KR20160010050A - Method for manufacturing Filter of Reflection Light - Google Patents

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KR20160010050A
KR20160010050A KR1020140090834A KR20140090834A KR20160010050A KR 20160010050 A KR20160010050 A KR 20160010050A KR 1020140090834 A KR1020140090834 A KR 1020140090834A KR 20140090834 A KR20140090834 A KR 20140090834A KR 20160010050 A KR20160010050 A KR 20160010050A
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이성중
심의택
김민중
이제훈
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Abstract

Provided is a method for manufacturing a reflection light reduction filter. The method for manufacturing a reflection light reduction filter comprises the following steps of: attaching a fine pattern film on the surface of a first roller; treating, with hydrophobic chemicals, a portion of the area of the fine pattern film attached to the first roller by using plasma while rotating the first roller in a state that the fine pattern film is attached; depositing a first opaque metal pattern on the portion of the area of the fine pattern film, which has been treated with hydrophobic chemicals; and transporting a bear film having a transparent adhesive placed on a transparent base film between the first roller and a second roller, and transferring the first opaque metal pattern, which is deposited on the portion of the area of the fine pattern film, onto the surface of the transparent adhesive.

Description

반사광 저감 필터의 제조 방법{Method for manufacturing Filter of Reflection Light}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은 반사광 저감 필터의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 불투명 금속 패턴의 선폭을 조정함으로써 효과적으로 광투과율을 조절할 수 있고 불투명 금속 패턴의 높이를 조정함으로써 효과적으로 편광의 특성을 조절할 수 있는 반사광 저감 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a reflected-light reduction filter, and more particularly, to a method of manufacturing a reflected-light reduction filter which can effectively control light transmittance by adjusting the line width of an opaque metal pattern and adjust the height of the opaque metal pattern, And a manufacturing method of the filter.

일반적으로, 유리, 금속, 수면 등에서 반사되는 빛 중에서 강하게 반사하는 반사광을 차단하기 위해서 카메라에 편광 필터를 부착해 사용하고 있다.In general, a polarizing filter is attached to a camera in order to shield reflection light that is strongly reflected in light reflected from glass, metal, and water surface.

종래에는 이러한 편광 필터는 PVA(Poly Vinyl Acetate)를 이용해서 제조되고 있으나, PVA의 내열 온도가 90℃이하여서 수명이 짧고 시간이 경과할수록 탈색이 될 위험이 높으며, 광투과율을 향상시키는데 한계가 있었다.Conventionally, such a polarizing filter is manufactured using PVA (Poly Vinyl Acetate). However, since the heat resistance temperature of PVA is 90 ° C or lower, the life time is short and the longer the time passes, the higher the risk of discoloration and the limit to improve the light transmittance .

본 발명의 배경기술은 대한민국 특허청에 공개특허공보 10-2004-0079450호가 2004. 09. 16. 자로 개시되어 있다.
BACKGROUND ART [0002] The background art of the present invention is disclosed in the Korean Intellectual Property Office (KIPO) Patent Publication No. 10-2004-0079450, September 16, 2004.

따라서 본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 불투명 금속 패턴의 선폭을 조정함으로써 효과적으로 광투과율을 조절할 수 있고 불투명 금속 패턴의 높이를 조정함으로써 효과적으로 편광의 특성을 조절할 수 있는 반사광 저감 필터의 제조 방법을 제공하는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a method and apparatus for effectively controlling the light transmittance by adjusting the line width of an opaque metal pattern, Which is capable of adjusting the characteristics of the reflected light reducing filter.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise forms disclosed. Other objects, which will be apparent to those skilled in the art, It will be possible.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은 미세 패턴 필름을 제 1 롤러의 표면에 부착하는 단계, 상기 미세 패턴 필름을 부착한 상태에서 상기 제 1 롤러를 회전시키면서 플라즈마를 이용하여 상기 1 롤러에 부착되어 있는 미세 패턴 필름의 일부 영역을 소수 처리하는 단계, 상기 소수 처리된 미세 패턴 필름의 일부 영역에 제 1 불투명 금속 패턴을 증착시키는 단계 및 투명 베이스 필름 상에 투명 점착제가 배치되어 있는 베어 필름을 상기 제 1 롤러와 제 2 롤러 사이에서 이송시켜 상기 미세 패턴 필름의 일부 영역에 증착되어 있는 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a reflected light reduction filter, the method comprising: attaching a fine patterned film to a surface of a first roller; A step of finely treating a part of the fine patterned film adhered to the first roller by using a plasma while depositing a first base film on the first base film, a step of depositing a first opaque metal pattern on a part of the hydrophobic processed fine patterned film, Transferring a bare film on which a transparent adhesive is disposed between the first roller and the second roller to transfer a first opaque metal pattern deposited on a part of the fine patterned film onto the surface of the transparent adhesive, .

본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 증착 시간을 조정하여 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 선폭이나 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 높이가 조절되는 것이 바람직하다.It is preferable that the line width of the first opaque metal pattern or the height of the first opaque metal pattern is adjusted by adjusting the deposition time of the first opaque metal pattern according to an embodiment of the present invention Do.

본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 피치가 60nm ~ 150 nm인 것이 바람직하다.It is preferable that the pitch of the first opaque metal pattern is 60 nm to 150 nm in the manufacturing method of the reflected light reduction filter according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴 사이에 투명 레진을 충진시키는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.The method of manufacturing a reflected light reduction filter according to an embodiment of the present invention may further include the step of filling transparent resin between the first opaque metal patterns after the step of transferring the first opaque metal pattern onto the surface of the transparent pressure sensitive adhesive .

본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 상단에 SiO2로 상기 투명 점착제와 이격되는 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.The method of manufacturing a reflected light reduction filter according to an embodiment of the present invention is characterized in that after the step of transferring the first opaque metal pattern onto the surface of the transparent pressure sensitive adhesive, And forming a protective layer on the protective layer.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은 미세 패턴 필름을 제 1 롤러의 표면에 부착하는 단계, 상기 미세 패턴 필름을 부착한 상태에서 상기 제 1 롤러를 회전시키면서 플라즈마를 이용하여 상기 1 롤러에 부착되어 있는 미세 패턴 필름의 일부 영역을 소수 처리하는 단계, 상기 소수 처리된 미세 패턴 필름의 일부 영역에 제 1 불투명 금속 패턴을 증착시키는 단계, 투명 베이스 필름 상에 투명 점착제가 배치되어 있는 베어 필름을 상기 제 1 롤러와 제 2 롤러 사이에서 이송시켜 상기 미세 패턴 필름의 일부 영역에 증착되어 있는 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계 및 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 측면에 제 2 불투명 금속 패턴을 코팅하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a reflected light reduction filter, including: attaching a fine patterned film to a surface of a first roller; A step of finely treating a part of the fine patterned film adhered to the first roller by using plasma, a step of depositing a first opaque metal pattern on a partial area of the hydrophobic treated fine patterned film, Transferring a bare film on which a transparent pressure-sensitive adhesive is disposed between the first roller and the second roller to transfer a first opaque metal pattern deposited on a part of the fine pattern film onto the transparent pressure-sensitive adhesive surface; And coating a second opaque metal pattern on the side of the first opaque metal pattern.

본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 증착 시간을 조정하여 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 선폭이나 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 높이가 조절되는 것이 바람직하다.In the method of manufacturing the reflected light reduction filter according to another embodiment of the present invention, the line width of the first opaque metal pattern or the height of the first opaque metal pattern is adjusted by adjusting the deposition time of the first opaque metal pattern Do.

본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 피치가 60nm ~ 150 nm인 것이 바람직하다.According to another embodiment of the present invention, it is preferable that the pitch of the first opaque metal pattern is 60 nm to 150 nm.

본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 2 불투명 금속 패턴을 코팅하는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴 및 상기 제 2 불투명 금속 패턴 사이에 투명 레진을 충진시키는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.The method of manufacturing a reflected light reduction filter according to another embodiment of the present invention may further include the step of filling the transparent resin between the first opaque metal pattern and the second opaque metal pattern after coating the second opaque metal pattern .

본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은, 상기 제 2 불투명 금속 패턴을 코팅하는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴 및 상기 제 2 불투명 금속 패턴의 상단에 SiO2로 상기 투명 점착제와 이격되는 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
The method of manufacturing a reflected light reduction filter according to another embodiment of the present invention is characterized in that after the step of coating the second opaque metal pattern, the transparent opaque metal pattern and the second opaque metal pattern are coated with SiO 2, And forming a protective layer that is spaced apart from the substrate.

본 발명의 실시예들에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은 불투명 금속 패턴의 선폭을 조정함으로써 효과적으로 광투과율을 조절할 수 있고 불투명 금속 패턴의 높이를 조정함으로써 효과적으로 편광의 특성을 조절할 수 있다.
The method of manufacturing the reflected light reduction filter according to the embodiments of the present invention can effectively adjust the light transmittance by adjusting the line width of the opaque metal pattern and effectively adjust the polarization characteristics by adjusting the height of the opaque metal pattern.

도 1 내지 도 9는 본 발명의 실시예들에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법의 세부 공정을 설명하기 위한 단면도.1 to 9 are sectional views for explaining a detailed process of a method of manufacturing a reflected-light reduction filter according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예들을 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은 먼저, 도 1에 도시된 것처럼, 원통형 금속 표면에 미세 패턴이 형성된 원통형 금형을 사용하여 제작하는데, 원통형 미세 패턴 금형을 Roll to Roll 장비에 장착하여 도 2와 같은 형상의 미세 패턴 필름(300)을 형성한다.As shown in FIG. 1, a method of manufacturing a reflected-light reduction filter according to an exemplary embodiment of the present invention includes manufacturing a cylindrical mold having a fine pattern on a cylindrical metal surface, Thereby forming a fine patterned film 300 having a shape as shown in FIG.

다음으로, 도 3에 도시된 것처럼 미세 패턴 필름(300)을 제 1 롤러(100)의 표면에 부착한다.Next, the fine patterned film 300 is attached to the surface of the first roller 100 as shown in Fig.

다음으로, 진공 챔버 내에서 상기 미세 패턴 필름(300)을 부착한 상태에서 상기 제 1 롤러(100)를 회전시키면서 플라즈마를 이용하여 상기 제 1 롤러(100)에 부착되어 있는 미세 패턴 필름(300)의 일부 영역을 소수 처리한다.Next, the fine patterned film 300 attached to the first roller 100 using plasma is rotated while the first roller 100 is rotated in a state where the fine patterned film 300 is attached in a vacuum chamber, A small number of regions are processed.

다음으로, 진공 챔버 내에서 상기 소수 처리된 미세 패턴 필름(300)의 일부 영역에 제 1 불투명 금속 패턴(1300)을 증착시킨다. 여기에서, 제 1 불투명 금속 패턴(1300)은 알루미늄, 은, 금, 몰리브덴, 몰리텅스텐, 티타늄, 백금, 철, 구리, 팔라듐, 실리콘 중 어느 하나로 증착될 수 있다.Next, a first opaque metal pattern 1300 is deposited in a partial region of the hydrophobized fine patterned film 300 in a vacuum chamber. Here, the first opaque metal pattern 1300 can be deposited with any one of aluminum, silver, gold, molybdenum, molybdenum, tungsten, titanium, platinum, iron, copper, palladium and silicon.

다음으로, 투명 베이스 필름(2100) 상에 투명 점착제(2200)가 배치되어 있는 베어 필름을 상기 제 1 롤러(100)와 제 2 롤러(200) 사이에 이 투명 베이스 필름(2100)을 배치하고 제 1 롤러(100)와 제 2 롤러(200)를 회전시키면 상기 미세 패턴 필름(300)의 일부 영역에 증착되어 있었던 하키 스틱 형상의 제 1 불투명 금속 패턴(1300)이 투명 점착제(2200) 표면 상에 도 4와 같이, 전사된다.Next, the transparent film 2200 is placed on the transparent base film 2100, and the transparent base film 2100 is placed between the first roller 100 and the second roller 200, The first roller 100 and the second roller 200 are rotated so that the hockey stick first opaque metal pattern 1300 deposited on a part of the fine patterned film 300 is transferred onto the surface of the transparent adhesive agent 2200 As shown in Fig.

본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 증착 시간을 조정하여 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 선폭이나 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 높이가 조절될 수 있다.The method of fabricating the reflected light reduction filter according to an embodiment of the present invention may include adjusting the deposition time of the first opaque metal pattern 1300 and changing the line width of the first opaque metal pattern 1300 or the width of the first opaque metal pattern 1300 Can be adjusted.

이러한 반사광 저감 필터는 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 선폭을 조정함으로써 효과적으로 광투과율을 조절할 수 있고 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 높이를 조정함으로써 효과적으로 편광의 특성을 조절할 수 있다.Such a reflected light reduction filter can effectively adjust the light transmittance by adjusting the line width of the first opaque metal pattern 1300 and effectively adjust the polarization characteristics by adjusting the height of the first opaque metal pattern 1300.

여기에서, 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 피치는 60nm ~ 150 nm 정도로 제조되며, 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)을 상기 투명 점착제(2200) 표면 상에 전사시키는 단계 이후에, 도 5와 같이 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300) 사이에 투명 레진(2500)을 충진시킨다. 이러한 투명 레진(2500)은 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)이 손상되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.Here, the pitch of the first opaque metal pattern 1300 is about 60 nm to 150 nm, and after the step of transferring the first opaque metal pattern 1300 onto the surface of the transparent adhesive 2200, The transparent resin 2500 is filled between the first opaque metal patterns 1300 as shown in FIG. This transparent resin 2500 can effectively prevent the first opaque metal pattern 1300 from being damaged.

한편, 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)을 상기 투명 점착제(2200) 표면 상에 전사시키는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 상단에 SiO2로 상기 투명 점착제(2200)와 이격되는 보호층(2700)을 형성한다. 이러한 보호층(2700)과 투명 점착제(2200) 사이에 빈공간(2600)이 놓이게 되는 경우에는 보다 더 향상된 편광 품질을 얻을 수 있다.Meanwhile, after the step of transferring the first opaque metal pattern 1300 onto the surface of the transparent pressure-sensitive adhesive 2200, the transparent opaque metal pattern 1300 may be protected with SiO 2 at the upper portion of the first opaque metal pattern 1300, Layer 2700 is formed. When the void space 2600 is placed between the protective layer 2700 and the transparent adhesive 2200, a further improved polarization quality can be obtained.

이하에서는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법에 대해서 설명하며, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법과 다른 점에 대해서만 설명한다.Hereinafter, a method of fabricating a reflected-light reduction filter according to another embodiment of the present invention will be described, and only differences from the method of manufacturing a reflected-light reduction filter according to an embodiment of the present invention will be described.

제 1 불투명 금속 패턴(1300)을 투명 점착제(2200) 표면 상에 전사시키는 단계 이후에, 도 7에 도시된 것처럼, 제 1 불투명 금속 패턴(1300)의 측면에 제 2 불투명 금속 패턴(2300)을 코팅한다. 여기에서, 제 1 불투명 금속 패턴(1300)은 상술한 것처럼, 하키 스틱 형상으로 형성되며, 제 1 불투명 금속 패턴(1300)과 제 2 불투명 금속 패턴(2300)의 조합은 약절구 형상으로 형성되며, 제 2 불투명 금속 패턴(2300)은 알루미늄, 은, 금, 몰리브덴, 몰리텅스텐, 티타늄, 백금, 철, 구리, 팔라듐, 실리콘 중 어느 하나로 코팅될 수 있다.After the step of transferring the first opaque metal pattern 1300 onto the surface of the transparent pressure sensitive adhesive 2200, a second opaque metal pattern 2300 is formed on the side of the first opaque metal pattern 1300, as shown in FIG. Coating. Here, the first opaque metal pattern 1300 is formed in the shape of a hockey stick as described above, and the combination of the first opaque metal pattern 1300 and the second opaque metal pattern 2300 is formed in a substantially semispherical shape, The second opaque metal pattern 2300 may be coated with any one of aluminum, silver, gold, molybdenum, molybdenum, tungsten, titanium, platinum, iron, copper, palladium and silicon.

본 발명의 다른 실시예에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법은 제 2 불투명 금속 패턴(2300)을 더 형성시킴으로써, 좀 더 향상된 편광 품질을 제공할 수 있다.The manufacturing method of the reflected light reduction filter according to another embodiment of the present invention can provide a further improved polarization quality by further forming the second opaque metal pattern 2300. [

본 발명의 실시예들에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법의 특징은, 제 1 불투명 금속 패턴(1300)을 이용함으로써 내열 특성이 매우 뛰어나며, 시간이 경과하더라도 탈색될 위험이 없고, 광투과율을 20~70 %로 조절할 수 있으며, 저렴한 가격으로 제품을 생산할 수 있다.A feature of the method of manufacturing a reflected light reduction filter according to embodiments of the present invention is that the first opaque metal pattern 1300 is very excellent in heat resistance characteristics and does not have a risk of discoloring even after a lapse of time, It can be adjusted to 70%, and the product can be produced at low cost.

본 발명의 실시예들에 따른 반사광 저감 필터의 제조 방법에 의해서 제조되는 반사광 저감 필터들이 가장 유효하게 사용될 수 있는 제품으로는 최근 대량으로 보급되고 있는 스마트폰의 카메라나 일반 카메라의 편광 필터로 채용되어 화질을 크게 향상시킬 수 있으며, 반영구적으로 탈색되지 않는 편광 선글라스에도 매우 유용하게 사용될 수 있다.
The reflected light reduction filters manufactured by the manufacturing method of the reflected light reduction filter according to the embodiments of the present invention can be most effectively used as a polarizing filter of a smart phone or a general camera, The image quality can be greatly improved, and it can be very useful also for polarized sunglasses which do not discolor permanently.

이상, 본 발명을 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

오히려, 첨부된 청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다.Rather, it is understood that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims.

따라서, 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
Accordingly, all such appropriate modifications and changes, and equivalents thereof, should be regarded as within the scope of the present invention.

Claims (10)

미세 패턴 필름을 제 1 롤러의 표면에 부착하는 단계;
상기 미세 패턴 필름을 부착한 상태에서 상기 제 1 롤러를 회전시키면서 플라즈마를 이용하여 상기 1 롤러에 부착되어 있는 미세 패턴 필름의 일부 영역을 소수 처리하는 단계;
상기 소수 처리된 미세 패턴 필름의 일부 영역에 제 1 불투명 금속 패턴을 증착시키는 단계; 및
투명 베이스 필름 상에 투명 점착제가 배치되어 있는 베어 필름을 상기 제 1 롤러와 제 2 롤러 사이에서 이송시켜 상기 미세 패턴 필름의 일부 영역에 증착되어 있는 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계를 포함하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
Attaching a fine patterned film to the surface of the first roller;
Rotating the first roller in a state where the fine patterned film is attached, and finely treating a part of the fine patterned film attached to the first roller by using plasma;
Depositing a first opaque metal pattern on a portion of the hydrophobized fine patterned film; And
A bare film having a transparent pressure-sensitive adhesive disposed on a transparent base film is transferred between the first roller and the second roller so that a first opaque metal pattern deposited on a part of the fine patterned film is transferred onto the transparent pressure- Wherein the reflected light is reflected by the reflection surface.
제1항에 있어서,
상기 제 1 불투명 금속 패턴의 증착 시간을 조정하여 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 선폭이나 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 높이가 조절되는 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein a line width of the first opaque metal pattern or a height of the first opaque metal pattern is adjusted by adjusting a deposition time of the first opaque metal pattern.
제1항에 있어서,
상기 제 1 불투명 금속 패턴의 피치는 60nm ~ 150 nm인 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the pitch of the first opaque metal pattern is 60 nm to 150 nm.
제1항에 있어서,
상기 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴 사이에 투명 레진을 충진시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Further comprising the step of filling transparent resin between the first opaque metal patterns after the step of transferring the first opaque metal pattern onto the surface of the transparent pressure sensitive adhesive.
제1항에 있어서,
상기 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 상단에 SiO2로 상기 투명 점착제와 이격되는 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Further comprising the step of forming a protective layer spaced apart from the transparent pressure sensitive adhesive with SiO2 on the top of the first opaque metal pattern after the step of transferring the first opaque metal pattern onto the surface of the transparent pressure sensitive adhesive, A method for manufacturing a reduction filter.
미세 패턴 필름을 제 1 롤러의 표면에 부착하는 단계;
상기 미세 패턴 필름을 부착한 상태에서 상기 제 1 롤러를 회전시키면서 플라즈마를 이용하여 상기 1 롤러에 부착되어 있는 미세 패턴 필름의 일부 영역을 소수 처리하는 단계;
상기 소수 처리된 미세 패턴 필름의 일부 영역에 제 1 불투명 금속 패턴을 증착시키는 단계;
투명 베이스 필름 상에 투명 점착제가 배치되어 있는 베어 필름을 상기 제 1 롤러와 제 2 롤러 사이에서 이송시켜 상기 미세 패턴 필름의 일부 영역에 증착되어 있는 제 1 불투명 금속 패턴을 상기 투명 점착제 표면 상에 전사시키는 단계; 및
상기 제 1 불투명 금속 패턴의 측면에 제 2 불투명 금속 패턴을 코팅하는 단계를 포함하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
Attaching a fine patterned film to the surface of the first roller;
Rotating the first roller in a state where the fine patterned film is attached, and finely treating a part of the fine patterned film attached to the first roller by using plasma;
Depositing a first opaque metal pattern on a portion of the hydrophobized fine patterned film;
A bare film having a transparent pressure-sensitive adhesive disposed on a transparent base film is transferred between the first roller and the second roller so that a first opaque metal pattern deposited on a part of the fine patterned film is transferred onto the transparent pressure- ; And
And coating a second opaque metal pattern on a side surface of the first opaque metal pattern.
제6항에 있어서,
상기 제 1 불투명 금속 패턴의 증착 시간을 조정하여 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 선폭이나 상기 제 1 불투명 금속 패턴의 높이가 조절되는 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein a line width of the first opaque metal pattern or a height of the first opaque metal pattern is adjusted by adjusting a deposition time of the first opaque metal pattern.
제6항에 있어서,
상기 제 1 불투명 금속 패턴의 피치는 60nm ~ 150 nm인 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the pitch of the first opaque metal pattern is 60 nm to 150 nm.
제6항에 있어서,
상기 제 2 불투명 금속 패턴을 코팅하는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴 및 상기 제 2 불투명 금속 패턴 사이에 투명 레진을 충진시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Further comprising filling transparent resin between the first opaque metal pattern and the second opaque metal pattern after coating the second opaque metal pattern.
제6항에 있어서,
상기 제 2 불투명 금속 패턴을 코팅하는 단계 이후에 상기 제 1 불투명 금속 패턴 및 상기 제 2 불투명 금속 패턴의 상단에 SiO2로 상기 투명 점착제와 이격되는 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사광 저감 필터의 제조 방법.The method according to claim 6,
Further comprising the step of forming a protective layer spaced apart from the transparent pressure sensitive adhesive by SiO2 on top of the first opaque metal pattern and the second opaque metal pattern after coating the second opaque metal pattern A method for manufacturing a reflected light reduction filter.
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