KR20180099319A - 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 처리된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플을 미스트 형태로 분사할 수 있는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치에 관한 것으로서, 상기 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치는 하우징과, 상기 하우징에 구비되고 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부와, 전원부로부터 전원을 공급받고 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부와, 상기 플라즈마 발생부에서 형성된 플라즈마를 상기 앰플 저장부로 공급하여 앰플을 플라즈마 처리하는 플라즈마 공급부, 그리고 상기 앰플 저장부와 연결되고 플라즈마 처리된 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부를 포함한다. 이러한 구성으로, 플라즈마 처리된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플을 미스트 형태로 분사하여 앰플의 피부 투과성을 향상시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

Description

피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치{SPRAY APPARATUS OF AMPLE FOR SKIN SURFACE MODIFICATION}
본 발명은 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 처리된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플을 미스트 형태로 분사하거나, 플라즈마 발생기에 의하여 생성된 이온 및 라디칼을 피부 및 두피 표면 개질용 앰플과 동시에 또는 순차적으로 미스트 형태로 분사할 수 있는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치에 관한 것이다.
일반적으로, 사람의 피부는 표피층, 진피층, 지방조직으로 이루어져 있으며, 이러한 피부를 관리하기 위해서는 영양분을 피부에 꾸준히 공급하고 피부에 쌓여있는 노폐물 및 독소를 제거해야 한다. 여기서, 영양분을 공급하는 방법으로는 화장품 또는 비타민 등을 피부에 침투시키는 방법이 있고, 노폐물 및 독소를 제거하는 방법으로 화장품이나 마사지, 찜질 등을 하는 방법이 있다.
하지만, 상기한 방법으로 피부를 관리하는데 한계가 있다. 즉, 피부 표피의 각질층 밑에는 두꺼운 단백질 보호층이 방어벽으로 형성되어 있고, 이 단백질 보호층에 의해 피부의 표피층과 진피층이 분리되어 있어 피부 보호 효과가 우수한 화장품을 사용하더라도 진피층에 쌓인 노폐물을 제거하거나 영양분을 진피층까지 침투 시키는데 한계가 있다.
이러한 어려움 극복하고자 플라즈마를 이용하여 피부에 자극을 제공하여 이러한 효과를 도출할 수 있는 장치가 연구되고 있다. 대한민국 등록특허 제10-1407672호에는 플라즈마를 이용하여 피부를 자극하여 피부를 처리하는 플라즈마 피부 처리 장치가 개시되어 있다. 하지만, 플라즈마를 생성하여 피부에 직접 사용하는 경우 전기적인 충격 등에 따른 안전상의 문제가 발생할 수 있다.
대한민국 등록특허 제10-1407672호(2014.06.13)
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 플라즈마 처리된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플을 미스트 형태로 분사하거나, 플라즈마 발생기에 의하여 생성된 이온 및 라디칼을 피부 및 두피 표면 개질용 앰플과 동시에 또는 순차적으로 미스트 형태로 분사할 수 있는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치는, 하우징; 상기 하우징에 구비되고, 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부; 전원부로부터 전원을 공급받고, 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부; 상기 플라즈마 발생부에서 형성된 플라즈마를 상기 앰플 저장부로 공급하여 앰플을 플라즈마 처리하는 플라즈마 공급부; 및 상기 앰플 저장부와 연결되고, 플라즈마 처리된 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부;를 포함한다.
그리고, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치는, 하우징; 상기 하우징에 구비되고, 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부; 전원부로부터 전원을 공급받고, 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부; 상기 앰플 저장부와 연결되고, 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부; 및 상기 플라즈마 발생부에서 형성된 플라즈마를 상기 분사부로 공급하는 플라즈마 공급부;를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 분사부를 통하여 플라즈마와 앰플이 동시에 또는 순차적으로 분사되도록 상기 분사부 및 상기 플라즈마 공급부를 제어하는 제어부;를 더 포함할 수도 있다.
여기서, 상기 앰플 저장부는, 교체될 수 있도록 상기 하우징에 탈착되게 마련될 수도 있다.
본 발명에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치에 따르면, 플라즈마 처리된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플을 미스트 형태로 분사하여 앰플의 피부 투과성을 향상시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
그리고, 본 발명에 따르면, 플라즈마 발생기에 의하여 생성된 이온 및 라디칼을 피부 및 두피 표면 개질용 앰플과 동시에 또는 순차적으로 미스트 형태로 분사하여 라디칼에 의한 살균효과 및 이온에 의한 pH 개선 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 플라즈마 발생기에 의해 생성된 이온 입자에 흡착된 미세수분을 모공 내에 효과적으로 침투시킬 수 있어 피부 보습 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치를 개략적으로 도시해 보인 블록도,
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치를 개략적으로 도시해 보인 블록도이다.
본 발명의 특징들에 대한 이해를 돕기 위하여, 이하 본 발명의 실시예와 관련된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
이하 설명되는 실시예의 이해를 돕기 위하여 첨부된 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 구체적인 실시예에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치를 개략적으로 도시해 보인 블록도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치(100)는 하우징(110)과, 상기 하우징(110)에 구비되고 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부(120)와, 전원부(160)로부터 전원을 공급받고 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부(130), 상기 플라즈마 발생부(130)에서 형성된 플라즈마를 상기 앰플 저장부(120)로 공급하여 앰플을 플라즈마 처리하는 플라즈마 공급부(140), 그리고 상기 앰플 저장부(120)와 연결되고 플라즈마 처리된 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부(150)를 포함한다.
여기서, 상기 하우징(110)은 사용자가 손으로 잡을 수 있는 크기로 마련되어 장소와 시간에 구애받지 않고 사용자가 손쉽게 사용할 수 있도록 마련된다. 그리고, 상기 하우징(110)에는 상기 분사부(150)를 통하여 플라즈마 처리된 앰플이 분사되도록 동작시키는 동작버튼(미도시)이 구비될 수 있다. 따라서, 사용자가 동작버튼을 눌러서 사용할 수 있도록 마련될 수 있다.
상기 전원부(160)는 밧데리로 마련되어 사용자가 손쉽게 교체하여 사용할 수 있도록 마련되는 것이 바람직하다. 물론, 콘센트에 연결하여 전원을 공급받을 수 있도록 구성될 수도 있다.
상기 플라즈마 공급부(140)는 상기 플라즈마 발생부(130)와 상기 앰플 저장부(120) 간을 연결하고, 상기 플라즈마 발생부(130)에서 생성된 플라즈마를 상기 앰플 저장부(120)에 공급하여 앰플을 플라즈마 처리하도록 구성될 수 있다.
이렇게 플라즈마 처리된 앰플을 상기 분사부(150)가 미스트 형태로 분사하게 된다. 이때, 사용자가 상기 분사부(150)를 치료해야하는 부위를 향하게 하여 미스트 형태로 분사되는 플라즈마 처리된 앰플을 원하는 부위로 도포할 수 있다.
여기서, 상기 플라즈마 발생부(130)는 특정 장치에 한정되는 것은 아니고 플라즈마를 형성할 수 있는 어떠한 장치로도 마련될 수 있다. 예를 들어, 상기 플라즈마 발생부(130)는 콜드 플라즈마를 형성하도록 마련될 수 있다. 콜드 플라즈마는 널리 사용되고 있는 공지의 기술인바 그 상세한 설명은 생략한다.
상기 분사부(150)도 특정 장치에 한정되는 것은 아니고 액상의 앰플을 미스트 형태로 분사할 수 있는 어떠한 장치로도 마련될 수 있다.
그리고, 상기 앰플 저장부(120)는 상기 하우징(110)에 탈착되게 마련되고, 상기 앰플 저장부(120)에 저장된 앰플을 모두 사용한 경우 교체하여 사용할 수 있다.
또한, 사용자가 원하는 기능에 따라 상기 앰플을 교체하여 사용할 수 있다.
예를 들어, 탈모 방지를 위하여 사용하는 경우 탈모 방지 기능을 가진 앰플이 저장된 앰플 저장부를 체결하여 사용할 수 있고, 피부 재생을 위하여 사용하는 경우 피부 재생 기능을 가진 앰플이 저장된 앰플 저장부를 체결하여 사용할 수 있다.
즉, 필요에 따라 사용자가 앰플 저장부(120)를 원하는 기능성 앰플이 저장된 것으로 용이하게 교체하여 사용할 수 있다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치를 개략적으로 도시해 보인 블록도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치(200)는 하우징(210)과, 상기 하우징(210)에 구비되고 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부(220)와, 전원부(260)로부터 전원을 공급받고 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부(230)와, 상기 앰플 저장부(220)와 연결되고 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부(250), 그리고 상기 플라즈마 발생부(230)에서 형성된 플라즈마에 의한 이온과 라디칼을 상기 분사부(250)로 공급하는 플라즈마 공급부(240)를 포함한다.
그리고, 상기 분사부(250)를 통하여 플라즈마와 앰플이 동시에 또는 순차적으로 분사되도록 상기 분사부(250) 및 상기 플라즈마 공급부(240)를 제어하는 제어부(270)를 더 포함할 수 있다.
즉, 상기 제어부(270)는 상기 분사부(250)에 플라즈마와 앰플을 함께 공급하여 상기 분사부(250)를 통하여 플라즈마와 앰플을 함께 즉, 플라즈마에 의해 이온과 라디칼이 함유된 앰플을 분사하도록 상기 플라즈마 공급부(240)와 상기 분사부(250)를 제어할 수 있다.
또는, 상기 제어부(270)는 상기 분사부(250)에 플라즈마와 앰플을 순차적으로 공급하여 상기 분사부(250)를 통하여 플라즈마에 의한 이온과 라디칼을 분사한 후 앰플을 분사하도록 상기 플라즈마 공급부(240)와 상기 분사부(250)를 제어할 수 있다. 반대로 앰플을 분사한 후 이온과 라디칼이 분사되도록 제어할 수도 있다. 이는 앰플의 성분, 활용 용도 등에 의하여 결정될 수 있다.
여기서, 상기 플라즈마 발생부(230)는 이오나이저(ionizer) 등과 같이 이온(H+)과 라디칼(OH-)을 형성할 수 있다면 어떠한 장치로도 마련될 수 있다.
이렇게 구성된 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치는 휴대가 용이하고 사용이 편리하게 제작되어 사용자가 시간과 장소에 구애받지 않고 사용할 수 있다. 그리고, 분사되는 앰플을 플라즈마 처리하거나, 플라즈마와 앰플을 함께 또는 순차적으로 분사하도록 구성하여, 플라즈마에 의한 모공 침투효과를 향상시켜 피부 보습력을 향상시킬 수 있고, 플라즈마에 의해 생성된 라디칼에 의해 말라세짜아 균(비듬 원인균)을 살균할 수 있어 두피를 보호할 수 있으며, 플라즈마에 의해 생성된 이온에 의해 피부 및 두피의 pH를 개선할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형 가능함은 물론이다.
100, 200 : 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치
110, 210 : 하우징
120, 220 : 앰플 저장부
130, 230 : 플라즈마 발생부
140, 240 : 플라즈마 공급부
150, 250 : 분사부
160, 260 : 전원부
270 : 제어부

Claims (4)

  1. 하우징;
    상기 하우징에 구비되고, 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부;
    전원부로부터 전원을 공급받고, 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부;
    상기 플라즈마 발생부에서 형성된 플라즈마를 상기 앰플 저장부로 공급하여 앰플을 플라즈마 처리하는 플라즈마 공급부; 및
    상기 앰플 저장부와 연결되고, 플라즈마 처리된 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부;
    를 포함하는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치.
  2. 하우징;
    상기 하우징에 구비되고, 사용자의 피부 및 두피 표면을 개질시키는 앰플이 저장된 앰플 저장부;
    전원부로부터 전원을 공급받고, 전위차를 발생시켜 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부;
    상기 앰플 저장부와 연결되고, 앰플을 미스트 형태로 분사하는 분사부; 및
    상기 플라즈마 발생부에서 형성된 플라즈마를 상기 분사부로 공급하는 플라즈마 공급부;
    를 포함하는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 분사부를 통하여 플라즈마와 앰플이 동시에 또는 순차적으로 분사되도록 상기 분사부 및 상기 플라즈마 공급부를 제어하는 제어부;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 앰플 저장부는,
    교체될 수 있도록 상기 하우징에 탈착되게 마련되는 것을 특징으로 하는 피부 및 두피 표면 개질용 앰플 분사장치.
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