KR20180086596A - Dryer - Google Patents

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KR20180086596A
KR20180086596A KR1020170010212A KR20170010212A KR20180086596A KR 20180086596 A KR20180086596 A KR 20180086596A KR 1020170010212 A KR1020170010212 A KR 1020170010212A KR 20170010212 A KR20170010212 A KR 20170010212A KR 20180086596 A KR20180086596 A KR 20180086596A
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drying
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김지은
김경호
박원찬
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주식회사 엘지화학
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Abstract

The present invention relates to a drying apparatus. According to one aspect of the present invention, the drying apparatus is provided, comprising: a drying oven providing a drying space; a transfer unit for transferring a substrate in the drying space; a nozzle including a jetting unit having a plurality of jetting holes for jetting hot air toward the substrate in the drying oven; and a blowing fan for generating a hot air flow in the nozzle, wherein the nozzle has different discharge hole sizes in at least some sections along the width direction of the substrate which is perpendicular to the substrate transport direction.

Description

건조장치{Dryer}Dryer {Dryer}

본 발명은 건조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a drying apparatus.

자동차 및 소형 전지에 이용되는 전극 또는 광학용 필름은 주로 기재에 코팅액을 도포하고 건조시키는 방식으로 생산된다.Electrodes or optical films used in automobiles and small batteries are mainly produced by applying a coating liquid to a substrate and drying the coating liquid.

도 1은 종래 건조장치(1)를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic view showing a conventional drying apparatus 1;

코팅된 기재를 건조할 때 통상 열풍에 의한 건조 방식을 많이 이용하고 있으며, 이는 고온의 유체가 기재에 접촉하여 코팅 용매를 증발시키는 방식이다.When the coated substrate is dried, usually a hot air drying method is used in many cases. This is a method in which a high temperature fluid is contacted with the substrate to evaporate the coating solvent.

구체적으로, 전극 또는 광학용 필름(F)(또는, '기재'라고도 함) 건조는 열풍을 이용하여 필름(F) 표면에 있는 용매를 증발시키는 방식을 이용한다. 도 1에서, 도면 부호 1은 열풍 흐름을 나타내고, 도면 부호 2는 용매 흐름을 나타낸다.Specifically, drying of the electrode or optical film (F) (or also referred to as "substrate") uses a method of evaporating the solvent on the surface of the film (F) using hot air. 1, reference numeral 1 denotes a hot air flow, and reference numeral 2 denotes a solvent flow.

도 1을 참조하면, 필름(F) 건조에 사용되는 종래 건조장치는, 건조 오븐(C)과 건조 오븐(C) 내에 마련되며, 토출구(12)를 통해 열풍을 공급하는 열풍 노즐(21)을 포함한다. 또한, 필름(F)의 이송방향(MD)을 따라 복수 개의 열풍 노즐(21)이 소정 간격으로 떨어져 배치된다.1, a conventional drying apparatus used for drying a film F includes a hot air nozzle 21 provided in a drying oven C and a drying oven C for supplying hot air through a discharge port 12, . Further, a plurality of hot air nozzles 21 are arranged apart from each other at predetermined intervals along the feeding direction MD of the film F.

또한, 상기 건조장치는 열풍 토출을 위한 송풍팬(도시되지 않음) 및 송풍팬의 회전속도를 제어하는 제어부(도시되지 않음)를 포함한다. 상기 제어부가 송풍팬의 회전속도를 조절함으로써, 열풍 노즐(21)에서 토출되는 열풍 유속이 조절될 수도 있다.In addition, the drying apparatus includes a blowing fan (not shown) for blowing hot air and a control unit (not shown) for controlling the rotating speed of the blowing fan. The controller controls the rotational speed of the blower fan so that the hot air flow rate discharged from the hot air nozzle 21 can be adjusted.

한편, 건조 장치를 통해 기재(F) 건조 시, 기재 주행 방향(MD)의 수직방향인 기재(F)의 폭 방향(W, 도 2참조)에서 건조 속도 차이가 발생한다. 구체적으로, 기재(F) 중앙부분이 기재의 양측 가장자리 보다 건조가 늦어지며, 이는 생산 효율성 저하 및 코팅 품질에 영향을 미치게 된다.On the other hand, when the substrate F is dried through the drying device, a drying speed difference occurs in the width direction (W, see Fig. 2) of the base material F in the direction perpendicular to the substrate running direction MD. Specifically, the center portion of the substrate (F) is drier than both side edges of the substrate, which causes a decrease in production efficiency and an influence on the coating quality.

특히, 노즐로부터 분사된 고온의 기체가 기재와 접촉하여 용매를 증발시킬 때, 기재 가장자리 부분의 열풍 유속이 기재 중앙 부분의 열풍 유속보다 상대적으로 빨라지면서 기재 가장자리가 중앙보다 먼저 건조가 완료되는 문제가 있다.Particularly, when the high-temperature gas injected from the nozzle contacts with the substrate to evaporate the solvent, the problem is that the drying of the edge of the substrate is completed earlier than the center while the hot air flow rate at the substrate edge portion becomes relatively higher than the hot air flow rate at the central portion of the substrate have.

본 발명은 기재의 폭 방향에 따른 건조 속도 편차를 감소시킬 수 있는 건조장치를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.Disclosure of the Invention The present invention provides a drying apparatus capable of reducing a drifting speed variation along a width direction of a substrate.

또한, 본 발명은 기재의 폭 방향을 따라 기재의 중앙 부근에서는 상대적으로 많은 유량을 기재에 전달하고, 기재의 가장자리 부근에서는 상대적으로 적은 유량을 전달할 수 있는 건조장치를 제공하는 것을 해결하고자 하는 과제로 한다.Another object of the present invention is to provide a drying device capable of delivering a relatively large flow rate to the substrate near the center of the substrate along the width direction of the substrate and a relatively small flow rate near the edge of the substrate do.

상기한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, 건조 공간을 제공하는 건조 오븐과, 건조 공간에서 기재를 이송하기 위한 이송부와, 건조 오븐 내에서 기재를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀을 갖는 분사부를 포함하는 노즐 및 노즐 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬을 포함하며, 노즐은 기재 이송방향의 수직방향인 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 구간에서 토출홀의 크기가 다른 건조장치가 제공된다.According to one aspect of the present invention, there is provided a drying apparatus including a drying oven for providing a drying space, a conveying unit for conveying the substrate in a drying space, a plurality of discharging units for spraying hot air toward the substrate in the drying oven, And a blowing fan for generating a hot air flow in the nozzle, wherein the nozzle is provided with a drying device having a different discharge hole size at least in a section along the width direction of the substrate, which is perpendicular to the substrate transport direction do.

또한, 분사부는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀을 가질 수 있다. Further, the ejection portion may have a plurality of ejection holes arranged in at least a partial region along the width direction of the substrate.

또한, 분사부는 기재의 폭 방향을 따라 중앙 영역의 토출홀의 크기가 가장 자리 영역의 토출홀의 크기 보다 크게 마련될 수 있다.Further, the size of the ejection hole in the central region along the width direction of the substrate may be larger than the size of the ejection hole in the extreme region.

또한, 분사부는 기재의 폭 방향을 따라 가장 자리 영역에서 중앙 영역으로 갈수록 토출홀의 크기가 증가하도록 마련될 수 있다. Also, the ejection portion may be provided such that the size of the ejection hole increases from the edge region to the central region along the width direction of the substrate.

또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 건조 공간을 제공하는 건조 오븐과, 건조 공간에서 기재를 이송하기 위한 이송부와, 건조 오븐 내에서 기재를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀을 갖는 분사부를 포함하는 노즐 및 노즐 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬을 포함하며, 분사부는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀을 가지고, 노즐은, 송풍팬의 회전 속도가 일정할 때, 기재의 폭 방향을 따라 중앙 영역에서 토출되는 유량이 가장자리 영역에서 토출되는 유량보다 크도록 토출홀의 크기가 조절된 건조장치가 제공된다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a drying apparatus including a drying oven for providing a drying space, a conveying unit for conveying the substrate in the drying space, and a jetting unit having a plurality of discharge holes for spraying hot air toward the substrate in the drying oven Wherein the nozzle has a plurality of discharge holes arranged in at least a part of a region along a width direction of the substrate, the nozzle being arranged in a direction in which the blowing fan is rotating when the rotational speed of the blowing fan is constant , And the size of the discharge hole is adjusted so that the flow rate discharged from the central region along the width direction of the substrate is larger than the flow rate discharged from the edge region.

또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 건조 공간을 제공하는 건조 오븐과, 건조 공간에서 기재를 이송하기 위한 이송부와, 건조 오븐 내에서 기재를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀을 갖는 분사부를 포함하고, 기재의 이송방향을 따라 떨어져 위치하는 복수 개의 노즐 및 노즐 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬을 포함하며, 분사부는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀을 가지고, 적어도 하나의 노즐은 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 구간에서 토출홀의 크기가 다르게 마련되며, 적어도 하나의 노즐은 기재의 폭 방향을 따라 전체 구간에서 토출홀의 크기가 일정하게 마련된 건조장치가 제공된다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a drying apparatus including a drying oven for providing a drying space, a conveying unit for conveying the substrate in the drying space, and a jetting unit having a plurality of discharge holes for spraying hot air toward the substrate in the drying oven And a blowing fan for generating a hot air flow in the nozzle, wherein the ejecting portion has a plurality of ejection holes arranged in at least a part of the region along the width direction of the substrate, At least one of the nozzles is provided with a discharge hole having a different size in at least a section along the width direction of the substrate and at least one nozzle is provided with a discharge hole having a constant size in the entire section along the width direction of the substrate.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 일 실시예와 관련된 건조장치는 다음과 같은 효과를 갖는다.As described above, the drying apparatus according to one embodiment of the present invention has the following effects.

기재의 폭 방향을 따라 가장 자리 영역에서 중앙 영역으로 갈수록 토출홀의 크기가 증가하도록 마련하여, 기재 폭 방향을 따라 기재 양 가장자리에서 중앙으로 갈수록 노즐의 분사부의 분사영역의 크기를 크게 설계함으로써, 분사 면적이 큰 기재의 중앙 부근에서 상대적으로 많은 유량이 기재에 전달되고, 반대로 노즐의 분사부의 분사 면적이 상대적으로 작은 기재의 가장자리(말단) 부근에서 상대적으로 적은 유량이 기재에 전달된다.The sizes of the discharge holes are increased from the edge area to the center area along the width direction of the substrate so that the size of the spray area of the spray part of the nozzle is made larger toward the center from the edges of the substrate along the width direction of the substrate, A relatively large flow rate is transmitted to the substrate in the vicinity of the center of the large substrate and conversely a relatively small flow rate is transmitted to the substrate in the vicinity of the edge (end) of the substrate having a relatively small injection area of the spray portion of the nozzle.

이와 같이, 분사홀의 크기(직경)에 따른 유량 차이를 통해 기재의 건조 속도 편차를 감소시킬 수 있다. 또한, 건조 효율성 및 코팅 품질을 향상시킬 수 있다.Thus, the drift velocity deviation of the substrate can be reduced through the flow rate difference depending on the size (diameter) of the injection hole. In addition, drying efficiency and coating quality can be improved.

도 1은 종래 건조장치를 나타내는 개략도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예와 관련된 건조 장치를 나타내는 개략도들이다.
도 4 및 도 5는 노즐의 분사부를 나타내는 평면도들이다.
도 6은 기재 표면이 전달받는 열량 분포를 나타내는 이미지이다.
도 7은 기재 폭 방향에 따른 기재 표면의 열량 분포를 정량적으로 나타내는 것으로, 도 6에 도시된 이미지를 나타낸 그래프이다.1 is a schematic view showing a conventional drying apparatus.
2 and 3 are schematic views showing a drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figs. 4 and 5 are plan views showing the jetting portion of the nozzle.
6 is an image showing the distribution of the amount of heat transferred to the substrate surface.
Fig. 7 is a graph showing the image shown in Fig. 6 quantitatively showing the heat quantity distribution on the substrate surface along the substrate width direction.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 건조장치를 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a drying apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

또한, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응되는 구성요소는 동일 또는 유사한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복 설명은 생략하기로 하며, 설명의 편의를 위하여 도시된 각 구성 부재의 크기 및 형상은 과장되거나 축소될 수 있다.In addition, the same or corresponding reference numerals are given to the same or corresponding reference numerals regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted. For convenience of explanation, the size and shape of each constituent member shown in the drawings are exaggerated or reduced .

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예와 관련된 건조 장치를 나타내는 개략도들이고, 도 4 및 도 5는 노즐(100)의 분사부(12, 120)을 나타내는 평면도들이다.FIGS. 2 and 3 are schematic views showing a drying apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 4 and 5 are plan views showing jetting sections 12 and 120 of a nozzle 100.

도 6은 기재 표면이 전달받는 열량 분포를 나타내는 이미지이고, 도 7은 기재 폭 방향에 따른 기재 표면의 열량 분포를 정량적으로 나타내는 것으로, 도 6에 도시된 이미지를 나타낸 그래프이다.FIG. 6 is an image showing the distribution of heat quantity transferred to the substrate surface, and FIG. 7 is a graph showing the image shown in FIG. 6 quantitatively showing the heat quantity distribution on the substrate surface along the substrate width direction.

도 2 및 도 3을 참조하면, 건조장치는 건조오븐과 이송부와 노즐(100)과 송풍팬(130) 및 제어부를 포함한다. 본 문서에서 기재(F)는 전극 또는 광학용 필름을 지칭하는 용어로 사용될 수 있다.2 and 3, the drying apparatus includes a drying oven, a transfer part, a nozzle 100, a blowing fan 130, and a control part. In this document, reference (F) can be used to refer to an electrode or a film for optical use.

구체적으로, 상기 건조장치는 건조 공간을 제공하는 건조 오븐(도 1의 C 참조)과, 건조 공간에서 기재(F)를 이송하기 위한 이송부(도시되지 않음)와, 건조 오븐 내에서 기재(F)를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀(121)을 갖는 분사부(120)를 갖는 노즐(100) 및 노즐(100) 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬(130)을 포함한다. 또한, 상기 건조장치는 송풍팬(130)을 제어하기 위한 제어부를 포함하며, 제어부에 의해 송풍팬(130)의 회전속도가 조절될 수 있고, 이에 따라 노즐(100)에서 분사되는 열풍의 유속이 조절될 수 있다.Specifically, the drying apparatus includes a drying oven (see Fig. 1C) for providing a drying space, a transfer portion (not shown) for transferring the substrate F in the drying space, a substrate F in a drying oven, And a blowing fan 130 for generating a hot air flow in the nozzle 100. The nozzle 100 has a spraying part 120 having a plurality of discharge holes 121 for spraying hot air toward the nozzle 100. In addition, the drying apparatus includes a control unit for controlling the blowing fan 130, and the rotational speed of the blowing fan 130 can be adjusted by the control unit, so that the flow velocity of the hot air blown from the nozzle 100 Lt; / RTI >

또한, 이송부는 기재(F)를 소정 방향으로 주행시키도록 마련될 수 있고, 구체적으로, 이송부는 컨베이어를 포함할 수 있고, 예를 들어 이송부는 벨트 컨베이어를 포함할 수 있다.Further, the conveying unit may be provided to run the substrate F in a predetermined direction. Specifically, the conveying unit may include a conveyor, for example, the conveying unit may include a belt conveyor.

또한, 본 문서에서, 건조 대상인 기재(F)는 다양한 용매, 예를 들어, 물, 오일, NMP 등을 포함한 상태일 수 있다. 상기 기재(F)는 소정의 건조 공정조건에 따른 건조 공정을 거치게 되며, 상기 건조 공정조건은 열풍 온도, 및/또는 열풍 속도, 오븐 내부 배기가스 농도 등을 포함할 수 있다. 또한, 건조 공정 중에, 기재(F)의 함수율은 미리 정해진 함수율에 맞도록 조절될 수 있다. 따라서, 건조 공정 중인 기재(F)로부터 측정된 함수율에 따라 건조 공정조건이 변경되어야 할 필요성이 발생할 수도 있다.Further, in this document, the substrate F to be dried may be in a state containing various solvents such as water, oil, NMP and the like. The substrate F is subjected to a drying process according to a predetermined drying process condition, and the drying process condition may include a hot air temperature and / or a hot air speed, an exhaust gas concentration in the oven, and the like. Further, during the drying process, the water content of the substrate (F) can be adjusted to a predetermined water content. Thus, it may be necessary to change the drying process conditions according to the moisture content measured from the substrate F during the drying process.

또한, 제어부는 건조 중 실시간으로 기재(F)의 함수율을 측정하기 위한 하나 이상의 센서와 전기적으로 연결될 수도 있다. 또한, 제어부는 송풍팬(130)의 회전 속도를 조절함으로써, 노즐(100)에서 토출되는 열풍의 유속을 조절할 수 있다. 예를 들어, 송풍팬(130)의 회전속도를 증가시켜 열풍 유속을 증가시킬 수도 있고, 송풍팬(130)의 회전속도를 감소시켜 열풍 유속을 감소시킬 수도 있다.In addition, the control unit may be electrically connected to one or more sensors for measuring the water content of the substrate F in real time during drying. Also, the control unit can adjust the flow speed of the hot air discharged from the nozzle 100 by adjusting the rotational speed of the blowing fan 130. For example, the rotational speed of the air blowing fan 130 may be increased to increase the hot air flow rate, or the rotational speed of the air blowing fan 130 may be decreased to reduce the hot air flow rate.

또한, 제어부는 건조 중 오븐 내부 배기 가스 농도를 측정하기 위한 하나 이상의 센서와 전기적으로 연결될 수 있다. 그 결과, 제어부는 측정된 제품의 함수율 및/또는 내부 배기 가스 농도에 기초하여 송풍팬(130)의 회전속도를 조절할 수 있다. In addition, the control unit may be electrically connected to one or more sensors for measuring the exhaust gas concentration in the oven during drying. As a result, the control unit can adjust the rotational speed of the blowing fan 130 based on the water content of the measured product and / or the internal exhaust gas concentration.

도 2 및 도 3을 참조하면, 노즐(100)은 건조 오븐 내에서 기재(F)를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀(121)을 갖는 분사부(120)를 갖는다. 또한, 노즐(100)은 열풍 공급부와 연결되고, 노즐(100)은 대류 방식을 통해 기재(F) 표면에 열을 공급하도록 마련된다. 또한, 복수 개의 노즐(100)은 기재(F)의 이송방향(MD 방향)을 따라 소정 간격으로 떨어져 위치할 수 있다. 2 and 3, the nozzle 100 has a jetting section 120 having a plurality of jetting holes 121 for jetting hot air toward the substrate F in a drying oven. In addition, the nozzle 100 is connected to the hot air supply unit, and the nozzle 100 is provided to supply heat to the surface of the substrate F through the convection mode. In addition, the plurality of nozzles 100 may be spaced apart at predetermined intervals along the conveying direction (MD direction) of the substrate F.

한편, 열풍의 온도, 열풍의 토출 속도(유속) 및/또는 열풍의 분사 유량은 제어부에 의해 조절될 수 있다. On the other hand, the temperature of hot air, the discharge speed (flow velocity) of hot air and / or the spray flow rate of hot air can be adjusted by the control unit.

한편, 상기 노즐(100)은, 건조 오븐에 설치되는 본체(110)를 포함한다.Meanwhile, the nozzle 100 includes a main body 110 installed in a drying oven.

상기 본체(110)에는 복수 개의 토출홀(121)을 갖는 분사부(120)가 마련된다. 분사부(120)는 기재(F)와 마주하는 본체(110)의 바닥면(111)에 마련될 수 있다. 또한, 분사부(120)는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀(121)을 갖는다. 즉, 분사부(120)는 토출홀 어레이(array)일 수 있다.The main body 110 is provided with a jetting part 120 having a plurality of discharge holes 121. The jetting section 120 may be provided on the bottom surface 111 of the main body 110 facing the substrate F. [ Further, the jetting section 120 has a plurality of discharge holes 121 arranged in at least a partial region along the width direction of the substrate. That is, the jetting unit 120 may be an ejection hole array.

도 3을 참조하면, 또한, 노즐(100)의 본체(110) 내에는 분사부(120) 측으로 열풍을 균일하게 분배시키기 위한 타공판(140)이 마련될 수도 있다.3, a perforated plate 140 may be provided in the main body 110 of the nozzle 100 to uniformly distribute hot air to the jetting unit 120 side.

한편, 노즐(100)은 기재(F) 이송방향(MD)의 수직방향인 기재의 폭 방향(W)을 따라 적어도 일부 구간에서 토출홀(121)의 크기가 다르게 마련된다. 송풍팬(130)의 회전속도가 일정할 때, 토출구(121)의 크기에 따라 토출되는 열풍 유량이 달리질 수 있다. The size of the discharge hole 121 in the nozzle 100 is set to be different in at least some sections along the width direction W of the base material in the direction perpendicular to the transport direction MD of the base material F. [ When the rotational speed of the blowing fan 130 is constant, the flow rate of the hot air discharged may be varied depending on the size of the discharge port 121.

도 5를 참조하면, 토출홀(121)의 크기를 기재의 폭 방향(W)에 따라 달리함으로써, 열풍 유량을 달리 조절할 수 있다. 구체적으로, 기재(F) 폭 방향(W)을 따라 기재 양측 가장자리에서 중앙으로 갈수록 토출홀(121)의 크기(직경)를 크게 설계함으로써, 분사면적이 큰 기재의 중앙 부근(120-1)에서 상대적으로 많은 유량이 기재에 전달되고, 반대로 분사면적이 작은 기재의 가장자리(말단) 부근(120-2)에서 상대적으로 적은 유량이 기재(P)에 전달될 수 있다. 따라서, 기재(P)의 폭 방향(W)에 따른 건조 속도 편차를 줄일 수 있다.Referring to FIG. 5, by varying the size of the discharge hole 121 along the width direction W of the substrate, the hot air flow rate can be controlled differently. Specifically, by designing the size (diameter) of the discharge hole 121 to be larger toward the center from both side edges of the base material along the width direction W of the base material F, A relatively large flow rate can be transmitted to the substrate and a relatively small flow rate can be transmitted to the substrate P at the edge (end) vicinity 120-2 of the base material having a small injection area. Therefore, the drift velocity deviation along the width direction W of the base material P can be reduced.

도 5를 참조하면, 분사부(120)는 기재(P)의 폭 방향(W)을 따라 중앙 영역(120-1)의 토출홀(123)의 크기가 가장 자리 영역(120-2)의 토출홀(125)의 크기 보다 크게 마련될 수 있다. 또한, 분사부(120)는 기재(P)의 폭 방향(W)을 따라 가장 자리 영역(120-2)에서 중앙 영역(120-1)으로 갈수록 토출홀의 크기가 증가하도록 마련될 수 있다.5, the jetting unit 120 has a structure in which the size of the discharge hole 123 of the central region 120-1 along the width direction W of the base material P is larger than the discharge And may be larger than the size of the hole 125. The jetting section 120 may be formed to increase the size of the discharge hole from the edge region 120-2 to the central region 120-1 along the width direction W of the substrate P. [

즉, 노즐(100)은, 송풍팬(130)의 회전 속도가 일정할 때, 기재의 폭 방향(W)을 따라 중앙 영역(120-1)에서 토출되는 유량이 가장자리 영역(120-2)에서 토출되는 유량보다 크도록 토출홀의 크기가 조절된다. 이때, 단위 면적 당 토출홀의 개수로 정의될 수 있는 토출홀의 밀도는 기재의 폭 방향(W)을 따라 대략 일정하게 유지되도록 할 수 있다.That is, when the rotational speed of the blowing fan 130 is constant, the flow rate of the gas discharged from the central region 120-1 along the width direction W of the substrate is smaller than the flow rate from the edge region 120-2 The size of the discharge hole is adjusted so as to be larger than the discharge flow rate. At this time, the density of the discharge holes, which can be defined by the number of discharge holes per unit area, can be kept substantially constant along the width direction W of the substrate.

한편, 기재(P)의 폭 방향(W)을 따라 가장 자리 영역(122)에서 중앙 영역(121)으로 갈수록 토출홀의 크기가 증가하도록 마련된 분사부(120)를 제1 분사부(120)라 지칭할 수 있다.The jetting section 120 provided to increase the size of the discharge hole from the edge region 122 to the central region 121 along the width direction W of the substrate P is referred to as a first jetting section 120 can do.

이와는 다르게, 도 4에 도시된 분사부(12)는 기재(P)의 폭 방향(W)을 따라 전체 구간에서 토출홀(11)의 크기(직경)가 일정하게 유지된다. 즉, 노즐은 기재(P)의 폭 방향(W)을 따라 전체 구간에서 토출홀의 크기가 일정하게 마련될 수도 있다. 이와 같이, 기재(P)의 폭 방향(W)을 따라 전체 구간에서 토출홀(11)의 크기가 일정하게 유지되는 분사부(12)를 제2 분사부(12)라 지칭할 수 있다.4, the size (diameter) of the discharge hole 11 is kept constant in the entire section along the width direction W of the base material P. In this case, That is, the size of the discharge hole in the entire region of the nozzle along the width direction W of the substrate P may be constant. The jetting section 12 in which the size of the jetting hole 11 is kept constant in the whole section along the width direction W of the base material P can be referred to as the second jetting section 12. [

도 6을 참조하면, 기재(F) 표면이 전달받는 열량 분포를 나타낸 이미지로써, 기재(F) 단면을 20등분하여 각 구역별 열량 분포를 도 6과 같이 나타낼 수 있다. 또한, 도 7을 참조하면, 도 4에 도시된 분사부(12)와 도 5에 도시된 분사부(120)에서의 열량 분포를 확인할 수 있다.Referring to FIG. 6, the image of the distribution of the amount of heat received by the surface of the substrate F is divided into 20 equal sections of the substrate F, and the distribution of the amounts of heat of the respective sections can be expressed as shown in FIG. In addition, referring to FIG. 7, it is possible to confirm the heat quantity distribution in the jetting section 12 shown in FIG. 4 and the jetting section 120 shown in FIG.

도 5에서와 같이, 토출홀의 크기(직경)을 조절할 경우, 기재(F)의 폭 방향(W)을 따라 기재의 가장자리 부근에는 열량 분포가 감소하였고, 중앙 부근에는 열랑 분포가 증가하는 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 5, when the size (diameter) of the discharge hole was adjusted, it was confirmed that the heat distribution was decreased near the edge of the substrate along the width direction W of the base material F and the heat distribution was increased near the center have.

이러한 열량 분포를 통해, 기재 중앙의 건조 속도를 향상되고, 말단의 건조 속도는 저하되어, 종합적으로 건조 속도 편차가 줄어들 수 있다.Through such a heat quantity distribution, the drying speed at the center of the substrate is improved, the drying speed at the ends is lowered, and the drying speed deviation can be collectively reduced.

또한, 기재 말단 및 중앙에 대한 열량 분포는 토출홀의 크기를 조절함에 따라 다양하게 조절될 수 있으며, 중앙영역 및 가장자리 영역에서의 토출홀의 크기 비율은 기재의 종류, 폭, 용매량 등에 의해 다양하게 설정될 수 있다.In addition, the heat quantity distribution about the base end and the center can be variously adjusted by adjusting the size of the discharge hole, and the size ratio of the discharge holes in the central area and the edge area can be variously set according to the type, width, .

한편, 건조 오븐에서 기재(F)의 주행방향을 따라 전체 건조 구간에 제1 분사부(120)를 갖는 노즐(100)을 배열하는 경우, 기재 중앙의 건조가 기재 말단보다 빨리 건조가 완료되는 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 제1 분사부(120)를 갖는 노즐(100)은 일부 건조 구간에 한정하여 설치하는 것이 바람직하다.On the other hand, when the nozzle 100 having the first spray part 120 is arranged in the entire drying section along the running direction of the base material F in the drying oven, the drying at the center of the base material is completed faster than the base end May occur. Therefore, it is preferable that the nozzle 100 having the first jetting section 120 is installed in a limited part of the drying section.

이를 위해, 상기 건조장치는 기재의 이송방향을 따라 소정 간격으로 떨어져 배치되는 복수 개의 노즐(100)을 포함하며, 적어도 하나의 노즐은 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 구간에서 토출홀의 크기가 다르게 마련되고(도 5 참조), 적어도 하나의 노즐은 기재의 폭 방향을 따라 전체 구간에서 토출홀(11)의 크기가 일정하게 마련될 수 있다(도 4 참조).For this, the drying apparatus includes a plurality of nozzles 100 arranged at predetermined intervals along the transport direction of the substrate, and at least one nozzle has different discharge holes in at least some sections along the width direction of the substrate (See FIG. 5), at least one nozzle may be provided with a constant size of the discharge hole 11 in the whole section along the width direction of the substrate (see FIG. 4).

즉, 적어도 하나의 노즐은 제1 분사부(120)을 갖는 노즐이고, 적어도 하나의 노즐은 제2 분사부(12)를 갖는 노즐일 수 있다.That is, at least one nozzle is a nozzle having a first jetting section 120, and at least one nozzle may be a nozzle having a second jetting section 12.

위에서 설명된 본 발명의 바람직한 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.The foregoing description of the preferred embodiments of the present invention has been presented for purposes of illustration and various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention, And additions should be considered as falling within the scope of the following claims.

100: 열풍 노즐
110: 본체
12, 120: 분사부
11, 123, 125: 분사홀
130: 송풍팬
140: 타공판100: hot air nozzle
110:
12, 120:
11, 123, 125: injection hole
130: blowing fan
140: perforated plate

Claims (6)

건조 공간을 제공하는 건조 오븐;
건조 공간에서 기재를 이송하기 위한 이송부;
건조 오븐 내에서 기재를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀을 갖는 분사부를 포함하는 노즐; 및
노즐 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬을 포함하며,
노즐은 기재 이송방향의 수직방향인 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 구간에서 토출홀의 크기가 다른 건조장치.A drying oven providing a drying space;
A conveying part for conveying the substrate in the drying space;
A nozzle including a jetting portion having a plurality of jetting holes for jetting hot air toward the substrate in a drying oven; And
And a blowing fan for generating a hot air flow in the nozzle,
Wherein the nozzles are different in size of the discharge holes in at least some sections along the width direction of the substrate which is perpendicular to the substrate transport direction. 제 1 항에 있어서,
분사부는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀을 갖는 건조장치.The method according to claim 1,
And the ejection portion has a plurality of ejection holes arranged in at least a partial region along the width direction of the substrate. 제 1 항에 있어서,
분사부는 기재의 폭 방향을 따라 중앙 영역의 토출홀의 크기가 가장 자리 영역의 토출홀의 크기 보다 크게 마련된 건조 장치.The method according to claim 1,
Wherein a size of the discharge hole in the central area along the width direction of the substrate is larger than a size of the discharge hole in the edge area. 제 3 항에 있어서,
분사부는 기재의 폭 방향을 따라 가장 자리 영역에서 중앙 영역으로 갈수록 토출홀의 크기가 증가하도록 마련된 건조 장치.The method of claim 3,
And the size of the discharge hole is increased from the edge region to the central region along the width direction of the base material. 건조 공간을 제공하는 건조 오븐;
건조 공간에서 기재를 이송하기 위한 이송부;
건조 오븐 내에서 기재를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀을 갖는 분사부를 포함하는 노즐; 및
노즐 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬을 포함하며,
분사부는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀을 가지고,
노즐은, 송풍팬의 회전 속도가 일정할 때, 기재의 폭 방향을 따라 중앙 영역에서 토출되는 유량이 가장자리 영역에서 토출되는 유량보다 크도록 토출홀의 크기가 조절된 건조장치.A drying oven providing a drying space;
A conveying part for conveying the substrate in the drying space;
A nozzle including a jetting portion having a plurality of jetting holes for jetting hot air toward the substrate in a drying oven; And
And a blowing fan for generating a hot air flow in the nozzle,
The ejection portion has a plurality of ejection holes arranged in at least a partial region along the width direction of the substrate,
Wherein the size of the discharge hole is adjusted so that the flow rate of the nozzle discharged from the central region along the width direction of the substrate is larger than the flow rate discharged from the edge region when the rotational speed of the blowing fan is constant. 건조 공간을 제공하는 건조 오븐;
건조 공간에서 기재를 이송하기 위한 이송부;
건조 오븐 내에서 기재를 향하여 열풍을 분사하는 복수 개의 토출홀을 갖는 분사부를 포함하고, 기재의 이송방향을 따라 떨어져 위치하는 복수 개의 노즐; 및
노즐 내 열풍 유동을 생성하는 송풍팬을 포함하며,
분사부는 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 영역에 배열된 복수 개의 토출홀을 가지고,
적어도 하나의 노즐은 기재의 폭 방향을 따라 적어도 일부 구간에서 토출홀의 크기가 다르게 마련되며,
적어도 하나의 노즐은 기재의 폭 방향을 따라 전체 구간에서 토출홀의 크기가 일정하게 마련된 건조장치.
A drying oven providing a drying space;
A conveying part for conveying the substrate in the drying space;
A plurality of nozzles located apart from each other along the transport direction of the substrate, the nozzles including a jetting portion having a plurality of discharge holes for jetting hot air toward the substrate in a drying oven; And
And a blowing fan for generating a hot air flow in the nozzle,
The ejection portion has a plurality of ejection holes arranged in at least a partial region along the width direction of the substrate,
At least one of the nozzles may have a different discharge hole size in at least some sections along the width direction of the substrate,
Wherein at least one of the nozzles is provided with a constant size of the discharge hole in the entire section along the width direction of the substrate.
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KR20220157008A (en) 2021-05-20 2022-11-29 주식회사 나래나노텍 Apparatus for drying electrode

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