KR20160145823A - 순한 모발 스트레이트화 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 하나 이상의 유화 실리콘 탄성체, 하나 이상의 자연적으로 유도된 침착 중합체, 하나 이상의 실리콘 컨디셔닝제, 및 수성 담체를 포함하는 모발 스트레이트화 조성물과 관련된다.

Description

순한 모발 스트레이트화 조성물 {MILD HAIR STRAIGHTENING COMPOSITIONS}

본 발명은 인모를 스트레이트화 하는 데에 적절한 조성물과 관련된다. 구체적으로, 본원의 조성물은 선택된 컨디셔닝제와 함께 하나 이상의 유화 실리콘 탄성체를 사용하여 모발을 스트레이트화 할 수 있어, 열 및/또는 반응성 모발-스트레이트화 화학물질의 필요를 제거한다.

현재의 모발 소생 및 처리 시스템은 가혹한 화학물질, 예컨대 산화제, 고농도의 포름알데히드, 및 모발 큐티클에 컨디셔닝제를 결합시키는 다른 위험한 화학물질과 관련된다. 종래의 접근법은 일반적으로 처리 담체가 먼저 큐티클에 흉터를 남기고, 이후 모간(hair shaft)으로 깊이 침투하도록 하며, 그 결과, 이후 반응제가 큐티클을 통해 모간으로 컨디셔닝 시약의 일부를 치환한다. 시간이 지남에 따라, 피질 세포는 미세섬유를 파괴할 수 있는 이들 화학물질에 의해 손상된다. 이러한 처리가 일부 고객을 만족시킬 수 있는 목적하는 결과를 가져오는 것처럼 보이지만, 이들은 결국 모발에 영구적인 손상을 야기한다. 또한, 컨디셔닝 처리의 반응성 구성성분은 시간이 지남에 따라 덜 효과적이게 되며, 고객의 모발은 악화될 것이고 심지어 추가적인 처리를 필요로 하는 흉지고 손상된 모간을 남긴다.

또한, 고농도의 포르몰을 사용할 때, 시약은 고온 아이언(hot iron)으로 모발에 열을 가함에 따라 중합되고, 반응하지 않은 작용제의 일부를 모간에 장기간 동안 밀봉한다. 한편, 모발은 이들 가혹한 화학물질의 적용에 따라 건강하고 윤기 나 보이지만, 이는 사실 천천히 손상되고 있는 것이다. 기존의 처리에서 사용하는 전구 작용제는, 모발에 깊숙히 확산되어야 하는데 내재적인 멜라닌 침착물을 파괴한다. 이러한 가혹한 화학물질의 반복 사용은 모발을 현저하게 손상시키는 경향이 있다. 또한, 화학물질에 대한 두피 노출은 예민한 사람에게 알레르기 반응을 유발할 수 있다. 전문 미용사는 심지어 기존의 모발 스트레이트화 처리에서 사용된 가혹한 성분에 대한 과도한 노출로 병에 걸릴 수 있다. 한 처리 방법은, 예를 들어, 잿물 및 다른 가혹한 화학물질을 사용하며, 또 다른 처리는 곧은 모발을 달성하도록 높은 수준의 포름알데히드를 사용한다. 상승된 농도의 가혹한 화학물질에 의해 야기되는 부작용 없이 우수한 결과를 제공하는 대안적인 처리 방법이 필요하다.

구체적으로 모발 스트레이트화 기술과 관련하여, 모발용 릴렉서(relaxer)가 알려져 있지만, 일반적으로 가혹한 화학물질, 예컨대 수산화구아니딘, 암모늄티오글리콜레이트, 및 수산화나트륨(잿물)을 포함한다. 따라서, 화학물질 예컨대 티오글리콜레이트를 갖지 않으며, 상승된 pH 수준을 요구하지 않는 모발 스트레이트화 시스템에 대한 필요가 존재한다.

본 발명은:

a) 하나 이상의 유화 실리콘 탄성체;

b) 하나 이상의 자연적으로 유도된 침착 중합체;

c) 하나 이상의 실리콘 컨디셔닝제; 및

d) 수성 담체

를 포함하는 모발 스트레이트화 조성물과 관련된다.

본 명세서가 본 발명을 특히 지적하고 명백히 청구하는 청구항으로 결론지어 지지만, 본 발명은 다음의 설명으로부터 더 잘 이해될 것으로 여겨진다.

조성물은 유화 실리콘 탄성체, 자연적으로 유도된 침착 중합체, 실리콘 컨디셔닝제, 및 수성 담체를 포함한다. 이들 각 필수적 구성성분, 뿐만 아니라 바람직하거나 임의의 구성성분이 이하에서 구체적으로 기재된다.

달리 구체화되지 않은 한, 모든 퍼센트, 부 및 비는 조성물의 총 중량에 기반한다. 모든 이러한 중량은 이들이 열거된 성분에 관련됨에 따라 활성 수준에 기반하며, 따라서, 달리 구체화되지 않은 한, 상업적으로 입수가능한 물질에 포함될 수 있는 용매 또는 부산물을 포함하지 않는다. 용어 "중량 퍼센트"는 본원에서 "중량%"로 나타날 수 있다.

본원에 사용된 모든 분자량은, 달리 구체화되지 않은 한, 그램/몰로 표시되는 중량 평균 분자량이다.

본원에 사용된 구 "실질적으로 갖지 않는"은, 조성물이 언급된 물질을 조성물의 5 중량% 미만으로 포함하는 것을 의미한다.

본원에 사용된 용어 "갖지 않는"은, 언급된 물질의 어떠한 수준도 조성물에 의도적으로 포함되지 않음을 의미한다. 물론, 미량의 물질이 제조 공정의 결과로서 존재할 수 있다.

본원에 사용된 용어 "수용성"은, 물질이 본 발명에서 물에 가용성임을 의미한다. 일반적으로, 물질은 25 ℃에서 수용매 중량의 0.1 중량% 이상, 바람직하게는 1 중량% 이상, 보다 바람직하게는 5 중량% 이상, 가장 바람직하게는 15 중량% 이상의 농도에서 가용성이다.

본원에 사용된 용어 "불수용성"은, 화합물이 본원의 조성물에서 물에 가용성이 아님을 의미한다. 따라서, 화합물은 물과 혼화하지 않는다.

본원에 기재된 조성물은, 알려진 모발 스트레이트용 조성물에 비해 여러 중요한 장점을 발휘한다. 첫째로, 조성물은, 시간이 지남에 따라 모발에 손상을 야기하는 것으로 알려진 반응성 모발 스트레이트화 화학물질을 갖지 않거나 실질적으로 갖지 않을 수 있다. 이러한 반응성 화학물질은, 예를 들어, 티오글리콜산, 암모늄티오글리콜레이트, 시스테아민, 수산화나트륨, 수산화칼슘, 및 수산화구아니딘을 포함한다. 또한, 조성물은 바람직하게는 알데히드, 및 구체적으로 포름알데히드 또는 포름알데히드-방출성 화학물질을 갖지 않는다. 모발의 황 결합, 예를 들어 메르캅탄, 설폰산, 및 아황산염을 환원시키는 것으로 알려진 다른 화학물질은 또한 바람직하게는 본원의 조성물에서 배제된다. 추가적으로, 조성물은 알칼리성 pH를 갖지 않는다. 대신, 본원의 조성물의 pH는 약 3.5 내지 약 7, 보다 바람직하게는 약 3.5 내지 약 6, 및 가장 바람직하게는 약 4 내지 약 5의 범위일 수 있다. 산성 pH는 알칼리성 모발 스트레이트화 조성물과 달리, 더 큰 배합 유연성을 가져온다. 예를 들어, 양쪽성 계면활성제는 양이온성 계면활성제의 컨디셔닝 이점을 모방하도록 낮은 pH 수준에서 사용될 수 있다.

유화 실리콘 탄성체

본원에 사용된 용어 "유화 실리콘 탄성체"는 하나 이상의 친수성 사슬을 포함하는 실리콘 탄성체를 포함한다.

유화 실리콘 탄성체는 폴리옥시알킬렌화 실리콘 탄성체 및 폴리글리세롤화 실리콘 탄성체, 및 그의 혼합물로부터 선택될 수 있다.

유화 실리콘 탄성체는 조성물 중에 약 1 % 내지 약 20 %, 보다 바람직하게는 약 2 % 내지 약 15 %, 및 가장 바람직하게는 약 3 내지 약 9 %의 수준으로 존재할 수 있다.

폴리옥시알킬렌화 실리콘 탄성체

폴리옥시알킬렌화 실리콘 탄성체는 규소에 결합된 하나 이상의 수소를 함유하는 디오르가노폴리실록산의, 및 둘 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 폴리옥시알킬렌의 가교결합 첨가 반응에 의해 수득할 수 있는 가교결합된 오르가노폴리실록산이다. 이러한 반응은 미국 특허 제5,236,986호 및 제5,412,004호에서 자세히 논의된다.

예시적인 폴리옥시알킬렌화 탄성체가 미국 특허 제5,236,986호, 미국 특허 제5,412,004호, 미국 특허 제5,837,793호 및 미국 특허 제5,811,487호에 기재된다.

특정 예시적인 폴리옥시알킬렌화 실리콘 탄성체는 신에츠(Shin-Etsu)에 의해 명칭 KSG-21, KSG-20, KSG-30, KSG-31, KSG-32, KSG-33, KSG-210, KSG-310, KSG-320, KSG-330, KSG-340 및 X-226146, 및 다우 코닝(Dow Corning)에 의해 명칭 DC9010 및 DC9011 하에 판매되는 것을 포함한다.

한 바람직한 실시양태에 따르면, 신에츠에 의해 명칭 KSG-210 하에서 판매되는 폴리옥시알킬렌화 실리콘 탄성체를 본원의 조성물에 사용한다.

폴리글리세롤화 실리콘 탄성체

유화 실리콘 탄성체는 또한 폴리글리세롤화 실리콘 탄성체로부터 선택될 수 있다.

폴리글리세롤화 실리콘 탄성체는, 특히 백금 촉매의 존재 하에서, 규소에 결합된 하나 이상의 수소를 함유하는 디오르가노폴리실록산의, 및 에틸렌성 불포화 기를 갖는 폴리글리세롤화 화합물의 가교결합 첨가 반응에 의해 수득할 수 있는 가교결합된 탄성 오르가노폴리실록산이다.

바람직하게는, 가교결합된 탄성 오르가노폴리실록산은 (A) 각각 규소에 결합된 둘 이상의 수소를 함유하는 디오르가노폴리실록산의, 및 (B) 둘 이상의 에틸렌성 불포화 기를 갖는 글리세롤화 화합물의, 특히 (C) 백금 촉매의 존재 하에서의, 가교결합 첨가 반응에 의해 수득된다.

특히, 오르가노폴리실록산은 디메틸비닐실옥시 말단 기를 함유하는 폴리글리세롤화 화합물의, 및 트리메틸실옥시 말단 기를 함유하는 메틸히드로게노폴리실록산의, 백금 촉매의 존재 하에서의 반응에 의해 수득할 수 있다.

자연적으로 유도된 침착 중합체

조성물은 하나 이상의 자연적으로 유도된 양이온성 중합체를 포함한다. 본원에 사용된 용어, "자연적으로 유도된 양이온성 중합체"는, 천연 공급원으로부터 수득한 양이온성 중합체를 지칭한다. 천연 공급원은 셀룰로스, 전분, 갈락토만난 및 자연에서 발견되는 다른 공급원으로부터 선택될 수 있다. 자연적으로 유도된 양이온성 중합체는 약 1,000 내지 약 10,000,000의 분자량 및, 약 3.0 meq./g 이상의, 보다 바람직하게는 약 3.2 meq/g 이상의 양이온 전하 밀도를 갖는다. 바람직하게는, 양이온 전하 밀도는 또한 약 7 meq/g 미만이다. 자연적으로 유도된 중합체는 조성물의 0.05 중량% 이상의 양으로 존재한다. 바람직하게는, 중합체는 조성물의 약 0.05 중량% 내지 약 10 중량%, 및 보다 바람직하게는 약 0.05 중량% 내지 약 5 중량%의 범위로 존재한다.

자연적으로 유도된 양이온성 중합체는 일반적으로 수용성이며, 본원에 기재된 실리콘 컨디셔닝제의 침착을 돕는다. 이러한 침착 증진은 개선된 모발감, 습식 컨디셔닝, 윤기 및 다른 바람직한 이점을 가져온다.

셀룰로스 또는 구아 (guar) 양이온성 침착 중합체

조성물은 셀룰로스 또는 구아 양이온성 침착 중합체를 포함할 수 있다. 이러한 셀룰로스 또는 구아 침착 중합체는 조성물의 사용이 의도된 pH에서 약 3 meq/g 내지 약 4.0 meq/g의 전하 밀도를 가지며, pH는 일반적으로 약 pH 3 내지 약 pH 9, 바람직하게는 약 pH 4 내지 약 pH 8에 걸칠 것이다. 조성물의 pH는 순수한 상태로 측정되었다.

적절한 셀룰로스 양이온성 중합체는 다음의 화학식에 부합하는 것을 포함한다:

여기서, A는 무수글루코스 잔기, 예컨대 셀룰로스 무수글루코스 잔기이며; R은 알킬렌 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌, 또는 히드록시알킬렌 기, 또는 그의 조합이며, R¹, R², 및 R³은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬, 또는 알콕시아릴 기이며, 각 기는 약 18 이하의 탄소 원자를 함유하며, 각 양이온성 모이어티에 대한 탄소 원자의 총 개수(즉, R¹, R²및 R³의 탄소 원자의 합)는 바람직하게는 약 20 이하이며; X는 음이온성 반대이온이다. 이러한 반대이온의 비제한적인 예는 할라이드(예를 들어, 염소, 플루오린, 브롬, 아이오딘), 설페이트 및 메틸설페이트를 포함한다. 이들 다당류 중합체의 양이온 치환도는 전형적으로 무수글루코스 단위 당 약 0.01 내지 약 1 양이온성 기이다.

본 발명의 한 실시양태에서, 셀룰로스 중합체는 트리메틸 암모늄 치환 에폭시드와 반응한 히드록시에틸 셀룰로스의 염이며, 업계(CTFA)에서 폴리쿼테뮴(Polyquatemium) 10으로 지칭되며 아머콜 코포레이션(Amerchol Corp.) (미국 뉴저지주 에디슨 소재)으로부터 입수가능하다.

다른 적절한 양이온성 침착 중합체는, 구체적인 예가 로네로디아(RhoneRhodia)로부터 상업적으로 입수가능한 재규어(Jaguar) 시리즈(바람직하게는 재규어® C-17R)를 포함하는 것인 양이온성 구아 검 유도체, 예컨대 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드를 포함한다.

양이온 개질된 전분 중합체

또한, 조성물은 양이온 개질된 수용성 전분 중합체를 포함할 수 있다. 본원에 사용된 용어 "양이온 개질된 전분"은 양이온성 기가 전분이 더 작은 분자량으로 분해되기 전에 첨가되거나, 양이온성 기가 목적하는 분자량을 달성하기 위한 전분의 개질 후에 첨가되는 것인, 전분을 지칭한다. 또한, 용어 "양이온 개질된 전분"의 정의는 양쪽성 개질된 전분을 포함한다. 용어 "양쪽성 개질된 전분"은 양이온성 기 및 음이온성 기가 첨가되는 전분 가수분해물을 지칭한다.

본원에 개시된 양이온 개질된 전분 중합체는 약 0.5 % 내지 약 4 %의 결합된 질소 퍼센트를 갖는다. 또한, 양이온 개질된 전분 중합체는 약 50,000 내지 약 10,000,000의 분자량을 갖는다.

양이온 개질된 전분 중합체는 약 3.0 meq/g 이상의 전하 밀도를 갖는다. 이러한 전하 밀도를 수득하기 위한 화학적 개질은 전분 분자로의 아미노 및/또는 암모늄 기 첨가를 포함하나, 이에 제한되지 않는다. 이들 암모늄 기의 비제한적인 예는 치환체, 예컨대 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드, 트리메틸히드록시프로필 암모늄 클로라이드, 디메틸스테아릴히드록시프로필 암모늄 클로라이드, 및 디메틸도데실히드록시프로필 암모늄 클로라이드를 포함할 수 있다. 문헌 [Solarek, D. B., Cationic Starches in Modified Starches: Properties and Uses, Wurzburg, O. B., Ed., CRC Press, Inc., Boca Raton, Fla. 1986, pp 113-125]을 참조한다. 양이온성 기는 더 작은 분자량으로 분해되기 전의 전분에 첨가될 수 있거나, 양이온성 기는 이러한 개질 이후에 첨가될 수 있다.

본원에 사용된, 양이온 개질된 전분 중합체의 "치환도"는 치환기에 의해 유도된 각 무수글루코스 단위 상의 히드록실 기의 수의 평균 수치이다. 각 무수글루코스 단위가 치환할 수 있는 3 개의 가능한 히드록실 기를 가지므로 최대 가능한 치환도는 3이다. 치환도는 몰 평균을 기반으로, 무수글루코스 단위의 몰 당 치환기의 몰 수로 표현된다. 치환도는 당업계에 잘 알려진 양성자 핵자기 공명 분광법("¹H NMR")을 사용하여 결정할 수 있다. 적절한　¹H NMR 기술은 문헌 ["Observation on NMR Spectra of Starches in Dimethyl Sulfoxide, Iodine- Complexing, and Solvating in Water-Dimethyl Sulfoxide", Qin-Ji Peng and Arthur S. Perlin, Carbohydrate Research, 160 (1987), 57-72]; 및 문헌["An Approach to the Structural Analysis of Oligosaccharides by NMR Spectroscopy", J. Howard Bradbury and J. Grant Collins, Carbohydrate Research, 71, (1979), 15-25]에 기재된 것을 포함한다.

양이온 개질된 전분 중합체는 말토덱스트린을 포함할 수 있다. 따라서, 한 실시양태에서, 양이온 개질된 전분 중합체는 약 35 미만, 및 보다 바람직하게는 약 1 내지 약 20의 덱스트로스 당량("DE") 값으로 추가로 특징지어질 수 있다. DE 값은 덱스트로스를 기준으로 한 가수분해된 전분의 환원 당량의 척도이며, 퍼센트 (건조 기준)로서 나타낸다. 덱스트로스로 완전히 가수분해된 전분은 100의 DE 값을 갖고, 비가수분해된 전분은 0의 DE 값을 갖는다. DE 값에 대한 적절한 검정은 문헌 [Standard Analytical Methods of the Member Companies of the Corn Industries Research Foundation, 1st ed., Method E-26]의 "덱스트로스 당량"에 기재된 것을 포함한다. 추가적으로, 양이온 개질된 전분 중합체는 덱스트린을 포함할 수 있다. 덱스트린은 전형적으로 광범위한 분자량을 갖는 전분의 열분해 생성물이다.

화학적 개질 전의 전분의 공급원은 다양한 공급원, 예컨대 괴경, 콩과 식물, 곡류, 및 곡실로부터 선택될 수 있다. 이 공급원 전분의 비제한적인 예는 옥수수 전분, 밀 전분, 쌀 전분, 찰옥수수 전분, 귀리 전분, 카시아 전분, 찰보리, 찰벼 전분, 찹쌀 전분, 스위트 라이스 전분, 아미오카, 감자 전분, 타피오카 전분, 귀리 전분, 사고 전분, 스위트 라이스, 또는 그의 혼합물을 포함할 수 있다. 옥수수 전분 및 타피오카 전분이 바람직하다.

한 실시양태에서, 양이온 개질된 전분 중합체는 분해된 양이온성 옥수수 전분, 양이온성 타피오카, 양이온성 감자 전분, 및 그의 혼합물로부터 선택된다. 또 다른 실시양태에서, 양이온 개질된 전분 중합체는 양이온성 옥수수 전분이다. 전분은, 더 작은 분자량으로 분해 전 또는 개질 후, 하나 이상의 추가적인 개질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 이들 개질은 가교결합, 안정화 반응, 인산화, 및 가수분해를 포함할 수 있다. 안정화 반응은 알킬화 및 에스테르화를 포함할 수 있다.

양이온 개질된 전분 중합체는 가수분해된 전분(예를 들어, 산, 효소, 또는 알칼리성 분해), 산화된 전분(예를 들어, 과산화물, 과산(peracid), 차아염소산염, 알칼리, 또는 임의의 다른 산화제), 물리적으로/기계적으로 분해된 전분(예를 들어, 가공 장비의 열-기계적 에너지 주입을 통해), 또는 그의 조합의 형태로 조성물에 혼입될 수 있다.

당업계에 알려진 바와 같이 양이온 개질된 전분으로 더 유도될 수 있는 비이온 개질된 전분이 본 발명에의 사용에 또한 적절하다. 다른 적절한 개질된 전분 시작 물질은, 당업계에 알려진 바와 같이, 4급화(quaternize)되어 본 발명에 사용하기에 적절한 양이온 개질된 전분 중합체를 생산한다.

전분 분해 방법

한 실시양태에서, 전분 슬러리를 과립형 전분을 물에 혼합함으로써 제조한다. 온도를 약 35 ℃로 상승시킨다. 이후, 과망간산칼륨의 수용액을 전분에 기반하여 약 50 ppm의 농도로 첨가한다. pH를 수산화나트륨으로 약 11.5로 상승시키고, 전분의 침강을 방지하도록 슬러리를 충분히 교반한다. 이후, 물에 희석된 약 30 %의 과산화수소 용액을 전분에 기반하여 약 1 % 수준의 과산화물에 첨가한다. 추가적인 수산화나트륨의 첨가로 약 11.5의 pH를 회복시킨다. 반응은 약 1 내지 약 20 시간 기간에 걸쳐 완료된다. 이후, 혼합물을 묽은 염산으로 중성화시킨다. 분해된 전분을 여과에 이어 세척 및 건조에 의해 회수한다.

갈락토만난 중합체 유도체

조성물은 단량체 대 단량체 기준으로 2:1 초과의 만노스 대 갈락토스 비를 갖는 갈락토만난 중합체 유도체를 포함할 수 있으며, 갈락토만난 중합체 유도체는 순 양전하(net positive charge)를 갖는 양쪽성 갈락토만난 중합체 유도체 및 양이온성 갈락토만난 중합체 유도체로 구성된 군으로부터 선택된다. 용어 "갈락토만난 중합체 유도체"는, 갈락토만난 중합체(즉, 갈락토만난 검)로부터 수득한 화합물을 의미한다. 본원에 사용된 용어 "양이온성 갈락토만난"은 양이온성 기가 첨가된 갈락토만난 중합체를 지칭한다. 용어 "양쪽성 갈락토만난"은 중합체가 순 양전하를 갖도록 양이온성 기 및 음이온성 기가 첨가된 갈락토만난 중합체를 지칭한다.

한 실시양태에서, 갈락토만난은 비-구아 갈락토만난이다. 비-구아 갈락토만난 중합체 유도체를 제조하는데 사용하기 위한 검은 전형적으로 천연 발생 물질, 예컨대 식물의 씨앗 또는 콩으로서 수득한다. 다양한 비-구아 갈락토만난 중합체의 예는 타라(Tara) 검(3 부의 만노스/1 부의 갈락토스), 로커스트(Locust) 콩 또는 캐롭(Carob)(4 부의 만노스/1 부의 갈락토스), 및 카시아 검(5 부의 만노스/1 부의 갈락토스)을 포함하나, 이에 제한되지 않는다. 본원에서, 용어 "비-구아 갈락토만난 중합체 유도체"는 비-구아 갈락토만난 중합체로부터 화학적으로 개질된 양이온성 중합체를 지칭한다. 바람직한 비-구아 갈락토만난 중합체 유도체는, 상표명 카시아 EX-906 하에서 판매되며, 노베온 인코포레이티드(Noveon Inc.)로부터 상업적으로 입수가능한 양이온성 카시아이다.

갈락토만난 중합체 유도체는 약 1,000 내지 약 10,000,000의 분자량을 갖는다. 한 실시양태에서, 갈락토만난 중합체 유도체는 약 5,000 내지 약 3,000,000의 분자량을 갖는다. 본원에 사용된 용어 "분자량"은 중량 평균 분자량을 지칭한다. 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정할 수 있다. 예시적인 갈락토만난 중합체 유도체는 스타우디겔(Staudigel) 등의 미국 특허 공보 제2006/0099167A 1호에 기재되어 있다.

실리콘 컨디셔닝제

또한, 조성물은 하나 이상의 비휘발성 가용성 또는 비가용성 실리콘 컨디셔닝제를 포함한다. 가용성은 실리콘 컨디셔닝제가 조성물의 수성 담체와 혼화가능하여 동일한 상의 일부를 형성함을 의미한다. 비가용성은 실리콘이 수성 담체로부터 별개의, 비연속적인 상, 예컨대 실리콘 액적의 에멀젼 또는 현탁액 형태를 형성함을 의미한다.

실리콘 모발 컨디셔닝제는 조성물의 약 .05 중량% 내지 약 20 중량%, 바람직하게는 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.5 중량% 내지 약 5 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.5 중량% 내지 약 3 중량%의 수준으로 조성물에 사용될 수 있다.

가용성 실리콘은 실리콘 코폴리올(copolyol), 예컨대 디메티콘 코폴리올, 예를 들어 폴리에테르 실록산-개질된 중합체, 예컨대 폴리프로필렌 옥시드, 폴리에틸렌 옥시드 개질된 폴리디메틸실록산을 포함하며, 여기서 에틸렌 및/또는 프로필렌 옥시드의 수준은 조성물에의 용해도를 갖기에 충분하다.

또한, 비가용성 실리콘은 본 발명에 유용하다. 본원에 사용하기 위한 비가용성 실리콘 모발 컨디셔닝제는 25 ℃에서 바람직하게는 약 1,000 내지 약 2,000,000 센티스토크, 보다 바람직하게는 약 10,000 내지 약 1,800,000, 보다 더 바람직하게는 약 100,000 내지 약 1,500,000의 점도를 가질 것이다. 점도는 다우 코닝 코포레이트 시험법(Dow Corning Corporate Test Method, CTM0004, 1970년 7월 20일)에 설명되어 있는 바와 같이 유리 모세관 점도계에 의해 측정할 수 있다.

한 실시양태에서, 조성물은 적어도 제1 및 제2 실리콘 컨디셔닝제를 포함한다. 제1 실리콘 컨디셔닝제는 25 ℃에서 약 1 내지 약 100, 보다 바람직하게는 약 3 내지 약 50, 및 가장 바람직하게는 약 5 내지 약 10 센티스토크의 상대적으로 낮은 점도를 가지며, 제2 실리콘 컨디셔닝제는 25 ℃에서 약 1,000 내지 약 2,000,000, 보다 바람직하게는 약 10,000 내지 약 1,000,000, 및 가장 바람직하게는 약 50,000 내지 200,000 센티스토크의 점도를 갖는다. 본원에 논의된 제1 및 제2 실리콘 컨디셔닝제에 따른 2 이상의 실리콘 컨디셔닝제의 제공은, 곧고 부드러운 스타일을 달성하도록 개선된 퍼짐성(spreadability), 미끄러짐, 및 감소된 스타일링 시간을 제공한다고 여겨진다. 적절한 비가용성, 비휘발성 실리콘 유체는 폴리알킬 실록산, 폴리아릴 실록산, 폴리알킬아릴 실록산, 폴리에테르 실록산 공중합체, 및 그의 혼합물을 포함한다. 또한, 모발 컨디셔닝 성질을 갖는 다른 비가용성, 비휘발성 실리콘 유체를 사용할 수 있다. 본원에 사용된 용어 "비휘발성"은 실리콘이 약 260 ℃ 이상, 바람직하게는 약 275 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 약 300 ℃ 이상의 끓는점을 가짐을 의미할 것이다. 이러한 물질은 주위 조건에서 현저한 증기압이 없거나 매우 낮은 물질을 나타낸다. 용어 "실리콘 유체"은 25 ℃에서 1,000,000 센티스토크 미만의 점도를 갖는 유동성 실리콘 물질을 의미할 것이다. 일반적으로, 유체의 점도는 25 ℃에서 약 5 내지 1,000,000 센티스토크, 바람직하게는 약 10 내지 약 300,000 센티스토크일 것이다.

또한, 본원의 실리콘 유체는 다음의 구조를 갖는 폴리알킬 또는 폴리아릴 실록산을 포함한다:

여기서, R은 알킬 또는 아릴이며, x는 약 7 내지 약 8,000이 사용될 수 있는 정수이다. "A"는 실리콘 사슬 말단을 차단하는 기를 나타낸다.

실록산 사슬(R) 상에 또는 실록산 사슬 말단(A)에 치환된 알킬 또는 아릴 기는, 얻어진 실리콘이 실온에서 유체로 남아있고, 소수성이면서, 자극적, 독성이거나 모발에 적용했을 때 유해하지 않으며, 조성물의 다른 구성성분과 양립가능하고, 정상 사용 및 저장 조건 하에서 화학적으로 안정하고, 모발에 침착될 수 있고 이를 컨디셔닝할 수 있는 한, 임의의 구조를 가질 수 있다.

적절한 A 기는 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 및 아릴옥시를 포함한다. 실리콘 원자 상의 두 R 기는 동일한 기 또는 상이한 기를 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 두 R 기는 동일한 기를 나타낸다. 적절한 R 기는 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸을 포함한다. 바람직한 실리콘은 폴리디메틸 실록산, 폴리디에틸실록산, 및 폴리메틸페닐실록산이다. 폴리디메틸실록산이 특히 바람직하다.

사용할 수 있는 비휘발성 폴리알킬실록산 유체는, 예를 들어, 폴리디메틸실록산을 포함한다. 이들 실록산은, 예를 들어, 제네럴 일렉트릭 컴퍼니(General Electric Company)의 비스카실(Viscasil)R 및 SF 96 시리즈, 및 다우 코닝의 다우 코닝 200 시리즈로부터 입수가능하다.

또한, 사용할 수 있는 폴리알킬아릴 실록산 유체는, 예를 들어, 폴리메틸페닐실록산을 포함한다. 이들 실록산은, 예를 들어, 제네럴 일렉트릭 컴퍼니로부터 SF 1075 메틸 페닐 유체로서 또는 다우 코닝으로부터 556 화장품 등급 유체로서 입수가능하다.

모발의 윤기 특성 증진에 특히 바람직한 것은, 고도로 아릴화된 실리콘, 예컨대 약 1.46 이상, 특히 약 1.52 이상의 굴절률을 갖는 고도로 페닐화된 폴리에틸 실리콘이다. 이들 고굴절률 실리콘을 사용할 때, 아래에 기재된 바와 같이 표면 장력을 감소시키고 물질의 필름 형성 능력을 증진시키도록, 이들을 확산제(spreading agent), 예컨대 계면활성제 또는 실리콘 수지와 혼합해야 한다.

비록 에틸렌 옥시드 또는 에틸렌 옥시드 및 프로필렌 옥시드의 혼합물을 또한 사용할 수 있지만, 사용할 수 있는 폴리에테르 실록산 공중합체는, 예를 들어, 폴리프로필렌 옥시드 개질된 폴리디메틸실록산(예를 들어, 다우 코닝 DC-1248)을 포함한다. 에틸렌 옥시드 및 폴리프로필렌 옥시드 수준은 본원의 조성물에의 용해도를 방지할 만큼 충분히 낮아야 한다.

적절한 실리콘 유체를 개시하는 참고문헌은 미국 특허 제2,826,551호, 진(Geen); 미국 특허 제3,964,500호, 드라코프(Drakoff), 1976년 6월 22일 발행; 미국 특허 제4,364,837호, 파데르(Pader); 및 영국 특허 제849,433호, 울스턴(Woolston)을 포함한다. 또한, 문헌 [Petrarch Systems, Inc., 1984]에서 배포된 규소 화합물이 유용하다. 이 참조문헌은 (독점적이진 않지만) 광범위한 목록의 적절한 실리콘 유체를 제공한다.

실리콘 컨디셔닝제에 특히 유용할 수 있는 또 다른 실리콘 모발 컨디셔닝 물질은 비가용성 실리콘 검이다. 본원에 사용된 용어 "실리콘 검"은, 25 ℃에서 1,000,000 센티스토크 이상의 점도를 갖는 폴리오르가노실록산 물질을 의미한다. 실리콘 검은 페트라치(Petrarch) 및 기타, 예를 들어 미국 특허 제4,152,416호(스핏저(Spitzer) 등, 1979년 5월 1일 발행), 및 문헌 [Noll, Walter, Chemistry and Technology of Silicones, New York: Academic Press 1968]에 기재되어 있다. 또한, 실리콘 검은 문헌 [General Electric Silicone Rubber Product Data Sheets SE 30, SE 33, SE 54 and SE 76]에 기재되어 있다. "실리콘 검"은 전형적으로 약 200,000 초과, 일반적으로 약 200,000 내지 약 1,000,000의 질량 분자량을 가질 것이다. 구체적인 예는 폴리디메틸실록산, (폴리디메틸실록산) (메틸비닐-실록산) 공중합체, 폴리(디메틸실록산) (디페닐 실록산)(메틸-비닐실록산) 공중합체 및 그의 혼합물을 포함한다.

한 실시양태에서, 실리콘 모발 컨디셔닝제는 약 1,000,000 센티스토크 초과의 점도를 갖는 폴리디메틸실록산 검, 및 약 10 센티스토크 내지 약 100,000 센티스토크의 점도를 갖는 폴리디메틸실록산 유체의 혼합물을 포함하며, 여기서 검 대 유체의 비는 약 30:70 내지 약 70:30, 바람직하게는 약 40:60 내지 약 60:40이다.

실리콘 컨디셔닝제에 포함될 수 있는 임의의 성분은 실리콘 수지이다. 실리콘 수지는 고도로 가교결합된 중합성 실록산 시스템이다. 가교결합은 실리콘 수지의 제조 동안 1관능성 또는 2관능성 또는 둘 모두인 실란과 3관능성 및 4관능성 실란의 혼입을 통해 도입된다. 당업계에 널리 이해되는 바와 같이, 실리콘 수지를 얻기 위해 요구되는 가교도는 실리콘 수지에 혼입된 구체적인 실란 단위에 따라 달라질 것이다. 일반적으로, 강성, 또는 경질, 필름으로 건조되도록 충분한 수준의 3관능성 및 4관능성 실록산 단량체 단위 (및 그에 따라, 충분한 수준의 가교결합)를 갖는 실리콘 물질이, 이들이 실리콘 수지인 것으로 고려된다. 산소 원자 대 규소 원자의 비는 특정 실리콘 물질에서의 가교결합도에 대한 지표이다. 규소 원자 당 약 1.1 이상의 산소 원자를 갖는 실리콘 물질이 일반적으로 본원에서의 실리콘 수지일 것이다. 바람직하게는, 산소:규소 원자의 비는 약 1.2:1.0 이상이다. 실리콘 수지의 제조에 사용하는 실란은, 모노메틸-, 디메틸-, 트리메틸-, 모노페닐-, 디페닐-, 메틸-페닐-, 모노비닐-, 및 메틸비닐-클로로실란, 및 테트라-클로로실란을 포함하고, 메틸-치환된 실란을 가장 통상적으로 사용한다. 바람직한 수지는 제네럴 일렉트릭에 의해 GE SS4230 및 SS4267로서 공급된다. 상업적으로 입수가능한 실리콘 수지는 일반적으로 저점도 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 유체에 용해된 형태로 공급될 것이다. 본원에 사용되는 실리콘 수지는 당업자에게 쉽게 명백할 바와 같이, 이러한 용해된 형태로 본원의 조성물에 혼입되고 공급되어야 한다.

실리콘 수지는 모발에의 실리콘 침착을 증진시킬 수 있고, 고굴절률 볼륨을 갖는 모발의 광택을 증진시킬 수 있다.

실리콘에 대한 배경 자료, 예를 들어 실리콘 유체, 검, 및 수지, 뿐만 아니라 실리콘의 제조를 논의하는 단락을 문헌 [Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, Volume 15, Second Edition, pp 204-308, John Wiley & Sons, Inc., 1989]에서 찾을 수 있다.

실리콘 물질 및 특히, 실리콘 수지는 "MDTQ" 명명법으로서 당업자에게 잘 알려진 약칭 명명 시스템에 따라 편리하게 식별할 수 있다. 이 시스템 하에서, 실리콘은 실리콘을 구성하는 다양한 실록산 단량체 단위의 존재에 따라 기재된다. 요약하면, 기호 M은 1관능성 단위 (CH₃)₃SiO)_.5를 나타내고; D는 2관능성 단위 (CH₃)₂SiO를 나타내고; T는 3관능성 단위 (CH₃)SiO_{1 .5}를 나타내고; Q는 4관능성(quardri-) 또는 4관능성(tetra-) 단위 SiO₂를 나타낸다. 단위 기호의 프라임, 예를 들어, M', D', T', 및 Q'는 메틸 이외의 치환체를 나타내고, 각각의 경우에 구체적으로 정의되어야 한다. 전형적인 대안 치환체는 예컨대 비닐, 페닐, 아민, 히드록실, 등과 같은 기를 포함한다. 실리콘 내의 각각의 유형의 단위의 총 수 (또는 그의 평균)를 나타내는 기호의 첨자로 또는 분자량과 조합된 구체적으로 나타낸 비로서의 다양한 단위의 몰비가 MDTQ 시스템 하의 실리콘 물질의 기재를 완성한다. 실리콘 수지에서 D, D', M 및/또는 M'에 대한 T, Q, T' 및/또는 Q'의 더 높은 상대적 몰량은 더 높은 가교결합도의 지표이다. 그러나, 상기에 논의된 바와 같이, 전체 가교결합도는 또한 산소 대 규소 비로 나타내어질 수 있다.

본원에 사용한 바람직한 실리콘 수지는 MQ, MT, MTQ, MQ 및 MDTQ 수지이다. 따라서, 바람직한 실리콘 치환체는 메틸이다. MQ 수지가 특히 바람직하며, 여기서 M:Q 비는 약 0.5:1.0 내지 약 1.5:1.0이고 수지의 평균 분자량은 약 1000 내지 약 10,000이다.

추가적인 컨디셔닝제

또한, 조성물은 하나 이상의 추가적인 컨디셔닝제, 예컨대 양이온성 계면활성제, 양이온성 중합체, 비휘발성 실리콘 (예를 들어 가용성 및 비가용성 실리콘), 비휘발성 탄화수소, 포화 C₁₄ 내지 C₂₂ 직쇄 지방 알콜, 비휘발성 탄화수소 에스테르, 및 그의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 포함한다. 바람직한 컨디셔닝제는 양이온성 계면활성제, 양이온성 중합체, 포화 C₁₄ 내지 C₂₂ 직쇄 지방 알콜, 및 4급 암모늄 염이다. 본원의 구성성분은 약 0.1 % 내지 약 99 %, 보다 바람직하게는 약 0.5 % 내지 약 90 %의 컨디셔닝제를 포함할 수 있다. 그러나, 수성 담체의 존재 하에서, 컨디셔닝제는 바람직하게는 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 90 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.5 내지 약 60 중량% 및 가장 바람직하게는 약 1 중량% 내지 약 50 중량%를 차지한다.

양이온성 계면활성제

본원의 조성물에 유용한 양이온성 계면활성제는 아미노 또는 4급 암모늄 모이어티를 함유한다. 양이온성 계면활성제는 필수적이지는 않지만, 바람직하게는, 본원의 조성물에 비가용성일 것이다. 본원에 유용한 것 중 양이온성 계면활성제는 다음의 문헌에 개시되어 있다: 문헌 [M.C. Publishing Co., McCutcheon's, Detergents & Emulsifiers, (North American edition 1979)]; 문헌 [Schwartz, et al., Surface Active Agents, Their Chemistry and Technology, New York: Interscience Publishers, 1949]; 미국 특허 제3,155,591호(힐퍼(Hilfer), 1964년 11월 3일 발행); 미국 특허 제3,929,678호(러플린(Laughlin) 외., 1975년 12월 30일 발행); 미국 특허 제3,959,461호(배일리(Bailey) 외, 1976년 5월 25일 발행); 및 미국 특허 제4,387,090호(볼리히, 주니어(Bolich, Jr.), 1983년 6월 7일 발행).

4급 암모늄-함유 양이온성 계면활성제 물질 중에서 본원에 유용한 것은 다음의 일반식을 갖는 것이다:

여기서, R₁ 내지 R₄는 독립적으로 약 1 내지 약 22 탄소 원자의 지방족 기 또는 약 1 내지 약 22 탄소 원자를 갖는 방향족, 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 히드록시알킬, 아릴 또는 알킬아릴 기이며; X는 염-형성 음이온, 예컨대 할로겐, (예를 들어 클로라이드, 브로마이드), 아세테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트 니트레이트, 설페이트, 및 알킬설페이트 라디칼로부터 선택된다. 지방족 기는, 탄소 및 수소 원자에 더하여, 에테르 연결, 및 다른 기, 예컨대 아미노 기를 함유할 수 있다. 더 긴 사슬 지방족 기, 예를 들어, 약 12 탄소 이상의 것은 포화 또는 불포화일 수 있다. 디-장쇄(예를 들어, 디 C₁₂-C₂₂, 바람직하게는 C₁₆-C₁₈, 지방족, 바람직하게는 알킬), 디-단쇄(예를 들어, C₁-C₃ 알킬, 바람직하게는 C₁-C₂ 알킬) 4급 암모늄 염이 특히 바람직하다.

또한, 1차, 2차 및 3차 지방 아민의 염이 적절한 양이온성 계면활성제 물질이다. 이러한 아민의 알킬 기는 바람직하게는 약 12 내지 약 22 탄소 원자를 가지며, 치환 또는 비치환일 수 있다. 본원에 유용한 이러한 아민은, 스테아르아미도 프로필 디메틸 아민, 디에틸 아미노 에틸 스테아르아미드, 디메틸 스테아르아민, 디메틸 소이아민, 소이아민, 미리스틸 아민, 트리데실 아민, 에틸 스테아릴아민, N-탈로우프로판 디아민, (5 몰의 에틸렌 옥시드로) 에톡실화된 스테아릴아민, 디히드록시 에틸 스테아릴아민, 및 아라키딜베헤닐아민을 포함한다. 적절한 아민 염은 할로겐, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트, 시트레이트, 락테이트, 및 알킬 설페이트 염을 포함한다. 이러한 염은 스테아릴아민 히드로클로라이드, 소이아민 클로라이드, 스테아릴아민 포르메이트, N-탈로우프로판 디아민 디클로라이드 및 스테아르아미도프로필 디메틸아민 시트레이트를 포함한다. 본 발명에 유용한 것으로 포함된 양이온성 아민 계면활성제는 미국 특허 제4,275,055호, (나치티갈(Nachtigal) 등, 1981년 6월 23일 발행)에 포함된다.

양이온성 계면활성제를, 바람직하게는 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 10 중량%, 보다 바람직하게는 약 0.25 중량% 내지 약 5 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.5 중량% 내지 약 2 중량%의 수준으로 사용할 수 있다.

양이온성 중합체 컨디셔닝제

본원의 자연적으로 유도된 양이온성 전분 중합체에 더하여, 조성물은 또한 하나 이상의 추가적인 양이온성 중합체 컨디셔닝제를 포함할 수 있다. 양이온성 중합체 컨디셔닝제는 바람직하게는 수용성일 것이다. 양이온성 중합체는 전형적으로 양이온성 계면활성제에 대해 상기에 개시된 바와 동일한 범위로 사용된다.

본원의 양이온성 중합체는 일반적으로 약 5,000 이상, 전형적으로 약 10,000 이상, 및 약 1천만 미만의 중량 평균 분자량을 가질 것이다. 바람직하게는, 분자량은 약 100,000 내지 약 2백만이다. 양이온성 중합체는 일반적으로 양이온성 질소-함유 모이어티, 예컨대 4급 암모늄 또는 양이온성 아미노 모이어티, 및 그의 혼합물을 가질 것이다.

양이온 전하 밀도는 바람직하게는 약 0.1 meq/g 이상, 보다 바람직하게는 약 1.5 meq/g 이상, 보다 더 바람직하게는 약 1.1 meq/g 이상, 가장 바람직하게는 약 1.2 meq/g 이상이다. 중합체의 "양이온 전하 밀도"는, 그 용어가 본원에 사용된 바와 같이, 중합체를 이루는 단량체 단위 상의 양전하의 수 대 상기 단량체 단위의 분자량의 비를 지칭한다. 양이온 전하 밀도에 중합체 분자량을 곱하여 주어진 중합체 사슬 상에 양으로 하전된 부위의 수를 결정한다. 이러한 적절한 양이온성 중합체의 평균 분자량은 일반적으로 약 10,000 내지 1천만, 바람직하게는 약 50,000 내지 약 5백만, 보다 바람직하게는 약 100,000 내지 약 3백만일 것이다. 당업자는 아미노-함유 중합체의 전하 밀도가 pH 및 아미노 기의 등전점에 따라 변화할 수 있음을 알 것이다. 전하 밀도는 지시된 용도의 pH에서 상기 한계 내에 속해야 한다.

임의의 음이온성 반대이온을, 수용성 기준을 만족하는 한 양이온성 중합체에 대해 사용할 수 있다. 적절한 반대이온은 할라이드(예를 들어, Cl, Br, I, 또는 F, 바람직하게는 Cl, Br, 또는 I), 설페이트, 및 메틸설페이트를 포함한다. 이 목록은 배타적이지 않으므로, 그 외의 것을 또한 사용할 수 있다.

양이온성 질소-함유 모이어티는 일반적으로 양이온성 모발 컨디셔닝 중합체의 총 단량체 단위의 일부에 치환체로서 존재할 것이다. 따라서, 양이온성 중합체는 4급 암모늄 또는 양이온성 아민-치환된 단량체 단위 및 본원에서 간격자(spacer) 단량체 단위로 지칭되는 다른 비-양이온성 단위의 공중합체, 삼원공중합체(terpolymer), 등을 포함할 수 있다. 이러한 중합체는 당업계에 알려져 있으며, 다양한 것들이 문헌 [CTFA Cosmetic Ingredient Dictionary, 3rd edition, edited by Estrin, Crosley, and Haynes], (문헌 [The Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Association, Inc., Washington, D.C., 1982)])에서 발견된다.

적절한 양이온성 중합체는, 예를 들어, 수용성 간격자 단량체, 예컨대 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 알킬 및 디알킬 아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 메타크릴아미드, 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트, 비닐 카프로락톤, 및 비닐 피롤리돈을 갖는 양이온성 아민 또는 4급 암모늄 관능기를 갖는 비닐 단량체의 공중합체를 포함한다. 알킬 및 디알킬 치환된 단량체는 바람직하게는 C₁ 내지 C₇ 알킬 기, 보다 바람직하게는 C₁ 내지 C₃ 알킬 기를 갖는다. 다른 적절한 간격자 단량체는 비닐 에스테르, 비닐 알콜(폴리-비닐 아세테이트의 가수분해에 의해 만들어짐), 말레산 무수물, 프로필렌 글리콜, 및 에틸렌글리콜을 포함한다.

양이온성 아민은 조성물의 pH 및 특정 종에 따라 1차, 2차, 또는 3차 아민일 수 있다. 일반적으로, 2차 및 3차 아민, 특히 3차 아민이 바람직하다.

본원의 양이온성 중합체는 아민- 및/또는 4급 암모늄-치환된 단량체 및/또는 양립가능한 간격자 단량체로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물을 포함할 수 있다.

적절한 양이온성 모발 컨디셔닝 중합체는, 예를 들어: 1-비닐-2-피롤리돈 및 1-비닐-3-메틸-이미다졸륨 염(예를 들어, 클로라이드 염)의 공중합체 (미국화장품협회, "CTFA"에 의해 업계에서 폴리쿼터늄(Polyquaternium)-16으로서 지칭됨), 예컨대 바스프 와이언도트 코포레이션(BASF Wyandotte Corp.) (미국 뉴저지주 파시파니 소재)으로부터 상표명 루비쿼트(LUVIQUAT)(예를 들어, 루비쿼트 FC 370) 하에서 상업적으로 입수가능한 것; 1-비닐-2-피롤리돈 및 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체(CTFA에 의해 업계에서 폴리쿼터늄-11로서 지칭됨), 예컨대 가프 코포레이션(Gaf Corporation) (미국 뉴저지주 웨인 소재)로부터 상표명 가프쿼트(GAFQUAT) (예를 들어, 가프쿼트 755N) 하에서 상업적으로 입수가능한 것; 양이온성 디알릴 4급 암모늄-함유 중합체, 예를 들어, 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체 및 아크릴아미드 및 디메틸디알릴암모늄 클로라이드의 공중합체(업계(CTFA)에서 각각 폴리쿼터늄 6 및 폴리쿼터늄 7으로 지칭됨); 및 미국 특허 제4,009,256호에 기재된 바와 같이, 3 내지 5 탄소 원자를 갖는 불포화 카르복실산의 단독- 및 공-중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산(mineral acid) 염을 포함한다.

사용할 수 있는 다른 양이온성 중합체는 다당류 중합체, 예컨대 양이온성 셀룰로스 유도체 및 양이온성 전분 유도체를 포함한다.

본원에 사용하기에 적절한 양이온성 다당류 중합체 물질은 다음의 식을 갖는 것을 포함한다:

여기서: 상술한 바와 같이, A는 무수글루코스 잔기, 예컨대 전분 또는 셀룰로스 무수글루코스 잔기이며, R은 알킬렌 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌, 또는 히드록시알킬렌 기, 또는 그의 조합이며, R₁, R₂, 및 R₃은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬, 또는 알콕시아릴 기이며, 각 기는 약 18 이하의 탄소 원자를 함유하며, 각 양이온성 모이어티에 대한 탄소 원자의 총 개수(즉, R₁, R₂ 및 R₃의 탄소 원자의 합)는 바람직하게는 약 20 이하이며, X는 음이온성 반대이온이다.

양이온성 셀룰로스는 트리메틸 암모늄 치환 에폭시드와 반응한 히드록시에틸 셀룰로스의 염으로서, 아머콜 코포레이션(미국 뉴저지주 에디슨 소재)으로부터 그의 폴리머(Polymer) JR® 및 LR® 시리즈의 중합체로 입수가능하며, 업계 (CTFA)에서 폴리쿼터늄 10으로 지칭된다. 또 다른 유형의 양이온성 셀룰로스는 라우릴 디메틸 암모늄-치환된 오폭시드와 반응한 히드록시에틸 셀룰로스의 중합성 4급 암모늄 염을 포함하며, 업계 (CTFA)에서 폴리쿼터늄 24으로 지칭된다. 이들 물질은 아머콜 코포레이션(미국 뉴저지주 에디슨 소재)으로부터 상표명 폴리머 LM-200® 하로 입수가능하다.

사용할 수 있는 다른 양이온성 중합체는 양이온성 구아 검 유도체, 예컨대 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드 (셀라니즈 코포레이션(Celanese Corp.)으로부터 그의 재규어 R 시리즈로 상업적으로 입수가능함)를 포함한다. 다른 물질은 4급 질소-함유 셀룰로스 에테르(예를 들어, 미국 특허 제3,962,418호에 기재된 바와 같다), 및 에테르화된 셀룰로스 및 전분의 공중합체 (예를 들어, 미국 특허 제3,958,581호에 기재된 바와 같다)를 포함한다.

상기 논의된 바와 같이, 본원의 양이온성 중합체는 수용성이다. 그러나, 이는 이것이 조성물에 반드시 가용성이라는 의미는 아니다. 그러나, 바람직하게는, 양이온성 중합체는 조성물에, 또는 양이온성 중합체 및 음이온성 물질에 의해 형성된 조성물 중의 복합 코아세르베이트 상에 가용성이다. 양이온성 중합체의 복합 코아세르베이트를, 본원의 조성물에 임의로 첨가할 수 있는 음이온성 중합체(예를 들어, 나트륨 폴리스티렌 설포네이트)로, 또는 음이온성 계면활성제로 형성할 수 있다 . 그러나, 본원의 조성물은 실질적으로 음이온성 계면활성제를 갖지 않는다. 음이온성 계면활성제가 존재하는 경우, 이는 오직 조성물의 약 5 중량% 미만, 바람직하게는 약 3 중량% 미만, 및 가장 바람직하게는 약 2 중량% 미만의 양으로 사용된다.

조성물은 조성물의 약 0.05 중량% 내지 약 10 중량%의 추가적인 양이온성 컨디셔닝 중합체를 포함할 수 있다. 한 실시양태에서, 조성물은 조성물의 약 0.05 중량% 내지 약 2 중량%의 양이온성 컨디셔닝 중합체를 포함한다.

수성 담체

또한, 조성물은 수성 담체를 포함한다. 바람직하게는, 수성 담체는 조성물의 약 50 중량% 내지 약 99.8 중량%의 양으로 존재한다. 수성 담체는 다른 액체, 수-혼화성 또는 수용성 용매, 예컨대 저급 알킬 알콜, 예를 들어 C₁ 내지 C₅ 알킬 1가 알콜, 바람직하게는 C₂ 내지 C₃ 알킬 알콜을 임의로 포함할 수 있는 수상(water phase)을 포함한다. 그러나, 액체 지방 알콜은 조성물의 수성 상에 혼화되어야 한다. 상기 지방 알콜은 자연적으로 수성 상에 혼화될 수 있거나 공동 용매 또는 계면활성제의 사용을 통해 혼화되게 할 수 있다.

한 실시양태에서, 조성물은 25 ℃에서 약 5,000 cP 이상, 바람직하게는 약 8,000 cP 내지 약 50,000 cP, 보다 바람직하게는 약 15,000 cP 내지 약 35,000 cP의 점도를 갖는 에멀젼이다. 점도는 20 RPM에서 브룩필드(Brookfield) RVT로 결정한다.

항-비듬 활성물

또한, 조성물은 항-비듬 활성물을 포함할 수 있다. 항-비듬 활성물의 적절한 비제한적인 예는 피리딘티온 염(즉, 아연 피리티온), 아졸, 황화셀레늄, 미립자 황, 각질용해제, 및 그의 혼합물을 포함한다. 이러한 항-비듬 활성물은 조성물의 필수 구성성분과 물리적으로 및 화학적으로 양립가능해야 하며, 그렇지 않으면 제품의 안정성, 미감 또는 성능을 과도하게 손상시키지 않아야 한다.

피리딘티온 항균제 및 항-비듬제는, 예를 들어, 미국 특허 제 2,809,971호; 미국 특허 제3,236,733호; 미국 특허 제3,753,196호; 미국 특허 제3,761,418호; 미국 특허 제4,345,080호; 미국 특허 제4,323,683호; 미국 특허 제4,379,753호; 및 미국 특허 제4,470,982호에 기재되어 있다.

아졸 항균제는 이미다졸 예컨대 클림바졸 및 케토코나졸을 포함한다.

황화셀레늄 화합물은, 예를 들어, 미국 특허 제2,694,668호; 미국 특허 제3,152,046호; 미국 특허 제4,089,945호; 및 미국 특허 제4,885,107호에 기재되어 있다.

또한, 황을 조성물의 미립자 항균제/항-비듬제로 사용할 수 있다.

조성물은 하나 이상의 각질용해제, 예컨대 살리실산을 더 포함할 수 있다.

추가적인 항균제 활성물은 멜라루카(melaleuca) (차나무) 및 숯 추출물을 포함할 수 있다.

입자

또한, 조성물은 입자를 포함할 수 있다. 유용한 입자는 천연, 무기, 합성, 또는 반합성일 수 있다. 본 발명에 있어서, 조성물의 약 20 중량% 이하, 보다 바람직하게는 약 10 중량% 이하, 및 보다 더 바람직하게는 2 중량% 이하의 입자를 혼입하는 것이 바람직하다. 한 실시양태에서, 입자는 약 300 μm 미만의 평균 중간 입자 크기를 갖는다.

천연 입자의 비제한적인 예는 소수성 타피오카 전분, 옥수수 전분 및 건과일 입자를 포함한다.

무기 입자의 비제한적인 예는 콜로이드성 실리카, 건식(fumed) 실리카, 침강 실리카, 실리카 겔, 규산마그네슘, 유리 입자, 탈크, 미카, 세리사이트, 및 다양한 천연 및 합성 점토, 예를 들어 벤토나이트, 헥토라이트, 및 몬모릴로나이트를 포함한다.

합성 입자의 예는 실리콘 수지, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리에스테르, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 폴리아미드 (예를 들어, 나일론(Nylon)®), 에폭시 수지, 요소 수지, 아크릴 분말, 등을 포함한다.

하이브리드 입자의 비제한적인 예는 세리사이트 및 가교결합된 폴리스티렌 하이브리드 분말, 및 미카 및 실리카 하이브리드 분말을 포함한다.

다른 성분

본원의 조성물은 이러한 조성물을 화장용으로 또는 미적으로 더 허용가능하게 하는 데에 적절하거나, 그에 추가적인 사용 이점을 제공하는 다양한 다른 임의의 구성성분을 함유할 수 있다. 이러한 종래의 임의의 성분은 당업자에게 잘 알려져 있다.

광범위한 추가적인 성분을 본원의 조성물로 배합할 수 있다. 이들은 다음을 포함한다: 다른 컨디셔닝제; 모발-고정 중합체; 세제 계면활성제, 예컨대 비이온성, 양쪽성, 및 쌍성이온성 계면활성제; 추가적인 농화제 및 현탁화제, 예컨대 잔탄 검, 구아 검, 히드록시에틸 셀룰로스, 메틸 셀룰로스, 히드록시에틸셀룰로스, 전분 및 전분 유도체; 점도 개질제, 예컨대 장쇄 지방산의 메탄올아미드, 예컨대 코코모노에탄올 아미드; 결정질 현탁화제; 진주광택 조제(aids), 예컨대 에틸렌글리콜 디스테아레이트; 보존제, 예컨대 벤질 알콜, 메틸 파라벤, 프로필 파라벤 및 이미다졸리디닐 요소; 폴리비닐 알콜; 에틸 알콜; pH 조정제, 예컨대 시트르산, 나트륨 시트레이트, 숙신산, 포스페이트, 수산화나트륨, 탄산나트륨; 염, 일반적으로, 예컨대 칼륨 아세테이트 및 염화나트륨; 착색제, 예컨대 임의의 FD&C 또는 D&C 염료; 모발 산화(표백)제, 예컨대 과산화수소 과붕산염 및 과황산 염; 모발 환원제, 예컨대 티오글리콜레이트; 향수; 격리제, 예컨대 디나트륨 에틸렌디아민 테트라-아세테이트; 및 중합체 가소제, 예컨대 글리세린, 디이소부틸 아디페이트, 부틸 스테아레이트, 및 프로필렌 글리콜. 이러한 임의의 성분을 일반적으로 개별적으로 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 10.0 중량%, 바람직하게는 약 0.05 중량% 내지 약 5.0 중량%의 수준으로 사용한다.

사용 방법

모발 스트레이트화 방법은 유효량의 본원의 조성물을 모발에 투여하는 단계를 포함할 수 있다. 조성물은 하나 이상의 유화 실리콘 탄성체, 하나 이상의 자연적으로 유도된 침착 중합체, 하나 이상의 실리콘 컨디셔닝제, 및 수성 담체를 포함한다. 이들 각 구성성분은 이하에서 보다 자세히 논의된다.

본원의 조성물 사용 방법은 샴푸, 컨디셔닝, 이후 모발 건조 단계를 포함할 수 있다. 모발을 말린 후, 유효량의 조성물을 모발에 도포한다. 바람직하게는, 조성물을 모발 전체에, 순차적으로, 부분적으로 도포한다. 이후, 조성물이 건조됨에 따라, 임의로 바람 건조기의 도움으로 모발을 스타일링할 수 있다. 특히, 바람 건조기를 사용한 경우, 모발 스트레이트화에 열이 요구되지 않는다. 따라서, 바람 건조기를 열 없이 공기를 적용하도록 조정할 수 있다. 조성물이 모발에 열의 적용 없이 스트레이트화를 가져오는 반면, 사용자는 본원의 조성물의 스트레이트화 효과의 감소 없이 원하는 스타일을 달성하도록, 임의로 가열된 스타일링 도구, 예컨대 플랫 아이언을 사용할 수 있다.

본원의 조성물의 스트레이트화 효과는 누적적 효과를 갖는다. 따라서, 조성물 사용 방법을 하루 한 번, 일련의 연속일에 걸쳐 반복해야 한다. 구체적으로, 방법을 3 일 이상, 및 바람직하게는 일련의 5 연속일에 걸친 기간 동안 반복해야 한다.

본원의 조성물을 "리브-인(leave-in)" 컨디셔너로서 도포한다. 리브-인 컨디셔너는 헹굼 없이 모발에 도포하도록 설계된 조성물이다. 조성물에 의해 달성된 모발 스트레이트화 효과는 헹구면 감소된다. 따라서, 본원의 방법에 따르면, 조성물을 도포 후 모발로부터 헹궈내지 않는다.

실시예

본원의 모든 부, 퍼센트, 및 비는, 달리 구체화되지 않은 한, 중량에 의한다. 일부 구성성분은 묽은 용액으로 희석함에 따라 공급업자로부터 올 수 있다. 주어진 수준은 달리 구체화되지 않은 한, 활성 물질의 중량 퍼센트를 반영한다.

본원에 기재된 실시예 및 실시양태는 오직 예시적인 목적이며, 이에 비추어 다양한 변형 또는 변화가 본 발명의 범위를 벗어남 없이 당업자에게 제안될 것임이 이해된다.

Claims (10)

1. a) 하나 이상의 유화 실리콘 탄성체;
   b) 하나 이상의 자연적으로 유도된 침착 중합체;
   c) 하나 이상의 실리콘 컨디셔닝제; 및
   d) 수성 담체
   를 포함하는 모발 스트레이트화 조성물.
2. 제1항에 있어서, 유화 실리콘 탄성체가 폴리옥시알킬렌화 실리콘 탄성체 및 폴리글리세롤화 실리콘 탄성체로부터 선택되는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.
3. 제1항에 있어서, 상기 유화 실리콘 탄성체가 조성물의 약 2 중량% 내지 약 15 중량%로 존재하는, 모발 스트레이트화 조성물.
4. 제1항에 있어서, 상기 자연적으로 유도된 침착 중합체가 셀룰로스 침착 중합체, 구아 양이온성 침착 중합체, 및 비-구아 갈락토만난 침착 중합체로부터 선택되는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.
5. 제1항에 있어서, 상기 자연적으로 유도된 침착 중합체가 양이온 개질된 전분 중합체인, 모발 스트레이트화 조성물.
6. 제5항에 있어서, 상기 양이온 개질된 전분 중합체의 공급원이 옥수수 전분, 밀 전분, 쌀 전분, 찰옥수수 전분, 귀리 전분, 카시아 전분, 찰보리, 찰벼 전분, 찹쌀 전분, 스위트 라이스(sweet rice) 전분, 아미오카, 감자 전분, 타피오카 전분, 귀리 전분, 사고(sago) 전분, 스위트 라이스, 및 그의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.
7. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 실질적으로 음이온성 계면활성제를 갖지 않는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.
8. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 실질적으로 반응성 모발 스트레이트화 화학물질을 갖지 않는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.
9. 제8항에 있어서, 상기 반응성 모발 스트레이트화 화학물질이 티오글리콜산, 암모늄티오글리콜레이트, 시스테아민, 수산화나트륨, 수산화칼슘, 수산화구아니딘, 및 그의 혼합물로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.
10. 제8항에 있어서, 상기 조성물이 실질적으로 포름알데히드, 포르몰, 메르캅탄, 설폰산, 아황산염, 및 그의 혼합물을 갖지 않는 것인, 모발 스트레이트화 조성물.