KR20180103350A - Poly(amide-imide) copolymer and polymer film - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a poly(amide-imide) copolymer and a film containing the same which can realize high scratch resistance and weather resistance by including specific repetition units with predetermined content.

Description

폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 고분자 필름{POLY(AMIDE-IMIDE) COPOLYMER AND POLYMER FILM}POLY (AMIDE-IMIDE) COPOLYMER AND POLYMER FILM < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 고분자 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성 및 높은 투명도를 가지면서 우수한 내후성을 갖는 폴리(아미드-이미드) 공중합체와 이를 포함하는 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a poly (amide-imide) copolymer and a polymer film, and more particularly to a poly (amide-imide) copolymer and a polymer film having mechanical properties such as high scratch resistance and high transparency, And a film containing the same.

방향족 폴리이미드 수지는 대부분 비결정성 구조를 갖는 고분자로서, 강직한 사슬 구조로 인해 뛰어난 내열성, 내화학성, 전기적 특성, 및 치수 안정성을 나타낸다. 이러한 폴리이미드 수지는 전기/전자 재료로 널리 사용되고 있다. 그러나, 폴리이미드 수지는 이미드 사슬 내에 존재하는 π 전자들의 CTC (charge transfer complex) 형성으로 인해 짙은 갈색을 띠는 한계가 있기 때문에 사용상 많은 제한이 따른다.The aromatic polyimide resin is a polymer having mostly an amorphous structure and exhibits excellent heat resistance, chemical resistance, electrical properties, and dimensional stability due to its rigid chain structure. Such a polyimide resin is widely used as an electric / electronic material. However, the polyimide resin has many limitations in its use because it has a dark brown limit due to the formation of a charge transfer complex (CTC) of π electrons present in the imide chain.

상기 제한을 해소하고 무색 투명한 폴리이미드 수지를 얻기 위해, 트리플루오로알킬 그룹과 같은 강한 전자 끌게 그룹을 도입하여 π전자의 이동을 제한하는 방법; 주사슬에 설폰(-SO2-) 그룹, 에테르(-O-) 그룹 등을 도입하여 굽은 구조를 만들어 상기 CTC의 형성을 줄이는 방법; 또는 지방족 고리 화합물을 도입하여 π전자들의 공명 구조 형성을 저해하는 방법 등이 제안되었다.A method in which a strong electron attracting group such as a trifluoroalkyl group is introduced in order to solve the above limitation and obtain a colorless transparent polyimide resin, thereby restricting the movement of? Electrons; A method of reducing the formation of CTC by introducing a sulfone (-SO 2 -) group, an ether (-O-) group, or the like into the main chain to form a bent structure; Or introducing an aliphatic cyclic compound to inhibit the formation of resonance structures of? Electrons have been proposed.

하지만, 상기 제안들에 따른 폴리이미드 수지는 굽은 구조 또는 지방족 고리 화합물에 의해 충분한 내열성을 나타내기 어렵고, 이를 사용하여 제조된 필름은 열악한 기계적 물성을 나타내는 한계가 여전히 존재한다.However, the polyimide resin according to the above proposals is difficult to exhibit sufficient heat resistance by a bending structure or an aliphatic cyclic compound, and a film produced using the polyimide resin still has a limit to exhibit poor mechanical properties.

한편, 최근에는 폴리이미드의 내스크래치성을 향상시키기 위하여 폴리아미드 단위구조를 도입한 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 개발되고 있다.On the other hand, in recent years, poly (amide-imide) copolymers having a polyamide unit structure introduced to improve the scratch resistance of polyimide have been developed.

그런데, 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 높은 결정성으로 인해 이를 코팅하여 필름을 형성하였을 때 쉽게 헤이즈(haze)해지는 경향을 나타낸다. 폴리(아미드-이미드) 필름의 이러한 헤이즈 특성은 필름의 두께가 두꺼울수록 심하게 발현되고 황색 지수(Y.I.)에도 영향을 미친다. 또한, 이전에 알려진 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 폴리이미드에 비하여 낮은 UV 내후성을 나타내는 한계가 있었다. However, the poly (amide-imide) copolymer shows a tendency to easily haze when a film is formed due to its high crystallinity. This haze characteristic of the poly (amide-imide) film is severely expressed as the thickness of the film is thicker and affects the yellow index (YI). In addition, previously known poly (amide-imide) copolymers have a limit of low UV weatherability compared to polyimide.

이에 따라 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 투명도나 내스크래치성을 향상시키면서 높은 UV 내후성을 확보할 수 있는 방법에 대한 개발이 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need to develop a method for securing high UV weatherability while improving the transparency and scratch resistance of a poly (amide-imide) copolymer.

본 발명은 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성 및 높은 투명도를 가지면서 우수한 내후성을 갖는 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 제공하기 위한 것이다. The present invention is to provide a poly (amide-imide) copolymer having mechanical properties such as high scratch resistance and high transparency while having excellent weather resistance.

또한, 본 발명은 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성 및 높은 투명도를 가지면서 우수한 내후성을 갖는 고분자 필름을 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a polymer film having mechanical properties such as high scratch resistance and high transparency while having excellent weather resistance.

본 명세서에서는, 하기 화학식1의 반복 단위 및 하기 화학식2의 반복 단위를 포함하며, 하기 화학식2의 반복 단위의 함량이 1 내지 40몰%인 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 제공된다. In the present specification, there is provided a poly (amide-imide) copolymer comprising a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit represented by the following general formula (2), wherein the content of the repeating unit represented by the following general formula (2) is 1 to 40 mol%.

[화학식1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식1에서, X는 탄소수 4 내지 10의 지환족 4가 작용기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 4가 작용기이다. In Formula 1, X is an alicyclic tetravalent functional group having 4 to 10 carbon atoms or an aromatic tetravalent functional group having 6 to 20 carbon atoms.

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식2에서, Z는 탄소수 6 내지 20의 방향족 3가 작용기이다. In Formula 2, Z is an aromatic trivalent functional group having 6 to 20 carbon atoms.

상기 화학식 1 및 2에서, 상기 Y는 하기 화학식 12이다. In the above formulas (1) and (2), Y is represented by the following formula (12).

[화학식12][Chemical Formula 12]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식12에서, L1 은 단일결합, -O-, -CO-, -S-, -SO2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CONH-, -COO-, -(CH2)n1-, -O(CH2)n2O-, -OCH2-C(CH3)2-CH2O- 또는 -OCO(CH2)n3OCO-이고, 상기 n1, n2 및 n3는 각각 1 내지 10의 정수이고, R1및 R2 는 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 1 내지 5의 퍼플로오로알킬(perfluoro alkyl) 이다. Wherein L 1 is a single bond, -O-, -CO-, -S-, -SO 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -CONH-, -COO-, - (CH 2) n1 -, -O (CH 2) and n2 O-, -OCH 2 -C (CH 3) 2 -CH 2 O- , or -OCO (CH 2) n3 OCO-, wherein n1, n2 and n3 are each an integer of 1 to 10, and R 1 and R 2 may be the same or different and each is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, to be.

또한, 본 명세서에서는, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는 고분자 필름이 제공된다. Also, in this specification, a polymer film comprising the poly (amide-imide) copolymer is provided.

이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 고분자 필름에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. The poly (amide-imide) copolymer and the polymer film according to a specific embodiment of the present invention will be described in more detail.

발명의 일 구현예에 따르면, 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위를 포함하며, 상기 화학식2의 반복 단위의 함량이 1 내지 40몰%인 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 제공될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, there is provided a poly (amide-imide) copolymer comprising the repeating unit of Formula 1 and the repeating unit of Formula 2, wherein the content of the repeating unit of Formula 2 is 1 to 40 mol% Can be provided.

플렉시블 또는 폴더블 기기 등의 발달 추세에 따라, 가볍고 깨지지 않으며 접거나 말 수 있는 디스플레이의 구현이 요구되고 있다. 그리고, 이러한 디스플레이의 구현을 위한 무색 투명하면서도 경도가 높고 반복 굴곡성이 좋은 필름이 요구되고 있다. 고경도와 반복 굴곡성을 동시에 만족시키기 위한 소재로, 방향족 아미드와 방향족 이미드를 공중합한 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 대두되고 있지만, 방향족 아미드 및 방향족 이미드는 고유의 색을 띠기 때문에 디스플레이 분야의 용도로 적합하지 않은 한계를 가지고 있다. 이에 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 형성에 지환족 화합물을 사용하여 색을 없애려는 시도가 있다. 하지만, 일반적으로 지환족 단위 구조는 방향족 단위 구조보다 낮은 경도를 나타낸다. 또한, 일반적으로 지환족 다이아민 화합물은 아미드 결합을 형성하는 반응에서 불용성 침전(염)을 형성하여 상기 반응의 진행이 어려워지는 문제점이 있다. In accordance with the development trend of flexible or foldable devices, it is required to realize a display that is lightweight, unbreakable, and foldable or tangible. In addition, there is a demand for a colorless transparent film having high hardness and good bendability for realizing such a display. Poly (amide-imide) copolymers obtained by copolymerizing an aromatic amide and an aromatic imide have been proposed as materials for satisfying both high hardness and repeated bending properties. However, since aromatic amides and aromatic imides have inherent color, It has limitations that are not suitable for use. Thus, attempts have been made to remove color using alicyclic compounds in the formation of poly (amide-imide) copolymers. However, in general, the alicyclic unit structure exhibits lower hardness than the aromatic unit structure. Further, in general, the alicyclic diamine compound forms an insoluble precipitate (salt) in the reaction to form an amide bond, which makes the progress of the reaction difficult.

이에, 본 발명자들은 상술한 구조의 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 새로이 합성하였으며, 특히 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위를 포함하면서 상기 화학식2의 반복 단위의 함량이 1 내지 40몰%임에 따라서, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성 및 높은 투명도를 가지면서 우수한 내후성을 가질 수 있다는 점을 실험을 통해서 확인하였다. Thus, the present inventors have newly synthesized a poly (amide-imide) copolymer having the above-mentioned structure. In particular, when the content of the repeating unit of the above formula (2), including the repeating unit of the above formula (1) To 40 mol%, the poly (amide-imide) copolymer has excellent mechanical properties such as high scratch resistance and high transparency and has excellent weather resistance.

보다 구체적으로, 상기 화학식2의 반복 단위에서 상기 Z을 중심으로 양쪽에 이미드 구조와 아미드(amide) 구조가 위치하는데, 여기서 Z가 탄소수 6 내지 20의 방향족 3가 작용기이며, 상기 화학식 2의 Y가 상기 화학식 12의 방향족 작용기이다.More specifically, an imide structure and an amide structure are positioned on both sides of the Z in the repeating unit of Formula 2, wherein Z is an aromatic trivalent functional group having 6 to 20 carbon atoms, and Y Is an aromatic functional group of the above formula (12).

상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체에서 상기 화학식 2의 반복 반위가 1 내지 40%, 바람직하게는 5 내지 30몰%, 보다 바람직하게는 8 내지 25몰% 포함됨에 따라서, 높은 표면 경도 및 투광성을 확보하면서 자외선에 대한 내후성 또한 함께 구현할 수 있다. As the repeating units of the above formula (2) are contained in the poly (amide-imide) copolymer in an amount of 1 to 40%, preferably 5 to 30 mol%, and more preferably 8 to 25 mol%, high surface hardness and translucency And weather resistance against ultraviolet rays can be realized at the same time.

이에 반하여, 상기 화학식2의 반복 단위를 포함하지 않는 경우, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 이로부터 얻어진 필름의 표면 경도나 탄성 및 굴곡성이 낮은 수준에 머루르게 된다. 또한, 상기 화학식2의 반복 단위와 다른 구조를 갖는 종래의 아미드 구조를 포함한 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 자외선에 대한 내후성이 충분하지 않는 한계가 명확하였다. On the other hand, when the poly (amide-imide) copolymer and the film obtained therefrom do not contain the repeating unit represented by the above-mentioned formula (2), the surface hardness, elasticity and flexibility are low. In addition, the poly (amide-imide) copolymer containing a conventional amide structure having a structure different from that of the repeating unit represented by the above formula (2) has a limit in that the weather resistance against ultraviolet rays is insufficient.

한편, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체에서 상기 화학식 2의 반복 반위의 함량이 40몰%를 초과하는 경우, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 흡수율이 크게 증가하거나 UV 내후성이 크게 저하될 수 있다. On the other hand, when the content of repeating units in the above formula (2) exceeds 40 mol% in the poly (amide-imide) copolymer, the absorption rate of the poly (amide-imide) Can be degraded.

상술한 바와 같이, 상기 구현예의 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위를 포함한다. 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위 각각은 1 이상 반복되어 포함될 수 있으며, 예를 들어 1 내지 10,000개의 반복수를 가질 수 있다. As described above, the poly (amide-imide) copolymer of the embodiment includes the repeating unit of the above formula (1) and the repeating unit of the above formula (2). The repeating unit of Formula 1 and the repeating unit of Formula 2 may be repeated one or more times, for example, 1 to 10,000 repeating units.

상기 화학식1의 반복 단위의 구체적인 예로는 하기 화학식 3 및 화학식 4의 반복 단위를 들 수 있다. Specific examples of the repeating unit of the formula (1) include repeating units of the following formulas (3) and (4).

[화학식3](3)

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 3에서 X1은 하기 화학식 31이다. X 1 in Formula 3 is Formula 31 below.

[화학식31](31)

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식31에서, A 는 단일결합, -O-, -CO-, -S-, -SO2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CONH-, -COO-, -(CH2)n1-, -O(CH2)n2O-, 또는 -OCO(CH2)n3OCO-이고, 상기 n1, n2 및 n3는 각각 1 내지 10의 정수이다. In Formula 31, A is single bond, -O-, -CO-, -S-, -SO 2 -, -C (CH 3) 2 -, -C (CF 3) 2 -, -CONH-, - COO-, - (CH 2) n1 -, -O (CH 2) n2 O-, or -OCO (CH 2) n3 a OCO-, wherein n1, n2 and n3 is an integer of 1 to 10, respectively.

[화학식4][Chemical Formula 4]

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 화학식 4에서 X2은 하기 화학식 41이다. X 2 in the formula (4) is the following formula (41).

[화학식 41](41)

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 31 및 41에서, * 은 결합점(bonding point)을 의미한다.In the above Formulas 31 and 41, * denotes a bonding point.

보다 구체적으로, 상기 화학식1의 반복 단위는 상기 화학식 3 및 화학식 4의 반복 단위를 포함할 수 있다. More specifically, the repeating unit of Formula 1 may include repeating units of Formula 3 and Formula 4.

상기 구현예의 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 상기 화학식 4의 반복 단위를 포함함에 따라서, 보다 높은 투명성과 낮은 황색도를 확보하게 할 수 있다. 또한, 상기 구현예의 폴리(아미드-이미드) 공중합체가 상기 화학식 3의 반복 단위를 포함함에 따라서, 보다 향상된 내열성과 함께 높은 자외선 차폐성을 가질 수 있다. As the poly (amide-imide) copolymer of the above embodiment contains the repeating unit of the above formula (4), higher transparency and lower yellowness can be ensured. Further, as the poly (amide-imide) copolymer of the embodiment includes the repeating unit of the above formula (3), it can have a high ultraviolet shielding property with improved heat resistance.

또한, 상기 구현예의 폴리(아미드-이미드) 공중합체에서, 상기 화학식 3의 반복 단위에 대한 상기 화학식 4의 반복 단위의 몰비율이 1.2 내지 6 일 수 있다. 상기 화학식4의 반복 단위를 상기 화학식 3의 반복 단위 대비 보다 많은 몰수로 포함함에 따라서, 보다 높은 표면 강도나 내스크레치성을 가질 수 있으며 또한 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체 또는 이로부터 제조된 필름의 투명도가 크게 향상될 수 있다.In the poly (amide-imide) copolymer of the embodiment, the molar ratio of the repeating unit of the formula (4) to the repeating unit of the formula (3) may be 1.2 to 6. The poly (amide-imide) copolymer or the poly (amide-imide) copolymer prepared from the poly (amide-imide) copolymer may have a higher surface strength or scratch resistance than the repeating unit represented by the formula The transparency of the film can be greatly improved.

한편, 상기 화학식 1 및 2에서, 상기 Y는 상기 화학식 12이며, 보다 구체적으로 상기 화학식12은 하기 화학식 13일 수 있다. In the above formulas (1) and (2), Y is the formula (12), and more specifically, the formula (12) may be the formula (13).

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 화학식 11에서, * 은 결합점(bonding point)을 의미한다.In Formula 11, * denotes a bonding point.

상기 화학식 1 및 2에서, 상기 Y가 화학식 12 또는 화학식 13의 구조를 가짐에 따라서, 상기 구현예의 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 높은 투광도 등의 광학 특성과 우수한 열안정성 등의 물성을 확보할 수 있다. In the above Formulas 1 and 2, since the Y has the structure of Chemical Formula 12 or Chemical Formula 13, the poly (amide-imide) copolymer of the embodiment ensures properties such as high optical transparency and excellent thermal stability can do.

한편, 상술한 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 물성 및 특성은 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위를 포함함에 따른 것이기 때문에, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위의 총합을 80몰%이상, 또는 90몰%이상, 또는 95몰%이상, 또는 100몰% 포함할 수 있다. 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위 이외로 통상적으로 알려진 이미드 반복 단위, 아미드 반복 단위 및/또는 아미드-이미드 반복 단위를 더 포함할 수도 있다. On the other hand, since the physical properties and properties of the poly (amide-imide) copolymer described above include the repeating units of the above formula (1) and the repeating units of the above formula (2), the poly (amide- The total amount of the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) may be 80 mol% or more, or 90 mol% or more, or 95 mol% or more, or 100 mol%. The poly (amide-imide) copolymer further comprises an imide repeating unit, an amide repeating unit and / or an amide-imide repeating unit conventionally known in addition to the repeating unit of the above formula (1) and the repeating unit of the above formula It is possible.

상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 5,000 내지 500,000의 중량평균분자량, 또는 30,000 내지 300,000의 중량평균분자량을 가질 수 있다. 상기 중량 평균 분자량은 GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량일 수 있다. The poly (amide-imide) copolymer may have a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000, or a weight average molecular weight of 30,000 to 300,000. The weight average molecular weight may be a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by a GPC method.

상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 합성 방법에 큰 제한이 있는 것은 아니며, 상술한 화학식1의 반복 단위 및 화학식2의 반복 단위를 형성할 수 있는 단량체를 사용하여 통상적으로 알려진 합성 장치 및 방법을 사용할 수 있다. There is no great limitation on the method for synthesizing the poly (amide-imide) copolymer, and a synthesizing apparatus and a method commonly known by using the monomer capable of forming the repeating unit of formula (1) and the repeating unit of formula (2) Can be used.

예를 들어, 상술한 화학식1의 반복 단위 및 화학식2의 반복 단위를 형성할 수 있는 단량체를 통상적으로 알려진 유기 용매 등에 녹인 이후에 -10 ℃ 내지 150℃의 온도 범위에서 중합 반응을 진행할 수 있으며, 상기 중합 반응 시간에 또한 크게 한정되지 않는다. For example, the monomer capable of forming the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2) may be dissolved in a commonly known organic solvent, and then the polymerization reaction may be carried out at a temperature ranging from -10 ° C to 150 ° C. But is not particularly limited to the above polymerization reaction time.

상기 중합 과정에서 사용 가능한 유기 용매의 예도 크게 한정되지 않으며, 예를 들어 예를 들어 N-메틸피롤리디논(N-methylpyrrolidinone; NMP), N,N-디메틸아세트아미드(N,N-dimethylacetamide; DMAc), 테트라히드로퓨란(tetrahydrofuran; THF), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide; DMF), 디메틸설폭시드(dimethylsulfoxide; DMSO), 시클로헥산(cyclohexane), 아세토니트릴(acetonitrile), 에틸 락테이트 (Ethyl lactate) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용될 수 있다.Examples of the organic solvent that can be used in the polymerization process are not limited. Examples of the organic solvent include N-methylpyrrolidinone (NMP), N, N-dimethylacetamide ), Tetrahydrofuran (THF), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMSO), cyclohexane, acetonitrile, ethyl Ethyl lactate, and mixtures thereof, may be used.

상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 합성하는 단계에서, 상기 화학식1의 반복 단위는 탄소수 4 내지 10의 지환족 4가 작용기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 4가 작용기를 포함한 테트라카르복실산의 무수물과 화학식12의 작용기를 포함한 디아민 화합물의 반응을 통해서 형성될 수 있다. In the step of synthesizing the poly (amide-imide) copolymer, the repeating unit represented by the formula (1) is preferably an alicyclic tetravalent functional group having 4 to 10 carbon atoms or a tetracarboxylic acid having an aromatic tetravalent functional group having 6 to 20 carbon atoms Can be formed through the reaction of an anhydride with a diamine compound containing a functional group of the formula (12).

또한, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 합성하는 단계에서, 상기 화학식2의 반복 단위는 탄소수 6 내지 20의 방향족 3가 작용기와 산무수물 작용기 및 아실 작용기(또는 이의 유도체)를 포함한 화합물과 화학식12의 작용기를 포함한 디아민 화합물의 반응을 통해서 형성될 수 있다. Further, in the step of synthesizing the poly (amide-imide) copolymer, the repeating unit of the above-mentioned formula (2) is a compound containing an aromatic trifunctional functional group having 6 to 20 carbon atoms, an acid anhydride functional group and an acyl functional group (or a derivative thereof) Can be formed through the reaction of the diamine compound containing the functional group of the formula (12).

상기 화학식 1의 반복 단위 및 화학식 2의 반복 단위를 형성하는 과정에서 아믹산 작용기가 형성될 수 있으며, 이러한 아믹산은 중합 과정 또는 이후 과정에서 이미드화 될 수 있다. 이러한 이미드화는 열적으로 또는 화학적으로 수행될 수 있다. 예를 들어, 상기 열적 이미드화는 상기 폴리아믹산의 형성 과정에서 자연적으로 이루어질 수 있다. 그리고, 상기 화학적 이미드화에는 아세틱 안하이드라이드(acetic anhydride), 피리딘(pyridine)과 같은 화합물이 사용될 수 있다.Amic acid functional groups may be formed in the process of forming the repeating unit of formula (1) and the repeating unit of formula (2), and the amic acid may be imidized in a polymerization process or a subsequent process. This imidization can be performed thermally or chemically. For example, the thermal imidization may occur naturally during the formation of the polyamic acid. For the chemical imidization, compounds such as acetic anhydride and pyridine may be used.

그리고, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 상기 공중합체의 형성 단계 이후 침전, 여과, 건조 등의 통상적인 중합체 회수 공정을 통해 최종적으로 얻어질 수 있다.The poly (amide-imide) copolymer may be finally obtained through a conventional polymer recovery process such as precipitation, filtration, and drying after the formation of the copolymer.

한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 일 구현예의 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는 고분자 필름이 제공될 수 있다. Meanwhile, according to another embodiment of the present invention, a polymer film comprising the poly (amide-imide) copolymer of one embodiment may be provided.

상술한 바와 같이, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체로부터 형성된 고분자 필름은 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성 및 높은 투명도를 가지면서 우수한 내후성을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체로부터 형성된 고분자 필름은 무색의 투명성과 함께 높은 내스크래치성 및 우수한 내후성이 요구되는 다양한 성형품의 재료로 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 고분자 필름은 디스플레이용 기판, 디스플레이용 보호 필름, 터치 패널 등에 적용될 수 있다.As described above, the polymer film formed from the poly (amide-imide) copolymer can have excellent weather resistance while having mechanical properties such as high scratch resistance and high transparency. Accordingly, the polymer film formed from the poly (amide-imide) copolymer can be used as a material for various molded articles which require colorless transparency, high scratch resistance and excellent weather resistance. For example, the polymer film can be applied to a display substrate, a protective film for a display, a touch panel, and the like.

상기 고분자 필름의 두께가 한정되는 것은 아니지만, 요구되는 분야에서 상술한 물성, 예를 들어 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성, 높은 투명도 및 우수한 내후성 등의 물성을 유지하기 위해서는 0.1 ㎛ 내지 1,000㎛의 두께, 또는 1㎛ 내지 200㎛의 두께를 가질 수 있다. Although the thickness of the polymer film is not limited, in order to maintain physical properties such as the above-mentioned physical properties, for example, mechanical properties such as high scratch resistance, high transparency and excellent weather resistance in required fields, , Or a thickness of 1 mu m to 200 mu m.

보다 구체적으로, 상기 고분자 필름은 50 ± 2 ㎛의 두께에서 ASTM D3363에 의거하여 측정된 H 등급 이상의 연필 경도(Pencil Hardness)을 가질 수 있다. More specifically, the polymer film may have a pencil hardness of H grade or higher measured according to ASTM D3363 at a thickness of 50 +/- 2 mu m.

또한, 상기 고분자 필름은 400㎚ 내지 600㎚의 파장 영역에서 85%이상의 투광도를 가질 수 있다. In addition, the polymer film may have a light transmittance of 85% or more in a wavelength range of 400 nm to 600 nm.

또한, 상술한 바와 같이, 상기 고분자 필름은 높은 UV 내후성을 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 고분자 필름에 대하여 QUV Accelerated Weathering Tester (Q-LAB)를 이용하여 50℃에서 1.1 W/㎡의 광량으로 24 시간 동안 자외선에 노출시킨 후, ASTM D1925의 측정법에 따라 필름의 황색 지수(Y1)를 측정하여, 노출시키지 않은 상태의 황색지수 (Y0) 값의 차이 (△YI) 를 측정하였을 때, 상기 차이가 3 미만 일 수 있다. 즉, 상기 고분자 필름은 자외선에 장시간 노출시에도 외관 특성이나 광학 특성이 변화가 그리 크지 않다는 점을 확인할 수 있다. Further, as described above, the polymer film may have high UV weatherability. More specifically, the polymer film was exposed to ultraviolet rays at a light amount of 1.1 W / m 2 at 50 ° C for 24 hours using QUV Accelerated Weathering Tester (Q-LAB), and then the yellow index of the film was measured according to the measurement method of ASTM D1925 The difference may be less than 3 when the difference (YI) of the yellow index (Y0) value of the unexposed state is measured by measuring the difference (Y1). That is, it can be seen that the polymer film does not change significantly in appearance and optical characteristics even when exposed to ultraviolet light for a long time.

상기 고분자 필름은 상술한 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 사용하는 점을 제외하고는 통상적으로 알려진 다양한 고분자 필름의 제조 방법 및 장치를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 고분자 필름은 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는 용액을 임의의 지지체 상에 코팅하여 막을 형성하고, 상기 막으로부터 용매를 증발시켜 건조하는 방법으로 얻어질 수 있다. 상기 고분자 필름에 대한 연신 및 열 처리가 수행될 수도 있다. Except for using the above-mentioned poly (amide-imide) copolymer, the polymer film can be used without any limitations in various known methods and apparatuses for producing a polymer film. For example, the polymer film may be obtained by coating a solution containing the poly (amide-imide) copolymer on an arbitrary support to form a film, and drying the film by evaporating the solvent from the film. Stretching and heat treatment may be performed on the polymer film.

상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는 용액을 코팅하는 임의의 지지체로 사용 가능한 물질은 크게 제한되는 것은 아니며, 예를 들어 다양한 고분자 기판 또는 플라스틱 기판, 유리 기판 또는 구리 등의 금속 기판 등을 사용할 수 있다.The material usable as any support for coating a solution containing the poly (amide-imide) copolymer is not particularly limited. For example, various polymer substrates or plastic substrates, glass substrates, metal substrates such as copper Can be used.

또한, 상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는 용액을 상기 지지체 상에 상에 도포하는 단계에서는 통상적으로 사용되는 도포 방법 및 장치를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어 스프레이법, 롤코팅법, 회전도포법, 슬릿코팅법, 압출코팅법, 커튼코팅법, 다이코팅법, 와이어바코팅법 또는 나이프코팅법 등의 방법을 사용할 수 있다.In addition, in the step of applying the solution containing the poly (amide-imide) copolymer on the support, a commonly used application method and apparatus can be used without limitation, and examples thereof include a spray method, Roll coating, spin coating, slit coating, extrusion coating, curtain coating, die coating, wire bar coating, or knife coating may be used.

또한, 상기 고분자 필름의 제조 단계에서, 상기 도포된 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는 용액을 건조하는 단계를 포함할 수도 있다. 상기 지지체 위에 도포된 고분자 수지 용액은 사용된 용매의 비점보다 낮은 온도에서, 예를 들어 60 내지 200℃에서 30초 내지 30분간 건조될 수 있다. 상기 건조 단계에서는 아치형 오븐(arch-type oven) 또는 플로팅형 오븐(floating-type oven) 등이 사용될 수 있다.Further, in the step of producing the polymer film, drying may include a step of drying the solution containing the applied poly (amide-imide) copolymer. The polymeric resin solution applied on the support may be dried at a temperature lower than the boiling point of the solvent used, for example, at 60 to 200 DEG C for 30 seconds to 30 minutes. In the drying step, an arch-type oven or a floating-type oven may be used.

본 발명에 따르면, 높은 내스크레치성 등의 기계적 물성 및 높은 투명도를 가지면서 우수한 내후성을 갖는 폴리(아미드-이미드) 공중합체와 이를 포함하는 고분자 필름이 제공될 수 있다. According to the present invention, there can be provided a poly (amide-imide) copolymer and a polymer film containing the same, which have mechanical properties such as high scratch resistance and high weatherability while having high transparency.

발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. The invention will be described in more detail in the following examples. However, the following examples are illustrative of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example  And 비교예Comparative Example : : 폴리Poly (아미드-이미드) 공중합체의 합성 및 고분자 필름의 제조](Amide-imide) copolymer and preparation of polymer film]

실시예1Example 1

교반기, 질소 주입기, 적하 깔대기, 온도 조절기를 부탁한 1L 반응기에 질소를 천천히 불어주면서, 디메틸아세트아미드(DMAC) 510 g을 채운 후 상온에서 TFDB (2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4-diaminobiphenyl) 52.6676 g을 투입하여 용해시켰다. 510 g of dimethylacetamide (DMAC) was slowly poured into a 1 L reactor which was equipped with a stirrer, a nitrogenator, a dropping funnel and a thermostat. While nitrogen was slowly blown, TFDB (2,2'-bis (trifluoromethyl) -diaminobiphenyl) was added and dissolved.

상기 TFDB가 완전히 용해된 시점에서, BPDA(3,3',4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride) 14.5169g, CBDA(Cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride) 19.3523 g 및 TMAC (trimellitic acid chloride) 3.4632 g을 상온에서 투입하여 반응액 중 고형분의 농도가 15중량%가 되게 하였다. When the TFDB was completely dissolved, 14.5169 g of BPDA (3,3 ', 4,4'-Biphenyltetracarboxylic dianhydride), 19.3523 g of CBDA (Cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride) and trimellitic acid chloride ) Was added at room temperature to make the concentration of the solid content in the reaction solution 15% by weight.

상기 반응액을 25℃로 유지시킨 상태에서, 질소를 천천히 불어주면서 15시간 교반하여 점도가 54,000 cps인 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 용액을 얻었다. 이러한 폴리(아미드-이미드) 공중합체 용액에 피리딘 23.4 g, 아세트산 무수물 30.2g을 투입한 후, 상온에서 30분간 교반한 후 70℃까지 승온하여 1시간 동안 교반하였다. 그리고, 상온까지 식힌 이후 메탄올 20 L에서 고체 상태의 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 석출 시켰다 [고체 상태의 폴리(아미드-이미드) 공중합체: GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량: 약 150,000 g/mol].While the reaction solution was maintained at 25 占 폚, stirring was carried out for 15 hours while slowly blowing nitrogen to obtain a poly (amide-imide) copolymer having a viscosity of 54,000 cps Solution. After 23.4 g of pyridine and 30.2 g of acetic anhydride were added to this poly (amide-imide) copolymer solution, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C and stirred for 1 hour. After cooling to room temperature, a solid poly (amide-imide) copolymer was precipitated at 20 L of methanol. [Solid state poly (amide-imide) copolymer: Weight average in terms of polystyrene Molecular weight: about 150,000 g / mol].

상기 석출된 고체 상태의 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 분쇄하여 가루로 만든 후, 여과하여 100℃ 진공 오븐에서 12시간 동안 진공 건조를 하였다. 상기 진공 건조한 폴리(아미드-이미드) 공중합체의 분말을 디메틸아세트아미드에 고형분 함량이 15중량%가 되도록 용해시킨 후, 유리판 위에 최종 두께가 50 ㎛가 되도록 코팅을 하였다. The precipitated solid poly (amide-imide) copolymer was pulverized and pulverized, filtered and vacuum-dried in a vacuum oven at 100 ° C for 12 hours. The vacuum dried poly (amide-imide) copolymer powder was dissolved in dimethylacetamide to a solids content of 15% by weight, and then coated on a glass plate to a final thickness of 50 탆.

상기 유리판 코팅 이후, 70℃에서 5분간 건조하고 150℃에서 10분간 건조한 후, 유리판 위에서 박리하였다. 상기 박리된 필름을 프레임에 고정한 후 고온 경화 오븐에 넣은 후, 질소를 흘려주면서 250℃에서 30분간 경화를 진행하여, 약 50 ㎛ 두께의 고분자 필름을 얻었다.After the glass plate coating, it was dried at 70 ° C for 5 minutes, dried at 150 ° C for 10 minutes, and then peeled off from the glass plate. The peeled film was fixed to a frame and placed in a high temperature curing oven, followed by curing at 250 DEG C for 30 minutes while flowing nitrogen, thereby obtaining a polymer film having a thickness of about 50 mu m.

실시예2Example 2

상기 BPDA 및 TMAC 의 사용량을 하기 표1과 같이 달리한 점을 제외하고, 실시예1과 동일하게 폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 고분자 필름을 제조하였다. A poly (amide-imide) copolymer and a polymer film were prepared in the same manner as in Example 1, except that the amounts of BPDA and TMAC used were changed as shown in Table 1 below.

비교예Comparative Example 1 내지 3 1 to 3

사용한 단량체의 함량을 하기 표1과 같이 달리한 점을 제외하고, 실시예1과 동일하게 폴리(아미드-이미드) 공중합체 및 고분자 필름을 제조하였다. A poly (amide-imide) copolymer and a polymer film were prepared in the same manner as in Example 1, except that the content of the monomers used was changed as shown in Table 1 below.

조성비 (TFDB의 몰 기준)Composition ratio (moles basis of TFDB) TFDBTFDB CBDACBDA BPDABPDA 6FDA6FDA TMACTMAC TPCTPC 실시예1Example 1 1.01.0 0.60.6 0.30.3 0.10.1 실시예2Example 2 1.01.0 0.60.6 0.20.2 0.20.2 비교예1Comparative Example 1 1.01.0 0.60.6 0.20.2 0.20.2 비교예2Comparative Example 2 1.01.0 0.80.8 0.20.2 비교예3Comparative Example 3 1.01.0 0.20.2 0.30.3 0.50.5

6FDA: 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride6FDA: 4,4 '- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride

TPC: p-Terephthaloyl chlorideTPC: p-Terephthaloyl chloride

[[ 실험예Experimental Example : 고분자 필름의 물성 측정]: Measurement of Physical Properties of Polymer Film]

(1) 투과도(T) 측정(1) Measurement of permeability (T)

UV-VIS-NIR Spectrophotometer (SolidSpec-3700, SHIMADZU)를 이용하여 상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 고분자 필름의 전광선 투과도를 측정하였고, 550 nm 파장의 가시광선에 대한 투과도 값을 하기 표2에 나타내었다.The total light transmittance of the polymer films obtained in the Examples and Comparative Examples was measured using a UV-VIS-NIR Spectrophotometer (SolidSpec-3700, SHIMADZU), and the transmittance values for visible light at a wavelength of 550 nm are shown in Table 2 below .

(2) 황색 지수(Yellow Index; Y.I.)(2) Yellow Index (Y.I.)

UV-2600 UV-Vis Spectrometer (SHIMADZU)를 이용하여 ASTM D1925의 측정법에 따라 상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 고분자 필름의 황색 지수(Y.I.)를 측정하였다.(Y.I.) of the polymer films obtained in the above Examples and Comparative Examples were measured according to the measurement method of ASTM D1925 using UV-2600 UV-Vis Spectrometer (SHIMADZU).

(3) 연필 경도(3) Pencil Hardness

Pencil Hardness Tester를 이용하여 ASTM D3363의 측정법에 따라 상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 고분자 필름의 연필 경도를 측정하였다. 구체적으로, 상기 테스터에 다양한 경도의 연필을 고정하여 상기 필름에 긁은 후, 상기 필름에 흠집이 발생한 정도를 육안이나 현미경으로 관찰하여, 총 긁은 횟수의 70 % 이상 긁히지 않았을 때, 그 연필의 경도에 해당하는 값을 상기 필름의 연필 경도로 평가하였다.The pencil hardness of the polymer films obtained in the above Examples and Comparative Examples was measured according to ASTM D3363 using Pencil Hardness Tester. Specifically, when a pencil having various hardnesses is fixed to the tester and scratches on the film, the degree of occurrence of scratches on the film is visually observed with a microscope or microscope. When the scratches are not scratched by more than 70% of the total number of scratches, The corresponding value was evaluated by the pencil hardness of the film.

(4) UV 내후성 측정 (4) UV weatherability measurement

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 고분자 필름에 대하여QUV Accelerated Weathering Tester (Q-LAB)를 이용하여 50℃에서 1.1 W/㎡의 광량으로 24 시간 동안 자외선에 노출시킨 후, ASTM D1925의 측정법에 따라 필름의 황색 지수(Y1)를 측정하여, 노출시키지 않은 상태의 황색지수 (Y0) 값의 차이 (△YI) 를 측정하였다. The polymer films obtained in the above Examples and Comparative Examples were exposed to ultraviolet rays at a light amount of 1.1 W / m 2 at 50 캜 for 24 hours using a QUV Accelerated Weathering Tester (Q-LAB) The yellow index (Y1) of the unexposed state was measured to determine the difference (YI) of the yellow index (Y0) value.

측정 및 평가 결과는 상기 황색 지수 값의 변화량(△Y = Y1 - Y0)이 3 미만인 경우 '◎', 3 이상 5 미만인 경우 '○', 5 이상 7 미만인 경우 '△ ', 그리고 7 이상인 경우 'X'로 나타내었다.The results of the measurement and evaluation are as follows: "⊚" when the change amount (ΔY = Y1-Y0) of the yellowness index is less than 3; "∘" when the variation is less than 3 and less than 5; X '.

(5) (5) 굴곡성Flexibility 측정  Measure

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 고분자 필름에 대하여 MIT 타입의 내절 강도 시험기 (folding endurance tester)를 이용하여 필름의 내절 강도를 평가하였다. 구체적으로, 필름의 시편(1cm*7cm)을 내절 강도 시험기에 로딩하고 시편의 왼쪽과 오른쪽에서 175 rpm의 속도로 135°의 각도, 0.8 mm의 곡률 반경 및 250 g의 하중으로 굽혀서 파단할 때까지 왕복 굽힘 횟수(cycle)를 측정하였다The polymer films obtained in the Examples and Comparative Examples were evaluated for the bending strength of the films by using an MIT type folding endurance tester. Specifically, a specimen (1 cm x 7 cm) of the film was loaded into an impact strength tester and tilted at an angle of 135 ° at a speed of 175 rpm on the left and right sides of the specimen, with a radius of curvature of 0.8 mm and a load of 250 g The number of reciprocating bending cycles was measured

투과도
(550 nm)
Permeability
(550 nm)
연필 경도Pencil hardness UV 내후성UV weatherability 굴곡성
(MIT, 회)
Flexibility
(MIT, times)
실시예1Example 1 8888 HH 24,00024,000 실시예2Example 2 8989 2H2H 21,00021,000 비교예1Comparative Example 1 8989 2H2H 28,00028,000 비교예2Comparative Example 2 9090 FF 8,0008,000 비교예3Comparative Example 3 8888 HBHB XX 33,00033,000

상기 표2에서 확인되는 바와 같이, 실시예 1 및 2에서 얻어진 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 이용하에 제조된 필름은 88%이상의 높은 투광도를 확보하면서 H이상의 높은 표면 경도 및 20,000 회 이상의 높은 굴곡성을 가질 뿐만 아니라 자외선에 대한 높은 내후성을 갖는다는 점이 확인되었다. As can be seen in Table 2, the films prepared using the poly (amide-imide) copolymers obtained in Examples 1 and 2 exhibited a high surface hardness of H or higher and a high surface hardness of 20,000 or more Or more and high weather resistance against ultraviolet ray.

이에 반해서, 이전에 알려진 아미드 구조(p-Terephthaloyl chloride로부터 유래)를 포함한 비교예1및 3의 경우 실시예와 동등 수준의 표면 경도 및 투광성은 확보할 수 있으나, 자외선에 대한 내후성이 크게 떨어진다는 점이 확인되었다.On the contrary, in Comparative Examples 1 and 3 including the previously known amide structure (derived from p-Terephthaloyl chloride), the surface hardness and translucency equivalent to those of the Examples can be secured, but the weather resistance against ultraviolet rays is greatly reduced .

아울러, trimellitic acid chloride로부터 유래한 아미드-이미드 반복 단위를 포함하지 않는 비교예2의 경우, 표면 경도가 크게 낮을 뿐만 아니라 필름의 굴곡성 또한 상당히 낮은 수준에 머무른다는 점이 확인되었다.In addition, in the case of Comparative Example 2, which does not contain an amide-imide repeating unit derived from trimellitic acid chloride, it was confirmed that not only the surface hardness was significantly lowered but also the bending property of the film remained at a significantly low level.

Claims (9)

하기 화학식1의 반복 단위 및 하기 화학식2의 반복 단위를 포함하며,
하기 화학식2의 반복 단위의 함량이 1 내지 40몰%인,
폴리(아미드-이미드) 공중합체:
[화학식1]
Figure pat00009

상기 화학식1에서, X는 탄소수 4 내지 10의 지환족 4가 작용기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 4가 작용기이고,
[화학식 2]
Figure pat00010

상기 화학식2에서, Z는 탄소수 6 내지 20의 방향족 3가 작용기이고,
상기 화학식 1 및 2에서, 상기 Y는 하기 화학식 12이며,
[화학식12]
Figure pat00011

상기 화학식12에서, L1 은 단일결합, -O-, -CO-, -S-, -SO2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CONH-, -COO-, -(CH2)n1-, -O(CH2)n2O-, -OCH2-C(CH3)2-CH2O- 또는 -OCO(CH2)n3OCO-이고, 상기 n1, n2 및 n3는 각각 1 내지 10의 정수이고,
R1및 R2 는 서로 같거나 다를 수 있으며, 각각 탄소수 1 내지 5의 퍼플로오로알킬(perfluoro alkyl) 이다.
A repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2)
Wherein the content of the repeating unit represented by the following formula (2) is 1 to 40 mol%
Poly (amide-imide) copolymer:
[Chemical Formula 1]
Figure pat00009

In Formula 1, X is an alicyclic tetravalent functional group having 4 to 10 carbon atoms or an aromatic tetravalent functional group having 6 to 20 carbon atoms,
(2)
Figure pat00010

In Formula 2, Z is an aromatic trivalent functional group having 6 to 20 carbon atoms,
In the general formulas (1) and (2), Y is represented by the following general formula (12)
[Chemical Formula 12]
Figure pat00011

Wherein L 1 is a single bond, -O-, -CO-, -S-, -SO 2 -, -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -CONH-, -COO-, - (CH 2) n1 -, -O (CH 2) and n2 O-, -OCH 2 -C (CH 3) 2 -CH 2 O- , or -OCO (CH 2) n3 OCO-, wherein n1, n2 and n3 are each an integer of 1 to 10,
R 1 and R 2, which may be the same or different, each represent a perfluoro alkyl having 1 to 5 carbon atoms, to be.
제1항에 있어서,
상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체 중 상기 화학식2의 반복 단위의 함량이 5 내지 30몰%인,
폴리(아미드-이미드) 공중합체.
The method according to claim 1,
Wherein the content of the repeating unit represented by the formula (2) in the poly (amide-imide) copolymer is 5 to 30 mol%
Poly (amide-imide) copolymer.
제1항에 있어서,
상기 화학식1의 반복 단위는 하기 화학식 3 및 화학식 4의 반복 단위를 포함하고,
하기 화학식 3의 반복 단위에 대한 하기 화학식 4의 반복 단위의 몰비율이 1.2 내지 6인, 폴리(아미드-이미드) 공중합체:
[화학식3]
Figure pat00012

상기 화학식 3에서 X1은 하기 화학식 31이고,
[화학식31]
Figure pat00013

상기 화학식31에서, A 는 단일결합, -O-, -CO-, -S-, -SO2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -CONH-, -COO-, -(CH2)n1-, -O(CH2)n2O-, 또는 -OCO(CH2)n3OCO-이고, 상기 n1, n2 및 n3는 각각 1 내지 10의 정수이고,
[화학식4]
Figure pat00014

상기 화학식 4에서 X2은 하기 화학식 41이고,
[화학식 41]
Figure pat00015

상기 화학식 31 및 41에서, * 은 결합점(bonding point)을 의미한다.
The method according to claim 1,
The repeating unit represented by the formula (1) includes repeating units represented by the following formulas (3) and (4)
(Amide-imide) copolymer in which the molar ratio of the repeating unit represented by the following formula (4) to the repeating unit represented by the following formula (3) is 1.2 to 6:
(3)
Figure pat00012

X 3 in the formula 1 is the following formula 31,
(31)
Figure pat00013

In Formula 31, A is single bond, -O-, -CO-, -S-, -SO 2 -, -C (CH 3) 2 -, -C (CF 3) 2 -, -CONH-, - a, -O (CH 2) n2 O- , or -OCO (CH 2) n3 OCO-, and wherein n1, n2 and n3 is an integer from 1 to 10, - COO-, - (CH 2 ) n1
[Chemical Formula 4]
Figure pat00014

X 2 in Formula 4 is represented by the following Formula 41,
(41)
Figure pat00015

In the above Formulas 31 and 41, * denotes a bonding point.
제1항에 있어서,
상기 화학식12은 하기 화학식 13인, 폴리(아미드-이미드) 공중합체:
[화학식 13]
Figure pat00016

상기 화학식 11에서, * 은 결합점(bonding point)을 의미한다.
The method according to claim 1,
Wherein the formula (12) is a poly (amide-imide) copolymer having the following formula (13):
[Chemical Formula 13]
Figure pat00016

In Formula 11, * denotes a bonding point.
제1항에 있어서,
상기 폴리(아미드-이미드) 공중합체는 5,000 내지 500,000의 중량평균분자량을 갖는, 폴리(아미드-이미드) 공중합체.
The method according to claim 1,
Wherein the poly (amide-imide) copolymer has a weight average molecular weight of from 5,000 to 500,000.
제1항에 있어서,
상기 화학식1의 반복 단위 및 상기 화학식2의 반복 단위의 총합을 80몰%이상 포함하는, 폴리(아미드-이미드) 공중합체.
The method according to claim 1,
(Amide-imide) copolymer comprising at least 80 mol% of the total of the repeating unit represented by the formula (1) and the repeating unit represented by the formula (2).
제 1 항의 폴리(아미드-이미드) 공중합체를 포함하는, 고분자 필름.
A polymeric film comprising the poly (amide-imide) copolymer of claim 1.
제 7 항에 있어서,
상기 고분자 필름은 50 ± 2 ㎛의 두께에서 ASTM D3363에 의거하여 측정된 H 등급 이상의 연필 경도(Pencil Hardness)을 가지며,
400㎚ 내지 600㎚의 파장 영역에서 85%이상의 투광도를 갖는, 고분자 필름.
8. The method of claim 7,
The polymer film has a pencil hardness of H grade or higher measured according to ASTM D3363 at a thickness of 50 +/- 2 mu m,
A polymer film having a transparency of 85% or more in a wavelength region of 400 nm to 600 nm.
제 7 항에 있어서,
상기 고분자 필름에 대하여 QUV Accelerated Weathering Tester (Q-LAB)를 이용하여 50℃에서 1.1 W/㎡의 광량으로 24 시간 동안 자외선에 노출 전후의 황색 지수의 변이가 3미만인, 고분자 필름.
8. The method of claim 7,
Wherein said polymer film has a yellow index variation of less than 3 before and after exposure to ultraviolet light for 24 hours at a light amount of 1.1 W / m < 2 > at 50 DEG C using QUV Accelerated Weathering Tester (Q-
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20200120166A (en) * 2019-04-11 2020-10-21 주식회사 엘지화학 Polyamide resin film, resin laminate using the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007091701A (en) * 2005-08-31 2007-04-12 Jfe Chemical Corp Tetracarboxylic acid containing fluorenyl group and ester group, polyester imide precursor containing fluorenyl group, polyester imide containing fluorenyl group and method for producing the same
KR20130029129A (en) * 2011-05-18 2013-03-22 삼성전자주식회사 Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article
JP2015081285A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 日産化学工業株式会社 Resin composition for display substrate
KR20160083738A (en) * 2015-01-02 2016-07-12 삼성전자주식회사 Windows for display device and display device including the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007091701A (en) * 2005-08-31 2007-04-12 Jfe Chemical Corp Tetracarboxylic acid containing fluorenyl group and ester group, polyester imide precursor containing fluorenyl group, polyester imide containing fluorenyl group and method for producing the same
KR20130029129A (en) * 2011-05-18 2013-03-22 삼성전자주식회사 Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article
JP2015081285A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 日産化学工業株式会社 Resin composition for display substrate
KR20160083738A (en) * 2015-01-02 2016-07-12 삼성전자주식회사 Windows for display device and display device including the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200120166A (en) * 2019-04-11 2020-10-21 주식회사 엘지화학 Polyamide resin film, resin laminate using the same

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