KR20160014207A - Triboelectric energy harvester using metal electrodeposition and manufacturing method thereof - Google Patents

Triboelectric energy harvester using metal electrodeposition and manufacturing method thereof Download PDF

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KR20160014207A
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Abstract

The manufacturing method of the triboelectric energy harvester using a metal electrodeposition of the present invention comprises the steps of: forming an electrode on a substrate; generating a micro metal pattern on at least an area on the electrode; and, forming a nano pattern on the micro metal pattern by using a metal electrodeposition.

Description

금속 전기 증착 방식을 이용한 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법{TRIBOELECTRIC ENERGY HARVESTER USING METAL ELECTRODEPOSITION AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a contact charging power generator using a metal electro-

본 발명은 금속 전기 증착 방식(metal electrodeposition)을 이용하여 접촉 대전 발전기(triboelectric energy harvester)를 생성하는 기술에 대한 것으로서, 보다 구체적으로, 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시켜 나노 패턴을 형성하는 접촉 대전 발전기 생성 기술이다.The present invention relates to a technique for producing a triboelectric energy harvester using a metal electrodeposition method and more specifically to a technique for growing a nano metal on a micro metal pattern in a predetermined shape and size, It is a contact charging generator generation technique that forms a pattern.

접촉 대전 발전기는 서로 다른 두 대전 물질들을 포함함으로써, 서로 다른 두 대전 물질들이 물리적으로 서로 접촉할 때 각각의 표면에서 전기적인 양극 또는 음극으로 대전되는 표면 전하(정전기)를 이용하여 유도 전류를 발생시킬 수 있다. 따라서, 접촉 대전 발전기는 주위 환경에서 사용되지 못하고 버려지는 에너지를 사용처가 높은 전기 에너지로 변환하는 기술인 에너지 하베스팅(energy harvesting)에서 사용된다.The contact charging generator includes two different charged materials so that when two different charged materials are physically contacted with each other, an induced current is generated using surface charge (static electricity) charged to the electric anode or cathode at each surface . Thus, contact charging generators are used in energy harvesting, a technology that converts unused energy from the environment into high electrical energy.

특히, 최근에는 높은 출력전압을 얻기 위한 대전 물질 접촉 면적의 증가를 위해, 접촉 계면에 대한 연구가 진행되고 있다.Particularly, in recent years, in order to increase the contact area of the charging material for obtaining a high output voltage, researches on the contact interface have been proceeding.

이에, 본 명세서에서는 대전 물질 접촉 계면의 표면적이 개선된 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법을 제안한다.
Therefore, in this specification, a contact charging power generator with improved surface area of a charging material contacting interface and a method of producing the same are proposed.

본 발명의 실시예들은 금속 전기 증착 방식에 의해 형성된 나노 패턴을 포함함으로써, 접촉 계면의 표면적을 증가시킨 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법을 제공한다.Embodiments of the present invention provide a contact charging power generator including a nano pattern formed by a metal electro-deposition method, thereby increasing the surface area of the contact interface and a method of generating the same.

또한, 본 발명의 실시예들은 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시켜 나노 패턴을 형성함으로써, 접촉 계면의 형태 및 크기가 적응적으로 조절되는 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법을 제공한다.In addition, embodiments of the present invention provide a contact charging power generator in which the shape and size of a contact interface are adaptively adjusted by forming a nano pattern by growing a nano metal on a micro metal pattern to a predetermined shape and size, do.

본 발명의 일실시예에 따른 금속 전기 증착 방식(metal electrodeposition)을 이용하는 접촉 대전 발전기(triboelectric energy harvester)의 생성 방법은 기판 위에 전극을 형성하는 단계; 상기 전극 위의 적어도 일부 영역에 마이크로 금속 패턴을 생성하는 단계; 및 금속 전기 증착 방식을 이용하여 상기 마이크로 금속 패턴 위에 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.A method of forming a triboelectric energy harvester using metal electrodeposition according to an embodiment of the present invention includes forming an electrode on a substrate; Forming a micro-metal pattern on at least a portion of the area over the electrode; And forming a nanopattern on the micro-metal pattern using a metal electro-deposition method.

상기 금속 전기 증착 방식을 이용하여 상기 마이크로 금속 패턴 위에 나노 패턴을 형성하는 단계는 상기 마이크로 금속 패턴이 생성된 상기 전극 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액을 노광시키는 단계; 상기 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시키는 단계; 및 상기 음성 감광액을 리프트 오프(lift-off) 방식으로 제거하는 단계를 포함할 수 있다.Forming a nanopattern on the micro-metal pattern using the metal electro-deposition method comprises: exposing a negative photoresist to a region other than at least a portion of the electrode on which the micro-metal pattern is formed; Growing a nano metal on the micro-metal pattern to a predetermined shape and size; And removing the negative photosensitive liquid in a lift-off manner.

상기 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시키는 단계는 상기 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 상기 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나를 조절하는 단계를 포함할 수 있다.The step of growing the nano metal on the micro-metal pattern to a predetermined shape and size may include adjusting at least one of a concentration of the nano-metal-containing solution, a voltage applied to the nano-metal, or a deposition time have.

상기 나노 금속은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The nano metal may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

상기 전극 위의 적어도 일부 영역에 마이크로 금속 패턴을 생성하는 단계는 상기 전극 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액을 노광시키는 단계; 상기 전극 위의 적어도 일부 영역 및 상기 음성 감광액 위에 마이크로 금속을 증착하는 단계; 및 상기 마이크로 금속이 증착된 음성 감광액을 리프트 오프 방식으로 제거하는 단계를 포함할 수 있다.Wherein the step of forming a micro-metal pattern on at least a portion of the electrode comprises: exposing a negative photoresist to a region other than at least a portion of the electrode; Depositing a micro-metal on at least a portion of the electrode and the negative photosensitive liquid; And removing the negative photoresist deposited with the micro-metal by a lift-off method.

상기 마이크로 금속은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The micro-metal may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

상기 기판 위에 전극을 형성하는 단계는 실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 상기 기판을 생성하는 단계; 및 상기 기판 위에 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 상기 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The step of forming the electrode on the substrate may include: forming the substrate with at least one of silicon, polymer, and metal; And forming the electrode with at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al on the substrate.

본 발명의 일실시예에 따른 금속 전기 증착 방식(metal electrodeposition)을 이용한 접촉 대전 발전기(triboelectric energy harvester)는 기판; 상기 기판 위에 형성되는 전극; 상기 전극 위의 적어도 일부 영역에 생성되는 마이크로 금속 패턴; 및 상기 마이크로 금속 패턴 위에 금속 전기 증착 방식에 의해 형성되는 나노 패턴을 포함한다.A triboelectric energy harvester using metal electrodeposition according to an embodiment of the present invention includes a substrate; An electrode formed on the substrate; A micro-metal pattern formed on at least a portion of the electrode; And a nano pattern formed on the micro-metal pattern by a metal electro-deposition method.

상기 나노 패턴은 상기 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속이 미리 설정된 형태 및 크기로 성장하여 형성될 수 있다.The nano pattern may be formed by growing nano metal on the micro-metal pattern to a predetermined shape and size.

상기 나노 금속은 상기 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 상기 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나가 조절되어 성장할 수 있다.The nano metal may be grown by controlling at least one of the concentration of the nano-metal-containing solution, the voltage applied to the nano-metal, and the deposition time.

상기 나노 금속은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The nano metal may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

상기 마이크로 금속 패턴은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 마이크로 금속으로 생성될 수 있다.The micro-metal pattern may be formed of a micro-metal containing at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

상기 기판은 실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 생성될 수 있다.The substrate may be made of at least one of silicon, polymer or metal.

상기 전극은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The electrode may be formed of at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

본 발명의 실시예들은 금속 전기 증착 방식에 의해 형성된 나노 패턴을 포함함으로써, 접촉 계면의 표면적을 증가시킨 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법을 제공할 수 있다.Embodiments of the present invention can provide a contact charging power generator having a surface area of a contact interface increased by including a nano pattern formed by a metal electro-deposition method and a method of producing the same.

따라서, 본 발명의 실시예들은 접촉 계면의 표면적이 증가되어 출력전압이 개선된 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법을 제공할 수 있다.Therefore, the embodiments of the present invention can provide a contact charging power generator in which the surface area of the contact interface is increased and the output voltage is improved, and a method of generating the same.

또한, 본 발명의 실시예들은 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시켜 나노 패턴을 형성함으로써, 접촉 계면의 형태 및 크기가 적응적으로 조절되는 접촉 대전 발전기 및 그 생성 방법을 제공할 수 있다.
In addition, embodiments of the present invention provide a contact charging power generator in which the shape and size of a contact interface are adaptively adjusted by forming a nano pattern by growing a nano metal on a micro metal pattern to a predetermined shape and size, can do.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기에 포함되는 마이크로 금속 패턴을 생성하는 과정을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기에 포함되는 나노 패턴을 형성하는 과정을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 패턴을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기의 생성 방법을 나타낸 플로우 차트이다.1 is a view showing a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention.
2 is a view illustrating a process of generating a micro-metal pattern included in the contact charging power generator according to an embodiment of the present invention.
3 is a view illustrating a process of forming a nano pattern included in the contact charging generator according to an embodiment of the present invention.
4 illustrates a nanopattern according to an embodiment of the present invention.
5 is a flowchart showing a method of generating a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to or limited by the embodiments. In addition, the same reference numerals shown in the drawings denote the same members.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기는 기판(110), 전극(120), 마이크로 금속 패턴(130) 및 나노 패턴(140)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention includes a substrate 110, an electrode 120, a micro-metal pattern 130, and a nano-pattern 140.

기판(110)은 실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 생성될 수 있다. 여기서, 기판(110) 위에는 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 전극(120)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 전극(120)은 기판(110) 위의 전면에 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The substrate 110 may be made of at least one of silicon, polymer, or metal. Here, the electrode 120 may be formed on the substrate 110 with at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al. For example, the electrode 120 may be formed of at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al on the entire surface of the substrate 110.

마이크로 금속 패턴(130)은 전극(120) 위의 적어도 일부 영역에 생성된다. 예를 들어, 마이크로 금속 패턴(130)은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 마이크로 금속으로 전극(120) 위의 적어도 일부 영역에 생성될 수 있다. 이 때, 마이크로 금속 패턴(130)은 탑-다운 방식으로 생성될 수 있다.A micro-metal pattern 130 is created in at least a portion of the area on the electrode 120. For example, the micro-metal pattern 130 may be formed in at least a portion of the area of the electrode 120 with a micro-metal containing at least one of Cr, Ni, Au, Cu, or Al. At this time, the micro-metal pattern 130 may be generated in a top-down manner.

나노 패턴(140)은 금속 전기 증착 방식에 의해 마이크로 금속 패턴(130) 위에 형성된다. 예를 들어, 나노 패턴(140)은 마이크로 금속 패턴(130) 위에서 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 나노 금속이 미리 설정된 형태 및 크기로 성장하여 형성될 수 있다. 이 때, 나노 패턴(140)은 바텀-업 방식으로 형성될 수 있다. 또한, 나노 금속은 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나가 조절되어 나노 패턴(140)의 표면적이 최대화되도록 성장할 수 있다.The nano patterns 140 are formed on the micro-metal patterns 130 by a metal electro-deposition method. For example, the nano pattern 140 may be formed by growing a nano metal including at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al on the micro-metal pattern 130 in a preset shape and size. At this time, the nano patterns 140 may be formed in a bottom-up manner. In addition, the nanomaterial can be grown to maximize the surface area of the nanopattern 140 by controlling at least one of the concentration of the solution containing the nanoparticles, the voltage applied to the nanoparticles, or the deposition time.

따라서, 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기는 금속 전기 증착 방식에 의해 형태 및 크기가 적응적으로 조절되도록 형성되는 나노 패턴(140)을 포함함으로써, 접촉 계면의 표면적을 증가시킬 수 있다. 이와 같은 접촉 대전 발전기의 생성 과정에 대한 상세한 설명은 아래에서 기재하기로 한다.
Accordingly, the contact charging power generator according to an embodiment of the present invention includes the nanopattern 140 formed to be adaptively controlled in shape and size by the metal electro-deposition method, thereby increasing the surface area of the contact interface. A detailed description of the generation process of such a contact charging electric generator will be described below.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기에 포함되는 마이크로 금속 패턴을 생성하는 과정을 나타낸 도면이다.2 is a view illustrating a process of generating a micro-metal pattern included in the contact charging power generator according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 생성된 기판(210) 위에 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 증착하여, 전극(220)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 2, the system for generating a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention includes at least one of Cr, Ni, Au, Cu, or Al on a substrate 210 formed of at least one of silicon, The electrode 220 can be formed.

이어서, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 기판(210) 위에 형성된 전극(220) 위의 적어도 일부 영역(마이크로 금속 패턴이 형성될 영역을 의미함)을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액(230)을 선택적으로 노광시킬 수 있다.The generation system of the contact charging generator then selectively exposes the negative sensitizing solution 230 to at least a part of the area on the electrode 220 formed on the substrate 210 except for the area where the micro- .

그 다음, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 음성 감광액(230) 및 전극(220) 위의 적어도 일부 영역의 전면에 마이크로 금속(240)을 증착할 수 있다. 이 때, 마이크로 금속(240)은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The generation system of the contact charging generator may then deposit micro-metal 240 on the front side of at least a portion of the area of the negative sensitizing solution 230 and electrode 220. At this time, the micro-metal 240 may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

그 후, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 마이크로 금속(240)이 증착된 음성 감광액(230)을 리프트 오프 방식(lift-off)으로 제거하여 전극(220) 위의 적어도 일부 영역에만 마이크로 금속(240)을 잔여시킴으로써, 마이크로 금속 패턴을 생성할 수 있다. 이 때, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 리프트 오프 방식뿐만 아니라, 다양한 방식으로 마이크로 금속(240)이 증착된 음성 감광액(230)을 제거할 수 있다.
The generation system of the contact charging generator then removes the negative sensitizing solution 230 deposited with the micro-metal 240 by a lift-off method to remove the micro-metal 240 only in at least a part of the area on the electrode 220. [ The micro-metal pattern can be produced. At this time, the generation system of the contact charging electric generator can remove the negative photosensitive liquid 230 deposited with the micro-metal 240 in various ways as well as the lift-off method.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기에 포함되는 나노 패턴을 형성하는 과정을 나타낸 도면이다.3 is a view illustrating a process of forming a nano pattern included in the contact charging generator according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 마이크로 금속 패턴(310)이 생성된 전극(320) 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액(330)을 노광시킬 수 있다. 이와 같이, 전극(320) 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액(330)을 노광시키는 과정은 마이크로 금속 패턴(310)이 생성된 영역을 제외한 나머지 영역에서 나노 금속(340)이 성장하는 것을 방지하기 위해 수행될 수 있다.3, the production system of the contact charging power generator according to an embodiment of the present invention includes a negative photoresist 330 in the remaining area except at least a part of the area on the electrode 320 where the micro- Exposure can be performed. The process of exposing the negative sensitizing solution 330 to regions other than at least a portion of the electrode 320 may be performed by growing the nano metal 340 in regions other than the region where the micro-metal pattern 310 is formed Or the like.

이어서, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 마이크로 금속 전기 증착 방식을 이용하여 금속 패턴(310) 위에서 나노 금속(340)을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시킬 수 있다. 예를 들어, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 나노 금속(340)이 포함되는 용액의 농도, 나노 금속(340)에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나를 조절함으로써, 마이크로 금속 패턴(310) 위에서 나노 금속(340)을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시킬 수 있다. 더 구체적인 예를 들면, 나노 금속(340)은 나노 패턴의 표면적이 최대화되도록 나노 금속(340)이 포함되는 용액의 농도, 나노 금속(340)에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나가 조절되어 성장할 수 있다. 이 때, 나노 금속(340)은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The generation system of the contact charging generator can then grow the nano metal 340 on the metal pattern 310 using a micro-metal electro-deposition method to a preset shape and size. For example, the generation system of the contact charging generator may be controlled by controlling at least one of the concentration of the solution containing the nano metal 340, the voltage applied to the nano metal 340, The nano metal 340 can be grown to a predetermined shape and size. For example, the nanomaterial 340 may be adjusted to at least one of the concentration of the solution containing the nanomaterial 340, the voltage applied to the nanomaterial 340, or the deposition time so that the surface area of the nanomat pattern is maximized It can grow. At this time, the nano metal 340 may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

그 후, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 음성 감광액(330)을 리프트 오프 방식으로 제거하여, 마이크로 금속 패턴(310) 위에만 나노 금속(340)을 잔여시킴으로써, 나노 패턴을 형성할 수 있다. 이 때, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 리프트 오프 방식뿐만 아니라, 다양한 방식으로 음성 감광액(330)을 제거할 수 있다.
The generation system of the contact charging generator may then remove the negative sensitizing solution 330 in a lift-off fashion, leaving the nanometal 340 on only the micro-metal pattern 310 to form the nanopattern. At this time, the generation system of the contact charging power generator can remove the sound sensitizing liquid 330 in various ways as well as the lift off method.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 패턴을 나타낸 도면이다.4 illustrates a nanopattern according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 나노 패턴(410)은 금속 전기 증착 방식에 의해, 형태 및 크기가 적응적으로 조절될 수 있기 때문에, 표면적이 최대화되도록 형성될 수 있다. 따라서, 나노 패턴(410)을 포함하는 접촉 대전 발전기는 접촉 계면의 표면적이 증가됨으로써, 출력전압이 개선될 수 있다.
Referring to FIG. 4, the nanopattern 410 according to an exemplary embodiment of the present invention may be formed to maximize the surface area because the shape and size of the nanopattern 410 can be adaptively adjusted by a metal electrodeposition method. Thus, the contact charging generator including the nano pattern 410 can have an improved output voltage by increasing the surface area of the contact interface.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기의 생성 방법을 나타낸 플로우 차트이다.5 is a flowchart showing a method of generating a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 기판 위에 전극을 형성한다(510).Referring to FIG. 5, a production system of a contact charging power generator according to an embodiment of the present invention forms an electrode on a substrate (510).

구체적으로, 510 단계에서, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 기판을 생성한 후, 생성된 기판 위에 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 전극을 형성할 수 있다.Specifically, in step 510, the system for generating a contact charging electric power generator generates a substrate using at least one of silicon, polymer, and metal, and then forms an electrode on at least one of Cr, Ni, Au, Cu, .

이어서, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 전극 위의 적어도 일부 영역에 마이크로 금속 패턴을 생성한다(520).The generation system of the contact charging generator then generates a micro-metal pattern in at least a portion of the area on the electrode (520).

구체적으로, 520 단계에서, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 전극 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액을 노광시키고, 전극 위의 적어도 일부 영역 및 음성 감광액 위에 마이크로 금속을 증착하며, 마이크로 금속이 증착된 음성 감광액을 리프트 오프 방식으로 제거함으로써, 전극 위의 적어도 일부 영역에 마이크로 금속 패턴을 생성할 수 있다. 여기서, 마이크로 금속은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Specifically, in step 520, the system for generating a contact charging electric power generator exposes a negative photosensitive liquid to a region other than at least a partial region on the electrode, deposits a micro-metal on at least a portion of the electrode and the negative photosensitive liquid, By removing the deposited negative photoresist in a lift-off fashion, a micro-metal pattern can be created in at least some areas on the electrode. Here, the micro-metal may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

그 후, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 금속 전기 증착 방식을 이용하여 마이크로 금속 패턴 위에 나노 패턴을 형성한다(530).The generation system of the contact charging generator then forms a nanopattern (530) on the micro-metal pattern using a metal electro-deposition scheme.

구체적으로, 530 단계에서, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 마이크로 금속 패턴이 생성된 전극 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액을 노광시키고, 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시키며, 음성 감광액을 리프트 오프(lift-off) 방식으로 제거함으로써, 마이크로 금속 패턴 위에 나노 패턴을 형성할 수 있다. 이 때, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나를 조절함으로써, 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시킬 수 있다. 예를 들어, 접촉 대전 발전기의 생성 시스템은 나노 패턴의 표면적이 최대화되도록 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나를 조절할 수 있다. 여기서, 나노 금속은 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
Specifically, in step 530, the generation system of the contact charging power generator exposes the negative photoresist to a region other than at least a partial region on the electrode on which the micro-metal pattern is generated, exposes the nano metal to a predetermined shape and size And removing the negative sensitizing solution by a lift-off method, thereby forming a nanopattern on the micro-metal pattern. At this time, the generation system of the contact charging generator controls at least one of the concentration of the solution containing the nano metal, the voltage applied to the nano metal, or the deposition time so that the nano metal is grown . For example, the generation system of the contact charging generator can control at least one of the concentration of the solution containing the nano metal, the voltage applied to the nano metal, or the deposition time so that the surface area of the nano pattern is maximized. Here, the nano metal may include at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. For example, it is to be understood that the techniques described may be performed in a different order than the described methods, and / or that components of the described systems, structures, devices, circuits, Lt; / RTI > or equivalents, even if it is replaced or replaced.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents to the claims are also within the scope of the following claims.

Claims (14)

금속 전기 증착 방식(metal electrodeposition)을 이용하는 접촉 대전 발전기(triboelectric energy harvester)의 생성 방법에 있어서,
기판 위에 전극을 형성하는 단계;
상기 전극 위의 적어도 일부 영역에 마이크로 금속 패턴을 생성하는 단계; 및
금속 전기 증착 방식을 이용하여 상기 마이크로 금속 패턴 위에 나노 패턴을 형성하는 단계
를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.A method of generating a triboelectric energy harvester using metal electrodeposition,
Forming an electrode on the substrate;
Forming a micro-metal pattern on at least a portion of the area over the electrode; And
Forming a nanopattern on the micro-metal pattern using a metal electro-deposition
Wherein the contact charging means comprises a contact generator. 제1항에 있어서,
상기 금속 전기 증착 방식을 이용하여 상기 마이크로 금속 패턴 위에 나노 패턴을 형성하는 단계는
상기 마이크로 금속 패턴이 생성된 상기 전극 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액을 노광시키는 단계;
상기 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시키는 단계; 및
상기 음성 감광액을 리프트 오프(lift-off) 방식으로 제거하는 단계
를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.The method according to claim 1,
The step of forming the nanopattern on the micro-metal pattern using the metal electro-
Exposing a negative photoresist to a region other than at least a portion of the electrode on which the micro-metal pattern is formed;
Growing a nano metal on the micro-metal pattern to a predetermined shape and size; And
Removing the voice sensitive liquid in a lift-off manner
Wherein the contact charging means comprises a contact generator. 제2항에 있어서,
상기 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속을 미리 설정된 형태 및 크기로 성장시키는 단계는
상기 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 상기 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나를 조절하는 단계
를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.3. The method of claim 2,
The step of growing the nano-metal on the micro-metal pattern to a predetermined shape and size
Adjusting at least one of a concentration of the solution containing the nano metal, a voltage applied to the nano metal, or a deposition time
Wherein the contact charging means comprises a contact generator. 제2항에 있어서,
상기 나노 금속은
Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.3. The method of claim 2,
The nano-
Cr, Ni, Au, Cu, or Al. 제1항에 있어서,
상기 전극 위의 적어도 일부 영역에 마이크로 금속 패턴을 생성하는 단계는
상기 전극 위의 적어도 일부 영역을 제외한 나머지 영역에 음성 감광액을 노광시키는 단계;
상기 전극 위의 적어도 일부 영역 및 상기 음성 감광액 위에 마이크로 금속을 증착하는 단계; 및
상기 마이크로 금속이 증착된 음성 감광액을 리프트 오프 방식으로 제거하는 단계
를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.The method according to claim 1,
The step of creating a micro-metal pattern in at least a portion of the area on the electrode
Exposing a negative photoresist to a region other than at least a portion of the electrode;
Depositing a micro-metal on at least a portion of the electrode and the negative photosensitive liquid; And
Removing the negative sensitizing solution on which the micro-metal is deposited by a lift-off method
Wherein the contact charging means comprises a contact generator. 제5항에 있어서,
상기 마이크로 금속은
Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.6. The method of claim 5,
The micro-
Cr, Ni, Au, Cu, or Al. 제1항에 있어서,
상기 기판 위에 전극을 형성하는 단계는
실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 상기 기판을 생성하는 단계; 및
상기 기판 위에 Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 상기 전극을 형성하는 단계
를 포함하는 접촉 대전 발전기의 생성 방법.The method according to claim 1,
The step of forming an electrode on the substrate
Producing the substrate with at least one of silicon, polymer, or metal; And
Forming the electrode on at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al on the substrate
Wherein the contact charging means comprises a contact generator. 금속 전기 증착 방식(metal electrodeposition)을 이용한 접촉 대전 발전기(triboelectric energy harvester)에 있어서,
기판;
상기 기판 위에 형성되는 전극;
상기 전극 위의 적어도 일부 영역에 생성되는 마이크로 금속 패턴; 및
상기 마이크로 금속 패턴 위에 금속 전기 증착 방식에 의해 형성되는 나노 패턴
을 포함하는 접촉 대전 발전기.In a triboelectric energy harvester using metal electrodeposition,
Board;
An electrode formed on the substrate;
A micro-metal pattern formed on at least a portion of the electrode; And
The nano pattern formed by the metal electro-deposition method on the micro-
And a contact charging device. 제8항에 있어서,
상기 나노 패턴은
상기 마이크로 금속 패턴 위에서 나노 금속이 미리 설정된 형태 및 크기로 성장하여 형성되는 접촉 대전 발전기.9. The method of claim 8,
The nanopattern
Wherein the nano metal is grown on the micro-metal pattern to a predetermined shape and size. 제9항에 있어서,
상기 나노 금속은
상기 나노 금속이 포함되는 용액의 농도, 상기 나노 금속에 인가되는 전압 또는 증착 시간 중 적어도 어느 하나가 조절되어 성장하는 접촉 대전 발전기.10. The method of claim 9,
The nano-
Wherein at least one of a concentration of the solution containing the nano metal, a voltage applied to the nano metal, and a deposition time is controlled to grow. 제9항에 있어서,
상기 나노 금속은
Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 접촉 대전 발전기.10. The method of claim 9,
The nano-
Cr, Ni, Au, Cu, or Al. 제8항에 있어서,
상기 마이크로 금속 패턴은
Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 마이크로 금속으로 생성되는 접촉 대전 발전기.9. The method of claim 8,
The micro-
Wherein the micro-metal-made contact charging generator comprises at least one of Cr, Ni, Au, Cu, and Al. 제8항에 있어서,
상기 기판은
실리콘, 폴리머 또는 금속 중 적어도 어느 하나로 생성되는 접촉 대전 발전기.9. The method of claim 8,
The substrate
A contact charging generator produced by at least one of silicon, polymer or metal. 제8항에 있어서,
상기 전극은
Cr, Ni, Au, Cu 또는 Al 중 적어도 어느 하나로 형성되는 접촉 대전 발전기.9. The method of claim 8,
The electrode
Cr, Ni, Au, Cu, or Al.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112542536A (en) * 2019-09-04 2021-03-23 Tcl华星光电技术有限公司 Manufacturing method of display panel

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060039898A (en) * 2003-07-10 2006-05-09 더 유니버시티 오브 노쓰 캐롤라이나-채플 힐 Deposition method for nanostructure materials
WO2010123162A1 (en) * 2009-04-20 2010-10-28 서울대학교산학협력단 Process for formation of hierarchical microstructure using partial curing
KR20100124870A (en) * 2009-05-20 2010-11-30 한국생명공학연구원 Zinc oxide nanostructured micropattern and method for preparing the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060039898A (en) * 2003-07-10 2006-05-09 더 유니버시티 오브 노쓰 캐롤라이나-채플 힐 Deposition method for nanostructure materials
WO2010123162A1 (en) * 2009-04-20 2010-10-28 서울대학교산학협력단 Process for formation of hierarchical microstructure using partial curing
KR20100124870A (en) * 2009-05-20 2010-11-30 한국생명공학연구원 Zinc oxide nanostructured micropattern and method for preparing the same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
논문 : NANOLETTERS *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112542536A (en) * 2019-09-04 2021-03-23 Tcl华星光电技术有限公司 Manufacturing method of display panel
US11414774B2 (en) 2019-09-04 2022-08-16 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Manufacturing method of display panel
CN112542536B (en) * 2019-09-04 2024-02-27 Tcl华星光电技术有限公司 Manufacturing method of display panel

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