KR20160078599A - Organic light emitting display panel and organic light emitting display device - Google Patents

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KR20160078599A
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이시규
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide an organic light-emitting display panel and an organic light-emitting display device, wherein misalignment is prevented and process risk is reduced by increasing a recognition rate of various devices with respect to a process key. The organic light-emitting display panel according to the present invention comprises: signal lines placed on a substrate; transistors arranged in respective regions where a gate line and a data line among the signal lines intersect with each other; a light-blocking layer placed between the substrate and the transistors; and multiple process keys placed in non-display regions on the substrate and composed of the same material with a color filter arranged to correspond to multiple pixel regions included in display regions. At least one among the signal lines, the electrodes of the transistors and the light-blocking layer has a multilayer structure including a conducting layer and one or more light-blocking layers. The reflectivity of the process keys with respect to light radiated through the substrate from the outside is greater than the reflectivity of regions around the process keys.

Description

유기발광표시패널 및 유기발광표시장치{ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY PANEL AND ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display panel and an organic light emitting display device,

본 발명은 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display panel and an organic light emitting display.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Diode Display Device) 등과 같은 여러 가지 표시장치가 활용되고 있다.2. Description of the Related Art [0002] As an information-oriented society develops, there have been various demands for a display device for displaying images. Recently, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) Various display devices such as an OLED (Organic Light Emitting Diode Display Device) are being utilized.

평판표시장치 분야에서, 지금까지는 가볍고 전력소모가 적은 액정표시장치가 널리 사용되어 왔으나, 액정표시장치는 스스로 빛을 생성하지 못하는 수광 소자(non-emissive device)여서, 휘도(brightness), 대조비(contrast ratio), 시야각(viewing angle) 및 대면적화 등에 단점이 있다.2. Description of the Related Art In the field of flat panel display devices, a liquid crystal display device which has been light and consumes less power has been widely used. However, since a liquid crystal display device is a non-emissive device which can not generate light itself, ratio, a viewing angle, and a large area.

이에 따라, 이러한 액정표시장치의 단점을 극복할 수 있는 새로운 평판표시장치의 개발이 활발하게 전개되고 있는데, 새로운 평판표시장치 중 하나인 유기발광 표시장치는 스스로 빛을 생성하는 발광소자이므로, 액정표시장치에 비하여 휘도, 시야각 및 대조비 등이 우수하며, 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량박형이 가능하고, 소비전력 측면에서도 유리하다.Accordingly, a new flat panel display device capable of overcoming the disadvantages of such a liquid crystal display device has actively been developed. One of the new flat panel display devices is a light emitting device that generates light by itself, It has excellent brightness, viewing angle and contrast ratio as compared with the device, and since it does not need a backlight, it is possible to make a lightweight thin type, and is also advantageous in terms of power consumption.

유기발광표시장치는 각 화소영역의 트랜지스터에 연결된 유기발광다이오드로부터 출사되는 빛을 이용하여 영상을 표시하는데, 유기발광다이오드는 양극(anode)과 음극(cathode) 사이에 유기물로 이루어진 유기층을 형성하고 전기장을 가함으로 빛을 내는 소자로서, 낮은 전압에서 구동이 가능하고, 전력 소모가 비교적 적고, 가볍고 연성(flexible) 기판 상부에도 제작이 가능한 특징을 갖는다.The organic light emitting diode displays an image using light emitted from an organic light emitting diode (OLED) connected to a transistor of each pixel region. The organic light emitting diode includes an organic layer formed of an organic material between an anode and a cathode, Which is capable of driving at a low voltage, has a relatively low power consumption, and is light and can be fabricated on a flexible substrate.

이러한 유기발광표시장치를 제조하는 공정에 있어서, 기판의 미스 얼라인먼트(Miss Alignment)를 방지하기 위하여 프로세스 키(Process Key, 또는 얼라인먼트 키)를 형성하여 이를 감지함으로써 기판의 정밀한 배열을 수행한다.In the process of manufacturing such an OLED display device, a process key (or an alignment key) is formed to prevent misalignment of the substrate and the precise alignment of the substrate is performed by detecting the process key.

또한 프로세스 키는 기판을 합착하는 공정에만 필요한 것이 아니라, 기판을 형성하는 세부공정을 진행하는 경우, 각 공정단계를 진행하는 장비 내 스테이지에 정밀하게 정렬하기 위하여도 필요하다. 이러한 프로세스 키는 기판 중 비표시영역에 다수 형성되어 있다.Also, the process key is not only required for the process of attaching the substrates, but is also necessary for precise alignment on the stage in the equipment, in which each process step is carried out, when proceeding the sub-process of forming the substrate. Many of these process keys are formed in the non-display area of the substrate.

다만, 공정 중 필요한 장비들은, 주변부의 반사율과 프로세스 키의 반사율의 차이를 통해 프로세스 키를 인식하여 얼라인을 수행한 후 공정을 수행하게 되는데, 프로세스 키와 그 주위 영역의 반사율의 차이가 미미하여 프로세스 키가 인식되지 않는 문제점이 발생한다.However, during the process, the necessary devices recognize the process key through the difference between the reflectance of the peripheral portion and the reflectance of the process key, perform the alignment process, and perform the process. Since the difference in reflectance between the process key and the surrounding region is small, A problem that the key is not recognized occurs.

본 발명의 목적은, 프로세스 키에 대한 여러 장비들의 인식율을 상승시켜, 미스 얼라인먼트를 방지하고, 공정 위험성을 감소시키는 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치를 제공함에 있다.It is an object of the present invention to provide an organic light emitting display panel and an organic light emitting display device capable of raising the recognition rate of various devices for a process key, preventing misalignment, and reducing process risk.

전술한 문제점을 해결하기 위해, 일 측면에서, 본 발명에 따른 유기발광표시패널은, 기판 상에 위치하는 신호라인, 신호라인 중 게이트라인과 데이터라인이 교차하는 영역마다 배치된 트랜지스터, 기판과 상기 트랜지스터 사이에 위치하는 차광층 및 기판 상의 비표시영역에 위치하고, 표시영역에 포함된 다수의 화소영역에 대응되도록 배치된 컬러필터와 동일한 물질로 이루어지는 다수의 프로세스 키(Process Key)를 포함할 수 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided an OLED display panel including: a signal line disposed on a substrate; a transistor disposed in a region where signal lines intersect the gate line and the data line; And a plurality of process keys located in the non-display region on the substrate, the process key being made of the same material as the color filter arranged to correspond to a plurality of pixel regions included in the display region .

여기서, 신호라인, 트랜지스터의 전극 및 차광층 중 적어도 하나는 도전층과 하나 이상의 광차단층을 포함하는 다중층 구조를 갖고, 기판을 통해 외부에서 조사된 광에 대한 프로세스 키의 반사율은 프로세스 키의 주위 영역의 반사율보다 클 수 있다.Here, at least one of the signal line, the electrode of the transistor, and the light shielding layer has a multilayer structure including a conductive layer and at least one light blocking layer, and the reflectance of the process key for the light emitted from the outside through the substrate, May be greater than the reflectivity of the region.

다른 측면에서, 본 발명에 따른 유기발광표시장치는, 기판 상에 위치하고, 적어도 일부에 도전층과 하나 이상의 광차단층을 포함하는 다중층 구조를 갖는 패턴 및 기판 상의 비표시영역에 위치하고, 표시영역에 포함된 다수의 화소영역에 대응되도록 배치된 컬러필터와 동일한 물질로 이루어지는 프로세스 키를 포함할 수 있다. According to another aspect of the present invention, there is provided an organic light emitting display according to the present invention, which includes: a pattern that is located on a substrate and has a multilayer structure including at least a conductive layer and at least one light blocking layer; And a process key made of the same material as the color filter arranged to correspond to a plurality of included pixel regions.

여기서, 기판을 통해 외부에서 조사된 광에 대한 프로세스 키의 반사율은 상기 프로세스 키의 주위 영역의 반사율보다 클 수 있다.Here, the reflectance of the process key with respect to light externally irradiated through the substrate may be greater than that of the peripheral region of the process key.

본 발명에 따른 유기발광표시패널 및 유기발광표시장치는, 프로세스 키에 대한 여러 장비들의 인식율을 상승시켜, 미스 얼라인먼트를 방지하고, 공정 위험성을 감소시키는 효과를 갖는다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The organic light emitting display panel and the organic light emitting display according to the present invention increase the recognition rate of various devices for the process key, prevent misalignment, and reduce process risk.

도 1은 실시예들이 적용되는 유기발광표시장치에 관한 개략적인 시스템 구성도이다.
도 2는 실시예들 따른 유기발광표시패널의 제조 공정에 있어서 모기판과 프로세스 키를 나타낸 개략적인 평면도이다.
도 3은 실시예들에 따른 유기발광표시패널을 나타낸 개략적인 평면도이다.
도 4는 일실시예에 따른 유기발광표시패널의 단면도이다.
도 5는 다른 실시예에 따른 유기발광표시패널의 단면도이다.
도 6a는 프로세스 키가 도전층과 두개의 광차단층으로 이루어진 유기발광표시패널을 나타내는 단면도이고, 도 6b는 프로세스 키가 컬러필터와 동일한 층에 형성된 경우의 유기발광표시패널을 나타내는 단면도이다.
도 7a는 프로세스 키가 도전층과 두개의 광차단층으로 이루어진 유기발광표시패널이 트레이에 내장된 경우를 나타내는 단면도와 개략적인 평면도이고, 도 7b는 프로세스 키가 컬러필터와 동일한 물질로 이루어진 유기발광표시패널이 트레이에 내장된 경우를 나타내는 단면도와 개략적인 평면도이다.
도 8a는 도전층과 두개의 광차단층으로 이루어진 프로세스 키의 반사율을 나타내는 그래프이고, 도 8b는 녹색 컬러필터와 동일한 물질로 이루어진 프로세스 키의 반사율을 나타내는 그래프이다.1 is a schematic system configuration diagram of an organic light emitting display device to which embodiments are applied.
2 is a schematic plan view showing a mother substrate and a process key in a manufacturing process of the organic light emitting display panel according to the embodiments.
3 is a schematic plan view showing an organic light emitting display panel according to embodiments.
4 is a cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to an embodiment.
5 is a cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to another embodiment.
FIG. 6A is a cross-sectional view showing an organic light emitting display panel in which a process key is composed of a conductive layer and two light blocking layers, and FIG. 6B is a cross-sectional view showing an organic light emitting display panel in a case where process keys are formed in the same layer as a color filter.
7A is a cross-sectional view and a schematic plan view showing an organic light emitting display panel in which a process key is composed of a conductive layer and two light blocking layers, and FIG. 7B is a cross- Sectional view and a schematic plan view showing the case where the panel is embedded in the tray.
FIG. 8A is a graph showing reflectance of a process key made up of a conductive layer and two light blocking layers, and FIG. 8B is a graph showing reflectance of a process key made of the same material as the green color filter.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예들을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. It should be noted that, in adding reference numerals to the constituent elements of the drawings, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals whenever possible, even if they are shown in different drawings. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

또한, 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 같은 맥락에서, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소의 "상"에 또는 "아래"에 형성된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접 또는 또 다른 구성 요소를 개재하여 간접적으로 형성되는 것을 모두 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are intended to distinguish the constituent elements from other constituent elements, and the terms do not limit the nature, order or order of the constituent elements. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected to or connected to the other component, It should be understood that an element may be "connected," "coupled," or "connected." In the same context, when an element is described as being formed on an "upper" or "lower" side of another element, the element may be formed either directly or indirectly through another element As will be understood by those skilled in the art.

도 1은 실시예들이 적용되는 유기발광표시장치에 관한 개략적인 시스템 구성도이다.1 is a schematic system configuration diagram of an organic light emitting display device to which embodiments are applied.

도 1을 참조하면, 유기발광표시장치(100)는 m개의 데이터 라인(DL1, ... , DLm, m: 자연수) 및 n개의 게이트 라인(GL1, ... , GLn, n: 자연수)이 형성된 표시패널(140), m개의 데이터 라인(DL1, ... , DLm)을 구동하는 데이터 구동부(120), n개의 게이트 라인(GL1, ... , GLn)을 순차적으로 구동하는 게이트 구동부(130), 데이터 구동부(120) 및 게이트 구동부(130)를 제어하는 타이밍 컨트롤러(110) 등을 포함한다. 1, the OLED display 100 includes m data lines DL1, ..., DLm, m: a natural number) and n gate lines GL1, ..., GLn, n: A data driver 120 for driving the m data lines DL1 to DLm and a gate driver for sequentially driving n gate lines GL1 to GLn, A timing controller 110 for controlling the data driver 120 and the gate driver 130, and the like.

우선, 타이밍 컨트롤러(110)는 호스트 시스템으로부터 입력되는 수직/수평 동기신호(Vsync, Hsync)와 영상데이터(data), 클럭신호(CLK) 등의 외부 타이밍 신호에 기초하여 데이터 구동부(120)를 제어하기 위한 데이터 제어신호(Data Control Signal, DCS)와 게이트 구동부(130)를 제어하기 위한 게이트 제어신호(Gate Control Signal, GCS)를 출력한다. 또한, 타이밍 컨트롤러(110)는 호스트 시스템으로부터 입력되는 영상데이터(data)를 데이터 구동부(120)에서 사용하는 데이터 신호 형식으로 변환하고 변환된 영상데이터(data')를 데이터 구동부(120)로 공급할 수 있다.First, the timing controller 110 controls the data driver 120 based on the vertical / horizontal synchronizing signals (Vsync, Hsync) input from the host system and the external timing signals such as the video data (data) and the clock signal (CLK) And a gate control signal (GCS) for controlling the data driving signal (DCS) and the gate driving unit 130 to output the data control signal (DCS). The timing controller 110 may convert the video data input from the host system to a data signal format used by the data driver 120 and supply the converted video data 'data' to the data driver 120 have.

데이터 구동부(120)는 타이밍 컨트롤러(110)로부터 입력되는 데이터 제어신호(DCS) 및 변환된 영상데이터(data')에 응답하여, 영상데이터(data')를 계조 값에 대응하는 전압 값인 데이터신호(아날로그 화소신호 혹은 데이터 전압)로 변환하여 데이터라인(D1~Dm)에 공급한다.In response to the data control signal DCS and the converted video data 'data' input from the timing controller 110, the data driver 120 converts the video data 'data' into a data signal Analog pixel signals or data voltages) and supplies them to the data lines D1 to Dm.

한편, 게이트 구동부(130)는 타이밍 컨트롤러(110)로부터 입력되는 게이트 제어신호(GCS)에 응답하여 게이트라인(G1~Gn)에 스캔신호(게이트 펄스 또는 스캔펄스, 게이트 온신호)를 순차적으로 공급한다.The gate driver 130 sequentially supplies a scan signal (a gate pulse, a scan pulse, and a gate-on signal) to the gate lines G1 to Gn in response to a gate control signal GCS input from the timing controller 110 do.

게이트 구동부(130)는, 구동 방식에 따라서, 도 1에서와 같이 표시패널(140)의 한 측에만 위치할 수도 있고, 2개로 나누어져 표시패널(140)의 양측에 위치할 수도 있다. 1, the gate driver 130 may be located on one side of the display panel 140, or on both sides of the display panel 140 in two.

유기발광표시패널(140) 상의 각 화소영역(P)은, 데이터라인들(D1~Dm)과 게이트라인들(G1~Gn)에 의해 정의된 영역에 형성되어 매트릭스 형태로 배치될 수 있다.Each pixel region P on the organic light emitting display panel 140 may be formed in an area defined by the data lines D1 to Dm and the gate lines G1 to Gn and arranged in a matrix form.

한편, 실시예들에 따른 유기발광표시장치(100)는, 기판(미도시) 상에 위치하고, 적어도 일부에 도전층(미도시)과 하나 이상의 광차단층(미도시)을 포함하는 다중층 구조를 갖는 패턴(미도시)과, 기판(미도시) 상의 비표시영역에 위치하고, 표시영역에 포함된 다수의 화소영역(P)에 대응되도록 배치된 컬러필터(미도시)와 동일한 물질로 이루어지는 프로세스 키(미도시)를 포함한다.The organic light emitting diode display 100 according to the embodiments includes a multilayer structure including a conductive layer (not shown) and at least one light blocking layer (not shown) on a substrate (not shown) (Not shown) disposed in a non-display area on a substrate (not shown) and arranged to correspond to a plurality of pixel areas P included in the display area, and a process key (Not shown).

여기서, 패턴(미도시)은, 기판(미도시) 상에 위치하는 신호라인(G1~Gn, D1~Dm), 트랜지스터의 전극(미도시) 및 트랜지스터에 대응되도록 위치하는 차광층(미도시)을 포함한다.A pattern (not shown) is formed on the signal lines G1 to Gn and D1 to Dm on the substrate (not shown), the electrodes of the transistor (not shown), and the light- .

기판(미도시)을 통해 외부에서 조사된 광에 대한 프로세스 키(미도시)의 반사율은 프로세스 키(미도시)의 주위 영역의 반사율보다 클 수 있다.The reflectance of a process key (not shown) for light radiated from the outside through a substrate (not shown) may be greater than the reflectivity of the peripheral region of the process key (not shown).

패턴(미도시) 중 비표시영역에 위치하는 프로세스 키(Process Key, 미도시)는 얼라인먼트 키(Alignment Key)와 동일한 의미로 사용될 수 있다. 이러한 프로세스 키(미도시)는 여러 종류에 제조 공정 중에 유기발광표시패널(140)을 얼라인(Align)하거나, 모기판(미도시)에서 유기발광표시패널(140)을 분리하는 스크라이빙(Scribing) 공정을 수행할 때 사용되는 구조이다.A process key (not shown) located in a non-display area of a pattern (not shown) may be used in the same sense as an alignment key. Such a process key (not shown) may be formed by aligning the organic light emitting display panel 140 in various kinds of manufacturing processes or by using a scribing method for separating the organic light emitting display panel 140 from a mother substrate (not shown) Scribing) process.

구체적으로, 게이트라인(G1~Gn), 데이터라인(D1~Dm), 고전위전압라인 등의 신호라인과, 각 트랜지스터들의 게이트전극, 소스전극(혹은 드레인전극) 및 차광층(미도시) 중 적어도 하나는 도전층과 하나 이상의 광차단층을 포함할 수 있다.Specifically, signal lines such as gate lines G1 to Gn, data lines D1 to Dm, and high-potential voltage lines, and gate electrodes, source electrodes (or drain electrodes), and shading layers At least one may comprise a conductive layer and one or more light blocking layers.

한편, 프로세스 키(미도시)는 컬러필터(미도시)와 동일한 층에 위치할 수 있고, 컬러필터와 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 녹색(Green)의 색상을 갖는 컬러필터와 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 컬러필터(미도시)를 이루는 물질은, 패턴을 이루는 물질들에 비해 상대적으로 큰 반사율을 갖기 때문에, 각종 장비 또는 장치들이 프로세스 키(미도시)를 보다 용이하게 인식할 수 있도록 한다.On the other hand, the process key (not shown) may be located on the same layer as the color filter (not shown) and may be made of the same material as the color filter, for example, ≪ / RTI > A material constituting a color filter (not shown) has a relatively large reflectance as compared with materials constituting a pattern, so that various devices or devices can more easily recognize a process key (not shown).

즉, 본 발명에 따른 프로세스 키(미도시)에 의해, 증착 장비를 비롯한 각종 장비들의 프로세스 키에 대한 인식율이 향상되고, 유기발광표시패널(140)의 미스 얼라인먼트(Miss Alignment)가 방지되는 효과가 발생한다.That is, the process key (not shown) according to the present invention improves the recognition rate of the process key of various devices including the deposition equipment and prevents the misalignment of the organic light emitting display panel 140 Occurs.

이하 도면들을 참고하여, 실시예들을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings.

이하 도면들을 참고하여, 실시예들을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 실시예들 따른 유기발광표시패널의 제조 공정에 있어서 모기판과 프로세스 키를 나타낸 개략적인 평면도이고, 도 3은 실시예들에 따른 유기발광표시패널을 나타낸 개략적인 평면도이다.FIG. 2 is a schematic plan view showing a mother substrate and a process key in a manufacturing process of the organic light emitting display panel according to the embodiments, and FIG. 3 is a schematic plan view illustrating the organic light emitting display panel according to the embodiments.

도 2 및 도 3을 참조하면, 유기발광표시패널(140)은, 모기판(Mother Substrate, 102) 상에 다수의 유기발광표시패널(140)을 형성한 후, 스크라이빙(Scribing, 또는 절단) 공정을 거쳐 형성된다.2 and 3, the organic light emitting diode display panel 140 includes a plurality of organic light emitting display panels 140 formed on a mother substrate 102, and scribing or cutting ) Process.

이러한 제조 공정 중에, 증착 공정, 포토리소그래피(Photolithography) 공정 또는 스크라이빙 공정이 포함될 수 있고, 각각의 공정마다 얼라인(Align, 또는 배열)을 위한 프로세스 키(260)가 포함될 수 있다. During this manufacturing process, a deposition process, a photolithography process, or a scribing process may be included, and a process key 260 for each process may be included for each process.

여기서 프로세스 키(또는 얼라인먼트 키, 260)는, 각 장비(또는 장치) 내에서 유기발광표시패널(140)이 정확하게 얼라인될 수 있도록 위치 정보를 제공하는 기능을 수행한다. 또한 프로세스 키(260)는 스크라이빙 공정에서, 절단 위치 정보를 제공하는 기능을 수행한다.Here, the process key (or the alignment key 260) performs a function of providing position information so that the OLED display panel 140 can be precisely aligned in each device (or device). The process key 260 also performs a function of providing cutting position information in the scribing process.

다만, 미스 얼라인먼트 현상이 발생하는 경우, 즉 각종 장치들이 프로세스 키를 인식할 수 없거나 부정확하게 인식하는 경우에는, 증착이나 포토리소그래피 중의 노광, 현상 공정이 정밀하지 않게 수행되고, 이에 따라 제품의 품질이 저하되고, 신뢰성이 저하되며, 색재현율이나 명암비(Contrast Ratio) 등의 시감 특성이 저하되는 문제점이 발생할 수 있다. However, when misalignment occurs, that is, when various apparatuses can not recognize or incorrectly recognize the process key, exposure and development processes during deposition and photolithography are not performed precisely, The reliability is deteriorated, and the luminous efficiency such as the color recall ratio and the contrast ratio may be deteriorated.

유기발광표시패널(140)은 표시영역(Active Area, AA)과 표시영역(AA)을 둘러싸는 비표시영역(Non active Area, NA)으로 구분되고, 다수의 프로세스 키(260)가 유기발광표시패널의 비표시영역(NA)에 위치할 수 있다(도 3 참조). The organic light emitting display panel 140 is divided into an active area AA and a nonactive area NA surrounding the display area AA, And can be located in the non-display area NA of the panel (see Fig. 3).

표시영역(AA)은 외부로 화상을 표시하는 영역으로서, 폭, 넓이, 면적 등은 다양하게 설계될 수 있다. 또한 표시영역(AA)은 유기발광표시패널(140)의 가장자리영역을 제외한 영역을 의미한다. 이러한 표시영역(AA)에는 다수의 화소들과 신호라인들이 위치한다.The display area AA is an area for displaying an image to the outside, and the width, area, area, and the like can be designed variously. In addition, the display area AA refers to an area excluding an edge area of the OLED display panel 140. In this display area AA, a plurality of pixels and signal lines are located.

비표시영역(NA)은 유기발광표시패널(140)의 가장자리영역으로서, 각종 신호라인(미도시)이나 패드부(미도시)가 위치할 수 있다. 개구율(Aperture Ration)을 낮추기 위해 비표시영역(NA)의 폭은 작아질 수 있다.The non-display area NA is an edge area of the organic light emitting display panel 140, and various signal lines (not shown) and a pad unit (not shown) may be positioned. The width of the non-display area NA can be reduced to lower the aperture ratio.

유기발광표시패널(140)의 제조 공정에서 사용되는 각종 장비들은, 얼라인을 위해, 광을 조사하여 반사율 차이를 분석하여 프로세스 키(260)를 인식하게 된다. 실시예들에 따른 프로세스 키(260)는 컬러필터(미도시)와 동일한 물질로 이루어지기 때문에, 각종 장비들이 얼라인을 위해 광을 조사할 때, 주변 영역에 비해 높은 반사율을 구현하게 되고, 이에 따라 인식율을 향상시켜 미스 얼라인먼트를 방지하는 효과를 발생시킨다.Various devices used in the manufacturing process of the organic light emitting display panel 140 recognize the process key 260 by analyzing the reflectance difference by irradiating light for alignment. Because the process key 260 according to embodiments is made of the same material as the color filter (not shown), when various devices illuminate the light for alignment, a higher reflectivity than the surrounding area is achieved, Accordingly, the recognition rate is improved and an effect of preventing misalignment is generated.

다만, 도 2 및 도 3에 도시된 모기판(102), 유기발광표시패널(140) 및 프로세스 키(260) 등은, 설명의 편의를 위해 예로 든 것일 뿐이고, 본 발명은 이에 제한되지 않고, 다양한 형태와 구조로 설계될 수 있음에 유의하여야 한다.It should be noted that the mother substrate 102, the organic light emitting display panel 140, the process key 260, and the like shown in FIGS. 2 and 3 are merely examples for convenience of explanation, and the present invention is not limited thereto, It should be noted that the present invention can be designed in various forms and structures.

도 4는 일실시예에 따른 유기발광표시패널의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to an embodiment.

도 4를 참조하면, 유기발광표시패널(140)은, 기판(204) 상에 위치하는 신호라인(238, 238'), 신호라인(238, 238') 중 게이트라인(238)과 데이터라인(238')이 교차하는 영역마다 배치된 트랜지스터, 기판(204)과 트랜지스터 사이에 위치하는 차광층(206) 및 기판(204) 상의 비표시영역(NA)에 위치하고, 표시영역(AA)에 포함된 다수의 화소영역(P)에 대응되도록 배치된 컬러필터(248)와 동일한 물질로 이루어지는 다수의 프로세스 키(Process Key)를 포함할 수 있다.4, the OLED display panel 140 includes signal lines 238 and 238 'located on a substrate 204, a gate line 238 and a data line 238' of the signal lines 238 and 238 ' A light shielding layer 206 positioned between the substrate 204 and the transistor and a non-display area NA on the substrate 204 disposed in the display area AA And a plurality of process keys including the same material as the color filter 248 arranged to correspond to the plurality of pixel regions P. [

여기서, 신호라인(238, 238'), 트랜지스터의 전극(220, 230) 및 차광층(206) 중 적어도 하나는 도전층(212, 226, 236, 244, 244')과 하나 이상의 광차단층(208, 222, 232, 240, 240')을 포함하는 다중층 구조를 갖는다.Here, at least one of the signal lines 238 and 238 ', the electrodes 220 and 230 of the transistor, and the light shielding layer 206 are electrically connected to the conductive layers 212, 226, 236, 244 and 244' , 222, 232, 240, 240 ').

한편, 기판(204)을 통해 외부에서 조사된 광에 대한 프로세스 키(260)의 반사율은 프로세스 키(260)의 주위 영역의 반사율보다 클 수 있다.On the other hand, the reflectance of the process key 260 with respect to light externally irradiated through the substrate 204 may be greater than the reflectivity of the peripheral region of the process key 260.

도 4에서 A-A' 부분은, 유기발광표시패널(140)의 비표시영역(NA)에서 프로세스 키(260)의 단면을 나타내고, B-B' 부분은 트랜지스터가 위치하는 부분의 단면을 나타내며, C-C' 부분은 발광이 일어나는 부분의 단면을 나타낸다. 4, the AA 'portion shows a cross section of the process key 260 in the non-display area NA of the organic light emitting display panel 140, the BB' portion shows a cross section of the portion where the transistor is located, Represents a cross section of a portion where light emission occurs.

다만, 도 4에 도시된 유기발광표시패널(140)은, 설명의 편의를 위해 예시적으로 도시된 단면일 뿐이고, 실시예들은 이에 제한되지 않고, 다양한 구조로 형성될 수 있음에 유의하여야 한다.It should be noted that the organic light emitting display panel 140 shown in FIG. 4 is merely a cross-sectional view exemplarily illustrated for convenience of explanation, and embodiments are not limited thereto and may be formed in various structures.

구체적으로, 도 4의 B-B' 부분에 도시된 바와 같이, 유기발광표시패널(140)은 기판(204) 상에 형성된 차광층(206), 차광층(206)을 덮는 제1절연막(214), 제1절연막(214) 상에 위치하는 트랜지스터와 게이트라인(238), 트랜지스터 상에 위치하는 제1전극(254), 제1전극(254)을 덮도록 형성된 뱅크(252), 뱅크(252) 상에 순차적으로 형성된 유기층(256) 및 제2전극(258)을 포함할 수 있다.4, the organic light emitting display panel 140 includes a light shielding layer 206 formed on a substrate 204, a first insulating layer 214 covering the light shielding layer 206, A bank 252 formed to cover the first electrode 254 and the first electrode 254 located on the transistor and the bank 252 on the first insulating film 214 and the gate line 238, The organic layer 256 and the second electrode 258 may be sequentially formed on the first electrode 252 and the second electrode 258, respectively.

여기서 유기발광표시패널(140)의 트랜지스터는, 일예로서, 산화물 트랜지스터일 수 있다. 또한 트랜지스터는 반도체층(216), 반도체층(216) 상에 형성된 제2절연막(218), 제2절연막(218) 상에 형성된 게이트전극(220), 게이트전극(220) 상에 형성된 제3절연막(228) 및 제3절연막(228) 상에 형성되고, 컨택홀을 통해 반도체층(216)에 연결되는 소스전극/드레인전극(230)을 포함할 수 있다. 여기서 제2절연막(218)은 게이트전극(220)과 반도체층(216)을 절연시키는 게이트절연막일 수 있다.Here, the transistor of the organic light emitting display panel 140 may be, for example, an oxide transistor. The transistor includes a semiconductor layer 216, a second insulating layer 218 formed on the semiconductor layer 216, a gate electrode 220 formed on the second insulating layer 218, a third insulating layer 220 formed on the gate electrode 220, A source electrode / drain electrode 230 formed on the first insulating layer 228 and the third insulating layer 228 and connected to the semiconductor layer 216 through a contact hole. Here, the second insulating film 218 may be a gate insulating film which insulates the gate electrode 220 from the semiconductor layer 216.

한편, 유기발광표시패널(140)은 게이트라인(238) 및 소스전극/드레인전극(230) 상에 형성되는 제4절연막(246) 및 제4절연막(246) 상에 형성되는 평탄화층(248)을 포함할 수 있다.The organic light emitting display panel 140 includes a planarization layer 248 formed on the fourth insulation layer 246 and the fourth insulation layer 246 formed on the gate line 238 and the source electrode / . ≪ / RTI >

기판(204)은 글래스(Glass) 기판뿐만 아니라, PET(Polyethylen terephthalate), PEN(Polyethylen naphthalate), 폴리이미드(Polyimide) 등을 포함하는 플라스틱 기판 등일 수 있다. 또한, 기판(202) 상에는 불순원소의 침투를 차단하기 위한 버퍼층(buffering layer)이 더 구비될 수 있다. 버퍼층은 예를 들어 질화실리콘 또는 산화실리콘의 단일층 또는 다수층으로 형성될 수 있다.The substrate 204 may be a glass substrate, a plastic substrate including PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylenenaphthalate), polyimide, or the like. Further, a buffer layer may be further provided on the substrate 202 to block penetration of impurity elements. The buffer layer may be formed of a single layer or multiple layers of, for example, silicon nitride or silicon oxide.

트랜지스터의 반도체층(216)은 금속 산화물로 이루어질 수 있고, 예를 들어, IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), IGO(Indium Gallium Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), IHZO(Indium Hafnium Zinc Oxide) 및 IZZO(In Zirconium Zinc Oxide) 중 하나일 수 있다.The semiconductor layer 216 of the transistor may be formed of a metal oxide. For example, the semiconductor layer 216 may be an indium gallium zinc oxide (IGZO), an indium gallium oxide (IGO), an indium zinc oxide (IZO), an indium zinc oxide (IZO) Zinc Tin Oxide), IHZO (Indium Hafnium Zinc Oxide), and IZZO (In Zirconium Zinc Oxide).

이러한 반도체층(216)은 외부에서 유입된 광에 의하여 전기적 또는 화학적 성질이 변할 수 있기 때문에, 반도체층(216)의 하부에는 차광층(206)이 형성될 수 있다. 차광층(206)은 기판(204)과 사이에 위치하고, 에 대응되도록 형성될 수 있다. 차광층(206)은 외부 광으로부터 반도체층(216)을 보호하고, 외부 광이 반사되어 시인성을 저하시키고, 휘도를 향상시키며, 명암비 특성을 저감시키는 것을 방지하는 기능을 수행한다.The light emitting layer 206 may be formed under the semiconductor layer 216 because the semiconductor layer 216 may change its electrical or chemical properties due to light introduced from the outside. The light-shielding layer 206 is located between the substrate 204 and the light-shielding layer 206, The light shielding layer 206 protects the semiconductor layer 216 from external light and functions to prevent external light from being reflected to reduce visibility, brightness, and contrast ratio characteristics.

한편, 게이트라인(238), 차광층(206), 게이트전극(230), 소스전극/드레인전극(230) 중 적어도 하나는 다중층 구조로 이루어질 수 있다. 구체적으로, 도전층(212, 226, 236, 244)과 하나 이상의 광차단층(264a, 214, 234, 244)으로 이루어질 수 있다. At least one of the gate line 238, the light blocking layer 206, the gate electrode 230, and the source electrode / drain electrode 230 may have a multi-layer structure. Specifically, it may be composed of the conductive layers 212, 226, 236, 244 and one or more light blocking layers 264a, 214, 234, 244.

실시예들에 따른 유기발광표시패널(140)은, 외부 광의 반사율을 저감시키는 편광판(Polarizer)을 포함하지 않기 때문에, 외부 광에 대한 반사율 저감을 위해, 반사율이 높은 금속 재질의 구조에 광차단층(264a, 214, 234, 244)을 형성시킨 구조를 갖는다.Since the organic light emitting display panel 140 according to the embodiments does not include a polarizer for reducing the reflectance of external light, in order to reduce the reflectance with respect to external light, 264a, 214, 234, and 244 are formed.

도 4에서는 하나의 광차단층(264a, 214, 234, 244)이 형성된 경우만을 도시하였지만, 실시예들은 이에 제한되지 않고, 다중층 구조로 이루어진 광차단층(208, 222, 232, 240)일 수도 있다.Although only one light blocking layer 264a, 214, 234, 244 is shown in FIG. 4, embodiments are not limited thereto and may be a light blocking layer 208, 222, 232, .

도전층(212, 226, 236, 244)은, 예를 들어, Al, Pt, Pd, Ag, Mg, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, Mo, Ti, W, Cu 중 어느 하나의 금속 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다.The conductive layers 212, 226, 236 and 244 may be formed of any of Al, Pt, Pd, Ag, Mg, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, Mo, Ti, One metal or an alloy thereof.

광차단층(208, 222, 232, 240)은 유입된 외부 광을 흡수하는 금속으로 되어 있거나 광 흡수제가 도포되어 있거나, 금속 산화물로 이루어져 있거나, 금속 산화물과 광을 흡수하는 금속의 합금 형태로 이루어질 수 있다. The light blocking layers 208, 222, 232, and 240 may be formed of a metal that absorbs the introduced external light, a light absorbent is applied, a metal oxide, or an alloy of a metal oxide and a light absorbing metal. have.

구체적으로 광차단층(208, 222, 232, 240)은, 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등의 금속 산화물일 수 있다. 외부에서 유입된 광은 광차단층(208, 222, 232, 240)의 계면에서 반사되는 광과, 광차단층(208, 222, 232, 240)을 투과하여 도전층(212, 226, 236, 244)의 계면에서 반사되는 광으로 나뉠 수 있고, 이렇게 다른 계면에서 반사되는 광 간에 상쇄 간섭이 발생하여, 유입된 광이 다시 유기발광표시패널(140)의 외부로 되돌아나가지 않게 된다. 이에 따라 외부 광에 따른 시인성 저하를 방지할 수 있다.Specifically, the light blocking layers 208, 222, 232, and 240 may be metal oxides such as indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO). The light incident from the outside passes through the light blocking layer 208, 222, 232, 240 and the light reflected from the interface of the light blocking layers 208, 222, 232, 240 to form the conductive layers 212, 226, 236, And interference between the lights reflected at the other interface occurs so that the introduced light does not return to the outside of the organic light emitting display panel 140 again. Accordingly, deterioration of visibility due to external light can be prevented.

또한 광차단층(208, 222, 232, 240)은 광을 흡수하는 흑색 계열의 색상을 갖는 금속으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 광차단층(208, 222, 232, 240)은 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 나이오븀(Nb), 망간(Mn), 탄탈륨(Ta) 중 어느 하나이거나 이들의 합금일 수 있다. 다만, 실시예들은 이에 제한되지 않고, 광을 흡수할 수 있는 다른 금속일 수 있다. 이에 따라 외부 광이 다시 외부로 반사되는 것을 방지할 수 있다.Also, the light blocking layers 208, 222, 232, and 240 may be formed of a metal having a hue of black color that absorbs light. For example, the light blocking layers 208, 222, 232, and 240 may be any one of molybdenum (Mo), chromium (Cr), titanium (Ti), niobium (Nb), manganese (Mn), and tantalum Or an alloy thereof. However, the embodiments are not limited thereto and may be other metals capable of absorbing light. Thus, it is possible to prevent external light from being reflected back to the outside.

게이트라인(238)의 도전층(244), 차광층(206)의 도전층(212), 게이트전극(220)의 도전층(226) 및 소스전극/드레인전극(230)의 도전층(236) 각각은 동일 물질로 형성될 수 있고, 상이한 물질로 형성될 수도 있다. 또한 게이트라인(238)의 광차단층(240), 차광층(208)의 광차단층(214), 게이트전극(220)의 광차단층(222) 및 소스전극/드레인전극(230)의 광차단층(232) 각각은 동일 물질로 형성될 수 있고, 상이한 물질로 형성될 수도 있다.The conductive layer 244 of the gate line 238, the conductive layer 212 of the light shielding layer 206, the conductive layer 226 of the gate electrode 220 and the conductive layer 236 of the source electrode / Each may be formed of the same material or may be formed of different materials. The light blocking layer 214 of the gate line 238, the light blocking layer 214 of the light blocking layer 208, the light blocking layer 222 of the gate electrode 220 and the light blocking layer 232 of the source electrode / ) May be formed of the same material, or may be formed of different materials.

한편, 제1절연막(214), 제2절연막(218), 제3절연막(228) 및 제4절연막(246)은 SiOx, SiNx, SiON, Al2O3, TiO2, Ta2O5, HfO2, ZrO2, BST 및 PZT중 어느 하나를 포함하는 무기절연물질, 벤조사이클로부텐(BCB) 또는 아크릴(acryl)계 수지(resin)를 포함하는 유기절연물질, 또는 이들의 조합일 수 있다.The first insulating film 214, the second insulating film 218, the third insulating film 228 and the fourth insulating film 246 are formed of SiO x , SiN x , SiON, Al 2 O 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , An inorganic insulating material containing one of HfO 2 , ZrO 2 , BST and PZT, an organic insulating material comprising a benzocyclobutene (BCB) or an acryl resin, or a combination thereof .

한편, 도 4의 C-C' 부분에 도시된 바와 같이, 유기발광표시패널(140)은 기판(204) 상에 형성된 제1절연막(214), 제1절연막(214) 상에 형성된 제3절연막(228), 제3절연막(228) 상에 형성된 신호라인(238'), 신호라인 상에 형성된 제4절연막(246), 제4절연막(246) 상에 형성된 컬러필터(248), 컬러필터(248) 상에 형성된 평탄화층(248), 평탄화층(248) 상에 형성된 제1전극(254), 제1전극(254)의 가장자리를 따라 형성되어 제1전극(254)의 일부를 노출시키는 뱅크(252) 및 제1전극(254)과 뱅크(252) 상에 순차적으로 적층된 유기층(256)과 제2전극(258)을 포함할 수 있다.4, the organic light emitting display panel 140 includes a first insulating layer 214 formed on the substrate 204, a third insulating layer 228 formed on the first insulating layer 214, A signal line 238 'formed on the third insulating film 228, a fourth insulating film 246 formed on the signal line, a color filter 248 formed on the fourth insulating film 246, a color filter 248, A first electrode 254 formed on the planarization layer 248 and a bank 252 formed along the edge of the first electrode 254 to expose a portion of the first electrode 254. The planarization layer 248 is formed on the planarization layer 248, And an organic layer 256 and a second electrode 258 which are sequentially stacked on the first electrode 254 and the bank 252.

여기서 신호라인(238')은, 데이터라인(238')과 기준전압라인 등을 포함할 수 있고, 도전층(244')과 하나 이상의 광차단층(240')의 다중층 구조를 갖는다.Here, the signal line 238 'may include a data line 238', a reference voltage line, and the like, and has a multilayer structure of a conductive layer 244 'and one or more light blocking layers 240'.

도전층(244')은, 예를 들어, Al, Pt, Pd, Ag, Mg, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, Mo, Ti, W, Cu 중 어느 하나의 금속 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으나 이에 제한되지 않는다.The conductive layer 244 'may be formed of any one of Al, Pt, Pd, Ag, Mg, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, Mo, Ti, W, But is not limited thereto.

광차단층(240')은, 금속 산화물, 광을 흡수하는 금속 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. The light blocking layer 240 'may be formed of a metal oxide, a light absorbing metal, or an alloy thereof.

또한, 도 4에서는 단일층으로 이루어진 광차단층(240')이 도시되었지만, 이에 제한되지 않고 다중층으로 이루어질 수 있다.In addition, although a light blocking layer 240 'made of a single layer is shown in FIG. 4, the light blocking layer 240' may be formed of multiple layers.

제1전극(254)은, 애노드 전극(양극)일 수 있고, 일함수 값이 비교적 크고, 투명한 도전성 물질, 예를 들면 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 금속 산화물, ZnO:Al 또는 SnO2:Sb와 같은 금속과 산화물의 혼합물, 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 제1전극(254)은 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT), 그래핀(graphene), 은나노와이어(silver nano wire) 등일 수도 있다.The first electrode 254 may be an anode electrode (positive electrode), and may have a relatively large work function value and may include a transparent conductive material such as a metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) : Mixtures of metals and oxides such as Al or SnO2: Sb, poly (3-methylthiophene), poly [3,4- (ethylene-1,2-dioxy) thiophene (PEDT), polypyrrole and polyaniline The same conductive polymer or the like. The first electrode 254 may be a carbon nanotube (CNT), a graphene, a silver nano wire, or the like.

뱅크(252)는 기판(204) 전체적으로는 매트릭스 형태의 격자구조를 가지고, 제1전극(254)의 가장자리를 에워싸고 있으며, 제1전극(254)의 일부를 노출시킨다. 또한 뱅크(252)는, 예를 들어, 소수성을 갖는 유기물질, 예를 들면, 폴리스티렌(Polystylene), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 벤조사이클로부텐계 수지(benzocyclobuteneseries resin), 실록세인계 수지(siloxane series resin) 및 실란 수지(silane), 아크릴 수지(Acrylic Resin) 등으로 이루어질 수 있다.The bank 252 has a grid-like lattice structure as a whole on the substrate 204 and surrounds the edge of the first electrode 254 and exposes a part of the first electrode 254. [ The bank 252 may also be formed of a material having a hydrophobic organic material such as polystyrene, polymethylmethacrylate (PMMA), benzocyclobuteneseries resin, siloxane-based resin siloxane series resin, silane resin, acrylic resin and the like.

한편, 유기층(256)은 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 발광보조층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함할 수 있다. 도 4의 유기층(256)은 패터닝(patterning)하지 않고 전면에 도포된다. 패터닝 과정이 생략됨으로써, 공정상의 간편함을 가져오는 효과가 있다. The organic layer 256 may include a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, a light emitting auxiliary layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer. The organic layer 256 of FIG. 4 is applied over the entire surface without patterning. And the patterning process is omitted, thereby simplifying the process.

유기층(256) 상에는 제2전극(258)이 형성되는데, 제2전극(258)은 캐소드전극(음극)일 수 있고, 일함수 값이 비교적 작은 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어 하부발광 방식인 경우, 제2전극(258)은 금속일 수 있고 제1금속, 예를 들어 Ag 등과 제2금속, 예를 들어 Mg 등이 일정 비율로 구성된 합금의 단일층 또는 이들의 다수층일 수도 있다.A second electrode 258 is formed on the organic layer 256. The second electrode 258 may be a cathode electrode (negative electrode) and may have a relatively low work function value. For example, in the case of the bottom emission type, the second electrode 258 may be a metal and may be a single layer of an alloy composed of a first metal such as Ag and a second metal such as Mg, Or may be a plurality of layers.

본 명세서에서, 제1전극(254)은, 픽셀전극, 화소전극, 애노드 전극 또는 양극과 동일한 의미로 사용될 수 있고, 제2전극(258)은, 공통전극, 캐소드 전극 또는 음극과 동일한 의미로 사용될 수 있다.In this specification, the first electrode 254 may be used in the same sense as the pixel electrode, the pixel electrode, the anode electrode, or the anode, and the second electrode 258 may be used in the same meaning as the common electrode, the cathode electrode, .

도 4에 도시된 유기발광표시패널(140)의 유기발광 OLED(Organic Light Emitting Diode)는 백색을 발광하는 백색 OLED일 수 있다. 여기서 유기발광 OLED는 제1전극(254)과 유기층(256)과 제2전극(258)을 포함한 것이다. 이러한 유기발광 OLED의 유기층은 전면에 한 번의 공정으로 도포될 수 있는 공정상의 이점이 있고, 이 경우 컬러필터(248)가 포함될 수 있다.The organic light emitting display (OLED) of the organic light emitting display panel 140 shown in FIG. 4 may be a white OLED that emits white light. The organic light emitting OLED includes a first electrode 254, an organic layer 256, and a second electrode 258. The organic layer of such an organic light emitting OLED has a process advantage that can be applied to the front side in one process, in which case a color filter 248 can be included.

각 서브픽셀의 컬러필터(248)는 적색, 청색, 녹색 중 어느 하나의 색상을 가질 수 있다. 또한 백색이 구현되는 서브픽셀의 경우, 컬러필터(248)가 형성되지 않을 수 있다. 적색, 청색, 녹색의 배열은 다양하게 형성될 수 있으며, 각 컬러필터(248) 사이에는 외부 광을 흡수할 수 있는 물질로 이루어진 블랙 매트릭스(Black Matrix, 미도시)가 구비될 수 있다. The color filter 248 of each subpixel may have any one of red, blue, and green colors. Also, in the case of a subpixel in which white is realized, the color filter 248 may not be formed. A black matrix (not shown) made of a material capable of absorbing external light may be provided between the color filters 248.

유기발광표시패널(140)이 하부발광 방식인 경우, 컬러필터(248)는 제1전극(254)의 하부에 위치할 수 있다. 유기층에서 생성된 광은, 캐소드 전극인 제2전극(258)에서 반사되어 컬러필터(248)를 거쳐 유기발광표시패널(140)의 외부로 나가게 된다.When the organic light emitting display panel 140 is a bottom emission type, the color filter 248 may be positioned below the first electrode 254. [ The light generated in the organic layer is reflected by the second electrode 258 which is a cathode electrode, passes through the color filter 248, and exits to the outside of the OLED display panel 140.

컬러필터(248)는 다양한 감광성 물질로 이루어질 수 있고, 컬러필터(248) 제조방법으로는 염색법(Dye method), 안료분산법(Pigment Dispersion method), 전착법(Electrodeposition method) 및 인쇄법(Print method)등이 일반적으로 이용되고 있다. The color filter 248 may be formed of various photosensitive materials and the color filter 248 may be formed by a dye method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, or a printing method ) Are generally used.

염색법은 투명 기판상에 가염성, 감광성 수지를 노광 및 현상한 후 염색액으로 염색하는 방법이고, 안료 분산법은 감광성 수지에 안료를 분산한 감광성이 있는 재료를 도포한 후 노광 및 현상하는 방법과 폴리이미드 중에 안료를 분산한 감광성 없는 재료를 포토레지스트를 사용하여 에칭하는 방법으로 분류할 수 있으며, 전착법은 용매 중에 고분자 수지를 용해 또는 분산시켜, 이것을 전기화학적으로 전극 상에 석출시키는 방법이고, 인쇄법은 수지 중에 안료를 분산한 잉크를 전사하는 방법이다.The dyeing method is a method in which a photosensitive, photosensitive resin is exposed and developed on a transparent substrate and then dyed with a dyeing solution. The pigment dispersing method is a method of applying a photosensitive material in which a pigment is dispersed in a photosensitive resin, A method in which a photosensitive material in which a pigment is dispersed in polyimide is etched using a photoresist. Electrodeposition is a method of dissolving or dispersing a polymer resin in a solvent and electrochemically depositing the polymer on the electrode. The printing method is a method of transferring ink in which a pigment is dispersed in a resin.

도시되지는 않았지만, 예를 들어 설명하면, 제4절연막(246) 상에 색상을 구현하는 안료가 함유된 컬러 레지스트(Color Resist)를 도포한다. 즉, 제4절연막(246) 완전히 덮을 수 있도록 적색(Red)이 착색된 컬러 레지스트를 도포한다.Although not shown, for example, a color resist containing a pigment that colors a color is applied on the fourth insulating film 246. That is, a color resist in which red is colored is coated so as to completely cover the fourth insulating film 246.

컬러 레지스트를 도포하는 방법에는 스핀(spin)법과 롤 코트(roll coat)법이 있는데, 스핀법은 컬러 레지스트를 적당히 흘려 놓고 기판을 고속으로 회전시킴으로써 컬러 레지스트를 기판 전체에 고루 퍼지게 하는 방법이고, 롤 코트법은 롤 위에 전개한 컬러 레지스트를 전사/인쇄하여 가는 방법이다.A method of applying a color resist is a spin method and a roll coat method. The spin method is a method in which a color resist is appropriately flown and a substrate is rotated at a high speed to uniformly spread the color resist over the entire substrate. The coating method is a method of transferring / printing the developed color resist on a roll.

한편, 이러한 컬러 레지스트의 주요 성분은 일반적인 포토 레지스트와 같이 감광 조성물인 광중합 개시제, 모노머(Monomer), 바인더(Binder) 등과 색상을 구현하는 유기 안료 등으로 구성된다.On the other hand, the main component of such a color resist is composed of a photopolymerization initiator, a monomer, a binder and the like, which is a photosensitive composition as well as a general photoresist, and an organic pigment for realizing a color.

계속하여, 적색 컬러 레지스트 상부의 패턴이 형성되는 특정 영역에, 자외선을 조사하여 부분 노광하고, 노광에 의해 광화학적 구조가 변경된 컬러 레지스트를 고온에서 경화한 뒤, 현상액에 담궈 패터닝하여 적색(R)으로 착색된 컬러필터(248)를 형성하게 된다. Subsequently, a specific area where a pattern on the red color resist is formed is irradiated with ultraviolet light to perform partial exposure. The color resist, whose photochemical structure is changed by exposure, is cured at a high temperature, Thereby forming a color filter 248 colored with a color.

녹색(Green), 청색(Blue) 컬러필터(248) 또한 같은 방식에 의해 형성될 수 있다. 다만, 실시예들에 따른 유기발광표시패널(140)의 컬러필터(248)는 전술한 방법들에 의해 모두 구현될 수 있는 것으로 특정한 방법에 한정되지 아니한다.Green, and blue color filters 248 may also be formed in the same manner. However, the color filter 248 of the organic light emitting display panel 140 according to the embodiments is not limited to the specific method, which can be all realized by the methods described above.

한편, 도 4의 A-A' 부분에 도시된 바와 같이, 유기발광표시패널(140)은, 기판(204), 기판(204) 상에 위치하는 제1절연막(214), 제1절연막(214) 상에 위치하는 제3절연막(228), 제3절연막(228) 상에 위치하는 제4절연막(246), 제4절연막(246) 상에 위치하는 다수의 프로세스 키(260)를 포함할 수 있고, 이는 비표시영역(NA)에 위치한다. 도 4에는 하나의 프로세스 키(260)를 도시하였지만, 실시예들에 따른 프로세스 키(260)는 이에 제한되지 않고, 다른 형태와 개수를 가질 수 있다.4, the organic light emitting diode display panel 140 includes a substrate 204, a first insulating layer 214 disposed on the substrate 204, a first insulating layer 214 on the first insulating layer 214, A fourth insulating layer 246 located on the third insulating layer 228 and a plurality of process keys 260 located on the fourth insulating layer 246, It is located in the non-display area NA. Although one process key 260 is shown in FIG. 4, the process key 260 according to embodiments is not limited thereto, and may have other shapes and numbers.

여기서, 프로세스 키(260)는, 전술한 컬러필터(248)와 동일한 층에 위치할 수 있다. 다시 말해서, 프로세스 키(260)는, 컬러필터(248)와 동시에 형성될 수 있고, 동일한 물질로 형성될 수 있으며, 동일한 방식으로 형성될 수 있다.Here, the process key 260 may be located in the same layer as the color filter 248 described above. In other words, the process key 260 may be formed simultaneously with the color filter 248, formed of the same material, and formed in the same manner.

특히, 프로세스 키(260)는, 녹색의 색상을 갖는 컬러필터(248)와 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 녹색 컬러필터(248)는 다른 색상의 컬러필터(248)에 비해, 외부에서 조사된 광에 대해 상대적으로 높은 반사율을 갖기 때문에, 공정 중에 사용되는 장비 또는 장치가 프로세스 키(260)를 보다 용이하게 인식할 수 있도록 하는 효과를 발생시킬 수 있다.In particular, the process key 260 may be made of the same material as the color filter 248 having a green hue. Because the green color filter 248 has a relatively high reflectivity to the externally illuminated light as compared to the color filter 248 of other colors, the equipment or device used during the process makes the process key 260 easier It is possible to generate an effect of recognizing the user.

다만, 프로세스 키(260)는, 적색 또는 청색의 색상을 갖는 컬러필터(248)와 동일 물질로 이루어질 수도 있다. 적색 또는 청색의 색상을 갖는 컬러필터(248)는, 녹색 컬러필터(248)에 비해서는 상대적으로 반사율이 낮지만, 프로세스 키(260)의 주위 영역의 반사율에 비해서는 큰 값을 갖기 때문이다.However, the process key 260 may be made of the same material as the color filter 248 having a color of red or blue. The color filter 248 having a red or blue color has a relatively low reflectance as compared with the green color filter 248 but a large value as compared with the reflectance of the peripheral region of the process key 260. [

즉, 적색 또는 청색의 색상을 갖는 컬러필터(248)는, 인접한 영역의 차광층(206) 또는 신호라인(238, 238')에 비해 큰 광 반사율을 갖고, 이에 따른 반사율 차이에 의해, 프로세스 키(260)에 대한 장치 또는 장비의 인식율이 상승될 수 있다. 따라서 미스 얼라인먼트를 방지하고, 공정 위험성을 감소시키는 효과를 갖는다.That is, the color filter 248 having a red or blue color has a larger light reflectance than the light shielding layer 206 or the signal lines 238 and 238 'in the adjacent region, The recognition rate of the device or equipment for the device 260 may be increased. Therefore, it has an effect of preventing misalignment and reducing process risk.

도 5는 다른 실시예에 따른 유기발광표시패널의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of an organic light emitting display panel according to another embodiment.

도 5에서 도 4와 동일한 구조에 대한 설명은 생략한다.In FIG. 5, the description of the same structure as FIG. 4 is omitted.

도 5를 참조하면, 유기발광표시패널(140)의 차광층(206) 및 신호라인(238, 238')은, 하나 이상의 광차단층(208, 210, 240, 242, 240', 242')과 도전층(212, 244, 244')으로 이루어진 다중층 구조를 가질 수 있다.5, the light shielding layer 206 and the signal lines 238 and 238 'of the organic light emitting display panel 140 may include at least one light blocking layer 208, 210, 240, 242, 240', and 242 ' Layer structure composed of conductive layers 212, 244, and 244 '.

여기서 광차단층(208, 210, 240, 242, 240', 242')은, 금속 산화물로 이루어진 제1차단층(210, 242, 242')과 광을 흡수하는 금속으로 이루어진 제2차단층(208, 240, 240')으로 이루어질 수 있다.Here, the light blocking layers 208, 210, 240, 242, 240 'and 242' are formed of a first barrier layer 210, 242, 242 'made of a metal oxide and a second barrier layer 208 , 240, 240 ').

제1차단층(210, 242, 242')의 경우, 외부 광에 대해 상쇄 간섭을 통해 반사율을 저감시키고, 제2차단층(208, 240, 240')의 경우, 광을 흡수 소멸시키는 기능을 수행한다.In the case of the first barrier layers 210, 242 and 242 ', the reflectance is reduced through destructive interference with external light, while in the case of the second barrier layers 208, 240 and 240' .

전술한 바와 같이, 실시예들에 따른 유기발광표시패널(140)의 경우, 편광판 또는 편광필름이 생략된 구조를 갖기 때문에, 외부에서 유입되는 광에 대한 반사율을 저감시키기 위해 광차단층(208, 210, 240, 242, 240', 242')을 구비한다. 편광판을 포함하지 않음으로써, 제품의 두께가 얇아지고, 제조 원가가 절감되는 효과를 갖는다.As described above, in the case of the organic light emitting display panel 140 according to the embodiments, since the polarizing plate or the polarizing film is omitted, in order to reduce the reflectance for the light incident from the outside, the light blocking layers 208 and 210 , 240, 242, 240 ', 242'. By not including the polarizing plate, the thickness of the product is reduced and the manufacturing cost is reduced.

다만, 반사율을 저감시키면서, 공정을 위한 장비 또는 장치가 프로세스 키(260)를 인식하는 인식율이 저감되는 문제가 발생할 수 있기 때문에, 프로세스 키(260)는 컬러필터(248)와 동일한 물질로 이루어질 수 있고, 예를 들어, 녹색의 색상을 갖는 컬러필터(248)와 동일한 물질로 형성될 수 있다. However, the process key 260 may be made of the same material as the color filter 248, since the process of reducing the reflectance may cause a problem that the recognition rate for recognizing the process key 260 by the equipment or apparatus for the process is reduced. And may be formed of, for example, the same material as the color filter 248 having a green color.

실시예들은, 도 5에 도시된 유기발광표시패널(140)에 제한되지 않고, 게이트전극(220), 소스전극/드레인전극(230) 또한 다중층 구조를 가질 수 있음에 유의하여야 한다.It should be noted that the embodiments are not limited to the organic light emitting display panel 140 shown in FIG. 5, and the gate electrode 220 and the source electrode / drain electrode 230 may also have a multilayer structure.

도 6a는 프로세스 키가 도전층과 두개의 광차단층으로 이루어진 유기발광표시패널을 나타내는 단면도이고, 도 6b는 프로세스 키가 컬러필터와 동일한 층에 형성된 경우의 유기발광표시패널을 나타내는 단면도이다.FIG. 6A is a cross-sectional view showing an organic light emitting display panel in which a process key is composed of a conductive layer and two light blocking layers, and FIG. 6B is a cross-sectional view showing an organic light emitting display panel in a case where process keys are formed in the same layer as a color filter.

도 6a를 참조하면, 유기발광표시패널(140)은, 2개의 층으로 이루어진 광차단층(208, 210, 222, 224, 232, 234, 240, 242, 240', 242', 264, 266)과 도전층(212, 226, 236, 244, 244', 268)으로 이루어진, 차광층(206), 게이트라인(238), 게이트전극(220), 소스전극/드레인전극(230) 및 프로세스 키(260)를 포함한다.Referring to FIG. 6A, the organic light emitting display panel 140 includes a light blocking layer 208, 210, 222, 224, 232, 234, 240, 242, 240 ', 242', 264, The light shielding layer 206, the gate line 238, the gate electrode 220, the source electrode / drain electrode 230, and the process key 260 (see FIG. 2), which are made up of the conductive layers 212, 226, 236, 244, 244 ' ).

이러한 경우에 있어서, 외부에서 유입된 광(L1, L2, L3)은 광차단층(208, 210, 222, 224, 232, 234, 240, 242, 240', 242', 264, 266)에 의해 상쇄 간섭 또는 흡수되어 거의 반사되지 않는다. 프로세스 키(260)와 다른 구조들인 차광층(206), 게이트라인(238) 등의 반사율의 차이가 없기 때문에, 공정 상 사용되는 장비 또는 장치의 프로세스 키(260)에 대한 인식율이 현저하게 낮은 문제점이 발생할 수 있다. In this case, light L1, L2 and L3 introduced from the outside is canceled by the light blocking layers 208, 210, 222, 224, 232, 234, 240, 242, 240 ', 242', 264 and 266 They are hardly reflected or absorbed. Since there is no difference in reflectance between the process key 260 and the light shielding layer 206 and the gate line 238 which are other structures, the recognition rate of the process key 260 of the equipment or apparatus used in the process is remarkably low Can occur.

반면, 도 6b를 참조하면, 프로세스 키(260)가 컬러필터(248)와 동일한 물질로 이루어진 경우, 컬러필터(248) 방향으로 유입된 제3광(L3)은, 게이트라인(238) 방향으로 유입된 제1광(L1) 및 차광층(206) 방향으로 유입된 제2광(L2)에 비해 현저하게 높은 반사율을 갖는다. 이에 따라 장치 또는 장비가 프로세스 키(260)를 보다 용이하게 인식할 수 있고, 미스 얼라인먼트에 의한 각종 문제점들을 방지할 수 있다.6B, when the process key 260 is made of the same material as the color filter 248, the third light L3, which is introduced toward the color filter 248, is directed toward the gate line 238 And has a remarkably high reflectance as compared with the first light L1 having entered and the second light L2 having been introduced toward the light shielding layer 206. [ Accordingly, the apparatus or the apparatus can more easily recognize the process key 260, and various problems due to misalignment can be prevented.

도 7a는 프로세스 키가 도전층과 두개의 광차단층으로 이루어진 유기발광표시패널이 트레이에 내장된 경우를 나타내는 단면도와 개략적인 평면도이고, 도 7b는 프로세스 키가 컬러필터와 동일한 물질로 이루어진 유기발광표시패널이 트레이에 내장된 경우를 나타내는 단면도와 개략적인 평면도이다.7A is a cross-sectional view and a schematic plan view showing an organic light emitting display panel in which a process key is composed of a conductive layer and two light blocking layers, and FIG. 7B is a cross- Sectional view and a schematic plan view showing the case where the panel is embedded in the tray.

도 7a를 참조하면, 유기발광표시패널(140)이 제조 공정 중에 트레이(272)에 내장되어 있는 경우가 도시된다. 여기서 제조 공정은, 예를 들면, 증착 공정 또는 스크라이빙 공정일 수 있다.Referring to FIG. 7A, the organic light emitting display panel 140 is embedded in the tray 272 during the manufacturing process. The manufacturing process may be, for example, a deposition process or a scribing process.

트레이(272)는, 예를 들어, 스테인리스 계열의 금속으로 이루어질 수 있고, 프로세스 키(260)의 제2차단층(264)은 몰리브덴(Mo) 또는 몰리브덴-티타늄(MoTi) 합금으로 이루어질 수 있다.The tray 272 may be made of, for example, a stainless steel metal and the second barrier layer 264 of the process key 260 may be made of molybdenum (Mo) or molybdenum-titanium (MoTi) alloy.

반사율의 차이를 식별하여 프로세스 키(260)를 인식하는 과정에 있어서, 프로세스 키(260)에 제4광(L4)이 조사되는 경우, 트레이(272)에서의 반사율과, 프로세스 키(260)의 제2차단층(264)에서의 반사율의 차이가 미미하다면, 프로세스 키(260)에 대한 인식율이 저하되는 문제점이 발생한다(평면도 참조).When the process key 260 is irradiated with the fourth light L4 in the process of recognizing the difference in reflectance and recognizing the process key 260, the reflectance in the tray 272 and the reflectivity of the process key 260 If the difference in the reflectance in the second blocking layer 264 is insignificant, there is a problem that the recognition rate for the process key 260 is lowered (see plan view).

반면, 도 7b를 참조하면, 제5광(L5)이 조사되면, 트레이(262)에서의 반사율은 상대적으로 작지만, 프로세스 키(260)에서의 반사율이 상대적으로 크기 때문에, 프로세스 키(260)에 대한 인식율이 상승되는 효과가 발생한다(평면도 참조).7B, when the fifth light L5 is irradiated, the reflectance at the tray 262 is relatively small, but the reflectance at the process key 260 is relatively large. The recognition rate of the user is increased (see the plan view).

도 8a는 도전층과 두개의 광차단층으로 이루어진 프로세스 키의 반사율을 나타내는 그래프이고, 도 8b는 녹색 컬러필터와 동일한 물질로 이루어진 프로세스 키의 반사율을 나타내는 그래프이다.FIG. 8A is a graph showing reflectance of a process key made up of a conductive layer and two light blocking layers, and FIG. 8B is a graph showing reflectance of a process key made of the same material as the green color filter.

이러한 실험은 360nm에서 740nm의 파장을 갖는 광을 사용하여 진행하였고, 광의 입사각은 기판(204)에 수직인 방향으로부터 8°이며, 적분구 방식의 장비를 사용하였다. 측정에 사용한 샘플의 크기는 지름 3mm이고, 무광택 간지(writing paper)의 환경에서 실험하였다. 이하에서 반사율을 입사한 광에 대해 반사된 광의 비율을 의미한다.This experiment was conducted using light having a wavelength of 360 nm to 740 nm and an incident angle of light was 8 degrees from a direction perpendicular to the substrate 204, and an integrating sphere type device was used. The size of the sample used for the measurement was 3 mm in diameter and it was experimented in an environment of matte writing paper. Hereinafter, the reflectance means the ratio of the light reflected to the incident light.

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 도전층(268)과 두개의 광차단층(264, 266)으로 이루어진 프로세스 키(260)에 대한 광 반사율의 평균은 대략 7.5%이다(도 8a). 반면, 녹색 컬러필터(248)와 동일한 물질로 이루어진 프로세스 키(260)에 광을 조사했을 경우, 프로세스 키(260)에 반사된 광의 반사율은 24.8%로서 현저하게 높은 것을 볼 수 있다(도 8b).8A and 8B, the average of the light reflectance for the process key 260 consisting of the conductive layer 268 and the two light blocking layers 264 and 266 is approximately 7.5% (FIG. 8A). On the other hand, when light is irradiated onto the process key 260 made of the same material as the green color filter 248, the reflectance of the light reflected on the process key 260 is remarkably high as 24.8% (FIG. 8B) .

이에 따라, 장비 또는 장치에서 광을 조사하게 되면, 프로세스 키(260)와 그 주위 영역의 반사율 차이가 현저하기 때문에, 프로세스 키(260)가 보다 용이하게 인식되어 미스 얼라인먼트를 방지하는 효과가 발생한다.Accordingly, when the apparatus or the apparatus is irradiated with light, the reflectance difference between the process key 260 and the surrounding region is remarkable, so that the process key 260 is more easily recognized and an effect of preventing misalignment occurs .

정리하면, 유기발광표시패널(140) 또는 유기발광표시장치(100)는, 표시영역(AA)에 포함된 다수의 화소영역(P)에 대응되도록 배치된 컬러필터(248)와 동일한 물질로 이루어짐으로써, 증착이나 스크라이빙 장비가 프로세스 키(260)를 용이하게 인식할 수 있도록 하여, 미스 얼라인먼트를 방지하고, 제품의 신뢰성을 향상시키는 효과를 갖는다.The organic light emitting display panel 140 or the OLED display 100 is formed of the same material as the color filter 248 arranged to correspond to a plurality of pixel regions P included in the display area AA So that the deposition or scribing device can easily recognize the process key 260, thereby preventing misalignment and improving the reliability of the product.

이상 도면을 참조하여 실시예들을 설명하였으나 본 발명은 이에 제한되지 않는다.Although the embodiments have been described with reference to the drawings, the present invention is not limited thereto.

이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다" 또는 "가지다" 등의 용어는, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 해당 구성 요소가 내재될 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥 상의 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.It is to be understood that the terms "comprises", "comprising", or "having" as used in the foregoing description mean that the constituent element can be implanted unless specifically stated to the contrary, But should be construed as further including other elements. All terms, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs, unless otherwise defined. Commonly used terms, such as predefined terms, should be interpreted to be consistent with the contextual meanings of the related art, and are not to be construed as ideal or overly formal, unless expressly defined to the contrary.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

204: 기판 214: 제1절연막
218: 제2절연막 220: 게이트전극
228: 제3절연막 254: 제1전극
256: 유기층 258: 제2전극204: substrate 214: first insulating film
218: second insulating film 220: gate electrode
228: third insulating film 254: first electrode
256: organic layer 258: second electrode

Claims (9)

기판 상에 위치하는 신호라인;
상기 신호라인 중 게이트라인과 데이터라인이 교차하는 영역마다 배치된 트랜지스터;
상기 기판과 상기 트랜지스터 사이에 위치하는 차광층; 및
상기 기판 상의 비표시영역에 위치하고, 표시영역에 포함된 다수의 화소영역에 대응되도록 배치된 컬러필터와 동일한 물질로 이루어지는 다수의 프로세스 키(Process Key)를 포함하되,
상기 신호라인, 상기 트랜지스터의 전극 및 상기 차광층 중 적어도 하나는 도전층과 하나 이상의 광차단층을 포함하는 다중층 구조를 갖고,
상기 기판을 통해 외부에서 조사된 광에 대한 상기 프로세스 키의 반사율은 상기 프로세스 키의 주위 영역의 반사율보다 큰 것을 특징으로 하는 유기발광표시패널.A signal line located on a substrate;
A transistor disposed in each of the signal lines in a region where a gate line and a data line cross each other;
A light shielding layer disposed between the substrate and the transistor; And
And a plurality of process keys located in a non-display area on the substrate and made of the same material as the color filters arranged to correspond to a plurality of pixel areas included in the display area,
At least one of the signal line, the electrode of the transistor, and the light shielding layer has a multilayer structure including a conductive layer and at least one light blocking layer,
Wherein a reflectance of the process key with respect to light externally irradiated through the substrate is greater than a reflectance of a peripheral region of the process key. 제 1항에 있어서,
상기 프로세스 키는,
상기 컬러필터 중 녹색의 색상을 갖는 컬러필터와 동일한 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광표시패널.The method according to claim 1,
Wherein the process key comprises:
Wherein the color filter is made of the same material as the color filter having a green color among the color filters. 제 1항에 있어서,
상기 프로세스 키는,
상기 컬러필터와 동일한 층에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기발광표시패널.The method according to claim 1,
Wherein the process key comprises:
Wherein the organic light emitting display panel is located in the same layer as the color filter. 제 1항에 있어서,
상기 광차단층은 금속 산화물, 광을 흡수하는 금속 또는 이들의 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광표시패널.The method according to claim 1,
Wherein the light blocking layer is made of a metal oxide, a light absorbing metal, or an alloy thereof. 제 1항에 있어서,
상기 광차단층은 금속 산화물로 이루어진 제1차단층 및 광을 흡수하는 금속으로 이루어진 제2차단층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광표시패널.The method according to claim 1,
Wherein the light blocking layer comprises a first blocking layer made of a metal oxide and a second blocking layer made of a metal absorbing light. 기판 상에 위치하고, 적어도 일부에 도전층과 하나 이상의 광차단층을 포함하는 다중층 구조를 갖는 패턴; 및
상기 기판 상의 비표시영역에 위치하고, 표시영역에 포함된 다수의 화소영역에 대응되도록 배치된 컬러필터와 동일한 물질로 이루어지는 프로세스 키를 포함하되,
상기 기판을 통해 외부에서 조사된 광에 대한 상기 프로세스 키의 반사율은 상기 프로세스 키의 주위 영역의 반사율보다 큰 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.A pattern on the substrate, the pattern having a multilayer structure including at least a portion of a conductive layer and at least one light blocking layer; And
And a process key located in a non-display area on the substrate and made of the same material as the color filter arranged to correspond to a plurality of pixel areas included in the display area,
Wherein a reflectance of the process key with respect to light externally irradiated through the substrate is greater than a reflectance of a peripheral region of the process key. 제 6항에 있어서,
상기 프로세스 키는,
상기 컬러필터 중 녹색의 색상을 갖는 컬러필터와 동일한 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.The method according to claim 6,
Wherein the process key comprises:
Wherein the color filter is made of the same material as the color filter having a green color among the color filters. 제 6항에 있어서,
상기 프로세스 키는,
상기 컬러필터와 동일한 층에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.The method according to claim 6,
Wherein the process key comprises:
Wherein the organic light emitting diode is disposed in the same layer as the color filter. 제 6항에 있어서,
상기 패턴은,
상기 기판 상에 위치하는 신호라인, 트랜지스터의 전극, 상기 트랜지스터에 대응되도록 위치하는 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광표시장치.The method according to claim 6,
The pattern may be,
A signal line located on the substrate, an electrode of the transistor, and a shading layer positioned to correspond to the transistor.
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