KR20170061348A - Bonding sheet and flexible printed circuit board - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하는 접착층;을 포함한, 인쇄 회로 기판용 본딩 시트와 상기 본딩 시트를 포함한 연성 금속 적층체가 제공될 수 있다. The present invention relates to a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer comprising 0.1 to 15% by weight of a dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof bonded thereto; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an adhesive layer comprising an acid anhydride-based compound; and a flexible metal laminate including the bonding sheet.

Description

본딩 시트 및 연성 인쇄 회로 기판{BONDING SHEET AND FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD}BONDING SHEET AND FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 본딩 시트 및 연성 인쇄 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to a bonding sheet and a flexible printed circuit board.

최근 전자 기기의 소형화와 고속화 및 다양한 기능들이 결합하는 추세에 맞춰서 전자 기기 내부에서의 신호 전달 속도 또는 전자 기기 외부와의 신호 전달 속도가 빨라지고 있는 실정이다. 이에 따라서, 기존의 절연체보다 유전율과 유전 손실 계수가 더욱 낮은 절연체를 이용한 인쇄 회로 기판이 필요해지고 있다. In recent years, signal transmission speed within the electronic device or signal transmission speed to the outside of the electronic device has been accelerating in accordance with the trend of miniaturization and high speed of electronic devices and the combination of various functions. Accordingly, a printed circuit board using an insulator having a dielectric constant and a dielectric loss coefficient lower than that of an existing insulator is required.

이전에 알려진 본딩 시트(bonding sheet) 및 커버레이(coverlay)의 경우, 접착성 에폭시 수지 조성물로 제조되는 것이 일반적인데, 에폭시 수지의 고유의 특성으로 인하여 유전율이 높아져서 최종 제품의 유전율과 유전 손실 계수를 낮추기 용이하지 않다. 또한, 상기 접착성 에폭시 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 카르복실기 말단의 부타디엔/아크릴로니트릴(CTBN) 등 엘라스토머 또한 높은 유전율과 유전 손실 계수를 갖기 때문에, 보다 미세화되고 고집적화되는 인쇄 회로 기판에 적용되기에 일정한 한계가 있었다.Previously known bonding sheets and coverlay are generally made of an adhesive epoxy resin composition. Due to the intrinsic properties of the epoxy resin, the dielectric constant increases and the dielectric constant and dielectric loss factor It is not easy to lower. Further, since the elastomer such as butadiene / acrylonitrile (CTBN) at the terminal of the carboxyl group generally used in the adhesive epoxy resin composition has a high dielectric constant and a dielectric loss coefficient, it can be applied to a printed circuit board which is finer and highly integrated, There was a limit.

또한, 인쇄 회로 기판의 집적도가 높아져서 홀(hole)과 홀(hole) 간의 간격이 좁아지고 인쇄 회로 기판의 구성층의 두께가 얇아지고 회로 간의 간격이 좁아짐에 따라서, CAF (Conductive Anodic Filament)에 의한 단락이 발생할 가능성이 높아지고 있는 실정이며, 고온 다습한 조건에 노출되는 다양한 장비에 연성 인쇄 회로 기판이 널리 적용됨에 따라서, CAF현상을 방지할 수 있는 기술 개발이 필요한 실정이다. Further, as the degree of integration of the printed circuit board is increased, the gap between the holes and the holes becomes narrower, the thickness of the constituent layers of the printed circuit board becomes thinner, and the intervals between the circuits become narrower, There is a possibility that a short circuit occurs and a flexible printed circuit board is widely applied to various equipments exposed to high temperature and high humidity conditions, so it is necessary to develop a technique to prevent CAF phenomenon.

그런데, 이전에 알려진 연성 인쇄 회로 기판용 접착제에 사용되던 CTBN계의 엘라스토머는 다량의 이온성 계면활성제를 사용하는 유화 중합 과정을 통하여 제조되는데, 여기에는 나트륨 또는 나트륨 이온의 함량이 1,000ppm에 달하여 CAF 현상에 의한 단락 발생 가능성을 보다 높이게 된다. However, the previously known CTBN-based elastomer used in the adhesive for flexible printed circuit boards is produced through an emulsion polymerization process using a large amount of ionic surfactant. The content of sodium or sodium ion is 1,000 ppm, The possibility of occurrence of a short circuit due to the phenomenon is further increased.

이에 따라, 고온 다습한 조건 등에서도 연성 인쇄 회로 기판의 작동 불량을 방지할 수 있으며, 연성 인쇄 회로 기판을 보다 미세화하고 고집적화할 수 있는 방법에 대한 개발이 필요한 실정이다.Accordingly, it is necessary to develop a method capable of preventing malfunction of the flexible printed circuit board even under high-temperature and high-humidity conditions and making the flexible printed circuit board finer and highly integrated.

본 발명은 낮은 유전율 및 낮은 유전 손실 계수를 가질 뿐만 아니라 연성 인쇄 회로 기판에 적용되어 금속 이온 전이를 최소화하고 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있는 본딩 시트를 제공하기 위한 것이다. The present invention provides a bonding sheet which has a low dielectric constant and a low dielectric loss coefficient and is applied to a flexible printed circuit board so as to minimize metal ion transition and prevent the occurrence of a short circuit by CAF even under high temperature and high humidity environments will be.

또한, 본 발명은 고온 및 고습 환경 하에 장시간 노출되어도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있으며, 높은 제품 신뢰성 및 낮은 유전율 및 낮은 유전 손실 계수를 가지며, 보다 고집적화된 연성 인쇄 회로 기판을 제공하기 위한 것이다. It is another object of the present invention to provide a flexible printed circuit board which can prevent the occurrence of a short circuit due to CAF even when exposed for a long time under a high temperature and high humidity environment and has a high product reliability, a low permittivity and a low dielectric loss coefficient, will be.

본 명세서에서는, 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하는 접착층;을 포함한, 인쇄 회로 기판용 본딩 시트가 제공된다. In the present specification, styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is bonded in an amount of 0.1 to 15 wt%; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an adhesive layer comprising an acid anhydride-based compound. The bonding sheet for a printed circuit board is provided.

또한, 본 명세서에서는, 상기 인쇄 회로 기판용 본딩 시트를 포함한 연성 인쇄 회로 기판이 제공될 수 있다.In this specification, a flexible printed circuit board including the bonding sheet for a printed circuit board may be provided.

또한, 본 명세서에서는, 제1연성 금속 적층체; 상기 제1연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이; 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하고, 상기 커버 레이 상에 형성되는 본딩 시트; 및 상기 본딩 시트 상에 형성되는 제2연성 금속 적층체;를 포함하는, 연성 인쇄 회로 기판이 제공된다. Further, in this specification, the first flexible metal laminate; A coverlay formed on the first flexible metal laminate; Styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is contained in an amount of 0.1 to 15% by weight; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an acid anhydride-based compound, the bonding sheet being formed on the coverlay; And a second flexible metal laminate formed on the bonding sheet.

이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 본딩 시트 및 연성 인쇄 회로 기판에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention; FIG.

상술한 바와 같이, 발명의 일 구현예에 따르면, 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하는 접착층;을 포함한, 인쇄 회로 기판용 본딩 시트가 제공될 수 있다. As described above, according to one embodiment of the present invention, a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having a dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof in an amount of from 0.1% by weight to 15% by weight bonded thereto; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an adhesive layer comprising an acid anhydride-based compound. The bonding sheet for a printed circuit board can be provided.

본 발명자들은, 에폭시 수지와 함께 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체, 상술한 산무수물계 화합물 및 상기 경화 촉매를 함께 사용하여 얻어지는 접착용 수지 조성물이 낮은 유전율 및 낮은 유전 손실 계수를 가질 뿐만 아니라 연성 인쇄 회로 기판에 적용되어 금속 이온 전이를 최소화하고 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을 완성하였다. The present inventors have found that a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which 0.1 to 15% by weight of a dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is combined with an epoxy resin, the aforementioned acid anhydride- Can be applied not only to a low dielectric constant and a low dielectric loss coefficient but also to a flexible printed circuit board to minimize metal ion transition and to prevent the occurrence of a short circuit due to CAF even in a high temperature and high humidity environment Through experiments, we confirmed and completed the invention.

구체적으로, 상기 접착층은 상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체를 포함하여, 연성 인쇄 회로 기판에 적용되어 금속 이온 전이를 최소화하고 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있다. Specifically, the adhesive layer includes a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer containing 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof bonded to the flexible printed circuit board, It is possible to minimize the occurrence of a short circuit due to the CAF even in a high temperature and high humidity environment.

이전에 알려진 연성 회로 기판용 접착제에 사용되던 CTBN계의 엘라스토머를 포함한 접착층을 사용하는 경우 나트륨 또는 나트륨 이온 농도가 과다하여 CAF 현상에 의한 단락 발생 가능성이 높은데 반하여, 상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체를 포함한 접착층은 나트륨 또는 나트륨 이온을 극미량으로 포함하거나 실질적으로 포함하지 않기 때문에, 연성 인쇄 회로 기판에 적용되어 금속 이온 전이를 최소화할 수 있으며 또한 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있다. 구체적으로, 상기 접착층 중 나트륨 또는 나트륨 이온의 함량은 100ppmw이하, 또는 10ppmw이하일 수 있으며, 상기 접착층 중 나트륨 또는 나트륨 이온은 실질적으로 존재하지 않을 수 있다. When an adhesive layer containing a CTBN-based elastomer used in a previously known adhesive for a flexible circuit board is used, the sodium or sodium ion concentration is excessively high, and thus a short circuit is likely to occur due to the CAF phenomenon. On the other hand, the dicarboxylic acid or its acid anhydride The adhesive layer containing the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in an amount of 0.1 wt% to 15 wt% combined with the adhesive layer contains or does not substantially contain sodium or sodium ions, And it is also possible to prevent the occurrence of a short circuit due to the CAF even in a high temperature and high humidity environment. Specifically, the content of sodium or sodium ions in the adhesive layer may be 100 ppmw or less, or 10 ppmw or less, and the sodium or sodium ion in the adhesive layer may be substantially absent.

또한, 상기 인쇄 회로 기판용 본딩 시트에 포함되는 접착층에는 염소 또는 염소 이온 농도 또한 이전에 알려진 본딩 시트에 비하여 상당히 낮으며, 이에 따라 금속 이온 전이를 최소화할 수 있으며 또한 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있다. 구체적으로 이전에 알려진 본딩 시트의 경우 약 600 ppmw 내외의 염소 이온 함량을 나타내는데 반하여, 상기 인쇄 회로 기판용 본딩 시트에 포함되는 접착층 중 염소 이온 함량은 150ppmw이하, 또는 120 ppmw이하일 수 있다. In addition, the adhesive layer included in the bonding sheet for a printed circuit board has a chlorine or chlorine ion concentration lower than that of a previously known bonding sheet, thereby minimizing the metal ion transition, and also permitting the CAF It is possible to prevent the occurrence of a short circuit due to the short circuit. Specifically, the previously known bonding sheet shows a chlorine ion content of about 600 ppmw, while the chlorine ion content in the adhesive layer included in the bonding sheet for a printed circuit board may be 150 ppmw or less, or 120 ppmw or less.

상기 접착층은 건조 상태 및 5 GHz 에서 2.8이하, 또는 2.2 내지 2.8의 유전율(Dk)을 가질 수 있다. 또한, 상기 접착층은 건조 상태 및 5 GHz 에서 0.010이하, 또는 0.010 내지 0.001의 유전 손실 계수(Df)을 가질 수 있다. The adhesive layer may have a dielectric constant (Dk) of 2.8 or less, or 2.2 to 2.8 at 5 GHz in a dry state. The adhesive layer may also have a dielectric loss factor (Df) of 0.010 or less, or 0.010 to 0.001 at 5 GHz in a dry state.

상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물은 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체의 말단에 0.1중량% 내지 15중량%, 또는 0.2중량% 내지 10 중량%의 함량으로 치환되거나 공중합체의 주쇄에 0.1중량% 내지 15중량%, 또는 0.2중량% 내지 10중량% 의 함량으로 그라프트될 수 있다. The dicarboxylic acid or its acid anhydride may be added to the end of the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in an amount of 0.1 wt% to 15 wt%, or 0.2 wt% to 10 wt% 0.1% by weight to 15% by weight, or 0.2% by weight to 10% by weight.

상기 디카르복실산은 말레인산, 프탈산, 이타콘산, 씨트라콘산, 알케닐숙신산, 씨스-1,2,3,6 테트라하이드로프탈산 및 4-메틸-1,2,3,6 테트라하이드로프탈산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. Wherein the dicarboxylic acid is selected from the group consisting of maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, alkenylsuccinic acid, cis-1,2,3,6 tetrahydrophthalic acid and 4-methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid And the like.

상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체는 30,000 내지 800,000의 중량평균분자량, 바람직하게는 20,000 내지 200,000의 중량평균분자량을 가질 수 있다. The styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or its acid anhydride bonded thereto has a weight average molecular weight of 30,000 to 800,000, preferably 20,000 to 200,000, .

상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체는 스티렌 유래 반복 단위 5 내지 50중량% 포함할 수 있다. 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 중 스티렌 유래 반복 단위의 함량이 너무 작으면, 상기 접착층의 내열성이 크게 저하될 수 있으며 유전율 및 유전 손실 계수를 낮추거나 인쇄 회로 기판에서의 금속 이온 전이를 최소화하는 효과를 충분히 확보하기 어렵다. 또한, 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 중 스티렌 유래 반복 단위의 함량이 너무 높으면, 상기 접착층에 에폭시 수지와의 상용성이 저하될 수 있다. The styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is combined may contain 5 to 50% by weight of styrene-derived repeating units. If the content of styrene-derived repeating units in the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer is too small, the heat resistance of the adhesive layer may be significantly lowered, and the dielectric constant and dielectric loss coefficient may be lowered, It is difficult to sufficiently secure the effect of minimizing the size of the image. If the content of styrene-derived repeating units in the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer is too high, compatibility with the epoxy resin may be lowered in the adhesive layer.

상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체는 상기 접착층의 고형분(유기 용매, 물 또는 수용성 용매 성분을 제외한 나머지 성분) 중 30중량% 내지 80중량% 또는 25중량% 내지 75중량%일 수 있다. The styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is bonded in an amount of 0.1 to 15% by weight is added to the adhesive layer in a proportion of 30 By weight to 80% by weight or from 25% by weight to 75% by weight.

한편, 상기 접착층은 상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 100중량부에 대하여, 에폭시 수지 10 내지 80 중량부 또는 20 내지 60중량부를 포함할 수 있다. On the other hand, the adhesive layer may contain 10 to 80 parts by weight or 20 to 80 parts by weight of an epoxy resin, based on 100 parts by weight of the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer with 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or its acid anhydride. 60 parts by weight.

상기 에폭시 수지는 상기 접착층이 높은 내열성 및 기계적 물성을 가질 수 있도록 한다. 그리고, 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 100중량부에 대하여, 상기 에폭시 수지 10 내지 80 중량부, 또는 20 내지 60중량부를 포함함에 따라서, 상기 접착층이 보다 낮은 유전율 및 유전 손실 계수를 가질 수 있다. The epoxy resin enables the adhesive layer to have high heat resistance and mechanical properties. The adhesive layer includes 10 to 80 parts by weight or 20 to 60 parts by weight of the epoxy resin with respect to 100 parts by weight of the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, and the adhesive layer has a lower dielectric constant and dielectric loss factor .

상기 접착층 중 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 대비 상기 에폭시 수지의 함량이 너무 크면, 상기 접착층이 높은 유전율 및 유전 손실 계수를 가질 수 있고 실제 사용시 수지 유동(resin flow)가 과도하게 커질 수 있다. 또한, 상기 접착층 중 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 대비 상기 에폭시 수지의 함량이 너무 작으면, 상기 접착층이 갖는 내열성이나 기계적 물성이 저하될 수 있으며 접착력 자체가 저하될 수 있다. If the content of the epoxy resin in the adhesive layer is too high as compared with the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, the adhesive layer may have a high dielectric constant and dielectric loss factor, and resin flow may become excessively large have. If the content of the epoxy resin in the adhesive layer is too small as compared with the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer, the heat resistance and mechanical properties of the adhesive layer may be deteriorated and the adhesive strength itself may decrease.

상기 에폭시 수지는 비페닐 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀A형 에폭시 수지 및 디시클로펜타디엔 페놀 부가반응형 에폭시 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으며, 상기 에폭시 수지의 바람직한 예로는 비페닐 노볼락 에폭시 수지 또는 디시클로펜타디엔 페놀 부가반응형 에폭시 수지를 들 수 있다. The epoxy resin may include at least one selected from the group consisting of biphenyl novolak epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin and dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin. Preferred examples of the epoxy resin include biphenyl Novolac epoxy resin or dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin.

상기 접착층의 내열성을 높이면서 유전율 및 유전 손실 계수를 낮추기 위해서 200 g/eq 내지 500 g/eq의 에폭시 당량을 갖는 것이 바람직하다.It is preferable to have an epoxy equivalent of 200 g / eq to 500 g / eq in order to increase the heat resistance of the adhesive layer while lowering the dielectric constant and the dielectric loss coefficient.

한편, 상기 산무수물은 스티렌-말레산 무수물 공중합체, 메틸테트라하이드로 무수프탈산, 무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산(Hexahydrophthalic Anhydride), 테트라하이드로 무수프탈산, 메틸헥사하이드로 무수프탈산(Methylhexahydrophthalic Anhydride), 메틸히믹 무수물(Methyl Himic Anhydride), 나딕메틸 무수물(NADIC Methyl Anhydride), 나딕 무수물(NADIC Anhydride) 및 도데세닐 무수호박산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다. On the other hand, the acid anhydride may be selected from the group consisting of styrene-maleic anhydride copolymer, methyltetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, At least one compound selected from the group consisting of Methyl Himic Anhydride, NADIC Methyl Anhydride, NADIC Anhydride and Dodecenyl Anhydride.

이러한 산무수물계 화합물은 상기 접착층의 유전율을 낮춰주면서도 높은 접착력 및 내열성을 확보하게 할 수 있고, 또한 상기 접착층이 반경화 상태의 접착 필름 상태로 존재하는 경우에 높은 저장 안정성을 확보하게 한다. These acid anhydride-based compounds can ensure a high adhesive strength and heat resistance while lowering the dielectric constant of the adhesive layer, and ensure high storage stability when the adhesive layer is present in a semi-cured state.

통상적으로 알려진 다른 경화제, 경화 촉진제, 또는 경화 촉매 등이 상기 접착층의 유전율 및 유전 손실 계수를 크게 높이는데 반하여, 상술한 특정의 산무수물계 화합물은 상술한 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 및 에폭시 수지와 함께 사용되어, 상기 접착층의 유전율을 건조 상태 및 5 GHz 에서 2.8이하가 되도록 하며, 유전 손실 계수(Df)를 건조 상태 및 5 GHz 에서 0.010이하가 될 수 있도록 한다.Other known curing agents, curing accelerators, curing catalysts or the like greatly increase the permittivity and dielectric loss coefficient of the adhesive layer, while the above-mentioned specific acid anhydride-based compounds are used as the styrene-ethylene-butylene- Epoxy resin so that the dielectric constant of the adhesive layer is 2.8 or less at 5 GHz in the dry state and the dielectric loss factor (Df) can be 0.010 or less at 5 GHz in the dry state.

상기 산무수물계 화합물 중 스티렌-말레산 무수물 공중합체로는 1,000 내지 50,000, 또는 5,000 내지 25,000의 중량평균분자량을 갖는 스티렌-말레산 무수물 공중합체를 사용할 수 있다. As the styrene-maleic anhydride copolymer in the acid anhydride-based compound, a styrene-maleic anhydride copolymer having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000, or 5,000 to 25,000 may be used.

또한, 상기 스티렌-말레산 무수물 공중합체는 스티렌 유래 반복 단위 50중량% 내지 95중량%, 또는 60중량% 내지 90중량%를 포함할 수 있다. The styrene-maleic anhydride copolymer may contain 50 to 95% by weight, or 60 to 90% by weight, of styrene-derived repeating units.

상기 접착용 수지 조성물은 상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 100중량부에 대하여 상기 산무수물계 화합물 10 내지 80 중량부, 또는 20 내지 60중량부를 포함할 수 있다. The adhesive resin composition preferably comprises 10 to 80 parts by weight of the acid anhydride compound per 100 parts by weight of the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is contained in an amount of 0.1 to 15 wt% , Or 20 to 60 parts by weight.

상기 접착층 중 상기 산무수물계 화합물의 함량이 너무 작으면 상기 접착층의 도막 특성이나 내열성 및 기계적 물성이 충분하지 않을 수 있으며, 상기 접착층의 유전율 및 유전 손실 계수를 충분히 낮추기 어려울 수 있다. 또한, 상기 접착층 중 상기 산무수물계 화합물의 함량이 너무 높으면, 흡습성이 높아지고 내열성이 저하될 수 있으며 상기 접착층의 유전율 및 유전 손실 계수가 높아질 수 있다. If the content of the acid anhydride compound in the adhesive layer is too small, the film properties, heat resistance and mechanical properties of the adhesive layer may be insufficient and it may be difficult to sufficiently lower the dielectric constant and dielectric loss coefficient of the adhesive layer. If the content of the acid anhydride compound in the adhesive layer is too high, hygroscopicity may be increased, heat resistance may be lowered, and the dielectric constant and dielectric loss coefficient of the adhesive layer may be increased.

구체적으로, 상기 산무수물계 화합물 대비 상기 에폭시 수지의 중량비는 2.0 내지 0.05, 또는 1.5 내지 0.10, 1.0 내지 0.12 또는 0.75 내지 0.15일 수 있다. 상기 산무수물계 화합물 대비 상기 에폭시 수지의 중량비는 상기 산무수물계 화합물의 고형분 및 상기 에폭시 수지의 고형분의 중량비이다. 상기 산무수물계 화합물 대비 상기 에폭시 수지의 중량이 너무 높으면, 상기 접착층의 유전율 및 유전 손실 계수를 충분히 낮추기 어려울 수 있고 수지 유동(resin flow)가 과도하게 높아질 수 있다. 또한, 상기 산무수물계 화합물 대비 상기 에폭시 수지의 중량이 너무 낮으면, 상기 접착층의 접착력이나 내열성 및 내화학성이 저하될 수 있다. Specifically, the weight ratio of the epoxy resin to the acid anhydride compound may be 2.0 to 0.05, or 1.5 to 0.10, 1.0 to 0.12, or 0.75 to 0.15. The weight ratio of the epoxy resin to the acid anhydride compound is a weight ratio of the solid content of the acid anhydride compound and the solid content of the epoxy resin. If the weight of the epoxy resin relative to the acid anhydride compound is too high, it may be difficult to sufficiently lower the dielectric constant and dielectric loss coefficient of the adhesive layer and the resin flow may become excessively high. If the weight of the epoxy resin is too low as compared with the acid anhydride compound, the adhesive strength, heat resistance and chemical resistance of the adhesive layer may be lowered.

상기 접착층은 통상적으로 알려진 경화 촉매, 예를 들어 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매를 포함할 수 있다. The adhesive layer may comprise a curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of conventionally known curing catalysts, for example imidazole compounds, imine compounds and amine compounds.

구체적으로, 상기 접착층은 상술한 성분을 포함한 코팅 조성물로부터 형성될 수 있으며, 상기 접착층을 형성하는 코팅 조성물은 상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 100중량부에 대하여 상기 경화 촉매 0.05 내지 5중량부, 0.1 내지 2중량부를 포함할 수 있다. Specifically, the adhesive layer may be formed from a coating composition containing the above-mentioned components, and the coating composition forming the adhesive layer may contain 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof combined with styrene-ethylene- 0.05 to 5 parts by weight, and 0.1 to 2 parts by weight of the curing catalyst may be added to 100 parts by weight of the butylene-styrene copolymer.

상기 접착층을 형성하는 코팅 조성물은 상술한 접착층에 포함되는 성분에 추가하여 유기 용매를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 접착층을 형성하는 코팅 조성물은 상기 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 100중량부에 대하여 유기 용매 50 내지 1,000 중량부를 더 포함할 수 있다. The coating composition for forming the adhesive layer may further include an organic solvent in addition to the components contained in the adhesive layer described above. Specifically, the coating composition for forming the adhesive layer may further include 50 to 1,000 parts by weight of an organic solvent per 100 parts by weight of the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer.

상기 유기 용매는 상기 접착층을 형성하는 코팅 조성물의 점도를 조절하여 접착층의 제조가 용이하도록 한다. 상기 유기 용매는 상기 접착층을 형성하는 코팅 조성물의 구체적인 성분 및 점도 등을 고려하여 사용할 수 있으며, 예를 들어 톨루엔, 자일렌, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 벤젠, 아세톤, 메틸에틸케톤, 테트라히드로 퓨란, 디메틸포름알데히드, 시클로헥사논, 메틸셀로솔브, 메탄올, 에탄올 등을 사용할 수 있다.The organic solvent adjusts the viscosity of the coating composition forming the adhesive layer to facilitate the production of the adhesive layer. The organic solvent may be used in consideration of specific components and viscosity of the coating composition forming the adhesive layer, and examples thereof include toluene, xylene, propylene glycol monomethyl ether acetate, benzene, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran , Dimethylformaldehyde, cyclohexanone, methyl cellosolve, methanol, ethanol and the like can be used.

상기 접착층을 형성하는 코팅 조성물은 상술한 성분 이외에 통상적으로 알려진 첨가제, 예를 들어 난연제나 필러 등을 포함할 수 있다. 상기 난연제로는 통상적으로 사용되는 난연제를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어 이온성 인계 난연제인 OP-935(Clarian 사) 또는 비이온성 인계 난연제인 FP 시리즈(Fushimi 사) 등을 사용할 수 있다. 상기 필러로는 실리카 등의 무기 입자를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있으며 예를 들어 SFP-30M 또는 SFP-30MHE(DENKA 사) 등을 사용할 수 있으며, 폴리프로필렌옥사이드 등의 유기 필러를 사용할 수도 있으며, 유기-무기 복합의 필러를 사용할 수도 있다. The coating composition for forming the adhesive layer may contain other commonly known additives such as flame retardants or fillers in addition to the above-mentioned components. Examples of the flame retardant include OP-935 (Clarian), an ionic phosphorus flame retardant, and FP series (Fushimi), a non-ionic phosphorus flame retardant. . As the filler, inorganic particles such as silica can be used without limitation, and for example, SFP-30M or SFP-30MHE (DENKA) can be used, and organic fillers such as polypropylene oxide can be used. - inorganic filler may be used.

상기 접착층의 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 적용되는 인쇄 회로 기판 또는 연성 인쇄 회로 기판의 종류나 구조에 따라서 적절히 조절될 수 있으며, 예를 들어, 상기 접착층은 1 ㎛ 내지 100 ㎛의 두께를 가질 수 있다. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited and may be appropriately adjusted according to the type and structure of the printed circuit board or the flexible printed circuit board to be applied. For example, the adhesive layer may have a thickness of 1 to 100 [ have.

상기 본딩 시트는 상술한 접착층과 더불어, 상기 접착층의 일면에 형성된 캐리어 필름을 더 포함할 수 있다. 상기 캐리어 필름의 구체적인 종류는 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 폴리에스테르류 필름, 폴리에틸렌류 필름, 폴리프로필렌류 필름, 또는 폴리에틸렌나프탈레이트류 필름 등을 사용할 수 있으며, 구체적으로 PET 필름을 사용할 수 있다. 상기 캐리어 필름의 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 10 ㎛ 내지 100 ㎛의 두께를 가질 수 있다.The bonding sheet may further include a carrier film formed on one surface of the adhesive layer together with the adhesive layer. The specific kind of the carrier film is not limited, and for example, a polyester film, a polyethylene film, a polypropylene film, or a polyethylene naphthalate film can be used. Specifically, a PET film can be used. The thickness of the carrier film is not limited to a great extent and may have a thickness of, for example, 10 mu m to 100 mu m.

또한, 상기 본딩 시트는 상기 접착층의 일면에 형성된 이형지 또는 이형 필름을 더 포함할 수 있다. 상기 이형지 또는 이형 필름의 구체적인 종류는 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 폴리에틸렌이 일면에 코팅된 이형지, 일면에는 폴리에틸렌이 코팅되고 다른 일면에는 폴리프로필렌이 코팅된 이형지, 양면에 폴리프로필렌이 코팅된 이형지, 폴리에스테르류 고분자 필름, 폴리에틸렌류 고분자 필름, 폴리프로필렌류 고분자 필름을 사용할 수 있다. 또한, 상기 이형지 또는 이형 필름의 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 이형지의 두께는 50 ㎛ 내지 200 ㎛일 수 있으며, 이형필름의 두께는 5 ㎛ 내지 100 ㎛일 수 있다. The bonding sheet may further include a releasing film or release film formed on one side of the adhesive layer. The releasing paper or release film is not limited to a specific type. For example, a releasing paper coated with polyethylene on one side, a releasing paper coated with polyethylene on one side and polypropylene on the other side, a releasing paper coated with polypropylene on both sides, Polyester-based polymer films, polyethylene-based polymer films, and polypropylene-based polymer films. The thickness of the release paper or the release film is not limited to a great extent. For example, the thickness of the release paper may be 50 to 200 m, and the thickness of the release film may be 5 to 100 m.

한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 제1연성 금속 적층체; 상기 제1연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이; 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하고, 상기 커버 레이 상에 형성되는 본딩 시트; 및 상기 본딩 시트 상에 형성되는 제2연성 금속 적층체;를 포함하는, 연성 인쇄 회로 기판이 제공될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a first flexible metal laminate; A coverlay formed on the first flexible metal laminate; Styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is contained in an amount of 0.1 to 15% by weight; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an acid anhydride-based compound, the bonding sheet being formed on the coverlay; And a second flexible metal laminate formed on the bonding sheet.

본 발명자들은, 상술한 특정 조성의 본딩 시트를 연성 인쇄 회로 기판에 적용하면, 보다 낮은 유전율 및 낮은 유전 손실 계수를 확보하면서 신호 전송 손실을 낮출 수 있고 고온 및 고습 환경 하에 장시간 노출되어도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지하여 보다 고집적화된 연성 회로 기판을 제공할 수 있다는 점을 실험을 통하여 확인하고 발명을 완성하였다. The inventors of the present invention have found that when the bonding sheet of the specific composition described above is applied to a flexible printed circuit board, the signal transmission loss can be lowered while securing a lower permittivity and a low dielectric loss coefficient, and a short circuit caused by CAF It is possible to provide a more highly integrated flexible circuit board by confirming through experiments that the invention has been completed.

상술한 바와 같이, 상기 본딩 시트는 상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체를 포함하여, 연성 인쇄 회로 기판에 적용되어 금속 이온 전이를 최소화하고 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있다. As described above, the bonding sheet includes a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer containing 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof bonded to the flexible printed circuit board, Ion transition can be minimized and the occurrence of a short circuit due to CAF can be prevented even under a high temperature and high humidity environment.

상기 본딩 시트에 관한 보다 구체적인 내용은 상술한 발명의 일 구현예의 본딩 시트 및 이에 포함되는 접착층에 관한 내용을 모두 포함한다. More specifically, the bonding sheet includes all of the bonding sheet of one embodiment of the invention described above and the adhesive layer included therein.

상기 본딩 시트를 포함한 연성 인쇄 회로 기판은 전압이 가해졌을 때 금속 이온 전이를 최소화할 수 있으며 또한 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있다. 구체적으로, 상기 연성 인쇄 회로 기판에 대하여 85℃ 및 85%RH에서 50V의 전압이 가해졌을 때 1,000 시간 이내에 CAF (Conductive Anodic Filament)에 의한 단락이 발생하지 않을 수 있다. The flexible printed circuit board including the bonding sheet can minimize the metal ion transition when a voltage is applied, and can prevent a short circuit due to CAF even under high temperature and high humidity environments. Specifically, when a voltage of 50 V is applied to the flexible printed circuit board at 85 ° C and 85% RH, a short circuit due to CAF (Conductive Anodic Filament) may not occur within 1,000 hours.

상기 제1연성 금속 적층체 및 상기 제2연성 금속 적층체는 각각 폴리이미드 수지층 및 상기 폴리이미드 수지층의 적어도 1면에 형성된 금속 박막을 포함할 수 있다. The first soft metal laminate and the second soft metal laminate may each include a polyimide resin layer and a metal thin film formed on at least one surface of the polyimide resin layer.

상기 제1연성 금속 적층체는 상기 폴리이미드 수지층의 일면 또는 양면에 형성된 금속 박막이 형성된 구조일 수 있으며, 상기 금속 박막 상에는 상기 커버레이가 결합 또는 적층될 수 있다. 또한, 상기 금속 박막의 표면은 소정의 공정을 통하여 signal 회로 등이 형성될 수 있다. The first flexible metal laminate may have a structure in which a metal thin film formed on one or both sides of the polyimide resin layer is formed, and the coverlay may be bonded or laminated on the metal thin film. Also, a signal circuit or the like may be formed on the surface of the metal thin film through a predetermined process.

상기 폴리이미드 수지 필름에 포함되는 폴리이미드 수지는 3,000 내지 600,000, 또는 50,000 내지 300,000의 중량평균분자량을 가질 수 있다. 상기 폴리이미드 수지의 중량평균분자량이 너무 작으면 연성 금속 적층체 등으로 적용시 요구되는 기계적 물성 등을 충분히 확보할 수 없다. 또한, 상기 폴리이미드 수지의 중량평균분자량이 너무 크면, 상기 폴리이미드 수지 필름의 탄성도가 저하될 수 있다.The polyimide resin contained in the polyimide resin film may have a weight average molecular weight of 3,000 to 600,000, or 50,000 to 300,000. If the weight average molecular weight of the polyimide resin is too small, it is impossible to sufficiently secure the mechanical properties required in the application of the flexible metal laminate or the like. In addition, if the weight average molecular weight of the polyimide resin is too large, the elasticity of the polyimide resin film may be lowered.

상기 폴리이미드 수지 필름은 1㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다. The polyimide resin film may have a thickness of 1 占 퐉 to 100 占 퐉.

상기 폴리이미드 수지 필름은 폴리이미드 수지와 함께 불소계 수지 5 내지 75중량%를 추가로 더 함유할 수 있다. The polyimide resin film may further contain 5 to 75% by weight of a fluororesin together with the polyimide resin.

상기 불소계 수지의 예로는 폴리테트라 플루오로에틸렌(PTFE), 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체(PFA), 테트라플루오르에틸렌-헥사플루오르프로필렌 공중합체(FEP), 에틸렌-테트라플루오로에틸렌 코폴리머 수지(ETFE), 테트라플루오로에틸렌- 클로로트리플루오로에틸렌 공중합체(TFE/CTFE), 에틸렌-클로로트리플루오로에틸렌 수지(ECTFE), 이들의 2종 이상의 혼합물, 또는 이들의 2종 이상의 공중합체를 들 수 있다. 상기 불소계 수지는 0.05 ㎛ 내지 20㎛, 또는 0.1㎛ 내지 10㎛ 의 최장 직경을 갖는 입자를 포함할 수 있다.Examples of the fluororesin include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), ethylene-tetrafluoro (ETFE), tetrafluoroethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (TFE / CTFE), ethylene-chlorotrifluoroethylene resin (ECTFE), a mixture of two or more thereof, And the like. The fluororesin may include particles having a longest diameter of 0.05 mu m to 20 mu m, or 0.1 mu m to 10 mu m.

상기 금속 박막은 1㎛ 내지 50㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 금속 박막은 구리, 철, 니켈, 티타늄, 알루미늄, 은, 금 및 이들의 2종 이상의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. The metal thin film may have a thickness of 1 占 퐉 to 50 占 퐉. The metal thin film may include at least one selected from the group consisting of copper, iron, nickel, titanium, aluminum, silver, gold, and alloys of two or more thereof.

상기 연성 금속 적층체는 건조 상태 및 5 GHz 에서 2.2 내지 2.8의 유전율(Dk)을 가질 수 있다. 또한, 상기 연성 금속 적층체는 건조 상태 및 5 GHz 에서 0.010이하의 유전 손실 계수(Df)를 가질 수 있다. The flexible metal laminate may have a dielectric constant (Dk) in the dry state and 2.2 to 2.8 at 5 GHz. In addition, the soft metal laminate may have a dielectric loss factor (Df) of 0.010 or less at 5 GHz in a dry state.

한편, 상기 커버 레이는 상기 제1연성 금속 적층체에 접하는 접착층; 및 상기 접착층 상에 형성된 폴리이미드 수지 필름을 포함할 수 있다. On the other hand, the coverlay includes an adhesive layer in contact with the first flexible metal laminate; And a polyimide resin film formed on the adhesive layer.

상기 커버 레이의 접착층은 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함할 수 있다. Wherein the adhesive layer of the coverlay is a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which 0.1 to 15% by weight of dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is bonded; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And acid anhydride-based compounds.

상기 폴리이미드 수지 필름의 열팽창계수는 금속 박막, 예를 들어 동박과 유사한 15 ppm/K 내지 20 ppm/K, 또는 16 ppm/K 내지 18 ppm/K일 수 있다. The coefficient of thermal expansion of the polyimide resin film may be from 15 ppm / K to 20 ppm / K, or from 16 ppm / K to 18 ppm / K, which is similar to a metal thin film, for example, a copper foil.

상기 커버 레이의 접착층은 1㎛ 내지 200㎛, 또는 5㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있고, 상기 커버 레이의 폴리이미드 수지 필름은 1㎛ 내지 200㎛ 또는 5㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다. The adhesive layer of the coverlay may have a thickness of 1 탆 to 200 탆, or 5 탆 to 100 탆, and the polyimide resin film of the coverlay may have a thickness of 1 탆 to 200 탆 or 5 탆 to 100 탆 have.

상기 연성 인쇄 회로 기판은 상기 본딩 시트 상에 형성되는 제2연성 금속 적층체을 포함하며, 상기 제2연성 금속 적층체는 상기 본딩 시트를 매개로 상기 제1연성 금속 적층체에 형성된 커버레와 결합될 수 있다. The flexible printed circuit board includes a second flexible metal laminate formed on the bonding sheet, and the second flexible metal laminate is joined to the cover strip formed on the first flexible metal laminate via the bonding sheet .

상기 연성 인쇄 회로 기판은 상기 제1연성 금속 적층체 및 상기 제2연성 금속 적층체에 추가하여 복수의 연성 금속 적층체를 더 포함할 수 있다. 이러한 경우, 각각의 연성 금속 적층체의 표면에는 커버 레이가 형성될 수 있으며, 상기 커버 레이 상에 상술한 본딩 시트와 동일한 조성을 갖는 추가적인 본딩 시트가 형성되고, 이러한 본딩 시트를 매개로 이웃하는 연성 금속 적층체가 결합될 수 있다. The flexible printed circuit board may further include a plurality of soft metal laminates in addition to the first soft metal laminator and the second soft metal laminator. In such a case, a coverlay may be formed on the surface of each flexible metal laminate, and an additional bonding sheet having the same composition as that of the bonding sheet described above is formed on the coverlay. Through this bonding sheet, The laminate can be bonded.

예를 들어, 상기 연성 인쇄 회로 기판은 상기 제2연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이; 상기 제2연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이 상에 형성되는 제2본딩 시트; 및 상기 제2본딩 시트 상에 형성되는 제3연성 금속 적층체;를 더 포함할 수 있다. For example, the flexible printed circuit board may include a coverlay formed on the second flexible metal laminate; A second bonding sheet formed on the coverlay formed on the second flexible metal laminate; And a third flexible metal laminate formed on the second bonding sheet.

한편, 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 발명의 일 구현예의 본딩 시트를 포함한 연성 인쇄 회로 기판이 제공될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, a flexible printed circuit board including a bonding sheet according to an embodiment of the present invention may be provided.

상기 연성 인쇄 회로 기판은 상기 연성 금속 적층체에 관하여 상술한 내용을 제외하고, 통상적으로 알려진 구조 및 구성 성분을 포함할 수 있다. The flexible printed circuit board may include structures and components that are commonly known, except as described above with respect to the flexible metal laminate.

본 발명에 따르면, 낮은 유전율 및 낮은 유전 손실 계수를 가질 뿐만 아니라 연성 인쇄 회로 기판의 전송 손실을 낮출 수 있고 금속 이온 전이를 최소화하고 고온 및 고습 환경 하에서도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있는 본딩 시트와, 고온 및 고습 환경 하에 장시간 노출되어도 CAF 에 의한 단락의 발생을 방지할 수 있으며 높은 제품 신뢰성 및 낮은 유전율 및 낮은 유전 손실 계수를 가지며 보다 고집적화된 연성 인쇄 회로 기판이 제공될 수 있다. According to the present invention, it is possible to reduce transmission loss of a flexible printed circuit board as well as to have a low permittivity and a low dielectric loss coefficient, minimize metal ion transition, and prevent short circuit due to CAF even under high temperature and high humidity environments It is possible to provide a bonding printed sheet and a highly integrated flexible printed circuit board which can prevent occurrence of a short circuit due to CAF even if exposed for a long time under a high temperature and high humidity environment and have high product reliability, low permittivity and low dielectric loss coefficient.

도1은 실시예1의 연성 인쇄 회로 기판에 대한 CAF (Conductive Anodic Filament) 테스트를 진행한 결과를 나타난 그래프이다.1 is a graph showing a result of conducting a CAF (Conductive Anodic Filament) test on a flexible printed circuit board of Example 1. Fig.

발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. The invention will be described in more detail in the following examples. However, the following examples are illustrative of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[실시예: 본딩 시트의 제조][Example: Production of Bonding Sheet]

실시예1Example 1

(1) 접착층 형성용 수지 조성물의 제조(1) Preparation of a resin composition for forming an adhesive layer

말레산 무수물이 1.81 wt% 그라프트된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 25wt% 자일렌 용액(M1913, Asshi Kasei㈜ 제품) 200g, 비페닐 노볼락계 에폭시 수지 70wt% 자일렌 용액(NC-3000H, 일본 화약㈜ 제품, 에폭시 당량 288 g/eq) 20g, 나딕 메틸 무수물(Nadic Methy Anhydride) 10.4g, 2-에틸-4-메틸이미다졸 25wt% 자일렌 용액 0.1g을 상온에서 혼합하여 접착층 형성용 수지 조성물을 제조하였다. 200 g of a 25 wt% xylene solution of a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having maleic anhydride grafted at 1.81 wt% (M1913, product of Asshi Kasei), 70 wt% of biphenyl novolac epoxy resin, 10 g of nadic methy anhydride and 0.1 g of a 25 wt% xylene solution of 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed at room temperature to form an adhesive layer (a product of Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent 288 g / Was prepared.

(2) 본딩 시트의 제조(2) Production of bonding sheet

상기 제조된 접착층 형성용 수지 조성물을 PET 필름(케리어 필름, 두께: 38㎛, RPK 201, 도레이 첨단소재 제품)의 일면에 도포하고 100℃에서 5분간 건조하여 25㎛의 접착층을 형성하였다. 그리고, 80℃의 온도에서 이형지(EX-12, Lintec 제품)의 내면과 상기 접착층의 외부면을 롤 라이네이터를 이용하여 접착하여 본딩 시트를 제조하였다. The resin composition for forming an adhesive layer was coated on one side of a PET film (carrier film, thickness: 38 mu m, RPK 201, manufactured by Toray Industries, Inc.) and dried at 100 DEG C for 5 minutes to form an adhesive layer of 25 mu m. The inner surface of the release paper (EX-12, manufactured by Lintec) and the outer surface of the adhesive layer were adhered using a roll liner at a temperature of 80 캜 to prepare a bonding sheet.

실시예2Example 2

(1) 접착층 형성용 수지 조성물의 제조(1) Preparation of a resin composition for forming an adhesive layer

말레산 무수물이 0.36 wt% 그라프트된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 25wt% 자일렌 용액(M1911, Asahi Kasei㈜ 제품) 200g을 사용한 점을 제외하고, 실시예1과 동일한 방법으로 접착층 형성용 수지 조성물을 제조하였다.Except that 200 g of a 25 wt% xylene solution of a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having maleic anhydride grafted at 0.36 wt% (M1911, manufactured by Asahi Kasei) was used to form an adhesive layer Was prepared.

(2) 본딩 시트의 제조(2) Production of bonding sheet

상기 제조된 접착층 형성용 수지 조성물을 사용한 점을 제외하고, 실시예 1에서와 동일한 방법으로 본딩 시트를 제조하였다. A bonding sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that the resin composition for adhesive layer formation prepared above was used.

[비교예: 본딩 시트의 제조][Comparative Example: Production of Bonding Sheet]

비교예1Comparative Example 1

(1) 접착층 형성용 수지 조성물의 제조(1) Preparation of a resin composition for forming an adhesive layer

말레산 무수물이 1.81 wt% 그라프트된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 25wt% 자일렌 용액(M1913, Asshi Kasei㈜ 제품) 200g, 비페닐 노볼락계 에폭시 수지 70wt% 자일렌 용액(NC-3000H, 일본 화약㈜ 제품, 에폭시 당량 288 g/eq) 35.7g, 4,4'-디아미노디페닐 설폰(4,4'-Diamino diphenyl sulfone)의 25wt% 메틸셀로솔브 용액 21.5g, 2-에틸-4-메틸이미다졸 25wt% 자일렌 용액 0.12g을 상온에서 혼합하여 접착층 형성용 수지 조성물을 제조하였다. 200 g of a 25 wt% xylene solution of a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having maleic anhydride grafted at 1.81 wt% (M1913, product of Asshi Kasei), 70 wt% of biphenyl novolac epoxy resin, 35.5 g of 4,4'-diamino diphenyl sulfone, 21.5 g of a 25 wt% methyl cellosolve solution of 2- (2-ethylhexyl) diphenyl sulfone, And 0.12 g of a 25 wt% xylene solution of ethyl-4-methylimidazole were mixed at room temperature to prepare a resin composition for forming an adhesive layer.

(2) 본딩 시트의 제조(2) Production of bonding sheet

상기 제조된 접착층 형성용 수지 조성물을 사용한 점을 제외하고, 실시예 1에서와 동일한 방법으로 본딩 시트를 제조하였다. A bonding sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that the resin composition for adhesive layer formation prepared above was used.

비교예2Comparative Example 2

(1) 접착층 형성용 수지 조성물의 제조(1) Preparation of a resin composition for forming an adhesive layer

말레산 무수물이 1.81 wt% 그라프트된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 25wt% 자일렌 용액(M1913, Asshi Kasei㈜ 제품) 200g, 액상 비스페놀 A형 에폭시 수지(YD-128, 에폭시 당량 187 g/eq, 국도화학㈜ 제품) 2.5g, 1,8-디아자바이시클로운데-7-켄(1,8-Diazabicycloundec-7-ene) 0.5g을 상온에서 혼합하여 접착층 형성용 수지 조성물을 제조하였다. 200 g of a 25 wt% xylene solution of a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having maleic anhydride grafted at 1.81 wt% (M1913, product of Asshi Kasei), a liquid bisphenol A type epoxy resin (YD-128, epoxy equivalent 187 g / eq manufactured by Kukdo Chemical Co., Ltd.) and 0.5 g of 1,8-diazabicycloundec-7-ene were mixed at room temperature to prepare a resin composition for forming an adhesive layer .

(2) 본딩 시트의 제조(2) Production of bonding sheet

상기 제조된 접착층 형성용 수지 조성물을 사용한 점을 제외하고, 실시예 1에서와 동일한 방법으로 본딩 시트를 제조하였다. A bonding sheet was prepared in the same manner as in Example 1, except that the resin composition for adhesive layer formation prepared above was used.

[제조예: 연성 인쇄 회로 기판의 제조][Production Example: Production of Flexible Printed Circuit Board]

1. 연성 금속 적층체의 제조1. Fabrication of flexible metal laminate

(1) 열가소성 폴리이미드 전구체의 합성(1) Synthesis of thermoplastic polyimide precursor

500 mL의 둥근 바닥 플라스크에 n-메틸-2-피롤리돈 330g, 피로멜리틱 이무수물(Pyromellitic Dianhydride, PMDA) 20.0g, 2,2'-비스 [4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 (BAPP) 38.2g을 넣고, 50℃에서 10시간 동안 질소를 흘려주면서 교반기로 교반하면서 반응시켜 12,000 cP의 점도를 갖는 열가소성 폴리아믹산 용액을 얻었다. To a 500 mL round bottom flask was charged 330 g of n-methyl-2-pyrrolidone, 20.0 g of pyromellitic dianhydride (PMDA), 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) 38.2 g of propane (BAPP) was added and reacted with stirring with a stirrer while flowing nitrogen at 50 캜 for 10 hours to obtain a thermoplastic polyamic acid solution having a viscosity of 12,000 cP.

(2) 불소계 수지(PTFE)가 분산된 저유전 폴리이미드의 전구체의 합성(2) Synthesis of precursors of low-dielectric polyimide in which fluorine resin (PTFE) is dispersed

1L의 폴리에틸렌 용기(PE bottle)에 질소를 충진하고, n-메틸-2-피롤리돈 600 g, 폴리테트라 플로오로에틸렌 마이크로 분말(PTFE micro powder, 입자 크기: 약 0.2 내지 3.0 ㎛) 200g 및 지름 2mm의 비드(bead) 600g, 폴리에스테르계 분산제 10.0g을 넣고, 고속 볼 밀링(ball milling) 기기에서 12시간 교반하였다. 1 L of a polyethylene bottle was filled with nitrogen, 600 g of n-methyl-2-pyrrolidone, 200 g of polytetrafluoroethylene micropowder (PTFE micro powder (particle size: about 0.2 to 3.0 탆) 600 g of beads having a diameter of 2 mm and 10.0 g of a polyester dispersant were placed and stirred in a high-speed ball milling apparatus for 12 hours.

500 mL의 둥근 바닥 플라스크에 상기 PTFE 마이크로 분말이 분산된 용액 50g, n-메틸-2-피롤리돈 260g, 피로멜리틱 이무수물(Pyromellitic Dianhydride) 25.5g, 2,2'-비스(트리플로오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐 30.3g, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐 5.0g을 넣고, 50℃에서 10시간 동안 질소를 흘려주면서 교반기로 교반하면서 반응시켜 26,000 cP의 점도를 갖는 저유전 폴리아믹산 용액을 얻었다. 50 g of a solution in which the PTFE micropowder was dispersed in a 500 ml round bottom flask, 260 g of n-methyl-2-pyrrolidone, 25.5 g of pyromellitic dianhydride, 2,2'-bis (trifloro Methyl) -4,4'-diaminobiphenyl, and 5.0 g of 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl were charged and stirred with a stirrer while flowing nitrogen gas at 50 ° C. for 10 hours To obtain a low dielectric polyamic acid solution having a viscosity of 26,000 cP.

(3) 연성 금속 적층체의 제조(3) Fabrication of flexible metal laminate

상기 제조된 열가소성 폴리아믹산 용액을 최종 두께가 2.0㎛가 되도록 동박(두께: 12 ㎛)의 Matte면에 코팅한 후 100℃에서 5분간 건조하였다. 상기 건조된 폴리아믹산 위에 상기 제조된 저유전 폴리아믹산 용액의 최종 두께가 21㎛가 되도록 코팅한 후 100℃에서 10 분간 건조하였다. 상기 건조된 저유전 폴리아믹산 위에 상기 제조된 열가소성 폴리아믹산 용액을 재차 최종 두께가 2.0㎛가 되도록 코팅한 후 100℃에서 5분간 건조하였다.The thermoplastic polyamic acid solution prepared above was coated on a copper foil (thickness: 12 占 퐉) to have a final thickness of 2.0 占 퐉 and dried at 100 占 폚 for 5 minutes. The resulting low-k polyamic acid solution was coated on the dried polyamic acid so that the final thickness of the prepared low-k polyamic acid solution became 21 탆, followed by drying at 100 캜 for 10 minutes. The thermoplastic polyamic acid solution prepared above was coated on the dried low-k polyamic acid to a final thickness of 2.0 탆 and then dried at 100 캜 for 5 minutes.

상기 건조 이후 형성된 적층체를 오븐에 넣고 100℃부터 서서히 승온하여 300℃ 내외의 온도 및 질소 분위기 하에서 30분간 열경화 하였다. 상기 열경화 이후, 상기 열가소성 폴리아믹산 용액의 코팅층의 다른 일면에 동박(두께: 12 ㎛)의 Matte면이 접하도록 하고 400℃에서 압착하여, 최외각 양면에 동박이 위치하는 연성 금속 적층체를 제조하였다. The laminate formed after the drying was placed in an oven, gradually heated from 100 deg. C, and thermoset for 30 minutes at a temperature of about 300 deg. C and a nitrogen atmosphere. After the thermosetting, a matte surface of a copper foil (thickness: 12 mu m) was brought into contact with the other surface of the coating layer of the thermoplastic polyamic acid solution and pressed at 400 DEG C to produce a flexible metal laminate having copper foil on both sides of the outermost surface Respectively.

2. 연성 인쇄 회로 기판의 제조2. Manufacture of flexible printed circuit board

상기 실시예1의 접착층 형성용 수지 조성물을 폴리이미드 필름(LN050, SKC KOLON PI㈜ 제품, 두께 12㎛)의 일면에 건조 후 두께가 15㎛가 되도록 코팅한 후 100℃에서 5분간 건조하여 커버 레이를 제조하였다. 상기 제조된 연성 금속 적층체 일면의 동박을 선택적으로 에칭하여 시그널 라인(singnal line)을 형성한 이후, 상기 커버레이의 접착면에 시그널 라이에 접하도록 적층한 이후, 고온 프레스 기기를 사용하여 160℃에서 1시간 동안 3 MPa의 압력을 가하여 열경화 시켰다. The resin composition for forming an adhesive layer of Example 1 was coated on one side of a polyimide film (LN050, product of SKC KOLON PI, thickness 12 占 퐉) to a thickness of 15 占 퐉 and dried at 100 占 폚 for 5 minutes, . A copper foil on one side of the manufactured flexible metal laminate was selectively etched to form a signal line, and then a signal line was formed on the adhesive side of the coverlay. Then, Lt; RTI ID = 0.0 > MPa < / RTI > for 1 hour.

그리고, 상기 실시예 1 및 2와 비교예 1 및 2에서 제조된 본딩 시트에서 이형지 및 캐리어 필름을 제거하고 상기 커버 레이의 폴리이미드 필름 상에 적층하고, 상기 제조된 또 다른 하나의 연성 금속 적층체를 상기 본딩 시트 상에 적층한 후 160℃에서 1시간 동안 3 MPa의 압력을 가하여 열경화시켜서 연성 인쇄 회로 기판을 제조하였다. Then, the release paper and the carrier film were removed from the bonding sheet prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, and the resultant laminate was laminated on the polyimide film of the coverlay. Then, the other soft metal laminate Was laminated on the bonding sheet, and then a pressure of 3 MPa was applied at 160 캜 for 1 hour to thermally cure the flexible printed circuit board.

[실험예][Experimental Example]

1. 실험예1: 본딩 시트의 유전율 및 유전 손실 계수 측정1. Experimental Example 1: Measurement of dielectric constant and dielectric loss coefficient of a bonding sheet

상기 실시예에서 제조된 본딩 시트에 대하여 유전 상수 및 유전손실계수를 다음과 같은 측정하여 그 결과를 하기 표1에 기재하였다. The dielectric constant and dielectric loss coefficient of the bonding sheet prepared in the above example were measured as follows, and the results are shown in Table 1 below.

구체적으로, 상기 실시예에서 제조된 본딩 시트의 유전율을 SPDR(split post dielectric resonance) 방법으로, 25℃ 및 50%RH 의 조건에서, Agiletn E5071B ENA장치를 이용하여 5 GHz에서의 유전율 및 유전손실계수를 측정하였다. Specifically, the permittivity of the bonding sheet prepared in the above example was measured by a split post dielectric resonance (SPDR) method at 25 ° C and 50% RH using a Agiletn E5071B ENA apparatus at a dielectric constant of 5 GHz and dielectric loss coefficient Were measured.

2. PI와의 접착력 측정2. Adhesion measurement with PI

IPC-TM-650 2.4.9D의 기준에 의거하여, 폴리이미드 필름(LN050)과 폴리이미드 필름(LN050) 사이에 상기 실시예에서 제조된 본딩 시트를 적층하고 160℃에서 3 MPa의 압력을 1시간 동안 가하여 본딩 시트를 경화시킨 후 상온에서 Universal Testing Machine장비를 사용하여 폴리이미드 필름과 본딩 시트간의 접착력을 측정하였다. The bonding sheet prepared in the above example was laminated between a polyimide film (LN050) and a polyimide film (LN050) according to the criteria of IPC-TM-650 2.4.9D, and a pressure of 3 MPa was applied at 160 DEG C for 1 hour The adhesive strength between the polyimide film and the bonding sheet was measured using a Universal Testing Machine at room temperature after curing the bonding sheet.

3. 내열성 측정3. Heat resistance measurement

IPC--TM-650 2.4.13의 기준에 의거하여, 상기 제조예에 제조된 연성 인쇄 회로 기판에 대하여 Solder Bath를 사용하고 288℃의 조건에서 Floating 방법으로 내열성을 측정하였다. 측정 결과 기포가 발생한 것을 NG로 평가하고, 기포가 발생하지 않은 것을 PASS로 하였다. Based on the criteria of IPC-TM-650 2.4.13, the heat-resisting property of the flexible printed circuit board manufactured in the above production example was measured by Floating method at 288 캜 using a solder bath. As a result of the measurement, the occurrence of bubbles was evaluated as NG, and the case where no bubbles were generated was defined as PASS.

4. 내화학성 측정4. Chemical resistance measurement

IPC--TM-650 2.3.2의 기준에 의거하여, 상기 제조예에 제조된 연성 인쇄 회로 기판에 대하여 Universal Testing Machine장비를 사용하여 각각의 유기 용매에 일정 시간 침지한 이후 본딩 시트의 접착력을 측정하는 방법으로 내화학성을 측정하였다. 접착력이 유지되거나 20%이하로 감소되는 경우에는 PASS로 평가하고, 접착력 감소가 20%를 초과하면 NG로 평가하였다. Based on the criteria of IPC-TM-650 2.3.2, the flexible printed circuit board manufactured in the above production example was immersed in each organic solvent for a predetermined time using a universal testing machine, and then the adhesive force of the bonding sheet was measured To measure the chemical resistance. PASS was evaluated when the adhesive strength was maintained or decreased to 20% or less, and evaluated as NG when the adhesive strength reduction exceeded 20%.

5. 전송 손실 측정5. Measurement of transmission loss

상기 제조예에 제조된 연성 인쇄 회로 기판에 대하여, Stripline을 제조하는 방법에 의거하여 Agilent사의 Network Analyzer E5071C 장비를 사용하고 10cm의 전송 선로에서의 전송 손실을 측정하였다. For the flexible printed circuit board manufactured in the above production example, transmission loss was measured on a transmission line of 10 cm using Agilent's Network Analyzer E5071C equipment based on the method of manufacturing the stripline.

연성 인쇄 회로 기판 중 본딩 시트Bonding sheet in flexible printed circuit board 실시예1Example 1 실시예2Example 2 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 유전율 (Dk) @ 5GHzPermittivity (Dk) @ 5 GHz 2.62.6 2.62.6 3.13.1 2.52.5 유전손실계수(Df) @ 5GHzDielectric loss factor (Df) @ 5 GHz 0.0060.006 0.0060.006 0.0150.015 0.0030.003 PI와의 접착력Adhesion to PI 1.11.1 1.01.0 1.11.1 1.21.2 내열성Heat resistance PASSPASS PASSPASS PASSPASS NGNG 내화학성Chemical resistance PASSPASS PASSPASS PASSPASS NGNG 전송손실 @ 10GHzTransmission Loss @ 10GHz -5.4 dB-5.4 dB -5.4 dB-5.4 dB -6.4 dB-6.4 dB -5.2 dB-5.2 dB

상기 표1에 나타난 바와 같이, 실시예1 및 2에서 제조된 저유전 본딩 시트는 비교예 1 및 2의 본딩 시트에 비하여 유전율 및 유전 손실 계수가 크게 낮음에 따라서 연성 인쇄 회로 기판에 적용하였을 때 크게 낮은 전송 손실 정도를 구현할 수 있으며, 아울러 폴리이미드 필름에 대한 접착력, 내열성 및 내화학성의 전반적인 물성이 상대적으로 우수하다는 점이 확인되었다.As shown in Table 1, the low-dielectric-bonding sheets produced in Examples 1 and 2 had a lower dielectric constant and dielectric loss coefficient than the bonding sheets of Comparative Examples 1 and 2, Low transmittance loss can be realized, and the overall physical properties of adhesion, heat resistance and chemical resistance to polyimide films are relatively excellent.

Claims (25)

디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하는 접착층;을 포함한, 인쇄 회로 기판용 본딩 시트.
Styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is contained in an amount of 0.1 to 15% by weight; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an adhesive layer comprising an acid anhydride-based compound.
제1항에 있어서,
상기 접착층은 건조 상태 및 5 GHz 에서 2.8이하의 유전율(Dk)을 갖는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the adhesive layer has a dry state and a dielectric constant (Dk) of 2.8 or less at 5 GHz.
제1항에 있어서,
상기 접착층 중 나트륨 또는 나트륨 이온의 함량이 100ppmw이하인, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the content of sodium or sodium ions in the adhesive layer is not more than 100 ppmw.
제1항에 있어서,
상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체는 30,000 내지 800,000의 중량평균분자량을 갖는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer having 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or its acid anhydride bonded thereto has a weight average molecular weight of 30,000 to 800,000.
제1항에 있어서,
상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체는 스티렌 유래 반복 단위 5 내지 50중량% 포함하는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer comprising 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof comprises 5 to 50% by weight of styrene-derived repeating units.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지는 비페닐 노볼락 에폭시 수지, 비스페놀A형 에폭시 수지 및 디시클로펜타디엔 페놀 부가반응형 에폭시 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the epoxy resin comprises at least one member selected from the group consisting of biphenyl novolac epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin and dicyclopentadiene phenol addition reaction type epoxy resin.
제1항에 있어서,
상기 산무수물계 화합물은 스티렌-말레산 무수물 공중합체, 메틸테트라하이드로 무수프탈산, 무수프탈산, 헥사하이드로무수프탈산(Hexahydrophthalic Anhydride), 테트라하이드로 무수프탈산, 메틸헥사하이드로 무수프탈산(Methylhexahydrophthalic Anhydride), 메틸히믹 무수물(Methyl Himic Anhydride), 나딕메틸 무수물(NADIC Methyl Anhydride), 나딕 무수물(NADIC Anhydride) 및 도데세닐 무수호박산으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
The acid anhydride compound may be at least one selected from the group consisting of styrene-maleic anhydride copolymer, methyltetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, Wherein the bonding sheet comprises at least one compound selected from the group consisting of Methyl Himic Anhydride, NADIC Methyl Anhydride, NADIC Anhydride and Dodecenyl Anhydride.
제1항에 있어서,
상기 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체 100중량부에 대하여,
상기 에폭시 수지 10 내지 80 중량부;
산무수물계 화합물 10 내지 80중량부; 및
이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매 0.05 내지 5중량부;를 포함하는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Based on 100 parts by weight of the styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer containing 0.1 to 15% by weight of the dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof,
10 to 80 parts by weight of the epoxy resin;
10 to 80 parts by weight of an acid anhydride-based compound; And
0.05 to 5 parts by weight of a curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound.
제1항에 있어서,
상기 산무수물계 화합물 대비 상기 에폭시 수지의 중량비가 2.0 내지 0.05인, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the weight ratio of the epoxy resin to the acid anhydride compound is 2.0 to 0.05.
제1항에 있어서,
상기 본딩 시트는, 상기 접착층의 일면에 형성된 캐리어 필름;을 더 포함하는 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the bonding sheet further comprises a carrier film formed on one surface of the adhesive layer.
제1항에 있어서,
상기 본딩 시트는 상기 접착층의 일면에 형성된 이형 필름을 더 포함하는, 본딩 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the bonding sheet further comprises a release film formed on one surface of the adhesive layer.
제1연성 금속 적층체;
상기 제1연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이;
디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하고, 상기 커버 레이 상에 형성되는 본딩 시트; 및
상기 본딩 시트 상에 형성되는 제2연성 금속 적층체;를 포함하는, 연성 인쇄 회로 기판.
A first flexible metal laminate;
A coverlay formed on the first flexible metal laminate;
Styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is contained in an amount of 0.1 to 15% by weight; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an acid anhydride-based compound, the bonding sheet being formed on the coverlay; And
And a second flexible metal laminate formed on the bonding sheet.
제12항에 있어서,
상기 연성 인쇄 회로 기판에 대하여 85℃ 및 85%RH에서 50V의 전압이 가해졌을 때 1,000 시간 이내에 CAF (Conductive Anodic Filament)에 의한 단락이 발생하지 않는, 연성 인쇄 회로 기판.
13. The method of claim 12,
Wherein a short circuit caused by CAF (Conductive Anodic Filament) does not occur within 1,000 hours when a voltage of 50 V is applied to the flexible printed circuit board at 85 ° C and 85% RH.
제12항에 있어서,
상기 제1연성 금속 적층체는 폴리이미드 수지층 및 상기 폴리이미드 수지층의 의 적어도 1면에 형성된 금속 박막을 포함하는, 연성 회로 기판.
13. The method of claim 12,
Wherein the first flexible metal laminate comprises a polyimide resin layer and a metal thin film formed on at least one side of the polyimide resin layer.
제12항에 있어서,
상기 제1 연성 금속 적층체 및 제2연성 금속 적층체 각각은 폴리이미드 수지 30 내지 95중량%; 및 불소계 수지 입자 5 내지 70중량%를 포함한 폴리이미드 수지층; 및 금속 박막;을 포함하는, 연성 인쇄 회로 기판.
13. The method of claim 12,
Wherein each of the first soft metal laminate and the second soft metal laminate comprises 30 to 95% by weight of a polyimide resin; And a polyimide resin layer containing 5 to 70% by weight of fluoric resin particles; And a metal thin film.
제15항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지층이 25℃ 및 50%RH 의 환경 및 5 GHz에서 2.7이하의 유전율을 갖는, 연성 인쇄 회로 기판.
16. The method of claim 15,
Wherein said polyimide resin layer has a permittivity of 2.7 or less at 5 GHz and an environment of 25 캜 and 50% RH.
제15항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지는 1,000 내지 500,000의 중량평균분자량을 갖는, 연성 금속 적층체.
16. The method of claim 15,
Wherein the polyimide resin has a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000.
제15항에 있어서,
상기 불소계 수지 입자 각각의 최대 직경은 0.05 ㎛ 내지 20㎛인, 연성 인쇄 회로 기판.
16. The method of claim 15,
Wherein the maximum diameter of each of the fluororesin particles is 0.05 占 퐉 to 20 占 퐉.
제15항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지층은 1㎛ 내지 100㎛ 의 두께를 가지며,
상기 금속 박막은 1㎛ 내지 50㎛의 두께를 갖는, 연성 인쇄 회로 기판.
16. The method of claim 15,
The polyimide resin layer has a thickness of 1 탆 to 100 탆,
Wherein the metal thin film has a thickness of 1 占 퐉 to 50 占 퐉.
제12항에 있어서,
상기 커버 레이는 상기 제1연성 금속 적층체에 접하는 접착층; 및 상기 접착층 상에 형성된 폴리이미드 수지 필름을 포함하는, 연성 인쇄 회로 기판.
13. The method of claim 12,
Wherein the coverlay comprises an adhesive layer in contact with the first flexible metal laminate; And a polyimide resin film formed on the adhesive layer.
제20항에 있어서,
상기 커버 레이의 접착층은 디카르복실산 또는 이의 산무수물이 0.1중량% 내지 15중량% 결합된 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 공중합체; 에폭시 수지; 이미다졸계 화합물, 이민계 화합물 및 아민계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함한 경화 촉매; 및 산무수물계 화합물;를 포함하는, 연성 인쇄 회로 기판.
21. The method of claim 20,
Wherein the adhesive layer of the coverlay is a styrene-ethylene-butylene-styrene copolymer in which 0.1 to 15% by weight of dicarboxylic acid or an acid anhydride thereof is bonded; Epoxy resin; A curing catalyst comprising at least one compound selected from the group consisting of an imidazole compound, an imine compound and an amine compound; And an acid anhydride-based compound.
제20항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지 필름은 15 ppm/K 내지 20 ppm/K의 열팽창계수를 갖는, 연성 인쇄 회로 기판.
21. The method of claim 20,
Wherein the polyimide resin film has a thermal expansion coefficient of 15 ppm / K to 20 ppm / K.
제20항에 있어서,
상기 커버 레이의 접착층은 1㎛ 내지 200㎛의 두께를 갖고,
상기 커버 레이의 폴리이미드 수지 필름은 1㎛ 내지 200㎛의 두께를 갖는, 연성 금속 적층체.
21. The method of claim 20,
Wherein the adhesive layer of the coverlay has a thickness of 1 占 퐉 to 200 占 퐉,
Wherein the polyimide resin film of the coverlay has a thickness of 1 占 퐉 to 200 占 퐉.
제12항에 있어서,
상기 제2연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이;
상기 제2연성 금속 적층체 상에 형성된 커버 레이 상에 형성되는 제2본딩 시트; 및
상기 제2본딩 시트 상에 형성되는 제3연성 금속 적층체;를 더 포함하는, 연성 금속 적층체.
13. The method of claim 12,
A coverlay formed on the second flexible metal laminate;
A second bonding sheet formed on the coverlay formed on the second flexible metal laminate; And
And a third flexible metal laminate formed on the second bonding sheet.
제1항의 본딩 시트를 포함한 연성 인쇄 회로 기판.
A flexible printed circuit board comprising the bonding sheet of claim 1.
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