KR20180062070A - Automatic Chlorine Projecting System - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 자동 염소 투입 시스템에 관한 것으로, 특히 식수를 저장하는 물탱크에 저장되는 지하수, 계곡수 등의 식수에 함유된 세균을 살균하기 위해 상기 물탱크로 유입된 식수에 염소를 자동으로 투입할 수 있는 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to an automatic chlorine input system, and more particularly, to an automatic chlorine input system for automatically introducing chlorine into drinking water introduced into the water tank for sterilizing germs contained in drinking water such as ground water and valley water stored in a water tank for storing drinking water And an automatic chlorine input system which can easily maintain the chlorine concentration.
주지하는 바와 같이, 상수도시설이 없는 시골이나 산간 마을 등에서는 산의 중턱에 물탱크를 설치하고 상기 물탱크에 물을 저장하여 각 가정으로 물을 공급한다. 이러한 물은 지하수를 퍼올리는 것이기 때문에 물탱크에 염소(또는 소독약)를 투입하여 저장된 물을 소독한다.As is known, in a rural or mountain village where there is no water supply facility, a water tank is installed in the middle of the mountain, and water is stored in the water tank to supply water to each household. Since such water is pumped out of ground water, chlorine (or disinfectant) is added to the water tank to sterilize the stored water.
이와 같이 물탱크에 저장되는 물에 함유된 세균을 살균하기 위하여 염소(또는 소독약)를 투입할 때에는 사람이 정기적으로 소독약을 투입하여 왔으나, 저장된 물의 양에 따라 알맞은 양을 투입하기가 곤란하여 어림셈으로 짐작하여 투입하게 된다. In order to sterilize the bacteria contained in the water stored in the water tank, when the chlorine (or the disinfectant) is put into the tank, the person puts the disinfectant on a regular basis. However, it is difficult to input an appropriate amount depending on the amount of stored water. I guess.
이러한 문제점을 해결하기 위해 물탱크로 유입되는 수량에 따라 자동으로 정량의 염소를 투입할 수 있는 염소 자동 투입 장치가 개발되기도 하였다.In order to solve these problems, a chlorine automatic feeder has been developed which can automatically feed a predetermined amount of chlorine according to the amount of water introduced into a water tank.
상기 종래의 염소 자동 투입 장치는 유량계를 통해 물탱크로 유입되는 원수의 양을 측정하고, 유입된 원수의 양에 비례하는 염소를 투입하여 살균할 수 있도록 된 것이다.In the conventional automatic chlorinator, the amount of raw water flowing into the water tank through the flow meter is measured, and chlorine proportional to the amount of the raw water introduced into the water tank is sterilized.
그런데, 염소의 투입량은 수질 상태에 따라 조정되어야 하지만 종래의 염소 투입 장치는 수질에 따른 염소 투입량의 제어가 어려웠다.However, the input amount of chlorine should be adjusted according to the water quality, but it has been difficult to control the chlorine input amount according to the water quality in the conventional chlorine input device.
아울러 염소가 투입된 후에도 물탱크에서 저수되는 시간이 경과함에 따라 증발 등의 이유로 염소의 농도가 변하게 되는 문제가 있다.Further, there is a problem in that the concentration of chlorine changes due to evaporation or the like as time passes after the chlorine is stored in the water tank.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 창출된 것으로, 메인저수탱크와 보조저수탱크로 이루어진 물탱크를 통해 각 물탱크를 통과하는 식수에 잔류하는 염소의 농도를 측정하고, 이에 대응하여 염소를 재투입함으로써 적정 농도의 염소가 투입된 식수를 공급할 수 있는 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to measure the concentration of chlorine remaining in drinking water passing through each water tank through a water tank composed of a main storage tank and an auxiliary storage tank, The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an automatic chlorine input system which can easily maintain the chlorine concentration capable of supplying drinking water into which chlorine having an appropriate concentration is introduced.
본 발명에 따른 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템은 원수를 공급받아 저수하는 메인저수탱크와, 상기 메인 저수탱크로부터 저수된 물이 배출되는 제1 배출라인과 연결되는 보조저수탱크와, 상기 메인저수탱크 및 보조저수탱크로 염소를 투입하는 염소투입기와, 상기 제1 배출라인에 설치되어 상기 제1 배출라인을 통과하는 물의 염소 농도를 측정하는 제1 염소센서와, 상기 염소투입기의 구동을 제어하는 제어부를 포함하며, 상기 제어부는 상기 제1 염소센서의 감지정보를 전달받고, 상기 제1 염소센서에서 측정된 염소농도가 설정된 기준값 이하인 경우 상기 보조저수탱크로 염소가 투입되도록 상기 염소투입기를 구동하도록 형성된다.The automatic chlorine input system according to the present invention has a main reservoir tank for storing raw water by supplying raw water, an auxiliary reservoir tank connected to a first discharge line through which water stored from the main reservoir tank is discharged, A first chlorine sensor installed in the first discharge line for measuring a chlorine concentration of water passing through the first discharge line, a second chlorine sensor installed in the first discharge line for measuring the chlorine concentration of water passing through the first discharge line, Wherein the control unit receives the detection information of the first chlorine sensor and controls the chlorine dosing unit to supply chlorine to the auxiliary storage tank when the chlorine concentration measured by the first chlorine sensor is lower than a predetermined reference value, .
상기 메인저수탱크는 원수가 공급되는 원수공급라인과 연결되고, 상기 원수공급라인에는 상기 메인저수탱크로 유입되는 원수의 유량을 체크하기 위한 유량계가 마련되며, 상기 제어부는 상기 유량계에서 측정되는 원수의 공급량에 비례하여 상기 염소투입기에서 투입되는 염소의 투입량을 제어하도록 형성되는 것이 바람직하다.Wherein the main water storage tank is connected to a raw water supply line to which raw water is supplied and the raw water supply line is provided with a flow meter for checking the flow rate of raw water flowing into the main storage tank, And the amount of chlorine introduced into the chlorine input unit is controlled in proportion to the supply amount.
상기 보조저수탱크로부터 식수가 배출되는 제2 배출라인에 설치되어 염소 농도를 측정하는 제2 염소센서와, 상기 제1 배출라인과 상기 제2 배출라인을 연결하는 바이패스라인과, 상기 바이패스라인과 상기 제1 배출라인의 연결부에 설치되는 제1 밸브와, 상기 바이패스라인과 상기 제2 배출라인의 연결부에 설치되는 제2 밸브를 더 구비하는 것이 바람직하다.A second chlorine sensor installed at a second discharge line through which drinking water is discharged from the auxiliary water storage tank to measure chlorine concentration, a bypass line connecting the first discharge line and the second discharge line, And a second valve disposed at a connection portion between the bypass line and the second discharge line.
상기 제어부는 상기 제1 염소센서에서 측정된 염소농도가 기준치의 설정 범위 내에 있는 경우, 상기 바이패스라인을 통해 상기 제2 배출라인으로 바로 이동하여 배출이 이루어지도록 상기 제1 밸브와 제2 밸브를 제어하는 것이 바람직하다.Wherein the control unit controls the first valve and the second valve such that the chlorine concentration measured by the first chlorine sensor is within a predetermined range of the reference value and is discharged to the second discharge line through the bypass line, .
상기 제어부는 상기 제2 염소센서에서 측정된 물의 염소농도가 기준치의 설정범위에 부합하지 않으면 상기 제2 배출라인을 통해 배출된 물이 상기 바이패스라인을 통해 상기 보조저수탱크로 재유입되도록 상기 제1 밸브와 제2 밸브를 제어하는 것이 바람직하다.Wherein the control unit controls the second chlorine sensor so that the water discharged through the second discharge line is re-introduced into the auxiliary water storage tank through the bypass line when the chlorine concentration of the water measured by the second chlorine sensor does not meet the set range of the reference value, It is preferable to control the one valve and the second valve.
상기 원수공급라인에는 원수의 수질을 검사하는 수질검사센서가 장착되고, 상기 제어부는 상기 수질검사센서에서 측정된 원수의 수질에 따라 상기 메인저수탱크 및 보조저수탱크에 투입되는 염소의 투입량을 제어하도록 형성될 수 있다.The raw water supply line is equipped with a water quality sensor for inspecting the quality of raw water and the control unit controls the amount of chlorine introduced into the main water storage tank and the auxiliary water storage tank depending on the water quality of the raw water measured by the water quality sensor .
본 발명의 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템은 두 개의 저수탱크를 포함하고 있으며, 각 저수탱크로부터 배출되는 식수의 염소농도를 측정하고, 측정값이 설정된 기준 농도에 부합하지 않을 때, 염소를 재투입함으로써 적정 농도의 염소투입이 이루어져 살균처리되는 식수를 제공할 수 있는 이점이 있다.The automatic chlorine input system of the present invention, which can easily maintain the chlorine concentration of the present invention, includes two reservoir tanks. The chlorine concentration of the drinking water discharged from each reservoir tank is measured. When the measured value does not meet the set reference concentration, There is an advantage that it is possible to provide drinking water to be sterilized by introducing an appropriate concentration of chlorine by re-introducing chlorine.
아울러 본 발명의 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템은 염소농도의 측정과 재투입 과정이 제어부에 의해 자동으로 이루어짐에 따라 관리가 효율적으로 이루어질 수 있으며, 일정 수준의 염소농도를 항시 유지할 수 있는 이점이 있다.In addition, the automatic chlorine input system of the present invention, which can easily maintain the chlorine concentration of the present invention, can be efficiently managed as the chlorine concentration measurement and re-input process are automatically performed by the control unit, There is an advantage.
도 1은 본 발명에 따른 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템의 일 실시예의 개념도,
도 2는 도 1의 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템의 구성을 표시한 블럭도
도 3은 제1 밸브 및 제2 밸브에 의한 바이패스라인의 물의 흐름 변화를 표시한 개념도,
도 4는 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템의 다른 실시예를 도시한 개념도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a conceptual diagram of an embodiment of an automatic chlorine input system according to the present invention,
Fig. 2 is a block diagram showing the configuration of an automatic chlorine injection system in which the chlorine concentration of Fig. 1 can be easily maintained
3 is a conceptual view showing a change in water flow of the bypass line by the first valve and the second valve,
Fig. 4 is a conceptual diagram showing another embodiment of an automatic chlorine input system in which the chlorine concentration can be easily maintained.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like elements throughout. The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the present invention in order to clarify the present invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템(1)은 지하수 또는 다른 상수원으로부터 원수가 공급될 수 있도록 형성된 원수공급라인(11)에 연결되어 원수를 저수하는 메인저수탱크(20)를 포함한다.1 to 3, the automatic
본 실시예의 경우 메인저수탱크(20)로 공급되는 원수는 지하수이며, 지하수를 공급하는 원수공급펌프(10)로부터 원수공급라인(11)이 메인저수탱크(20)로 연장되도록 도시되어 있으나, 원수는 지하수 외에도 상수도, 우물 등 다양한 수원지가 될 수 있다. The raw water supplied to the
상기 메인저수탱크(20)는 소정의 내부공간을 갖도록 형성되며, 원수가 저수된 상태에서 후술하는 염소투입기(60)로부터 염소가 공급되면 염소가 원수에 혼합된다.The
원수공급라인(11) 상에는 메인저수탱크(20)로 원수가 유입되기 전 위치에 유량계(12)가 설치되어 상기 메인저수탱크(20)로 유입되는 원수의 유량을 계측한다.A
도시되지는 않았으나, 상기 메인저수탱크(20)의 내부에는 염소가 투입된 후 원수에 염소가 잘 혼합될 수 있도록 교반기가 마련될 수 있다. Although not shown, a stirrer may be provided in the main
메인저수탱크(20)의 일측에는 메인저수탱크(20)에 저수되어 있던 물이 배출될 수 있도록 제1 배출라인(41)이 연결되어 있고, 상기 제1 배출라인(41)은 보조저수탱크(30)와 연결된다. 따라서 메인저수탱크(20)로부터 배출된 물은 제1 배출라인(41)을 통해 보조저수탱크(30)로 이동하여 보조저수탱크(30)에 저장된다. A
아울러 상기 제1 배출라인(41)에는 메인저수탱크(20)에서 배출된 물의 염소농도를 측정하기 위한 제1 염소센서(51)가 구비되어 있고, 물이 이송되는 방향 상에서 제1 염소센서(51)의 후방에 후술하는 바이패스라인(73)이 연결되는데 이 연결위치에 제1 밸브(71)가 설치된다. The
보조저수탱크(30)는 메인저수탱크(20)에서 배출된 물이 저수될 수 있도록 저수공간을 가지며, 보조저수탱크(30)로부터 물이 배출될 수 있도록 제2 배출라인(42)이 연결된다. The auxiliary
상기 제2 배출라인(42)에도 보조저수탱크(30)에서 배출되는 물의 염소농도를 측정하기 위한 제2 염소센서(52)가 마련되어 있어서, 보조저수탱크(30)에서 토출되는 물의 염소농도를 측정하고 측정정보를 후술하는 제어부(80)로 전달한다.The
아울러 물이 이동하는 이동경로 상에서 상기 제2 염소센서(52)의 후방에 상기 바이패스라인(73)이 연결되고 바이패스라인(73)이 연결되는 연결부에 제2 밸브(72)가 설치된다.A
상기 염소투입기(60)는 메인저수탱크(20) 및 보조저수탱크(30)로 염소를 공급할 수 있도록 형성되어 있는 것으로, 염소가 저장되는 염소저장부(61)와, 염소저장부(61)로부터 메인저수탱크(20) 및 보조저수탱크(30)로 각각 연결되는 제1 염소공급라인(62)과 제2 염소공급라인(63), 그리고 제1 염소공급라인(62)과 제2 염소공급라인(63)에 각각 설치되는 제1 공급펌프(64)와 제2 공급펌프(65)를 포함한다. 상기 염소투입기(60)는 제어부(80)에 의해 구동이 제어된다.The
상기 제어부(80)는 상기 유량계(12)와 제1 염소센서(51), 제2 염소센서(52)로부터 각각 측정정보를 전달받는다. 그리고 전달된 측정정보에 따라 제1 염소공급펌프와 제2 염소공급펌프, 제1 밸브(71)와 제2 밸브(72)의 구동을 제어한다.The
제어부(80)의 구동 과정을 더욱 상세하게 설명하면, 먼저 유량계(12)로부터 메인저수탱크(20)로 유입되는 원수의 유량 정보를 수신하고, 메인저수탱크(20)로 유입되는 원수의 유량에 대응하여 염소가 투입될 수 있도록 제1 염소공급펌프를 구동한다.The
제1 염소공급펌프에 의해 투입된 염소에 의해 메인저수탱크(20)에서 원수의 소독이 이루어지고, 제1 배출라인(41)을 통해 배출될 때 상기 제1 염소센서(51)에서 염소의 농도를 측정하여 측정정보를 상기 제어부(80)로 전달한다.When the raw water is disinfected in the
제어부(80)는 제1 염소센서(51)에서 측정된 염소농도에 따라 제2 염소공급펌프의 구동을 제어한다. 즉, 제1 염소센서(51)에서 측정된 물의 염소농도가 설정된 기준값 이하인 경우 보조저수탱크(30)에서 염소의 추가 투입이 이루어지도록 제2 염소공급펌프를 구동한다.The
이때 제2 염소공급펌프의 가동시간은 제1 염소센서(51)에서 측정된 염소농도에 의해 결정되어 보조저수탱크(30)의 물의 염소농도가 설정된 범위에 들어가도록 한다.At this time, the operation time of the second chlorine supply pump is determined by the chlorine concentration measured by the
그리고 보조저수탱크(30)의 물이 제2 배출라인(42)을 통해 배출될 때, 상기 제2 염소센서(52)에서 물의 염소농도를 측정하며, 측정값이 기준값의 범위 이내에 들어갈 경우 물은 그대로 제2 배출라인(42)을 따라 이동한다.When the water in the
그러나 제2 염소센서(52)에서 측정된 염소농도가 기준 범위에 들어가지 못하는 경우 다시 한번 염소의 재투입이 이루어져야 하므로 도 3의 (b)에 도시되어 있는 것처럼, 제어부(80)는 제1 밸브(71)와 제2 밸브(72)를 제어하여 제2 배출라인(42)을 통해 배출되던 물이 바이패스라인(73)을 통해 다시 제1 배출라인(41)으로 연결되도록 함으로써 보조저수탱크(30)에 재유입시키고, 보조저수탱크(30)에서 다시 한번 염소를 투입한다.However, when the chlorine concentration measured by the
이렇게 보조저수탱크(30)에서 제2 배출라인(42)을 통해 배출되는 물은 제2 염소센서(52)에서 측정된 염소 농도가 기준 범위 이내에 포함될 경우에만 각 가정으로 공급이 이루어진다.The water discharged from the
물론 상기 제1 염소센서(51)에서 측정된 염소 농도가 기준 범위 이내에 포함되어 염소의 재투입이 필요하지 않을 경우, 도 3의 (a)에 도시된 것과 같이 제어부(80)는 제1 배출라인(41)으로 배출된 물이 바로 바이패스라인(73)을 통해 가정으로 공급되도록 제1 밸브(71)와 제2 밸브(72)를 제어한다.When the chlorine concentration measured by the
아울러 본 발명의 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템(1)은 도 4에 도시되어 있는 것처럼 원수공급라인(11)에 원수의 수질을 측정하기 위한 수질검사센서(90)가 더 구비될 수 있으며, 상기 제어부(80)는 메인저수탱크(20)로 유입되는 원수의 유량뿐 아니라 수질검사센서(90)에서 측정된 수질 상태에 따라 메인저수탱크(20)로 투입되는 염소의 투입량을 결정하도록 할 수 있다. In addition, the automatic
제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.The description of the disclosed embodiments is provided to enable any person skilled in the art to make or use the present invention. Various modifications to these embodiments will be readily apparent to those skilled in the art, and the generic principles defined herein may be applied to other embodiments without departing from the scope of the invention. Thus, the present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features presented herein.
1: 염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템
10: 원수공급펌프
11: 원수공급라인
12: 유량계
20: 메인저수탱크
30: 보조저수탱크
41: 제1 배출라인
42: 제2 배출라인
51: 제1 염소센서
52: 제2 염소센서
60: 염소투입기
61: 염소저장부
62: 제1 염소공급라인
63: 제2 염소공급라인
64: 제1 공급펌프
65: 제2 공급펌프
71: 제1 밸브
72: 제2 밸브
73: 바이패스라인
80: 제어부
90: 수질검사센서1: Automatic chlorine injection system with easy maintenance of chlorine concentration
10: raw water supply pump 11: raw water supply line
12: flow meter 20: main storage tank
30: auxiliary water tank 41: first discharge line
42: second exhaust line 51: first chlorine sensor
52: Second chlorine sensor 60: Chlorine dispenser
61: chlorine storage section 62: first chlorine supply line
63: second chlorine supply line 64: first supply pump
65: second supply pump 71: first valve
72: second valve 73: bypass line
80:
90: Water quality sensor
Claims (6)
상기 메인 저수탱크로부터 저수된 물이 배출되는 제1 배출라인과 연결되는 보조저수탱크와;
상기 메인저수탱크 및 보조저수탱크로 염소를 투입하는 염소투입기와;
상기 제1 배출라인에 설치되어 상기 제1 배출라인을 통과하는 물의 염소 농도를 측정하는 제1 염소센서와;
상기 염소투입기의 구동을 제어하는 제어부를 포함하며,
상기 제어부는 상기 제1 염소센서의 감지정보를 전달받고, 상기 제1 염소센서에서 측정된 염소농도가 설정된 기준값 이하인 경우 상기 보조저수탱크로 염소가 투입되도록 상기 염소투입기를 구동하는 것을 특징으로 하는
염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템.
A main water storage tank for storing raw water by supplying raw water;
An auxiliary storage tank connected to a first discharge line through which water stored in the main storage tank is discharged;
A chlorine injector for introducing chlorine into the main storage tank and the auxiliary storage tank;
A first chlorine sensor installed in the first discharge line for measuring a chlorine concentration of water passing through the first discharge line;
And a controller for controlling driving of the chlorinator,
Wherein the controller receives the detection information of the first chlorine sensor and drives the chlorine dispenser so that the chlorine is introduced into the auxiliary storage tank when the chlorine concentration measured by the first chlorine sensor is lower than a predetermined reference value
Automatic chlorine input system with easy maintenance of chlorine concentration.
상기 메인저수탱크는 원수가 공급되는 원수공급라인과 연결되고,
상기 원수공급라인에는 상기 메인저수탱크로 유입되는 원수의 유량을 체크하기 위한 유량계가 마련되며,
상기 제어부는 상기 유량계에서 측정되는 원수의 공급량에 비례하여 상기 염소투입기에서 투입되는 염소의 투입량을 제어하도록 형성된 것을 특징으로 하는
염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템.
The method according to claim 1,
The main storage tank is connected to a raw water supply line to which raw water is supplied,
Wherein the raw water supply line is provided with a flow meter for checking the flow rate of the raw water flowing into the main storage tank,
Wherein the control unit is configured to control an amount of chlorine input from the chlorine input unit in proportion to a supply amount of raw water measured in the flow meter
Automatic chlorine input system with easy maintenance of chlorine concentration.
상기 보조저수탱크로부터 식수가 배출되는 제2 배출라인에 설치되어 염소 농도를 측정하는 제2 염소센서와,
상기 제1 배출라인과 상기 제2 배출라인을 연결하는 바이패스라인과,
상기 바이패스라인과 상기 제1 배출라인의 연결부에 설치되는 제1 밸브와, 상기 바이패스라인과 상기 제2 배출라인의 연결부에 설치되는 제2 밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는
염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템.
3. The method of claim 2,
A second chlorine sensor installed in a second discharge line through which drinking water is discharged from the auxiliary water storage tank to measure chlorine concentration,
A bypass line connecting the first discharge line and the second discharge line,
A first valve installed at a connecting portion between the bypass line and the first discharge line and a second valve provided at a connecting portion between the bypass line and the second discharge line,
Automatic chlorine input system with easy maintenance of chlorine concentration.
상기 제어부는 상기 제1 염소센서에서 측정된 염소농도가 기준치의 설정 범위 내에 있는 경우, 상기 바이패스라인을 통해 상기 제2 배출라인으로 바로 이동하여 배출이 이루어지도록 상기 제1 밸브와 제2 밸브를 제어하는 것을 특징으로 하는
염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템.
The method of claim 3,
Wherein the control unit controls the first valve and the second valve such that the chlorine concentration measured by the first chlorine sensor is within a predetermined range of the reference value and is discharged to the second discharge line through the bypass line, Characterized in that
Automatic chlorine input system with easy maintenance of chlorine concentration.
상기 제어부는 상기 제2 염소센서에서 측정된 물의 염소농도가 기준치의 설정범위에 부합하지 않으면 상기 제2 배출라인을 통해 배출된 물이 상기 바이패스라인을 통해 상기 보조저수탱크로 재유입되도록 상기 제1 밸브와 제2 밸브를 제어하는 것을 특징으로 하는
염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템.
The method of claim 3,
Wherein the control unit controls the second chlorine sensor so that water discharged through the second discharge line is re-introduced into the auxiliary water storage tank through the bypass line when the chlorine concentration of the water measured by the second chlorine sensor does not meet the set range of the reference value, 1 < / RTI > valve and the second valve
Automatic chlorine input system with easy maintenance of chlorine concentration.
상기 원수공급라인에는 원수의 수질을 검사하는 수질검사센서가 장착되고,
상기 제어부는 상기 수질검사센서에서 측정된 원수의 수질에 따라 상기 메인저수탱크 및 보조저수탱크에 투입되는 염소의 투입량을 제어하는 것을 특징으로 하는
염소 농도의 유지가 용이한 자동 염소 투입 시스템.
6. The method according to any one of claims 4 to 5,
The raw water supply line is equipped with a water quality sensor for inspecting the quality of raw water,
Wherein the control unit controls the amount of chlorine to be supplied to the main storage tank and the auxiliary storage tank according to the water quality of the raw water measured by the water quality inspection sensor
Automatic chlorine input system with easy maintenance of chlorine concentration.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020160161944A KR20180062070A (en) | 2016-11-30 | 2016-11-30 | Automatic Chlorine Projecting System |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110129180A (en) * | 2019-05-30 | 2019-08-16 | 胥振安 | Fast-bacteria-detection device in a kind of tap water |
KR102305519B1 (en) * | 2020-11-23 | 2021-09-30 | (주)대하산업 | Natural Falling-Type Sodium Hypochlorite Injection Device |
KR102385817B1 (en) * | 2021-08-25 | 2022-04-14 | (주)대하산업 | A natural falling-type sodium hypochlorite injection device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200325796Y1 (en) | 2003-06-17 | 2003-09-06 | (주)세양수질 | A non-power chemicals injector |
KR100437901B1 (en) | 2001-12-24 | 2004-07-01 | 주식회사 리더스 | Apparatus for injecting chlorine |
KR20050063263A (en) * | 2003-12-22 | 2005-06-28 | (주) 팬지아이십일 | A apparatus and method for controlling the value of concentration contact time(ct) automatically in the chlorine-disinfection process |
KR20080015381A (en) * | 2007-12-27 | 2008-02-19 | 주식회사 태현수기 | Distributing reservoir's residual chlorine control system |
KR20140127598A (en) * | 2013-04-25 | 2014-11-04 | 신와 테크노 서비스 주식회사 | System mixing a medical fluid of chlorine acid(Na) with carbonic acid gas |
-
2016
- 2016-11-30 KR KR1020160161944A patent/KR20180062070A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100437901B1 (en) | 2001-12-24 | 2004-07-01 | 주식회사 리더스 | Apparatus for injecting chlorine |
KR200325796Y1 (en) | 2003-06-17 | 2003-09-06 | (주)세양수질 | A non-power chemicals injector |
KR20050063263A (en) * | 2003-12-22 | 2005-06-28 | (주) 팬지아이십일 | A apparatus and method for controlling the value of concentration contact time(ct) automatically in the chlorine-disinfection process |
KR20080015381A (en) * | 2007-12-27 | 2008-02-19 | 주식회사 태현수기 | Distributing reservoir's residual chlorine control system |
KR20140127598A (en) * | 2013-04-25 | 2014-11-04 | 신와 테크노 서비스 주식회사 | System mixing a medical fluid of chlorine acid(Na) with carbonic acid gas |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110129180A (en) * | 2019-05-30 | 2019-08-16 | 胥振安 | Fast-bacteria-detection device in a kind of tap water |
KR102305519B1 (en) * | 2020-11-23 | 2021-09-30 | (주)대하산업 | Natural Falling-Type Sodium Hypochlorite Injection Device |
KR102385817B1 (en) * | 2021-08-25 | 2022-04-14 | (주)대하산업 | A natural falling-type sodium hypochlorite injection device |
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