KR20180001678U - flapper of throttle valve - Google Patents

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KR20180001678U
KR20180001678U KR2020160006916U KR20160006916U KR20180001678U KR 20180001678 U KR20180001678 U KR 20180001678U KR 2020160006916 U KR2020160006916 U KR 2020160006916U KR 20160006916 U KR20160006916 U KR 20160006916U KR 20180001678 U KR20180001678 U KR 20180001678U
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김형근
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Abstract

본 고안은 스로틀 밸브용 플래퍼에 관한 것으로서, 유로의 일측에 고정된 구동모터로부터 유로내부로 연장되는 작동축과, 상기 작동축에 결합되어 구동모터의 의해 회전하며 유로를 개방 또는 폐쇄하는 원반형의 바디와, 상기 바디와의 사이에 시일부재를 개재하여 결합하는 고정플레이트를 포함하여 반도체 제조설비의 공정챔버로 유체를 유도하는 유로상에 설치되는 스로틀밸브에 있어서, 상기 바디(110)는 하단에서 외주면에 반경외측으로 확장되는 커버부(112)가 형성되고, 상단측에는 반경방향 내측으로 축소되어 상기 고정플레이트(140)에 결합을 위한 체결부(114)가 일체로 형성되고, 상기 시일부재(130)는 바디(110)에 끼워지는 고정부(132)와, 고정부(132)의 일측에서 반경방향 내측으로 연장되어 바디(110)의 체결부(114) 측면에 걸려 축방향 진입을 제한하는 스토퍼부(134)와, 고정부(132)와 이격되어 고정부(132)와의 사이에 완충공간(136)을 형성하는 탄성부(138)로 구성하되, 상기 바디(110)의 커버부(112)는 상기 시일부재(130)의 완충공간(136)을 완전히 덮도록 구성된 스로틀 밸브용 플래퍼를 제공함으로써 유체압력이 탄성부에 작용하는 힘을 최소화함으로써 탄성부의 변형이 발생되지 않도록 하는 효과를 가지며, 이에 의해 안정적인 시일 기능을 수행토록하여 스로틀 밸브의 작동을 원활하게 유지함으로써 반도체제품의 생산성을 높일 수 있는 효과를 갖는다.The present invention relates to a flapper for a throttle valve, and more particularly to a flapper for a throttle valve, which comprises an operation shaft extending from a drive motor fixed to one side of a flow path into a flow path, And a fixing plate which is interposed between the body and the sealing member, the throttle valve being mounted on a flow path for guiding a fluid to a process chamber of a semiconductor manufacturing facility, And a coupling part 114 for coupling with the fixing plate 140 is formed integrally with the upper end of the cover part 112 in the radial direction and the sealing member 130 is integrally formed. And a fixing portion 132 which is fitted to the side of the fastening portion 114 of the body 110 and extends inward in the radial direction from one side of the fixing portion 132 to restrict axial entry A stopper portion 134 and an elastic portion 138 which is spaced apart from the fixing portion 132 and forms a buffer space 136 between the fixing portion 132 and the cover portion 112 has the effect of preventing deformation of the elastic portion by minimizing the force acting on the elastic portion by the fluid pressure by providing the flapper for the throttle valve configured to completely cover the buffer space 136 of the seal member 130 Thereby enabling the stable sealing function to be performed, and the operation of the throttle valve can be smoothly maintained, thereby improving the productivity of the semiconductor product.

Description

스로틀 밸브용 플래퍼{flapper of throttle valve}Flapper of throttle valve "

본 고안은 스로틀 밸브용 플래퍼에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 제조설비에 구비된 공정 챔버의 내부 압력을 조절하기 위한 압력 조절용 스로틀 밸브에 적용되는 플래퍼의 개선에 관한 것이다.The present invention relates to a flapper for a throttle valve, and more particularly, to an improvement of a flapper applied to a throttle valve for pressure control for adjusting an internal pressure of a process chamber provided in a semiconductor manufacturing facility.

일반적으로 스로틀 밸브는 게이트 밸브의 일종으로 유로를 열고 닫음으로써 유체의 압력을 조절할 수 있도록 한 것으로서, 반도체 제조설비 특히 공정챔버로의 유체의 진출입 경로에는 이러한 스로틀 밸브가 다수 채용된다.In general, a throttle valve is a kind of gate valve that can regulate the pressure of a fluid by opening and closing the flow path. Many such throttle valves are employed in a semiconductor manufacturing facility, particularly, a path for inflow and outflow of fluid into a process chamber.

보다 구체적으로 살펴보면 통상적으로 반도체 소자의 제조를 위한 많은 공정들은 화학적 반응을 이용한다. 이때, 이러한 화학적 반응이 이루어지는 공정 챔버 내부의 온도와 압력 등은 매우 중요한 조건이며, 그 중에서도 공정 챔버 내부의 압력 조절은 특히 중요하다.More specifically, many processes for the production of semiconductor devices typically use chemical reactions. At this time, the temperature and pressure inside the process chamber in which the chemical reaction is performed are very important conditions, and the pressure control inside the process chamber is particularly important.

예들 들어, 공정 챔버 내부에서의 가스 압력은 에칭시에는 웨이퍼에 형성되는 에칭 부분의 기하학적인 형성에 영향을 주고, 증착시에는 증착층의 특성에 전형적인 영향을 준다. 따라서 공정 진행중 공정 챔버 내부의 압력 변화는 증착이나 식각부분에서의 균일성을 방해하게 된다.For example, the gas pressure inside the process chamber affects the geometrical formation of the etched portions formed in the wafer during etching, and typically affects the properties of the deposited layer during deposition. Thus, changes in the pressure inside the process chamber during the process will interfere with uniformity in the deposition or etch.

따라서 공정 챔버의 내부 압력이 적정 압력조건을 충족하도록 조절하기 위하여 공정 챔버의 배출부와 진공 펌프를 연결하는 진공 라인에 스로틀 밸브를 설치하여 공정 챔버 내부의 압력제어를 수행하게 된다.Accordingly, in order to adjust the internal pressure of the process chamber to meet the appropriate pressure condition, a throttle valve is installed in a vacuum line connecting the discharge part of the process chamber and the vacuum pump to perform pressure control inside the process chamber.

한편, 반도체 제조설비에 적용되는 스로틀 밸브는 크게 두 가지 종류가 있는데, 상기 진공 라인의 유로 상에 원판형태의 판체인 플래퍼(flapper)를 설치하여 이 플래퍼의 회전으로 유로의 개폐조절이 이루어지도록 하거나, 또는 절곡된 유로 상에서 유로의 일측에 끼워져 직선 구동하는 플런저를 이용하여 유로의 개폐조절이 이루어지도록 하는 것이 있다.Meanwhile, there are two types of throttle valves applied to a semiconductor manufacturing facility. A flapper, which is a plate-shaped plate, is provided on the flow path of the vacuum line, and opening and closing of the flow path is controlled by rotation of the flapper , Or to open and close the flow path by using a plunger that is fitted on one side of the flow path on the bent flow path and linearly driven.

본 고안은 특히 전자의 플래퍼타입에 관한 것으로서, 대한민국 특허등록 10-1248628호(2013.03.22)호에는 본 출원인에 의해 개발되어 특허등록된 스로틀 밸브용 플래퍼가 개시되어 있다.The present invention relates to an electronic flapper type, and Korean Patent Registration No. 10-1248628 (Mar. 23, 2013) discloses a flapper for a throttle valve developed and patent registered by the present applicant.

도 1내지 도 3에는 상기 종래의 플래퍼가 도시되어 있는데, 이에 따르면반도체 제조설비의 공정챔버로 유체를 유도하는 유로(10)의 일측에 구동모터(20)가 설치되어 있다. 구동모터(20)에는 작동축(30)이 연장되어 유로(10)의 내부로 삽입되어 있다. 작동축(30)에는 플래퍼(100)가 결합되어 유로를 개방 또는 폐쇄하는 방향으로 회전가능하게 설치되어 있다.The conventional flapper is shown in FIGS. 1 to 3, wherein a drive motor 20 is installed at one side of a flow path 10 for introducing a fluid into a process chamber of a semiconductor manufacturing facility. An actuating shaft (30) extends into the drive motor (20) and is inserted into the passage (10). A flapper 100 is coupled to the operation shaft 30 so as to be rotatable in a direction to open or close the flow path.

도 2에는 플래퍼를 발췌하여 도시한 분해사시도가 도시되어 있다. 이에 따르면, 플래퍼는 크게 바디(110)와, 바디(110)의 외주면에 결합되는 시일부재(130), 시일부재(130)를 바디(110)에 고정시키는 고정플레이트(140) 및 시일부재(130)의 완충력을 보강하는 완충부재(120)로 구성된다.Fig. 2 is an exploded perspective view showing the flapper. The flapper includes a body 110, a seal member 130 coupled to an outer circumferential surface of the body 110, a fixing plate 140 for fixing the seal member 130 to the body 110, And a buffer member 120 for reinforcing the buffering force of the buffer member 120.

도 3을 참조하면, 시일부재(130)는 바디(110)의 외주면에 결합되며 유로(10)의 내면과 면접촉하는 것으로서, 바디에 형성된 단차부에 끼워지는 고정부(132)와, 고정부(132)의 일측에서 반경방향 내측으로 연장되어 바디(110)의 단차부(112) 측면에 걸려 축방향 진입을 제한하는 스토퍼부(134)와, 고정부(132)와 이격되어 고정부(132)와의 사이에 완충공간(136)을 형성하는 탄성부(138)로 구성되어 있다.3, the seal member 130 is in contact with the outer surface of the body 110 and is in surface contact with the inner surface of the passage 10. The seal member 130 includes a fixing portion 132 fitted to a step formed on the body, A stopper portion 134 extending radially inwardly from one side of the body portion 132 and interposed between the side surfaces of the step portion 112 of the body 110 to restrict axial entry thereof; And an elastic portion 138 for forming a buffer space 136 between the elastic portion 138 and the elastic portion 138.

상기 탄성부(138)에는 중앙부분이 유로(10)의 내면과 선접촉하도록 돌출부(139)가 반경방향 외측으로 돌출 구성되어 있다.The elastic portion 138 is formed with a protrusion 139 protruding outward in the radial direction so that the center portion thereof comes into line contact with the inner surface of the flow path 10.

상기 바디(110)는 그 하단에서 외주면에 반경외측으로 확장되어 상기 완충공간(136)을 커버하는 커버부(112)가 형성되고, 상단측에는 반경방향 내측으로 축소되어 후술하는 고정플레이트(140)에 결합을 위한 체결부(114)가 형성되어 있다. 체결부(114)의 면상에는 복수의 나사공(116,116a,116b,118a,118b)들이 형성된다. The body 110 has a cover portion 112 that extends radially outward from the lower end of the body 110 to cover the buffer space 136 and is radially inwardly reduced on the upper end of the body 110, A fastening portion 114 for engagement is formed. A plurality of screw holes 116, 116a, 116b, 118a, 118b are formed on the surface of the fastening portion 114. [

상기 고정 플레이트(140)는 원반형으로 형성되며, 바디(110)에 결합되어 시일부재(130)가 바디(110)로부터 이탈되는 것을 제한하게 된다. 고정 플레이트(140)는 상기 바디(110)의 나사공(116,116a,116b,118a,118b)에 대응하는 복수의 관통공(142a,142b,144a,144b)이 형성되며, 중앙부분에는 지지용 단차(114)에 결합되도록 결합공(146)이 형성되어 있다. The fixing plate 140 is formed in a disc shape and is coupled to the body 110 to restrict the separation of the seal member 130 from the body 110. The fixing plate 140 has a plurality of through holes 142a, 142b, 144a and 144b corresponding to the screw holes 116, 116a, 116b, 118a and 118b of the body 110, (Not shown).

상기 고정플레이트(140)는 작동축(30)과 함께 일체로 나사 고정되는데, 작동축(30)의 나사공(34a)(34b)과 관통공(144a)(144b) 및 바디(110)의 나사공(118a, 118b)이 동축상에 배치되어 나사 결합되고, 관통공(142a)(142b)은 나사에 의해 바디(110)의 나사공(116a, 116b)에 체결된다. 그리고 바디(110)의 나사공(116)에는 작동축(30)의 관통공(32)과 직접 나사체결이 이루어진다.The fixing plate 140 is screwed together with the operation shaft 30 so that the screw holes 34a and 34b and the through holes 144a and 144b of the operation shaft 30 and the The through holes 142a and 142b are fastened to the screw holes 116a and 116b of the body 110 by screws. The through hole (32) of the operating shaft (30) is directly screwed to the screw hole (116) of the body (110).

한편, 상기 시일부재(130)의 완충공간(136)에는 완충부재(120)가 추가로 삽입되어 있다. 완충부재(120)는 반경방향 내측으로 작용하는 힘에 대한 탄성을 갖는 것이 바람직하며, 예를 들면 링형으로 형성된 코일스프링으로 구성된다.
The buffer member 120 is further inserted into the buffer space 136 of the seal member 130. The cushioning member 120 preferably has elasticity with respect to a force acting radially inward, and is formed of, for example, a coil spring formed in a ring shape.

그러나 이러한 종래기술은 시일부재(130)의 탄성부(138)가 유체의 압력이나 이물질로 인해 이탈되거나 뒤집어지는 문제가 있었다.However, this conventional technique has a problem that the elastic portion 138 of the seal member 130 is disengaged or turned over due to fluid pressure or foreign matter.

즉, 도 4에 도시된 바와 같이 커버부(112)의 단부가 완충공간(136)을 커버함에 있어 커버부(112)의 직경(D1)이 탄성부(138)의 직경(D2)작게 형성되어 있으므로 유로(10)를 따라 이동하는 유체의 압력이 시일부재(130)로 그대로 전달되어 탄성부(138)의 변형을 유발하고 심하게는 뒤집어지는 문제를 발생시키고 있는 것이다. 4, when the end portion of the cover portion 112 covers the buffer space 136, the diameter D1 of the cover portion 112 is formed to be smaller than the diameter D2 of the elastic portion 138 The pressure of the fluid moving along the flow path 10 is transmitted to the seal member 130 as it is, causing deformation of the elastic portion 138 and causing a problem that the fluid portion is seriously inverted.

다시 말하면, 유체의 압력이 완충공간(36)을 통해 유입되고 결과적으로 탄성부(138)를 외측의 밀어내면 결과적으로 도 4와 도시된 바와 같은 형태로 탄성부(138)가 뒤집어지게 됨으로써 탄성부의 고유 역할인 시일 기능을 상실하게 된다.In other words, when the pressure of the fluid flows through the buffer space 36 and consequently pushes the elastic part 138 outwardly, as a result, the elastic part 138 is inverted in the form as shown in FIG. 4, The seal function, which is a unique role, is lost.

특히 이러한 문제는 완충부재 즉, 코일 스프링이 외부로 노출되므로 탄성부의 텐션역할을 정상적으로 수행하지 못하는 것은 물론 유로의 내벽과 마찰하게되어 수명이 단축되는 문제를 수반하게 된다. Particularly, such a problem is caused by the fact that the cushioning member, that is, the coil spring is exposed to the outside, so that the tension of the elastic portion can not be normally performed, and the lifetime is shortened by friction with the inner wall of the passage.

대한민국 특허등록 10-1248628호(2013.03.22)Korea Patent Registration No. 10-1248628 (March 23, 2013)

본 고안은 상기와 같은 종래 기술의 단점을 극복하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은 유체 압력이 탄성부에 작용되는 것을 최소화하여 탄성부의 변형을 방지함으로써 안정적인 시일 기능을 수행함과 동시에 스로틀 밸브의 작동을 원활하게 유지함으로써 공정 챔버의 불량을 방지하고 반도체제품의 생산성을 높일 수 있는 반도체 제조설비의 압력 조절용 스로틀 밸브를 제공함에 있다.The object of the present invention is to overcome the disadvantages of the prior art as described above, and its object is to minimize the action of fluid pressure on the elastic portion to prevent deformation of the elastic portion, thereby performing a stable sealing function, The present invention provides a throttle valve for pressure control in a semiconductor manufacturing facility capable of preventing defects in a process chamber and enhancing productivity of a semiconductor product.

이러한 본 고안은 목적은 유로의 일측에 고정된 구동모터로부터 유로내부로 연장되는 작동축과, 상기 작동축에 결합되어 구동모터의 의해 회전하며 유로를 개방 또는 폐쇄하는 원반형의 바디와, 상기 바디와의 사이에 시일부재를 개재하여 결합하는 고정플레이트를 포함하여 반도체 제조설비의 공정챔버로 유체를 유도하는 유로상에 설치되는 스로틀밸브에 있어서, 상기 바디(110)는 하단에서 외주면에 반경외측으로 확장되는 커버부(112)가 형성되고, 상단측에는 반경방향 내측으로 축소되어 상기 고정플레이트(140)에 결합을 위한 체결부(114)가 일체로 형성되고, 상기 시일부재(130)는 바디(110)에 끼워지는 고정부(132)와, 고정부(132)의 일측에서 반경방향 내측으로 연장되어 바디(110)의 체결부(114) 측면에 걸려 축방향 진입을 제한하는 스토퍼부(134)와, 고정부(132)와 이격되어 고정부(132)와의 사이에 완충공간(136)을 형성하는 탄성부(138)로 구성하되, 상기 바디(110)의 커버부(112)는 상기 시일부재(130)의 완충공간(136)을 완전히 덮도록 구성된 것을 특징으로 하는 스로틀 밸브용 플래퍼에 의해 달성될 수 있다.The object of the present invention is to provide an apparatus and a method for controlling an operation of a vehicle, including an operation shaft extending from a drive motor fixed to one side of a flow path to the inside of the flow path, a disc- shaped body coupled to the operation shaft, And a fixed plate which is interposed between the upper and lower ends of the body 110, and which is connected to the process chamber of the semiconductor manufacturing facility. The throttle valve includes: The seal member 130 is integrally formed with the body 110. The seal member 130 is formed integrally with the fixation plate 140. The seal member 130 is integrally formed with the cover plate 112, A stopper portion 134 extending radially inwardly from one side of the fixed portion 132 and engaged with a side surface of the coupling portion 114 of the body 110 to restrict axial entry thereof, fixing The cover portion 112 of the body 110 is formed of the sealing member 130 and the elastic portion 138 that is spaced apart from the fixing portion 132 and forms a buffer space 136 between the fixing portion 132 and the fixing portion 132. [ Of the flapper for the throttle valve is configured to completely cover the buffer space (136) of the throttle valve.

바람직하게는 상기 커버부(112)의 테두리부는 상기 시일부재(130)의 탄성부(138)의 반경방향 외측단과 내측단 사이에 대응하도록 구성된다.Preferably, the rim of the cover portion 112 is configured to correspond between the radially outer end and the inner end of the elastic portion 138 of the seal member 130.

이러한 본 고안은 커버부가 외측으로 확장되어 완충공간을 완전하게 덮도록 구성하여써 유체압력이 탄성부에 작용하는 힘을 최소화함으로써 탄성부의 변형이 발생되지 않도록 하는 효과를 가지며, 이에 의해 안정적인 시일 기능을 수행토록하여 스로틀 밸브의 작동을 원활하게 유지함으로써 반도체제품의 생산성을 높일 수 있는 효과를 갖는다.The present invention has the effect that the cover portion is extended outward to completely cover the buffer space so that the fluid pressure minimizes the force acting on the elastic portion, thereby preventing the elastic portion from being deformed. So that the operation of the throttle valve is smoothly maintained, thereby improving the productivity of the semiconductor product.

도 1은 종래의 스로틀밸브 플래퍼가 유로 상에 설치된 단면도
도 2는 종래의 따른 플래퍼를 발췌하여 도시한 분해사시도
도 3은 종래의 따른 플래퍼의 결합상태 단면도
도 4는 종래의 시일부재의 변형 형태를 나타내는 부분확대도
도 5는 본 고안에 따른 시일부재의 구성을 도 3에 대응하는 형태로 도시한 단면도Fig. 1 is a cross-sectional view of a conventional throttle valve flapper
2 is an exploded perspective view showing an example of a conventional flapper.
3 is a cross-sectional view
4 is a partial enlarged view showing a modification of a conventional seal member
Fig. 5 is a cross-sectional view of the sealing member according to the present invention in a form corresponding to Fig. 3

첨부된 도면을 참고하여 본 고안의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다. 도 5에는 본 고안에 따른 시일부재의 구성을 도시한 단면도가 도시되어 있다. 종래와 동일한 구성에 대하여는 부호를 동일하게 부여하면 상세한 설명은 생략한다. Preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. 5 is a cross-sectional view showing the configuration of the seal member according to the present invention. The same reference numerals as in the conventional art are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.

이에 따르면, 시일부재(130)는 바디(110)의 외주면에 결합되며 유로(10)의 내면과 면접촉하는 것으로서, 바디에 형성된 단차부에 끼워지는 고정부(132)와, 고정부(132)의 일측에서 반경방향 내측으로 연장되어 바디(110)의 (114)에 걸려 축방향 진입을 제한하는 스토퍼부(134)와, 고정부(132)와 이격되어 고정부(132)와의 사이에 완충공간(136)을 형성하는 탄성부(138)로 구성되어 있다.The seal member 130 is in contact with the inner surface of the passage 10 and is engaged with the outer circumferential surface of the body 110. The seal member 130 includes a fixing portion 132 fitted to a step formed on the body, A stopper portion 134 extending radially inwardly from one side of the body 110 to limit the entry of the body 110 in the axial direction by being caught by the body 114 and a stopper portion 134 spaced apart from the fixing portion 132, And an elastic portion 138 which forms the elastic member 136.

상기 탄성부(138)에는 중앙부분이 유로(10)의 내면과 선접촉하도록 돌출부(139)가 반경방향 외측으로 돌출 구성되어 있다.The elastic portion 138 is formed with a protrusion 139 protruding outward in the radial direction so that the center portion thereof comes into line contact with the inner surface of the flow path 10.

상기 바디(110)는 그 하단에서 외주면에 반경외측으로 확장되어 상기 완충공간(136)을 커버하는 커버부(112)가 형성되고, 상단측에는 반경방향 내측으로 축소되어 후술하는 고정플레이트(140)에 결합을 위한 체결부(114)가 형성되어 있다. The body 110 has a cover portion 112 that extends radially outward from the lower end of the body 110 to cover the buffer space 136 and is radially inwardly reduced on the upper end of the body 110, A fastening portion 114 for engagement is formed.

특히 본 고안에 따르면 상기 커버부(112)는 바디(110)로부터 반경방향 외측으로 확장되어 상기 완충공간(136)을 완전히 덮도록 구성된다. 즉, 커버부(112)의 테두리는 상기 탄성부(138)의 단부에 대응하도록 구성되어 있다. 구체적으로 설명하면, 도 5에 도시된 바와같이 커버부(112)의 직경(D1)이 탄성부(138)의 직경(D2)보다 크게 형성되는 것이다. In particular, according to the present invention, the cover portion 112 is configured to extend radially outward from the body 110 to completely cover the buffer space 136. [ That is, the rim of the cover portion 112 is configured to correspond to the end portion of the elastic portion 138. More specifically, as shown in FIG. 5, the diameter D1 of the cover portion 112 is formed to be larger than the diameter D2 of the elastic portion 138. As shown in FIG.

바람직하게는 커버부(112)의 테두리부는 바디(110)로 부터 반경방향 외측으로 확장할때 상기 탄성부(138)의 반경방향 외측단과 내측단 사이의 위치에 대응하도록 구성하는 것이 바람직하다. Preferably, the rim of the cover portion 112 is configured to correspond to a position between the radially outer end and the inner end of the elastic portion 138 when extending radially outwardly from the body 110.

이러한 구성을 갖는 본 고안은 유로를 통해 흐르는 유체의 압력에 대하여 커버부(112)의 외측면이 저항하게 되므로 완충공간(136)으로 작용하는 유압력이 약확된다. 따라서 종래와 같이 탄성부(138)가 외측으로 뒤집어는 문제를 방지할 수 있으며, 특히 스프링이 노출되는 것을 확실하게 제한하게 됨으로써 코일 스프링의 텐션역할을 정상적으로 수행하도록 함과 동시에 유로의 내벽과 마찰을 없앨 수 있어 수명을 연장하는 효과를 갖는다. In the present invention having such a configuration, the outer surface of the cover portion 112 is resistant to the pressure of the fluid flowing through the flow path, so that the hydraulic pressure acting on the buffer space 136 is envisaged. Accordingly, it is possible to prevent the elastic portion 138 from being turned upside down in the conventional manner. In particular, since the spring is surely restricted from being exposed, the tension of the coil spring can be normally performed, So that it has an effect of extending the service life.

10: 유로 20: 구동모터
30: 작동축 100: 플래퍼
110: 바디 112: 커버부
114: 체결부
116,116a,116b,118a,118b: 나사공
120: 완충부재 130: 시일부재
132: 고정부 134: 스토퍼부
136: 완충공간 138: 탄성부
139: 돌출부 140: 고정플레이트
142a,142b,144a,144b:관통공10: flow path 20: drive motor
30: Operation shaft 100: Flapper
110: body 112: cover part
114:
116, 116a, 116b, 118a, 118b:
120: buffer member 130: seal member
132: fixing portion 134: stopper portion
136: buffer space 138: elastic part
139: protrusion 140: stationary plate
142a, 142b, 144a, 144b:

Claims (2)

유로의 일측에 고정된 구동모터로부터 유로내부로 연장되는 작동축과, 상기 작동축에 결합되어 구동모터의 의해 회전하며 유로를 개방 또는 폐쇄하는 원반형의 바디와, 상기 바디와의 사이에 시일부재를 개재하여 결합하는 고정플레이트를 포함하여 반도체 제조설비의 공정챔버로 유체를 유도하는 유로상에 설치되는 스로틀밸브에 있어서,
상기 바디(110)는 하단에서 외주면에 반경외측으로 확장되는 커버부(112)가 형성되고, 상단측에는 반경방향 내측으로 축소되어 상기 고정플레이트(140)에 결합을 위한 체결부(114)가 일체로 형성되고,
상기 시일부재(130)는 바디(110)에 끼워지는 고정부(132)와, 고정부(132)의 일측에서 반경방향 내측으로 연장되어 바디(110)의 체결부(114) 측면에 걸려 축방향 진입을 제한하는 스토퍼부(134)와, 고정부(132)와 이격되어 고정부(132)와의 사이에 완충공간(136)을 형성하는 탄성부(138)로 구성하되,
상기 바디(110)의 커버부(112)는 상기 시일부재(130)의 완충공간(136)을 완전히 덮도록 구성된 것을 특징으로 하는 스로틀 밸브용 플래퍼.
A disc-shaped body which is coupled to the actuating shaft and rotates by the driving motor to open or close the passage, and a seal member which is interposed between the body and the actuating shaft, A throttle valve installed on a flow path for introducing a fluid into a process chamber of a semiconductor manufacturing facility, including a fixed plate interposed therebetween,
The body 110 is formed with a cover 112 extending radially outward from the lower end of the body 110. The body 110 has a fastening part 114 formed integrally with the fastening plate 140, Formed,
The seal member 130 includes a fixing part 132 fitted to the body 110 and a fixing part 132 extending radially inward from one side of the fixing part 132 to be engaged with a side surface of the coupling part 114 of the body 110, A stopper portion 134 for restricting entry and an elastic portion 138 for forming a buffer space 136 between the fixed portion 132 and the fixed portion 132,
Wherein the cover (112) of the body (110) is configured to completely cover the buffer space (136) of the seal member (130).
제 1항에 있어서, 상기 커버부(112)의 테두리부는 상기 시일부재(130)의 탄성부(138)의 반경방향 외측단과 내측단 사이에 대응하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 스로틀 밸브용 플래퍼.
The flapper for a throttle valve according to claim 1, wherein a rim portion of the cover portion (112) is configured to correspond between a radially outer end and an inner end of the elastic portion (138) of the seal member (130).
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