KR20180125077A - Apparatus for heating chemical and the method thereof - Google Patents

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Abstract

According to the present invention, when a liquid chemical having a high temperature is supplied by heating the liquid chemical of a manufacturing process of a substrate, a heat transmission unit having high thermal conductivity between a liquid chemical supply pipe and a heating unit is provided to evenly heat a circumference of the liquid chemical supply pipe and prevent imbalance and generation of bubbles caused by partially heating the circumference for a process accident to be prevented. To achieve this, according to the present invention, a liquid chemical heating apparatus comprises: a liquid chemical supply pipe providing a flow path through which a liquid chemical is supplied; a heat transmission unit provided in a circumference on an external side surface of the liquid chemical supply pipe; and a heating unit installed on an external side surface of the heat transmission unit.

Description

약액 가열 장치와 약액 가열 방법{APPARATUS FOR HEATING CHEMICAL AND THE METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of heating a chemical liquid,

본 발명은 약액 가열 장치와 약액 가열 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판의 제조 과정에서 약액 가열 장치를 이용하여 안정적으로 가열된 고온의 약액을 기판에 분사하여 기판의 제조 효율을 높이고 공정 불량을 방지하는 약액 가열 장치 및 약액 가열 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid heating apparatus and a chemical liquid heating method. More particularly, the present invention relates to a chemical liquid heating apparatus and a chemical liquid heating method, And a method of heating a chemical liquid.

일반적으로 반도체 소자의 제조과정으로는 리소그래피(lithography), 증착(Deposition) 및 식각(etching), 감광제(Photoresist)의 도포(Coating), 현상(Develop), 세정 및 건조공정이 있다. 상기 복수의 공정이 반복적으로 수행되며 여러 종류의 약액이 사용되는데, 약액의 온도가 높을수록 높아지는 에너지를 이용하기 위해 고온으로 가열된 약액을 주로 사용하고 있다. . Generally, the manufacturing process of a semiconductor device includes lithography, deposition and etching, coating of a photoresist, development, and cleaning and drying processes. The above-mentioned plural processes are repeatedly performed, and various kinds of chemical solutions are used. In order to utilize the energy that becomes higher as the temperature of the chemical solution increases, a chemical solution heated to a high temperature is mainly used. .

약액을 가열하는 방법으로는 약액이 저장되어 있는 약액공급부를 가열하는 방법과 약액공급부에 연결되어 기판에 약액을 공급하기 위한 유로인 약액공급관을 가열하는 방법이 있다. 이 중 약액공급부를 가열하여 약액의 온도를 높이는 방법에 의하면, 약액공급부에서 가열된 고온의 약액이 기판에 공급되기 위해 약액공급관을 따라 이동하는 동안 열손실이 일어날 수 있다는 문제가 있다. 상기 이동중의 열손실을 최소화하기 위해 약액공급관을 가열하여 약액의 온도를 높이는 방법을 주로 이용하는 추세에 있다. As a method of heating the chemical liquid, there is a method of heating the chemical liquid supply portion in which the chemical liquid is stored, and a method of heating the chemical liquid supply tube, which is a channel for supplying the chemical liquid to the substrate, connected to the chemical liquid supply portion. According to the method of increasing the temperature of the chemical solution by heating the chemical solution supply part, there is a problem that heat loss may occur while the chemical solution supplied from the chemical solution supply part is moved along the chemical solution supply tube to supply the chemical solution heated to the substrate. There is a tendency to mainly use a method of increasing the temperature of the chemical liquid by heating the chemical liquid supply pipe in order to minimize the heat loss during the movement.

도 1은 종래 기술에 의하여 약액공급관을 가열하는 약액 가열 장치의 구조를 나타낸 것이다.1 shows a structure of a chemical liquid heating apparatus for heating a chemical liquid supply pipe according to the prior art.

상기 약액 가열 장치는, 약액을 공급하는 약액공급부(미도시)와, 상기 약액공급부(미도시)에 연결되어 기판에 상기 약액을 공급하기 위한 유로인 약액공급관(100), 상기 약액공급관(100)의 외측면에 위치하며 상기 약액공급관(100)을 가열하여 상기 약액의 온도를 높이기 위한 가열부(Heater,H1,H2,H3)를 포함한다.The chemical liquid heating device includes a chemical liquid supply unit (not shown) for supplying a chemical liquid, a chemical liquid supply pipe 100 connected to the chemical liquid supply unit (not shown) to supply the chemical liquid to the substrate, And a heater (H1, H2, H3) positioned at an outer surface of the chemical solution supply pipe (100) for heating the chemical solution supply pipe (100) to raise the temperature of the chemical solution.

상기 약액은, 일정 온도 이상으로 가열되는 경우 기화하여 상기 약액공급관(100) 내부에 기포가 발생할 수 있다. 발생한 기포는 상기 약액이 상기 기판상에 공급될 때까지 없어지지 않고 패턴무너짐 등 기판의 불량을 야기할 수 있으므로, 상기 약액공급관(100)을 통과하는 약액의 온도가 일정 온도 이상으로 가열되지 않도록 가열부(H1,H2,H3)의 가동을 조절할 필요가 있다. When the chemical liquid is heated to a temperature higher than a predetermined temperature, vaporization may occur in the chemical liquid supply pipe 100. The bubbles generated may not be removed until the chemical liquid is supplied onto the substrate and may cause defects of the substrate such as pattern collapse and the like so that the temperature of the chemical liquid passing through the chemical liquid supply pipe 100 is not heated to a predetermined temperature or more, (H1, H2, H3) need to be adjusted.

또한 도 2에서 보이는 바와 같이, 상기 가열부(H)가 상기 약액공급관(100)의 일부 외측면에 접촉되어 있는 경우, 접촉되는 부위로부터 국부적으로 집중 가열될 수 있다. 이로 인해 상기 약액공급관(100)을 통과하는 약액 전체의 온도는 기포 발생 온도보다 낮더라도, 상기 가열부(H)가 상기 약액공급관(100)에 직접 접촉되는 부분의 약액은 과열되어 기포 발생 온도를 초과할 수 있다. 일례로, IPA의 증발 온도는 81℃ 이상이지만, 약액의 평균 온도가 76℃인 약액공급관(100) 내부에도 국부 과열로 인해 기포가 발생할 수 있다. 또한, 불균등하게 가열된 약액의 평균 온도가 최종 목표 온도에 달하지 못해 기판 제조 과정의 효율성이 떨어질 수 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 상기 약액공급관(100)을 통과하는 상기 약액이 골고루 고온으로 가열되어 기판의 제조 과정이 원활하게 이루어지도록 하는 방법이 다각적으로 모색되어지고 있다. 2, when the heating unit H is in contact with a part of the outer surface of the chemical liquid supply pipe 100, it can be concentratedly heated locally from the contacted portion. Therefore, even if the temperature of the entire chemical liquid passing through the chemical liquid supply pipe 100 is lower than the bubble generating temperature, the chemical liquid in the portion where the heating unit H directly contacts the chemical liquid supply pipe 100 is overheated, Can be exceeded. For example, the IPA has a vaporization temperature of 81 ° C or higher, but bubbles may be generated due to local overheating even in the chemical liquid supply pipe 100 having an average temperature of the chemical liquid of 76 ° C. In addition, the average temperature of the unevenly heated chemical solution may not reach the final target temperature, and the efficiency of the substrate manufacturing process may deteriorate. In order to solve such a problem, a method for smoothly manufacturing a substrate by heating the chemical liquid passing through the chemical liquid supply pipe 100 to a high temperature has been variously studied.

상기한 종래의 약액 가열 장치가 나타난 기술로는 대한민국 등록특허 10-0847590호가 공개되어 있다.Korean Patent Registration No. 10-0847590 is disclosed as a technique in which the aforementioned conventional chemical liquid heating apparatus is shown.

본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 약액공급관의 둘레를 골고루 가열하여 고온의 약액을 안정적으로 기판에 공급하는 데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to stably supply a high-temperature chemical liquid to a substrate by heating the periphery of a chemical liquid supply pipe uniformly.

또한, 약액의 유로인 약액공급관의 둘레를 골고루 가열하여, 국부적인 과열로 인한 기포의 발생을 막고 이로 인한 공정 사고를 방지하는 데 그 목적이 있다. It is also an object of the present invention to prevent the occurrence of bubbles due to local overheating by heating the periphery of the chemical liquid supply pipe, which is a flow path of the chemical liquid, uniformly, thereby preventing a process accident.

또한, 약액공급관의 내부에서 약액의 온도를 측정할 수 있는 온도계를 설치하여, 약액이 적절한 온도로 가열되고 있는지 확인하는 데 그 목적이 있다. It is also an object of the present invention to provide a thermometer capable of measuring the temperature of the chemical liquid inside the chemical liquid supply pipe to check whether the chemical liquid is heated to a proper temperature.

또한, 가열부가 가열되는 정도를 조절할 수 있는 온도조절장치를 설치하여, 약액이 적절한 온도로 가열되도록 하는 데 그 목적이 있다. It is also an object of the present invention to provide a temperature control device capable of controlling the degree of heating of the heating unit so that the chemical liquid is heated to an appropriate temperature.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위해 본 발명에 의한 약액 가열 장치는, 약액이 공급되는 유로를 제공하는 약액공급관과, 상기 약액공급관의 외측면 둘레에 구비되는 열전달부, 상기 열전달부의 외측면에 설치되는 가열부를 포함할 수 있다. In order to achieve the above-mentioned object, a chemical liquid heating apparatus according to the present invention comprises: a chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid; a heat transfer part provided around the outer surface of the chemical liquid supply pipe; And a heating unit.

상기 열전달부는 금속으로 이루어진 중공튜브로, 상기 약액공급관의 외측면과 상기 열전달부의 내측면이 접촉하도록 구성될 수 있다.The heat transfer part may be a hollow tube made of metal, and the outer surface of the chemical liquid supply tube and the inner surface of the heat transfer part may be in contact with each other.

상기 금속은 SUS일 수 있다.The metal may be SUS.

상기 약액공급관이 내부에 삽입되는 튜브와 상기 튜브의 내측면과 상기 약액공급관의 내측면 사이에 수용된 유체로 이루어질 수 있다.And a fluid accommodated between the inner side of the tube and the inner surface of the chemical liquid supply pipe.

상기 유체는 교체 가능할 수 있다. The fluid may be replaceable.

상기 튜브의 일측에 상기 유체의 교체를 위한 유체유입구와 유체배출구가 구비될 수 있다.A fluid inlet and a fluid outlet for replacement of the fluid may be provided on one side of the tube.

상기 유체는 DI일 수 있다.The fluid may be DI.

상기 약액 가열 장치에는, 상기 약액공급관 내부에서 상기 약액의 온도를 측정할 수 있는 온도계가 더 구비될 수 있다. The chemical liquid heating device may further include a thermometer capable of measuring the temperature of the chemical liquid inside the chemical liquid supply pipe.

또한, 상기 가열부가 가열되는 세기를 조절할 수 있는 온도조절장치가 더 구비될 수 있다.Further, a temperature control device capable of controlling the intensity with which the heating unit is heated may be further provided.

본 발명에 의한 약액 가열 방법은, 약액이 공급되는 유로를 제공하는 약액공급관과, 상기 약액공급관의 외측면 둘레에 구비되는 열전달부, 상기 열전달부의 외측면에 설치되는 가열부를 포함하는 약액 가열 장치에서, 상기 가열부를 가열시켜 상기 가열부로부터 상기 열전달부를 통해 상기 약액공급관으로 열이 전도됨으로써 상기 약액의 가열이 이루어지는 약액 가열 방법일 수 있다. A chemical solution heating method according to the present invention is a chemical solution heating apparatus including a chemical solution supply pipe for supplying a chemical solution flow path, a heat transfer part provided around the outer surface of the chemical solution supply pipe, and a heating part provided on an outer surface of the heat transfer part And heating the chemical solution by heating the heating unit to conduct heat from the heating unit to the chemical solution supply pipe through the heat transfer unit.

상기 약액 가열 방법에는, 상기 약액공급관 내부에 연결된 온도계를 통해 상기 약액공급관 내부의 상기 약액의 온도를 측정하는 단계가 더 포함될 수 있다. The method may further include measuring a temperature of the chemical liquid inside the chemical liquid supply pipe through a thermometer connected to the chemical liquid supply pipe.

또한, 상기 약액공급관 내부의 상기 약액의 최종 목표 온도를 지정하고 온도조절장치를 이용하여 상기 가열부가 가열되는 정도를 조절하는 단계가 더 포함될 수 있다.Further, it may further include a step of designating a final target temperature of the chemical liquid in the chemical liquid supply pipe and controlling the degree of heating of the heating unit using a temperature controller.

상기 약액 가열 방법에서 사용하는 상기 약액은 IPA일 수 있다. The chemical liquid used in the chemical liquid heating method may be IPA.

상기 약액 가열 방법에서 사용하는 상기 약액이 IPA인 경우, 상기 약액의 최종 목표 온도는 80℃로 할 수 있다 When the chemical solution used in the chemical solution heating method is IPA, the final target temperature of the chemical solution may be 80 캜

본 발명에 따른 약액 가열 장치 및 약액 가열 방법에 의하면, 약액공급관의 둘레를 골고루 가열하여 고온의 약액을 안정적으로 기판에 공급할 수 있다.According to the chemical liquid heating apparatus and the chemical liquid heating method of the present invention, the periphery of the chemical liquid supply pipe is uniformly heated, and the high temperature chemical liquid can be stably supplied to the substrate.

또한, 약액의 유로인 약액공급관의 둘레를 골고루 가열하여, 국부적인 과열로 인한 기포의 발생을 막고 이로 인한 공정 사고를 방지할 수 있다. In addition, it is possible to uniformly heat the periphery of the chemical liquid supply pipe, which is the flow path of the chemical liquid, to prevent the occurrence of bubbles due to local overheating, thereby preventing a process accident.

또한, 약액공급관의 내부에서 약액의 온도를 측정할 수 있는 온도계를 설치하여, 약액이 적절한 온도로 가열되고 있는지 확인할 수 있다.In addition, a thermometer capable of measuring the temperature of the chemical liquid can be provided inside the chemical liquid supply tube to confirm whether or not the chemical liquid is heated to an appropriate temperature.

또한, 가열부가 가열되는 정도를 조절할 수 있는 온도조절장치를 설치하여, 약액이 적절한 온도로 가열되도록 할 수 있다. In addition, a temperature control device capable of adjusting the degree to which the heating section is heated can be provided, so that the chemical liquid can be heated to a proper temperature.

도 1은 종래기술에 의한 약액 가열 장치의 개략적인 구성을 나타내는 평면도다.
도 2는 종래기술에 의한 약액 가열 장치의 구성을 나타내는 단면도.
도 3은 본 발명에 의한 약액 가열 장치의 구성을 나타내는 단면도.
도 4는 본 발명에 의한 약액 가열 장치의 구성을 나타내는 단면도.
도 5는 본 발명에 의한 약액 가열 장치의 구성을 나타내는 단면도.
도 6은 본 발명에 의한 약액 가열 방법을 나타내는 순서도.1 is a plan view showing a schematic configuration of a chemical liquid heating apparatus according to the prior art.
2 is a cross-sectional view showing a structure of a chemical liquid heating apparatus according to the related art;
3 is a sectional view showing a configuration of a chemical liquid heating apparatus according to the present invention;
4 is a sectional view showing a configuration of a chemical liquid heating apparatus according to the present invention.
5 is a sectional view showing a configuration of a chemical liquid heating apparatus according to the present invention.
6 is a flowchart showing a method of heating a chemical solution according to the present invention.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3과 도 4를 참조하여 본 발명의 일실시예에 의한 약액 가열 장치에 대해 설명한다.3 and 4, a chemical liquid heating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 일실시예에 의한 약액 가열 장치는, 약액이 공급되는 유로를 제공하는 약액공급관(100)과, 상기 약액공급관(110)의 외측면 둘레에 구비되는 열전달부(110), 상기 열전달부(110)의 외측면에 설치되는 가열부(200)를 포함한다.The chemical solution heating apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chemical solution supply pipe 100 for supplying a chemical solution flow path, a heat transfer part 110 provided around the outer surface of the chemical solution supply pipe 110, And a heating unit 200 installed on the outer surface of the base 110.

상기 약액은 기판(미도시)의 제조 과정에서 여러 종류가 반복적으로 사용된다. 사용되는 약액의 종류는, 처리 대상과 목적에 따라 금속을 제거하기 위한 불화수소(HF), 질산, 황산, 염산 등의 강한 부식성을 가진 고순도의 화학약품과, 레지스트를 제거하기 위한 유기용제, 실리카(SiO)를 제거하기 위한 초순수(DI) 또는 이소프로필 알코올(IPA)등이 있을 수 있다. The chemical liquid is used repeatedly in manufacturing various types of substrates (not shown). The type of the chemical solution to be used may be a high purity chemical having strong corrosiveness such as hydrogen fluoride (HF), nitric acid, sulfuric acid or hydrochloric acid for removing the metal depending on the object to be treated and the object, an organic solvent for removing the resist, (DI) or isopropyl alcohol (IPA) for removing SiO 2.

상기 약액공급관(100)은, 약액공급부(미도시)에 연결되어 상기 기판(미도시)에 약액을 공급하기 위한 유로이다. The chemical liquid supply pipe 100 is connected to a chemical liquid supply unit (not shown) and supplies the chemical liquid to the substrate (not shown).

상기 가열부(200)는, 전원장치(미도시)에 연결되어 상기 약액공급관(100) 내부에 흐르는 상기 약액을 가열하기 위한 열을 발생시킨다. The heating unit 200 is connected to a power supply unit (not shown) to generate heat for heating the chemical liquid flowing in the chemical liquid supply pipe 100.

상기 열전달부(110)는 열전도도가 높은 물질로 이루어져, 도 3에 나타난 바와 같이, 상기 가열부(200)와의 접촉면으로부터 국부적으로 가열되는 경우에도 빠른속도로 상기 열전달부(110) 전체에 열이 전도되도록 할 수 있다. 또한 상기 열전달부(110)는, 상기 약액공급관(100)의 둘레에 상기 약액공급관(110)을 감싸듯이 위치하여, 상기 열전달부(110) 전체에 전도된 열이 상기 약액공급관(100)에 골고루 전도되도록 할 수 있다. 3, the heat transfer part 110 is formed of a material having a high thermal conductivity. Even when the heat transfer part 110 is locally heated from the contact surface with the heating part 200, heat is generated in the entire heat transfer part 110 at a high speed It can be made conductive. The heat transfer part 110 is disposed around the chemical liquid supply pipe 100 so as to surround the chemical liquid supply pipe 110 so that the heat conducted to the entire heat transfer part 110 is uniformly distributed to the chemical liquid supply pipe 100 It can be made conductive.

상기 열전달부(110)는, 도4에 나타난 바와 같이, 금속으로 이루어져 중공부에 약액공급관(100)을 삽입하는 중공튜브일 수 있으며, 특히 SUS로 이루어질 수 있다. 이때 상기 중공튜브의 내주면은 상기 약액공급관(100)의 외측면에 접촉하도록 한다. As shown in FIG. 4, the heat transfer part 110 may be a hollow tube that is made of metal and inserts the chemical liquid supply pipe 100 into the hollow part, and may be made of SUS. At this time, the inner circumferential surface of the hollow tube is brought into contact with the outer surface of the chemical liquid supply pipe 100.

또한 상기 열전달부(110)는, 도 5에 나타난 바와 같이, 내부에 약액공급관(100)이 삽입되는 튜브(111)와, 상기 약액공급관(100)과 상기 튜브(111) 사이에 채워지는 유체(112)로 구성될 수 있다. 상기 유체는 초순수(DI)일 수 있다. 5, the heat transfer part 110 includes a tube 111 in which a chemical solution supply tube 100 is inserted, a fluid (not shown) filled between the chemical solution supply tube 100 and the tube 111 112). The fluid may be DI water.

상기 약액공급관(100)과 상기 튜브(111) 사이에 채워지는 유체(112)는 교체될 수 있으며, 이를 위해 상기 튜브(111)에 유체배출구(미도시)와 유체유입구(미도시)가 구비될 수 있다. 또한, 상기 유체배출구(미도시)와 상기 유체유입구(미도시)에는 상기 유체의 출입을 제어하기 위한 밸브(미도시)가 구비될 수 있다. The fluid 112 filled between the chemical solution supply tube 100 and the tube 111 can be replaced and a fluid discharge port (not shown) and a fluid discharge port (not shown) are provided in the tube 111 . In addition, the fluid outlet (not shown) and the fluid inlet (not shown) may be provided with a valve (not shown) for controlling the flow of the fluid.

상기 약액 가열 장치에는 온도계(300)가 더 구비될 수 있다. 상기 온도계(300)는 상기 약액공급관(100) 내부에 설치되어 상기 약액의 온도를 측정할 수 있으며, 측정된 수치는 상기 약액공급관(100)의 외부에 위치하는 디스플레이장치(500) 등에서 확인할 수 있도록 구성할 수 있다. The chemical liquid heating apparatus may further include a thermometer 300. The thermometer 300 may be installed inside the chemical liquid supply pipe 100 to measure the temperature of the chemical liquid. The measured value may be measured by a display device 500 or the like located outside the chemical liquid supply pipe 100 Can be configured.

또한 상기 약액 가열 장치에는 온도조절장치(400)가 더 구비될 수 있다. 상기 온도조절장치(400)는 상기 전원장치(미도시)와 상기 가열부(200)에 연결되어 상기 가열부(200)를 가열하는 정도를 조절할 수 있다. The chemical liquid heating apparatus may further include a temperature control device 400. The temperature controller 400 may be connected to the power source unit (not shown) and the heating unit 200 to adjust the degree of heating of the heating unit 200.

도 6을 참조하여 본 발명의 약액 가열 방법에 대해 설명한다. The chemical liquid heating method of the present invention will be described with reference to Fig.

단계 S10은, 가열부(200)를 가열하는 단계이다. 상기 가열부(200)의 열은 상기 가열부(200)와 상기 열전달부(110)의 접촉면으로부터 국부적으로 상기 열전달부(100)에 전도되어 열전도도가 높은 상기 열전달부(110) 전체에 빠른 속도로 퍼지게 된다. 상기 열절달부(110)의 열은 상기 약액공급관(100)에 전도되는데, 상기 열전달부(110)는 상기 약액공급관(100)의 둘레를 감싸듯이 위치하므로 상기 약액공급관(100) 내부에 흐르는 약액에 열을 골고루 전도할 수 있다. Step S10 is a step of heating the heating unit 200. [ The heat of the heating unit 200 is transmitted locally from the contact surface of the heating unit 200 and the heat transfer unit 110 to the heat transfer unit 100 to provide the heat transfer unit 110 having a high thermal conductivity with a high speed . The heat of the heat exchanging part 110 is transferred to the chemical liquid supply pipe 100. Since the heat transfer part 110 is disposed so as to surround the periphery of the chemical liquid supply pipe 100, You can spread heat evenly.

단계 S20은, 온도계(300)를 통해 상기 약액공급관(100) 내부에 흐르는 약액의 온도를 측정하여 확인하는 단계이다.In step S20, the temperature of the chemical liquid flowing in the chemical liquid supply pipe 100 through the thermometer 300 is measured and confirmed.

단계 S30은, 온도계(300)를 통해 측정된 온도가 설정온도인지 여부를 확인하고 온도조절장치(400)를 조절해 상기 가열부(200)를 가열하는 정도를 조절하는 단계이다. Step S30 is a step of checking whether the temperature measured through the thermometer 300 is a set temperature and adjusting the degree of heating the heating unit 200 by adjusting the temperature control unit 400. [

단계 S40은, 상기 약액공급관(100)에 연결된 약액방출부(미도시)를 통해 기판(미도시)에 약액을 공급하여 기판의 제조 과정을 수행하는 단계이다. In step S40, a chemical liquid is supplied to a substrate (not shown) through a chemical liquid discharge unit (not shown) connected to the chemical liquid supply pipe 100 to perform a process of manufacturing the substrate.

상기 단계 S10 내지 S40의 약액 가열 방법은 IPA를 약액으로 사용하는 방법일 수 있다. The chemical solution heating method of steps S10 to S40 may be a method using IPA as a chemical solution.

상기 약액이 IPA인 경우, IPA의 기포 발생 온도는 81℃이므로, 단계 S30은, 상기 약액의 최종 목표 온도를 80℃로 설정하여 진행할 수 있다. In the case where the chemical liquid is IPA, since the bubble forming temperature of IPA is 81 ° C, step S30 can be performed by setting the final target temperature of the chemical liquid to 80 ° C.

전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, And this also belongs to the present invention.

100 : 약액공급관 110 : 열전달부
111 : 튜브 1 12 : 약액
200 : 가열부 300 : 온도계
400 : 온도조절장치 500 : 디스플레이장치100: chemical liquid supply pipe 110: heat transfer part
111: tube 1 12: chemical solution
200: heating unit 300: thermometer
400: Temperature control device 500: Display device

Claims (14)

약액이 공급되는 유로를 제공하는 약액공급관;
상기 약액공급관의 외측면 둘레에 구비되는 열전달부;
상기 열전달부의 외측면에 설치되는 가열부;
를 포함하는 약액 가열 장치.A chemical-liquid supply pipe for supplying a chemical-liquid flow path;
A heat transfer part provided around the outer surface of the chemical liquid supply pipe;
A heating unit installed on an outer surface of the heat transfer unit;
And a control unit for controlling the heating unit. 제1항에 있어서,
상기 열전달부는 금속으로 이루어진 중공튜브로, 상기 약액공급관의 외측면과 상기 열전달부의 내측면이 접촉하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.The method according to claim 1,
Wherein the heat transfer part is a hollow tube made of metal, and the outer surface of the chemical liquid supply tube and the inner surface of the heat transfer part are in contact with each other. 제2항에 있어서,
상기 금속은 SUS인 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the metal is SUS. 제1항에 있어서,
상기 열전달부는,
상기 약액공급관이 내부에 삽입되는 튜브와;
상기 튜브의 내측면과 상기 약액공급관의 외측면 사이에 수용된 유체;
로 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.The method according to claim 1,
The heat-
A tube into which the chemical liquid supply tube is inserted;
A fluid received between the inner surface of the tube and the outer surface of the chemical liquid supply pipe;
Wherein the chemical liquid heating device comprises: 제4항에 있어서,
상기 유체는 교체가 가능한 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the fluid is replaceable. 제5항에 있어서,
상기 튜브의 일측에 상기 유체의 교체를 위한 유체유입구와 유체배출구를 구비하는 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치. 6. The method of claim 5,
And a fluid inlet and a fluid outlet for replacing the fluid are provided on one side of the tube. 제4항에 있어서,
상기 유체는 DI인 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the fluid is DI. 제1항에 있어서,
상기 약액공급관 내부에서 상기 약액의 온도를 측정할 수 있는 온도계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.The method according to claim 1,
And a thermometer capable of measuring the temperature of the chemical liquid inside the chemical liquid supply pipe. 제1항에 있어서,
상기 가열부가 가열되는 세기를 조절할 수 있는 온도조절장치가 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 가열 장치.The method according to claim 1,
And a temperature control device for controlling the intensity of the heating of the heating unit. 약액이 공급되는 유로를 제공하는 약액공급관과, 상기 약액공급관의 외측면 둘레에 구비되는 열전달부, 상기 열전달부의 외측면에 설치되는 가열부를 포함하는 약액 가열 장치에서;
상기 가열부를 가열시켜 상기 가열부로부터 상기 열전달부를 통해 상기 약액공급관으로 열이 전도됨으로써 상기 약액의 가열이 이루어지는 약액 가열 방법. A chemical liquid supply pipe for supplying a chemical fluid to the chemical liquid supply pipe; a heat transfer unit provided around the outer surface of the chemical liquid supply pipe; and a heating unit installed on an outer surface of the heat transfer unit;
Wherein the heating of the chemical liquid is performed by heating the heating unit to conduct heat from the heating unit to the chemical liquid supply pipe through the heat transfer unit. 제10항에 있어서,
상기 약액공급관 내부에 연결된 온도계를 통해 상기 약액공급관 내부의 상기 약액의 온도를 측정하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 가열 방법.11. The method of claim 10,
Measuring the temperature of the chemical liquid inside the chemical liquid supply pipe through a thermometer connected to the chemical liquid supply pipe;
Further comprising the step of heating the chemical liquid. 제11항에 있어서,
상기 약액공급관 내부의 상기 약액의 최종 목표 온도를 지정하고 온도조절장치를 이용하여 상기 가열부가 가열되는 정도를 조절하는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 가열 방법.12. The method of claim 11,
Designating a final target temperature of the chemical liquid inside the chemical liquid supply pipe and controlling the degree of heating of the heating unit using a temperature control unit;
Further comprising the step of heating the chemical liquid. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 약액은 IPA인 것을 특징으로 하는 약액 가열 방법.13. The method according to any one of claims 10 to 12,
Wherein the chemical liquid is IPA. 제12항에 있어서,
상기 약액은 IPA이고;
상기 약액의 최종 목표 온도는 80℃인 것을 특징으로 하는 약액 가열 방법.13. The method of claim 12,
The drug solution is IPA;
Wherein the final target temperature of the chemical liquid is 80 占 폚.
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