 일정한 디스플레이 정보가 사용자에게 제공될 수 있다.4 is a schematic view of a diffraction light guide plate according to an embodiment of the present invention. 4 is a view showing that light is emitted to the third diffraction region 230 after the light is incident on the first diffraction region 210 of the diffraction light guide plate 100 and display information is provided to the user. Although the nanopores are not shown in the third diffraction region 230 in FIG. 4, the nanopores in the third diffraction region 230 along the direction of the other side B from one side (A) to the other side (B) The light diffraction efficiency is gradually increased and display information with a constant light amount can be provided to the user.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판에 포함되는 2 이상의 회절 영역 각각의 나노포어 함량은 상이할 수 있다. 일 예로, 상기 회절 도광판이 제1 회절 영역, 제2 회절 영역 및 제3 회절 영역을 포함하는 경우, 상기 제1 회절 영역에는 나노포어가 포함되지 않고, 상기 제2 회절 영역의 나노포어 함량은 상기 제3 회절 영역의 나노포어 함량보다 많을 수 있다. 또한, 상기 제1 회절 영역, 제2 회절 영역 및 제3 회절 영역에 나노포어가 포함되고, 상기 제2 회절 영역의 나노포어 함량은 상기 제3 회절 영역의 나노포어 함량보다 많을 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the nanopore content of each of the two or more diffractive regions included in the diffracting light guide plate may be different. For example, when the diffraction light guide plate includes the first diffraction region, the second diffraction region, and the third diffraction region, the first diffraction region does not include nanopores, and the second diffraction region has a nanopore content of May be greater than the nanopore content of the third diffractive zone. In addition, the first diffraction region, the second diffraction region, and the third diffraction region may include nanopores, and the second diffraction region may have a nanopore content larger than the nanopore content of the third diffraction region.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 2 이상의 회절 영역을 포함하는 회절 도광판의 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 5는 회절 도광판(100)의 일측면(A)에서 타측면(B) 방향을 따라 제1 회절 영역(210), 제2 회절 영역(220) 및 제3 회절 영역(230)이 구비되고, 제1 회절 영역(210)에는 나노포어가 포함되지 않고, 제2 회절 영역(220)의 나노포어(300) 함량이 제3 회절 영역(230)의 나노포어(300) 함량보다 많은 회절 도광판(100)의 단면을 나타낸 것이다.5 is a diagram schematically showing a cross section of a diffracting light guide plate including two or more diffractive regions according to an embodiment of the present invention. 5 shows a first diffractive region 210, a second diffractive region 220 and a third diffractive region 230 along the direction of the other side B from one side A to the other side B of the diffractive light guide plate 100 The first diffractive region 210 does not include nanopores and the second diffractive region 220 has a larger amount of the nanopores 300 than the third diffractive region 230. Therefore, Sectional view of the light guide plate 100. FIG.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역은 서로 상이한 광굴절률을 가지는 단위 회절 영역을 2 이상 포함하고, 상기 단위 회절 영역은 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 점진적으로 광굴절률이 증가되도록 배치될 수 있다. 상기 단위 회절 영역은 서로 인접하여 구비되거나 접하여 구비될 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 영역은 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 구비되는 2 이상의 단위 회절 영역을 포함할 수 있고, 2 이상의 단위 회절 영역의 광굴절률은 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 증가될 수 있다. 일 예로, 회절 영역은 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 구비되는 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역, 제3 단위 회절 영역을 포함할 수 있고, 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역 및 제3 단위 회절 영역 순으로 광굴절률이 점진적으로 증가될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the diffractive region includes at least two unit diffractive regions having different optical refractive indices, and the unit diffractive region is formed such that the optical refractive index is gradually increased from one side to the other side of the diffractive region . The unit diffraction areas may be adjacent to each other or in contact with each other. The diffractive region may include at least two unit diffractive regions provided along the other lateral direction on one side of the diffractive region, and the optical refractive indices of the two or more unit diffractive regions may be different from the other side Can be increased along the direction. For example, the diffractive region may include a first unit diffractive region, a second unit diffractive region, and a third unit diffractive region which are provided along the other lateral direction on one side of the diffractive region, and the first unit diffractive region, The 2-unit diffractive region and the third unit diffractive region.

본 발명의 일 실시예 따르면, 상기 단위 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향에 따른 길이는 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향에 따른 길이의 0.1 배 내지 0.3 배일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the length along the other lateral direction of one side of the unit diffractive region may be 0.1 to 0.3 times the length along the other lateral direction of the diffractive region.

상기 단위 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향에 따른 길이를 전술한 범위로 조절함으로써, 광굴절률이 점진적으로 변화되는 단위 회절 영역을 포함하는 회절 영역을 효과적으로 형성할 수 있다.By adjusting the length along the other lateral direction in one side of the unit diffractive region to the above-described range, it is possible to effectively form the diffractive region including the unit diffractive region in which the refractive index gradually changes.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률은 인접한 다른 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률의 0.6 배 내지 0.95 배일 수 있다. 구체적으로, 상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률은 인접한 다른 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률의 0.6 배 내지 0.9 배. 0.7 배 내지 0.8 배. 0.75 배 내지 0.9 배. 0.85 배 내지 0.9 배. 0.75 배 내지 0.85 배일 수 있다. 상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률과 인접한 다른 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률의 비를 전술한 범위로 조절함으로써, 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 급격하게 변화되거나 또는 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률의 변화가 미비하여 상기 회절 영역에서의 광굴절률을 점진적으로 변화시키는 것이 용이하지 않은 문제를 방지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the refractive index of the one unit diffractive region may be 0.6 to 0.95 times the refractive index of the adjacent unit diffractive region. Specifically, the refractive index of the one unit diffractive region is 0.6 to 0.9 times the refractive index of the adjacent unit diffractive region. 0.7 times to 0.8 times. 0.75 to 0.9 times. 0.85 times to 0.9 times. 0.75 to 0.85. By adjusting the ratio of the optical refraction index of one of the unit diffraction regions and the ratio of the optical refraction indexes of the adjacent one of the unit diffraction regions to the above range, the optical refraction index rapidly changes from one side to the other side of the diffraction region, It is not easy to gradually change the optical refraction index in the diffraction region due to insufficient change of the optical refraction index from one side to the other side of the diffraction grating.

일 예로, 상기 회절 영역이 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 구비되는 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역, 제3 단위 회절 영역을 포함하는 경우, 제1 단위 회절 영역의 광굴절률은 제2 단위 회절 영역의 광굴절률의 0.7 배, 제2 단위 회절 영역의 광굴절률은 제3 단위 회절 영역의 광굴절률의 0.7 배일 수 있다. 상기 회절 영역은 광이 입사되는 제1 회절 영역일 수 있고, 상기 회절 도광판에서 광이 출사되는 영역인 제3 회절 영역일 수 있고, 또는 제1 회절 영역에 입사된 광을 제3 회절 영역으로 확장하는 제2 회절 영역일 수도 있다.For example, when the diffractive region includes a first unit diffractive region, a second unit diffractive region, and a third unit diffractive region provided along the other lateral direction on one side of the diffractive region, the refractive index of the first unit diffractive region May be 0.7 times the optical refractive index of the second unit diffractive region, and the optical refractive index of the second unit diffractive region may be 0.7 times the optical refractive index of the third unit diffractive region. The diffractive region may be a first diffractive region on which light is incident and may be a third diffractive region that is a region where light is emitted from the diffractive light guide plate, Or the second diffractive region.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역은 2 이상의 단위 회절 영역을 포함하며, 상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 인접한 다른 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량의 0.7 배 내지 0.95 배일 수 있다. 구체적으로, 상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 이와 인접하는 상기 다른 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량의 0.75 배 내지 0.9 배. 0.85 배 내지 0.9 배. 0.75 배 내지 0.85 배, 0.8 배 내지 0.95 배일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the diffraction region includes two or more unit diffraction regions, and the content of the nanopores per unit volume of the one unit diffraction region is smaller than the content of the nanopores per unit volume of another adjacent unit diffraction region. It may be 0.7 to 0.95 times the content of the pore. Specifically, the content of the nanopore per unit volume of one of the unit diffraction regions is 0.75 to 0.9 times the content of the nanopore per unit volume of the other unit diffraction region adjacent thereto. 0.85 times to 0.9 times. 0.75 times to 0.85 times, and 0.8 times to 0.95 times.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 어느 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량과 이와 인접하는 다른 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량의 관계를 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 안정적이고 효과적이게 광굴절률을 점진적으로 변화시킬 수 있다. 어느 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량과 이와 인접하는 다른 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량의 관계가 전술한 범위를 벗어나는 경우, 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 급격하게 변화되거나 또는 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률의 변화가 미비하여 상기 회절 영역에서의 광굴절률을 점진적으로 변화시키는 것이 용이하지 않은 문제가 발생될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, by adjusting the relationship between the content of the nanopore per unit volume of one unit diffraction region and the content of the nanopore per unit volume of the adjacent one unit diffraction region to the above-described range , The refractive index can be gradually and effectively changed from one side to the other side of the diffraction region. When the relationship between the content of the nanopore per unit volume of one unit diffraction region and the content of the nanopore per unit volume of the other unit diffraction region adjacent to the unit diffraction region is out of the above range, It is not easy to change the refractive index of the diffractive region gradually, or the refractive index of the diffractive region may not be changed gradually from one side to the other side of the diffractive region.

일 예로, 상기 회절 영역이 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 구비되는 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역, 제3 단위 회절 영역을 포함하는 경우, 제2 단위 회절 영역의 나노포어의 함량은 제1 단위 회절 영역의 나노포어의 함량의 0.7 배, 제3 단위 회절 영역의 나노포어의 함량은 제2 단위 회절 영역의 나노포어의 함량의 0.7 배일 수 있다. 상기 회절 영역은 광이 입사되는 제1 회절 영역일 수 있고, 상기 회절 도광판에서 광이 출사되는 영역인 제3 회절 영역일 수 있고, 또는 제1 회절 영역에 입사된 광을 제3 회절 영역으로 확장하는 제2 회절 영역일 수도 있다.For example, when the diffraction region includes a first unit diffraction region, a second unit diffraction region, and a third unit diffraction region provided along the other lateral direction on one side of the diffraction region, the nanopores of the second unit diffraction region May be 0.7 times the content of the nanopore in the first unit diffractive region, and the content of the nanopore in the third unit diffractive region may be 0.7 times the content of the nanopore in the second unit diffractive region. The diffractive region may be a first diffractive region on which light is incident and may be a third diffractive region that is a region where light is emitted from the diffractive light guide plate, Or the second diffractive region.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 2 이상의 단위 회절 영역을 포함하는 회절 영역을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 6은 제1 단위 회절 영역(231), 제2 단위 회절 영역(232), 제3 단위 회절 영역(233)을 포함하는 제3 회절 영역(230)을 나타낸 것으로, 제1 단위 회절 영역(231), 제2 단위 회절 영역(232), 제3 단위 회절 영역(233) 순으로 나노포어의 함량이 감소되는 것을 나타낸 도면이다.6 is a view schematically showing a diffraction region including two or more unit diffraction regions according to an embodiment of the present invention. 6 shows a third diffractive zone 230 including a first unit diffractive region 231, a second unit diffractive region 232 and a third unit diffractive region 233, The second unit diffraction region 232, and the third unit diffraction region 233 in the order of the region 231, the second unit diffraction region 232, and the third unit diffraction region 233.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역의 일측면에 인접한 상기 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 35 % 이상 60 % 이하이고, 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 상기 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 0 % 이상 5 % 이하일 수 있다. 즉, 상기 회절 영역의 일측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률은 35 % 이상 60 % 이하이고, 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률은 0 % 이상 5 % 이하일 수 있다. 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률이 0%인 경우에도, 상기 회절 영역에 포함되는 회절 격자 패턴에 의해 상기 단위 회절 영역에서도 광이 회절될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the content of the nanopore per unit volume of the unit diffractive region adjacent to one side of the diffractive region is 35% or more and 60% or less, and the unit diffractive region The content of the nanopore per unit volume may be 0% or more and 5% or less. That is, the porosity of the unit diffractive region adjacent to one side of the diffractive region is 35% or more and 60% or less due to the nanopores, and the porosity of the unit diffractive region adjacent to the other side of the diffractive region is 0% % ≪ / RTI > The light can be diffracted by the diffraction grating pattern included in the diffraction area even in the case where the porosity due to the nanopores in the unit diffraction area adjacent to the other side of the diffraction area is 0%.

또한, 상기 회절 영역의 일측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률은 40 % 이상 60 % 이하, 45 % 이상 55 % 이하, 50 % 이상 55 % 이하, 40 % 이상 55 % 이하, 40 % 이상 50 % 이하, 40 % 이상 45 % 이하일 수 있다. 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률은 1 % 이상 5 % 이하, 2 % 이상 4.5 % 이하, 2.5 % 이상 3.5 % 이하, 1 % 이상 4 % 이하, 1.5 % 이상 3 % 이하일 수 있다.The porosity of the unit diffractive region adjacent to one side of the diffractive region is 40% to 60%, 45% to 55%, 50% to 55%, 40% to 55%, 40% Or more and 50% or less, and 40% or more and 45% or less. The porosity of the unit diffractive region adjacent to the other side of the diffractive region is 1% to 5%, 2% to 4.5%, 2.5% to 3.5%, 1% to 4%, 1.5% % ≪ / RTI >

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역의 일측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률 및 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률을 전술한 범위로 조절함으로써, 회절 영역의 전 영역에서 회절되는 광량을 동일하게 제어하는 것이 용이할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the porosity of the unit diffractive region adjacent to one side of the diffractive region and the porosity of the unit diffractive region adjacent to the other side of the diffractive region are adjusted to the above- It is easy to control the amount of light diffracted in the entire area of the diffractive area to be the same.

일 예로, 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면을 따라 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역, 제3 단위 회절 영역, 제4 단위 회절 영역 등 제n 단위 회절 영역을 포함하는 경우, 상기 회절 영역의 일측면에 인접한 제1 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률은 40 % 이상 60 % 이하이고, 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 제n 단위 회절 영역의 나노포어에 의한 공극률은 0 % 이상 5 % 이하일 수 있다. 즉, 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역, 제3 단위 회절 영역, 제4 단위 회절 영역 및 제n 단위 회절 영역 순으로 나노포어에 의한 공극률이 점진적으로 감소될 수 있고, 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역, 제3 단위 회절 영역, 제4 단위 회절 영역 및 제n 단위 회절 영역 순으로 광굴절률이 점진적으로 증가될 수 있다. 상기 회절 영역은 광이 입사되는 제1 회절 영역일 수 있고, 상기 회절 도광판에서 광이 출사되는 영역인 제3 회절 영역일 수 있고, 또는 제1 회절 영역에 입사된 광을 제3 회절 영역으로 확장하는 제2 회절 영역일 수도 있다.For example, when an n-th unit diffraction region such as a first unit diffraction region, a second unit diffraction region, a third unit diffraction region, and a fourth unit diffraction region is included along one side of the diffractive region on the other side, Wherein the porosity of the first unit diffractive region adjacent to one side of the region is 40% or more and 60% or less, and the porosity of the n-th unit diffractive region adjacent to the other side of the diffractive region is 0% % ≪ / RTI > That is, the porosity due to the nanopores can be gradually reduced in the order of the first unit diffraction region, the second unit diffraction region, the third unit diffraction region, the fourth unit diffraction region, and the n th unit diffraction region, Region, the second unit diffraction region, the third unit diffraction region, the fourth unit diffraction region, and the n-th unit diffraction region. The diffractive region may be a first diffractive region on which light is incident and may be a third diffractive region that is a region where light is emitted from the diffractive light guide plate, Or the second diffractive region.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판은 2 이상의 회절 영역을 포함할 수 있으며, 2 이상의 회절 영역 각각은 2 이상의 단위 회절 영역을 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 회절 도광판은 제1 회절 영역, 제2 회절 영역 및 제3 회절 영역을 포함할 수 있으며, 상기 제2 회절 영역은 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역 및 제3 단위 회절을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제3 회절 영역은 제1 단위 회절 영역, 제2 단위 회절 영역 및 제3 단위 회절을 포함할 수 있다.Also, according to an embodiment of the present invention, the diffracting light guide plate may include two or more diffractive areas, and each of the two or more diffractive areas may include two or more unit diffractive areas. For example, the diffractive light guide plate may include a first diffractive region, a second diffractive region, and a third diffractive region, and the second diffractive region may include a first unit diffractive region, a second unit diffractive region, . The third diffractive region may include a first unit diffraction region, a second unit diffraction region, and a third unit diffraction.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판의 두께는 100 nm 이상 1,000 nm 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 도광판의 두께는 200 nm 이상 900 nm 이하, 300 nm 이상 750 nm 이하, 400 nm 이상 600 nm 이하, 450 nm 이상 550 nm 이하, 100 nm 이상 600 nm 이하, 200 nm 이상 500 nm 이하, 300 nm 이상 400 nm 이하, 400 nm 이상 900 nm 이하, 500 nm 이상 800 nm 이하, 600 nm 이상 700 nm 이하일 수 있다. 전술한 범위의 두께를 가지는 회절 도광판은 광 회절효율이 우수할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the thickness of the diffracting light guide plate may be 100 nm or more and 1,000 nm or less. Specifically, the thickness of the diffracting light guide plate is 200 nm or more and 900 nm or less, 300 nm or more and 750 nm or less, 400 nm or more and 600 nm or less, 450 nm or more and 550 nm or less, 100 nm or more and 600 nm or less, , 300 nm or more and 400 nm or less, 400 nm or more and 900 nm or less, 500 nm or more and 800 nm or less, and 600 nm or more and 700 nm or less. The diffraction light guide plate having the thickness in the above-mentioned range can have excellent light diffraction efficiency.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 도광판은 기재를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 회절 도광판의 일면은 회절 격자 패턴을 포함할 수 있고, 상기 회절 도광판의 타면 상에 기재가 구비될 수 있다. 상기 기재의 광굴절률은 1.3 이상 2.0 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 기재의 광굴절률은 1.5 이상 1.9 이하, 1.7 이상 1.8 이하일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the diffraction light guide plate may include a substrate. Specifically, one surface of the diffraction light guide plate may include a diffraction grating pattern, and a substrate may be provided on the other surface of the diffraction light guide plate. The refractive index of the substrate may be 1.3 or more and 2.0 or less. Specifically, the refractive index of the substrate may be 1.5 or more and 1.9 or less and 1.7 or more and 1.8 or less.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기재를 포함하는 회절 도광판을 개략적으로 나타낸 도면이다. 구체적으로, 도 7은 회절 격자 패턴을 포함하는 제1 회절 영역(210), 제2 회절 영역(220) 및 제3 회절 영역(230)과 타면 상에 구비되는 기재를 포함하는 회절 도광판을 나타낸 도면이다.7 is a view schematically showing a diffraction light guide plate including a substrate according to an embodiment of the present invention. 7 shows a diffracting light guide plate including a first diffractive zone 210, a second diffractive zone 220 and a third diffractive zone 230 including a diffraction grating pattern and a substrate provided on the other surface to be.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회절 영역에서의 광굴절률, 상기 기재의 광굴절률 등은 당업계에서 일반적으로 광굴절률을 측정하는 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 일 예로, 프리즘커플러(SPA-4000)를 사용하여 광굴절률을 측정하거나, 엘립소미터(ellipsometry)를 사용하여 광굴절률을 측정할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the refractive index of the diffractive region, the refractive index of the substrate, and the like can be measured by a method of measuring the refractive index in general. For example, the photorefractive index can be measured using a prism coupler (SPA-4000), or the optical refraction index can be measured using an ellipsometry.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 범위의 광굴절률을 가지는 기재는 입사되는 광에 대한 회절 성능이 우수할 수 있다. 상기 기재는 TiO2, Al2O3, Ga2O3, TeO2, ZrO2, Ta2O5, Nb2O5, ZnS, HfO, MoO, CuO 등의 고굴절 성분 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다만, 상기 기재에 포함되는 고굴절 성분을 제한하는 것은 아니다. 상기 기재에 포함되는 고굴절 성분의 함량, 종류 등을 조절하여, 상기 기재의 광굴절률을 제어할 수 있다. 또한, 상기 기재는 상기 고굴절 성분을 포함하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아마이드 필름 및 폴리카보네이트 필름 등의 수지 필름, 유리 필름, 석영 필름 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a base material having a refractive index in the above range may have excellent diffraction performance with respect to incident light. The substrate may include at least one of TiO 2, Al 2 O 3, Ga 2 O 3, TeO 2, ZrO 2, Ta 2 O 5, Nb 2 O 5, the high refractive index components, such as ZnS, HfO, MoO, CuO have. However, the high refractive index component contained in the substrate is not limited. The refractive index of the base material can be controlled by controlling the content and type of the high refractive index component contained in the base material. The substrate may include at least one of a resin film such as a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film, a polyamide film and a polycarbonate film, a glass film, and a quartz film containing the high-refraction component .

본 발명의 다른 실시예는 열경화성 화합물을 포함하는 제1 조성물, 및 열경화성 화합물 및 광분해성 화합물을 포함하는 제2 조성물을 준비하는 단계; 기재 상의 일 영역에 상기 제2 조성물을 도포하고, 상기 기재 상의 타 영역에 상기 제1 조성물을 도포하는 단계; 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 열경화하여, 고분자 매트릭스를 형성하는 단계; 및 상기 고분자 매트릭스에 광조사를 하여 상기 광분해성 화합물이 나노포어를 형성시키는 단계;를 포함하고, 상기 기재 상의 일 영역은 상기 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 단위 영역별로 조절하여, 상기 일 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 점진적으로 증가하는 것인 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판의 제조 방법을 제공한다.Another embodiment of the present invention is directed to a method of preparing a composition comprising: preparing a first composition comprising a thermosetting compound, and a second composition comprising a thermosetting compound and a photodegradable compound; Applying the second composition to one region of the substrate and applying the first composition to another region of the substrate; Thermosetting the first composition and the second composition to form a polymer matrix; And a step of irradiating the polymer matrix with light to form nanopores, wherein one region on the substrate controls the content of the nanopores in the polymer matrix by unit regions, And the refractive index gradually increases from one side to the other side of the diffractive optical waveguide according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 일측면으로부터 타측면을 따라, 광굴절률이 점진적으로 변화되는 영역을 포함하는 회절 도광판을 용이하게 제조할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, it is possible to easily manufacture a diffraction light guide plate including a region in which the refractive index of light is gradually changed along the other side from one side.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 열경화성 화합물은 열경화되어 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트 등의 아크릴계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지 및 폴리에스테르 수지 중 하나를 형성할 수 있는 화합물을 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 열경화성 화합물은 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트를 포함할 수 있으며, 상기 열경화성 화합물은 열경화되어 아크릴계 수지를 형성할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the thermosetting compound is thermally cured to form one of an acrylic resin such as urethane acrylate and epoxy acrylate, a polyamide resin, a polyimide resin, a silicone resin, an epoxy resin and a polyester resin ≪ / RTI > For example, the thermosetting compound may include dipentaerythritol hexaacrylate, and the thermosetting compound may thermally cure to form an acrylic resin.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 기재의 광굴절률은 1.3 이상 2.0 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 기재의 광굴절률은 1.5 이상 1.9 이하, 1.7 이상 1.8 이하일 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the refractive index of the substrate may be 1.3 or more and 2.0 or less. Specifically, the refractive index of the substrate may be 1.5 or more and 1.9 or less and 1.7 or more and 1.8 or less.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 범위의 광굴절률을 가지는 기재는 입사되는 광에 대한 회절 성능이 우수할 수 있다. 상기 기재는 TiO2, Al2O3, Ga2O3, TeO2, ZrO2, Ta2O5 Nb2O5, ZnS, HfO, MoO, CuO 등의 고굴절 성분 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다만, 상기 기재에 포함되는 고굴절 성분을 제한하는 것은 아니다. 상기 기재에 포함되는 고굴절 성분의 함량, 종류 등을 조절하여, 상기 기재의 광굴절률을 제어할 수 있다. 또한, 상기 기재는 상기 고굴절 성분을 포함하는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아마이드 필름 및 폴리카보네이트 필름 등의 수지 필름, 유리 필름, 석영 필름 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a base material having a refractive index within the above range may have excellent diffraction performance with respect to incident light. The substrate may include at least one of TiO 2, Al 2 O 3, Ga 2 O 3, TeO 2, ZrO 2, Ta 2 O 5 Nb 2 O 5, the high refractive index components, such as ZnS, HfO, MoO, CuO . However, the high refractive index component contained in the substrate is not limited. The refractive index of the base material can be controlled by controlling the content and type of the high refractive index component contained in the base material. The substrate may include at least one of a resin film such as a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film, a polyamide film and a polycarbonate film, a glass film, and a quartz film containing the high-refraction component .

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 도포하는 단계는 당업계에서 사용되는 일반적인 방법을 이용하여 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 기재의 일면 상에 도포할 수 있다. 구체적으로, 바 코팅, 블레이드 코팅, 슬롯 다이 코팅, 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 그라비아 코팅, 잉크젯 프린팅, 또는 이들을 조합한 방법을 사용할 수 있다. 특히, 잉크젯 프린팅 방법을 이용하여 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 도포할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the applying step may be performed by applying the first composition and the second composition on one side of the substrate using a general method used in the art. Specifically, bar coating, blade coating, slot die coating, spray coating, spin coating, gravure coating, inkjet printing, or a combination thereof may be used. In particular, the first composition and the second composition may be applied using an inkjet printing method.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 열경화하여, 고분자 매트릭스를 형성할 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 조성물을 열경화함으로써, 광분해성 화합물을 포함하는 고분자 매트릭스를 상기 기재의 일 영역 상에 형성할 수 있다. 또한, 상기 제1 조성물을 열경화함으로써, 광분해성 화합물이 포함되지 않은 고분자 매트릭스를 상기 기재의 타 영역 상에 형성할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the first composition and the second composition may be thermally cured to form a polymer matrix. Specifically, a polymer matrix containing a photodegradable compound can be formed on one region of the substrate by thermosetting the second composition. Further, by polymerizing the first composition, a polymer matrix not containing the photodegradable compound can be formed on another region of the substrate.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 고분자 매트릭스를 형성하는 단계는 150 ℃ 이상 210 ℃ 이하의 온도에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 150 ℃ 이상 200 ℃ 이하, 160 ℃ 이상 180 ℃ 이하, 150 ℃ 이상 170 ℃ 이하, 170 ℃ 이상 210 ℃ 이하, 180 ℃ 이상 200 ℃ 이하, 200 ℃ 이상 210 ℃ 이하의 온도에서 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 열경화시킬 수 있다. 상기 범위의 온도 조건에서 상기 제1 조성물 및 제2 조성물을 경화시킴으로써, 균질한 물성을 보유하는 고분자 매트릭스를 형성할 수 있으며, 제1 조성물 및 제2 조성물이 완전하게 경화되지 않은 것을 방지할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the step of forming the polymer matrix may be performed at a temperature of 150 ° C or more and 210 ° C or less. Concretely, at a temperature of not less than 150 ° C. and not more than 200 ° C., not less than 160 ° C. and not more than 180 ° C, not less than 150 ° C and not more than 170 ° C, not less than 170 ° C nor more than 210 ° C, The composition and the second composition can be thermoset. By curing the first composition and the second composition at the temperature range of the above range, a polymer matrix having homogeneous physical properties can be formed, and the first composition and the second composition can be prevented from being completely cured .

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 나노포어를 형성하는 단계는 상기 고분자 매트릭스에 광조사를 하여, 상기 고분자 매트릭스에 포함된 광분해성 화합물을 광분해시킬 수 있다. 광분해성 화합물이 광분해됨에 따라, 상기 고분자 매트릭스 내에 광분해성 화합물이 위치한 곳에 나노포어가 형성될 수 있다. 상기 광분해성 화합물은 광에 의해 분해될 수 있는 바, 고분자 매트릭스를 형성하는 과정에서 광분해성 화합물이 분해되는 것을 방지하기 위하여, 열경화성 화합물을 포함하는 제2 조성물을 열경화시킬 수 있다. 제2 조성물이 광경화되어 고분자 매트릭스를 형성하는 경우, 제2 조성물이 광경화되는 과정에서 상기 광분해성 화합물이 분해될 수 있어, 고분자 매트릭스 내에 나노포어를 안정적으로 형성하는 것이 어려운 문제가 있다.According to another embodiment of the present invention, in the step of forming the nanopore, the polymer matrix may be irradiated with light to photo-decompose the photodegradable compound contained in the polymer matrix. As the photodegradable compound is photolyzed, nanopores can be formed where the photodegradable compound is located in the polymer matrix. Since the photodegradable compound can be decomposed by light, the second composition containing the thermosetting compound can be thermally cured to prevent the photodegradable compound from being decomposed in the process of forming the polymer matrix. When the second composition is photo-cured to form a polymer matrix, the photo-degradable compound can be decomposed in the course of photo-curing the second composition, which makes it difficult to stably form nanopores in the polymer matrix.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물을 광분해한 후, 분해산물을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 광분해성 화합물이 광분해됨에 따라, 고분자 매트릭스 내에 분해산물이 존재할 수 있다. 고분자 매트릭스 내에 분해산물이 존재하는 경우, 제조되는 회절 도광판의 품질 및 광회절효율이 저하될 수 있다. 이에, 상기 분해산물을 제거하기 위하여, 고분자 매트릭스를 메탄올 또는 아세트산에 약 10 분 정도 침지시킬 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the photodegradable compound may be photolyzed and then the decomposed product may be removed. As the photodegradable compound is photodegraded, the degradation product may be present in the polymer matrix. When the decomposition products are present in the polymer matrix, the quality and the light diffraction efficiency of the diffracted light guide plate to be produced may be lowered. In order to remove the decomposed product, the polymer matrix may be immersed in methanol or acetic acid for about 10 minutes.

따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물이 광분해됨에 따라 발생되는 분해산물을 제거함으로써, 제조되는 회절 도광판의 품질 및 광회절효율이 저하되는 것을 방지할 수 있다.Therefore, according to another embodiment of the present invention, it is possible to prevent the degradation of the quality and the light diffraction efficiency of the diffracted light guide plate produced by removing the decomposition products generated as the photodegradable compound is photodegraded.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물은 폴리알킬메타크릴레이트 블록을 함유하는 블록 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 폴리알킬메타크릴레이트에 함유된 알킬기는 1 이상 10 이하의 탄소를 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 블록 공중합체는 폴리메틸메타크릴레이트 블록, 폴리에틸메타크릴레이트 블록, 폴리프로필메타크릴레이트 블록, 폴리부틸메타크릴레이트 블록, 폴리펜틸메타크릴레이트 블록 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the photodegradable compound may comprise a block copolymer containing a polyalkyl methacrylate block. The alkyl group contained in the polyalkyl methacrylate may contain 1 to 10 carbon atoms. For example, the block copolymer may include at least one of a polymethyl methacrylate block, a polyethyl methacrylate block, a polypropyl methacrylate block, a polybutyl methacrylate block, and a polypentyl methacrylate block .

구체적으로, 상기 볼록 공중합체는 poly(styrene-b-methyl methacrylate) 블록 공중합체 및 poly(pentafluorostyrene)-b-PMMA 블록 공중합체 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Specifically, the convex copolymer may include at least one of a poly (styrene-b-methyl methacrylate) block copolymer and a poly (pentafluorostyrene) -b-PMMA block copolymer.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 고분자 매트릭스에 광조사를 함으로써, 상기 고분자 매트릭스 내에 존재하는 블록 공중합체의 폴리알킬메타크릴레이트 블록이 광분해되고, 폴리알킬메타크릴레이트 블록이 위치한 지점에 나노포어가 형성될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, by irradiating the polymer matrix with light, the polyalkyl methacrylate block of the block copolymer present in the polymer matrix is photolyzed, and at the point where the polyalkyl methacrylate block is located, .

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광조사는 상기 고분자 매트릭스에 자외선을 조사하는 것일 수 있으며, 250 nm 이상 350 nm 이하의 파장값을 가지는 자외선을 조사할 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 200 mJ/cm2 이상 400 mJ/cm2 이하의 세기를 갖는 램프를 이용하여, 250 nm 이상 350 nm 이하의 파장값을 가지는 자외선을 5 분 이상 20 분 이하의 시간 동안 조사할 수 있다. 상기 고분자 매트릭스에 자외선을 조사하는 시간을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 고분자 매트릭스 내에 나노포어를 안정적이고 효과적으로 형성할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the light irradiation may irradiate ultraviolet rays to the polymer matrix, and may irradiate an ultraviolet ray having a wavelength value of 250 nm or more and 350 nm or less. Specifically, according to one embodiment of the present invention, ultraviolet light having a wavelength of 250 nm or more and 350 nm or less is irradiated for 20 minutes to 20 minutes using a lamp having an intensity of 200 mJ / cm 2 to 400 mJ / cm 2 or less. Min or less. By adjusting the time for irradiating the polymer matrix with ultraviolet rays to the above range, it is possible to stably and effectively form nanopores in the polymer matrix.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 기재 상의 일 영역에 구비되는 상기 고분자 매트릭스 내 나노포어의 함량을 단위 영역별로 조절하여, 상기 일 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률을 점진적으로 증가시킬 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 일 영역은 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 영역과 대응될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, it is possible to gradually increase the refractive index from one side to the other side of the one region by adjusting the content of nanopores in the polymer matrix provided in one region on the substrate, have. One region according to another embodiment of the present invention may correspond to a diffraction region according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 일 영역은 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면 방향을 따라 구획되는 2 이상의 단위 영역을 포함할 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 단위 영역은 본 발명의 일 실시예에 따른 단위 회절 영역과 대응될 수 있다. 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면 방향으로 상기 단위 영역 상에 구비된 고분자 매트릭스의 나노포어 함량을 점진적으로 감소시켜, 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면까지 광굴절률을 점진적으로 증가시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 일 영역에 포함되는 2 이상의 단위 영역 상에 각각 고분자 매트릭스가 구비될 수 있으며, 상기 단위 영역 상에 각각 구비된 고분자 매트릭스의 나노포어 함량은 서로 상이할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the one region may include two or more unit regions that are separated from one side of the one region along the other side direction. The unit area according to another embodiment of the present invention may correspond to a unit diffraction area according to an embodiment of the present invention. The nanopore content of the polymer matrix provided on the unit area from one side to the other side of the one area can be gradually decreased to gradually increase the optical refraction index from one side to the other side of the one area. Specifically, the polymer matrix may be provided on at least two unit regions included in the one region, and the nanopore content of the polymer matrix provided on the unit region may be different from each other.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제2 조성물에 포함되는 상기 광분해성 화합물의 함량 및 상기 광분해성 화합물의 중량평균분자량 중 적어도 하나를 조절하여, 상기 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 단위 영역별로 조절할 수 있다. 또한, 상기 블록 공중합체에 포함되는 상기 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량을 조절하여, 상기 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 단위 영역별로 조절할 수 있다. 즉, 상기 일 영역 상에 구비된 고분자 매트릭스 내의 나노포어 함량은, 제2 조성물에 포함되는 광분해성 화합물의 함량, 광분해성 화합물의 중량평균분자량 및 블록 공중합체에 포함되는 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량 중 적어도 하나를 조절하여 제어할 수 있다. 일 예로, 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면방향으로 제1 단위 영역, 제2 단위 영역, 제3 단위 영역이 구획되는 경우, 제1 단위 영역, 제2 단위 영역 및 제3 단위 영역 각각에 도포되는 제2 조성물에 포함되는 광분해성 화합물의 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 제1 단위 영역, 제2 단위 영역 및 제3 단위 영역 각각에 도포되는 제2 조성물에 포함되는 광분해성 화합물의 중량평균분자량을 점진적으로 감소시킬 수 있다. 또한, 제1 단위 영역, 제2 단위 영역 및 제3 단위 영역 각각에 도포되는 제2 조성물에 포함되는 블록 공중합체의 폴리알킬메타크릴레이트 블록 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다.According to another embodiment of the present invention, at least one of the content of the photodegradable compound contained in the second composition and the weight-average molecular weight of the photodegradable compound is controlled so that the content of the nanopore in the polymer matrix Can be adjusted. In addition, the content of the nanopore in the polymer matrix can be controlled for each unit region by controlling the content of the polyalkyl methacrylate block contained in the block copolymer. That is, the content of the nanopore in the polymer matrix provided on the one region is determined by the content of the photodegradable compound contained in the second composition, the weight average molecular weight of the photodegradable compound and the weight average molecular weight of the polyalkyl methacrylate block At least one of the contents can be controlled and controlled. For example, when the first unit area, the second unit area, and the third unit area are partitioned from one side of the one area to the other, the first unit area, the second unit area, and the third unit area, It is possible to gradually reduce the content of the photodegradable compound contained in the second composition. In addition, the weight average molecular weight of the photodegradable compound contained in the second composition applied to each of the first unit region, the second unit region and the third unit region can be gradually reduced. In addition, the polyalkyl methacrylate block content of the block copolymer contained in the second composition applied to the first unit area, the second unit area and the third unit area can be gradually reduced.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물의 함량은 상기 제2 조성물 100 중량부에 대하여 0 중량부 초과 50 중량부 이하일 수 있다. 제2 조성물에 포함되는 광분해성 화합물의 함량을 전술한 범위로 조절함으로써, 제조되는 회절 도광판의 광굴절률을 효과적으로 제어할 수 있고, 회절 도광판의 기계적 물성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 제2 조성물에 포함되는 광분해성 화합물의 함량이 제2 조성물 100 중량부에 대하여 50 중량부를 초과하는 경우, 고분자 매트릭스 내에 형성되는 나노포어의 함량이 많아, 회절되는 광경로를 방해하는 문제가 발생될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the content of the photodegradable compound may be 0 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the second composition. By adjusting the content of the photodegradable compound contained in the second composition to the above-mentioned range, it is possible to effectively control the optical refractive index of the diffracted light guide plate to be produced, and to prevent the mechanical properties of the diffractive light guide plate from being deteriorated. When the content of the photodegradable compound contained in the second composition is more than 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the second composition, the content of the nanopore formed in the polymer matrix is large, .

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물의 함량이 상이한 제2 조성물을 2 이상 준비하고, 2 이상의 상기 제2 조성물 각각을 상기 일 영역 상에 구획되는 2 이상의 단위 영역 각각에 도포할 수 있다. 일 예로, 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면방향으로 제1 단위 영역, 제2 단위 영역, 제3 단위 영역이 구획되는 경우, 광분해성 화합물의 함량이 30 중량부인 제2 조성물을 상기 제1 단위 영역 상에 도포하고, 광분해성 화합물의 함량이 20 중량부인 제2 조성물을 상기 제2 단위 영역 상에 도포하고, 광분해성 화합물의 함량이 10 중량부인 제2 조성물을 상기 제3 단위 영역 상에 도포할 수 있다. 이후, 상기 제1 단위 영역, 제2 단위 영역 및 제3 단위 영역 상에 도포된 제2 조성물을 열경화시켜 고분자 매트릭스를 형성하고, 고분자 매트릭스에 광조사를 하여, 상기 일 영역의 일 측면으로부터 타측면 방향으로 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다. 상기 나노포어의 함량이 점진적으로 감소됨에 따라, 상기 일 영역에서의 광굴절률은 일 측면으로부터 타측면 방향으로 점진적으로 증가될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, two or more second compositions having different amounts of the photodegradable compound may be prepared, and each of the two or more second compositions may be applied to each of two or more unit areas partitioned on the one area have. For example, when the first unit area, the second unit area, and the third unit area are partitioned from one side to the other side of the one area, the second composition having the photodegradable compound content of 30 parts by weight is divided into the first unit And a second composition having a photodegradable compound content of 20 parts by weight is applied on the second unit area, and a second composition having a photodegradable compound content of 10 parts by weight is coated on the third unit area can do. Thereafter, the second composition applied on the first unit region, the second unit region and the third unit region is thermally cured to form a polymer matrix, the polymer matrix is irradiated with light, and light is irradiated from one side of the one region The content of the nanopore in the polymer matrix in the lateral direction can be gradually reduced. As the content of the nanopore is gradually reduced, the refractive index in one region may be gradually increased from one side to the other side.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물의 중량평균분자량은 30,000 g/mol 이상 200,000 g/mol 이하일 수 있다. 제2 조성물에 포함되는 광분해성 화합물의 중량평균분자량을 전술한 범위로 조절함으로써, 제조되는 회절 도광판의 내구성, 강도 등의 기계적 물성이 저하되는 문제가 발생될 수 있다. 상기 광분해성 화합물의 중량평균분자량이 30,000 g/mol 미만인 경우에는 광굴절률을 효과적으로 제어할 수 있는 직경을 가지는 나노포어를 형성하는 것이 용이하지 않으며, 상기 광분해성 화합물의 중량평균분자량이 200,000 g/mol을 초과하는 경우에는 형성되는 나노포어의 직경이 커 회절 도광판의 기계적 물성이 저하될 수 있고, 회절되는 광경로를 제어하는 것이 용이하지 않을 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the weight average molecular weight of the photodegradable compound may be 30,000 g / mol or more and 200,000 g / mol or less. When the weight average molecular weight of the photodegradable compound contained in the second composition is adjusted to the above-mentioned range, the mechanical properties such as durability and strength of the diffracted light guide plate may be deteriorated. When the weight average molecular weight of the photodegradable compound is less than 30,000 g / mol, it is not easy to form a nanopore having a diameter capable of effectively controlling the refractive index of the photodegradable compound. When the photodegradable compound has a weight average molecular weight of 200,000 g / mol The mechanical properties of the diffraction light guide plate may be deteriorated, and it may not be easy to control the diffracted light path.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 광분해성 화합물의 중량평균분자량이 상이한 제2 조성물을 2 이상 준비하고, 2 이상의 상기 제2 조성물 각각을 상기 일 영역 상에 구획되는 2 이상의 단위 영역 각각에 도포할 수 있다. 일 예로, 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면방향으로 제1 단위 영역, 제2 단위 영역, 제3 단위 영역이 구획되는 경우, 광분해성 화합물의 중량평균분자량이 200,000 g/mol인 제2 조성물을 상기 제1 단위 영역 상에 도포하고, 광분해성 화합물의 중량평균분자량이 150,000 g/mol인 제2 조성물을 상기 제2 단위 영역 상에 도포하고, 광분해성 화합물의 중량평균분자량이 100,000 g/mol인 제2 조성물을 상기 제3 단위 영역 상에 도포할 수 있다. 이후, 상기 제1 단위 영역, 제2 단위 영역 및 제3 단위 영역 상에 도포된 제2 조성물을 열경화시키고 광조사하여, 상기 일 영역의 일 측면으로부터 타측면 방향으로 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다.According to another embodiment of the present invention, two or more second compositions having different weight average molecular weights of the photodegradable compounds are prepared, and each of the two or more second compositions is applied to each of two or more unit areas partitioned on the one area can do. For example, when the first unit region, the second unit region, and the third unit region are partitioned from one side of the one region to the other, the second composition having a weight average molecular weight of 200,000 g / mol of the photo- A second composition having a weight average molecular weight of 150,000 g / mol is applied on the second unit area, and the weight average molecular weight of the photodegradable compound is 100,000 g / mol The second composition may be applied on the third unit area. Thereafter, the second composition applied on the first unit area, the second unit area and the third unit area is thermally cured and light-irradiated to form a plurality of nanopores in the polymer matrix from one side to the other side of the one area The content can be gradually reduced.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 블록 공중합체에 포함되는 상기 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량은 10 몰% 이상 40 몰% 이하일 수 있다. 제2 조성물에 포함되는 블록 공중합체의 폴리알킬메타크릴레이트 블록 함량을 전술한 범위로 조절함으로써, 제조되는 회절 도광판의 광굴절률을 효과적으로 제어할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the content of the polyalkyl methacrylate block contained in the block copolymer may be 10 mol% or more and 40 mol% or less. By adjusting the polyalkyl methacrylate block content of the block copolymer contained in the second composition to the above-mentioned range, it is possible to effectively control the optical refraction index of the diffractive light guide plate to be produced.

상기 블록 공중합체에 포함되는 상기 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량이 상이한 제2 조성물을 2 이상 준비하고, 2 이상의 상기 제2 조성물 각각을 상기 일 영역 상에 구획되는 2 이상의 단위 영역 각각에 도포할 수 있다. 일 예로, 상기 일 영역의 일측면으로부터 타측면방향으로 제1 단위 영역, 제2 단위 영역, 제3 단위 영역이 구획되는 경우, 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량이 30 몰%인 블록 공중합체를 포함하는 제2 조성물을 상기 제1 단위 영역 상에 도포하고, 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량이 20 몰%인 블록 공중합체를 포함하는 제2 조성물을 상기 제2 단위 영역 상에 도포하고, 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량이 10 몰%인 블록 공중합체를 포함하는 제2 조성물을 상기 제3 단위 영역 상에 도포할 수 있다. 이후, 상기 제1 단위 영역, 제2 단위 영역 및 제3 단위 영역 상에 도포된 제2 조성물을 열경화시키고 광조사하여, 상기 일 영역의 일 측면으로부터 타측면 방향으로 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 점진적으로 감소시킬 수 있다.At least two second compositions having different contents of the polyalkyl methacrylate blocks contained in the block copolymer are prepared and each of the at least two second compositions is applied to each of two or more unit areas partitioned on the one area . For example, when the first unit region, the second unit region, and the third unit region are partitioned from one side of the one region to the other, a block copolymer having a polyalkyl methacrylate block content of 30 mol% A second composition comprising a block copolymer having a polyalkyl methacrylate block content of 20 mol% is applied on the second unit area, and a poly A second composition comprising a block copolymer having an alkyl methacrylate block content of 10 mol% can be applied on the third unit area. Thereafter, the second composition applied on the first unit area, the second unit area and the third unit area is thermally cured and light-irradiated to form a plurality of nanopores in the polymer matrix from one side to the other side of the one area The content can be gradually reduced.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제2 조성물이 도포되는 일 영역은 상기 기재 상에 2 이상 구획될 수 있다. 구체적으로, 상기 기재 상에 제1 영역, 제2 영역, 제3 영역이 구획될 수 있으며, 상기 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역 상에 제2 조성물이 도포될 수 있다. 이후, 도포된 제2 조성물을 열경화시키고 광조사하여, 나노포어를 포함하는 고분자 매트릭스를 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역 상에 형성할 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 회절 영역, 제2 회절 영역 및 제3 회절 영역과 각각 대응될 수 있다. 상기 제1 영역, 제2 영역 및 제3 영역 각각은 2 이상의 단위 영역을 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, one region to which the second composition is applied may be partitioned into two or more on the substrate. Specifically, the first region, the second region, and the third region may be partitioned on the substrate, and the second composition may be applied on the first region, the second region, and the third region. Thereafter, the coated second composition may be thermally cured and light-irradiated to form a polymer matrix containing nanopores on the first region, the second region, and the third region. The first region, the second region, and the third region according to another embodiment of the present invention may correspond to the first diffraction region, the second diffraction region, and the third diffraction region, respectively, according to an embodiment of the present invention. Each of the first region, the second region, and the third region may include two or more unit regions.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 나노포어를 형성시키는 단계는 상기 광분해성 화합물이 분해되어 직경 100 nm 이하의 나노포어를 형성할 수 있다. 구제적으로, 상기 형성되는 나노포어의 직경은 10 nm 이상 100 nm 이하, 10 nm 이상 90 nm 이하, 20 nm 이상 80 nm 이하, 30 nm 이상 60 nm 이하, 40 nm 이상 50 nm 이하, 20 nm 이상 100 nm 이하, 30 nm 이상 90 nm 이하, 40 nm 이상 80 nm 이하, 50 nm 이상 70 nm 이하일 수 있고, 보다 구체적으로 20 nm 이상 40 nm 이하, 35 nm 이상 50 nm 이하, 50 nm 이상 80 nm 이하, 60 nm 이상 90 nm 이하일 수 있다. 상기 형성되는 나노포어의 직경을 전술한 범위로 조절함으로써, 상기 일 영역에서의 광굴절률을 효과적으로 제어할 수 있으며, 제조되는 회절 도광판의 기계적 물성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, in the step of forming the nanopore, the photodegradable compound may be decomposed to form a nanopore having a diameter of 100 nm or less. The diameter of the formed nanopore is 10 nm or more and 100 nm or less, 10 nm or more and 90 nm or less, 20 nm or more and 80 nm or less, 30 nm or more and 60 nm or less, 40 nm or more and 50 nm or less and 20 nm or more More preferably 20 nm or more and 40 nm or less, 35 nm or more and 50 nm or less, 50 nm or more and 80 nm or less and most preferably 50 nm or more and 70 nm or less, , 60 nm or more and 90 nm or less. By adjusting the diameter of the formed nanopore to the above-mentioned range, it is possible to effectively control the optical refractive index in the one region and to prevent the mechanical properties of the diffractive light guide plate from being lowered.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 제2 조성물 표면 상에 회절 격자 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 제1 조성물 표면 상에 회절 격자 패턴을 형성할 수도 있다. 상기 회절 격자 패턴을 형성하는 단계는 상기 고분자 매트릭스를 형성하는 단계 전에 수행될 수 있고, 상기 고분자 매트릭스를 형성하는 단계와 동시에 수행될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the method may further include forming a diffraction grating pattern on the surface of the second composition. In addition, a diffraction grating pattern may be formed on the surface of the first composition. The step of forming the diffraction grating pattern may be performed before the step of forming the polymer matrix, and may be performed simultaneously with the step of forming the polymer matrix.

따라서, 표면 상에 회절 격자 패턴이 구빈된 제1 조성물 및 제2 조성물을 열경화시킴으로써, 회절 격자 패턴이 표면에 구비된 고분자 매트릭스를 형성할 수 있다. 광분해성 화합물을 포함하지 않는 제1 조성물로부터 형성된 고분자 매트릭스는, 상기 회절 격자 패턴을 통해 상기 타 영역에서 광을 회절시킬 수 있다. 또한, 제2 조성물의 표면 상에만 회절 격자 패턴을 형성하고, 제1 조성물의 표면 상에는 회절 격자 패턴을 형성하지 않을 수도 있다.Therefore, by thermally curing the first composition and the second composition on which the diffraction grating pattern is superimposed on the surface, the polymer matrix having the diffraction grating pattern on the surface can be formed. The polymer matrix formed from the first composition that does not include the photodegradable compound can diffract light in the other region through the diffraction grating pattern. It is also possible to form a diffraction grating pattern only on the surface of the second composition and not to form a diffraction grating pattern on the surface of the first composition.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 회절 격자 패턴을 형성하는 단계는 상기 회결 격자 패턴이 음각된 몰드를 이용하여 상기 제2 조성물의 표면을 임프린팅할 수 있다. 상기 회절 격자 패턴의 형태를 고려하여, 상기 몰드를 제작할 수 있다. 또한, 상기 회결 격자 패턴이 음각된 몰드를 이용하여 상기 제1 조성물의 표면을 임프린팅할 수도 있다. According to another embodiment of the present invention, the step of forming the diffraction grating pattern may imprint the surface of the second composition using a mold having the grating pattern engraved therein. The mold can be manufactured in consideration of the shape of the diffraction grating pattern. In addition, the surface of the first composition may be imprinted using the mold having the recessed grating pattern engraved therein.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 나노포어를 형성하는 단계 이후, 상기 기재를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, after the step of forming the nanopore, the step of removing the substrate may be further included.

본 발명의 또 다른 실시예는 본 발명의 일 실시예에 따른 회절 도광판을 포함하는 디스플레이 유닛을 제공한다. 상기 디스플레이 유닛은 제공되는 영상을 증강현실(AR: Augmented Reality), 혼합현실(MR: Mixed Reality), 또는 가상현실(VR: Virtual Reality)로 구현할 수 있다.Another embodiment of the present invention provides a display unit including a diffusing light guide plate according to an embodiment of the present invention. The display unit may implement the provided image in Augmented Reality (AR), Mixed Reality (MR), or Virtual Reality (VR).

100: 회절 도광판
200: 회절 영역
210: 제1 회절 영역
220: 제2 회절 영역
230: 제3 회절 영역
231: 제1 단위 회절 영역
232: 제2 단위 회절 영역
233: 제3 단위 회절 영역
300: 나노포어
400: 패턴 단위체
500: 기재100: diffraction light guide plate
200: diffraction area
210: 1st diffraction region
220: second diffraction region
230: third diffraction region
231: first unit diffraction area
232: second unit diffraction region
233: third unit diffraction area
300: nanopore
400: pattern unit
500: substrate

Claims (17)

회절 도광판으로서,
상기 회절 도광판은 적어도 하나의 회절 영역을 포함하고,
상기 회절 영역은 일측면에서 타측면까지 점진적으로 광굴절률이 증가하며,
상기 회절 영역의 광굴절률은 고분자 매트릭스 내의 나노포어의 함량에 의하여 조절되는 것인 회절 도광판.As the diffraction light guide plate,
Wherein the diffractive light guide plate includes at least one diffractive region,
The refractive index of the diffractive region is gradually increased from one side to the other side,
Wherein the refractive index of the diffractive region is controlled by the content of nanopores in the polymer matrix. 청구항 1에 있어서,
상기 나노포어의 직경은 100 nm 이하인 것인 회절 도광판.The method according to claim 1,
And the diameter of the nanopore is 100 nm or less. 청구항 1에 있어서,
상기 회절 영역의 일측면에서 타측면 방향을 따라 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 점진적으로 감소되는 것인 회절 도광판.The method according to claim 1,
Wherein the content of the nanopore per unit volume of the diffractive region along the other lateral direction is gradually decreased. 청구항 1에 있어서,
상기 회절 영역은 서로 상이한 광굴절률을 가지는 단위 회절 영역을 2 이상 포함하고, 상기 단위 회절 영역은 상기 회절 영역의 일측면에서 타측면까지 점진적으로 광굴절률이 증가되도록 배치되는 것인 회절 도광판.The method according to claim 1,
Wherein the diffractive region includes two or more unit diffractive regions having different optical refractive indices, and the unit diffractive region is disposed such that the optical refractive index gradually increases from one side to the other side of the diffractive region. 청구항 4에 있어서,
상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률은 인접한 다른 하나의 단위 회절 영역의 광굴절률의 0.6 배 내지 0.95 배인 것인 회절 도광판.The method of claim 4,
Wherein the refractive index of one of the unit diffractive areas is 0.6 to 0.95 times the refractive index of another adjacent unit diffractive area. 청구항 4에 있어서,
상기 회절 영역의 일측면에 인접한 상기 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 35 % 이상 60 % 이하이고, 상기 회절 영역의 타측면에 인접한 상기 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 0 % 이상 5 % 이하인 것인 회절 도광판.The method of claim 4,
The content of the nanopore per unit volume of the unit diffractive region adjacent to the one side of the diffractive region is 35% or more and 60% or less, and the content of the nanopore per unit volume of the unit diffractive region adjacent to the other side of the diffractive region is And 0% or more and 5% or less. 청구항 4에 있어서,
상기 어느 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량은 인접한 다른 하나의 단위 회절 영역의 단위부피당 상기 나노포어의 함량의 0.7 배 내지 0.95 배인 것인 회절 도광판.The method of claim 4,
Wherein the content of the nanopore per unit volume of one unit diffractive region is 0.7 to 0.95 times the content of the nanopore per unit volume of another adjacent unit diffractive region. 청구항 1에 있어서,
상기 회절 영역은 회절 격자 패턴을 포함하는 것인 회절 도광판.The method according to claim 1,
And the diffraction area includes a diffraction grating pattern. 열경화성 화합물을 포함하는 제1 조성물, 및 열경화성 화합물 및 광분해성 화합물을 포함하는 제2 조성물을 준비하는 단계;
기재 상의 일 영역에 상기 제2 조성물을 도포하고, 상기 기재 상의 타 영역에 상기 제1 조성물을 도포하는 단계;
상기 제1 조성물 및 상기 제2 조성물을 열경화하여, 고분자 매트릭스를 형성하는 단계; 및
상기 고분자 매트릭스에 광조사를 하여 상기 광분해성 화합물이 나노포어를 형성시키는 단계;를 포함하고,
상기 기재 상의 일 영역은 상기 고분자 매트릭스 내 상기 나노포어의 함량을 단위 영역별로 조절하여, 상기 일 영역의 일측면에서 타측면까지 광굴절률이 점진적으로 증가하는 것인 청구항 1에 따른 회절 도광판의 제조 방법.Preparing a first composition comprising a thermosetting compound, and a second composition comprising a thermosetting compound and a photodegradable compound;
Applying the second composition to one region of the substrate and applying the first composition to another region of the substrate;
Thermosetting the first composition and the second composition to form a polymer matrix; And
And irradiating the polymer matrix with light to form the nanopore,
The method of manufacturing a diffracting light guide plate according to claim 1, wherein the one region on the substrate adjusts the content of the nanopores in the polymer matrix by unit area, and the optical refraction index gradually increases from one side to the other side of the one region . 청구항 9에 있어서,
상기 나노포어를 형성시키는 단계는 상기 광분해성 화합물이 분해되어 직경 100 nm 이하의 나노포어를 형성하는 것인 회절 도광판의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the step of forming the nanopores is such that the photodegradable compound is decomposed to form nanopores having a diameter of 100 nm or less. 청구항 9에 있어서,
상기 광분해성 화합물의 함량은 상기 제2 조성물 100 중량부에 대하여 0 중량부 초과 70 중량부 이하인 것인 회절 도광판의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the content of the photodegradable compound is from 0 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the second composition. 청구항 9에 있어서,
상기 광분해성 화합물의 중량평균분자량은 30,000 g/mol 이상 200,000 g/mol 이하인 것인 회절 도광판의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the photolytic compound has a weight average molecular weight of 30,000 g / mol or more and 200,000 g / mol or less. 청구항 9에 있어서,
상기 광분해성 화합물은 폴리알킬메타크릴레이트 블록을 함유하는 블록 공중합체를 포함하는 것인 회절 도광판의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the photodegradable compound comprises a block copolymer containing a polyalkyl methacrylate block. 청구항 13에 있어서,
상기 블록 공중합체에 포함되는 상기 폴리알킬메타크릴레이트 블록의 함량은 10 몰% 이상 40 몰% 이하인 것인 회절 도광판의 제조 방법.14. The method of claim 13,
Wherein the content of the polyalkyl methacrylate block in the block copolymer is 10 mol% or more and 40 mol% or less. 청구항 9에 있어서,
상기 고분자 매트릭스를 형성하는 단계는 150 ℃ 이상 210 ℃ 이하의 온도에서 수행되는 것인 회절 도광판의 제조 방법.The method of claim 9,
Wherein the step of forming the polymer matrix is performed at a temperature of 150 ° C or more and 210 ° C or less. 청구항 9에 있어서,
상기 제2 조성물 표면 상에 회절 격자 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것인 회절 도광판의 제조 방법.The method of claim 9,
And forming a diffraction grating pattern on the surface of the second composition. 청구항 16에 있어서,
상기 회절 격자 패턴을 형성하는 단계는 상기 회절 격자 패턴이 음각된 몰드를 이용하여 상기 제2 조성물의 표면을 임프린팅하는 것인 회절 도광판의 제조 방법.18. The method of claim 16,
Wherein the step of forming the diffraction grating pattern imprinting the surface of the second composition using a mold having the diffraction grating pattern engraved.
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