KR20170136278A - High strength transparent polyamide-imide and process for preparing same - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a polyamideimide film which maintains transparency and has greatly improved mechanical properties and heat resistance. Polyamideimide of the present invention includes a repeating structure represented by chemical formula 1a together with a repeating structure represented by chemical formula 1b, wherein the repeating structure of chemical formula 1a and the repeating structure of chemical formula 1b are polymerized at a molar ratio of 2:8 to 7:3. The polyamideimide is excellent in transparency, heat resistance, mechanical strength and flexibility. Therefore, the polyamideimide can be used in various fields including a substrate for elements, a cover substrate for displays, an optical film, an integrated circuit (IC) package, an adhesive film, a multilayer flexible printed circuit (FPC), a tape, a touch panel, a protective film for optical disks, and the like.

Description

고강도 투명 폴리아미드이미드 및 이의 제조방법{HIGH STRENGTH TRANSPARENT POLYAMIDE-IMIDE AND PROCESS FOR PREPARING SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a high-strength transparent polyamideimide and a method for producing the same. BACKGROUND ART [0002]

본 발명은 무색투명하면서도 고강도의 기계적 특성을 나타내는 폴리아미드이미드 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polyamideimide which exhibits colorless, transparent and high strength mechanical properties, and a process for producing the same.

폴리이미드(polyimide, PI)는 비교적 결정화도가 낮거나 대부분 비결정성 구조를 갖는 고분자로서, 합성이 용이하고 박막형 필름을 만들 수 있으며 경화를 위한 가교기가 필요하지 않은 장점뿐만 아니라 투명성, 강직한 사슬구조에 의해 뛰어난 내열성과 내화학성, 우수한 기계적 물성, 전기적 특성 및 치수안정성을 갖고 있는 고분자 재료로 현재 자동차, 항공 우주분야, 유연성 회로기판, LCD용 액정 배향막, 접착 및 코팅제 등의 전기, 전자재료로 널리 사용되고 있다Polyimide (PI) is a polymer having a relatively low crystallinity or mostly noncrystalline structure. It is easy to synthesize and can produce a thin film film. It also has advantages of not requiring a crosslinking agent for curing, transparency, rigid chain structure Is a polymer material with excellent heat resistance, chemical resistance, excellent mechanical properties, electrical properties and dimensional stability. It is widely used in electric and electronic materials such as automobile, aerospace, flexible circuit board, liquid crystal alignment film for LCD, have

하지만 폴리이미드는 높은 열 안정성, 기계적 물성, 내화학성, 그리고 전기적 특성을 가지고있는 고성능 고분자 재료임에도 불구하고 디스플레이 분야에 사용하기 위한 기본적인 요건인 무색 투명한 성질을 만족시키지 못하고 있으며, 또한 열팽창계수를 더욱 낮추어야 하는 과제가 존재한다. 예를 들어 듀폰사에서 판매되고 있는 Kapton의 열팽창계수는 약 30 ppm/℃ 정도로 낮은 열팽창계수 값을 보이고 있으나, 이 역시 플라스틱 기판의 요구조건에는 미치지 못하고 있다. 따라서 현재 폴리이미드의 기본적인 특성을 유지하면서 광학적 특성과 열 이력 변화를 최소화하기 위한 연구가 많이 진행되고 있다.Although polyimide is a high-performance polymer material having high thermal stability, mechanical properties, chemical resistance, and electrical properties, it does not satisfy the basic requirement for use in the display field, which is a colorless transparent property, . For example, the coefficient of thermal expansion of Kapton sold by DuPont has a thermal expansion coefficient as low as about 30 ppm / ° C, but this is still below the requirements of plastic substrates. Therefore, many researches have been carried out to minimize changes in optical characteristics and thermal history while maintaining the basic characteristics of polyimide.

일반적으로 방향족 폴리이미드의 경우 짙은 갈색의 고유한 색을 띄고 있는데 그 이유는 이미드 주사슬 내에 존재하는 벤젠의 π 전자들이 사슬 간의 결합에 의해 발생되는 전하 전이 복합화(charge transfer complex, 이하 CT-complex라 함)이론으로 설명이 가능하며, 이는 이미드(imide) 구조 내에 σ전자, π전자, 비결합(nonbonding) 비공유전자쌍이 존재하므로 전자의 여기가 가능하기 때문이다. In general, the aromatic polyimide has a distinctive dark brown color because the π electrons of benzene present in the imide main chain have a charge transfer complex (CT-complex ). This is because electrons can be excited because σ electrons, π electrons, and nonbonding non-covalent electron pairs exist in the imide structure.

일반적인 폴리이미드의 경우에는 400 nm 이하의 파장에서부터 500 nm 사이의 가시광선영역의 빛을 흡수하게 됨에 따라 그의 배색인 yellow~red의 색을 띄게 된다. 따라서 방향족 폴리이미드의 단점인 CT-complex를 낮추기 위해서는 이 주사슬 내에 트리플루오로메틸(-CF3), 설폰(-SO2), 에테르(-O-)와 같은 전기음성도가 비교적 강한 원소를 도입함으로써 π전자의 이동을 제한하여 공명효과를 낮추는 방법이 있으며, 벤젠이 아닌 올레핀계 환형(cycloolefin) 구조를 도입함으로써 주사슬 내에 존재하는 π 전자의 밀도를 감소시켜 무색투명한 폴리이미드 필름을 제조할 수 있다.In the case of a general polyimide, the color of yellow to red, which is a color of its color, becomes visible as it absorbs light in a visible light range from a wavelength of 400 nm or less to 500 nm. Therefore, in order to lower the CT-complex, which is a disadvantage of the aromatic polyimide, an element having relatively high electronegativity such as trifluoromethyl (-CF 3 ), sulfone (-SO 2 ), and ether (-O-) There is a method of reducing the resonance effect by restricting the movement of the π electrons. By introducing an olefinic cycloolefin structure other than benzene, the density of π electrons present in the main chain is reduced to produce a colorless transparent polyimide film .

한편, 폴리아미드이미드의 경우, 내열성, 기계적 강도, 전기적 특성 등이 우수하기 때문에 종래부터 전기, 전자, 기계, 항공 분야 등의 공업용 재료로서 넓게 사용되고 있다. 또한 일반적인 폴리이미드와는 구조자체가 다르며, 폴리아미드이미드는 유기용제에 가용인 것이 많이 알려지고 있어, 에나멜 니스(enamel varnish), 전기 절연용의 코팅제, 도료 등 용액 성형이 필수적인 용도로도 사용되고 있다.On the other hand, polyamideimide has been widely used as an industrial material for electric, electronic, mechanical, aviation, and the like since it has excellent heat resistance, mechanical strength and electrical characteristics. It is also known that polyamide imides are soluble in organic solvents, and they are also used for enamel varnishes, coatings for electrical insulation, coatings for paints, and other applications where solution molding is indispensable .

그러나 디스플레이 분야에 사용하기 위해서는 보다 낮은 열팽창 계수를 가지며, 높은 용해도, 투명도 및 열적 안전성을 갖는 플렉시블 디스플레이용 폴리머의 개발이 필요하다.However, for use in the display field, it is necessary to develop a polymer for a flexible display having a lower coefficient of thermal expansion, high solubility, transparency and thermal stability.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 투명성 및 기계적 강도가 향상된 폴리아미드이미드를 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide a polyamideimide having improved transparency and mechanical strength.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 상기 폴리아미드이미드를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.Another object to be solved by the present invention is to provide a process for producing the polyamideimide.

본 발명의 또 다른 과제는 상기 폴리아미드이미드로 제조된 고강도 투명 폴리아미드이미드필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a high strength transparent polyamide imide film made of the above polyamideimide.

본 발명은 전술한 기술적 과제를 해결하기 위해, In order to solve the above-described technical problem,

하기 화학식 1a로 표시되는 반복구조와 화학식 1b로 표시되는 반복구조를 함께 포함하며, 상기 화학식 1a의 반복구조와 화학식 1b의 반복구조가 2:8 내지 7:3의 몰비로 중합된 폴리아미드이미드를 제공한다.A polyamideimide comprising a repeating structure represented by the following formula (1a) and a repeating structure represented by the formula (1b), wherein the repeating structure of the formula (1a) and the repeating structure of the formula (1b) are polymerized in a molar ratio of 2: 8 to 7: to provide.

[화학식 1a][Formula 1a]

Figure pat00001
Figure pat00001

[화학식 1b][Chemical Formula 1b]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1a, 1b에 있어서,In the above general formulas (1a) and (1b)

X1은 테트라카르복실산 이무수물로부터 유도된 하기 화학식 2의 4가 유기기이고,X 1 is a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (2)

[화학식 2](2)

Figure pat00003
Figure pat00003

X2는 하기 화학식 3의 화합물로부터 유도되는 2가의 유기기이며,X 2 is a divalent organic group derived from a compound represented by the following formula (3)

[화학식 3](3)

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 식에 있어서,In the above formula,

Z는 하이드록실기(-OH), -Cl, -Br, -F, -I로부터 선택되는 할라이드기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기(-OR)에서 선택되는 하나이고,Z is one selected from a hydroxyl group (-OH), a halide group selected from -Cl, -Br, -F, -I and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (-OR)

Y1, Y2는 디아민으로부터 유도된 2가 유기기이되, 적어도 하나는 하기 화학식 4의 2가 유기기를 포함하며,Y 1 and Y 2 are divalent organic groups derived from a diamine, at least one of which contains a divalent organic group of the following formula

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 화학식 4에 있어서,In Formula 4,

상기 R1, R2는 각각 독립적으로 -F, -Cl, -Br 및 -I으로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체이고,R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, -OH, -OH, -SH, nitro, -NH 2 , An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,

Q는 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO2-, 페닐렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있으며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이다.Q is a single bond, -O-, -CR 18 R 19 - , -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO 2 - , A phenylene group and a combination thereof, wherein each of R 18 and R 19 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms Is selected.

또한, 본 발명은 상기 폴리아미드이미드를 제조하는 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing the polyamideimide.

본 발명의 다른 과제를 해결하기 위해, 상기 폴리아미드이미드를 포함하는 폴리아미드이미드 필름을 제공한다.In order to solve the other problems of the present invention, there is provided a polyamideimide film comprising the polyamideimide.

본 발명은, 투명성을 유지하면서 기계적 물성과 내열성이 크게 향상된 폴리아미드이미드 필름을 제공한다. 상기 폴리아미드이미드는, 투명성, 내열성, 기계적 강도 및 유연성이 우수하여, 소자용 기판, 디스플레이이용 커버기판, 광학필름, IC(intergrated circuit) 패키지, 전착필름(adhesive film), 다층 FRC(flexible printed circuit), 테이프, 터치패널, 광디스크용 보호필름 등과 같은 다양한 분야에 사용될 수 있다.The present invention provides a polyamideimide film having improved mechanical properties and heat resistance while maintaining transparency. The polyamide imide is excellent in transparency, heat resistance, mechanical strength and flexibility and can be used as a substrate for a device, a cover substrate for a display, an optical film, an IC (integrated circuit) package, an adhesive film, a multilayer FRC ), Tapes, touch panels, protective films for optical discs, and the like.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 명세서에서 모든 화합물 또는 유기기는 특별한 언급이 없는 한 치환되거나 비치환된 것일 수 있다. 여기서, '치환된'이란 화합물 또는 유기기에 포함된 적어도 하나의 수소가 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 할로겐화알킬기, 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 카르복실산기, 알데히드기, 에폭시기, 시아노기, 니트로기, 아미노기, 술폰산기 및 이들의 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 치환기로 대체된 것을 의미한다.In the present specification, all the compounds or organic groups may be substituted or unsubstituted, unless otherwise specified. Herein, the term "substituted" means that at least one hydrogen contained in the compound or organic group is substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group, a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, Substituted with a substituent selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carboxylic acid group, an aldehyde group, an epoxy group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a sulfonic acid group and derivatives thereof.

또한 본 명세서에서 '이들의 조합'이란 특별한 언급이 없는 한, 둘 이상의 작용기가 단일결합, 이중결합, 삼중결합, 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기(예를 들면, 메틸렌기(-CH2-), 에틸렌기(-CH2CH2-), 등), 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬렌기(예를 들면, 플루오로메틸렌기(-CF2-), 퍼플루오로에틸렌기(-CF2CF2-) 등), N, O, P, S, 또는 Si와 같은 헤테로 원자 또는 이를 포함하는 작용기(예를 들면, 분자내 카르보닐기(-C=O-), 에테르기(-O-), 에스터기(-COO-), -S-, -NH- 또는 -N=N- 등을 포함하는 헤테로알킬렌기)와 같은 연결기에 의해 결합되어 있거나, 또는 둘 이상의 작용기가 축합, 연결되어 있는 것을 의미한다.In the present specification, "a combination thereof" means a compound wherein at least two functional groups are a single bond, a double bond, a triple bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methylene group (-CH 2 -), Ethylene group (-CH 2 CH 2 -), etc.), a fluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a fluoromethylene group (-CF 2 -), a perfluoroethylene group (-CF 2 CF 2 -, etc.), a hetero atom such as N, O, P, S, or Si, or a functional group containing it (e.g., a carbonyl group in the molecule (-C═O-), an ether group (-O-) Or a heteroalkylene group containing a heteroatom (-COO-), -S-, -NH- or -N = N-, etc.), or two or more functional groups are condensed and connected.

폴리이미드는 강직한 방향족 고리와 이미드 결합으로 구성되어 우수한 기계적 물성과 내열성을 나타내는 고분자로, 이러한 특성을 바탕으로 많은 산업분야에서 다양한 형태로 이용되고 있다. 그러나 기존의 폴리이미드는 사슬 내 그리고 사슬 간 전자 전이 때문에 일부 가시광선 영역을 흡수하여 황변을 나타낼 수 있고, 이는 디스플레이용 고내열 투명 재료로서의 가능성을 저해할 수 있다. 이러한 황변현상은 전하전이 복잡화에 의해 나타날 수 있으며, 이는 강직한 폴리이미드 고분자 사슬의 겹침(packing)이 두드러질수록 더 심화되어 발생할 수 있다. Polyimide is composed of rigid aromatic rings and imide bonds and shows excellent mechanical properties and heat resistance. Based on these characteristics, polyimide is used in various forms in many industrial fields. However, the conventional polyimide absorbs a part of visible light due to electron transfer between chains and chains, and may exhibit yellowing, which may hinder the possibility of a high heat-resistant transparent material for displays. This yellowing may be caused by charge transfer complexity, which may be more pronounced as the packing of the rigid polyimide polymer chains becomes more pronounced.

이와 같은 종래의 문제를 해결하기 위해,In order to solve such a conventional problem,

본 발명에 따른 폴리아미드이미드는,The polyamide-imide according to the present invention is a polyamide-

하기 화학식 1a로 표시되는 반복구조와 화학식 1b로 표시되는 반복구조를 함께 포함하며, 2:8 내지 7:3의 몰비로 중합된 폴리아미드이미드를 제공한다.The present invention provides a polyamideimide which is polymerized at a molar ratio of 2: 8 to 7: 3, including a repeating structure represented by the following formula (1a) and a repeating structure represented by the formula (1b).

[화학식 1a][Formula 1a]

Figure pat00006
Figure pat00006

[화학식 1b][Chemical Formula 1b]

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 화학식 1a, 1b에 있어서,In the above general formulas (1a) and (1b)

X1은 테트라카르복실산 이무수물로부터 유도되는 하기 화학식 2의 4가의 유기기이고,X 1 is a tetravalent organic group represented by the following formula (2) derived from a tetracarboxylic dianhydride,

[화학식 2](2)

Figure pat00008
Figure pat00008

X2는 하기 화학식 3의 화합물로부터 유도되는 2가의 유기기이며,X 2 is a divalent organic group derived from a compound represented by the following formula (3)

[화학식 3](3)

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 화학식 3에 있어서,In Formula 3,

Z는 하이드록실기(-OH), -Cl, -Br, -F, -I 로부터 선택되는 할라이드기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기(-OR)에서 선택되는 하나이고,Z is one selected from a hydroxyl group (-OH), a halide group selected from -Cl, -Br, -F, -I and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (-OR)

Y1, Y2는 디아민으로부터 유도되는 2가의 유기기이되, 적어도 하나는 화학식 4의 구조를 포함하며,Y < 1 > and Y < 2 > are divalent organic groups derived from a diamine, at least one of which contains the structure of formula (4)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00010
Figure pat00010

상기 화학식 4에 있어서,In Formula 4,

상기 R1, R2는 각각 독립적으로 -F, -Cl, -Br 및 -I로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체이고, 바람직하게는, 할로겐원자, 할로게노알킬기, 알킬기, 아릴기 및 시아노기에서 선택되는 치환기 일 수 있다. 예를 들면, 상기 할로겐원자는 플루오로(-F)일 수 있으며, 할로게노알킬기는 플루오로계원자를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로서, 플루오로메틸 기, 퍼플루오로에틸기, 트리플루오로메틸기 등에서 선택되는 것일 수 있으며, 상기 알킬기는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기에서 선택되는 것일 수 있고, 상기 아릴기는 페닐기, 나프탈레닐기에서 선택되는 것 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 플루오로원자 및 플로오로알킬기 등의 플루오로계원자를 포함하는 치환기일 수 있다.Each of R 1 and R 2 independently represents a halogen atom consisting of -F, -Cl, -Br and -I, a hydroxyl group (-OH), a thiol group (-SH), a nitro group (-NO 2 ) An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably a halogen atom, a halogenoalkyl group , An alkyl group, an aryl group, and a cyano group. For example, the halogen atom may be fluoro (-F), and the halogenoalkyl group may be a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms including a fluoro group, such as a fluoromethyl group, a perfluoroethyl group, And the alkyl group may be selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group and a hexyl group, and the aryl group may be selected from a phenyl group and a naphthalenyl group And more preferably a substituent group including a fluorine atom such as a fluorine atom and a fluoroalkyl group.

Q는 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO2-, 페닐렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있으며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이다.Q is a single bond, -O-, -CR 18 R 19 - , -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO 2 - , A phenylene group and a combination thereof, wherein each of R 18 and R 19 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms Is selected.

본 발명은 폴리이미드 주 사슬에 폴리아미드를 도입할 수 있으며, 이 고분자는 폴리이미드와 마찬가지로 우수한 기계적 물성과 내열성을 지니며, 폴리이미드와의 공중합 시 고분자 사슬간 packing을 막고 전하전이를 보다 낮추어 광학적 특성을 개선시킬 수 있다.The present invention can introduce a polyamide into the polyimide main chain. Like the polyimide, the polyimide has excellent mechanical properties and heat resistance. When copolymerized with polyimide, it blocks packing between chains of the polymer and lower the charge transfer, The characteristics can be improved.

일 실시예에 따르면, 상기 화학식 2에 포함된 방향족 고리의 수소는 -F, -Cl, -Br 및 -I으로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체로 치환될 수 있다. 예를 들면, 상기 할로겐원자는 플루오로(-F)일 수 있으며, 할로게노알킬기는 플루오로계원자를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로서, 플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 트리플루오로메틸기등에서 선택되는 것일 수 있으며, 상기 알킬기는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기에서 선택되는 것일 수 있고, 상기 아릴기는 페닐기, 나프탈레닐기에서 선택되는 것 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 플루오로원자 및 플로오로알킬기등의 플루오로계원자를 포함하는 치환기일 수 있다. According to one embodiment, the hydrogen of the aromatic ring included in Formula 2 may be a halogen atom of -F, -Cl, -Br and -I, a hydroxyl group (-OH), a thiol group (-SH) (-NO 2 ), a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms . For example, the halogen atom may be fluoro (-F), and the halogenoalkyl group may be a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms including a fluoro group, such as a fluoromethyl group, a perfluoroethyl group, And the alkyl group may be selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group and a hexyl group, and the aryl group may be selected from a phenyl group and a naphthalenyl group And more preferably a substituent group including a fluoro group such as a fluoro atom and a fluoroalkyl group.

일 실시예에 따르면, 상기 화학식 2는 하기 화학식 2a 내지 2b의 구조를 갖는 테트라카르복실산 이무수물에서 선택되는 것 일 수 있다.According to one embodiment, the formula (2) may be selected from tetracarboxylic acid dianhydrides having the structures of the following formulas (2a) to (2b).

Figure pat00011
Figure pat00011

상기 화학식 2에 포함된 방향족 고리의 수소는 -F, -Cl, -Br 및 -I로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체로 치환될 수 있다. 예를 들면, 상기 할로겐 원자는 플루오로(-F)일 수 있으며, 할로게노알킬기는 플루오로계 원자를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로서, 플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 트리플루오로메틸기 등에서 선택되는 것일 수 있으며, 상기 알킬기는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기에서 선택되는 것일 수 있고, 상기 아릴기는 페닐기, 나프탈레닐기에서 선택되는 것 일 수 있으며, 보다 바람직하게는 플루오로원자 및 플로오로알킬기 등의 플루오로계원자를 포함하는 치환기일 수 있다. The hydrogen of the aromatic ring included in Formula 2 may be substituted with a halogen atom, -OH, -OH, -SH, nitro, -NO 2 , -F, -Cl, -Br, A cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. For example, the halogen atom may be fluoro (-F), and the halogenoalkyl group is a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms including a fluoro atom, and examples thereof include a fluoromethyl group, a perfluoroethyl group, And the alkyl group may be selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group and a hexyl group, and the aryl group may be selected from a phenyl group and a naphthalenyl group And more preferably a substituent group including a fluorine atom such as a fluorine atom and a fluoroalkyl group.

일 실시예에 따르면, 상기 화학식 3은 하기 화학식 3a의 디카르복실디클로라이드 또는 화학식 3b의 디카르복실산일 수 있다.According to one embodiment, Formula 3 may be a dicarboxylic dichloride of Formula 3a or a dicarboxylic acid of Formula 3b.

[화학식 3a][Chemical Formula 3]

Figure pat00012
Figure pat00012

[화학식 3b](3b)

Figure pat00013
Figure pat00013

또한, 본 발명은 In addition,

하기 화학식 4의 구조를 포함하는 디아민을 교반하는 단계;Comprising the steps of: stirring a diamine comprising a structure of Formula 4;

상기 디아민 용액에 하기 화학식 2의 4가 유기기를 포함하는 테트라카르복실산 이무수물 및 하기 화학식 3의 화합물을 화합물을 2:8 내지 7:3의 몰비로 첨가하여 반응시켜 폴리아미드이미드 전구체를 제조하는 단계; 및A tetracarboxylic dianhydride having a tetravalent organic group represented by the following formula (2) and a compound represented by the following formula (3) are added to the diamine solution in a molar ratio of 2: 8 to 7: 3 at a molar ratio of 2: 8 to 7: 3 to prepare a polyamideimide precursor step; And

상기 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화 시키는 단계를 포함하는 폴리아미드이미드 제조방법을 제공한다.And imidizing the polyamideimide precursor. The present invention also provides a process for producing a polyamideimide comprising the steps of:

[화학식 2] (2)

Figure pat00014
Figure pat00014

[화학식 3](3)

Figure pat00015
Figure pat00015

상기 화학식 3에 있어서,In Formula 3,

Z는 하이드록실기(-OH), 할라이드기(-Cl, -Br, -F, -I), 탄소수 1 내지 5의 알콕시기(-OR)에서 선택되는 하나이고,Z is one selected from the group consisting of a hydroxyl group (-OH), a halide group (-Cl, -Br, -F, -I), and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (-OR)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

상기 화학식 4에 있어서,In Formula 4,

상기 R1, R2는 각각 독립적으로 -F, -Cl, -Br 및 -I으로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체이다.R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, -OH, -OH, -SH, nitro, -NH 2 , An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.

Q는 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO2-, 페닐렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있으며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이다.Q is a single bond, -O-, -CR 18 R 19 - , -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO 2 - , A phenylene group and a combination thereof, wherein each of R 18 and R 19 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms Is selected.

예를 들면, 상기 화학식 4의 화합물은 하기 화학식 4a 내지 4d의 화합물에서 선택되는 것일 수 있다.For example, the compound of formula (4) may be selected from the compounds of the following formulas (4a) to (4d).

Figure pat00017
Figure pat00017

상기 폴리아미드이미드 전구체는 하기 화학식 5a 및 화학식 5b의 반복구조를 포함하며, 하기 화학식 5a의 반복구조를 이미드화 시킴으로써 화학식 1a의 폴리아미드이미드 반복구조를 형성할 수 있다.The polyamideimide precursor includes a repeating structure of the following formulas (5a) and (5b), and the repeating structure of the following formula (5a) may be imidized to form a polyamideimide repeating structure of formula (1a).

[화학식 5a][Chemical Formula 5a]

Figure pat00018
Figure pat00018

[화학식 5b][Chemical Formula 5b]

Figure pat00019
Figure pat00019

일 실시예에 따르면, 상기 화학식 1a를 포함하는 구조의 이미드화율은 80 내지 100%일 수 있으며, 바람직하게는 90 내지 100%의 이미드화율로 이미드화 될 수 있다.According to one embodiment, the imidization ratio of the structure including the above-mentioned formula (Ia) may be 80 to 100%, preferably imidized at an imidization rate of 90 to 100%.

상기 화학식 1a 내지 1b에 있어서,In the above general formulas (1a) to (1b)

본 발명에 따르면, 상기 화학식 1a의 반복구조와 화학식 1b의 반복구조는 2:8 내지 8:2의 몰비로 중합된 것일 수 있으며, 바람직하게는 2:8 내지 5:5의 몰비, 보다 바람직하게는 화학식 1b의 반복구조가 화학식 1a보다 과량으로 포함된 것일 수 있으며, 예를 들면, 1:5 내지 1:1.1의 몰비로 중합될 수 있다. According to the present invention, the repeating structure of Formula 1a and the repeating structure of Formula 1b may be polymerized in a molar ratio of 2: 8 to 8: 2, preferably in a molar ratio of 2: 8 to 5: 5, May contain an excess of the repeating structure of formula (Ib) in excess of formula (1a), and may be polymerized in a molar ratio of, for example, 1: 5 to 1: 1.1.

즉, 상기 화학식 2의 4가 유기기를 포함하는 테트라카르복실산 이무수물 및 하기 화학식 3의 화합물이 2:8 내지 8:2의 몰비로 중합된 것일 수 있으며, 바람직하게는 2:8 내지 5:5의 몰비, 보다 바람직하게는 1:5 내지 1:1.1의 몰비의 함량으로 첨가되어 상기 화학식 4의 디아민과 반응하여 폴리아미드이미드 전구체가 제조될 수 있다.That is, the tetracarboxylic acid dianhydride having the tetravalent organic group of Formula 2 and the compound of Formula 3 may be polymerized in a molar ratio of 2: 8 to 8: 2, preferably 2: 8 to 5: 5, more preferably in a molar ratio of 1: 5 to 1: 1.1, and reacted with the diamine of Formula 4 to prepare a polyamideimide precursor.

이때, 상기 화학식 3의 화합물이 90 mol% 이상, 바람직하게는 80mol% 초과의 함량으로 반응되는 경우에는 중합용액의 겔화(gelation)에 의한 점도 상승에 의해 필름의 제조가 어려운 등의 가공성이 저하될 수 있으며, 이로부터 제조된 필름은 균일성이 저하되어 투명성등의 광학적 특성에 영향을 줄 수 있다. 또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물이 90 mol% 이상, 바람직하게는 80 mol% 이상, 또는 70 mol% 초과의 함량으로 포함되는 경우에는 수분에 취약한 폴리아믹산의 구조에 의해 전구체의 사슬이 분해될 수 있으며, 이는 필름의 기계적 물성을 저하 시킬 수 있다.At this time, when the compound of Formula 3 is reacted in an amount of 90 mol% or more, preferably 80 mol% or more, the viscosity of the polymerization solution is increased by gelation, And the film produced therefrom may have low uniformity and may affect optical properties such as transparency. When the tetracarboxylic dianhydride is contained in an amount of 90 mol% or more, preferably 80 mol% or more, or more than 70 mol%, the chain of the precursor is decomposed by the structure of polyamic acid which is vulnerable to moisture Which may deteriorate the mechanical properties of the film.

일 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폴리아미드이미드는 랜덤 코폴리머로서, 그 반복구조가 랜덤하게 배열된 형태일 수 있으며, 이러한 형태는 사슬 내 전하 전이를 방지하고 규칙적 배열을 저해하여, 폴리아미드의 사슬간 수소결합에 의해 부분결정화가 나타나는 것을 최소화시킬 수 있어 보다 투명한 폴리아미드이미드 필름을 얻을 수 있다.According to one embodiment, the polyamideimide according to the present invention is a random copolymer, which may be in a randomly arranged configuration of repeating structures, which prevents intra-chain charge transfer and inhibits regular arrangement, It is possible to minimize the occurrence of partial crystallization by inter-chain hydrogen bonding of the polyamide-imide film of the present invention.

본 발명은 기존의 폴리이미드 구조에 폴리아미드 그룹을 도입함으로써 우수한 내열성과 기계적 물성을 나타낼 뿐만 아니라, 폴리아미드 그룹에 의한 사슬간의 거리 증가로 인해 packing 현상에 의한 전하 전이 복잡화를 방지할 수 있으며, 이로부터 기인하는 황변현상을 최소화함으로써, 높은 내열성과 기계적 물성을 유지하면서도 보다 무색투명한 폴리아미드이미드를 제공할 수 있다.The present invention not only exhibits excellent heat resistance and mechanical properties by introducing a polyamide group into a conventional polyimide structure but also can prevent complexity of charge transfer due to packing phenomenon due to an increase in the distance between chains due to polyamide groups, , It is possible to provide a more colorless transparent polyamideimide while maintaining high heat resistance and mechanical properties.

또한, 본 발명은 상기 디아민 구조에 상기 R1 및 R2와 같은 전기음성도가 높은 치환체를 도입함으로써, 치환체의 크기에 의해 사슬간의 packing을 저해할 수 있을 뿐만 아니라, 사슬간 사슬내 전하의 이동을 억제함으로써 전하 전이가 최소화 될 수 있어, 이러한 전하 전이에 의해 발생할 수 있는 황색변이와 같은 광학적 특성이 보다 현저히 개선된 폴리아미드이미드를 제공할 수 있다.In addition, the present invention can prevent the inter-chain packing due to the size of the substituent by introducing a substituent having a high electronegativity, such as R 1 and R 2 , into the diamine structure, , The charge transfer can be minimized, and thus the polyamideimide can be provided, in which the optical properties such as the yellow transition that can be caused by such charge transfer are significantly improved.

예를 들면, 본 발명에 따른 폴리아미드이미드는 하기 화학식 1a-1 및 화학식 1b-1로 표시되는 반복구조를 포함할 수 있다.For example, the polyamide imide according to the present invention may include a repeating structure represented by the following general formulas (1a-1) and (1b-1).

[화학식 1a-1][Formula 1a-1]

Figure pat00020
Figure pat00020

[화학식 1b-1][Chemical Formula 1b-1]

Figure pat00021
Figure pat00021

일 실시예에 따르면, 본 발명에 따른 폴리아미드이미드는 하기 화학식 6의 테트라카르복실산이무수물을 더 첨가하여 제조될 수 있다.According to one embodiment, the polyamideimide according to the present invention can be prepared by further adding a tetracarboxylic acid dianhydride represented by the following formula (6).

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00022
Figure pat00022

상기 화학식 6에 있어서, X3은 지환족, 방향족 고리를 2개 이상 포함하는 4가의 유기기이다.In Formula (6), X 3 is an alicyclic or tetravalent organic group containing two or more aromatic rings.

예를 들면, 상기 X3은 탄소수 3 내지 24의 지방족 고리 또는 탄소수 6 내지 30의 방향족 고리를 포함하는 4가의 유기기 일 수 있으며, 예를 들면, 하기 화학식 8a 내지 8h의 4가 유기기를 들 수 있으며, 보다 바람직하게는, 방향족 고리 또는 지방족 구조가 각각의 고리구조가 강직(rigid)한 구조, 즉, 단일 고리 구조, 각각의 고리가 단일결합으로 결합된 구조 또는 각각의 고리가 직접적으로 연결된 복소환 구조를 포함하는 4가 유기기일 수 있다.For example, X 3 may be a tetravalent organic group containing an aliphatic ring having 3 to 24 carbon atoms or an aromatic ring having 6 to 30 carbon atoms, for example, a tetravalent organic group represented by the following general formulas (8a) to (8h) More preferably, the aromatic ring or aliphatic structure is a structure in which each ring structure is rigid, that is, a structure in which each ring is bonded in a single bond, or a structure in which each ring is directly connected May be a tetravalent organic group including a recited structure.

Figure pat00023
Figure pat00023

상기 화학식 8a 내지 8h의 4가 유기기내 1 이상의 수소 원자는 탄소수 1 내지 10의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기 등), 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기(예를 들면, 플루오로메틸 기, 퍼플루오로에틸기, 트리플루오로메틸기 등), 탄소수 6 내지 12의 아릴기(예를 들면, 페닐기, 나프탈레닐기 등), 술폰산기 및 카르복실산기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기로 치환될 수도 있으며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 치환될 수 있다.At least one hydrogen atom in the tetravalent organic group of the general formulas (8a) to (8h) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, isopropyl, A fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., a fluoromethyl group, a perfluoroethyl group or a trifluoromethyl group), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., a phenyl group, a naphthalenyl group, etc.) A sulfonic acid group, and a carboxylic acid group, and may be substituted with a fluoroalkyl group having preferably 1 to 10 carbon atoms.

본 발명에 따른 폴리아미드이미드에 있어서, 상기 Y1, Y2은 같거나 다를 수 있으며, Y1, Y2 중 하나 이상은 반드시 화학식 4의 구조를 포함하는 디아민으로부터 유도되는 것이다.In the polyamideimide according to the present invention, Y 1 and Y 2 may be the same or different, and at least one of Y 1 and Y 2 is derived from a diamine containing the structure of formula (4).

또한, 일 실시예에 따르면, 상기 화학식 4의 2가 유기기 이외에 탄소수 12 내지 30의 지방족, 지환족 또는 탄소수 12 내지 30의 방향족의 2가 유기기이거나, 또는 이들의 조합기로서, 지방족, 지환족 또는 방향족의 2가 유기기가 직접 연결되거나, 또는 가교구조를 통해 서로 연결된 2가 유기기에서 선택되는 구조를 포함하는 디아민으로부터 유도된 것이다. 예를 들면, 탄소수 12 내지 30의 일환식 또는 다환식 방향족, 탄소수 12 내지 30의 일환식 또는 다환식 지환족, 또는 이들 중 둘 이상이 단일결합으로 연결된 구조일 수 있으며, 구체적으로 하기 화학식 7a 내지 7i의 2가 유기기 중에서 선택되는 2가 유기기일 수 있다.According to one embodiment, in addition to the divalent organic group represented by the formula (4), an aliphatic, alicyclic or aromatic divalent organic group having 12 to 30 carbon atoms or an aromatic divalent organic group having 12 to 30 carbon atoms, Or aromatic divalent organic groups are directly connected to each other, or are selected from divalent organic groups connected to each other through a crosslinking structure. For example, a monocyclic or polycyclic aromatic group having 12 to 30 carbon atoms, a monocyclic or polycyclic alicyclic group having 12 to 30 carbon atoms, or a structure in which two or more thereof are linked by a single bond, 7i < / RTI > divalent organic group.

Figure pat00024
Figure pat00024

상기 화학식 7a 내지 7i의 2가 유기기내 1 이상의 수소 원자는 탄소수 1 내지 10의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, t-부틸기, 펜틸기, 헥실기 등), 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기(예를 들면, 플루오로메틸 기, 퍼플루오로에틸기, 트리플루오로메틸기 등), 탄소수 6 내지 12의 아릴기(예를 들면, 페닐기, 나프탈레닐기 등), 술폰산기 및 카르복실산기로 이루어진 군에서 선택되는 치환기로 치환될 수도 있으며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 치환될 수 있다.At least one hydrogen atom in the divalent organic group of formulas (7a) to (7i) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t- butyl, pentyl, A fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., a fluoromethyl group, a perfluoroethyl group or a trifluoromethyl group), an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., a phenyl group, a naphthalenyl group, etc.) A sulfonic acid group, and a carboxylic acid group, and may be substituted with a fluoroalkyl group having preferably 1 to 10 carbon atoms.

본 발명의 폴리아미드이미드 전구체의 반복구조에 있어서, 하나 이상의 반복구조가 플루오로계 치환기를 함유하는 2가 유기기 및/또는 4가 유기기를 포함하는 것일 수 있다. 여기서 '플루오로계 치환기'란 '플루오로 원자 치환기' 뿐만 아니라 '플루오로 원자를 함유하는 치환기'를 모두 의미하는 것이다. 상기 플루오로계 치환기는 탄소수 1 내지 10, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 플루오로 알킬기 일 수 있으며, 전체 폴리아미드이미드 전구체의 반복구조에 대해 30 몰% 이상, 바람직하게는 40 몰% 이상, 또는 60 몰%이상으로 포함될 수 있고, 최대 100 몰%, 바람직하게는 90몰%, 또는 80몰%이하로 포함될 수 있다.In the repeating structure of the polyamideimide precursor of the present invention, one or more repeating structures may contain a divalent organic group and / or a tetravalent organic group containing a fluoro-based substituent. Here, the term "fluoro group substituent" means not only a "fluoro atom substituent" but also a "substituent group containing a fluoro atom". The fluorine-based substituent may be a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and may be at least 30 mol%, preferably at least 40 mol%, based on the repeating structure of the entire polyamideimide precursor, or 60 mol% or more, and may be contained at most 100 mol%, preferably 90 mol% or 80 mol% or less.

상기 테트라카르복실산이무수물 및 디카르복실산 또는 디카르복실클로라이드를 디아민과 반응시키는 방법은 용액 중합 등 통상의 폴리아미드이미드 전구체 중합 제조방법에 따라 실시할 수 있으며. 구체적으로는, 디아민을 유기 용매 중에 용해시킨 후, 결과로 수득된 혼합용액에 테트라카르복실산이무수물 및 디카르복실산 또는 디카르복실클로라이드를 첨가하여 중합반응시킴으로써 제조될 수 있다. 이때, 테트라카르복실산이무수물 및 디카르복실산 또는 디카르복실클로라이드의 총량과 1:1.1 내지 1.1:1의 몰비, 또는 1:1.05 내지 1.05:1로 혼합하는 것이 바람직한 분자량, 기계적 물성 및 점도를 얻을 수 있다.The reaction of the tetracarboxylic acid dianhydride and the dicarboxylic acid or dicarboxylic chloride with the diamine can be carried out according to a conventional method for producing a polyamideimide precursor, such as solution polymerization. Specifically, it can be produced by dissolving a diamine in an organic solvent, and then adding a tetracarboxylic acid dianhydride and a dicarboxylic acid or a dicarboxylic chloride to the resultant mixed solution to carry out a polymerization reaction. In this case, it is preferable to mix the tetracarboxylic acid dianhydride and the total amount of dicarboxylic acid or dicarboxylic chloride in a molar ratio of 1: 1.1 to 1.1: 1, or 1: 1.05 to 1.05: 1, Can be obtained.

상기 반응은 비활성 기체 또는 질소 기류하에 실시될 수 있으며, 무수조건에서 실행될 수 있다.The reaction can be carried out under an inert gas or a nitrogen stream and can be carried out under anhydrous conditions.

또한, 상기 중합반응시 온도는 -20℃ 내지 60℃, 바람직하게는 0℃ 내지 30℃에서 실시될 수 있다.The polymerization reaction may be carried out at a temperature of -20 캜 to 60 캜, preferably 0 캜 to 30 캜.

또한 상기 중합반응에 사용될 수 있는 유기용매로는 구체적으로, γ-부티로락톤, 1,3-디메틸-이미다졸리디논, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류(셀로솔브); 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 카르비톨, 디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디에틸아세트아미드, 디메틸포름아미드(DMF), 디에틸포름아미드(DEF), N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈(NEP), 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, N,N-디메틸메톡시아세트아미드, 디메틸술폭사이드, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸포스포르아미드, 테트라메틸우레아, N-메틸카르로락탐, 테트라히드로퓨란, m-디옥산, P-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄, 비스[2-(2-메톡시에톡시)]에테르 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것이 사용될 수 있다.Specific examples of the organic solvent that can be used in the polymerization reaction include? -Butyrolactone, 1,3-dimethyl-imidazolidinone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, Ketones such as methyl-2-pentanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether , Glycol ethers (cellosolve) such as dipropylene glycol diethyl ether and triethylene glycol monoethyl ether; Examples of the solvent include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol, (DMF), diethylformamide (DEF), N-methylpyrrolidone (NMP), N-ethylpyrrolidone (NEP), N-methylpyrrolidone N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylurea, N-methylcarrolactam, tetra (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2- (2-methoxyethoxy) ethane, (2-methoxyethoxy)] ether, and mixtures thereof. May be used.

보다 바람직하게는, 디메틸술폭시드, 디에틸술폭시드 등의 술폭시드계 용매, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드 등의 포름아미드계 용매, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디에틸아세트아미드 등의 아세트아미드계 용매, N-메틸-2-피롤리돈, N-비닐-2-피롤리돈 등의 피롤리돈계 용매, 페놀, o-, m- 또는 p-크레졸, 크시레놀, 할로겐화 페놀, 카테콜 등의 페놀계 용매, 혹은 헥사메틸포스포르아미드, γ-부티로락톤 등을 들 수 있고, 이들을 단독 또는 혼합물로서 이용할 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니고, 크실렌, 톨루엔과 같은 방향족 탄화수소를 더 사용할 수도 있으며, 또한 폴리머의 용해를 촉진시키기 위해서 상기 용매에 상기 용매 총량에 대하여 약 50 중량% 이하의 알칼리 금속염 또는 알칼리 토류금속염을 더 첨가할 수도 있다.More preferred are sulfoxide type solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide type solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide , And N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, phenol-based solvents such as p-cresol, xylenol, halogenated phenol and catechol, and hexamethylphosphoramide and? -butyrolactone, which may be used alone or as a mixture. However, the present invention is not limited to this, and aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene may be further used. In order to accelerate the dissolution of the polymer, about 50% by weight or less of the alkali metal salt or alkaline earth metal salt May be added.

상기한 제조방법에 따라 제조된 폴리아미드이미드 전구체 조성물은 필름 형성 공정시의 도포성 등의 공정성을 고려하여 상기 조성물이 적절한 점도를 갖도록 하는 양으로 고형분을 포함하는 것이 바람직하다. 일 실시예에 따르면, 전체 폴리머의 함량이 5 내지 25 중량%가 되도록 조성물의 함량을 조절할 수 있으며, 바람직하게는 5 내지 20 중량%, 보다 바람직하게는 5 내지 20 중량%, 또는 5 내지 15 중량%이하로 조절할 수 있다.The polyamideimide precursor composition prepared according to the above-described production method preferably contains a solid content in an amount such that the composition has an appropriate viscosity in consideration of processability such as coating properties in a film forming process. According to one embodiment, the content of the composition may be controlled such that the total polymer content is 5 to 25 wt%, preferably 5 to 20 wt%, more preferably 5 to 20 wt%, or 5 to 15 wt% % ≪ / RTI >

또는, 상기 폴리아미드이미드 전구체 조성물이 500cP 이상, 혹은 1,000cP 이상, 바람직하게는 3,000cP 이상의 점도를 갖도록 조절하는 것일 수 있으며, 상기 폴리아미드이미드 전구체 조성물의 점도는 30,000cP 이하, 혹은 20,000cP 이하, 바람직하게는 18,000cP 이하, 또는 15,000cP 이하의 점도를 갖도록 조절하는 것이 바람직하다. 폴리아미드이미드 전구체 조성물의 점도가 500cP 미만이거나, 30,000cP를 초과할 경우 폴리아미드이미드 필름 가공시 기포발생 및 표면조도가 좋지 않아 광학적 특성이 저하될 수 있다.Or the polyamideimide precursor composition may have a viscosity of 500 cP or more, or 1,000 cP or more, preferably 3,000 cP or more, and the viscosity of the polyamideimide precursor composition is 30,000 cP or less, or 20,000 cP or less, Preferably 18,000 cP or less, or 15,000 cP or less. When the viscosity of the polyamideimide precursor composition is less than 500 cP or more than 30,000 cP, bubble generation and surface roughness may be poor during processing of the polyamideimide film, resulting in deterioration of optical properties.

또, 본 발명에 따른 폴리아미드이미드의 분자량은 10,000 내지 200,000g/mol, 혹은 20,000 내지 100,000g/mol, 혹은 30,000 내지 100,000 g/mol의 중량평균 분자량을 갖는 것일 수 있다.The molecular weight of the polyamideimide according to the present invention may be 10,000 to 200,000 g / mol, or 20,000 to 100,000 g / mol, or 30,000 to 100,000 g / mol.

또한, 본 발명에 따른 폴리아미드이미드의 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.1 내지 2.5 인 것이 바람직하다. 폴리아미드이미드의 이미드화율 및 중량평균 분자량 또는 분자량 분포가 상기한 범위를 벗어날 경우 필름 형성이 어려울 수 있거나 또는 투과도, 내열성 및 기계적 특성 등 폴리아미드이미드계 필름의 특성이 저하될 우려가 있다.The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polyamideimide according to the present invention is preferably 1.1 to 2.5. When the imidization rate and weight average molecular weight or molecular weight distribution of the polyamideimide deviate from the above range, film formation may be difficult or the properties of the polyamideimide-based film such as transmittance, heat resistance and mechanical properties may deteriorate.

상기 폴리아미드이미드 전구체 조성물은 유기 용매 중에 용해된 용액의 형태일 수 있으며, 이러한 형태를 갖는 경우, 예를 들어 폴리아미드이미드 전구체를 유기 용매 중에서 합성한 경우에는, 용액은 얻어지는 반응 용액 그 자체여도 되고, 또 이 반응 용액을 다른 용매로 희석한 것이어도 된다. 또, 폴리아미드이미드 전구체를 분말로서 얻은 경우에는, 이것을 유기 용매에 용해시켜 용액으로 한 것이어도 된다.The polyamideimide precursor composition may be in the form of a solution dissolved in an organic solvent. When the polyamideimide precursor composition has such a form, for example, when a polyamideimide precursor is synthesized in an organic solvent, the solution may be the reaction solution itself , Or the reaction solution may be diluted with another solvent. When a polyamideimide precursor is obtained as a powder, it may be dissolved in an organic solvent to form a solution.

또, 폴리머 성분의 분말을 유기 용매에 용해해 용액을 제조할 때에 가열해도 된다. 가열 온도는 20 ~ 150℃ 가 바람직하고, 20 ~ 80℃ 가 특히 바람직하다.The powder of the polymer component may be dissolved in an organic solvent and heated at the time of preparing the solution. The heating temperature is preferably 20 to 150 占 폚, particularly preferably 20 to 80 占 폚.

이어서 상기 중합 반응의 결과로 수득된 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화 시킴으로써, 투명 폴리아미드이미드 필름을 제조할 수 있다. 이때, 상기 이미드화 공정은 구체적으로 화학 이미드화 또는 열 이미드화 방법이 있을 수 있다.Next, the polyamideimide precursor obtained as a result of the polymerization reaction is imidized to prepare a transparent polyamideimide film. At this time, the imidization process may be specifically a chemical imidization or thermal imidization process.

예를 들면, 상기 중합된 폴리아미드이미드 전구체 용액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 첨가한 후 50℃ 내지 100℃ 의 온도로 가열하여 화학적 반응에 의해 이미드화 시키거나, 또는 상기 용액을 환류시키면서 알코올을 제거하여 이미드화 시키는 방법으로 폴리아미드이미드를 얻을 수 있다. For example, it is preferable to add a dehydrating agent and an imidation catalyst to the polymerized polyamideimide precursor solution and heat the solution to a temperature of 50 to 100 ° C to imidize the solution by a chemical reaction, or to remove the alcohol while refluxing the solution And then imidizing the polyamide-imide.

상기 화학 이미드화 방법에서, 상기 이미드화 촉매로서, 피리딘, 트리에틸아민, 피콜린 또는 퀴놀린 등을 사용될 수 있으며, 그 외에도, 치환 또는 비치환의 질소 함유 복소환 화합물, 질소 함유 복소환 화합물의 N-옥시드 화합물, 치환 또는 비치환의 아미노산 화합물, 하이드록실기를 가지는 방향족 탄화수소 화합물 또는 방향족 복소환상 화합물이 있으며, 특히 1,2-디메틸이미다졸, N-메틸이미다졸, N-벤질-2-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 5-메틸벤즈이미다졸 등의 저급 알킬이미다졸, N-벤질-2-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체, 이소퀴놀린, 3,5-디메틸피리딘, 3,4-디메틸피리딘, 2,5-디메틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 4-n-프로필피리딘 등의 치환 피리딘, p-톨루엔술폰산 등이 사용될 수도 있다.In the above chemical imidization method, pyridine, triethylamine, picoline or quinoline may be used as the imidization catalyst. In addition, a nitrogen-containing heterocyclic compound substituted or unsubstituted, a nitrogen-containing heterocyclic compound N- A substituted or unsubstituted amino acid compound, an aromatic hydrocarbon compound having a hydroxyl group or an aromatic heterocyclic compound, particularly 1,2-dimethylimidazole, N-methylimidazole, N-benzyl- Lower alkyl imidazole such as methyl imidazole, 2-methyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole and 5-methylbenzimidazole, and N-benzyl- Substituted pyridines such as pyridine, pyridine, pyridine, isothiazole, isothiazole, isothiazole, isoquinoline, 3,5-dimethylpyridine, 3,4-dimethylpyridine, 2,5-dimethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine and 4- May be used.

상기 탈수제로서는 아세틱산 무수물등의 산무수물을 사용될 수 있다.As the dehydrating agent, an acid anhydride such as acetic anhydride may be used.

또는, 상기 전구체 용액을 기판에 도포하고, 100℃ 내지 300℃ 조건의 오븐이나 핫 플레이트 위에서 열처리될 수 있으며, 또한 상기 온도범위 내에서 다양한 온도에서의 다단계 가열처리로 진행될 수도 있다.Alternatively, the precursor solution may be applied to a substrate and heat-treated on an oven or a hot plate at a temperature of 100 ° C to 300 ° C, or may be subjected to a multi-step heat treatment at various temperatures within the temperature range.

본 발명의 폴리아미드이미드 조성물에 함유되는 상기 유기 용매는, 상기 중합용매와 동일한 것이 사용될 수 있다.The organic solvent contained in the polyamideimide composition of the present invention may be the same as the aforementioned polymerization solvent.

본 발명은, 효과에 손상되지 않는 범위이면 실란 커플링제, 가교성 화합물, 이미드화를 효율적으로 진행시킬 목적의 이미드화 촉진제 등을 첨가해도 된다.In the present invention, a silane coupling agent, a crosslinkable compound, an imidization accelerator for promoting imidization efficiently, and the like may be added as long as the effect is not impaired.

강직한 구조를 갖는 폴리이미드의 분자구조에 폴리아미드 구조를 도입시켜 사슬간 거리를 증가시켜 사슬간 packing을 감소시키며, 디아민 구조에 전기음성도가 높은 치환체를 결합시켜 전하 전이를 저하시킴으로써, 기계적 특성이 우수하면서도 무색투명한 폴리아미드이미드 필름을 제조할 수 있다.By introducing a polyamide structure into the molecular structure of the polyimide having a rigid structure, the interchain packing is reduced by increasing the interchain distance, and the substitution with high electronegativity is bonded to the diamine structure to lower the charge transfer. A polyamideimide film excellent in color and transparency can be produced.

또, 상기 폴리아미드이미드계 필름은 20㎛ 내지 100㎛의 두께일 수 있으며, 헤이즈(Haziness)가 2 이하이고, 바람직하게는 1 이하, 보다 바람직하게는 0.9 이하이고, 10 내지 30㎛의 필름 두께 범위에서 380 내지 760nm 파장의 빛에 대한 투과도가 80% 이상이며, 황색도(YI)가 약 7이하, 바람직하게는 약 5 이하, 보다 바람직하게는 약 4 이하, 혹은 3이하의 값을 갖는 무색 투명 폴리아미드이미드 필름일 수 있다. 상기와 같이 우수한 광 투과도 및 황색도를 가짐으로써 현저히 개선된 투명도 및 광학특성을 나타낼 수 있다.The polyamide-imide-based film may have a thickness of 20 to 100 탆, a haze of 2 or less, preferably 1 or less, more preferably 0.9 or less, and a film thickness of 10 to 30 탆 Having a yellow transmittance (YI) of about 7 or less, preferably about 5 or less, more preferably about 4 or less, or a transmittance of about 80% or more for light having a wavelength in the range of 380 to 760 nm And may be a transparent polyamideimide film. By having excellent light transmittance and yellowness as described above, it is possible to exhibit significantly improved transparency and optical characteristics.

또한, 상기 폴리아미드이미드계 필름은 면내 위상차값(Rin)이 약 0 내지 100nm이고, 두께 방향의 위상차값(Rth)이 약 200nm 이상이거나, 혹은 면내 위상차값(Rin)이 약 0 내지 70nm이고, 두께 방향의 위상차값(Rth)이 약 300nm 이상인 이방성 필름일 수 있다.In addition, the polyamide-imide-based films are in-plane retardation value (R in) is from about 0 to about 100nm, or at least about 200nm retardation value (R th) in a thickness direction or in-plane retardation value (R in) is about 0 to And a retardation value (R th ) in the thickness direction of about 300 nm or more.

또, 상기 폴리아미드이미드계 필름은 모듈러스(modulus)가 약 5 GPa 이상, 혹은 약 5 내지 9GPa이고, 표면경도는 연필경도 측정기를 이용하여 측정 표준 JIS K5400에 따라, 750gf의 하중으로 한 연필당 총 3희 측정한 후 긁힘 및 눌림정도를 측정하여 경도를 확인할 수 있으며, HB 이상, 또는 F 이상 표면경도를 갖는 것일 수 있으며, 바람직하게는 H 이상, 보다 바람직하게는 2H 이상의 표면경도를 갖는 것일 수 있다.The polyamide-imide-based film has a modulus of about 5 GPa or more, or about 5 to 9 GPa. The surface hardness of the polyamide-imide-based film is measured in accordance with JIS K5400 standard of measurement using a pencil hardness tester, The hardness can be confirmed by measuring the degree of scratching and pressing after 3 measurements. The surface hardness may be higher than HB or higher than F, preferably higher than H, more preferably higher than 2H. have.

따라서, 본 발명의 또 다른 일 구현예에에서는, 상기 폴리아미드이미드 공중합체를 포함하는 성형품(article)을 제공한다.Accordingly, another embodiment of the present invention provides a molded article comprising the polyamideimide copolymer.

상기 성형품은 필름, 섬유(fiber), 코팅재, 접착재 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 성형품은 상기 공중합체와 무기입자의 복합체 조성물을 사용하여 건습식법, 건식법, 습식법 등으로 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 구체적으로, 상기에서 설명한 바와 같이, 상기 성형품은 광학 필름일 수 있고, 이 경우, 상기 폴리아미드이미드 공중합체를 포함하는 조성물은, 기판상에 스핀 코팅 등의 방법으로 적용된 후, 이를 건조 및 경화함으로써 용이하게 제조될 수 있다.The molded article may be a film, a fiber, a coating material, an adhesive, and the like, but is not limited thereto. The molded article may be formed by a dry-wet method, a dry method, a wet method, or the like using a composite composition of the copolymer and the inorganic particles, but is not limited thereto. Specifically, as described above, the molded article may be an optical film. In this case, the composition comprising the polyamide-imide copolymer may be applied to a substrate by a method such as spin coating, followed by drying and curing Can be easily produced.

본 발명에 따른 폴리아미드이미드는 강직한 구조에 의한 내열성, 기계적 강도 등의 특성을 그대로 유지하면서, 우수한 무색투명한 특성을 나타낼 수 있어, 소자용 기판, 디스플레이용 커버기판, 광학 필름(optical film), IC(integrated circuit) 패키지, 전착 필름(adhesive film), 다층 FRC(flexible printed circuit), 테이프, 터치패널, 광디스크용 보호필름 등과 같은 다양한 분야에 사용될 수 있으며, 특히 디스플레이용 커버기판에 적합할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The polyamideimide according to the present invention can exhibit excellent colorless and transparent characteristics while maintaining the properties such as heat resistance and mechanical strength due to a rigid structure, and can be used as a substrate for devices, a cover substrate for displays, optical films, Can be used in various fields such as an IC (integrated circuit) package, an adhesive film, a multilayer FRC (flexible printed circuit), a tape, a touch panel, a protective film for an optical disc and the like, .

구체적으로, 본 발명에 따른 고강도 투명 폴리아미드이미드 필름을 포함함으로써, 우수한 내스크래치성을 가져 플렉시블 전자기기에서 생활 스크래치 방지가 가능한 플렉시블 전자기기 커버기판으로 유용한 투명 폴리아미드이미드 기판을 제공할 수 있다.Specifically, by including the high-strength transparent polyamide-imide film according to the present invention, it is possible to provide a transparent polyamide-imide substrate useful as a flexible electronic device cover substrate which has excellent scratch resistance and can prevent life scratches in flexible electronic devices.

본 발명에 따른 투명 폴리아미드이미드 기판은,The transparent polyamideimide substrate according to the present invention is a transparent polyamideimide substrate,

고강도 투명 폴리아미드이미드 필름;High strength transparent polyamide imide film;

상기 폴리아미드이미드 필름의 적어도 일면 상에 형성되며, 아크릴레이트기를 포함하고, 이소시아네이트기 수가 2 내지 5개인 폴리이소시아네이트의 경화층을 포함하는 투명 폴리아미드이미드 기판을 제공한다.A transparent polyamideimide substrate formed on at least one surface of the polyamideimide film and including a cured layer of a polyisocyanate having an acrylate group and having 2 to 5 isocyanate groups.

일 구현예에 따르면, 상기 폴리이소시아네이트는 하기 화학식 10으로 표시되는 것일 수 있다.According to one embodiment, the polyisocyanate may be represented by the following general formula (10).

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pat00025
Figure pat00025

상기 화학식 10에서,In Formula 10,

R10은 하기 화학식 11의 구조를 포함하는 것이며,R < 10 > has the structure of formula (11)

R12는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고,R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,

[화학식 11](11)

Figure pat00026
Figure pat00026

상기 화학식 11에 있어서, In Formula 11,

R11은 탄소수 1 내지 3의 알킬기 또는 수소원자이고,R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a hydrogen atom,

n은 0 내지 5의 정수이며, m은 1 내지 5의 정수이다.n is an integer of 0 to 5, and m is an integer of 1 to 5.

본 발명의 또 다른 일 구현예에 따르면 상기 성형품을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. 구체적으로는 상기 디스플레이 장치는 액정 표시 장치(liquid crystal display device, LCD), 유기발광다이오드(organic light emitting diode, OLED) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a display device including the molded article. Specifically, the display device may be a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting diode (OLED), or the like, but is not limited thereto.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

<실시예 1> TFMB(1)/BPDA(0.5)_TPC(0.5)Example 1 TFMB (1) / BPDA (0.5) _TPC (0.5)

질소 기류가 흐르는 교반기 내에 N,N-dimethylacetamide (DMAc) 200g을 채운 후, 반응기의 온도를 25℃로 유지한 상태에서 TFMB(2,2`-bis(trifluoromethyl)-4,4`-biphenyl diamine) 21.7g을 용해시킨다. 상기 TFMB 용액에 BPDA(3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride) 10g을 같은 온도에서 첨가하여 일정시간 용해하며 교반한다. 충분한 교반이 이루어지고 나면 온도를 0℃로 낮추고 TPC(terephthaloyl chloride) 7g을 첨가하여 교반을 계속 진행한다. 상기 반응으로부터 제조된 폴리아미드이미드 전구체 용액에 Pyridine과 Acetic anhydride를 첨가하여 충분히 교반한 다음 Methanol과 물의 혼합용액으로 침전을 형성시켜 건조시킨다. 건조한 폴리아미드이미드 분말을 DMAc에 용해시켜 고형분 농도를 13%로 조절하여 폴리아미드이미드 전구체 용액을 제조하였다. N, N-dimethylacetamide (DMAc) (200 g) was charged into a stirrer through which a nitrogen gas stream was flowed. The reactor was maintained at 25 ° C and TFMB (2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'- biphenyl diamine) To dissolve 21.7 g. 10 g of BPDA (3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride) is added to the TFMB solution at the same temperature and dissolved for a predetermined time and stirred. When sufficient agitation has been achieved, the temperature is lowered to 0 ° C and 7 g of TPC (terephthaloyl chloride) is added to continue stirring. Pyridine and acetic anhydride are added to the polyamideimide precursor solution prepared from the reaction, and the mixture is stirred sufficiently. Then, a precipitate is formed with a mixed solution of methanol and water, followed by drying. The dried polyamideimide powder was dissolved in DMAc to adjust the solid concentration to 13% to prepare a polyamideimide precursor solution.

상기 조성물 용액을 유리 기판에 약 30 ㎛의 두께로 스핀 코팅하였다. 폴리아미드이미드 조성물이 도포된 유리 기판을 오븐에 넣고 4℃/min의 속도로 가열하였으며, 300℃에서 60분 동안 경화 공정을 진행하였다. 경화 공정 완료 후에, 유리 기판위에 형성된 필름을 떼어내어 필름을 제조하였다.The composition solution was spin-coated on a glass substrate to a thickness of about 30 탆. The glass substrate coated with the polyamideimide composition was placed in an oven, heated at a rate of 4 ° C / min, and cured at 300 ° C for 60 minutes. After completion of the curing process, the film formed on the glass substrate was peeled off to produce a film.

<실시예 2> TFMB(1)/BPDA(0.4)_TPC(0.6)Example 2 TFMB (1) / BPDA (0.4) _TPC (0.6)

BPDA 및 TPC의 조성이 0.4 mol: 0.6 mol인 것을 제외하고 실시예 1의 방법과 동일하게 제조되었다.The procedure of Example 1 was repeated except that the composition of BPDA and TPC was 0.4 mol: 0.6 mol.

<실시예 3> TFMB(1)/BPDA(0.3)_TPC(0.7)Example 3 TFMB (1) / BPDA (0.3) _TPC (0.7)

BPDA 및 TPC의 조성이 0.3 mol: 0.7 mol인 것을 제외하고 실시예 1의 방법과 동일하게 제조되었다.The procedure of Example 1 was repeated except that the composition of BPDA and TPC was 0.3 mol: 0.7 mol.

<비교예 1> TFMB(1)/BPDA(0.1)_TPC(0.9)Comparative Example 1 TFMB (1) / BPDA (0.1) _TPC (0.9)

BPDA 및 TPC의 조성이 0.1 mol: 0.9 mol인 것을 제외하고 실시예1의 방법과 동일하게 제조되었다.The procedure of Example 1 was repeated except that the composition of BPDA and TPC was 0.1 mol: 0.9 mol.

<실험예 1><Experimental Example 1>

실시예 1 내지 3에서 제조한 각각의 폴리아미드이미드 필름에 대하여 하기와 같은 방법으로 투과도, 황색도 및 헤이즈 등의 필름의 광학특성 및 을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.The optical properties and measurements of the respective polyamide-imide films prepared in Examples 1 to 3 were measured in the following manner, and the results are shown in Table 1 below.

Haze Meter HM-150을 사용하여 ASTM D1003 에 따른 방법으로 헤이즈를 측정하였다.Haze was measured by the method according to ASTM D1003 using Haze Meter HM-150.

황색도(Yellowness Index, YI)은 색차계(Color Eye 7000A)를 이용하여 측정하였다.Yellowness Index (YI) was measured using a color difference meter (Color Eye 7000A).

필름의 면 방향 위상차(Rin) 및 두께 방향 위상차(Rth)는 Axoscan을 이용하여 측정하였다.The retardation in the plane direction (R in ) and the retardation in the thickness direction (R th ) of the film were measured using Axoscan.

표면경도는 연필경도 측정기를 이용하여 측정 표준 JIS K5400에 따라, 750gf의 하중으로 한 연필당 총 3회 측정한 후 긁힘 및 눌림 정도를 측정하여 경도를 확인하였다.The surface hardness was measured three times per a pencil at a load of 750 gf according to the measuring standard JIS K5400 using a pencil hardness tester, and the degree of scratching and pressing was measured to confirm the hardness.

BPDA(0.1)/
TPC(0.9)
BPDA (0.1) /
TPC (0.9)
BPDA(0.5)/
TPC(0.5)
BPDA (0.5) /
TPC (0.5)
BPDA(0.4)/
TPC(0.6)
BPDA (0.4) /
TPC (0.6)
BPDA(0.3)/
TPC(0.7)
BPDA (0.3) /
TPC (0.7)
비교예 1Comparative Example 1 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 두께
(㎛)
thickness
(탆)


Gelation


Gelation
3333 3131 3232
YIYI 3.43.4 3.13.1 2.92.9 HazeHaze 0.830.83 0.790.79 0.750.75 RthRth 520520 553553 652652 RinRin 6767 6767 6767 경도(750gf)Hardness (750gf) 2H
1/3
2H
1/3
2H
0/3
2H
0/3
2H
0/3
2H
0/3

상기 실시예 1 내지 실시예 3의 결과로부터 본 발명에 따른 폴리아미드이미드는 헤이즈 특성 및 황변도 특성이 우수할 뿐만 아니라 경도특성 또한 뛰어남을 알 수 있다.From the results of Examples 1 to 3, it can be seen that the polyamideimide according to the present invention has excellent haze characteristics and yellowing property as well as excellent hardness characteristics.

반면, 비교예 1의 폴리아미드이미드는 TPC의 함량이 과도하여 중합용매상의 겔화(gelation)에 의한 점도상승에 의해 필름으로 성형할 수 없었다.On the other hand, the polyamideimide of Comparative Example 1 was too thick to be formed into a film due to an increase in viscosity due to gelation on the polymerization solvent.

<실시예 4><Example 4>

화학식 10에서 R10은 m이 1~5, n이 0~5의 정수를 갖고, R11은 메틸기인 화학식 11의 구조를 포함하며, R12는 에틸기인, 아크릴레이트가 함유된 폴리이소시아네이트를 포함하는 코팅액을 딥 코터를 이용하여 상기 실시예 2에서 제조된 무색 투명 폴리아미드이미드 필름의 일면에 도포한 후 80℃의 온도로 건조하여 두께 10㎛의 도막을 얻었다. 그 후, 312nm, 365nm의 자외선 경화기를 이용하여 두 파장을 동시에 100 mw/cm2 의 에너지 10초간 조사하여 아크릴레이트가 함유된 폴리이소시아네이트의 경화막이 일면에 형성되어, 무색투명 폴리아미드이미드 필름/아크릴레이트가 함유된 폴리이소시아네이트의 경화막의 구조를 갖는 무색 투명 폴리아미드이미드 필름을 얻었다.In the formula 10 R 10 is m is 1 ~ 5, n to have a whole number of 0 ~ 5, R 11 comprises a structure of the group of the formula 11, R 12 comprises a containing the group of acrylate polyisocyanate Was coated on one surface of the colorless transparent polyamide-imide film prepared in Example 2 using a dip coater and dried at a temperature of 80 캜 to obtain a coating film having a thickness of 10 탆. Then, the two wavelengths were simultaneously irradiated with energy of 100 mW / cm 2 for 10 seconds by using an ultraviolet ray curing machine of 312 nm and 365 nm to form a cured film of a polyisocyanate containing acrylate on one surface to form a colorless transparent polyamide imide film / To obtain a colorless transparent polyamideimide film having a structure of a cured film of a polyisocyanate containing a rate.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

폴리실라잔을 DBE(Dibutyl ether)에 2wt%로 녹인 용액을 상기 무색 투명 폴리아미드이미드 필름 일면에 일면에 와이어로 도포한 후 약 80℃의 온도로 건조하여 두께 300nm의 폴리실라잔 막을 형성하였다.A solution obtained by dissolving polysilazane in DBE (dibutyl ether) at 2 wt% was applied on one surface of the colorless transparent polyamideimide film to one side with wires, and dried at a temperature of about 80 DEG C to form a polysilazane film having a thickness of 300 nm.

그 후, 상온에서 약 5분간 방치한 후 약 250℃의 온도에서 열경화시켜 실리콘산화물층을 형성하여, 무색투명 폴리아미드이미드 필름/실리콘산화물층의 구조를 갖는 기판을 제조하였다.Thereafter, the substrate was allowed to stand at room temperature for about 5 minutes, and thermally cured at a temperature of about 250 ° C to form a silicon oxide layer, thereby producing a substrate having a colorless transparent polyamideimide film / silicon oxide layer structure.

상기 무색투명 폴리아미드이미드 필름/실리콘산화물층 상에 실시예 4와 동일한 방법으로 아크릴레이트가 함유된 폴리이소시아네트의 경화막이 형성하여, 무색투명 폴리아미드이미드 필름/실리콘산화물층/아크릴레이트가 함유된 폴리이소시아네이트의 경화막의 구조를 갖는 무색 투명 폴리아미드이미드 필름을 얻었다.A cured film of polyisocyanate containing acrylate was formed on the colorless transparent polyamideimide film / silicon oxide layer in the same manner as in Example 4, and a cured film of polyisocyanate containing a colorless transparent polyamideimide film / silicon oxide layer / acrylate A colorless transparent polyamideimide film having a structure of a cured film of polyisocyanate was obtained.

<실험예 2><Experimental Example 2>

하기와 같은 방법으로 물성을 측정하여 그 결과를 표 2에 나타내었다.The properties were measured in the following manner, and the results are shown in Table 2.

(1) 황색도 (1) Yellowness

Spectrophotometer (CU-3700D, KONICA MINOLTA)를 이용하여 황색도를 측정하였다.The yellowness was measured using a spectrophotometer (CU-3700D, KONICA MINOLTA).

(2) 수분투과도(g/m2*day)(2) Water permeability (g / m 2 * day)

수분투과도기(MOCON/US/Aquatran- model-1)를 이용하여 수분투과도(WVTR)를 측정하였다.Water permeability (WVTR) was measured using a water-in-oil transient (MOCON / US / Aquatran-model-1).

(3) 연필경도(3) Pencil Hardness

미쯔비스 평가용 연필(UNI)로 전동식연필경도측정기를 이용하여 1kg의 하중 180mm/min의 속도로 50mm를 5회 그은 후, 표면에 스크레치가 전혀 없는 연필경도를 측정하였다.The pencil hardness was measured by using an electric pencil hardness tester with a Mitsubishi Evaluation Pencil (UNI), drawing 5 times 50 mm at a rate of 180 mm / min under a load of 1 kg, and then measuring the pencil hardness without any scratches on the surface.

(5) 접착성(tape로 100회 탈부착)(5) Adhesiveness (detachable with tape 100 times)

표준규격(ASTM D3359)으로 100회 Taping하여 측정하였다.And measured by tapping 100 times with a standard (ASTM D3359).

(6) 휨특성(6) Flexural properties

지름 10mm인 원형 도구에 가운데 두고 기판을 감았다 폈다 반복하여 막의 갈라짐 유무를 육안 및 현미경으로 관찰하여 갈라지는 현상이 조금이라도 있으면 Failed, 갈라지는 현상이 없으면 OK로 측정하였다.The substrate was placed in a circular tool with a diameter of 10 mm. The substrate was wound repeatedly. The film was observed by naked eyes and a microscope to see if the film was cracked.

(7) 내스크래치성(7) scratch resistance

Steelwool을 이용하여 500g 하중, 50mm/sec의 속도 100mm를 500회 왕복으로 문지른 후 육안 및 광학현미경으로 흠집의 개수를 측정하였다. The number of scratches was measured with a naked eye and an optical microscope after rubbing a 500 g load and a 100 mm speed at a speed of 50 mm / sec using a steelwool reciprocating 500 times.

YIYI 수분투과도
(gm-2/day)
Water permeability
(gm -2 / day)
연필경도
(1kg180mm/min)
Pencil hardness
(1 kg 180 mm / min)
접착성Adhesiveness 휨특성
(곡률반경 10mm)
Bending characteristic
(Radius of curvature: 10 mm)
내스크래치성
(steel wool 500회)
Scratch resistance
(steel wool 500 times)
실시예 4Example 4 3.53.5 >50> 50 5H5H 5B5B OKOK 00 실시예 5Example 5 3.73.7 >50> 50 5H5H 5B5B OKOK 00

이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시 양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to specific embodiments thereof, those skilled in the art will appreciate that such specific embodiments are merely preferred embodiments and that the scope of the present invention is not limited thereby. something to do. It is therefore intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.

Claims (14)

하기 화학식 1a로 표시되는 반복구조 및 화학식 1b로 표시되는 반복구조를 함께 포함하며, 상기 화학식 1a의 반복구조와 화학식 1b의 반복구조가 2:8 내지 7:3의 몰비로 중합된 폴리아미드이미드:
[화학식 1a]

[화학식 1b]
Figure pat00028

상기 화학식 1a 및 1b에 있어서,
X1은 테트라카르복실산 이무수물로부터 유도된 하기 화학식 2의 4가 유기기이고,
[화학식 2]
Figure pat00029

X2는 하기 화학식 3의 화합물로부터 유도되는 2가의 유기기이며,
[화학식 3]
Figure pat00030

상기 화학식 3에 있어서,
Z는 하이드록실기(-OH), -Cl, -Br, -F, -I로부터 선택되는 할라이드기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기(-OR)에서 선택되는 하나이고,
Y1, Y2는 디아민으로부터 유도된 2가의 유기기이되, 적어도 하나는 하기 화학식 4의 2가 유기기를 포함하며,
[화학식 4]
Figure pat00031

상기 화학식 4에 있어서,
상기 R1, R2는 각각 독립적으로 -F, -Cl, -Br 및 -I으로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체이고,
Q는 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO2-, 페닐렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있으며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이다.
A polyamideimide comprising a repeating structure represented by the following formula (1a) and a repeating structure represented by the formula (1b), wherein the repeating structure of formula (1a) and the repeating structure of formula (1b) are polymerized in a molar ratio of 2: 8 to 7:
[Formula 1a]

[Chemical Formula 1b]
Figure pat00028

In the above general formulas (1a) and (1b)
X 1 is a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (2)
(2)
Figure pat00029

X 2 is a divalent organic group derived from a compound represented by the following formula (3)
(3)
Figure pat00030

In Formula 3,
Z is one selected from a hydroxyl group (-OH), a halide group selected from -Cl, -Br, -F, -I and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (-OR)
Y 1 and Y 2 are divalent organic groups derived from a diamine, at least one of which contains a divalent organic group represented by the following formula (4)
[Chemical Formula 4]
Figure pat00031

In Formula 4,
R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, -OH, -OH, -SH, nitro, -NH 2 , An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, -O-, -CR 18 R 19 - , -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO 2 - , A phenylene group and a combination thereof, wherein each of R 18 and R 19 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms Is selected.
제1항에 있어서,
상기 화학식 4의 2가 유기기가 하기 화학식 4a 내지 화학식 4d 의 화합물 중에서 선택되는 하나인 폴리아미드이미드.
Figure pat00032
The method according to claim 1,
Wherein the divalent organic group of the formula (4) is one selected from the compounds of the following formulas (4a) to (4d).
Figure pat00032
제1항에 있어서,
상기 화학식 1a의 반복구조와 화학식 1b의 반복구조가 랜덤 코폴리머의 형태로 중합된 폴리아미드이미드.
The method according to claim 1,
The polyamideimide obtained by polymerizing the repeating structure of Formula 1a and the repeating structure of Formula 1b in the form of a random copolymer.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1a 및 화학식 1b가 하기 화학식 1a-1 및 화학식 1b-1로 표시되는 반복구조를 포함하는 것인 폴리아미드이미드:
[화학식 1a-1]
Figure pat00033

[화학식 1b-1]
Figure pat00034
The method according to claim 1,
Wherein the repeating units represented by the formulas (1a) and (1b) include repeating units represented by the following formulas (1a-1) and (1a-1)
[Formula 1a-1]
Figure pat00033

[Chemical Formula 1b-1]
Figure pat00034
하기 화학식 4의 구조를 포함하는 디아민 용액을 교반하는 단계;
상기 디아민 용액에 하기 화학식 2의 구조를 포함하는 테트라카르복실산 이무수물 및 하기 화학식 3의 화합물을 2:8 내지 7:3의 몰비로 첨가하여 상기 디아민과 반응시켜 폴리아미드이미드 전구체를 제조하는 단계; 및
상기 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화 시키는 단계를 포함하는 폴리아미드이미드 제조방법:
[화학식 2]
Figure pat00035

[화학식 3]
Figure pat00036

상기 화학식 3에 있어서,
Z는 하이드록실기(-OH), -Cl, -Br, -F, -I로부터 선택되는 할라이드기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기(-OR)에서 선택되는 하나이고,
[화학식 4]
Figure pat00037

상기 화학식 4에 있어서,
상기 R1, R2는 각각 독립적으로 -F, -Cl, -Br 및 -I으로 이루어진 할로겐 원자, 하이드록실기(-OH), 티올기(-SH), 니트로기(-NO2), 시아노기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 할로게노알콕시, 탄소수 1 내지 10의 할로게노알킬, 탄소수 6 내지 20의 아릴기에서 선택되는 치환체이고,
Q는 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO2-, 페닐렌기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있으며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이다.
Comprising the steps of: stirring a diamine solution comprising a structure of Formula 4;
Adding a tetracarboxylic dianhydride having a structure represented by the following formula 2 and a compound represented by the following formula 3 in a molar ratio of 2: 8 to 7: 3 to the diamine solution to react with the diamine to prepare a polyamideimide precursor ; And
And imidizing the polyamideimide precursor, wherein the polyamideimide precursor is a polyamideimide precursor.
(2)
Figure pat00035

(3)
Figure pat00036

In Formula 3,
Z is one selected from a hydroxyl group (-OH), a halide group selected from -Cl, -Br, -F, -I and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms (-OR)
[Chemical Formula 4]
Figure pat00037

In Formula 4,
R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, -OH, -OH, -SH, nitro, -NH 2 , An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenoalkoxy having 1 to 4 carbon atoms, a halogenoalkyl having 1 to 10 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms,
Q is a single bond, -O-, -CR 18 R 19 - , -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO 2 - , A phenylene group and a combination thereof, wherein each of R 18 and R 19 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms Is selected.
제5항에 있어서,
상기 화학식 2 및 화학식 3의 화합물과 상기 화학식 4의 디아민이 1:1.1 내지 1.1:1 의 몰비로 반응시키는 것인 폴리아미드이미드의 제조방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the compound of Formula 2 and Formula 3 and the diamine of Formula 4 are reacted at a molar ratio of 1: 1.1 to 1.1: 1.
제5항에 있어서,
상기 화학식 3의 화합물이 하기 화학식 3a 또는 화학식 3b의 화합물인 폴리아미드이미드의 제조방법:
[화학식 3a]

[화학식 3b]
Figure pat00039
6. The method of claim 5,
Wherein the compound of formula (3) is a compound of formula (3a) or (3b): &lt; EMI ID =
[Chemical Formula 3]

(3b)
Figure pat00039
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 폴리아미드이미드를 포함하는 고강도 투명 폴리아미드이미드 필름.A high strength transparent polyamideimide film comprising the polyamideimide of any one of claims 1 to 4. 제8항에 있어서,
상기 폴리아미드이미드 필름의 헤이즈(Haze)가 2 이하이며, 연필강도가 2H 이상인 고강도 투명 폴리아미드이미드 필름.
9. The method of claim 8,
Wherein the polyamide-imide film has a haze of 2 or less and a pencil strength of 2H or more.
제8항에 있어서,
상기 폴리아미드이미드 필름의 황변도(YI)가 4 이하인 고강도 투명 폴리아미드이미드 필름.
9. The method of claim 8,
Wherein the polyamide-imide film has a yellowing degree (YI) of 4 or less.
제8항에 따른 고강도 투명 폴리아미드이미드 필름;
상기 폴리아미드이미드 필름의 적어도 일면 상에 형성되며, 아크릴레이트기를 포함하고, 이소시아네이트기 수가 2 내지 5개인 폴리이소시아네이트의 경화층을 포함하는 디스플레이 커버기판.
A high strength transparent polyamide imide film according to claim 8;
A display cover substrate formed on at least one side of the polyamideimide film, the display cover substrate comprising an acrylate group and a cured layer of a polyisocyanate having 2 to 5 isocyanate groups.
제11항에 있어서,
상기 폴리이소시아네이트는 하기 화학식 10으로 표시되는 것인 디스플레이 커버기판:
[화학식 10]
Figure pat00040

상기 화학식 10에서,
R10은 하기 화학식 11의 구조를 포함하는 것이며,
R12는 탄소수 1 내지 5의 알킬기이고,
[화학식 11]
Figure pat00041

상기 화학식 11에 있어서,
R11은 탄소수 1 내지 3의 알킬기 또는 수소원자이고,
n은 0 내지 5의 정수이며, m은 1 내지 5의 정수이다.
12. The method of claim 11,
Wherein the polyisocyanate is represented by the following formula (10): &lt; EMI ID =
[Chemical formula 10]
Figure pat00040

In Formula 10,
R &lt; 10 &gt; has the structure of formula (11)
R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,
(11)
Figure pat00041

In Formula 11,
R 11 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a hydrogen atom,
n is an integer of 0 to 5, and m is an integer of 1 to 5.
제11항에 있어서,
투명 폴리아미드이미드 필름과 경화층 사이에 형성된, 실리콘산화물층을 더 포함하는 디스플레이 커버기판.
12. The method of claim 11,
And a silicon oxide layer formed between the transparent polyamideimide film and the cured layer.
제11항에 있어서,
상기 실리콘 산화물층은 폴리실라잔을 포함하는 용액을 코팅 및 건조한 후 상기 코팅된 폴리실라잔을 경화시켜 형성된 것인 디스플레이 커버기판.
12. The method of claim 11,
Wherein the silicon oxide layer is formed by coating and drying a solution comprising polysilazane and then curing the coated polysilazane.
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