KR20180047506A - Method for manufacturing stretchable capacitors and stretchable capacitors manufactured thereof - Google Patents
Method for manufacturing stretchable capacitors and stretchable capacitors manufactured thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20180047506A KR20180047506A KR1020160143637A KR20160143637A KR20180047506A KR 20180047506 A KR20180047506 A KR 20180047506A KR 1020160143637 A KR1020160143637 A KR 1020160143637A KR 20160143637 A KR20160143637 A KR 20160143637A KR 20180047506 A KR20180047506 A KR 20180047506A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- conductor
- dielectric
- fiber
- conductive
- layer
- Prior art date
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 232
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 112
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 55
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 65
- -1 Kermil Polymers 0.000 claims description 49
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 36
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 36
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 33
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 claims description 33
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 33
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 claims description 30
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 30
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 25
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 25
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 21
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 21
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 21
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 21
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 21
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 21
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 21
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 21
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 20
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 19
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 19
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229920002334 Spandex Polymers 0.000 claims description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 18
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 18
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 claims description 15
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 15
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 15
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 15
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 15
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 15
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 15
- 239000002964 rayon Substances 0.000 claims description 15
- 239000004759 spandex Substances 0.000 claims description 15
- 229920000784 Nomex Polymers 0.000 claims description 14
- 239000004763 nomex Substances 0.000 claims description 14
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 13
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 claims description 13
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 claims description 12
- 102000016942 Elastin Human genes 0.000 claims description 12
- 108010014258 Elastin Proteins 0.000 claims description 12
- 229920000271 Kevlar® Polymers 0.000 claims description 12
- 229920000433 Lyocell Polymers 0.000 claims description 12
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 claims description 12
- 229920002549 elastin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004761 kevlar Substances 0.000 claims description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 11
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 11
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 claims description 10
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 claims description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 9
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 claims description 9
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 9
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 5
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 5
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 claims description 5
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003781 PbTiO3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 3
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 claims description 2
- 241000209140 Triticum Species 0.000 claims description 2
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 claims description 2
- 230000001746 atrial effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 229920001688 coating polymer Polymers 0.000 claims 2
- 239000002071 nanotube Substances 0.000 claims 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 10
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 5
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 4
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920005594 polymer fiber Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 239000002320 enamel (paints) Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 244000025254 Cannabis sativa Species 0.000 description 1
- 235000012766 Cannabis sativa ssp. sativa var. sativa Nutrition 0.000 description 1
- 235000012765 Cannabis sativa ssp. sativa var. spontanea Nutrition 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000009120 camo Nutrition 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 235000005607 chanvre indien Nutrition 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007933 dermal patch Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 239000011487 hemp Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
- H01G4/015—Special provisions for self-healing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
- H01G4/008—Selection of materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/14—Organic dielectrics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 신축성 커패시터의 제조방법 및 이 제조방법으로 제조된 신축성 커패시터에 관한 것으로, 스킨패치형 전자소자, 스마트 의류, 스마트 워치, 웨어러블 헬스 모니터 등의 신축성 전자소자와 전자피부 등에 사용하기 위한 신축성 커패시터로서 파이버 형상의 도체의 표면을 고분자와 같은 유전체로 코팅하고 다시 상기 유전체의 표면에 금속과 같은 도체 코팅이 되어 있는 도체/유전체/도체 파이버를 코일 형상으로 심봉(mandrel)에 감아서 몰드 내에 배열하고 액상 신축성 고분자를 몰드 내에 주입하여 경화시킨 후 심봉을 빼내어 신축성 고분자부 내에 도체/유전체/도체 구조의 코일 형상으로 이루어진 신축성 커패시터의 제조방법 및 이 제조방법으로 제조된 신축성 커패시터에 관한 것이다.
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of manufacturing a flexible capacitor and a flexible capacitor manufactured by the manufacturing method, and more particularly, to a flexible capacitor for use in a flexible electronic device such as a skin patch type electronic device, smart clothing, smart watch, wearable health monitor, A surface of a conductor in the form of a fiber is coated with a dielectric material such as a polymer and a conductor / dielectric / conductor fiber having a conductor coating such as metal is coated on the surface of the dielectric material in a coil shape and arranged in a mold, The present invention relates to a method of manufacturing a stretchable capacitor having a coil shape of a conductor / dielectric / conductor structure in a stretchable polymer portion by injecting a stretchable polymer into a mold and removing the mandrel, and to a stretchable capacitor manufactured by this manufacturing method.
전자 디바이스의 기술개발 동향은 딱딱하고 유연성이 전혀 없던 제품에서 굽힘이 가능한 유연 제품을 거쳐 궁극적으로는 형상 자유도를 현저히 향상시킬 수 있도록 탄성 신축변형이 가능한 신축성 전자제품으로 발전하고 있다. 신축성 전자 디바이스들로는 외형 디자인이 자유로운 대면적 순응형 디스플레이, 둥근 기판에 초평면(focal plane) 어레이가 구비되어 있는 전자 눈(electronic eye), 벤딩 엑츄에이터와 같이 삼차원 굴곡 표면을 갖는 전자소자, 헬스 모니터링용 임플란트 소자, 스마트 의류와 더불어 인공 센싱피부인 전자피부, 생의학 전극과 같은 의료 전자소자를 들 수 있다. The trend of technology development of electronic devices has been developed as a flexible electronic product that can be flexibly deformed in order to improve the shape flexibility ultimately through flexible products that can be bent in rigid and inflexible products. Flexible electronic devices include large-area compliant displays with an external design freedom, electronic elements with a focal plane array on a round substrate, electronic devices with a three-dimensional curved surface such as a bending actuator, Medical electronic devices such as electronic skin and biomedical electrodes, which are artificial sensing skin, as well as devices, smart clothes, and the like.
이들 신축성 전자소자나 전자피부들은 사용중에 심한 신축 변형이 가해지게 되므로 이들 제품들을 구현하기 위해서는 인장 변형되더라도 전기적 기능이 유지되며 응력이 없어지면 원래 형태로 복원될 수 있는 신축성 전자부품들이 요구된다. These stretchable electronic devices and electronic skin are subject to severe expansion and contraction during use. Therefore, in order to implement these products, flexible electronic components are required that can maintain their electrical functions even if they are tensile-deformed and can be restored to their original shape when stress is lost.
그러나 반도체와 더불어 전자제품을 구성하는 가장 중요한 전자부품인 커패시터는 BaTiO3와 같은 취성의 유전체 세라믹으로 만들기 때문에 신축성이 전혀 없으며 인장응력이 가해지면 깨져버리는 문제점이 있다. However, since the capacitor, which is the most important electronic component constituting the electronic product together with the semiconductor, is made of a brittle dielectric ceramic such as BaTiO 3 , there is no elasticity, and when the tensile stress is applied, the capacitor is broken.
도 1에는 기존 기술에 의한 세라믹 커패시터(10)가 도시되어 있다. 이 도면에서 참조부호 12는 전극이다. 기존 기술에 의해 BaTiO3와 같은 취성의 유전체 세라믹(11)으로 제조한 커패시터(10)는 신축성이 전혀 없기 때문에 이를 신축성 고분자 기판에 실장하면, 작은 신축변형에 의해서도 커패시터(10)가 깨져버리는 문제점이 있었다.
FIG. 1 shows a
본 발명은 신축성 전자소자를 제조할 때 종래 기술에 의한 커패시터의 문제점을 해결하기 위한 것이다. The present invention is intended to solve the problems of the prior art capacitors when manufacturing flexible electronic devices.
본 발명은 도체 파이버(21)의 표면에 고분자와 같은 유전체 층(22)을 형성하고 상기 도체/유전체 파이버(23)의 유전체 층(22) 표면에 다시 도체 층(24)을 구비한 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 심봉(mandrel)(26)에 감고 이를 둘러싼 신축성 고분자부(28)를 형성한 후 상기 도체/유전체/도체 코일(27)에서 심봉(26)을 빼내어 이루어지는 것을 특징으로 한다. The present invention is based on the idea that a
본 발명에 따르면, 상기 신축성 고분자부(28)내에 도체/유전체/도체 코일(27)이 내재된 형상을 갖는 신축성 커패시터(20)를 인장변형시 상기 신축성 고분자부(28)와 함께 도체/유전체/도체 코일(27) 피치가 늘어나는 것이며 상기 도체/유전체/도체 코일(27)을 구성하는 상기 도체 파이버(21), 유전체 층(22)과 도체 층(24)에는 인장 응력이 가해지지 않아 손상을 받지 않게 된다. According to the present invention, a
이에 따라 신축변형이 가능하며 장시간 반복 신축변형에 대해 우수한 신뢰성을 나타내는 신축성 커패시터(20)의 제조방법 및 이 제조방법으로 제조된 신축성 커패시터(20)를 제공한다.
Thereby providing a
본 발명에 따르면, (a) 도체 파이버의 표면에 유전체 층을 형성하는 단계; (b) 상기 도체/유전체 파이버의 표면에 도체 층을 형성하는 단계; (c) 상기 도체/유전체/도체 파이버를 심봉에 감아 코일 형상으로 형성하는 단계; (d) 상기 심봉에 감긴 도체/유전체/도체 코일을 둘러싸는 신축성 고분자부를 형성하는 단계; 및 (e) 상기 신축성 고분자부에 내재된 도체/유전체/도체 코일에서 심봉을 빼내는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법을 제공한다. (A) forming a dielectric layer on a surface of a conductor fiber; (b) forming a conductor layer on a surface of the conductor / dielectric fiber; (c) winding the conductor / dielectric / conductor fiber around a mandrel to form a coil shape; (d) forming a stretchable polymer portion surrounding the conductor / dielectric / conductor coil wound around the mandrel; And (e) removing the mandrel from the conductor / dielectric / conductor coil embedded in the elastic polymer portion; The present invention also provides a method of manufacturing a flexible capacitor.
바람직하게는, 상기 (d) 단계는, 심봉에 감긴 도체/유전체/도체 코일을 신축성 커패시터 형성용 몰드 내에 배열하는 단계; 상기 신축성 커패시터 형성용 몰드 내에 액상 신축성 고분자를 주입하는 단계; 및 상기 액상 신축성 고분자를 경화시켜 신축성 고분자부를 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다. Advantageously, step (d) comprises: arranging a conductor / dielectric / conductor coil wound around the mandrel in a mold for forming a flexible capacitor; Injecting a liquid stretchable polymer into the mold for forming the elastic capacitor; And curing the liquid-phase stretchable polymer to form a stretchable polymer portion; And a control unit.
바람직하게는, 상기 (e) 단계 이후에, 심봉을 빼내면서 생긴 공간을 신축성 고분자로 메꾸는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, after step (e), the space formed by removing the mandrel may be replaced with a stretchable polymer. And further comprising:
바람직하게는, 상기 (b) 단계 이후에, 도체/유전체/도체 파이버의 표면에 유전체 층과 도체 층으로 이루어진 단위층을 적어도 하나 이상 더 형성하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, after step (b), forming at least one unit layer comprising a dielectric layer and a conductor layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber; And further comprising:
바람직하게는, 상기 (b) 단계 이후에, 도체/유전체/도체 파이버의 표면에 절연체 층을 형성하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, after step (b), forming an insulator layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber; And further comprising:
바람직하게는, 상기 (a) 단계의 도체 파이버는 금속도선, 전도성 실, 전도성 코팅 고분자 파이버 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 조합하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductor fibers in the step (a) are formed by combining any one or two or more of metal wires, conductive threads, and conductive coated polymer fibers.
바람직하게는, 상기 금속 도선은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the metal wire is made of at least one selected from the group consisting of Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, Pt, (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), and stainless steel.
바람직하게는, 상기 전도성 실은 금속피복 유기섬유, 금속섬유, 탄소섬유, 금속화합물 표층함유 섬유, 활성탄 섬유, 도전성수지 유기피복 섬유, 유기배열체 섬유, 탄소배열 복합섬유, 저융점금속 복합섬유, 유기도전성 섬유, 탄소나노튜브, 그래핀, 카본블랙 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductive yarn is at least one selected from the group consisting of metal coated organic fibers, metal fibers, carbon fibers, metal compound surface layer containing fibers, activated carbon fibers, conductive resin organic coated fibers, organic ordered fibers, carbon array conjugated fibers, Conductive fibers, carbon nanotubes, graphenes, and carbon black.
바람직하게는, 상기 전도성 실은 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, 면, 마, 리넨, 실크 섬유 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably the conductive yarn is selected from the group consisting of nylon, Kevlar, Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, lyocell, , And a silk fiber.
바람직하게는, 상기 전도성 실은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, 탄소나노튜브, 그래핀, 카본블랙 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 조성으로 단일층 또는 다층으로 코팅되는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductive thread is formed of a material selected from the group consisting of Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, Pt, ), Titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), stainless steel, carbon nanotubes, graphene and carbon black in a single layer or multilayer do.
바람직하게는, 상기 전도성 실은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE(Molecular Beam Epitaxy), MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 전도성을 부여하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductive chamber is formed of a material selected from the group consisting of electroless plating, electroplating, sputtering, vacuum deposition, electron beam deposition, chemical vapor deposition, MBE (Molecular Beam Epitaxy), MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), conductive ink impregnation, And is characterized by imparting conductivity by any one or two or more methods.
바람직하게는, 상기 전도성 실은 단사, 합사, 연사, 합연사, 혼방사, 교합사, 방적사, 필라멘트사, 피복사, 심방사 중 적어도 하나의 방식으로 제조되는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductive yarn is manufactured by at least one of a single yarn, a ply yarn, a twist yarn, a combined twist yarn, a mixed yarn, an occlusion yarn, a spun yarn, a filament yarn, a copy yarn, and an atrial yarn.
바람직하게는, 상기 전도성 코팅 고분자 파이버는 고분자 파이버의 표면에 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO (indium tin oxide), ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 코팅으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductive coated polymeric fiber is formed of a material selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), tin (Sn), aluminum (Al), iron (Fe) And a coating containing at least one of platinum (Pt), chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), stainless steel, indium tin oxide (ITO) .
바람직하게는, 상기 전도성 코팅 고분자 파이버의 고분자 파이버는 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀 중에서 적어도 하나를 포함한 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the polymeric fibers of the conductive coated polymeric fibers are selected from the group consisting of epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, silicone, PDMS (polydimethylsiloxane) , At least one of nylon, Kevlar, Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic and lyocell .
바람직하게는, 상기 (a) 단계의 유전체 층은 페릴린(pyrelene), 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the dielectric layer in step (a) is selected from the group consisting of pyrelene, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, silicone, PDMS, polyurethane , nylon, Kevlar, Nomex, Ker wheat, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode ahkeul rilrik, lyocell, BaTiO 3, SiO 2, Ta 2 O 5, PbTiO 3 , PZT, enamel, or two or more of them.
바람직하게는, 상기 (b) 단계의 도체 층은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO, ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductor layer of step (b) is formed of a material selected from the group consisting of Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, (Pt), chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), stainless steel, ITO and ZnO.
바람직하게는, 상기 (b) 단계의 도체 층은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE, MOCVD, 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductor layer of the step (b) is formed by one or more of the following methods: electroless plating, electroplating, sputtering, vacuum deposition, electron beam deposition, chemical vapor deposition, MBE, MOCVD, conductive ink impregnation, .
바람직하게는, 상기 심봉은 단면 형상이 원형, 다각형, 톱니바퀴형 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the core bar has a circular cross section, a polygonal cross section or a gear wheel cross section.
바람직하게는, 상기 심봉은 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 조성으로 이루어진 금속으로 형성되는 것을 특징으로 한다. Preferably, the core rod is made of a material selected from the group consisting of copper (Cu), silver (Ag), nickel (Ni), tin (Sn), aluminum (Al), iron (Fe), gold (Au), platinum ), Titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), and stainless steel.
바람직하게는, 상기 심봉은 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄 중에서 적어도 하나를 포함한 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the core bar is made of a polymer containing at least one of epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, silicone, PDMS and polyurethane .
바람직하게는, 상기 심봉은 알루미나(Al2O3), 질화알루미늄(AlN), 유리(SiO2), 글라스-세라믹, 실리콘카바이드(SiC), 질화실리콘(Si3N4), 실리콘(Si) 중에서 적어도 하나를 포함한 세라믹으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Advantageously, the core rod of alumina (Al 2 O 3), Aluminum nitride (AlN), glass (SiO 2), glass-ceramic, silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si 3 N 4), silicon (Si) And a ceramic body including at least one of ceramic and ceramics.
바람직하게는, 상기 신축성 고분자부는 PDMS(polydimethylsiloxane), 실리콘(silicone), 폴리우레탄, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4 중에서 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the stretchable polymer portion includes at least one of PDMS (polydimethylsiloxane), silicone, polyurethane, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, .
바람직하게는, 심봉을 빼내면서 생긴 공간을 메꾸는 신축성 고분자는 PDMS, 실리콘, 폴리우레탄, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4 중에서 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, at least one of PDMS, silicone, polyurethane, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4 is used as the stretchable polymer, And a control unit.
바람직하게는, 상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 유전체 층은 페릴린, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the dielectric layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber is selected from the group consisting of perylene, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, , Polyurethane, nylon, Kevlar, Nomex, Kermyl, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, lyocell, BaTiO 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , PbTiO 3 , PZT, and enamel.
바람직하게는, 상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 도체 층은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO, ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductor layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber is selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), tin (Sn), aluminum (Al) And at least one of Au, Pt, Cr, Ti, Ta, W, stainless steel, ITO, and ZnO is used.
바람직하게는, 상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 도체 층은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE, MOCVD, 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the conductor layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber is selected from the group consisting of electroless plating, electroplating, sputtering, vacuum deposition, electron beam deposition, chemical vapor deposition, MBE, MOCVD, conductive ink impregnation, And is characterized in that it is made by any one or two or more methods.
바람직하게는, 상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 절연체 층은 페릴린(pyrelene), 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the insulator layer provided on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber is selected from the group consisting of pyrelene, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Ba2O3, SiO2, Ta2O5, Ta2O5, Si02, PDMS, polyurethane, nylon, Kevlar, Nomex, Kermyl, polyamide, polyester, acrylic, elastane, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, , PbTiO3, PZT, enamel, or two or more of them.
한편 본 발명에 따르면, 전술한 특징들 중 어느 하나에 따른 제조방법으로 제조된 신축성 커패시터를 제공한다.
According to the present invention, there is provided a flexible capacitor manufactured by the manufacturing method according to any one of the above-mentioned features.
본 발명에서는 심봉에 감아 형성한 도체/유전체/도체 코일을 몰드에 배열하고 상기 몰드에 액상 신축성 고분자를 주입하고 경화시켜 신축성 고분자부를 형성한 후 심봉을 빼냄으로써 도체/유전체/도체 코일이 신축성 고분자부 내에 함유된 신축성 커패시터를 형성하였다.In the present invention, a conductor / dielectric / conductor coil wound around a mandrel is arranged in a mold, a liquid elastomeric polymer is injected into the mold and cured to form a stretchable polymer part, and then the mandrel is removed, Lt; / RTI > was formed.
본 발명에 따르면, 상기 신축성 고분자부에 내재된 도체/유전체/도체 코일 형상을 갖는 신축성 커패시터의 인장변형시 상기 신축성 커패시터의 코일 피치가 늘어나는 것이며 상기 신축성 커패시터를 구성하는 상기 도체 파이버, 유전체 층과 도체 층에는 인장 응력이 가해지지 않아 손상을 받지 않게 된다. According to the present invention, the coil pitch of the stretchable capacitor is increased when the stretchable capacitor having the conductor / dielectric / conductor coil shape inherent in the stretchable polymer portion is stretched. The coil pitch of the stretchable capacitor, Tensile stress is not applied to the layer, so that the layer is not damaged.
이에 따라 큰 신축변형이 가능하며 장시간 반복 신축변형에 대해 우수한 신뢰성을 나타내는 것이 가능하게 된다.
As a result, it is possible to perform a large expansion / contraction deformation and to exhibit excellent reliability against repeated stretching and expansion deformation for a long time.
도 1에는 기존 기술에 의한 세라믹 커패시터를 설명하기 위한 도면.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 신축성 커패시터의 제조방법의 공정순서도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 신축성 커패시터의 제조방법의 공정순서도.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 신축성 커패시터의 제조방법의 공정순서도. FIG. 1 is a view for explaining a ceramic capacitor according to the prior art. FIG.
2 and 3 are flow charts of a method of manufacturing a flexible capacitor according to an embodiment of the present invention.
4 is a process flow diagram of a method of manufacturing a flexible capacitor according to another embodiment of the present invention;
5 is a process flow diagram of a method of manufacturing a flexible capacitor according to another embodiment of the present invention.
이하에서는, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments disclosed herein are provided so that the disclosure can be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art.
<실시예 1>≪ Example 1 >
본 실시예에서는 신축성 커패시터(20)를 형성하기 위한 도 2(a)의 도시와 같은 도체 파이버(21)로서 직경 50 ㎛의 구리 와이어를 사용하였으며, 도 2(b)와 같이 상기 구리 와이어에 코팅되어 있는 에나멜 코팅을 유전체 층(22)으로 사용하였다. 에나멜 코팅의 두께는 4 ㎛이며, 유전상수는 6-12의 값을 갖는다. 도 2(b)의 도시와 같은 상기 구리/에나멜 구조의 도체/유전체 파이버(23)의 표면에 도체 층(24)으로서 두께 1 ㎛의 구리를 스퍼터링 공정으로 코팅하여 도 2(c)의 도시와 같은 구리/에나멜/구리 구조의 도체/유전체/도체 파이버(25)를 구비하였다.In this embodiment, a copper wire having a diameter of 50 占 퐉 is used as the
상기 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감기 위한 심봉(mandrel)(26)으로는 직경 280 ㎛의 구리 와이어를 사용하였다. 상기 구리 와이어를 10cm 길이로 절단하여 양단을 고정한 다음에 이를 심봉(26)으로 사용하여 상기 구리/에나멜/구리 구조의 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감아서 도 3(d)에 도시한 바와 같이 도체/유전체/도체 코일(27)을 형성하였다. 이 때 도체/유전체/도체 코일(27)의 턴(turn)들이 서로 닿지 않도록, 즉 코일(27)의 피치가 도체/유전체/도체 파이버(25)의 지름보다 2배 정도 크게 되도록 구리와이어 심봉(26)에 상기 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감아주었다. A copper wire having a diameter of 280 탆 was used as a
상기와 같이 구리 와이어 심봉(26)에 감은 도체/유전체/도체 코일(27)을 도 3(e)와 같이 신축성 커패시터 형성용 몰드(29) 내에 배열하고 액상 신축성 고분자를 주입하고 경화시켜 신축성 고분자부(28)를 형성하였다. 본 실시예에서는 신축성 고분자부(28)로서 실리콘 탄성중합체 고분자인 PDMS(polydimethyl siloxane)를 사용하였다. 실리콘 탄성중합체 기지와 경화제를 1 : 1로 혼합한 PDMS 액상 신축성 고분자를 상기 몰드(29)에 주입하고 경화시켜 두께 2 mm의 신축성 고분자부(28)를 형성하였다. 그런 다음에 상기 도체/유전체/도체 코일(27)의 가운데 있는 구리와이어 심봉(26)을 빼내고 상기 몰드(29)에서 분리하여, 도 3(f)와 같이 본 발명에 따라 도체/유전체/도체 코일(27)이 신축성 고분자부(28)에 내재된 신축성 커패시터(20)를 구비하였다. 상기 신축성 커패시터(20)에서 도체/유전체/도체 코일(27)의 도체 파이버(21)에 +전극을 연결하고 도체 코팅층(24)에 전극을 연결하거나, 도체 파이버(21)에 전극을 연결하고 도체 코팅층(24)에 +전극을 연결함으로써 상기 신축성 커패시터에 전하를 축전하는 것이 가능하게 된다. The conductor / dielectric /
상기 신축성 커패시터(20)를 인장변형 시키면 신축성 고분자부(28) 내에 구비된 상기 도체/유전체/도체 코일(27)의 길이가 늘어나며 이에 수반하여 상기 도체/유전체/도체 코일(27)의 지름이 감소하게 된다. 이때 본 발명에 따라 심봉(26)을 빼내어서 상기 코일(27)의 내부에 빈 공간이 생김에 따라 상기 코일(27)의 지름이 제약을 받지 않고 감소할 수 있기 때문에, 도체/유전체/도체 코일(27)이 직선 형상으로 일직선으로 펴질 정도의 큰 인장률까지 신축변형 하는 것이 가능하게 된다. When the
본 실시예에 따른 신축성 커패시터(20)의 인장변형시에는 도체/유전체/도체 코일(27)이 펴지면서 늘어나는 것이며, 상기 코일(27)을 구성하는 도체 파이버(21), 유전체 층(22)과 도체 층(24)이 인장응력을 받아 늘어나는 것은 아니다. 따라서 상기 도체/유전체/도체 코일(27)이 일직선으로 펴질 때까지의 인장변형률에 대해서는 상기 코일(27)을 구성하는 도체 파이버(21), 유전체 층(22)과 도체 층(24)에는 인장응력이 인가되지 않는 것이기 때문에, 반복적인 신축변형에도 손상을 받지 않아 높은 신뢰성을 갖게 된다. The conductor / dielectric /
본 실시예에서 도체/유전체/도체 코일(27)이 일직선이 되는 인장변형률은 250% 이었다. 따라서 기존 기술에 의한 세라믹 커패시터(10)가 인장변형을 거의 못 일으키고 파단되는 것과는 달리 본 발명에 의한 신축성 커패시터(20)는 250%의 인장변형률까지 손상을 받지 않으면서 신축변형 하는 것이 가능하다. In this embodiment, the tensile strain at which the conductor / dielectric /
본 실시예와는 달리 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감는데 심봉(26)을 사용하지 않으면, 굵기가 가늘어서 강도가 약한 상기 도체/유전체/도체 파이버(25)를 균일한 피치를 갖는 코일(27) 형상으로 감아 유지하는 것이 매우 어렵게 된다. 또한 심봉(26)에 감긴 도체/유전체/도체 코일(27)의 주위에 신축성 고분자부(28)를 형성한 다음에 본 실시예와는 달리 상기 도체/유전체/도체 코일(27)의 가운데 있는 심봉(26)을 빼내지 않으면 인장변형시 상기 도체/유전체/도체 코일(27)의 지름이 감소될 수 없어 코일(27)이 늘어나지 못하기 때문에 신축성을 부여할 수 없게 된다. The conductor / dielectric /
본 발명과는 달리 상기 도체/유전체/도체 코일(27)이 신축성 고분자부(28) 내에 함유되어 있지 않는다면, 인장응력에 의해 상기 도체/유전체/도체 코일(27)이 늘어나 소성변형 되면 인장응력이 제거되어도 다시 원래 코일(27) 형상으로 감기지 못하고 늘어난 상태로 남아있게 되어 신축 기능, 즉 탄성적으로 늘었다 줄었다 하는 기능을 갖지 못하게 된다. Unlike the present invention, if the conductor / dielectric /
반면에 본 발명의 실시예에 의한 신축성 커패시터(20)에서는 상기 도체/유전체/도체 코일(27)이 신축성 고분자부(28) 내에 함유되어 있기 때문에, 인장응력에 의해 길게 늘어난 코일(27)은 인장응력이 없어지면 상기 코일(27)을 둘러싸고 있는 신축성 고분자부(28)가 수축하면서 인가되는 마찰력에 의해 다시 원래 도체/유전체/도체 코일(27)의 형상으로 되감기게 된다. On the other hand, in the
본 실시예에 따른 상기 신축성 커패시터(20)를 인장시험기에 장착한 후 0~100%까지 인장변형률을 반복적으로 인가하면서 반복신축에 따른 커패시턴스의 변화를 측정한 결과, 100% 인장변형률로 10,000회의 반복 신축변형 후에도 커패시터로서 작동하고 있음을 확인하였다. The tensile strain was repeatedly applied to the
본 발명의 실시예에서는 도체/유전체/도체 코일(27)을 내장하기 위한 신축성 고분자 부(28)를 PDMS를 사용하여 구비하였다. 이와 더불어 본 발명에서 상기 신축성 고분자부(28)는 PDMS, 실리콘, 폴리우레탄, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4 중에서 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the embodiment of the present invention, the
본 발명의 실시예에서는 도체/유전체/도체 코일(27)을 구비하기 위한 도체 파이버(21)로 구리 와이어를 사용하였다. 이와 더불어 본 발명에서는 상기 도체 파이버(21)는 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 금속도선으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. In the embodiment of the present invention, a copper wire is used as the
본 발명의 실시예에서는 도체/유전체/도체 코일(27)을 구비하기 위한 유전체 층(22)으로 구리 와이어에 처리된 에나멜 코팅을 사용하였다. 이와 더불어 본 발명에서는 상기 유전체 층(22)으로 페릴린, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. In the embodiment of the present invention, a copper wire-treated enamel coating was used as the
본 발명의 실시예에서는 도체/유전체/도체 코일(27)을 구비하기 위해 도체/유전체 파이버(23)의 표면에 형성하기 위한 도체 층(24)으로 구리 코팅을 사용하였다. 이와 더불에 본 발명에서는 상기 도체 층(24)은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO, ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. In an embodiment of the present invention, a copper coating is used as the
바람직하게는, 상기 도체 층(24)은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE, MOCVD, 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. Preferably, the
본 발명의 실시예에서는 구리 와이어를 심봉(26)으로 사용하여 도체/유전체/도체 코일(27)을 구비하였다. 이와 더불어 본 발명에서는 상기 코일(27)을 형성하기 위한 심봉(26)으로서 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 조성으로 이루어진 금속을 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the embodiment of the present invention, the conductor / dielectric /
본 발명에서는 상기 도체/유전체/도체 코일(27)을 형성하기 위한 심봉(26)으로서 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄 중에서 적어도 하나를 포함한 고분자를 사용하여 이루어지는 것도 바람직하다.In the present invention, as the
본 발명에서는 상기 도체/유전체/도체 코일(27)을 형성하기 위한 심봉(26)으로서 알루미나(Al2O3), 질화알루미늄(AlN), 유리(SiO2), 글라스-세라믹, 실리콘카바이드(SiC), 질화실리콘(Si3N4), 실리콘(Si) 중에서 적어도 하나를 포함한 세라믹을 사용하여 이루어지는 것도 바람직하다.In the present invention, as the
본 발명에서는 상기 심봉(26)은 단면 형상이 원형, 다각형, 톱니바퀴형 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 한다. In the present invention, the
본 발명에서는 경화가 완료된 신축성 고분자부(28)에서 심봉(26)을 빼낸 후, 상기 도체/유전체/도체 코일(27)에서 심봉(26)을 빼내면서 생긴 공간을 신축성 고분자로 채우고 사용하는 것도 가능하다. 상기 심봉(26)을 빼내면서 생긴 공간을 메꾸기 위한 고분자로는 PDMS, 실리콘, 폴리우레탄, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4 중에서 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다.In the present invention, it is also possible to fill a space formed by removing the
본 발명에서는 도 4의 도시에 나타낸 도체/유전체/도체/유전체/도체 파이버(31)와 같이 상기 도체 파이버(21)의 표면에 유전체 층(22)과 도체 층(24)을 반복하여 다중으로 구비함으로써 본 발명에 따른 신축성 커패시터의 정전용량을 증가시키는 것도 가능하다. 즉 도체/유전체/도체 파이버의 표면에 유전체 층(22)과 도체 층(24)으로 이루어진 단위 층을 적어도 하나 이상 더 형성하는 것도 가능하다. In the present invention, the
여기에서 상기 도체/유전체/도체 파이버 표면 위에 구비하는 유전체 층(22)은 페릴린(pyrelene), 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다. The
또한 상기 도체/유전체/도체/유전체 파이버 표면 위에 구비하는 도체 층(24)은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO, ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다. The
그리고 상기 도체/유전체/도체/유전체 파이버 표면 위에 구비하는 도체 층(24)은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE, MOCVD, 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 이루어지는 것이 바람직하다. The
본 발명에서는 도 5에서와 같이 도체/유전체/도체 파이버(25)를 심봉(26)에 코일 형상으로 형성하기 전에 유전체 층(22) 위에 코팅된 도체 층(24)을 보호하기 위해 도체/유전체/도체 파이버(25)의 표면에 절연체 층(42)을 구비하는 것도 가능하다.In the present invention, in order to protect the
상기 절연체 층(42)으로는 페릴린, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘, PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
The
<실시예 2>≪ Example 2 >
본 실시예에서는 신축성 커패시터(20)를 형성하기 위한 도체 파이버(21)로서 은(Ag) 도금된 나일론 섬유를 꼬아서 만든 직경 520 ㎛의 전도성 실을 사용하였다. 전도성 실의 표면에 유전체 층(22)으로서 페릴린을 코팅하여 전도성 실/페릴린 구조의 도체/유전체 파이버(23)를 구비하였다. 페릴린 코팅의 두께는 2 ㎛이며, 유전상수는 3.15의 값을 갖는다. 상기 페릴린 유전체 층(22)의 표면에 도체 층(24)으로서 두께 1 ㎛의 구리를 스퍼터링 공정으로 코팅하여 도 2(c)의 도시와 같은 전도성 실/페릴린/구리 구조의 도체/유전체/도체 파이버(25)를 구비하였다. In this embodiment, as the
상기 전도성 실/페릴린/구리 구조의 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감기 위한 심봉(mandrel)(26)으로는 직경 430 ㎛의 구리 와이어를 사용하였다. 상기 구리 와이어를 10 cm 길이로 절단하여 양단을 고정한 다음에 이를 심봉(26)으로 사용하여 상기 전도성 실/페릴린/구리 구조의 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감아서 도 3(d)에 도시한 바와 같이 도체/유전체/도체 코일(27)을 형성하였다. 이 때 도체/유전체/도체 코일(27)의 턴(turn)들이 서로 닿지 않도록, 즉 코일(27)의 피치가 도체/유전체/도체 파이버(25)의 지름보다 2배 정도 크게 되도록 구리와이어 심봉(26)에 상기 도체/유전체/도체 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감아주었다. A copper wire having a diameter of 430 탆 was used as a
상기와 같이 구리 와이어 심봉(26)에 감은 도체/유전체/도체 코일(27)을 3(e)와 같이 신축성 커패시터 형성용 몰드(29) 내에 배열하고 액상 신축성 고분자를 주입하고 경화시켜 신축성 고분자부(28)를 형성하였다. 본 실시예에서는 신축성 고분자부(28)로서 실리콘 탄성중합체 고분자인 PDMS를 사용하였다. 실리콘 탄성중합체 기지와 경화제를 1 : 1로 혼합한 PDMS 액상 신축성 고분자를 상기 몰드(29)에 주입하고 경화시켜 두께 2 mm의 신축성 고분자부(28)를 형성하였다. 그런 다음에 상기 도체/유전체/도체 코일(27)의 가운데 있는 구리와이어 심봉(26)을 빼내고 상기 몰드(29)에서 분리하여, 도 3(f)의 도시와 같이 본 발명에 따라 전도성 실/페릴린/구리 구조의 도체/유전체/도체 코일(27)이 신축성 고분자부(28)에 내재된 신축성 커패시터(20)를 구비하였다. The conductor / dielectric /
본 실시예와는 달리 전도성 실/페릴린/구리 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감는데 심봉(26)을 사용하지 않으면, 강도가 약해 흐느적거리는 전도성 실/페릴린/구리 파이버(25)를 코일(27) 형상으로 감아 유지하는 것이 불가능하게 된다. If the
본 실시예에서 도체 파이버(21)로 사용한 전도성 실 자체는 탄성이 없기 때문에, 전도성 실/페릴린/구리 파이버(25)를 감은 코일(27)은 자체 탄성 복원력이 없다. 따라서 본 발명과는 달리 상기 전도성 실/페릴린/구리 코일(27)이 신축성 고분자부(28) 내에 함유되어 있지 않는다면, 인장응력에 의해 코일(27)이 늘어나면서 풀어진 후에는 인장응력이 제거되어도 다시 원래 코일(27) 형상으로 감기지 못하고 늘어나 풀어진 상태로 남아있게 되어 신축 기능, 즉 탄성적으로 늘었다 줄었다 하는 기능을 갖지 못하게 된다. Since the conductive yarn used as the
반면에 본 발명의 실시예에 의한 신축성 커패시터(20)에서는 상기 전도성 실/페릴린/구리 코일(27)이 신축성 고분자부(28) 내에 함유되어 있기 때문에, 인장변형에 따라 길게 늘어나면서 풀어진 코일(27)은 인장응력이 없어지면 상기 코일(27)을 둘러싸고 있는 신축성 고분자부(28)가 수축하면서 인가되는 마찰력에 의해 다시 원래 코일(27) 형상으로 되감기게 된다. On the other hand, in the
본 실시예에서 도체/유전체/도체 코일(27)이 일직선이 되는 인장변형률은 200% 이었다. 따라서 기존 기술에 의한 세라믹 커패시터(10)가 인장변형을 거의 못 일으키고 파단되는 것과는 달리 본 발명에 의한 신축성 커패시터(20)는 200%의 인장변형률까지 손상을 받지 않으면서 신축변형 하는 것이 가능하였다. In this embodiment, the tensile strain at which the conductor / dielectric /
본 발명의 실시예에서는 상기 도체/유전체/도체 코일(27)을 은(Ag) 도금된 나일론 섬유로 이루어진 전도성 실을 사용하여 구비하였다. 이와 더불어 본 발명에서 상기 도체/유전체/도체 코일(27) 구비용 도체 파이버(21)는 금속피복 유기섬유, 금속섬유, 탄소섬유, 금속화합물 표층함유 섬유, 활성탄 섬유, 도전성수지 유기피복 섬유, 유기배열체 섬유, 탄소배열 복합섬유, 저융점금속 복합섬유, 유기도전성 섬유, 탄소나노튜브, 그래핀, 카본블랙 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어진 전도성 실, 전도성 파이버, 전도성 섬유를 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the embodiment of the present invention, the conductor / dielectric /
본 발명의 실시예에서는 상기 도체/유전체/도체 코일(27)을 구비하기 위한 도체 파이버(21)로서 은(Ag) 도금된 나일론 섬유로 이루어진 전도성 실을 사용하였다. 이와 더불어 본 발명에서 상기 도체 파이버(21)는 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, 면, 마, 리넨, 실크 섬유 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어진 전도성 실, 전도성 파이버, 전도성 섬유를 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the embodiment of the present invention, a conductive fiber made of silver (Ag) plated nylon fiber is used as the
본 발명의 실시예에서는 상기 코일(27)을 구비하기 위한 도체 파이버(21)로서 은(Ag) 도금된 나일론 섬유로 이루어진 전도성 실을 사용하였다. 이와 더불어 본 발명에서 상기 도체 파이버(21)는 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, 탄소나노튜브, 그래핀, 카본블랙 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 조성으로 단일층 또는 다층으로 코팅된 전도성 실, 전도성 파이버, 전도성 섬유를 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the embodiment of the present invention, a conductive yarn made of silver (Ag) plated nylon fiber is used as the
본 발명의 실시예에서는 상기 코일(27)을 구비하기 위한 도체 파이버(21)로서 은(Ag) 도금된 나일론 섬유로 만든 전도성 실을 사용하였다. 이와 더불어 본 발명에서 상기 도체 파이버(21)는 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE, MOCVD, 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 전도성을 부여한 전도성 실, 전도성 파이버, 전도성 섬유를 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다. In the embodiment of the present invention, a conductive yarn made of silver (Ag) plated nylon fiber is used as the
본 발명에서는 상기 코일(27)을 구비하기 위한 도체 파이버(21)로서 사용하는 전도성 실(32)은 단사, 합사, 연사, 합연사, 혼방사, 교합사, 방적사, 필라멘트사, 피복사, 심방사 중에서 어느 한 종류 또는 두 종류 이상을 사용하여 이루어지는 것이 바람직하다.
In the present invention, the conductive yarn 32 used as the
<실시예 3>≪ Example 3 >
본 실시예에 따르면, 신축성 커패시터(20)를 형성하기 위한 도체 파이버(21)로서 표면에 전도성 코팅을 한 고분자 파이버를 사용할 수도 있다. According to the present embodiment, a polymer fiber having a conductive coating on its surface may be used as the
상기 도체 파이버용 전도성 코팅 파이버는 고분자 파이버의 표면에 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO (indium tin oxide), ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 코팅으로 이루어지는 것이 바람직하다. The conductive coating fiber for a conductive fiber may be formed by coating a surface of a polymer fiber with a metal such as Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, It is preferable that it is made of a coating containing at least one of Pt, Cr, Ti, Ta, W, stainless steel, indium tin oxide (ITO) and ZnO.
또한 상기 도체 파이버용 전도성 코팅 파이버의 고분자 파이버는 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS, 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀 중에서 적어도 하나를 포함한 고분자로 이루어지는 것이 바람직하다.
The polymer fiber of the conductive coating fiber for a conductive fiber may be selected from the group consisting of epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, silicone, PDMS, polyurethane, nylon, , At least one of Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, and lyocell.
이상과 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예정 가격 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
As described above, an optimal embodiment has been disclosed in the drawings and specification. Although specific terms have been employed herein, they are used for purposes of illustration only and are not intended to limit the scope of the invention as defined in the claims or the claims. It will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalents may be made thereto without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.
10 : 기존 기술에 의한 세라믹 커패시터
11 : 유전체 세라믹
12 : 전극
20 : 본 발명에 따른 신축성 커패시터
21 : 도체 파이버
22 : 유전체 코팅
23 : 도체/유전체 파이버
24 : 도체 코팅
25 : 도체/유전체/도체 파이버
26 : 심봉
27 : 도체/유전체/도체 코일
28 : 신축성 고분자부
29 : 몰드
31 : 도체 파이버(21)의 표면에 유전체 층(22)과 도체(24)층을 반복하여 다중으로 구비한 파이버
41 : 도체/유전체/도체/절연층 파이버
42 : 절연층10: Ceramic capacitors by conventional technology
11: Dielectric ceramic
12: Electrode
20: The elastic capacitor according to the present invention
21: Conductor fiber
22: dielectric coating
23: conductor / dielectric fiber
24: Conductor coating
25: conductor / dielectric / conductor fiber
26: mandrel
27: Conductor / Dielectric / Conductor Coils
28: Elastic polymer part
29: Mold
31: A fiber having a multilayer structure in which a dielectric layer (22) and a conductor (24) layer are repeatedly formed on the surface of a conductor fiber (21)
41: conductor / dielectric / conductor / insulation layer fiber
42: Insulation layer
Claims (28)
(b) 상기 도체/유전체 파이버의 표면에 도체 층을 형성하는 단계;
(c) 상기 도체/유전체/도체 파이버를 심봉에 감아 코일 형상으로 형성하는 단계;
(d) 상기 심봉에 감긴 도체/유전체/도체 코일을 둘러싸는 신축성 고분자부를 형성하는 단계; 및
(e) 상기 신축성 고분자부에 내재된 도체/유전체/도체 코일에서 심봉을 빼내는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
(a) forming a dielectric layer on a surface of a conductor fiber;
(b) forming a conductor layer on a surface of the conductor / dielectric fiber;
(c) winding the conductor / dielectric / conductor fiber around a mandrel to form a coil shape;
(d) forming a stretchable polymer portion surrounding the conductor / dielectric / conductor coil wound around the mandrel; And
(e) removing the mandrel from the conductor / dielectric / conductor coil embedded in the elastic polymer portion; Wherein the first and second electrodes are electrically connected to each other.
상기 (d) 단계는,
심봉에 감긴 도체/유전체/도체 코일을 신축성 커패시터 형성용 몰드 내에 배열하는 단계;
상기 신축성 커패시터 형성용 몰드 내에 액상 신축성 고분자를 주입하는 단계; 및
상기 액상 신축성 고분자를 경화시켜 신축성 고분자부를 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The step (d)
Arranging a conductor / dielectric / conductor coil wound around the mandrel in a mold for forming a flexible capacitor;
Injecting a liquid stretchable polymer into the mold for forming the elastic capacitor; And
Curing the liquid stretchable polymer to form a stretchable polymer; Wherein the first and second electrodes are electrically connected to each other.
상기 (e) 단계 이후에,
심봉을 빼내면서 생긴 공간을 신축성 고분자로 메꾸는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
After the step (e)
Stepping the space created by removing the mandrel to a stretchable polymer; Further comprising the step of:
상기 (b) 단계 이후에,
도체/유전체/도체 파이버의 표면에 유전체 층과 도체 층으로 이루어진 단위층을 적어도 하나 이상 더 형성하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
After the step (b)
Forming at least one unit layer comprising a dielectric layer and a conductor layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber; Further comprising the step of:
상기 (b) 단계 이후에,
도체/유전체/도체 파이버의 표면에 절연체 층을 형성하는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
After the step (b)
Forming an insulator layer on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber; Further comprising the step of:
상기 (a) 단계의 도체 파이버는 금속도선, 전도성 실, 전도성 코팅 고분자 파이버 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 조합하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the conductive fiber of step (a) is formed by combining any one or more of a metal wire, a conductive wire, and a conductive coating polymer fiber.
상기 금속 도선은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The metal conductor may be at least one selected from the group consisting of Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, Pt, Cr, Wherein at least one of at least one of Ti, Ta, W and stainless steel is contained.
상기 전도성 실은 금속피복 유기섬유, 금속섬유, 탄소섬유, 금속화합물 표층함유 섬유, 활성탄 섬유, 도전성수지 유기피복 섬유, 유기배열체 섬유, 탄소배열 복합섬유, 저융점금속 복합섬유, 유기도전성 섬유, 탄소나노튜브, 그래핀, 카본블랙 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The conductive yarn may be at least one selected from the group consisting of metal coated organic fibers, metal fibers, carbon fibers, metal compound surface layer containing fibers, activated carbon fibers, conductive resin organic coated fibers, organic ordered fibers, carbon aligned conjugated fibers, A carbon nanotube, a nanotube, a graphene, and a carbon black.
상기 전도성 실은 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, 면, 마, 리넨, 실크 섬유 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The conductive yarn may be selected from the group consisting of nylon, Kevlar, Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, lyocell, cotton, linen, Wherein the elastic member is made of one or two or more.
상기 전도성 실은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, 탄소나노튜브, 그래핀, 카본블랙 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 조성으로 단일층 또는 다층으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The conductive thread may be formed of at least one of Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, Pt, Cr, Wherein the coating layer is formed of a single layer or a multilayer coating of a composition containing at least one of Ti, Ti, W, stainless steel, carbon nanotubes, graphene and carbon black. Gt;
상기 전도성 실은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE(Molecular Beam Epitaxy), MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 전도성을 부여하는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The conductive chamber may be formed of one or both of electroless plating, electroplating, sputtering, vacuum deposition, electron beam deposition, chemical vapor deposition, MBE (Molecular Beam Epitaxy), MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), conductive ink impregnation, The method of manufacturing a flexible capacitor according to any one of claims 1 to 3, wherein conductivity is imparted by the above method.
상기 전도성 실은 단사, 합사, 연사, 합연사, 혼방사, 교합사, 방적사, 필라멘트사, 피복사, 심방사 중 적어도 하나의 방식으로 제조되는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the conductive yarn is manufactured by at least one of a single yarn, a yarn, a twist yarn, a twist yarn, a blended yarn, an occlusal yarn, a spun yarn, a filament yarn, a copy yarn, and an atrial yarn.
상기 전도성 코팅 고분자 파이버는 고분자 파이버의 표면에 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO (indium tin oxide), ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 코팅으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The conductive coating polymer fiber may be formed of a metal such as silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), tin (Sn), aluminum (Al), iron (Fe), gold (Au) Wherein the elastic capacitor is made of a coating containing at least one of chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), stainless steel, indium tin oxide (ITO) ≪ / RTI >
상기 전도성 코팅 고분자 파이버의 고분자 파이버는 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀 중에서 적어도 하나를 포함한 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The polymeric fibers of the conductive coated polymeric fibers may be selected from the group consisting of epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, teflon, FR4, silicone, polydimethylsiloxane (PDMS), polyurethane, nylon, , A polymer containing at least one of Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic and lyocell. Way.
상기 (a) 단계의 유전체 층은 페릴린(pyrelene), 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The dielectric layer in step (a) may be at least one selected from the group consisting of pyrelene, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, silicone, polydimethylsiloxane polyurethane, nylon, Kevlar, Nomex, Ker wheat, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode ahkeul rilrik, lyocell, BaTiO 3, SiO 2, Ta 2 O 5 , PbTiO 3 , PZT, enamel, or two or more of them.
상기 (b) 단계의 도체 층은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO (indium tin oxide), ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The conductor layer of the step (b) may be formed of at least one selected from the group consisting of Ag, Cu, Ni, Sn, Al, Fe, Au, Pt, Wherein at least one of Cr, Ti, Ta, W, stainless steel, indium tin oxide (ITO), and ZnO is used.
상기 (b) 단계의 도체 층은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE(Molecular Beam Epitaxy), MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The conductive layer of the step (b) may be formed by electroless plating, electroplating, sputtering, vacuum deposition, electron beam deposition, chemical vapor deposition, MBE (Molecular Beam Epitaxy), MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) And the coating is performed by one or more of the following methods.
상기 심봉은 단면 형상이 원형, 다각형, 톱니바퀴형 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the core bar has a circular cross section, a polygonal cross section, and a gear wheel cross section.
상기 심봉은 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강 중에서 어느 하나 또는 둘 이상이 함유된 조성으로 이루어진 금속으로 형성되는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The core may be made of at least one of copper, silver, nickel, tin, aluminum, iron, gold, platinum, chromium, titanium, Ti, tantalum (Ta), tungsten (W), stainless steel, or any combination thereof.
상기 심봉은 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리우레탄 중에서 적어도 하나를 포함한 고분자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The core rod is made of a polymer containing at least one of epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, teflon, FR4, silicone, PDMS (polydimethylsiloxane) Wherein the elastic layer is made of a metal.
상기 심봉은 알루미나(Al2O3), 질화알루미늄(AlN), 유리(SiO2), 글라스-세라믹, 실리콘카바이드(SiC), 질화실리콘(Si3N4), 실리콘(Si) 중에서 적어도 하나를 포함한 세라믹으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
At least one of alumina (Al 2 O 3 ), aluminum nitride (AlN), glass (SiO 2 ), glass-ceramic, silicon carbide (SiC), silicon nitride (Si 3 N 4 ) Wherein the first and second electrodes are made of ceramic.
상기 신축성 고분자부는 PDMS(polydimethylsiloxane), 실리콘(silicone), 폴리우레탄, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4 중에서 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The elastic polymer part may include at least one of PDMS (Polydimethylsiloxane), silicone, polyurethane, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, Wherein the elastic layer is made of a metal.
심봉을 빼내면서 생긴 공간을 메꾸는 신축성 고분자는 PDMS(polydimethylsiloxane), 실리콘(silicone), 폴리우레탄, 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4 중에서 적어도 하나를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
The method of claim 3,
The stretchable polymer that cleaves the space created by removing the mandrel can be selected from the group consisting of polydimethylsiloxane (PDMS), silicone, polyurethane, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Wherein at least one of the first and second electrodes is formed of a metal.
상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 유전체 층은 페릴린(pyrelene), 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The dielectric layer provided on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber may be selected from the group consisting of pyrelene, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, , PDMS (polydimethylsiloxane), polyurethane, nylon, Kevlar, Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, lyocell, BaTiO 3 , SiO 2, Ta 2 O 5, PbTiO 3, PZT, method for producing a flexible capacitor which comprises of any one or two or more of the enamel.
상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 도체 층은 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 철(Fe), 금(Au), 백금(Pt), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 스테인레스 강, ITO (indium tin oxide), ZnO 중에서 어느 하나 또는 둘 이상을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The conductor layer provided on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber may be at least one selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), tin (Sn), aluminum (Al), iron (Fe) Wherein at least one of platinum (Pt), chromium (Cr), titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), stainless steel, indium tin oxide (ITO) A method of manufacturing a flexible capacitor.
상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 도체 층은 무전해도금, 전기도금, 스퍼터링, 진공증착, 전자빔 증착, 화학기상증착, MBE(Molecular Beam Epitaxy), MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 전도성 잉크 함침, 전도성 페이스트 코팅 중의 어느 하나 또는 둘 이상의 방법으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
5. The method of claim 4,
The conductive layer provided on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber may be formed by electroless plating, electroplating, sputtering, vacuum deposition, electron beam deposition, chemical vapor deposition, MBE (Molecular Beam Epitaxy), MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) Conductive ink impregnation, conductive paste coating, and the like.
상기 도체/유전체/도체 파이버의 표면 위에 구비하는 절연체 층은 페릴린(pyrelene), 에폭시, 페놀, 폴리이미드, 폴리에스텔, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르슬폰, 테프론, FR4, 실리콘(silicone), PDMS(polydimethylsiloxane), 폴리우레탄, 나일론, 케블라, 노멕스, 케르밀, 폴리아미드, 폴리에스터, 아크릴, 엘라스틴, 스판덱스, 폴리프로필렌, 비스코스, 레이온, 아세테이트, 모드아클릴릭, 라이오셀, BaTiO3, SiO2, Ta2O5, PbTiO3, PZT, 에나멜 중의 어느 하나 또는 둘 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 신축성 커패시터의 제조 방법.
6. The method of claim 5,
The insulator layer provided on the surface of the conductor / dielectric / conductor fiber may be selected from the group consisting of pyrelene, epoxy, phenol, polyimide, polyester, polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, Teflon, FR4, , Polydimethylsiloxane (PDMS), polyurethane, nylon, Kevlar, Nomex, Kermil, polyamide, polyester, acrylic, elastin, spandex, polypropylene, viscose, rayon, acetate, mode acylic, lyocell, BaTiO3, SiO2 , Ta2O5, PbTiO3, PZT, and enamel. The method of manufacturing a flexible capacitor according to claim 1,
28. A stretchable capacitor produced by the method of any one of claims 1 to 27.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160143637A KR101932816B1 (en) | 2016-10-31 | 2016-10-31 | Method for manufacturing stretchable capacitors and stretchable capacitors manufactured thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160143637A KR101932816B1 (en) | 2016-10-31 | 2016-10-31 | Method for manufacturing stretchable capacitors and stretchable capacitors manufactured thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180047506A true KR20180047506A (en) | 2018-05-10 |
KR101932816B1 KR101932816B1 (en) | 2018-12-26 |
Family
ID=62184387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160143637A KR101932816B1 (en) | 2016-10-31 | 2016-10-31 | Method for manufacturing stretchable capacitors and stretchable capacitors manufactured thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101932816B1 (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4723347A (en) | 1985-11-13 | 1988-02-09 | Arcotronics Italia S.P.A. | Method for the manufacture of wound capacitors |
JP2007184554A (en) | 2005-12-06 | 2007-07-19 | Canon Inc | Capacitor and circuit device employing it |
CN105726021B (en) | 2011-11-17 | 2019-02-22 | 日本电信电话株式会社 | Organism electrode, internal embedded type electrode and signal of organism measurement device |
-
2016
- 2016-10-31 KR KR1020160143637A patent/KR101932816B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101932816B1 (en) | 2018-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101878031B1 (en) | Method for manufacturing stretchable wiring structures consisting of coil-shaped conductors and stretchable wiring structures manufactured thereof | |
KR102061127B1 (en) | Electrically conductive stretchable interconnect using twisted nature of yarn fibers and method of manufacturing thereof | |
US20150190614A1 (en) | MR-Capable or RF-Capable Medical Guide Wire | |
JP4773952B2 (en) | Electrically conductive elastic composite yarn, method of manufacturing the same, and article including the same | |
JPH01135365A (en) | Electrical conductor for performing one stimulation and/or measurement in human or animal body | |
DE10342787A1 (en) | Electrically conductive yarn has a stretch core filament, with an electrically conductive and a bonding filament wound around it to restrict the core stretch | |
WO2008048237A2 (en) | Braided electrodes | |
US20020007958A1 (en) | Fatigue-resistant conductive wire article | |
KR101781734B1 (en) | fibrous electrode with buckle structure, manufacturing method thereof and supercapacitor comprising the same | |
CN112261905A (en) | Cloth with electrode wiring | |
US20130062095A1 (en) | Flat cable, cable harness using the same and method of making the flat cable | |
US8426735B2 (en) | Stretchable conductor and method for producing the same | |
KR101932816B1 (en) | Method for manufacturing stretchable capacitors and stretchable capacitors manufactured thereof | |
CN103083808B (en) | Pacing lead and pacemaker | |
CN111933334A (en) | Stretchable multi-core conductive element, preparation method thereof, stretchable cable and stretchable capacitive sensor | |
JP4634636B2 (en) | Electric heating yarn and heater using the electric heating yarn | |
JP2021515854A (en) | Nanomaterial coating fiber | |
CN106251947B (en) | Medical cable | |
KR20150134956A (en) | Linear type piezoelectric element with flexibility | |
JP4634635B2 (en) | Telescopic wire and manufacturing method thereof | |
JP5465856B2 (en) | Elastic wire harness | |
KR102137805B1 (en) | Stretchable Conductor, Electric device and Flexible electrode for wearable device | |
KR102082739B1 (en) | Helical electroconductive fiber and the method manufacturing thereof | |
CN115315678A (en) | Component for detecting motion | |
JP2017183099A (en) | cable |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |