KR20180105915A - Method for fabrication of micro electrodes using inkjet printing - Google Patents

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KR20180105915A
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a microelectrode applicable to an FPCB, a solar cell, an OLED lighting, and the like by using inkjet printing. The method for fabricating a microelectrode by using inkjet printing according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: forming hydrophobic patterns on a substrate to form a hydrophilic gap between the patterns; printing an electrode having a fine line width in a gap formed through inkjet printing; and performing an insulation process on the electrode having the fine line width.

Description

잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법{METHOD FOR FABRICATION OF MICRO ELECTRODES USING INKJET PRINTING}METHOD FOR FABRICATION OF MICRO ELECTRODES USING INKJET PRINTING BACKGROUND OF THE INVENTION [0001]

본 발명은 잉크젯 인쇄를 이용하여 FPCB, Solar Cell, OLED 조명 등에 활용 가능한 미세 전극을 제작하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a microelectrode applicable to an FPCB, a solar cell, an OLED lighting, and the like using inkjet printing.

인쇄전자는 원하는 전자회로 부분만을 기판이나 필름 등에 전도성 전자잉크로 인쇄하듯이 제조하는 기술이다. Print electronics is a technology for producing only desired electronic circuit parts as printed on a substrate or film with conductive electronic ink.

인쇄전자는 기존의 전자회로 형성을 위해 도금, 식각 등을 수행하는 방식에 비해 낭비되는 전도성 소재의 양이 적어 제조원가가 낮은 장점이 있어, 스마트 IT, 디스플레이, 태양광 등 기존 산업에 적용된다. The printing electron is applied to existing industries such as smart IT, display, and solar light because it has the advantage of low cost of production due to a small amount of conductive material to be wasted compared with a method of performing plating and etching for forming an existing electronic circuit.

그런데, 인쇄전자 공정은 용액공정으로, 잉크의 퍼짐 특성에 의하여 50um 이하의 미세한 선폭을 가지는 패턴을 형성하기 어려운 문제점이 있어, 산업계에 적용하기 어려운 한계점이 있다. However, since the printing electronic process is a solution process, it is difficult to form a pattern having a fine line width of 50um or less due to the spread characteristics of the ink, and thus it is difficult to apply to the industrial field.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 벽이나 홈을 기판에 가공하거나, 포토 공정을 이용하여 기판 표면에 소수성 패턴을 형성하여 인쇄하는 방법이 제안되었으나, 이는 미세 선폭 패턴 형성을 위한 공정의 복잡도가 증가하게 되는 문제점이 있다. In order to solve such a problem, there has been proposed a method of forming a hydrophobic pattern on a substrate surface by processing a wall or a groove on a substrate or using a photo process. However, this method has a problem in that the complexity of a process for forming a fine line- .

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 별도의 벽이나 홈을 기판에 가공하지 않고, 잉크젯 인쇄를 이용하여 소수성 물질/ UV 경화 잉크를 인쇄하여 소수성 막 패터닝을 수행하고, 전도성 잉크를 인쇄하여, 종래 기술 대비 확연히 미세한 선폭 형성이 가능한 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention has been proposed in order to solve the above problems. It is an object of the present invention to perform hydrophobic film patterning by printing a hydrophobic substance / UV curable ink using inkjet printing without processing a separate wall or groove on a substrate, It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a microelectrode using inkjet printing capable of forming a line width that is significantly smaller than that of the prior art.

본 발명의 일면에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법은 기판 상에 소수성 패턴을 형성하여, 패턴 사이의 친수성 갭(gap)을 형성시키는 단계와, 잉크젯 인쇄를 통해 형성된 갭에 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 단계 및 미세 선폭을 가지는 전극 위로 절연 처리를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. A method of fabricating a microelectrode using inkjet printing according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming a hydrophobic pattern on a substrate to form a hydrophilic gap between patterns and forming an electrode having a fine line width in a gap formed through inkjet printing And performing an insulation process on the electrode having the fine line width.

본 발명에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법은 소수성 막을 패터닝하고, 소수성 패턴 사이의 갭(gap)에 전도성 잉크를 인쇄하여 11um 수준의 미세 선폭을 형성함으로써, 50um 선폭 형성조차 어려운 종래 기술과 대비하여 볼 때 확연히 미세한 전극 제작이 가능한 효과가 있다. In the method of fabricating a microelectrode using inkjet printing according to the present invention, a hydrophobic film is patterned and conductive ink is printed on a gap between the hydrophobic patterns to form a fine line width of 11 um, There is an effect that a finer electrode can be produced.

본 발명에 따르면, 투명한 소수성 물질의 특성을 고려하여 얼라인(align)을 수행하여 미세 선폭을 가지는 미세 전극의 제작 신뢰성을 증대하는 효과가 있다. According to the present invention, aligning is performed in consideration of the characteristics of the transparent hydrophobic material, thereby improving the reliability of production of a microelectrode having a fine line width.

본 발명에 따르면, 미세 선폭 형성 및 절연 처리(insulation)을 수행하여FPCB, Solar Cell, OLED 조명 보조 배선 등의 어플리케이션에 적용하는 것이 가능한 효과가 있다. According to the present invention, it is possible to apply the present invention to applications such as FPCB, solar cell, and OLED illumination auxiliary wiring by performing fine line width formation and insulation.

본 발명에 따르면, 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 형성에 있어 X, Y축으로 2 싸이클(cycle)의 공정을 통해, 매쉬 패턴(mesh pattetn)을 형성하는 것이 가능한 효과가 있다. According to the present invention, it is possible to form a mesh pattern through a process of two cycles in X and Y axes in the formation of fine electrodes using inkjet printing.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법을 나타내는 순서도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법의 공정도를 나타내는 도면이다.
도 3a는 잉크의 소수성을 측정한 이미지로서 접촉각 변화를 나타내는 이미지이며, 도 3b은 본 발명의 실시예에 따른 플루오로카본 잉크를 이용한 소수성 패턴 형성을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 소수성 잉크의 예시로서 플루오로카본 잉크 드롭 간격에 따른 이미지, 드롭 간격에 따른 플루오로카본 라인 패턴 모식도 및 라인 간격에 따른 갭 형성을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 금속 잉크의 예시로서 은 잉크를 이용한 미세 선폭을 가지는 전극 인쇄를 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 얼라인 마크 형성을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 UV 경화 잉크를 이용한 소수성 선형 패턴을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 금속 잉크의 예시로서 은 잉크를 이용한 미세 선폭 인쇄를 나타내는 도면이다.
도 9 및 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 절연 처리 및 cross section line profile을 나타내는 도면이다.
도 11및 도 12는 본 발명의 실시예에 따른 O2플라즈마 처리, UV-O 처리 및 cross section line profile을 나타내는 도면이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 매쉬 패턴 형성을 나타내는 도면이다.
1 is a flow chart showing a method of fabricating a microelectrode using inkjet printing according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing a process of a method of fabricating a microelectrode using inkjet printing according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3A is an image showing hydrophobicity of an ink, and FIG. 3B is a view showing hydrophobic pattern formation using a fluorocarbon ink according to an embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a diagram showing the image according to the fluorocarbon ink drop interval as an example of the hydrophobic ink according to the embodiment of the present invention, the fluorocarbon line pattern pattern diagram according to the drop gap, and the gap formation according to the line gap.
5 is a diagram showing an electrode print having a fine line width using silver ink as an example of a metal ink according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing alignment mark formation according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing a hydrophobic linear pattern using a UV curable ink according to an embodiment of the present invention.
Fig. 8 is a diagram showing fine line width printing using silver ink as an example of the metal ink according to the embodiment of the present invention.
9 and 10 are views showing an insulation process and a cross section line profile according to an embodiment of the present invention.
11 and 12 are views showing O 2 plasma treatment, UV-O treatment, and cross section line profile according to an embodiment of the present invention.
13 is a view showing the formation of a mesh pattern according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 전술한 목적 및 그 이외의 목적과 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, advantages and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent from the following detailed description of embodiments thereof taken in conjunction with the accompanying drawings.

그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 이하의 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 목적, 구성 및 효과를 용이하게 알려주기 위해 제공되는 것일 뿐으로서, 본 발명의 권리범위는 청구항의 기재에 의해 정의된다. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the exemplary embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, And advantages of the present invention are defined by the description of the claims.

한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성소자, 단계, 동작 및/또는 소자가 하나 이상의 다른 구성소자, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가됨을 배제하지 않는다.It is to be understood that the terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. &Quot; comprises "and / or" comprising ", as used herein, unless the recited component, step, operation, and / Or added.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법을 나타내는 순서도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법의 공정도를 나타내는 도면이다. FIG. 1 is a flow chart showing a method of manufacturing a microelectrode using inkjet printing according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view showing a process of a method of fabricating a microelectrode using inkjet printing according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법은 기판 상에 소수성 패턴을 형성하여, 패턴 사이의 갭(gap)을 형성시키는 단계(S100)와, 잉크젯 인쇄를 통해 형성된 갭에 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 단계(S200) 및 미세 선폭을 가지는 전극 위로 절연 처리를 수행하는 단계(S300)을 포함한다. A method of fabricating a microelectrode using inkjet printing according to an embodiment of the present invention includes forming a hydrophobic pattern on a substrate to form a gap between the patterns (S100), forming a fine line width (S200), and performing an insulation process on the electrode having the fine line width (S300).

도 2의 (b)는 S100단계를, (c) 및 (d)는 S200 단계를, (e), (f), (g)는 S300 단계에 해당된다. FIG. 2 (b) corresponds to step S100, (c) and (d) correspond to step S200, and steps (e), (f) and (g) correspond to step S300.

도 3a는 잉크의 소수성을 측정한 이미지로서 접촉각 변화를 나타내는 이미지로서, 접촉각 및 표면 에너지는 다음 [표 1]과 같다.FIG. 3A is an image showing hydrophobicity of ink and showing the change in contact angle, and the contact angle and surface energy are shown in Table 1 below.

Figure pat00001
Figure pat00001

도 3b는 본 발명의 실시예에 따른 소수성 잉크의 예로서 플루오로카본 잉크를 이용한 소수성 패턴 형성을 나타내는 도면이다. FIG. 3B is a diagram showing a hydrophobic pattern formation using a fluorocarbon ink as an example of a hydrophobic ink according to an embodiment of the present invention. FIG.

본 발명의 실시예에 따르면 초기 접촉각 및 그 접촉각의 변화를 고려하여 소수성 패턴 형성을 위한 물질을 선택하는데, 그 예로서 플루오로카본 잉크(200)는 FC-722 및 FC-40을 1 대 4의 비율로 사용하였으며, 이는 당업자의 이해를 돕기 위한 비율의 예시로서 본 발명의 범주는 이러한 종류 및 비율에 의해 제한되지 아니한다.According to an embodiment of the present invention, a material for forming a hydrophobic pattern is selected in consideration of a change in an initial contact angle and a contact angle thereof. As an example, the fluorocarbon ink 200 includes FC-722 and FC- Ratio, which is an example of a ratio for facilitating the understanding of a person skilled in the art, and the scope of the present invention is not limited by this kind and ratio.

본 발명의 실시예에 따르면, 110um를 지름으로 가지는 Dot로서 소수성 잉크를 잉크젯 인쇄하여, 소수성 선형 패턴을 형성한다. According to the embodiment of the present invention, a hydrophobic ink is printed by inkjet printing as a dot having a diameter of 110 um to form a hydrophobic linear pattern.

이러한 소수성 선형 패턴 사이에는 친수성 갭(gap)이 형성되며, 앞서 언급한 UV-O 트리트먼트가 도 2의 (a) 단계에서 수행되면 기판(100)은 소수성에서 친수성으로 표면 개질이 변경된다. A hydrophilic gap is formed between the hydrophobic linear patterns. If the above-mentioned UV-O treatment is performed in step (a) of FIG. 2, the surface modification of the substrate 100 changes from hydrophobic to hydrophilic.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 소수성 잉크의 예시로서 플루오로카본 잉크 드롭 간격에 따른 이미지, 드롭 간격에 따른 플루오로카본 라인 패턴 모식도 및 라인 간격에 따른 갭 형성을 나타내는 도면이다.Fig. 4 is a diagram showing the image according to the fluorocarbon ink drop interval as an example of the hydrophobic ink according to the embodiment of the present invention, the fluorocarbon line pattern pattern diagram according to the drop gap, and the gap formation according to the line gap.

S100 단계는 기판 상에 플루오로카본 잉크 또는 UV 경화 잉크를 잉크젯 인쇄하여 소수성 패턴을 형성시키는 것으로, 도 4a 내지 4c는 플루오로카본 잉크를 이용한 소수성 패턴 및 갭 형성을 나타내는 도면이다. In step S100, a fluorocarbon ink or a UV curable ink is printed on the substrate by inkjet printing to form a hydrophobic pattern. FIGS. 4A to 4C are views showing hydrophobic patterns and gap formation using a fluorocarbon ink.

도 4a에서 검은 색의 점과 배경은 금속 잉크의 예로서 제시하는 은 잉크이며, 투명한 플루오로카본의 가시화를 위해 은 잉크가 전면 인쇄된다. In Fig. 4A, the black dots and background are silver ink, which is an example of metal ink, and silver ink is printed front side for the visualization of transparent fluorocarbon.

도 4a 및 도 4b에서 D.S는 드롭의 간격을 나타내며, DS 38.1um에서 Dot의 형상이 없어짐을 확인할 수 있었고, 도 4b는 드롭 간격에 따른 플루오로카본 라인 패턴의 모식도를 나타내며, 도 4c를 참조하면 라인 간격에 따라 본 발명의 실시예에 따르면 약 12 내지 50um의 갭이 형성된다. In FIGS. 4A and 4B, DS represents the interval of the drop, and it can be confirmed that the shape of the dot is absent at DS 38.1 um, FIG. 4B is a schematic diagram of the fluorocarbon line pattern according to the drop interval, and FIG. Depending on the line spacing, a gap of about 12 to 50 um is formed according to embodiments of the present invention.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 금속 잉크(300)의 예로서 은 잉크를 이용한 미세 선폭을 가지는 전극 인쇄를 나타내는 도면이다. 5 is a view showing an electrode print having a fine line width using silver ink as an example of the metal ink 300 according to the embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 전도성 잉크는 은 잉크(300)로서 ANP(Advanced Nano Product), DGP40JT-15C를 사용하였으나 이는 당업자의 이해를 돕기 위한 실시예로서 본 발명의 범주가 이러한 전도성 잉크의 종류에 국한되지 아니한다. The conductive ink according to the exemplary embodiment of the present invention uses ANN (Advanced Nano Product) or DGP40JT-15C as the silver ink 300. However, it is understood that the category of the present invention is not limited to this kind of conductive ink But not limited to,

S200 단계는 금속 잉크(예: 은 잉크)를 잉크젯 인쇄하여, 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하며, 약 11um의 미세 선폭을 형성하는 것이 가능하다. In step S200, it is possible to ink-jet print a metal ink (for example, silver ink), print an electrode having a fine line width, and form a fine line width of about 11 mu m.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 얼라인 마크 형성을 나타내는 도면이다. 6 is a view showing alignment mark formation according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 S200 단계는 S100 단계에서 형성된 소수성 패턴의 방향을 기준으로 수직 방향으로 금속 잉크인 은 잉크를 인쇄하여 얼라인 마크(align mark)를 형성하고, 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄한다. In step S200 according to the embodiment of the present invention, an ink mark is formed by printing silver ink, which is a metal ink, in the vertical direction with reference to the direction of the hydrophobic pattern formed in step S100, and an electrode having a fine line width is printed do.

투명한 소수성 물질에 대해서는, 이러한 얼라인 마크 형성을 통해 금속 잉크인 은 잉크가 잉크젯 인쇄될 갭의 영역을 용이하게 확인하는 것이 가능하다. With respect to the transparent hydrophobic substance, it is possible to easily identify the region of the gap where the ink, which is the metal ink, is ink-jet printed through such alignment mark formation.

도 7은 본 발명의 실시예에 따른 UV 경화 잉크를 이용한 소수성 선형 패턴을 나타내는 도면이다. 7 is a view showing a hydrophobic linear pattern using a UV curable ink according to an embodiment of the present invention.

도 7은 S100 단계에서 50.8um의 DS(Drop Space)로 프린팅된 것을 도시하며, 경화된 UV 잉크는 소수성으로 두 번째 선을 25% 오버랩(overlap)하여 인쇄하면 7um의 갭이 형성됨을 확인할 수 있다. FIG. 7 shows printing with a DS (Drop Space) of 50.8 um in step S100. When the cured UV ink is hydrophobic and the second line is overlapped by 25%, a gap of 7 um is formed .

도 8은 도 7에 도시한 갭에 은 잉크를 이용한 미세 선폭 인쇄를 수행한 것을 나타내는 도면으로, DS를 50.8um로 하여 500dpi line으로 프린팅한 결과를 나타내며, 26um 갭에 인쇄된 은 잉크(silver ink)는 30um의 선폭을 가짐을 확인할 수 있다. FIG. 8 is a graph showing the fine line width printing using silver ink in the gap shown in FIG. 7, which shows a result of printing on a 500 dpi line at a DS of 50.8 μm. Silver ink ) Has a line width of 30 [mu] m.

도 9 및 도 10은 본 발명의 실시예에 따른 절연 처리 및 cross section line profile을 나타내는 도면이다. 9 and 10 are views showing an insulation process and a cross section line profile according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 S300 단계는 은 잉크(300)가 인쇄된 영역 위에 UV 경화 잉크(400)를 덮어서 절연체를 형성시키며, 도 9의 (a)는 single drop을, 도 9의 (b)는 line pattern을 도시한다. 9 (a) and 9 (b) show a state in which the silver ink 300 is printed on the region where the silver ink 300 is printed, Shows a line pattern.

도 9의 400a는 은 잉크(300) 위에 덮어진 UV 잉크(절연성 잉크의 예)를 도시하며, 400b는 기판(100, glass) 상의 UV 잉크를 도시하며, 점선 영역은 UV 잉크가 덮어진 영역을 도시한다. 이 때, DS 90um 이하에서 UV 잉크의 뭉침 현상이 있음을 확인할 수 있다. 9, reference numeral 400a denotes UV ink (an example of insulating ink) covered on the silver ink 300, reference numeral 400b denotes UV ink on the substrate 100, and the dotted area denotes an area covered with the UV ink Respectively. At this time, it can be confirmed that UV ink is aggregated at a DS of 90um or less.

도 10은 UV 경화 잉크 인쇄를 통한 절연체 형성의 cross section line profile을 도시한다. Figure 10 shows the cross section line profile of insulator formation through UV curable ink printing.

도 11및 도 12는 본 발명의 실시예에 따른 O2플라즈마 처리, UV-O 처리 및 cross section line profile을 나타내는 도면이다. 11 and 12 are views showing O 2 plasma treatment, UV-O treatment, and cross section line profile according to an embodiment of the present invention.

도 11은 5분간의 O2플라즈마 처리, 15분간의 UV-O 처리 시의 미세 전극 및 절연체 공정 결과를 나타내는 도면으로, 이러한 O2플라즈마 처리 및 UV-O 처리는 택일적으로 수행되는 것이 가능하다.Fig. 11 is a diagram showing the result of a microelectrode and an insulator process at the time of 5 minutes of O 2 plasma treatment and 15 minutes of UV-O treatment. Such O 2 plasma treatment and UV-O treatment can be alternatively performed .

도 11 및 도 12를 참조하면, O2플라즈마 처리 후 플루오로카본의 소수성은 없어지고, DS가 작을수록 선폭이 커짐을 확인할 수 있었으며, 반면 UV-O 처리 후 FC(플루오로카본)의 소수성은 남아 있고, DS가 작아지더라도 선폭은 같으나 그 높이가 달라짐을 확인할 수 있다. 11 and 12, it can be seen that the hydrophobicity of the fluorocarbon disappears after the O 2 plasma treatment and the line width becomes larger as the DS becomes smaller. On the other hand, the hydrophobicity of FC (fluorocarbon) after the UV- And even if the DS is small, the line width is the same but the height is different.

도 13은 본 발명의 실시예에 따른 매쉬 패턴 형성을 나타내는 도면이다. 13 is a view showing the formation of a mesh pattern according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 S100 단계 및 S200 단계가 기설정된 X축 상에 미세 선폭을 가지는 전극 인쇄를 수행하면, 그 다음으로는 기설정된 Y축 상으로 S100 단계 및 S200 단계가 반복 수행하여, 교차되는 매쉬 패턴의 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 것이 가능하다. If steps S100 and S200 according to an exemplary embodiment of the present invention are performed on an electrode print having a fine line width on a predetermined X axis, steps S100 and S200 are repeated on a predetermined Y axis, It is possible to print an electrode having a fine line width of a mesh pattern to be printed.

도 13은 각각 6.8mm, 1mm, 0.15mm distance의 메쉬 패턴을 나타내는 도면으로서, 건조 후 X, Y축으로 각각 형성되어 상호 교차하는 매쉬 패턴(mesh pattern)의 메탈 그리드(metal grid)가 형성됨을 도시한다.FIG. 13 shows a mesh pattern of 6.8 mm, 1 mm, and 0.15 mm distances, respectively, and shows a metal grid of a mesh pattern formed by X-axis and Y-axis after drying, do.

이제까지 본 발명의 실시예들을 중심으로 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 실시예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다. The embodiments of the present invention have been described above. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. Therefore, the disclosed embodiments should be considered in an illustrative rather than a restrictive sense. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than by the foregoing description, and all differences within the scope of equivalents thereof should be construed as being included in the present invention.

100: 기판 200: 소수성 패턴
300: 금속 잉크 400: 절연성 잉크
100: substrate 200: hydrophobic pattern
300: metal ink 400: insulating ink

Claims (7)

(a) 기판 상에 잉크젯 인쇄를 통해 소수성 패턴을 형성하여, 상기 패턴 사이의 친수성 갭(gap)을 형성시키는 단계;
(b) 잉크젯 인쇄를 통해 상기 형성된 갭에 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 단계; 및
(c) 상기 미세 선폭을 가지는 전극 위로 절연 처리를 수행하는 단계
를 포함하는 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
(a) forming a hydrophobic pattern through inkjet printing on a substrate to form a hydrophilic gap between the patterns;
(b) printing an electrode having a fine line width in the formed gap through inkjet printing; And
(c) performing an insulation process on the electrode having the fine line width
Wherein the method comprises the steps of:
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계는 UV 트리트먼트가 수행된 상기 기판 상에 소수성 잉크 또는 절연성 잉크를 잉크젯 인쇄하여 상기 소수성 패턴을 형성시키는 것
인 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
The method according to claim 1,
In the step (a), the hydrophobic pattern is formed by inkjet printing a hydrophobic ink or an insulating ink on the substrate on which the UV treatment is performed
Method of Making Microelectrode Using Inkjet Printing.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계는 잉크젯 인쇄의 drop space을 조절하여 기설정된 폭의 상기 갭을 형성시키는 것
인 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
The method according to claim 1,
In the step (a), the drop space of the inkjet printing is controlled to form the gap of a predetermined width
Method of Making Microelectrode Using Inkjet Printing.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계는 금속 잉크를 잉크젯 인쇄하여 상기 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 것
인 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step (b) comprises printing an electrode having the fine line width by inkjet printing the metal ink
Method of Making Microelectrode Using Inkjet Printing.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계는 상기 (a) 단계에서 소수성 패턴의 형성 방향과 수직 방향으로 금속 잉크를 인쇄하여 얼라인 마크를 형성하고, 상기 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 것
인 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
The method according to claim 1,
The step (b) may include printing the metal ink in the direction perpendicular to the formation direction of the hydrophobic pattern to form an alignment mark, and printing the electrode having the fine line width
Method of Making Microelectrode Using Inkjet Printing.
제1항에 있어서,
상기 (c) 단계는 O2플라즈마 처리를 수행하고, 절연성 잉크를 잉크젯 인쇄 후, 열처리 또는 UV 조사 공정으로 절연 처리를 수행하는 것
인 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
The method according to claim 1,
The step (c) may be performed by performing an O 2 plasma treatment, performing an inkjet printing of an insulating ink, followed by an insulating treatment by a heat treatment or a UV irradiation process
Method of Making Microelectrode Using Inkjet Printing.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계 및 (b) 단계가 수행되어 기설정된 X축 상에 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄한 후, 기설정된 Y축 상으로 상기 (a) 단계 및 (b) 단계를 반복 수행하여, 교차되는 매쉬 패턴의 미세 선폭을 가지는 전극을 인쇄하는 것
을 특징으로 하는 잉크젯 인쇄를 이용한 미세 전극 제작 방법.
The method according to claim 1,
The steps (a) and (b) are performed to print an electrode having a fine line width on a predetermined X-axis, then repeating the steps (a) and (b) Printing an electrode having a fine line width of an intersecting mesh pattern
Wherein the method comprises the steps of:
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