KR20160065384A - 레이저 열 전사장치 - Google Patents

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KR20160065384A
KR20160065384A KR1020140169079A KR20140169079A KR20160065384A KR 20160065384 A KR20160065384 A KR 20160065384A KR 1020140169079 A KR1020140169079 A KR 1020140169079A KR 20140169079 A KR20140169079 A KR 20140169079A KR 20160065384 A KR20160065384 A KR 20160065384A
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정성구
유태경
이삼종
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 화소 패턴이 형성된 기판을 지지하며 제1 방향으로 이동하는 기판 지지부와, 상기 기판의 상부에 배치된 도너 필름과, 상기 도너 필름 상에 배치되어 상기 기판 지지부와 직교하도록 제2 방향으로 이동하며 상기 화소 패턴과 다른 형상의 마스크 패턴이 형성된 마스크와, 상기 마스크 상에 배치되어 마스크 패턴을 통해 레이저를 도너 필름에 조사시키는 레이저 빔 조사부를 포함할 수 있다.
실시예는 기판과 마스크를 직교하도록 이동시킴으로서, 다양한 형상의 화소 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.

Description

레이저 열 전사장치{LASER INDUCED THEMAL IMAGING APPARATUS}
실시예는 레이저 열 전사장치에 관한 것이다.
최근 휘도 특성 및 시야각 특성이 우수하고, 액정표시장치와 달리 별도의 광원부를 요구하지 않는 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display; OLED)가 차세대 표시장치로 주목받고 있다. 유기발광 표시장치는 별도의 광원을 필요로 하지 않아 경량화 및 박형으로 제작될 수 있다. 유기발광 표시장치는 낮은 소비전력, 높은 휘도 및 높은 반응 속도 등의 특성을 갖는다.
유기발광 표시장치는 애노드 전극, 유기층 및 캐소드 전극을 포함하는 유기 발광소자를 포함한다. 유기 발광소자는 애노드 전극과 캐소드 전극으로부터 각각 정공 및 전자가 유기층으로 주입되어 여기자(Exciton)를 형성하고, 여기자가 바닥 상태로 전이하면서 발광된다.
유기층들은 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing) 및 노즐 프린팅(Nozzle Printing) 등과 같은 프린팅 방법 또는 레이저 열전사(LITI: Laser Induced Thermal Imaging) 방법 등에 의해 형성될 수 있다. 이 중 레이저 열 전사 방법은 기판 상에 제공될 유기층을 포함하는 도너 필름을 기판과 마주보도록 배치한다. 도너 필름에 마스크를 통해 레이저가 조사된다. 레이저에 의해 발생된 열에 의해 유기층이 기판 상으로 전사된다.
하지만, 종래 레이저 열 전사장치는 고정된 마스크를 사용하기 때문에 고정된 패턴 예컨대, 스트립(Strip) 타입의 화소 배열을 갖는 유기발광 디스플레이에만 구현할 수 있는 문제점이 있다.
또한, 레이저가 기판 상에 일렬로 조사되기 때문에 기판 상의 불필요한 영역에 유기물이 전사되어 공정 불량 및 이물 발생을 초래하는 문제점을 발생시킨다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 실시예는 다양한 화소 패턴을 형성하기 위한 레이저 열 전사장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 실시예는 공정 불량 및 이물 발생을 방지하기 위한 레이저 열 전사장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 화소 패턴이 형성된 기판을 지지하며 제1 방향으로 이동하는 기판 지지부와, 상기 기판의 상부에 배치된 도너 필름과, 상기 도너 필름 상에 배치되어 상기 기판 지지부와 직교하도록 제2 방향으로 이동하며 상기 화소 패턴과 다른 형상의 마스크 패턴이 형성된 마스크와, 상기 마스크 상에 배치되어 마스크 패턴을 통해 레이저를 도너 필름에 조사시키는 레이저 빔 조사부를 포함할 수 있다.
실시예는 기판과 마스크를 직교하도록 이동시킴으로서, 다양한 형상의 화소 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.
또한, 실시예는 기판과 마스크를 직교하도록 이동시킴으로서, 에지 미전사 및 불균일한 전사를 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 실시예는 기판과 마스크의 이동 속도를 제어함으로써, 마스크 변경 없이 보다 다양한 형상의 화소 패턴을 구현할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치를 나타낸 개략 사시도이다.
도 2는 도 1의 A-A 단면도이다.
도 3은 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치에 배치된 기판의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 4는 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치에 배치된 도너 필름의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 5는 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치의 마스크를 나타낸 단면도이다.
도 6은 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치의 마스크 형태에 따른 화소 패턴들을 나타낸 도면이다.
도 7은 제2 실시예에 따른 레이저 열 전사장치를 나타낸 개략 사시도이다.
도 8은 제3 실시예에 따른 레이저 열 전사장치를 나타낸 개략 사시도이다.
이하, 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치를 나타낸 개략 사시도이고, 도 2는 도 1의 A-A 단면도이고, 도 3은 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치에 배치된 기판의 구조를 나타낸 단면도이고, 도 4는 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치에 배치된 도너 필름의 구조를 나타낸 단면도이고, 도 5는 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치의 마스크를 나타낸 단면도이고, 도 6은 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치의 마스크 형태에 따른 화소 패턴들을 나타낸 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 화소 패턴이 형성된 기판(110)을 지지하며 제1 방향으로 이동하는 기판 지지부(100)와, 상기 기판(110)의 상부에 배치된 도너 필름(120)과, 상기 도너 필름(120) 상에 배치되어 상기 기판 지지부(100)와 직교하도록 제2 방향으로 이동하며 상기 화소 패턴과 다른 마스크 패턴이 형성된 마스크(130)와, 상기 마스크(130) 상에 배치되어 마스크 패턴을 통해 레이저를 도너 필름(120)에 조사시키는 레이저 빔 조사부(140)를 포함할 수 있다.
기판 지지부(100)는 사각 플레이트 형상으로 형성될 수 있다. 기판 지지부(100)는 기판(110)과 대응되는 형상으로 형성될 수 있다. 기판 지지부(100)는 기판(110)보다 크게 형성될 수 있다. 기판 지지부(100)는 제1 방향으로 이동될 수 있다. 기판 지지부(100)는 기판(110)을 제1 방향으로 이동시킬 수 있다. 상기 제1 방향은 X축 방향일 수 있다. 예컨대, 제1 방향은 전후 방향일 수 있다. 기판 지지부(100)는 별도의 구동부에 의해 제1 방향으로 이동될 수 있으며, 레일을 통해 제1 방향로 이동될 수 있다.
기판 지지부(100)의 상부에는 기판(110)을 고정시키기 위한 진공홀(미도시)이 더 형성될 수 있다. 상기 진공홀에 의해 기판(110)은 기판 지지부(100) 상에 안정적으로 고정될 수 있다. 상기에서는 진공력에 의해 기판(110)을 지지하는 것을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 기계력에 의해 기판(110)을 지지할 수도 있다.
기판(110)은 유기발광 디스플레이용 기판일 수 있다. 기판(110)은 TFT 기판일 수 있다. 도시되지 않았으나, 기판(110)은 실질적으로 복수의 화소 영역들을 포함한다. 화소 영역들에 제1 전극들이 배치되고, 박막 트랜지스터들은 대응하는 화소 전극들에 각각 연결된다. 설명의 편의를 위해 도 3에는 하나의 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터에 연결된 하나의 화소 전극만이 도시되었다.
도 3에 도시된 바와 같이, 기판(110)은 베이스 기판(111), 제1 절연막(112), 제2 절연막(113), 보호막(114), 박막 트랜지스터(TFT), 제1 전극(E1), 및 화소 정의막(PDL)을 포함한다.
베이스 기판(111)은 유리, 석영, 및 세라믹 등으로 만들어진 투명한 절연성 기판으로 형성되거나, 플라스틱 등으로 만들어진 투명한 플렉서블 기판으로 형성될 수 있다. 또한, 베이스 기판(111)은 스테인리스 강 등으로 이루어진 금속성 기판으로 형성될 수 있다.
베이스 기판(111) 상에 박막 트랜지스터(TFT)의 반도체층(SM)이 형성된다. 반도체 층(SM)은 아모포스 실리콘 또는 폴리 실리콘과 같은 무기 재료의 반도체나 유기 반도체로 형성될 수 있다. 또한, 반도체 층(SM)은 산화물 반도체(oxide semiconductor)로 형성될 수 있다. 도 1에 도시되지 않았으나, 반도체 층(SM)은 소스 영역, 드레인 영역, 및 소스 영역과 드레인 영역 사이의 채널 영역을 포함할 수 있다.
반도체 층(SM)을 덮도록 제1 절연막(112)이 형성된다. 제1 절연막(112)은 게이트 절연막으로 정의될 수 있다.제1 절연막(112) 상에는 반도체층(SM)과 오버랩되는 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극(GE)이 형성된다. 구체적으로 게이트 전극(GE)은 반도체층(SM)의 채널 영역과 오버랩되도록 형성될 수 있다. 게이트 전극(GE)은 박막 트랜지스터(TFT)에 온/오프 신호를 인가하는 게이트 라인(미도시)과 연결된다.
게이트 전극(GE)을 덮도록 제2 절연막(113)이 형성된다. 제2 절연막(113)은 층간 절연막으로 정의될 수 있다. 제2 절연막(113) 상에 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 서로 이격되어 형성된다. 소스 전극(SE)은 제1 절연막(112) 및 제2 절연막(113)을 관통하여 형성된 제1 컨택 홀(CH1)을 통해 반도체층(SM)에 연결될 수 있다. 구체적으로 소스 전극(SE)은 반도체층(SM)의 소스 영역에 연결된다.
드레인 전극(DE)은 제1 절연막(112) 및 제2 절연막(113)을 관통하여 형성된 제2 컨택 홀(CH2)을 통해 반도체층(SM)에 연결될 수 있다. 구체적으로, 드레인 전극(DE)은 반도체층(SM)의 드레인 영역에 연결된다. 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 덮도록 보호막(114)이 형성된다.
보호막(114) 상에는 제1 전극(E1)이 형성된다. 제1 전극(E1)은 보호막(114)을 관통하여 형성된 제3 컨택홀(CH3)을 통해 대응하는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 연결될 수 있다.
보호막(114) 상에 제1 전극(E1)의 경계면을 덮도록 화소 정의막(PDL)이 형성된다. 화소 정의막(PDL)은 제1 개구부(OP1)를 포함한다. 제1 개구부(OP1)는 제1 전극(OP1)의 소정의 영역을 노출시킨다.
도너 필름(120)은 기판(110)의 상부에 배치될 수 있다. 도너 필름(120)은 기판(110)과 라미네이팅될 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 도너 필름(120)은 베이스 필름(121), 베이스 필름(121) 하부에 배치된 광-열 변환층(122), 및 광-열 변환층(122) 하부에 배치된 전사층(123)을 포함한다.
베이스 필름(121)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나트탈레이트(PEN), 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC) 등의 투명성 고분자 유기 재료로 형성될 수 있다.
광-열 변환층(122)은 입사되는 광을 열로 변환시킨다. 광-열 변환층(122)은 광흡수성 물질인 알루미늄 산화물, 알루미늄 황화물, 카본 블랙, 흑연 또는 적외선 염료를 포함할 수 있다.
전사층(123)은 기판(110)이 유기발광 표시장치용 기판일 경우, 유기 전사층일 수 있다. 유기 전사층은 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층을 포함할 수 있다. 전사층(123)은 기판(110)과 마주 보도록 배치된다.
도 1로 돌아가서, 마스크(130)는 도너 필름(120) 상에 배치될 수 있다. 마스크(130)는 제2 방향으로 이동될 수 있다. 제2 방향은 Y축 방향일 수 있다. 상기 제2 방향은 제1 방향과 수직인 방향일 수 있다. 예컨대, 제2 방향은 좌우 방향일 수 있다. 마스크(130)는 기판(110)의 이동 방향과 직교하도록 이동될 수 있다. 이를 위해 마스크(130)에는 마스크(130)를 이동시키기 위한 이동 수단(134)이 연결될 수 있다.
마스크(130)는 일정 두께를 가지는 바(bar) 형상으로 형성될 수 있다. 마스크(130)에는 마스크 패턴(132)이 형성될 수 있다. 상기 마스크 패턴(132)은 마스크(130)의 길이 방향으로 따라 다수개가 이격되도록 배치될 수 있다. 마스크 패턴(132)은 마스크(130)의 상하를 관통하는 홀(hole)일 수 있다.
마스크(130)는 레이저 빔 조사부(140)와 중첩 배치된 상태에서 제1 방향으로 이동될 수 있다. 마스크(130)가 제1 방향으로 이동하는 동안 마스크(130)의 상부에는 항상 레이저 빔 조사부(140)가 배치될 수 있다. 레이저(L)는 마스크(130)를 통해 기판(110)에 연속적으로 조사될 수 있으며, 이로 인해 레이저(L)의 균일도를 확보할 수 있게 된다.
도 4에 도시된 바와 같이, 마스크 패턴(132)은 마름모 패턴으로 형성될 수 있다. 마스크 패턴(132)은 서로 대향하는 제1 면(132a)과 제2 면(132b)을 포함할 수 있다. 제1 면(132a)과 제2 면(132b)은 평행하게 배치될 수 있다. 마스크 패턴(132)은 제1 면(132a)과 제2 면(132b) 사이에 연결되는 제3 면(132c)과 제4 면(132d)을 포함할 수 있다. 제3 면(132c)과 제4 면(132d)은 서로 대향 배치될 수 있다. 제3 면(132c)과 제4 면(132d)은 서로 평행하게 배치될 수 있다.
제1 면(132a)과 제3 면(132d)은 기울어지도록 배치될 수 있다. 이로 인해 제1 면(132a)과 제4 면(132d)도 기울어지도록 배치될 수 있다. 제3 면(132c)과 제4 면(132d)은 서로 평행하게 배치됨으로써, 제1 면(132a)과 이루는 제3 면(132c)과 제1 면(132a)과 이루는 제4 면(132d)의 기울어지는 각도의 합은 180도가 될 수 있다.
상기와 같이, 마스크(130)는 이동하면서 도너 기판(120)에 레이저(L)를 조사하기 때문에 마스크 패턴(132)이 정사각 형상으로 형성하게 되면, 기판(110)에 형성되는 화소 패턴은 스트립 형태가 아닌 마름모와 같은 형태로 형성되게 된다. 이에 따라, 마스크 패턴(132)을 마름모 형태로 형성하게 되면 스트립 타입의 화소 패턴을 구현할 수 있게 된다.
도 1로 돌아가서, 레이저 빔 조사부(140)는 마스크(130)의 상부에 배치될 수 있다. 레이저 빔 조사부(140)는 고정될 수 있다. 레이저 빔 조사부(140)가 이동하게 되면 레이저(L)의 조사 균일도가 떨어지게 되므로 고정시키는 것이 효과적이다.
레이저 빔 조사부(140)는 레이저(L)를 방출할 수 있다. 레이저(L)는 마스크(130)에 대해 수직으로 조사될 수 있다. 레이저(L)는 내장형 레이저 다이오드 또는 외장형 레이저 다이오드의 옵티컬 화이버로 구비될 수 있다.
레이저 빔 조사부(140)로부터 레이저(L)가 방출되면, 레이저(L)는 1차적으로 상기 마스크(130)에 조사될 수 있다. 마스크(130)에 조사된 레이저(L)는 마스크 패턴(132)을 통과해 도너 필름(120)에 조사되고, 도너 필름(120)의 전사 유기물은 기판(110)에 전사되어 화소 패턴을 형성하게 된다. 여기서, 마스크 패턴(132)의 구조에 따라 다양한 형태의 화소 패턴을 구현할 수 있게 된다.
도 6에 도시된 바와 같이, 마스크 패턴(132)에 따라 다양한 형태의 화소 패턴이 형성될 수 있다. 예컨대, 마스크 패턴(132)의 구조에 따라 화소 패턴은 스트립 형, 모자이크 형, 델타형 구조의 화소 패턴들을 형성할 수 있게 된다. 여기서, 화소 패턴의 구조는 도 6에 한정되지 않으며, 마스크 패턴(132)의 구조에 따라 더 다양한 형상의 화소 패턴들을 구현할 수 있는 효과가 있다.
또한, 화소 패턴은 기판(110)과 마스크(130)의 이동 속도에 따라 그 화소 패턴이 달라질 수 있다. 예컨대, 기판(110)과 마스크(130)의 이동 속도를 동시에 제어할 수 있다. 이와 다르게, 기판(110)의 이동 속도만 제어하여 화소 패턴을 구현할 수 있다. 이와 다르게, 마스크(130)의 이동 속도만 제어하여 화소 패턴을 구현할 수 있다. 이로 인해 마스크 패턴(132)의 형상을 바꾸지 않더라도 화소 패턴을 다양하게 형성할 수 있게 된다.
또한, 도 6을 보게 되면, 필요한 화소 영역에만 조사되는 빔의 분포가 바뀌는 것을 확인할 수 있다. 이는 기판(110)의 유기물이 기판(110)에 전사가 잘되도록 분포 조절이 가능함을 보여준다. 따라서, 종래의 에지 미전사 및 불균일한 전사를 방지할 수 있는 효과가 있다.
제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 마스크의 패턴을 변경함으로써, 다양한 형상의 화소 패턴을 구현할 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 기판 지지부와 마스크의 이동 속도를 제어함으로써, 보다 다양한 형상의 화소 패턴을 구현할 수 있는 효과가 있다.
또한, 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 기판과 마스크를 직교하도록 이동시킴으로써, 에지 미전사 및 불균일한 전사를 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 7은 제2 실시예에 따른 레이저 열 전사장치를 나타낸 개략 사시도이다.
도 7을 참조하면, 제2 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 화소 패턴이 형성된 기판(210)을 지지하며 제1 방향으로 이동하는 기판 지지부(200)와, 상기 기판(210)의 상부에 배치된 도너 필름(220)과, 상기 도너 필름(220) 상에 배치되어 상기 기판 지지부(200)와 직교하도록 제2 방향으로 이동하며 상기 화소 패턴과 다른 마스크 패턴이 형성된 마스크(230)와, 상기 마스크(230) 상에 배치되어 마스크 패턴(232)을 통해 레이저를 도너 필름(220)에 조사시키는 레이저 빔 조사부(240)와, 상기 레이저 빔 조사부(240)와 마스크(230) 사이에 배치된 제1 광학유닛(250)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 광학유닛(250) 외의 구조는 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치와 동일하므로 생략한다.
제1 광학유닛(250)은 레이저 빔 조사부(240)의 하부에 배치될 수 있다. 제1 광학유닛(250)은 레이저 빔 조사부(240)로부터 방출된 레이저(L)의 직진성 및 집광 능력을 향상시킬 수 있다. 예컨대, 제1 광학유닛(250)을 통과한 레이저는 호모지나이즈드 라인빔(Homogenized Line Beam)일 수 있다. 제1 광학유닛(250)은 다양한 오목 렌즈 또는 볼록 렌즈의 조합으로 이루어질 수 있다.
레이저 빔 조사부(240)와 마스크(230) 사이의 거리(D1)는 마스크(230)와 도너 필름(220) 사이의 거리(D2)보다 클 수 있다. 레이저(L)가 마스크(230)로 도달하는 거리가 멀기 때문에 제1 광학유닛(260)을 배치시킴으로써 레이저(L)의 조사 효율을 향상시킬 수 있다.
도 8은 제3 실시예에 따른 레이저 열 전사장치를 나타낸 개략 사시도이다.
도 8을 참조하면, 제3 실시예에 따른 레이저 열 전사장치는 화소 패턴이 형성된 기판(310)을 지지하며 제1 방향으로 이동하는 기판 지지부(300)와, 상기 기판(310)의 상부에 배치된 도너 필름(320)과, 상기 도너 필름(320) 상에 배치되어 상기 기판 지지부(100)와 직교하도록 제2 방향으로 이동하며 상기 화소 패턴과 다른 마스크 패턴이 형성된 마스크(330)와, 상기 마스크(330) 상에 배치되어 마스크 패턴(332)을 통해 레이저를 도너 필름(320)에 조사시키는 레이저 빔 조사부(340)와, 상기 마스크(330)와 도너 필름(320) 사이에 배치된 제2 광학유닛(360)을 포함할 수 있다. 여기서, 제2 광학유닛(360) 외의 구조는 제1 실시예에 따른 레이저 열 전사장치와 동일하므로 생략한다.
제2 광학유닛(360)은 마스크(330)의 하부에 배치될 수 있다. 제2 광학유닛(360)은 레이저 빔 조사부(340)로부터 방출된 레이저의 직진성 및 집광 능력을 향상시킬 수 있다. 제2 광학유닛(360)은 다양한 렌즈의 조합으로 이루어질 수 있다.
레이저 빔 조사부(340)와 마스크(330) 사이의 거리(D1)는 마스크(330)와 도너 필름(320) 사이의 거리(D2)보다 작을 수 있다. 레이저가 도너 필름(320)으로 도달하는 거리가 멀기 때문에 제2 광학유닛(360)을 배치시킴으로써 레이저(320)의 조사 효율을 향상시킬 수 있다.
상기에서는 마스크(330)와 도너 필름(320) 사이에 제2 광학유닛(360)을 배치하였지만, 레이저 빔 조사부(340)와 마스크(330) 사이에 제1 광학유닛(350)을 더 배치할 수도 있다. 따라서, 레이저 빔 조사부(340)로부터 방출된 레이저는 기판(110)에 보다 효과적으로 도달할 수 있게 된다.
상기에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 실시예의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 실시예는 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음은 이해할 수 있을 것이다.
100: 기판 지지부 110: 기판
120: 도너 필름 130: 마스크
132: 마스크 패턴 140: 레이저
250: 제1 광학유닛 360: 제2 광학유닛

Claims (8)

  1. 화소 패턴이 형성된 기판을 지지하며 제1 방향으로 이동하는 기판 지지부;
    상기 기판의 상부에 배치된 도너 필름;
    상기 도너 필름 상에 배치되어 상기 기판 지지부와 직교하도록 제2 방향으로 이동하며 상기 화소 패턴과 다른 형상의 마스크 패턴이 형성된 마스크; 및
    상기 마스크 상에 배치되어 마스크 패턴을 통해 레이저를 도너 필름에 조사시키는 레이저 빔 조사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 빔 조사부는 고정되고, 상기 마스크는 레이저 빔 조사부와 중첩 배치된 상태에서 제1 방향으로 이동되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 마스크 패턴은 대향 배치된 제1 면과 제2 면과, 상기 제1 면과 제2 면 사이의 제3 면 및 제4 면을 포함하고, 상기 제1 면과 제3 면은 일정 각도 기울어져 형성된 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 화소 패턴은 스트립 타입으로 배열된 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저 빔 조사부와 상기 마스크 사이에는 제1 광학 유닛이 더 배치된 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 레이저 빔 조사부와 마스크 사이의 거리는 상기 마스크와 도너 필름 사이의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  7. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마스크와 상기 도너 필름 사이에는 제2 광학 유닛이 더 배치된 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 레이저 빔 조사부와 마스크 사이의 거리는 상기 마스크와 도너 필름 사이의 거리보다 큰 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사장치.
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