KR20170099335A - Method of manufacturing light source apparatus - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a light source apparatus. The method comprises: a step of generating a first electrode including a conductive material with a two-dimensional crystal structure on a first substrate; a step of performing a surface treatment on the first electrode; a step of forming a display device layer on the first electrode; and a step of generating a second electrode on the display device layer. The surface treatment of the first electrode includes: a step of supplying a fluid to a clearance between the first substrate and the first electrode; and a step of evaporating the fluid in the clearance to bond the first substrate and the first electrode.

Description

광원 장치의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING LIGHT SOURCE APPARATUS}METHOD OF MANUFACTURING LIGHT SOURCE APPARATUS [0002]

본 발명은 광원 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게는 2차원 결정 구조의 전극을 갖는 광원 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a light source device, and more particularly, to a method of manufacturing a light source device having an electrode with a two-dimensional crystal structure.

현대 사회가 고도의 정보화 시대로 발전함에 따라서 디스플레이 산업의 중요성이 증대하고 있다. 현재 디스플레이 장치로 액정표시장치(LCD, liquid crystal display), 플라스마 디스플레이 패널(PDP, plasma display panel) 또는 유기전계발광디스플레이(OLED, organic light-emitting display) 등과 같은 평판디스플레이(FPD, flat panel display)가 사용되고 있다. 최근 플랙서블한 디스플레이 장치가 개발되거나, 디스플레이 장치가 대면적화, 경량화 또는 박형화 됨에 따라, 디스플레이 장치의 구조 개량이나 재료 개발 등이 이루어지고 있다.As the modern society develops into a highly information age, the importance of the display industry is increasing. Currently, display devices include flat panel displays (FPD) such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDP), and organic light-emitting displays (OLED) Is used. Recently, flexible display devices have been developed, and display devices have become larger, lighter, or thinner, thereby improving the structure of the display device and material development.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 기판과 전극 사이에 발생하는 결함을 줄일 수 있는 광원 장치의 제조 방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a light source device capable of reducing defects occurring between a substrate and an electrode.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상술한 기술적 과제들을 해결하기 위한 본 발명의 실시예들에 따른 광원 장치는 제 1 기판 상에 2차원 결정 구조를 갖는 전도성 물질을 포함하는 제 1 전극을 형성하는 것, 상기 제 1 전극을 표면 처리하는 것, 상기 제 1 전극 상에 표시 소자층을 형성하는 것, 및 상기 표시 소자층 상에 제 2 전극을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기 제 1 전극의 표면 처리는 상기 제 1 기판과 상기 제 1 전극 사이의 간극에 유체를 공급하는 것, 및 상기 간극 내의 유체를 증발시켜 상기 제 1 기판과 상기 제 1 전극을 합착하는 것을 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a light source device comprising: a first substrate including a first electrode including a conductive material having a two-dimensional crystal structure; Forming a display element layer on the first electrode, and forming a second electrode on the display element layer. Wherein the surface treatment of the first electrode includes supplying a fluid to a gap between the first substrate and the first electrode and vaporizing the fluid in the gap to adhere the first substrate and the first electrode .

본 발명의 실시예들에 따른 광원 장치의 제조 방법은 제 1 전극에 표면 처리 공정을 수행하여 제 1 기판과 제 1 전극 사이의 접착력이 향상될 수 있다. 이를 통해, 제 1 기판과 제 1 전극 사이에 형성되는 간극과 같은 결함이 없는 광원 장치를 제공할 수 있다.The method of manufacturing a light source device according to embodiments of the present invention may improve the adhesion between the first substrate and the first electrode by performing a surface treatment process on the first electrode. Accordingly, it is possible to provide a light source device free from defects such as a gap formed between the first substrate and the first electrode.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 광원 장치의 형성 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 4a 및 도 4b는 제 1 전극의 박리를 설명하기 위한 도면들이다.
도 5는 도 3의 A영역을 확대한 도면이다.
도 6a 및 도 6b는 비교예에 따른 제 1 전극의 SEM 사진들이다.
도 7a 및 도 7b는 실험예에 따른 제 1 전극의 SEM 사진들이다.1 to 3 are sectional views for explaining a method of forming a light source device of the present invention.
4A and 4B are views for explaining the peeling of the first electrode.
5 is an enlarged view of the area A in Fig.
6A and 6B are SEM photographs of the first electrode according to a comparative example.
7A and 7B are SEM photographs of the first electrode according to an experimental example.

본 발명의 구성 및 효과를 충분히 이해하기 위하여, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명한다. 그러나 본 발명은, 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라, 여러 가지 형태로 구현될 수 있고 다양한 변경을 가할 수 있다. 단지, 본 실시예들의 설명을 통해 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 당해 기술분야에서 통상의 기술을 가진 자는 본 발명의 개념이 어떤 적합한 환경에서 수행될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.In order to fully understand the structure and effects of the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. Those of ordinary skill in the art will understand that the concepts of the present invention may be practiced in any suitable environment. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 ‘포함한다(comprises)’ 및/또는 ‘포함하는(comprising)’은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. As used herein, the terms 'comprises' and / or 'comprising' mean that the stated element, step, operation and / or element does not imply the presence of one or more other elements, steps, operations and / Or additions.

본 명세서에서 어떤 면(또는 층)이 다른 면(또는 층) 또는 기판상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 면(또는 층) 또는 기판상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 면(또는 층)이 개재될 수도 있다.In the present specification, when it is mentioned that a surface (or layer) is on another surface (or layer) or substrate, it may be directly formed on the other surface (or layer) or substrate, or a third surface Or layer) may be interposed.

본 명세서의 다양한 실시예들에서 제 1, 제 2, 제 3 등의 용어가 다양한 영역, 면들(또는 층들) 등을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 영역, 면들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 소정 영역 또는 면(또는 층)을 다른 영역 또는 면(또는 층)과 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서, 어느 한 실시예에서의 제 1 면으로 언급된 면이 다른 실시예에서는 제 2 면으로 언급될 수도 있다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시예는 그것의 상보적인 실시예들도 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다. Although the terms first, second, third, etc. have been used in various embodiments herein to describe various regions, faces (or layers), etc., it is to be understood that these regions, Can not be done. These terms are only used to distinguish certain regions or faces (or layers) from other regions or faces (or layers). Thus, the face referred to as the first face in either embodiment may be referred to as the second face in other embodiments. Each embodiment described and exemplified herein also includes its complementary embodiments. Like numbers refer to like elements throughout the specification.

또한, 본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 식각 영역은 라운드지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.In addition, the embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional views and / or plan views, which are ideal illustrations of the present invention. In the drawings, the thicknesses of the films and regions are exaggerated for an effective description of the technical content. Thus, the shape of the illustrations may be modified by manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but also include changes in the shapes that are generated according to the manufacturing process. For example, the etched area shown at right angles may be rounded or may have a shape with a certain curvature. Thus, the regions illustrated in the figures have schematic attributes, and the shapes of the regions illustrated in the figures are intended to illustrate specific types of regions of the elements and are not intended to limit the scope of the invention.

본 발명의 실시예들에서 사용되는 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 통상적으로 알려진 의미로 해석될 수 있다.The terms used in the embodiments of the present invention may be construed as commonly known to those skilled in the art unless otherwise defined.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명함으로써 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 광원 장치의 형성 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 도 4a 및 도 4b는 제 1 전극의 박리를 설명하기 위한 도면들이다. 도 5는 도 3의 A영역을 확대한 도면이다.1 to 3 are sectional views for explaining a method of forming a light source device of the present invention. 4A and 4B are views for explaining the peeling of the first electrode. 5 is an enlarged view of the area A in Fig.

도 1을 참조하여, 제 1 기판(10)이 제공될 수 있다. 제 1 기판(10)은 글래스와 같은 투명 기판을 포함할 수 있다.Referring to Fig. 1, a first substrate 10 may be provided. The first substrate 10 may include a transparent substrate such as glass.

제 1 전극(20)이 제 1 기판(10) 상에 형성될 수 있다. 제 1 전극(20)은 2차원 결정 구조를 갖는 전도성 물질을 포함할 수 있다. 여기서, 2차원 결정구조는 구성 원자들 간의 결합이 2차원 평면 상에서만 형성되며, 구성 원자들이 원자층을 형성하는 물질들의 결정구조를 의미한다. 예를 들어, 2차원 결정 구조를 갖는 전도성 물질은 그래핀(Graphene)을 포함할 수 있다. 또는, 2차원 결정 구조를 갖는 전도성 물질은 이황화몰리브데넘(MoS2) 또는 황화텅스텐(WS2)을 포함할 수도 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 그래핀을 포함한 제 1 전극(20)을 기준으로 설명하기로 한다. 제 1 전극(20)은 그래핀을 제 1 기판(10) 상에 전사하여 형성될 수 있다. 상세하게는, 흑연 결정으로부터 박리되거나 별도로 성장된 그래핀이 제 1 기판(10) 상에 전사될 수 있다. 그래핀 결정 구조는 금속 촉매 상에 메탄과 수소 혼합가스의 화학 반응을 통해 형성될 수 있다. 여기서, 그래핀의 전사는 스탬프 방식 및 TRT(thermal release tape) 방식과 같은 건식전사 방식을 통해 수행될 수 있다.A first electrode 20 may be formed on the first substrate 10. The first electrode 20 may include a conductive material having a two-dimensional crystal structure. Here, a two-dimensional crystal structure refers to a crystal structure of materials in which constituent atoms form bonds only in a two-dimensional plane, and constituent atoms form an atomic layer. For example, a conductive material having a two-dimensional crystal structure may include Graphene. Alternatively, the conductive material having a two-dimensional crystal structure may include molybdenum disulfide (MoS2) or tungsten sulfide (WS2). Hereinafter, the first electrode 20 including the graphene will be described for convenience of explanation. The first electrode 20 may be formed by transferring the graphene onto the first substrate 10. In detail, graphene, which has been peeled off from the graphite crystal or is separately grown, can be transferred onto the first substrate 10. The graphene crystal structure can be formed through the chemical reaction of methane and hydrogen mixed gas on the metal catalyst. Here, the transfer of graphene can be performed through a dry transfer method such as a stamp method and a thermal release tape (TRT) method.

여기서, 제 1 전극(20)의 형성 공정에 따라 제 1 전극(20)에 결함이 발생할 수 있다. 예를 들어, 제 1 전극(20)이 단일 막의 그래핀을 포함하는 경우, 제 1 기판(10)과 제 1 전극(20) 사이에 간극(G)이 형성되거나, 제 1 전극(20)에 물리적 손상이 발생할 수 있다.Here, a defect may be generated in the first electrode 20 according to the process of forming the first electrode 20. For example, when the first electrode 20 includes a single film of graphene, a gap G may be formed between the first substrate 10 and the first electrode 20, or a gap G may be formed between the first electrode 20 and the first electrode 20. [ Physical damage may occur.

후술되는 표시 소자층(30)을 형성하기 전에, 제 1 전극(20) 상에 패터닝 공정 및 세정 공정이 더 수행될 수 있다. 상기 패터닝 공정에 의해 제 1 전극(20) 상에 발광 영역이 지정될 수 있다. 상기 세정 공정에 의해 제 1 전극(20) 상의 오염 물질이 제거될 수 있다. 상기 패턴 공정 및 세정 공정은 용액을 사용하여 진행될 수 있다. 이때, 상기 제 1 전극(20)에 발생되는 결함들은 상기 패터닝 공정 및 세정 공정 시, 제 1 전극(20)의 손상을 유발할 수 있다. 도 4a 및 도 4b를 참조하여, 제 1 기판(10)과 제 1 전극(20) 사이에 간극(G)이 존재할 경우, 제 1 전극(20)이 제 1 기판(10)으로부터 분리될 수 있다. 상세하게는, 상기 세정 공정 및 패터닝 공정 시, 간극(G)에 상기 공정들에 이용되는 용액(L)이 침습할 수 있다. 상기한 세정 공정 및 패터닝 공정이 계속됨에 따라 간극(G)에 상기 용액이 지속적으로 침습하게 되면, 상기 용액이 제 1 기판(10)과 제 1 전극(20)의 계면을 따라 침투 및 확산하여 제 1 전극(20)이 제 1 기판(10)으로부터 박리될 수 있다.A patterning process and a cleaning process may be further performed on the first electrode 20 before forming the display element layer 30 to be described later. The light emitting region may be designated on the first electrode 20 by the patterning process. The contaminants on the first electrode 20 can be removed by the cleaning process. The patterning and cleaning processes may be carried out using a solution. At this time, defects generated in the first electrode 20 may cause damage to the first electrode 20 during the patterning process and the cleaning process. 4A and 4B, when the gap G exists between the first substrate 10 and the first electrode 20, the first electrode 20 can be separated from the first substrate 10 . Specifically, during the cleaning process and the patterning process, the solution (L) used in the above processes can be invaded into the gap (G). When the solution is continuously infiltrated into the gap G as the cleaning process and the patterning process continue, the solution penetrates and diffuses along the interface between the first substrate 10 and the first electrode 20, The one electrode 20 can be peeled off from the first substrate 10. [

본 발명에 따른 광원 장치의 제조 방법은 제 1 전극(20) 상에 표면 처리 공정이 더 수행되어, 상기와 같은 간극(G)이 제거될 수 있다. 이하, 제 1 전극(20)의 표면 처리 공정을 상세하게 설명한다.In the method of manufacturing a light source device according to the present invention, a surface treatment process is further performed on the first electrode 20 so that the gap G as described above can be removed. Hereinafter, the surface treatment process of the first electrode 20 will be described in detail.

도 2 및 도 5를 참조하여, 제 1 전극(20) 상에 표면 처리 공정이 수행될 수 있다. 상세하게는, 제 1 전극(20)이 수분처리(water treating)될 수 있다. 수분처리 공정을 통해 제 1 전극(20)과 제 1 기판(10) 사이에 수분이 공급될 수 있다. 예를 들어, 수분처리 공정은 딥 코팅(dip coating) 공정, 스프레이(spray) 공정 또는 미스트(mist) 공정에 의해 수행될 수 있다. 또는, 수증기를 이용하여 제 1 전극(20)에 수분을 공급할 수도 있다. 수분처리 공정에 의해 제 1 기판(10)과 제 1 전극(20) 사이의 간극(G)에 수분(L)이 침습할 수 있다. 즉, 간극(G)이 수분(L)으로 채워질 수 있다. 이와는 다르게, 상기한 수분처리 공정은 물이 아닌 유체를 이용하여 수행될 수도 있다.Referring to Figs. 2 and 5, a surface treatment process may be performed on the first electrode 20. In detail, the first electrode 20 can be water treated. Moisture may be supplied between the first electrode 20 and the first substrate 10 through the moisture treatment process. For example, the water treatment process may be performed by a dip coating process, a spray process, or a mist process. Alternatively, moisture may be supplied to the first electrode 20 using water vapor. The water L can invade the gap G between the first substrate 10 and the first electrode 20 by the moisture treatment process. That is, the gap G can be filled with the water L. Alternatively, the above-described moisture treatment process may be performed using a fluid other than water.

제 1 전극(20)이 건조될 수 있다. 제 1 전극(20)의 건조 공정은 진공 분위기 하에서 수행될 수 있다. 상세하게는, 건조 공정은 1 Torr 내지 10E-7 Torr의 기압 하에서 20℃ 내지 900℃의 온도로 제 1 전극(20)을 열처리하여 수행될 수 있다. 상기 건조 공정으로 인해 간극(G)으로부터 수분(L)이 증발되어 제거될 수 있다. 이에 따라, 간극(G) 내부의 기압이 감소하게 되며, 간극(G)에 의해 이격된 제 1 기판(10)과 제 1 전극(20)의 일부가 합착될 수 있다. 즉, 상기 표면 처리를 통해 제 1 기판(10)과 제 1 전극(20) 사이의 간극(G)이 제거될 수 있다. 이에 따라, 제 1 전극(20)과 제 1 기판(10) 사이의 접착력(adhesion)이 증가할 수 있으며, 후술되는 공정에서 제 1 전극(20)이 박리되는 것을 방지할 수 있다. 상기와 같은 표면 처리 공정은 제 1 전극(20)뿐만 아니라 기판 상에 전사되어 형성되는 2차원 결정 구조의 박막에 동일하게 수행될 수 있다.The first electrode 20 can be dried. The drying process of the first electrode 20 may be performed in a vacuum atmosphere. In detail, the drying process can be performed by heat-treating the first electrode 20 at a temperature of 20 ° C to 900 ° C under a pressure of 1 Torr to 10E-7 Torr. The water L can be evaporated and removed from the gap G due to the drying process. Accordingly, the air pressure inside the gap G is reduced, and the first substrate 10 separated by the gap G and a part of the first electrode 20 can be joined together. That is, the gap G between the first substrate 10 and the first electrode 20 can be removed through the surface treatment. Accordingly, the adhesion between the first electrode 20 and the first substrate 10 can be increased, and the first electrode 20 can be prevented from peeling in a process to be described later. The surface treatment process as described above can be performed not only on the first electrode 20 but also on a thin film of a two-dimensional crystal structure formed by being transferred onto a substrate.

도 3을 참조하여, 제 1 전극(20) 상에 표시 소자층(30)이 형성될 수 있다. 표시 소자층(30)은 유기 박막 증착 공정으로 형성될 수 있다. 표시 소자층(30)은 통상적으로 사용하는 물질이라면 특별히 한정되지 않으나, 유기발광 물질, 액정 물질, 전기영동 물질 또는 전기변색 물질을 포함할 수 있다. 또한, 표시 소자층(30)은 호스트 및 도펀트를 포함할 수 있다. 표시 소자층(30)은 필요에 따라 정공 수송 영역 및 전자 수송 영역을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, a display element layer 30 may be formed on the first electrode 20. The display element layer 30 may be formed by an organic thin film deposition process. The display element layer 30 is not particularly limited as long as it is a commonly used material, but may include an organic light emitting material, a liquid crystal material, an electrophoretic material or an electrochromic material. Further, the display element layer 30 may include a host and a dopant. The display element layer 30 may further include a hole transporting region and an electron transporting region, if necessary.

표시 소자층(30) 상에 제 2 전극(40)이 형성될 수 있다. 제 2 전극(40)은 표시 소자층(30) 상에 투명 전도막을 형성한 후, 이를 패터닝하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 제 2 전극(40)은 박막 증착 공정으로 형성될 수 있다. 제 2 전극(40)은 투명 전도 산화물, 금속 박막 또는 전도성 고분자 물질을 포함할 수 있다. 제 1 전극(20) 및 제 2 전극(40) 중에서 어느 하나는 캐소드이고, 다른 하나는 애노드일 수 있다.And the second electrode 40 may be formed on the display element layer 30. [ The second electrode 40 may be formed by forming a transparent conductive film on the display element layer 30 and then patterning the transparent conductive film. For example, the second electrode 40 may be formed by a thin film deposition process. The second electrode 40 may include a transparent conductive oxide, a metal thin film, or a conductive polymer material. One of the first electrode 20 and the second electrode 40 may be a cathode and the other may be an anode.

제 2 전극(40) 상에 제 2 기판(50)이 형성될 수 있다. 제 2 기판(50)은 봉지층(encapsulation layer)일 수 있다. 이에 따라, 제 2 기판(50)은 제 1 전극(20), 표시 소자층(30) 및 제 2 전극(40)을 봉지(encapsulation)하여 제 1 기판(10) 상에 고정하고, 외부로부터 제 1 전극(20), 표시 소자층(30) 및 제 2 전극(40)을 보호할 수 있다.A second substrate 50 may be formed on the second electrode 40. The second substrate 50 may be an encapsulation layer. The second substrate 50 encapsulates the first electrode 20, the display element layer 30 and the second electrode 40 to be fixed on the first substrate 10, The first electrode 20, the display element layer 30, and the second electrode 40 can be protected.

이하, 본 발명의 실험예 및 비교예를 참조하여, 본 발명에 따라 표면 처리된 제 1 전극을 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, referring to Experimental Examples and Comparative Examples of the present invention, a first electrode surface-treated according to the present invention will be described.

제 11st 전극의 표면 처리 Surface treatment of electrode

[[ 실험예Experimental Example ]]

기판 상에 그래핀을 전사하여 제 1 전극을 형성하였다. 이후, 제 1 전극의 표면에 딥 코팅(dip coating) 공정을 통해 수분을 공급하며, 10E-4 Torr의 기압 및 200℃의 온도 분위기 하에서 건조 공정을 수행하였다.Graphene was transferred onto the substrate to form a first electrode. Then, the surface of the first electrode was supplied with moisture through a dip coating process, and the drying process was performed under a pressure of 10E-4 Torr and a temperature of 200 ° C.

[[ 비교예Comparative Example ]]

실험예와 동일하게 제 1 전극을 형성하되, 비교예의 경우 제 1 전극 상에 표면 처리 공정을 수행하지 않았다.The first electrode was formed in the same manner as in the experimental example, but the surface treatment was not performed on the first electrode in the comparative example.

제 11st 전극의  Electrode SEMSEM 사진 분석 Photo analysis

실험예 및 비교예에 따라 제조된 제 1 전극 상에 패턴 공정 및 세정 공정을 수행한 후, SEM을 이용하여 제 1 전극을 촬영하였다. 도 6a 및 도 6b는 비교예에 따른 제 1 전극의 SEM 사진들이다. 도 7a 및 도 7b는 실험예에 따른 제 1 전극의 SEM 사진들이다.The patterning and cleaning processes were performed on the first electrodes prepared according to the Experimental Examples and the Comparative Examples, and then the first electrodes were photographed using SEM. 6A and 6B are SEM photographs of the first electrode according to a comparative example. 7A and 7B are SEM photographs of the first electrode according to an experimental example.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 패터닝된 제 1 전극(20)과 제 1 기판(10) 사이의 경계면이 불규칙해진 것을 확인할 수 있다. 즉, 비교예의 그래핀은 표면 처리되지 않아, 후공정으로 수행되는 세정 공정에서 제 1 기판(10)으로부터 분리되거나, 일부가 손실되었다는 것을 알 수 있다.6A and 6B, it can be seen that the interface between the patterned first electrode 20 and the first substrate 10 is irregular. That is, it can be seen that the graphene of the comparative example is not surface-treated, and is separated from the first substrate 10 or partly lost in the cleaning step performed in the subsequent step.

도 7a 및 도 7b을 참조하면, 패터닝된 제 1 전극(20)과 제 1 기판(10) 사이의 경계면이 선명하게 보이는 것을 확인할 수 있다. 즉, 실험예의 그래핀은 표면 처리되어, 후공정으로 수행되는 세정 공정에서 분리되거나 손실되지 않는다는 것을 알 수 있다.Referring to FIGS. 7A and 7B, it can be seen that the interface between the patterned first electrode 20 and the first substrate 10 is clearly visible. That is, it can be seen that the graphene of the experimental example is surface-treated and not separated or lost in the cleaning process performed in the post-process.

이상, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

10: 제 1 기판 20: 제 1 전극
30: 표시 소자층 40: 제 2 전극
50: 제 2 기판
G: 간극 L: 수분10: first substrate 20: first electrode
30: display element layer 40: second electrode
50: second substrate
G: Clearance L: Moisture

Claims (1)

제 1 기판 상에 2차원 결정 구조를 갖는 전도성 물질을 포함하는 제 1 전극을 형성하는 것;
상기 제 1 전극을 표면 처리하는 것;
상기 제 1 전극 상에 표시 소자층을 형성하는 것; 및
상기 표시 소자층 상에 제 2 전극을 형성하는 것을 포함하되,
상기 제 1 전극의 표면 처리는:
상기 제 1 기판과 상기 제 1 전극 사이의 간극에 유체를 공급하는 것; 및
상기 간극 내의 유체를 증발시켜 상기 제 1 기판과 상기 제 1 전극을 합착하는 것을 포함하는 광원 장치의 제조 방법.Forming a first electrode comprising a conductive material having a two-dimensional crystal structure on a first substrate;
Surface-treating the first electrode;
Forming a display element layer on the first electrode; And
And forming a second electrode on the display element layer,
The surface treatment of the first electrode comprises:
Supplying a fluid to a gap between the first substrate and the first electrode; And
And evaporating the fluid in the gap to adhere the first substrate and the first electrode.
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