KR20180100766A - Rework station for reworking electronic device including semiconductor device - Google Patents

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KR20180100766A
KR20180100766A KR1020170026970A KR20170026970A KR20180100766A KR 20180100766 A KR20180100766 A KR 20180100766A KR 1020170026970 A KR1020170026970 A KR 1020170026970A KR 20170026970 A KR20170026970 A KR 20170026970A KR 20180100766 A KR20180100766 A KR 20180100766A
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Abstract

A rework apparatus comprises: a reflow head (100) having a heater (20) and movable along a Z axis; and a vacuum suction pipe (10) for picking up the electronic device (2) to be rewound. A shock absorbing means (200) is provided at an intermediate portion of the vacuum suction pipe (10) and a heat blocking means (300) is installed around a lower portion of the vacuum suction pipe (10).

Description

반도체 소자를 포함한 전자소자의 리워크 작업을 위한 리워크 장치{REWORK STATION FOR REWORKING ELECTRONIC DEVICE INCLUDING SEMICONDUCTOR DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a reworking device for reworking an electronic device including a semiconductor device,

본 발명은 기판 실장부품을 제거 또는 교체 작업을 수행하기 위한 리워크 장치(rework station)에 관한 것으로, 특히 반도체 소자를 포함한 전자소자의 리워크 작업을 위한 진공흡착관의 선단에서의 열변형을 방지할 수 있는 전자소자의 리워크 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rework station for performing a removal or replacement operation of a substrate-mounted component, and more particularly to a rework station for preventing thermal deformation at the tip of a vacuum- And more particularly, to a rework device for an electronic device.

집적회로칩(IC), 표면실장부품(SMC/SMD) 등과 같은 전자부품은 솔더링(soldering)에 의해 인쇄회로기판, 인쇄회로카드 등과 같은 기판(substrate)에 부착되며, 이러한 전자부품들에 결함이 발견될 경우에는 리워크 공정을 통해 결함 부품을 제거한 후 정상적인 전자부품으로 교체할 수 있다.Electronic components such as integrated circuit chips (IC), surface mount components (SMC / SMD), and the like are attached to a substrate such as a printed circuit board, a printed circuit card, etc. by soldering, If found, the defective part can be removed through a rework process and replaced with a normal electronic part.

이러한 리워크 공정에서, 기판(1)의 솔더 패드에 대응하는 솔더볼(solder ball)(3)을 용융점, 즉 리플로우(reflow) 온도로 가열함으로써 결함 부품(2)을 분리할 수 있으며, 리워크 장치는 이러한 리워크 공정을 정밀하게 수행하기 위한 자동화 설비를 일컫는다. 리워크 장치에는 솔더볼을 리플로우 온도로 가열하기 위해 히터 등을 구비한 리플로우 헤드가 마련되는데, 이러한 리플로우 헤드 내에는 리워크 대상 소자를 집어 올리기 위한 진공흡착관이 장착된다.In this rework process, the defective part 2 can be separated by heating the solder ball 3 corresponding to the solder pad of the substrate 1 to a melting point, that is, a reflow temperature, The device refers to an automated facility for precisely performing such a rework process. The rework apparatus is provided with a reflow head having a heater or the like for heating the solder ball to the reflow temperature, and a vacuum adsorption tube for lifting the element to be rewound is mounted in the reflow head.

종래의 리워크 장치는 진공흡착관을 이용하여 기판에 조립된 소자를 집어 올리기 위해 리플로우 헤드(100)를 아래 방향으로 이동시켜서 진공흡착관(10)을 전자소자(2)의 상부면에 접촉시키고, 이 상태에서 진공흡착관(10)이 리워크 대상 전자소자(2)의 상부면을 과도하게 누르는 것을 방지하기 위한 가이드수단(102)이 구비된다(도 1 참조). 반도체를 비롯한 전자소자가 미세화되면서 소자 크기가 작아지게 되고, 그에 따라 진공흡착관(10)의 선단(先端)을 전자소자에 정확히 정렬시킬 수 있도록, 진공흡착관(10)의 하부에는 유격방지관(60)이 설치된다(도 2참조). 그런데, 리워크 공정에서 진공흡착관(10)이 리워크 대상 소자(2)의 상부면에 흡착된 상태에서 리워크 소자를 히터의 열에 가열할 때, 진공흡착관(10)의 선단부(10a)도 함께 히터의 열에 의해 가열되어 열팽창 및 열변형되므로, 진공흡착관(10)이 유격방지관(60)의 내주면에서 원활하게 이동할 수 없게 되어 가이드수단(102)이 정상 작동을 하지 않게 된다. 이에 따라, 리플로우 헤드(100)의 이동을 제어하는 가이드수단(102)의 센서가 작동하지 않게 되어, 리플로우 헤드(100)의 본체부, 유격방지관(60) 및 진공흡착관(10)을 아래방향으로 계속 이동시켜서 전자소자(2)의 상면을 과도하게 누르게 되어 전자소자(2)가 손상되어 버린다(도 3 참조).The conventional reworking apparatus is constructed so that the reflow head 100 is moved downward to pick up an element assembled on a substrate by using a vacuum adsorption tube so that the vacuum adsorption tube 10 is contacted with the upper surface of the electronic element 2 And guiding means 102 for preventing the vacuum suction pipe 10 from excessively pressing the upper surface of the electronic device 2 to be rewound in this state (see FIG. 1). An electronic device such as a semiconductor is miniaturized and the size of the device becomes small so that the tip of the vacuum adsorption tube 10 can be accurately aligned with the electronic device. (See Fig. 2). When the rework element is heated to the heat of the heater in a state in which the vacuum adsorption tube 10 is adsorbed on the upper surface of the element to be rewound 2 in the rework process, the tip 10a of the vacuum adsorption tube 10, The vacuum suction pipe 10 can not smoothly move from the inner circumferential surface of the air leakage preventing pipe 60 and the guide means 102 does not operate normally. The sensor of the guide means 102 for controlling the movement of the reflow head 100 is not operated so that the main body of the reflow head 100, the leak preventive pipe 60 and the vacuum suction pipe 10, So that the upper surface of the electronic element 2 is excessively pressed, and the electronic element 2 is damaged (see Fig. 3).

또한, 리플로우 헤드(100)로부터 인출되었던 진공흡착관(10)이 상방향으로 후퇴할 때 유격방지관(60)에 끼는 문제가 발생되어 리워크 장비의 작동이 원활하지 않게 된다.In addition, when the vacuum suction pipe 10 pulled out of the reflow head 100 is retracted upward, there is a problem that it is caught in the leak preventive pipe 60, so that the operation of the rework equipment is not smooth.

따라서, 본 발명은 리워크 공정시에 진공흡착관의 선단에서의 열팽창 및 열변형을 방지하여 공정 신뢰성을 유지할 수 있는 전자소자의 리워크 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나, 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a rework apparatus for an electronic device capable of preventing thermal expansion and thermal deformation at the tip of a vacuum adsorption pipe during a rework process, thereby maintaining process reliability. However, these problems are illustrative and do not limit the scope of the present invention.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 관점에 따른 리워크 장치는, 히터를 구비하며, Z축을 따라 이동할 수 있는 리플로우 헤드; 및 리워크 대상 전자소자를 집어 올리기 위한 진공흡착관을 포함하며, 상기 진공흡착관의 중간부에 유격방지수단이 설치되며, 상기 진공흡착관의 하부 둘레에 열차단수단이 설치된다. 여기서, 상기 리플로우 헤드가 Z축을 따라 이동할 때 상기 진공흡착관은 상기 히터 와 함께 Z축 방향으로 이동하며, 상기 진공흡착관은 상기 히터에 대하여 Z축 방향으로 상대이동을 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a rework device including: a reflow head having a heater and capable of moving along a Z axis; And a vacuum suction pipe for picking up the electronic device to be rewound. The vacuum suction pipe is provided with a clearance preventing means at an intermediate portion thereof, and a heat insulating means is provided around a lower portion of the vacuum suction pipe. Here, when the reflow head moves along the Z axis, the vacuum adsorption tube moves together with the heater in the Z axis direction, and the vacuum adsorption tube moves relative to the heater in the Z axis direction.

본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 진공흡착관의 하부 둘레에 설치되는 열차단수단은 상기 진공흡착관의 열팽창을 수용할 수 있을 정도의 내경 크기를 가지는 원통부재로 이루어질 수 있다.In the rework apparatus according to an embodiment of the present invention, the heat end means provided around the lower portion of the vacuum suction pipe may be formed of a cylindrical member having an inner diameter enough to accommodate the thermal expansion of the vacuum suction pipe .

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 진공흡착관의 하부 둘레에 설치되는 열차단수단은 단열재질로 이루어질 수 있다.Further, in the rework apparatus according to an embodiment of the present invention, the heat insulating means provided around the lower portion of the vacuum suction pipe may be made of a heat insulating material.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 진공흡착관의 유격방지수단의 내주면과 상기 진공흡착관의 외주면은 미끄럼접촉관계로 결합될 수 있다.In the rework apparatus according to an embodiment of the present invention, the inner circumferential surface of the vacuum absorber tube preventing means and the outer circumferential surface of the vacuum absorbing tube may be engaged in a sliding contact relationship.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 진공흡착관의 유격방지수단의 하단은 상기 열차단수단의 상단에 인접하게 배치될 수 있다.Further, in the rework apparatus according to an embodiment of the present invention, the lower end of the means for preventing the vacuum suction pipe can be disposed adjacent to the upper end of the heat-insulating means.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 리플로우 헤드는 상기 진공흡착관의 선단이 상기 리워크 대상 전자소자의 상부면을 누르는 압력을 조절할 수 있는 가이드수단을 더 포함하며, 상기 진공흡착관의 상부가 상기 가이드수단에 고정되며, 상기 가이드수단에 의하여 상기 진공흡착관이 상기 히터 및 열풍공급노즐에 대하여 Z축 방향으로 상대이동을 할 수 있다.Further, in the rework device according to an embodiment of the present invention, the reflow head further includes a guide means capable of adjusting a pressure of the tip of the vacuum suction pipe to press the upper surface of the electronic device to be rewound, An upper portion of the vacuum suction pipe is fixed to the guide means and the vacuum suction pipe can move relative to the heater and the hot air supply nozzle in the Z axis direction by the guide means.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 가이드수단은, 수평으로 배치되는 제1 수평부재; 상기 제1 수평부재로부터 아래 방향으로 소정 거리 이격되어 배치되는 제2 수평부재; 상기 제1 수평부재와 상기 제2 수평부재 사이에 배치되며, 그 양단이 상기 제1 수평부재와 상기 제2 수평부재에 부착되는 제1 탄성부재; 상기 제2 수평부재를 Z축 방향에서 상하로 이동시키는 구동수단; 및 상기 제2 수평부재의 상단에 설치되어, 상기 제1 수평부재의 하단의 위치를 감지하는 감지수단을 포함할 수 있다.Further, in the rework apparatus according to the embodiment of the present invention, the guide means may include: a first horizontal member arranged horizontally; A second horizontal member disposed at a predetermined distance downward from the first horizontal member; A first elastic member disposed between the first horizontal member and the second horizontal member and having opposite ends attached to the first horizontal member and the second horizontal member; Driving means for moving the second horizontal member vertically in the Z-axis direction; And sensing means installed at an upper end of the second horizontal member for sensing a position of a lower end of the first horizontal member.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 전자소자의 리워크 공정시에 진공흡착관의 선단에서의 열팽창 및 열변형을 방지하여 공정 신뢰성을 유지할 수 있는 전자소자의 리워크 장치를 구현할 수 있다. 물론, 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. According to one embodiment of the present invention as described above, it is possible to implement a rework device of an electronic device capable of preventing thermal expansion and thermal deformation at the tip of a vacuum adsorption tube at the time of reworking of an electronic device, . Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.

도 1은 종래 기술에 따른 전자소자의 리워크 장치에서의 진공흡착관을 포함하는 리플로우 헤드의 단면도이다.
도 2는 종래 기술에 따른 전자소자의 리워크 장치에서의 진공흡착관과 유격방지관을 포함하는 리플로우 헤드의 단면도이다.
도 3은 도 2의 리워크 장치에서 진공흡착관이 전자소자를 과도하게 누르는 상태를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 전자소자의 리워크 장치의 사시도이다.
도 5는 도 4의 리플로우 헤드에 대한 내부 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자소자의 리워크 장치의 리플로우 헤드의 단면도이다.
도 7은 도 6의 리플로우 헤드에서 가이드수단의 제2 수평부재, 히터, 열풍공급노즐, 유격방지수단 및 열차단수단이 진공흡착관에 대하여 아래방향으로 이동된 상태를 나타내는 도면이다.
도 8은 도 7의 리플로우 헤드에서 진공흡착관이 전자소자를 흡착한 상태에서 리플로우 헤드 전체가 상방향으로 이동된 상태를 나타내는 도면이다.1 is a cross-sectional view of a reflow head including a vacuum adsorption tube in a rework apparatus of an electronic device according to the prior art.
2 is a cross-sectional view of a reflow head including a vacuum adsorption tube and a leak preventing tube in a rework apparatus of an electronic device according to the prior art.
Fig. 3 is a diagram showing a state in which the vacuum adsorption tube presses the electronic element excessively in the rework apparatus of Fig. 2;
4 is a perspective view of a lithographic apparatus of an electronic device to which an embodiment of the present invention is applied.
Figure 5 is an internal perspective view of the reflow head of Figure 4;
6 is a cross-sectional view of the reflow head of the rework device of an electronic device according to an embodiment of the present invention.
7 is a view showing a state in which the second horizontal member, the heater, the hot air supply nozzle, the air gap preventing means, and the heat end means of the guiding means in the reflow head of FIG. 6 are moved downward with respect to the vacuum adsorption pipe.
8 is a view showing a state in which the entire reflow head is moved upward in a state in which a vacuum adsorption tube adsorbs an electronic element in the reflow head of FIG.

상술한 본 발명의 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 실시 예를 통하여 보다 분명해 질 것이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings.

이하의 특정한 구조 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시 예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 개념에 따른 실시 예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서 또는 출원에 설명된 실시 예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다.It is to be understood that the following specific structure or functional description is illustrative only for the purpose of describing an embodiment in accordance with the concepts of the present invention and that embodiments in accordance with the concepts of the present invention may be embodied in various forms, It should not be construed as limited to the embodiments.

본 발명의 개념에 따른 실시 예는 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 특정 실시 예들은 도면에 예시하고 본 명세서 또는 출원에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예들을 특정한 개시 형태에 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The embodiments according to the concept of the present invention can make various changes and have various forms, so that specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in this specification or application. However, it should be understood that the embodiments according to the concept of the present invention are not intended to limit the present invention to specific modes of operation, but include all changes, equivalents and alternatives included in the spirit and scope of the present invention.

제1 및/또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소들로부터 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채, 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소는 제1 구성 요소로도 명명될 수 있다.The terms first and / or second etc. may be used to describe various components, but the components are not limited to these terms. The terms may be named for the purpose of distinguishing one element from another, for example, without departing from the scope of the right according to the concept of the present invention, the first element being referred to as the second element, The second component may also be referred to as a first component.

어떠한 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어 있다"거나 "접속되어 있다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떠한 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어 있다"거나 또는 "직접 접속되어 있다"고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하기 위한 다른 표현들, 즉 "∼사이에"와 "바로 ∼사이에" 또는 "∼에 인접하는"과 "∼에 직접 인접하는" 등의 표현도 마찬가지로 해석되어야 한다.Whenever an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, but there may be other elements in between It should be understood. On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions for describing the relationship between components, such as "between" and "between" or "adjacent to" and "directly adjacent to" should also be interpreted.

본 명세서에서 사용하는 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서 "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설명된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. It is to be understood that the terms such as " comprises "or" having "in this specification are intended to specify the presence of stated features, integers, But do not preclude the presence or addition of steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the meaning of the context in the relevant art and, unless explicitly defined herein, are to be interpreted as ideal or overly formal Do not.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명함으로써 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 4는 본 발명의 일 실시예가 적용되는 전자소자의 리워크 작업을 위한 진공흡입 장치를 포함하는 리워크 장치에 대한 사시도로서, 리플로우 헤드(100), 장착 플레이트(120), 제어 본체(130), 사용자 입력부(132), 모니터(134), 비전카메라 헤드부(140), 기판장착 테이블(150) 등을 포함할 수 있다. 도 4의 본 발명의 실시예가 적용되는 전자소자는 초소형 반도체 소자를 포함할 수 있다. 리플로우 헤드(100)는 Z축을 따라 이동할 수 있으며, 본 발명의 일 실시예에 따라 리워크 대상 전자소자를 집어 올리기 위한 진공흡착기구를 포함한다. 또한, 리플로우헤드(100)는 X축 또는 Y축을 따라 이동할 수도 있다.4 is a perspective view of a lithographic apparatus including a vacuum inhaler for rework of an electronic device to which an embodiment of the present invention is applied. The reflow head 100 includes a mounting plate 120, a control body 130 A user input unit 132, a monitor 134, a vision camera head unit 140, a substrate mounting table 150, and the like. The electronic device to which the embodiment of the invention of Fig. 4 is applied may comprise a micro-sized semiconductor device. The reflow head 100 is movable along the Z axis and includes a vacuum adsorption mechanism for picking up the electronic elements to be rewound according to an embodiment of the present invention. Also, the reflow head 100 may move along the X axis or the Y axis.

이러한 리플로우 헤드(100)는 장착 플레이트(120)에 설치되고, 이 장착 플레이트(120)는 Z축 이송기구(미도시)에 연결되며, 이 Z축 이송기구에 의해 리플로우 헤드(100)가 Z축 방향으로 이동될 수 있다.The reflow head 100 is mounted on a mounting plate 120. The mounting plate 120 is connected to a Z-axis feed mechanism (not shown) Z-axis direction.

제어 본체(130)는 리워크 장치를 전반적으로 제어하기 위한 수단으로서, 작업 모드 입력, 리워크 공정 모니터링, 장비 운용 상태 확인 등을 수행할 수 있도록 사용자 입력부(132), 모니터(134) 등이 연결될 수 있다.The control unit 130 is connected to a user input unit 132, a monitor 134, and the like so as to perform operation mode input, rework process monitoring, equipment operation status check, etc. as means for controlling the rework apparatus as a whole .

사용자 입력부(132)는 사용자가 리워크 장치의 작업 모드 등을 입력할 수 있도록 UI(User Interface) 환경을 제공한다. 이러한 사용자 입력부(132)는, 예를 들어 터치패널(touch-panel) 방식의 임베디드 PC(embedded Personal Computer)로 구현할 수 있다.The user input unit 132 provides a UI (User Interface) environment so that a user can input a work mode or the like of the rework apparatus. The user input unit 132 may be embodied as an embedded personal computer of a touch panel type, for example.

모니터(134)는 리워크 공정을 모니터링하기 위한 수단으로서, 예컨대 리워크 대상 전자소자의 위치를 확대하여 리플로우 헤드(100)의 진공흡착기구의 선단위치를 정확히 확인할 수 있는 환경을 제공한다.The monitor 134 is a means for monitoring the rework process, for example, by enlarging the position of the electronic device to be rewound and providing an environment for accurately confirming the tip position of the vacuum adsorption mechanism of the reflow head 100. [

비전카메라 헤드부(140)는 내부에 비전카메라를 구비하고 있으며, 이러한 비전카메라는 광학 줌(예를 들어, 5 ~ 60배 줌)에 의해 배율 조정이 가능하기 때문에 리워크 대상 전자소자를 확대해서 촬영할 수 있다. 이렇게 확대된 영상은 모니터(134)를 통해 출력될 수 있다.The vision camera head 140 includes a vision camera therein. Since the vision camera can be scaled by an optical zoom (for example, 5 to 60 times zoom), the electronic device to be rewound is enlarged You can shoot. The enlarged image can be outputted through the monitor 134. [

기판장착 테이블(150)은 리워크 대상 전자소자가 조립되는 기판을 배치하기 위한 수단이다.The substrate mounting table 150 is a means for disposing a substrate on which the electronic elements to be rewound are assembled.

본 발명의 일 실시예에 적용되는 리워크 장치는 프리히팅-쿨링 유닛을 더 포함할 수 있다. 프리히팅-쿨링 유닛은 기판장착 테이블(150)의 하부에 배치되며, 기판에 조립된 리워크 대상 전자소자를 예열하거나 냉각시키는 역할을 수행한다.The rework apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a preheating-cooling unit. The preheating-cooling unit is disposed below the substrate mounting table 150 and preheats or cools the electronic devices to be rewound assembled on the substrate.

본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치의 리플로우 헤드(100)는 진공흡착관(10), 히터(20), 열풍공급노즐(30), 지지체(40) 등을 포함할 수 있다.The reflow head 100 of the rework apparatus according to an embodiment of the present invention may include a vacuum adsorption tube 10, a heater 20, a hot air supply nozzle 30, a support 40, and the like.

진공흡착관(10)은 본 발명의 실시예에 따라 리워크 대상 전자소자를 집어 올리기 위한 수단이다.The vacuum adsorption tube 10 is a means for picking up the electronic elements to be rewound according to the embodiment of the present invention.

히터(20)는 리플로우 헤드(100) 내에서 국부 가열을 위한 수단으로서, 리플로우 헤드(100)에는 이러한 히터(20)를 지지하기 위한 지지체(40)가 더 마련된다. 열풍공급노즐(30)은 히터(20)에 의해 가열된 열을 리워크 대상 전자소자(2)의 상부면을 향하여 전달하기 위한 노즐이다.The heater 20 is a means for local heating in the reflow head 100 and the reflow head 100 is further provided with a support 40 for supporting such a heater 20. [ The hot air supply nozzle 30 is a nozzle for transferring the heat heated by the heater 20 toward the upper surface of the electronic element 2 to be rewound.

이어서, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자소자의 리워크 작업을 위한 진공흡입 장치를 포함하는 리워크 장치의 리플로우 헤드(100)를 도 4 내지 도 8을 참조하여 상세히 설명한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치의 리플로우 헤드(100)가 Z축을 따라 이동할 때 진공흡착관(10)은 히터(20) 및 열풍공급노즐(30)과 함께 Z축 방향으로 이동하며, 진공흡착관(10)은 히터(20) 및 열풍공급노즐(30)에 대하여 Z축 방향으로 상대이동을 한다.Next, a reflow head 100 of a rework apparatus including a vacuum suction apparatus for reworking an electronic device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. When the reflow head 100 of the rework apparatus according to the embodiment of the present invention is moved along the Z axis, the vacuum adsorption tube 10 moves along the Z axis direction together with the heater 20 and the hot air supply nozzle 30 , The vacuum adsorption tube 10 moves relative to the heater 20 and the hot air supply nozzle 30 in the Z-axis direction.

리워크 장치는 진공흡착관을 이용하여 기판에 조립된 소자를 집어 올리기 위해 리플로우 헤드(100)를 아래 방향으로 이동시켜서 진공흡착관(10)을 전자소자(2)의 상부면에 접촉시키고, 이 상태에서 진공흡착관(10)이 리워크 대상 전자소자(2)의 상부면을 과도하게 누르는 것을 방지하기 위한 가이드수단(102)이 구비된다. 반도체를 비롯한 전자소자가 미세화되면서 소자 크기가 작아지게 되고, 그에 따라 진공흡착관의 선단(先端)을 전자소자에 정확히 정렬시킬 수 있도록, 도 2에 도시한 바와 같이, 진공흡착관(10)의 하부에는 유격방지관(60)이 설치된다. 그런데, 히터(20) 및 열풍공급노즐(30)을 통하여 전자소자(2)의 솔더부를 가열할 때, 전자소자(2)의 상부면에 접촉된 진공흡착관(10)의 선단부(10a)도 열풍공급노즐(30)로부터 나오는 히터 열에 노출되어 함께 가열되어 열팽창 및 열변형되므로, 진공흡착관(10)이 유격방지관(60)의 내주면에서 원활하게 이동할 수 없게 되어 가이드수단(102)이 정상 작동을 하지 않게 된다. 이에 따라, 리플로우 헤드(100)의 이동을 제어하는 가이드수단(102)의 센서가 작동하지 않게 되어, 리플로우 헤드(100)의 본체부, 유격방지관(60)과 진공흡착관(10)을 아래방향으로 계속 이동시켜서 전자소자(2)의 상면을 과도하게 누르게 되어 전자소자(2)가 손상되어 버린다. 또한, 리플로우 헤드(100)로부터 인출되었던 진공흡착관(10)이 상방향으로 후퇴할 때 유격방지관(60)에 끼는 문제가 발생되어 리워크 장비의 작동이 원활하지 않게 된다.The reworking apparatus moves the reflow head 100 downward to pick up the element assembled on the substrate by using the vacuum adsorption tube so that the vacuum adsorption tube 10 is brought into contact with the upper surface of the electronic element 2, In this state, a guide means 102 for preventing the vacuum suction pipe 10 from excessively pressing the upper surface of the electronic device 2 to be rewound is provided. As shown in FIG. 2, in order to precisely align the tip of the vacuum adsorption tube with the electronic element, the size of the element becomes small as the electronic elements including the semiconductor are miniaturized. And an anti-shutoff pipe 60 is provided at a lower portion thereof. When the solder portion of the electronic element 2 is heated through the heater 20 and the hot air supply nozzle 30, the tip portion 10a of the vacuum adsorption tube 10 which is in contact with the upper surface of the electronic element 2 The vacuum suction pipe 10 can not smoothly move from the inner circumferential surface of the air leakage preventing pipe 60 and the guide means 102 is in a normal state It will not operate. Accordingly, the sensor of the guide means 102 for controlling the movement of the reflow head 100 is not operated, so that the main body of the reflow head 100, the leak preventive pipe 60 and the vacuum suction pipe 10, So that the upper surface of the electronic element 2 is excessively pressed and the electronic element 2 is damaged. In addition, when the vacuum suction pipe 10 pulled out of the reflow head 100 is retracted upward, there is a problem that it is caught in the leak preventive pipe 60, so that the operation of the rework equipment is not smooth.

이러한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서는, 도 6에 도시한 바와 같이, 열풍공급노즐(30)에 의해 유도되는 열풍이 진공흡착관의 선단부(10a)에 도달하는 것을 차단하기 위한 열차단수단(300)이 유격방지수단(200)의 하부에서 진공흡착관(10)의 하부 둘레에 설치된다. 진공흡착관(10)의 선단부(10a)에 열차단수단(300)을 설치하더라도, 진공흡착관(10)이 히터(20), 열풍공급노즐(30), 유격방지수단(200) 및 열차단수단(300)에 대하여 Z방향으로의 상대이동하는 길이만큼은 열차단수단(300)으로부터 노출이 불가피하다. 따라서, 열차단수단(300)에 의해 보호되지 못하는 진공흡착관(10)의 선단부(10a)가 열팽창하더라도, 진공흡착관(10)의 선단부(10a)가 열차단수단(300)의 내부를 원활하게 관통할 수 있도록, 열차단수단(300)인 원통부재의 내경이 진공흡착관(10)에서의 열팽창된 선단부(10a)의 외경보다 크게 설정할 필요가 있다. 이에 따라, 진공흡착관(10)의 하부 둘레에 설치되는 열차단수단(300)은 상기 진공흡착관(10)의 선단부(10a)에서의 열팽창을 수용할 수 있을 정도의 내경 크기를 가지는 원통부재로 이루어지는 것이 바람직하다.In order to solve such a problem, in the rework apparatus according to the embodiment of the present invention, as shown in Fig. 6, the hot air introduced by the hot air supply nozzle 30 reaches the front end portion 10a of the vacuum adsorption tube Is provided around the lower portion of the vacuum suction pipe (10) at the lower portion of the anti-spoofing means (200). The vacuum suction pipe 10 is connected to the heater 20, the hot air supply nozzle 30, the air gap preventing means 200, and the heat shielding means 300, even if the heat transfer means 300 is provided at the front end portion 10a of the vacuum suction pipe 10. [ The relative movement of the means 300 with respect to the Z direction is inevitable from the thermal step means 300. Therefore, even if the tip 10a of the vacuum suction pipe 10, which can not be protected by the heat block means 300, thermally expands, the tip 10a of the vacuum suction pipe 10 smoothly flows inside the heat block means 300 It is necessary to set the inner diameter of the cylindrical member serving as the heat-generating end means 300 to be larger than the outer diameter of the thermally expanded distal end portion 10a in the vacuum adsorption tube 10. [ The heat shielding means 300 provided around the lower portion of the vacuum suction pipe 10 has a cylindrical member 300 having an inner diameter enough to accommodate the thermal expansion of the front end portion 10a of the vacuum suction pipe 10, .

상기 열차단수단(300)은 열풍공급노즐(30)에 의해 유도되는 열풍이 진공흡착관(10)의 선단부(10a)에 도달하는 것을 차단하여 진공흡착관(10)의 선단부(10a)의 열팽창 또는 열변형을 방지하는 기능을 수행하는 것이므로, 열차단수단(300)은, 예를 들어, 세라믹과 같은 단열재질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 열풍공급노즐(30)의 열풍에 견딜 수 있는 금속 또는 다른 재질로 제조될 수도 있다.The heat end means 300 prevents the hot air induced by the hot air supply nozzle 30 from reaching the front end portion 10a of the vacuum adsorption pipe 10 and thereby the thermal expansion of the front end portion 10a of the vacuum adsorption pipe 10 Or thermal deformation of the hot-air supply nozzle 30, the heat-generating unit 300 may be made of a heat-insulating material such as ceramics, but is not limited thereto. For example, Metal or other materials.

본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 유격방지수단(200)은 상기 진공흡착관(10)의 수평방향의 유동을 최소한으로 제한할 수 있도록, 유격방지수단(200)의 내주면과 진공흡착관(10)의 외주면은 미끄럼접촉관계로 결합될 수 있다. 이경우에, 유격방지수단(200)의 내주면과 진공흡착관(10)의 외주면 사이의 마찰력을 최소화하도록 마찰면에 윤활제가 도포될 수 있으며, 윤활유와 같은 공지의 윤활제가 이용될 수 있는 것으로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.In the reheating apparatus according to the embodiment of the present invention, the air-gap preventing means 200 is provided to prevent the horizontal flow of the vacuum suction pipe 10 from being restricted to a minimum, The outer circumferential surface of the adsorption tube 10 can be engaged in a sliding contact relationship. In this case, a lubricant may be applied to the friction surface so as to minimize the friction between the inner circumferential surface of the air gap preventing means 200 and the outer circumferential surface of the vacuum adsorption pipe 10, and a known lubricant such as a lubricant may be used. A detailed description thereof will be omitted.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 상기 유격방지수단(200)은 진공흡착관(10)의 수평방향의 유동제한 작용을 최대로 발휘할 수 있도록, 열차단수단(300)의 상단에 인접하게 배치되는 것이 바람직하다.In addition, in the rework apparatus according to the embodiment of the present invention, the anti-spoofing means 200 may be provided on the side of the heat-conducting end means 300 so as to maximize the horizontal flow- It is preferable to be disposed adjacent to the upper end.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 리워크 장치에서, 리플로우 헤드(100)는 진공흡착관(10)의 선단부(10a)가 리워크 대상 전자소자(2)의 상부면을 누르는 압력을 조절할 수 있는 가이드수단(102)을 더 포함할 수 있다. 이경우에, 진공흡착관(10)의 상부가 가이드수단(102)의 제1 수평부재(104)에 고정되며, 진공흡착관(10)이 히터(20), 열풍공급노즐(30), 유격방지수단(200) 및 열차단수단(300), 가이드수단(102)의 제2 수평부재(106)에 대하여 Z축 방향으로 상대이동을 할 수 있게 된다.In the reworking apparatus according to the embodiment of the present invention, the reflow head 100 adjusts the pressure at which the tip 10a of the vacuum adsorption tube 10 presses the upper surface of the electronic element 2 to be rewound And a guide means 102, In this case, the upper part of the vacuum suction pipe 10 is fixed to the first horizontal member 104 of the guide means 102, and the vacuum suction pipe 10 is connected to the heater 20, the hot air supply nozzle 30, It is possible to move relative to the second horizontal member 106 of the guide means 102 and the heat-generating means 300 and the guide means 102 in the Z-axis direction.

도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 가이드수단(102)은 수평으로 배치되는 제1 수평부재(104); 상기 제1 수평부재로부터 아래 방향으로 소정 거리 이격되어 배치되는 제2 수평부재(106); 상기 제1 수평부재와 상기 제2 수평부재 사이에 배치되며, 그 양단이 상기 제1 수평부재와 상기 제2 수평부재에 부착되는 제1 탄성부재; 상기 제2 수평부재(106)를 Z축 방향에서 상하로 이동시키는 구동수단; 및 상기 제2 수평부재(106)의 상단에 설치되어, 상기 제1 수평부재(104)의 하단의 위치를 감지하는 감지수단(50)을 포함할 수 있다. 또한, 가이드수단(102)은 제2 수평부재(106)의 상부면으로부터 위 방향으로 연장하며 제1 수평부재(104)를 관통하는 수직로드(110)를 포함할 수 있으며, 이러한 수직로드(110)의 상단부와 제1 수평부재(104)의 상부면 사이에는 제2 탄성부재(12)가 배치될 수 있다.As shown in FIGS. 6 to 8, the guide means 102 includes a first horizontal member 104 disposed horizontally; A second horizontal member (106) disposed at a predetermined distance downward from the first horizontal member; A first elastic member disposed between the first horizontal member and the second horizontal member and having opposite ends attached to the first horizontal member and the second horizontal member; Driving means for moving the second horizontal member (106) up and down in the Z-axis direction; And a sensing unit 50 installed at an upper end of the second horizontal member 106 for sensing a position of a lower end of the first horizontal member 104. The guide means 102 may also include a vertical rod 110 extending upwardly from the upper surface of the second horizontal member 106 and extending through the first horizontal member 104, The second elastic member 12 may be disposed between the upper end of the first horizontal member 104 and the upper surface of the first horizontal member 104.

이 가이드수단(102)은 리워크 장치의 리플로우 헤드(100) 내에 장착될 수 있다. 여기서, 설명의 편의상, 리플로우 헤드(100)에서의 가이드수단(102)이 장착된 상태에 대한 도면의 도시는 생략하며, 가이드수단(102)과 진공흡착관(10)의 연결관계와 가이드수단(102)이 진공흡착관(10)의 수직 방향의 이동을 어떻게 가이드하는지에 대하여 설명하기로 한다.This guide means 102 can be mounted in the reflow head 100 of the riser apparatus. The connection of the guide means 102 and the vacuum suction pipe 10 and the connection between the guide means 102 and the vacuum suction pipe 10 are not shown in the drawings, How the vacuum suction tube 102 guides the vertical movement of the vacuum suction pipe 10 will be described.

이러한 가이드수단(102)은 진공흡착관(10)에 고정되는 제1 수평부재(104)와, 제1 수평부재(104)로부터 소정 거리만큼 이격되어 배치되며 진공흡착관(10)의 상단이 관통하는 제2 수평부재(106), 그리고 제2 수평부재(106)의 상부에 부착되는 지그(108)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 수평부재(104)는 그 일측 단부로부터 아래 방향으로 연장되는 돌출부(104a)를 구비하며, 제2 수평부재(106)는 제1 수평부재(104)의 돌출부(104a)에 대응하는 위치의 단부에 형성되는 요홈부(106a)를 구비할 수 있다.The guide means 102 includes a first horizontal member 104 fixed to the vacuum suction pipe 10 and a second horizontal member 104 spaced apart from the first horizontal member 104 by a predetermined distance, And a jig 108 attached to the upper portion of the second horizontal member 106. The second horizontal member 106 may be attached to the second horizontal member 106, Here, the first horizontal member 104 has a protrusion 104a extending downward from one end thereof, and the second horizontal member 106 has a protrusion 104a corresponding to the protrusion 104a of the first horizontal member 104 And a recessed portion 106a formed at the end of the position.

제2 수평부재(106)의 요홈부(106a)의 상단에는 제1 수평부재(104)의 돌출부(104a)의 하단의 위치를 감지하는 감지수단(50)이 설치된다. 즉, 감지수단(50)은 제1 수평부재(104)의 돌출부(104a)의 하단이 제2 수평부재(106)의 요홈부(106a)를 벗어나는 것을 감지할 수 있으며, 이때의 감지신호를 후술하는 제어부(52)로 제공할 수 있다. 여기서, 감지수단(50)은, 예를 들어 발광소자와 수광소자로 구성되는 포토커플러로 이루어질 수 있으며, 포토커플러의 발광소자는, 예를 들어 광 다이오드로 이루어질 수 있으며, 수광소자는, 예를 들어 광 트랜지스터로 이루어질 수 있다. 이러한 구성에서, 감지수단(50)의 발광소자로부터 생성된 광 신호가 수광소자로 입력될 때, 수광소자의 감지신호가 제어부(52)로 제공됨으로써, 제어부(52)는 제1 수평부재(104)의 돌출부(104a)의 하단이 제2 수평부재(106)의 요홈부(106a)를 벗어난 것으로 판단할 수 있을 것이다.A sensing means 50 for sensing the position of the lower end of the protruding portion 104a of the first horizontal member 104 is provided at the upper end of the recessed portion 106a of the second horizontal member 106. [ That is, the sensing means 50 can detect that the lower end of the protruding portion 104a of the first horizontal member 104 is out of the recessed portion 106a of the second horizontal member 106, To the control unit 52. [ Here, the sensing means 50 may be, for example, a photocoupler composed of a light emitting element and a light receiving element, and the light emitting element of the photocoupler may be composed of, for example, a photodiode, A phototransistor may be included. In this configuration, when the optical signal generated from the light emitting element of the sensing means 50 is input to the light receiving element, the sensing signal of the light receiving element is provided to the control unit 52 so that the control unit 52 controls the first horizontal member 104 The lower end of the projecting portion 104a of the second horizontal member 106 is out of the recessed portion 106a of the second horizontal member 106. [

한편, 가이드수단(102)의 제1 수평부재(104)와 제2 수평부재(106) 사이에는 제1 탄성부재(11)가 배치될 수 있다. 이러한 제1 탄성부재(11)는 그 일단이 제1 수평부재(104)의 하면에 고정되고, 타단이 제2 수평부재(106)의 상면에 고정되도록 형성될 수 있다. 이러한 제1 탄성부재(11)는, 예를 들어, 인장코일 스프링이 적용될 수 있다. 가이드수단(102)이 진공흡착관(10)과 함께 Z축 상에서 하강하다가 진공흡착관 선단부(10a)가 리워크 대상 전자소자(2)에 맞닿으면서 가이드수단(102)의 제2 수평부재(106)가 히터(20), 열풍공급노즐(30), 유격방지수단(200) 및 열차단수단(300)과 함께 Z축 상에서 일정구간 더 하강될 때, 가이드수단(102)의 제1 수평부재(104)를 하부로 잡아당기는 힘이 작용될 수 있다. 상기 수직로드(110)의 상단부와 상기 제1 수평부재(104)의 상부면 사이에 배치되는 제2 탄성부재(12)는, 예를 들어, 압축코일 스프링이 적용될 수 있으며, 가이드수단(102)이 진공흡착관(10)과 함께 Z축 상에서 하강하다가 진공흡착관 선단부(10a)가 리워크 대상 전자소자(2)에 맞닿으면서 가이드수단(102)의 제2 수평부재(106)만 Z축 상에서 일정구간 더 하강될 때 제1 수평부재(104)를 하부로 누르는 힘이 작용될 수 있다.The first elastic member 11 may be disposed between the first horizontal member 104 and the second horizontal member 106 of the guide means 102. One end of the first elastic member 11 may be fixed to the lower surface of the first horizontal member 104 and the other end may be fixed to the upper surface of the second horizontal member 106. As the first elastic member 11, for example, a tension coil spring can be applied. The guide means 102 descends on the Z axis together with the vacuum adsorption tube 10 so that the tip end 10a of the vacuum adsorption pipe abuts on the electronic element 2 to be rewound and the second horizontal member 106 are further lowered along the Z axis for a predetermined period together with the heater 20, the hot air supply nozzle 30, the anti-skid preventing means 200 and the heat end means 300, A force for pulling the lower portion 104 downward can be applied. The second elastic member 12 disposed between the upper end of the vertical rod 110 and the upper surface of the first horizontal member 104 may be a compression coil spring, Only the second horizontal member 106 of the guide means 102 comes into contact with the Z-axis of the Z-axis as the vacuum adsorption pipe front end portion 10a comes into contact with the electronic element 2 to be rewound while the vacuum suction tube 10 descends on the Z- A downward force may be applied to the first horizontal member 104 when the first horizontal member 104 is further lowered.

따라서, 진공흡착관(10)의 Z축 방향으로 작용하는 힘은, 제1 탄성부재(11)가 제1 수평부재(104)를 하부로 잡아당기는 힘과, 제2 탄성부재(12)가 제1 수평부재(104)를 하부로 누르는 힘을 합한 힘이 될 수 있다.Therefore, the force acting in the Z-axis direction of the vacuum adsorption tube 10 is the force that pulls the first elastic member 11 downwardly against the first horizontal member 104 and the force that pulls the second elastic member 12 downward It is possible to combine the forces pressing the one horizontal member 104 downward.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. Therefore, it is intended that the present invention cover the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents. It will be apparent to those of ordinary skill in the art.

1: 기판 2: 전자소자
10: 진공흡착관 10a: 진공흡착관 선단부
20: 히터 30: 열풍공급노즐
40: 지지체 50: 감지수단
52: 제어부 60, 200: 유격방지수단
100: 리플로우 헤드 102: 가이드수단
104: 제1 수평부재 106: 제2 수평부재
130: 제어본체 134: 모니터
150: 기판장착 테이블 300: 열차단수단1: substrate 2: electronic device
10: Vacuum suction pipe 10a: Vacuum suction pipe front end
20: heater 30: hot air supply nozzle
40: support body 50: sensing means
52: control unit 60, 200:
100: reflow head 102: guide means
104: first horizontal member 106: second horizontal member
130: control body 134: monitor
150: substrate mounting table 300:

Claims (7)

히터(20)를 구비하며, Z축을 따라 이동할 수 있는 리플로우 헤드(100); 및 리워크 대상 전자소자(2)를 집어 올리기 위한 진공흡착관(10)을 포함하는 리워크 장치에 있어서,
상기 리플로우 헤드(100)가 Z축을 따라 이동할 때 상기 진공흡착관(10)은 상기 히터(20)와 함께 Z축 방향으로 이동하며, 상기 진공흡착관(10)은 상기 히터(20)에 대하여 Z축 방향으로 상대이동을 하며,
상기 진공흡착관(10)의 중간부에 유격방지수단(200)이 설치되며, 상기 진공흡착관(10)의 하부 둘레에 열차단수단(300)이 설치되는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.
A reflow head 100 having a heater 20 and movable along the Z axis; And a vacuum suction pipe (10) for picking up the electronic device (2) to be rewound,
When the reflow head 100 moves along the Z axis, the vacuum adsorption tube 10 moves in the Z-axis direction together with the heater 20, and the vacuum adsorption tube 10 is moved in the Z- Relative movement in the Z-axis direction,
The apparatus of claim 1, wherein the vacuum suction pipe (10) is provided at its middle portion with a clearance preventing means (200), and a heat transfer means (300) is provided around a lower portion of the vacuum suction pipe (10).
제 1 항에 있어서,
상기 진공흡착관(10)의 하부 둘레에 설치되는 열차단수단(300)은 상기 진공흡착관(10)의 선단부(10a)의 열팽창을 수용할 수 있을 정도의 내경 크기를 가지는 원통부재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.
The method according to claim 1,
The heat shielding means 300 provided around the lower portion of the vacuum suction pipe 10 is made of a cylindrical member having an inner diameter enough to accommodate the thermal expansion of the front end portion 10a of the vacuum suction pipe 10 The rework device features.
제 2 항에 있어서,
상기 진공흡착관(10)의 하부 둘레에 설치되는 열차단수단(300)은 단열재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the heat-conducting means (300) provided around the lower portion of the vacuum suction pipe (10) is made of a heat insulating material.
제 1 항에 있어서,
상기 진공흡착관(10)의 유격방지수단(200)의 내주면과 상기 진공흡착관(10)의 외주면은 미끄럼접촉관계로 결합되는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the inner circumferential surface of the air gap preventing means (200) of the vacuum adsorption pipe (10) and the outer circumferential surface of the vacuum adsorption pipe (10) are engaged in a sliding contact relationship.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 진공흡착관(10)의 유격방지수단(200)의 하단은 상기 열차단수단(300)의 상단에 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the lower end of the clearance preventing means (200) of the vacuum suction pipe (10) is disposed adjacent to the upper end of the heat block means (300).
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 리플로우 헤드(100)는 상기 진공흡착관(10)의 선단부(10a)가 상기 리워크 대상 전자소자(2)의 상부면을 누르는 압력을 조절할 수 있는 가이드수단(102)을 더 포함하며,
상기 진공흡착관(10)의 상부가 상기 가이드수단(102)에 고정되며, 상기 가이드수단(102)에 의하여 상기 진공흡착관(10)이 상기 히터(20)에 대하여 Z축 방향으로 상대이동을 하는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The reflow head 100 further includes guiding means 102 capable of adjusting the pressure at which the tip end 10a of the vacuum adsorption tube 10 presses the upper surface of the electronic element 2 to be rewound,
An upper portion of the vacuum suction pipe 10 is fixed to the guide means 102 and the vacuum suction pipe 10 moves relative to the heater 20 in the Z axis direction by the guide means 102 And the reworking device.
제 6 항에 있어서,
상기 가이드수단(102)은,
수평으로 배치되는 제1 수평부재(104);
상기 제1 수평부재로부터 아래 방향으로 소정 거리 이격되어 배치되는 제2 수평부재(106);
상기 제1 수평부재(104)와 상기 제2 수평부재(106) 사이에 배치되며, 그 양단이 상기 제1 수평부재(104)와 상기 제2 수평부재(106)에 부착되는 제1 탄성부재(11);
상기 제2 수평부재(106)를 Z축 방향에서 상하로 이동시키는 구동수단; 및
상기 제2 수평부재(106)의 상단에 설치되어, 상기 제1 수평부재(104)의 하단의 위치를 감지하는 감지수단(50)을 포함하는 것을 특징으로 하는 리워크 장치.The method according to claim 6,
The guide means (102)
A first horizontal member (104) arranged horizontally;
A second horizontal member (106) disposed at a predetermined distance downward from the first horizontal member;
The first horizontal member 104 and the second horizontal member 106 are disposed between the first horizontal member 104 and the second horizontal member 106 and have both ends thereof fixed to the first horizontal member 104 and the second horizontal member 106 11);
Driving means for moving the second horizontal member (106) up and down in the Z-axis direction; And
And sensing means (50) installed at an upper end of the second horizontal member (106) for sensing a position of a lower end of the first horizontal member (104).
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