KR20160031254A - Exposure device - Google Patents

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KR20160031254A
KR20160031254A KR1020140121057A KR20140121057A KR20160031254A KR 20160031254 A KR20160031254 A KR 20160031254A KR 1020140121057 A KR1020140121057 A KR 1020140121057A KR 20140121057 A KR20140121057 A KR 20140121057A KR 20160031254 A KR20160031254 A KR 20160031254A
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이기승
임세도
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금호전기주식회사
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Abstract

Disclosed is an exposure apparatus. More specifically, provided is an exposure apparatus capable of emitting uniform light onto a large area, wherein the apparatus comprises: a stage; an optical module disposed separatedly from the stage and emitting light to the stage; and a driving part transporting the stage or the optical module in a first direction. In addition, the optical module further comprises: a light source part extended in a second direction which is perpendicular to the first direction; and an optical alignment member disposed between the light source part and the stage. Further, the optical alignment member includes a plurality of submembers disposed in the second direction, wherein the submembers are extended toward the stage.

Description

노광장치{EXPOSURE DEVICE}EXPOSURE DEVICE [0002]

본 발명은 패턴 형성시 사용되는 노광장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus used in pattern formation.

터치패널(Touch Panel)은 사용자의 손가락 등의 물리적 접촉을 전기적 신호로 변환하는 입력장치로서, 각종 디스플레이 장치에 폭넓게 응용될 수 있다.BACKGROUND ART [0002] A touch panel is an input device for converting a physical contact of a user's finger or the like into an electrical signal, and can be widely applied to various display devices.

터치패널은 동작원리에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등으로 구분될 수 있으며, 최근에는 빠른 응답속도를 가진 정전용량 방식이 많이 채택되고 있다.The touch panel can be classified into a resistance film type, a capacitive type, an ultrasonic type, and an infrared type according to the operation principle. Recently, a capacitance type having a fast response speed is widely adopted.

일반적으로 터치패널은 투명전극에 센싱 패턴을 형성한다. 패턴 형성은 노광 공정을 이용하여 액티브 영역에 센싱 패턴을 형성할 수 있다. 센싱 패턴이 메탈 메쉬(Metal Mesh)로 형성되는 경우에는 수 ㎛단위의 미세 패턴 공정이 필요하다. 이때, 마스크에 조사되는 광이 평행광인 경우 수 ㎛단위의 미세 패턴을 구현할 수 있다.Generally, a touch panel forms a sensing pattern on a transparent electrode. The pattern formation can form a sensing pattern in the active region using an exposure process. In the case where the sensing pattern is formed of a metal mesh, it is necessary to perform a fine patterning process of several micrometers. At this time, if the light irradiated to the mask is parallel light, a fine pattern of several micrometers can be realized.

종래 노광장치는 복수의 렌즈를 이용하여 광원에서 조사된 광의 각도를 변환하는 구성을 개시하고 있다. 그러나, 종래 노광장치는 광이 실질적으로 평행광으로 변환되지 못하고 소정의 각도로 기울어져 마스크에 조사되기 때문에 미세 패턴을 형성하기 어려운 문제가 있다. 또한, 노광 영역이 대면적인 경우 충분한 광 조사면적을 갖지 못하는 문제가 있다.The conventional exposure apparatus discloses a configuration for changing the angle of light irradiated from a light source using a plurality of lenses. However, the conventional exposure apparatus has a problem that it is difficult to form a fine pattern because the light can not be converted into substantially parallel light and is tilted at a predetermined angle to be irradiated to the mask. Further, when the exposure area is wide, there is a problem that a sufficient light irradiation area is not obtained.

본 발명은 균일한 광을 대면적에 조사할 수 있는 노광장치를 제공한다.The present invention provides an exposure apparatus capable of irradiating a large area with uniform light.

또한, 평행광을 조사할 수 있는 노광장치를 제공한다.Further, there is provided an exposure apparatus capable of irradiating parallel light.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치는, 스테이지; 상기 스테이지와 이격 배치되고, 상기 스테이지에 광을 조사하는 광모듈; 및 상기 스테이지 또는 광모듈을 제1방향으로 이동시키는 구동부를 포함하고, 상기 광모듈은, 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 연장된 광원부; 및 상기 광원부와 스테이지 사이에 배치된 광정렬부재를 포함하고, 상기 광정렬부재는 상기 제2방향으로 배치되는 복수 개의 서브부재를 포함하고, 상기 서브부재는 상기 스테이지를 향해 연장 형성된다.An exposure apparatus according to one aspect of the present invention includes: a stage; An optical module disposed apart from the stage, the optical module irradiating the stage with light; And a driving unit for moving the stage or the optical module in a first direction, wherein the optical module includes: a light source unit extending in a second direction perpendicular to the first direction; And a photo aligning member disposed between the light source and the stage, wherein the photo aligning member includes a plurality of sub-members disposed in the second direction, and the sub-member extends toward the stage.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 광원부는, 상기 제2방향으로 연장된 광원; 및 상기 광원을 기준으로 상기 광정렬부재의 반대측에 배치되는 반사판을 포함한다.In the exposure apparatus according to one aspect of the present invention, the light source unit may include: a light source extending in the second direction; And a reflector disposed on the opposite side of the light aligning member with respect to the light source.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 광원부와 광정렬부재 사이에 배치된 제1렌즈; 상기 제1렌즈와 상기 광정렬부재 사이에 배치된 열차단판; 및 상기 광정렬부재와 스테이지 사이에 배치되는 제2렌즈를 포함한다.In an exposure apparatus according to an aspect of the present invention, a first lens disposed between the light source portion and the photo alignment member; A heat insulating plate disposed between the first lens and the photo aligning member; And a second lens disposed between the photo alignment member and the stage.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 복수 개의 서브부재는 다각 형상의 튜브 몸체를 포함한다. In the exposure apparatus according to one aspect of the present invention, the plurality of sub-members include a tube body having a polygonal shape.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 복수 개의 서브부재는 상기 튜브 몸체의 내벽에 배치된 광흡수층을 포함한다.In the exposure apparatus according to one aspect of the present invention, the plurality of sub members include a light absorbing layer disposed on the inner wall of the tube body.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 튜브 몸체의 단면은 삼각형 형상일 수 있다.In the exposure apparatus according to an aspect of the present invention, the cross section of the tube body may be triangular.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 튜브 몸체의 단면은 1개의 밑변과 서로 길이가 동일한 2개의 측변을 포함하는 이등변 삼각형 형상을 갖고, 상기 2개의 측변이 이루는 내각은 5°보다 크고 60°보다 작게 형성될 수 있다.In the exposure apparatus according to one aspect of the present invention, the cross section of the tube body has an isosceles triangle shape including two sides having the same length as one base, and the internal angle formed by the two sides is greater than 5 degrees and 60 Deg.].

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 삼각형의 하나의 꼭짓점과 상기 꼭짓점과 마주보는 변을 수직하게 연결한 가상선은 상기 제1방향과 평행할 수 있다.In the exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, a virtual line connecting vertexes of one corner of the triangle and sides facing the vertex may be parallel to the first direction.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 튜브 몸체의 단면은 평행 사변형 형상일 수 있다.In the exposure apparatus according to one aspect of the present invention, the cross section of the tube body may be a parallelogram shape.

본 발명의 일 특징에 따른 노광장치에서, 상기 서브부재의 폭(W)과 길이(L)의 비(W:L)는 1:4 내지 1:20일 수 있다.In the exposure apparatus according to an aspect of the present invention, the ratio (W: L) of the width (W) to the length (L) of the sub member may be 1: 4 to 1:20.

본 발명에 따르면, 마스크에 평행광이 조사되므로 수㎛ 단위의 패턴 형성이 가능해진다.According to the present invention, since parallel light is irradiated on the mask, it becomes possible to form a pattern in units of several micrometers.

또한, 대면적의 노광 공정이 가능해진다.In addition, a large area exposure process becomes possible.

또한, 저가의 자외선 램프를 이용할 수 있어 제조 비용이 절감된다.In addition, since a low-cost ultraviolet lamp can be used, manufacturing cost is reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치의 개념도이고,
도 2는 도 1의 변형예이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치의 광모듈 개념도이고,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치에 의해 전극패턴이 형성되는 과정을 설명하기 위한 개념도이고,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬부재의 단면도이고,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬부재의 서브부재를 설명하기 위한 개념도이고,
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광정렬부재의 단면도이고,
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광정렬부재의 서브부재를 설명하기 위한 개념도이고,
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬부재의 효과를 설명하기 위한 개념도이고,
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광정렬부재의 효과를 설명하기 위한 개념도이고,
도 11 내지 도 13은 다양한 형상의 광정렬부재에서 발생하는 문제를 설명하기 위한 개념도이고,
도 14는 본 발명에 따른 노광장치를 이용하여 전극패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 도면이고,
도 15는 본 발명에 따른 노광장치를 이용하여 형성한 메탈 메쉬 패턴의 SEM 사진이다.1 is a conceptual diagram of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
Fig. 2 is a modification of Fig. 1,
3 is a conceptual diagram of an optical module of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
4 is a conceptual view for explaining a process of forming an electrode pattern by an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention,
5 is a cross-sectional view of a photo-alignment member according to an embodiment of the present invention,
FIG. 6 is a conceptual view for explaining a sub-member of a photo-alignment member according to an embodiment of the present invention,
7 is a cross-sectional view of a photo-alignment member according to another embodiment of the present invention,
8 is a conceptual view for explaining a sub-member of a photo-alignment member according to another embodiment of the present invention,
9 is a conceptual view for explaining the effect of the optical alignment member according to an embodiment of the present invention,
10 is a conceptual view for explaining the effect of the photo-alignment member according to another embodiment of the present invention,
Figs. 11 to 13 are conceptual diagrams for explaining problems occurring in the various types of photo-alignment members,
14 is a view for explaining a method of forming an electrode pattern using the exposure apparatus according to the present invention,
15 is an SEM photograph of a metal mesh pattern formed using the exposure apparatus according to the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated and described in the drawings. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. "및/또는" 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.The terms including ordinal, such as second, first, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the second component may be referred to as a first component, and similarly, the first component may also be referred to as a second component. The term "and / or" includes any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치의 개념도이고, 도 2는 도 1의 변형예이다.FIG. 1 is a conceptual diagram of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a modification of FIG.

도 1을 참고하면 본 발명에 따른 노광장치는 스테이지(200)와, 스테이지(200)와 이격 배치되어 광을 조사하는 광모듈(100), 및 스테이지(200) 또는 광모듈(100)을 제1방향(D, X축 방향)으로 이동시키는 구동부(300)를 포함한다.1, an exposure apparatus according to the present invention includes a stage 200, an optical module 100 disposed apart from the stage 200 to irradiate light, and a stage 200 or an optical module 100, Direction (D, X-axis direction).

스테이지(200)는 대면적 기판(S)이 배치될 수 있는 정도의 크기를 가질 수 있다. 광모듈(100)은 스테이지(200)의 상단에 배치되고, 제1방향(D)으로 슬라이딩되어 대면적 기판(S)에 광을 조사한다. 구동부(300)는 모터 등을 이용하여 광모듈(100) 또는 스테이지(200)를 제1방향(D)으로 이동시킨다.The stage 200 may have a size such that the large-area substrate S can be arranged. The optical module 100 is disposed at the top of the stage 200 and slides in the first direction D to irradiate the large area substrate S with light. The driving unit 300 moves the optical module 100 or the stage 200 in the first direction D using a motor or the like.

대면적에 광을 조사하기 위하여 스테이지의 상단에 복수의 광원을 배치할 수도 있으나, 이 경우 각 광원의 에너지 밀도가 달라 균일한 광을 조사하기 어렵다. 또한, 평행광을 조사할 수 없어 생산성이 떨어진다.Although a plurality of light sources may be disposed at the upper end of the stage in order to irradiate light to a large area, in this case, the energy density of each light source differs and it is difficult to irradiate uniform light. Further, parallel light can not be irradiated, and the productivity is lowered.

본 발명의 노광장치는 스테이지(200)의 상단에 배치된 광모듈(100)이 상대적으로 제1방향(D)으로 이동하므로 스테이지(200)의 면적을 크게 제작할 수 있다. 따라서, 대면적 전극 패턴을 형성하는데 유리하다. 도 2를 참고하면, 노광장치는 스테이지(200)가 수직하게 배치될 수도 있다.The exposure apparatus of the present invention can increase the area of the stage 200 because the optical module 100 disposed at the upper end of the stage 200 relatively moves in the first direction D. [ Therefore, it is advantageous to form a large-area electrode pattern. Referring to FIG. 2, the stage 200 may be vertically arranged in the exposure apparatus.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치의 광모듈 개념도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치에 의해 패턴이 형성되는 과정을 설명하기 위한 개념도이다.FIG. 3 is a conceptual diagram of an optical module of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a conceptual diagram illustrating a process of forming a pattern by an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3과 도 4를 참고하면, 광모듈은 스테이지(200)를 향해 광을 조사하는 광원부(110)와, 조사된 광을 변환하는 제1렌즈(120)와, 열차단판(130)과, 광정렬부재(140), 및 제2렌즈(150)가 순서대로 배치될 수 있다. 3 and 4, the optical module includes a light source 110 that emits light toward the stage 200, a first lens 120 that converts the irradiated light, a heat shield plate 130, The alignment member 140, and the second lens 150 may be arranged in order.

광원부(110)는 제2방향(Y축 방향)으로 연장된 광원(111), 및 광원(111)에서 조사되는 광을 광정렬부재(140) 방향으로 반사하는 반사판(112)을 포함한다. The light source unit 110 includes a light source 111 extending in a second direction (Y axis direction) and a reflection plate 112 reflecting the light emitted from the light source 111 toward the light alignment member 140.

광원(111)은 광모듈(100)의 이동방향(X축 방향)과 수직한 제2방향(Y축 방향)으로 연장되는 튜브 타입의 자외선 램프일 수 있다. 광원(111)은 마스크 패턴(M)을 이용하여 전극을 패터닝할 수 있는 자외선 광을 방출한다.The light source 111 may be a tube type ultraviolet lamp extending in a second direction (Y-axis direction) perpendicular to the moving direction (X-axis direction) of the optical module 100. The light source 111 emits ultraviolet light capable of patterning the electrode using the mask pattern M.

반사판(112)은 반구형 실린더(Semi-cylinder) 형상으로 형성되어 광원(111)에서 방출된 광 중에 상측으로 조사되는 광을 제1렌즈(120)측으로 반사한다. 반사판(112)은 반사된 광이 제1렌즈(120)측에 입사되도록 적절한 곡률을 가질 수 있다. The reflection plate 112 is formed in a semi-cylindrical shape and reflects upward light to the first lens 120 side of the light emitted from the light source 111. The reflection plate 112 may have an appropriate curvature so that the reflected light is incident on the first lens 120 side.

제1렌즈(120)는 제2방향(Y축 방향)으로 연장 형성되어 광원부(110)에서 조사된 광을 평행광으로 변환한다. 열차단판(130)은 자외선에 의해 발생한 열이 마스크(M)측에 전달되지 않도록 차폐하는 역할을 수행한다.The first lens 120 is extended in the second direction (Y-axis direction) to convert the light emitted from the light source unit 110 into parallel light. The heat insulating plate 130 shields the heat generated by the ultraviolet rays from being transmitted to the mask M side.

광정렬부재(140)는 소정의 형상을 갖는 복수 개의 서브부재(141)가 일방향으로 배치된다. 각각의 서브부재(141)는 제2방향(Y축 방향)으로 연속 배치되고, 스테이지(200)를 향해 연장 형성(Z축 방향)되어 소정의 길이를 갖는다.The plurality of sub-members 141 having a predetermined shape are arranged in one direction in the optical alignment member 140. [ Each of the sub-members 141 is continuously arranged in the second direction (Y-axis direction), extends toward the stage 200 (in the Z-axis direction) and has a predetermined length.

복수 개의 서브부재(141)는 다각 형상의 튜브 몸체(142)와, 튜브 몸체(142)의 내벽에 배치된 광흡수층(143)을 포함한다. 광흡수층(143)은 자외선 광을 흡수하는 물질(예: 블랙 카본)을 포함할 수 있다. 여기서, 다각 형상이란 횡단면(길이와 직각이 되게 자른 면)이 다각형 형상을 갖는 것으로 정의한다. 필요에 따라 튜브 몸체(142)는 원통 형상일 수도 있다.The plurality of sub members 141 include a tube body 142 having a polygonal shape and a light absorbing layer 143 disposed on the inner wall of the tube body 142. The light absorbing layer 143 may include a substance that absorbs ultraviolet light (e.g., black carbon). Here, the polygonal shape is defined as a cross-sectional surface (a surface cut at right angles to the length) having a polygonal shape. The tube body 142 may have a cylindrical shape if necessary.

서브부재(141)에 입사되는 광 중에서 광 경로(L1)와 소정 각도 이상의 각도를 갖는 광(L3)은 광흡수층(143)에 흡수되고, 광 경로(L1)와 소정 각도 이하의 각도를 갖는 광(L2)은 서브부재(141)를 통과한다. 따라서, 산란광이 많은 비교적 저가의 자외선 램프를 사용하여도 실질적으로 광 경로와 평행한 광만을 마스크(M)에 조사할 수 있다.Among the light incident on the sub member 141, light L3 having an angle larger than a predetermined angle with the light path L1 is absorbed by the light absorbing layer 143, and light having an angle smaller than a predetermined angle with the light path L1 (L2) passes through the sub-member (141). Therefore, even if a relatively inexpensive ultraviolet lamp having a large amount of scattered light is used, only the light substantially parallel to the optical path can be irradiated onto the mask M.

여기서, 광 경로(L1)란 광원(111)과 마스크(M) 사이의 가장 짧은 직선으로 정의할 수 있으며, 소정 각도는 서브부재(141)의 면적 및 길이에 따라 조절될 수 있다. 즉, 서브부재(141)의 면적이 좁게 형성되거나 길이가 길어질수록 소정 각도는 작아지게 되어 출사광의 평행도가 증가한다.Here, the optical path L1 can be defined as a shortest straight line between the light source 111 and the mask M, and the predetermined angle can be adjusted according to the area and length of the sub member 141. [ That is, as the area of the sub member 141 is narrowed or the length becomes longer, the predetermined angle becomes smaller, and the parallelism of the emitted light increases.

서브부재(141)의 길이(L)는 400mm 내지 800mm일 수 있고, 폭(W)은 40 내지 100mm일 수 있다. 서브부재(141)의 길이(L)와 폭(W)이 상기 조건을 만족하는 경우 광원부(110)에서 방출된 산란광을 효과적으로 제거할 수 있다. 예를 들면, 서브부재(141)의 폭(W)과 길이(L)의 비(W:L)는 1:4 내지 1:20일 수 있다.The length L of the sub-member 141 may be 400 to 800 mm, and the width W may be 40 to 100 mm. The scattered light emitted from the light source unit 110 can be effectively removed when the length L and the width W of the sub member 141 satisfy the above conditions. For example, the ratio (W: L) of the width W to the length L of the sub member 141 may be 1: 4 to 1:20.

제2렌즈(150)는 서브부재(141)에서 출사된 광을 평행광으로 변환하는 기능을 수행한다. 제2렌즈(150)는 제2방향(Y축 방향)으로 연장 형성되고, 단면은 프리넬 렌즈 형상을 가질 수 있다.The second lens 150 performs a function of converting light emitted from the sub member 141 into parallel light. The second lens 150 may extend in the second direction (Y-axis direction), and the cross-section may have a Fresnel lens shape.

제1렌즈(120)와 제2렌즈(150)는 서로 직교하는 방향의 광을 평행광으로 변환하는 역할을 수행한다. 일 예로, 제1렌즈(120)가 X축으로 기울어진 광을 평행광으로 변환하는 경우 제2렌즈(150)는 Y축으로 기울어진 광을 평행광으로 변환할 수 있다. 따라서, 제1렌즈(120)와 제2렌즈(150) 사이에 광정렬부재(140)가 배치되면 평행광 변환 효율이 대폭 상승한다.The first lens 120 and the second lens 150 function to convert light in a direction orthogonal to each other into parallel light. For example, when the first lens 120 converts light inclined in the X-axis into parallel light, the second lens 150 can convert light inclined in the Y-axis into parallel light. Accordingly, when the light aligning member 140 is disposed between the first lens 120 and the second lens 150, the parallel light conversion efficiency is significantly increased.

광모듈(100)에서 조사된 평행광은 마스크(M)에 의해 선택적으로 전극 기판(S)에 조사된다. 따라서, 조사 영역과 비조사 영역 사이의 노광차에 의해 전극패턴이 형성된다. The parallel light emitted from the optical module 100 is selectively irradiated to the electrode substrate S by the mask M. [ Therefore, an electrode pattern is formed by an exposure difference between the irradiated area and the non-irradiated area.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬부재의 단면도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬부재의 서브부재를 설명하기 위한 개념도이고, 도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광정렬부재의 단면도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광정렬부재의 서브부재를 설명하기 위한 개념도이다.FIG. 5 is a sectional view of a photo-aligning member according to an embodiment of the present invention, FIG. 6 is a conceptual view for explaining a sub-member of a photo aligning member according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a conceptual view for explaining a sub-member of a photo-alignment member according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참고하면, 광정렬부재(140)는 복수 개의 삼각 기둥 형상의 서브부재(141)로 구획된다. 광정렬부재(140)는 제1플레이트(144a)와 제2플레이트(144b)가 소정 간격으로 이격되고, 그 사이에 톱니 형상의 요철 플레이트(145)가 배치되어 삼각 기둥 형상의 서브부재(141)를 구성할 수 있다. Referring to FIG. 5, the light aligning member 140 is divided into a plurality of triangular-columnar sub-members 141. The light aligning member 140 includes a triangular prism sub-member 141 having a first plate 144a and a second plate 144b spaced apart from each other by a predetermined distance and a serrated irregular plate 145 disposed therebetween, .

서브부재(141)의 튜브 몸체는 요철 플레이트(145)와 제1플레이트(144a) 또는 요철 플레이트(145)와 제2플레이트(144b)에 의해 정의될 수 있다. 도시되지는 않았으나 서브부재(141)의 내측면에는 광흡수층이 배치된다.The tube body of the sub member 141 may be defined by the uneven plate 145 and the first plate 144a or the uneven plate 145 and the second plate 144b. Although not shown, a light absorbing layer is disposed on the inner surface of the sub member 141.

서브부재(141)의 삼각형상은 정삼각형 또는 이등변 삼각형일 수 있다. 각 서브부재(141)의 개구 면적은 모두 동일하게 형성될 수 있다. 따라서, 광모듈(100)이 제1방향(D)으로 슬라이딩하는 경우 균일한 광을 스테이지(200)에 조사할 수 있다.The triangular shape of the sub member 141 may be an equilateral triangle or an isosceles triangle. The opening areas of the respective sub-members 141 may be formed to be the same. Therefore, when the optical module 100 slides in the first direction D, it is possible to irradiate the stage 200 with uniform light.

이때, 삼각형 형상은 제1방향(D)으로 전방에 배치된 꼭짓점(P1)과 상기 꼭짓점(P1)과 마주보는 변을 수직하게 연결한 가상선(V1)이 제1방향(D)과 평행하게 배치되도록 형성될 수 있다.At this time, in the triangular shape, the vertex P1 arranged in the first direction D and the imaginary line V1 vertically connecting the sides facing the vertex P1 are parallel to the first direction D As shown in FIG.

도 6을 참고하면, 서브부재(141)는 이등변 삼각형 형상을 가질 수 있다. 이등변 삼각형은 1개의 밑변(F1)과 서로 길이가 같은 2개의 측변(F2, F3)을 포함하고, 2개의 측변(F2, F3)이 이루는 내각인 제1각도(θ1)는 5°보다 크고 60°보다 작게 형성될 수 있다. 6, the sub-member 141 may have an isosceles triangle shape. The isosceles triangle includes two side faces F2 and F3 having the same length as one base side F1 and the first angle? 1 which is an interior angle formed by the two side faces F2 and F3 is greater than 5 and greater than 60 Deg.].

삼각형 형상은 하나의 측변(F2)과 밑변(F1)이 이루는 내각인 제2각도(θ2)는 60°보다 크고 90°보다 작을 수 있다. 삼각형상의 폭(W)은 40 내지 100mm일 수 있다. 일 예로 이등변 삼각형의 폭은 70mm일 수 있다.The second angle? 2, which is an internal angle formed by one side F2 and the base F1, may be greater than 60 degrees and less than 90 degrees. The width W on the triangle may be 40 to 100 mm. For example, the width of the isosceles triangle may be 70 mm.

도 7을 참고하면, 광정렬부재(140)는 복수 개의 평행 사변형 형상의 서브부재(146)로 구획될 수 있다. 광정렬부재(140)는 제1플레이트(147a)와 제2플레이트(147b)가 소정 간격으로 이격되고, 그 사이에 소정의 각도로 기울어진 복수 개의 서브 플레이트(148)가 배치되어 평행 사변형 형상의 서브부재(146)를 구성할 수 있다.Referring to FIG. 7, the light aligning member 140 may be divided into a plurality of parallelogram shaped sub-members 146. The first and second plates 147a and 147b are spaced apart from each other by a predetermined distance and a plurality of sub-plates 148 are disposed between the first and second plates 147a and 147b at predetermined angles, The sub member 146 can be formed.

평행 사변형 형상은 두 개의 수평면(F5)과 두 개의 경사면(F4)을 갖는다. 일 예로 어느 하나의 수평면(F5)과 경사면(F4)이 이루는 각도(θ3)는 45°일 수 있고, 나머지 하나의 수평면(F4)과 경사면(F4)이 이루는 각도(θ4)는 135°일 수 있다.The parallelogram shape has two horizontal surfaces (F5) and two inclined surfaces (F4). For example, the angle 3 between one horizontal plane F5 and the slope F4 may be 45 and the angle 4 between the other horizontal plane F4 and the slope F4 may be 135 degrees. have.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 광정렬부재의 효과를 설명하기 위한 개념도이고, 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광정렬부재의 효과를 설명하기 위한 개념도이고, 도 11 내지 도 13은 다양한 형상의 광정렬부재에서 발생하는 문제를 설명하기 위한 개념도이다.FIG. 9 is a conceptual view for explaining an effect of the photo aligning member according to an embodiment of the present invention, FIG. 10 is a conceptual view for explaining the effect of the photo aligning member according to another embodiment of the present invention, 13 is a conceptual diagram for explaining a problem occurring in a photo-alignment member having various shapes.

도 9를 참고하면, 삼각형상의 서브 부재(141)는 외곽부(요철 플레이트의 두께)에서 광을 차폐한다. 따라서, 요철 플레이트(145)의 두께를 최소화하는 경우 광 차폐율을 최소화할 수 있다. 그러나, 소정의 강도를 유지하기 위한 최소한의 두께를 가질 수 밖에 없으므로 일정부분 광을 차폐할 수 밖에 없다. 따라서, 일정 부분 광을 차폐하더라도 균일한 광을 조사하는 것이 중요하다.9, the triangular-shaped sub-member 141 shields light at the outer frame portion (thickness of the concave-convex plate). Therefore, when the thickness of the uneven plate 145 is minimized, the light shielding ratio can be minimized. However, since it is necessary to have a minimum thickness for maintaining a predetermined strength, it is necessary to shield a certain part of light. Therefore, even if a certain part of light is shielded, it is important to irradiate uniform light.

본 발명에 따르면, 광모듈(100)이 제1방향(D)으로 슬라이딩되는 경우 요철 플레이트(145)에 의해 차폐되는 면적(A1)은 항상 일정하다. 따라서, 광이 조사되는 제1면적(a1+a2)은 이웃한 제2면적(a3)과 동일하므로 스테이지(200)에 균일한 광을 조사할 수 있다.According to the present invention, when the optical module 100 is slid in the first direction D, the area A1 shielded by the uneven plate 145 is always constant. Therefore, the first area a1 + a2 to which the light is irradiated is the same as the neighboring second area a3, so that the stage 200 can be irradiated with uniform light.

또한, 도 10과 같이 평행 사변형 형상의 서브 부재(146) 역시 서브 플레이트(148)에 의해 차폐되는 면적(A2)이 항상 일정하므로 광이 조사되는 제1면적(a4)은 이웃한 제2면적(a5)과 동일하다. 따라서, 균일한 광을 조사할 수 있다. 이때, 이웃한 서브부재(146)의 꼭짓점(P2, P3)을 연결한 가상선은 광모듈(100)이 이동하는 제1방향(D)과 평행할 수 있다.10, since the area A2 shielded by the sub-plate 148 is always constant, the first area a4 to which the light is irradiated is smaller than the second area a5). Therefore, uniform light can be irradiated. At this time, the imaginary lines connecting the vertexes P2 and P3 of the neighboring sub-members 146 may be parallel to the first direction D in which the optical module 100 moves.

그러나, 도 11과 같이 서브부재(141)의 외곽부(149a)가 제1방향(D)과 평행하게 배치되는 경우 외곽부(149a)에 대응되는 영역은 항상 차폐되는 문제가 있다. 또한, 도 12와 같이 외곽부(149b, 149c)의 기울기가 동일하지 않거나 도 13과 같이 외곽부(149d)가 원형인 경우에는, 광모듈(100)의 진행 방향에 따라 조사되는 광량이 불균일해지는 문제가 있다. 이러한 문제는 균일하지 못한 패턴을 야기한다.However, when the outer frame portion 149a of the sub member 141 is disposed in parallel with the first direction D as shown in Fig. 11, there is a problem that the area corresponding to the outer frame portion 149a is always shielded. When the slopes of the outer frames 149b and 149c are not equal to each other as shown in FIG. 12 or the outer frame 149d is circular as shown in FIG. 13, the amount of light irradiated along the traveling direction of the optical module 100 becomes uneven there is a problem. This problem causes an uneven pattern.

도 14는 본 발명에 따른 노광장치를 이용하여 전극패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 15는 본 발명에 따른 노광장치를 이용하여 형성한 메탈 메쉬 전극의 SEM 사진이다.FIG. 14 is a view for explaining a method of forming an electrode pattern using the exposure apparatus according to the present invention, and FIG. 15 is an SEM photograph of a metal mesh electrode formed using the exposure apparatus according to the present invention.

이하에서는 도 14를 참고하여 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장치를 이용하여 전극 패턴을 형성하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of forming an electrode pattern using an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

먼저, 도 14의 (a)와 같이 기판(10) 위에 금속층(20)을 형성하고 그 위에 포토레지스트층(30)을 형성한다. 기판(10)은 강화유리(Tempered glass)와 같은 고강도의 유리재질이거나, 플렉시블한 필름재질일 수 있다.First, a metal layer 20 is formed on a substrate 10 and a photoresist layer 30 is formed thereon as shown in FIG. 14 (a). The substrate 10 may be a high-strength glass material such as tempered glass, or may be a flexible film material.

이후, 도 14의 (b) 및 도 14의 (c)와 같이 마스크(M) 위에서 자외선(L)을 조사하여 포토레지스트층에 패턴(31)을 현상한다. 전술한 바와 같이 자외선(L)은 일측에서 타측으로 슬라이딩 될 수 있다. 마스크(M)에는 미리 패턴이 형성되어 선택적으로 광을 투과시킨다. 따라서, 포토레지스트 패턴(31)은 선택적으로 경화된다.Then, the pattern 31 is developed on the photoresist layer by irradiating ultraviolet light L on the mask M as shown in Figs. 14 (b) and 14 (c). As described above, the ultraviolet light L can be slid from one side to the other. A pattern is formed in the mask M in advance to selectively transmit light. Therefore, the photoresist pattern 31 is selectively cured.

이후, 도 14의 (d) 및 도 14의 (e)와 같이 에칭에 의해 금속 패턴(21)을 형성한다. 금속 패턴(21)은 메쉬 패턴일 수 있다. 에칭 방법은 건식 방법이나 습식 방법에 제한되지 않는다. 이후, 포토레지스트 패턴(31)을 제거한다.Thereafter, the metal pattern 21 is formed by etching as shown in Figs. 14 (d) and 14 (e). The metal pattern 21 may be a mesh pattern. The etching method is not limited to a dry method or a wet method. Thereafter, the photoresist pattern 31 is removed.

이후, 도 14의 (f) 내지 도 14의 (h)와 같이 금속 패턴(21)의 가장자리에 배선 층(40)을 형성하고. 그 위에 투명절연층(50) 및/또는 보호층을 형성하여 셀 단위(C)로 절단한다.14 (f) to 14 (h), the wiring layer 40 is formed at the edge of the metal pattern 21. Then, as shown in Fig. A transparent insulating layer 50 and / or a protective layer is formed thereon and cut into a cell unit (C).

도 15를 참고하면, 금속 패턴의 메탈 메쉬는 4㎛로 얇은 경우에도 균일한 패턴이 형성되었다. 이는 본 발명의 노광장치에 의해 매우 균일한 평행광이 조사되었기 때문이다. 또한, 금속 패턴층의 면적은 21.5 inch까지 대면적으로 제작 가능함을 확인하였다.Referring to FIG. 15, even when the metal mesh of the metal pattern is as thin as 4 占 퐉, a uniform pattern is formed. This is because highly uniform parallel light is irradiated by the exposure apparatus of the present invention. In addition, it was confirmed that the area of the metal pattern layer can be made as large as 21.5 inches.

100: 광모듈
110: 광원부
120: 제1렌즈
140: 광정렬부재
141: 서브부재100: optical module
110: light source
120: first lens
140: photo-
141: Sub-member

Claims (10)

스테이지;
상기 스테이지와 이격 배치되고, 상기 스테이지에 광을 조사하는 광모듈; 및
상기 스테이지 또는 광모듈을 제1방향으로 이동시키는 구동부를 포함하고,
상기 광모듈은,
상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 연장된 광원부; 및
상기 광원부와 스테이지 사이에 배치된 광정렬부재를 포함하고,
상기 광정렬부재는 상기 제2방향으로 배치되는 복수 개의 서브부재를 포함하고, 상기 서브부재는 상기 스테이지를 향해 연장 형성된 노광장치.
stage;
An optical module disposed apart from the stage, the optical module irradiating the stage with light; And
And a driving unit for moving the stage or the optical module in a first direction,
The optical module includes:
A light source unit extending in a second direction perpendicular to the first direction; And
And a light aligning member disposed between the light source and the stage,
Wherein the photo alignment member includes a plurality of sub-members disposed in the second direction, and the sub-member extends toward the stage.
제1항에 있어서,
상기 복수 개의 서브부재는 다각 형상의 튜브 몸체를 포함하는 노광장치.
The method according to claim 1,
Wherein the plurality of sub-members include a tube body having a polygonal shape.
제2항에 있어서,
상기 복수 개의 서브부재는 상기 튜브 몸체의 내벽에 배치된 광흡수층을 포함하는 노광장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the plurality of sub-members include a light absorbing layer disposed on an inner wall of the tube body.
제2항에 있어서,
상기 튜브 몸체의 단면은 삼각형 형상인 노광장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the tube body has a triangular cross section.
제2항에 있어서,
상기 튜브 몸체의 단면은 1개의 밑변과 서로 길이가 동일한 2개의 측변을 포함하는 이등변 삼각형 형상을 갖고,
상기 2개의 측변이 이루는 내각은 5°보다 크고 60°보다 작은 노광장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the cross section of the tube body has an isosceles triangle shape including two sides having the same length as one base,
Wherein an internal angle formed by the two sides is larger than 5 DEG and smaller than 60 DEG.
제4항에 있어서,
상기 삼각형의 하나의 꼭짓점과 상기 꼭짓점과 마주보는 변을 수직하게 연결한 가상선은 상기 제1방향과 평행한 노광장치.
5. The method of claim 4,
Wherein an imaginary line vertically connecting one vertex of the triangle and a side facing the vertex is parallel to the first direction.
제2항에 있어서,
상기 튜브 몸체의 단면은 평행 사변형 형상인 노광장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the tube body has a parallelogram shape in section.
제1항에 있어서,
상기 서브부재의 폭(W)과 길이(L)의 비(W:L)는 1:4 내지 1:20인 노광장치.
The method according to claim 1,
Wherein a ratio (W: L) of a width (W) to a length (L) of the sub member is 1: 4 to 1:20.
제1항에 있어서,
상기 광원부는,
상기 제2방향으로 연장된 광원; 및
상기 광원을 기준으로 상기 광정렬부재의 반대측에 배치되는 반사판을 포함하는 노광장치.
The method according to claim 1,
The light source unit includes:
A light source extending in the second direction; And
And a reflecting plate disposed on the opposite side of the light aligning member with respect to the light source.
제1항에 있어서,
상기 광원부와 광정렬부재 사이에 배치된 제1렌즈;
상기 제1렌즈와 상기 광정렬부재 사이에 배치된 열차단판; 및
상기 광정렬부재와 스테이지 사이에 배치되는 제2렌즈를 포함하는 노광장치.The method according to claim 1,
A first lens disposed between the light source and the light alignment member;
A heat insulating plate disposed between the first lens and the photo aligning member; And
And a second lens disposed between the photo alignment member and the stage.
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