KR20160007638A - Method for producing substrate having liquid crystal orientation film for in-plane-switching liquid-crystal display element - Google Patents

Method for producing substrate having liquid crystal orientation film for in-plane-switching liquid-crystal display element Download PDF

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Abstract

본 발명은, 고효율로 배향 제어능이 부여되고, 노광 특성이 우수한 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 제공한다. 본 발명은, (A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자, (B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및 (C) 유기 용매를 함유하는 중합체 조성물에 의해, 상기 과제를 해결한다. 특히,[I]그 조성물을, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ;[II][I]에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및[III][II]에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ; 을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 얻는, 상기 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법에 의해, 상기 과제를 해결한다.The present invention provides a transverse electric field driving type liquid crystal display element which is imparted with orientation control ability with high efficiency and excellent in exposure characteristics. (A) at least one polymer selected from the group consisting of photosensitive side chain polymers that exhibit liquid crystallinity in a predetermined temperature range, (B) polyimide and precursors thereof, and (C) an organic solvent , The above problems are solved. [II] a step of irradiating polarized ultraviolet rays to the coating film obtained in [I]; and [III] a step of irradiating polarized ultraviolet rays to the coating film obtained in [I] And a step of heating the coating film obtained in the step (ii) to obtain a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type to which orientation control ability is imparted, the above problem is solved by the method for producing a substrate having the liquid crystal alignment film .

Description

횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING LIQUID CRYSTAL ORIENTATION FILM FOR IN-PLANE-SWITCHING LIQUID-CRYSTAL DISPLAY ELEMENT}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a substrate having a liquid crystal alignment layer for a liquid crystal display device,

본 발명은 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 노광 특성이 우수한 액정 표시 소자를 제조하기 위한 신규 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a substrate having a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type. More particularly, the present invention relates to a novel method for manufacturing a liquid crystal display element having excellent exposure characteristics.

액정 표시 소자는 경량, 박형 또한 저소비 전력의 표시 디바이스로서 알려져, 최근에는 대형의 텔레비젼 용도로 사용되는 등, 눈부신 발전을 이루고 있다. 액정 표시 소자는, 예를 들어, 전극을 구비한 투명한 1 쌍의 기판에 의해 액정층을 협지하여 구성된다. 그리고, 액정 표시 소자에서는, 액정이 기판간에서 원하는 배향 상태가 되도록 유기 재료로 이루어지는 유기막이 액정 배향막으로서 사용되고 있다.The liquid crystal display device is known as a lightweight, thin and low power consumption display device, and has recently achieved remarkable development, such as being used for a large-sized television application. The liquid crystal display element is constituted by sandwiching the liquid crystal layer by a pair of transparent substrates having electrodes, for example. In the liquid crystal display element, an organic film made of an organic material is used as a liquid crystal alignment film so that the liquid crystal is in a desired alignment state between the substrates.

즉, 액정 배향막은, 액정 표시 소자의 구성 부재로서, 액정을 협지하는 기판의 액정과 접하는 면에 형성되고, 그 기판간에서 액정을 일정한 방향으로 배향시킨다는 역할을 담당하고 있다. 그리고, 액정 배향막에는, 액정을, 예를 들어, 기판에 대해 평행한 방향 등, 일정한 방향으로 배향시킨다는 역할에 더하여, 액정의 프레틸트각을 제어한다는 역할이 요구되는 경우가 있다. 이러한 액정 배향막에 있어서의, 액정의 배향을 제어하는 능력 (이하, 배향 제어능이라고 한다.) 은 액정 배향막을 구성하는 유기막에 대해 배향 처리를 실시하는 것에 의해 부여된다.That is, the liquid crystal alignment film is formed as a constituent member of the liquid crystal display element on a surface of the substrate holding the liquid crystal in contact with the liquid crystal, and plays a role of aligning the liquid crystal in a certain direction between the substrates. In addition to the role of aligning the liquid crystal in a certain direction such as a direction parallel to the substrate, for example, the liquid crystal alignment film may be required to control the pretilt angle of the liquid crystal. The ability of the liquid crystal alignment film to control the alignment of the liquid crystal (hereinafter, referred to as orientation control capability) is imparted by subjecting the organic film constituting the liquid crystal alignment film to an alignment treatment.

배향 제어능을 부여하기 위한 액정 배향막의 배향 처리 방법으로서는, 종래부터 러빙법이 알려져 있다. 러빙법이란, 기판 상의 폴리비닐알코올이나 폴리아미드나 폴리이미드 등의 유기막에 대해, 그 표면을 면, 나일론, 폴리에스테르 등의 천으로 일정 방향으로 문지르고 (러빙하고), 문지른 방향 (러빙 방향) 으로 액정을 배향시키는 방법이다. 이 러빙법은 간편하게 비교적 안정적인 액정의 배향 상태를 실현할 수 있기 때문에, 종래의 액정 표시 소자의 제조 프로세스에 있어서 이용되어 왔다. 그리고, 액정 배향막에 사용되는 유기막으로서는, 내열성 등의 신뢰성이나 전기적 특성이 우수한 폴리이미드계의 유기막이 주로 선택되어 왔다.Conventionally, a rubbing method is known as an alignment treatment method of a liquid crystal alignment film for imparting alignment control ability. The rubbing method is a method of rubbing (rubbing) the surface of an organic film such as polyvinyl alcohol, polyamide, or polyimide on a substrate with a cloth such as cotton, nylon or polyester in a predetermined direction, To orient the liquid crystal. This rubbing method has been used in a manufacturing process of a conventional liquid crystal display element since a relatively stable liquid crystal alignment state can be realized easily. As the organic film used for the liquid crystal alignment film, a polyimide-based organic film having superior reliability and electrical characteristics such as heat resistance has been mainly selected.

그러나, 폴리이미드 등으로 이루어지는 액정 배향막의 표면을 문지르는 러빙법은 발진이나 정전기의 발생이 문제가 되는 경우가 있었다. 또, 최근의 액정 표시 소자의 고정밀화나, 대응하는 기판 상의 전극이나 액정 구동용의 스위칭 능동 소자에 의한 요철 때문에, 액정 배향막의 표면을 천으로 균일하게 문지를 수 없어, 균일한 액정의 배향을 실현할 수 없는 경우가 있었다.However, in the rubbing method of rubbing the surface of the liquid crystal alignment film made of polyimide or the like, generation of oscillation or static electricity has been a problem in some cases. In addition, since the liquid crystal display element of recent years has a high precision and the surface of the liquid crystal alignment film can not be uniformly rubbed with the cloth due to the irregularity caused by the electrode or the switching active element for driving the liquid crystal on the corresponding substrate, There was no case.

그래서, 러빙을 실시하지 않는 액정 배향막의 다른 배향 처리 방법으로서, 광 배향법이 활발히 검토되고 있다.Therefore, as another method of aligning the liquid crystal alignment film without rubbing, a photo alignment method is actively studied.

광 배향법에는 여러 가지 방법이 있지만, 직선 편광 또는 콜리메이트한 광에 의해 액정 배향막을 구성하는 유기막 내에 이방성을 형성하고, 그 이방성에 따라 액정을 배향시킨다.There are various methods for the photo alignment method, but anisotropy is formed in the organic film constituting the liquid crystal alignment film by linearly polarized light or collimated light, and the liquid crystal is oriented in accordance with the anisotropy.

주된 광 배향법으로서는, 분해형의 광 배향법이 알려져 있다. 이 방법에서는 예를 들어, 폴리이미드막에 편광 자외선을 조사하고, 분자 구조의 자외선 흡수의 편광 방향 의존성을 이용하여 이방적인 분해를 발생시킨다. 그리고, 분해되지 않고 남겨진 폴리이미드에 의해 액정을 배향시키도록 한다 (예를 들어, 특허문헌 1 을 참조).As a main photoalignment method, a photoalignment method of a decomposition type is known. In this method, polarized ultraviolet rays are irradiated to a polyimide film, for example, and anisotropic decomposition is caused by using polarization direction dependency of ultraviolet absorption of the molecular structure. Then, the liquid crystal is oriented by the polyimide left ungraded (see, for example, Patent Document 1).

또, 다른 광 배향법으로서는, 광 가교형이나 광 이성화형의 광 배향법도 알려져 있다. 광 가교형의 광 배향법에서는, 예를 들어, 폴리비닐신나메이트를 사용하여, 편광 자외선을 조사하고, 편광과 평행한 2 개의 측사슬의 이중 결합 부분에서 2 량화 반응 (가교 반응) 을 발생시킨다. 그리고, 편광 방향과 직교한 방향으로 액정을 배향시킨다 (예를 들어, 비특허문헌 1 을 참조). 광 이성화형의 광 배향법에서는, 아조벤젠을 측사슬에 갖는 측사슬형 고분자를 사용한 경우, 편광 자외선을 조사하여, 편광과 평행한 측사슬의 아조벤젠부에서 이성화 반응을 발생시켜, 편광 방향과 직교한 방향으로 액정을 배향시킨다 (예를 들어, 비특허문헌 2 를 참조).As another optical alignment method, a photo-alignment method of a photo-crosslinking type or a photo isomerization type is also known. In the photo-crosslinking type photo-alignment method, for example, polyvinyl cinnamate is used to irradiate polarized ultraviolet rays to cause a dimerization reaction (crosslinking reaction) at the double bond portions of two side chains parallel to polarized light . Then, the liquid crystal is oriented in a direction orthogonal to the polarization direction (see, for example, Non-Patent Document 1). In the photo-isomerization type photo-alignment method, when a side-chain polymer having azobenzene as a side chain is used, polarized ultraviolet light is irradiated to generate an isomerization reaction in the azobenzene moiety of a side chain parallel to the polarized light, (For example, refer to Non-Patent Document 2).

이상의 예와 같이, 광 배향법에 의한 액정 배향막의 배향 처리 방법에서는, 러빙을 불필요로 하여, 발진이나 정전기의 발생의 우려가 없다. 그리고, 표면에 요철이 있는 액정 표시 소자의 기판에 대해서도 배향 처리를 실시할 수 있어, 공업적인 생산 프로세스에 바람직한 액정 배향막의 배향 처리의 방법이 된다.As in the example described above, in the alignment treatment method of the liquid crystal alignment film by the photo alignment method, rubbing is unnecessary, and there is no fear of occurrence of oscillation or static electricity. In addition, it is possible to perform orientation treatment on a substrate of a liquid crystal display element having irregularities on its surface, which is a preferred method of alignment treatment of a liquid crystal alignment film in an industrial production process.

일본특허공보 제3893659호Japanese Patent Publication No. 3893659

M. Shadt et al., Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2155 (1992). M. Shadt et al., Jpn. J. Appl. Phys. 31,2155 (1992). K. Ichimura et al., Chem. Rev. 100, 1847 (2000). K. Ichimura et al., Chem. Rev. 100, 1847 (2000).

이상과 같이, 광 배향법은, 액정 표시 소자의 배향 처리 방법으로서 종래부터 공업적으로 이용되어 온 러빙법과 비교해서 러빙 공정 그 자체를 불필요로 하기 때문에, 큰 이점을 구비한다. 그리고, 러빙에 의해 배향 제어능이 거의 일정하게 되는 러빙법에 비해, 광 배향법에서는, 편광된 광의 조사량을 변화시켜 배향 제어능을 제어할 수 있다. 그러나, 광 배향법에서는, 러빙법에 의한 경우와 동일한 정도의 배향 제어능을 실현하고자 하는 경우, 대량의 편광된 광의 조사량이 필요하게 되는 경우가 있어, 안정적인 액정의 배향을 실현할 수 없는 경우가 있다.As described above, the photo alignment method has a great advantage because it makes the rubbing process itself unnecessary as compared with the rubbing method which has conventionally been industrially used as an alignment processing method of a liquid crystal display element. Compared with the rubbing method in which the alignment control ability is almost constant by rubbing, in the photo alignment method, the alignment control ability can be controlled by changing the irradiation amount of the polarized light. However, in the photo alignment method, when it is desired to achieve the same degree of orientation control ability as in the case of the rubbing method, a large amount of irradiated light may be required, and stable alignment of the liquid crystal may not be realized .

예를 들어, 상기한 특허문헌 1 에 기재된 분해형의 광 배향법에서는, 폴리이미드막에 출력 500 W 의 고압 수은등으로부터의 자외광을 60 분간 조사할 필요가 있는 등, 장시간 또한 대량의 자외선 조사가 필요하게 된다. 또, 2 량화형이나 광 이성화형의 광 배향법의 경우에 있어서도, 수 J (줄) ∼ 수십 J 정도의 많은 양의 자외선 조사가 필요하게 되는 경우가 있다. 또한, 광 가교형이나 광 이성화형의 광 배향법의 경우, 액정 배향의 열 안정성이나 광 안정성이 열등하기 때문에, 액정 표시 소자로 한 경우에, 배향 불량이나 표시 노광이 발생한다는 우려가 있었다. 특히 횡전계 구동형의 액정 표시 소자에서는 액정 분자를 면내에서 스위칭하기 때문에, 액정 구동 후의 액정의 배향 어긋남이 발생하기 쉽고, AC 구동에서 기인하는 표시 노광이 큰 과제로 되고 있다.For example, in the decomposition-type photo-alignment method described in Patent Document 1 described above, it is necessary to irradiate the polyimide film with ultraviolet light from a high-pressure mercury lamp with an output power of 500 W for 60 minutes, and a large amount of ultraviolet irradiation . Further, even in the case of the diminution type or optical isomerization type photo-alignment method, a large amount of ultraviolet light irradiation of several tens to several tens J may be required in some cases. Further, in the case of a photo-crosslinking or photo-isomerization photo-alignment method, thermal stability and light stability of the liquid crystal alignment are inferior, so that there is a fear that alignment failure and display exposure may occur when the liquid crystal display device is used. Particularly, in a liquid crystal display element of a transversely-field-driven type, liquid crystal molecules are switched in a plane, alignment deviation of the liquid crystal after the liquid crystal drive is likely to occur, and display exposure caused by AC drive becomes a big problem.

따라서, 광 배향법에서는, 배향 처리의 고효율화나 안정적인 액정 배향의 실현이 요구되고 있고, 액정 배향막에 대한 높은 배향 제어능의 부여를 고효율로 실시할 수 있는 액정 배향막이나 액정 배향제가 요구되고 있다.Therefore, in the photo alignment method, it is required to achieve high efficiency of alignment treatment and realization of stable liquid crystal alignment, and a liquid crystal alignment film and a liquid crystal alignment agent capable of highly imparting a high alignment control ability to the liquid crystal alignment film can be performed with high efficiency.

본 발명은 고효율로 배향 제어능이 부여되고, 노광 특성이 우수한, 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판 및 그 기판을 갖는 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 또한, 액정 배향막에 있어서의 양호한 액정의 배향성을 실현할 수 있는 자외선 조사의 조사량의 마진 영역을 확대할 수 있는 액정 배향막 및 그것을 갖는 기판의 제조 방법을 제공하는 것도 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a substrate having a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field drive type, which is imparted with an alignment control function with high efficiency and excellent in exposure characteristics, and a transverse electric field driven liquid crystal display element having the substrate. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal alignment film capable of enlarging a margin area of an irradiated dose of ultraviolet irradiation capable of achieving good alignment of liquid crystal in a liquid crystal alignment film, and a method of manufacturing a substrate having the liquid crystal alignment film.

본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위해 예의 검토를 실시한 결과, 이하의 발명을 알아냈다.Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, have found the following inventions.

<1> (A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자,≪ 1 > (A) a photosensitive side chain polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,

(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and

(C) 유기 용매(C) an organic solvent

를 함유하는 중합체 조성물, 특히 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막 제조용 중합체 조성물., Particularly a polymer composition for producing a liquid crystal alignment film for a transverse electric field driven liquid crystal display device.

<2> 상기 <1> 에 있어서, (A) 성분이 광 가교, 광 이성화, 또는 광 프리스 전이를 일으키는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.≪ 2 > The photosensitive resin composition according to < 1 >, wherein the component (A) has a photosensitive side chain that causes photo crosslinking, photoisomerization, or light free transition.

<3> 상기 <1> 또는 <2> 에 있어서, (B) 성분의 폴리이미드의 전구체가, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것인 것이 좋다.<3> It is preferable that the precursor of the polyimide as the component (B) in the above item <1> or <2> is obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component.

<4> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (1) ∼ (6) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<4> The photosensitive resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the component (A) has one kind of photosensitive side chain selected from the group consisting of the following formulas (1) to (6)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 중, A, B, D 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ; Wherein A, B and D each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-O -, or -O-CO-CH = CH-;

S 는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ; S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;

T 는 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ; T is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;

Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

Y2 는 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Y 2 is a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each independently may be substituted with -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R 은 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타내거나, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타낸다 ; R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or has the same definition as Y 1 ;

X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ; X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;

Cou 는 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Cou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH- Group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

q1 과 q2 는 일방이 1 이고 타방이 0 이다 ; q1 and q2 are 1 in one and 0 in the other;

q3 은 0 또는 1 이다 ; q3 is 0 or 1;

P 및 Q 는 각각 독립적으로 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다 ; 단, X 가 -CH=CH-CO-O-, -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 P 또는 Q 는 방향 고리이며, P 의 수가 2 이상이 될 때는, P 끼리는 동일하거나 상이해도 되고, Q 의 수가 2 이상이 될 때는, Q 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ; P and Q are each independently a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof; Is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH-, P or Q on the side bonded to -CH = CH- is an aromatic ring. When the number of P is 2 or more, P may be the same or different, and when Q is 2 or more, Qs may be the same or different;

l1 은 0 또는 1 이다 ; l1 is 0 or 1;

l2 는 0 ∼ 2 의 정수이다 ; l2 is an integer of 0 to 2;

l1 과 l2 가 모두 0 일 때는, T 가 단결합일 때는 A 도 단결합을 나타낸다 ; When l1 and l2 are both 0, when T is a single bond, A also represents a single bond;

l1 이 1 일 때는, T 가 단결합일 때는 B 도 단결합을 나타낸다 ; When l1 is 1, B is also a single bond when T is a single bond;

H 및 I 는 각각 독립적으로 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 및 그들의 조합에서 선택되는 기이다.H and I are each independently a group selected from divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, and combinations thereof.

<5> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (7) ∼ (10) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.(5) The positive resist composition according to any one of (1) to (3), wherein the component (A) has any one photosensitive side chain selected from the group consisting of the following formulas (7) to (10).

식 중, A, B, D, Y1, X, Y2, 및 R 은 상기와 동일한 정의를 갖는다 ; Wherein A, B, D, Y 1 , X, Y 2 , and R have the same definitions as above;

l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타낸다 ; l represents an integer of 1 to 12;

m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, m1, m2 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ; m represents an integer of 0 to 2, m1 and m2 represent an integer of 1 to 3;

n 은 0 ∼ 12 의 정수 (단 n = 0 일 때 B 는 단결합이다) 를 나타낸다.n is an integer of 0 to 12 (provided that n is 0 and B is a single bond).

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

<6> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (11) ∼ (13) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<6> The photosensitive resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the component (A) has one kind of photosensitive side chain selected from the group consisting of the following formulas (11) to (13)

식 중, A, X, l, m, m1 및 R 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, X, l, m, m1 and R have the same definitions as above.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

<7> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<7> The photosensitive resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the component (A) has a photosensitive side chain represented by the following formula (14) or (15).

식 중, A, Y1, l, m1 및 m2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다.In the formula, A, Y 1 , l, m 1 and m 2 have the same definitions as above.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

<8> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<8> The photosensitive resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the component (A) has a photosensitive side chain represented by the following formula (16) or (17).

식 중, A, X, l 및 m 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, X, l and m have the same definitions as above.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

<9> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<9> The photosensitive resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the component (A) has a photosensitive side chain represented by the following formula (18) or (19).

식 중, A, B, Y1, q1, q2, m1, 및 m2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다.In the formula, A, B, Y 1 , q 1 , q 2, m 1 , and m 2 have the same definitions as above.

R1 은 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기를 나타낸다.R 1 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

<10> 상기 <1> ∼ <3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (20) 으로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<10> The photosensitive resin composition according to any one of <1> to <3>, wherein the component (A) has a photosensitive side chain represented by the following formula (20)

식 중, A, Y1, X, l 및 m 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, Y 1 , X, l and m have the same definitions as above.

[화학식 7](7)

Figure pct00007
Figure pct00007

<11> 상기 <1> ∼ <10> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이 하기 식 (21) ∼ (31) 로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 액정성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<11> The liquid crystal display according to any one of <1> to <10>, wherein the component (A) has at least one liquid crystal side chain selected from the group consisting of the following formulas (21) to (31) .

식 중, A, B, q1 및 q2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다 ; Wherein A, B, q1 and q2 have the same definitions as above;

Y3 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Y 3 is a group selected from the group consisting of monovalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, nitrogen containing heterocyclic rings, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each hydrogen atom may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R3 은 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타낸다 ; R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, A ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;

l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 내지 2 의 정수를 나타내고, 단, 식 (23) ∼ (24) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 2 이상이며, 식 (25) ∼ (26) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 1 이상이며, m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ; m represents an integer of 0 to 2, provided that the sum of all m in the formulas (23) to (24) is 2 or more, and the formulas (25) to (26) , The sum of all m is 1 or more, m1, m2 and m3 each independently represent an integer of 1 to 3;

R2 는 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 알킬기, 또는 알킬옥시기를 나타낸다 ; R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen containing heterocyclic ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, Or an alkyloxy group;

Z1, Z2 는 단결합, -CO-, -CH2O-, -CH=N-, -CF2- 를 나타낸다.Z 1 and Z 2 represent a single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH═N-, or -CF 2 -.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

<12>[I]상기 <1> ∼ <11> 중 어느 한 항에 기재된 조성물을, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ;<12> [I] A process for forming a coating film by applying the composition described in any one of <1> to <11> on a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field;

[II][I]에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및[II] a step of irradiating polarized ultraviolet rays to the coating film obtained in [I]; and

[III][II]에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;[III] a step of heating the coating film obtained in [II];

을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 얻는, 상기 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법.To obtain a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type to which orientation control ability is imparted.

<13> 상기 <12> 의 방법에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판.<13> A substrate having a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display device of the lateral electric field type manufactured by the method of <12>.

<14> 상기 <13> 의 기판을 갖는 횡전계 구동형 액정 표시 소자.&Lt; 14 &gt; A transverse electric field driving type liquid crystal display element having the substrate of [13].

<15> 상기 <13> 의 기판 (제 1 기판) 을 준비하는 공정 ; <15> preparing a substrate (first substrate) of the above <13>;

[I']제 2 기판 상에[I '] on the second substrate

(A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자, (A) a photosensitive side chain type polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,

(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and

(C) 유기 용매(C) an organic solvent

를 함유하는 중합체 조성물을, 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ; A step of applying a polymer composition to form a coating film;

[II'][I']에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및Irradiating the coating film obtained in [II '] [I'] with polarized ultraviolet light; and

[III'][II']에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;A step of heating the coating film obtained in [III '] [II'];

을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 액정 배향막을 얻는, 상기 액정 배향막을 갖는 제 2 기판을 얻는 공정 ; 및To obtain a liquid crystal alignment film having the alignment control ability, thereby obtaining a second substrate having the liquid crystal alignment film; and

[IV]액정을 개재하여 상기 제 1 및 제 2 기판의 액정 배향막이 상대하도록, 상기 제 1 및 제 2 기판을 대향 배치하여 액정 표시 소자를 얻는 공정 ;[IV] a step of arranging the first and second substrates so that the liquid crystal alignment layers of the first and second substrates oppose each other through the liquid crystal to obtain a liquid crystal display element;

을 가짐으로써, 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 얻는, 그 액정 표시 소자의 제조 방법.To obtain a transverse electric field driven liquid crystal display element.

<16> 상기 <15> 에 있어서, (B) 성분의 폴리이미드의 전구체가, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것인 것이 좋다.<16> In the above-mentioned <15>, it is preferable that the polyimide precursor of the component (B) is obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component.

<17> 상기 <15> 또는 <16> 의 방법에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자.<17> A transverse electric field driving type liquid crystal display device manufactured by the method of <15> or <16>.

또, 다른 면으로서 다음의 발명을 알아냈다.On the other hand, the following inventions were found out.

<P1>[I](A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자,&Lt; P1 &gt; [I] (A) A photosensitive side chain polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,

(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, (B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor,

And

(C) 유기 용매(C) an organic solvent

를 함유하는 중합체 조성물을, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ;On a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field to form a coating film;

[II][I]에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및[II] a step of irradiating polarized ultraviolet rays to the coating film obtained in [I]; and

[III][II]에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;[III] a step of heating the coating film obtained in [II];

을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 얻는, 상기 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법.To obtain a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type to which orientation control ability is imparted.

<P2> 상기 <P1> 에 있어서, (A) 성분이, 광 가교, 광 이성화, 또는 광 프리스 전이를 일으키는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P2> In the above item <P1>, it is preferable that the component (A) has a photosensitive side chain which causes photo-crosslinking, optical isomerization or light-free transition.

<P3> 상기 <P1> 또는 <P2> 에 있어서, (B) 성분의 폴리이미드의 전구체가, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것인 것이 좋다.<P3> It is preferable that the polyimide precursor of the component (B) is obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component in <P1> or <P2>.

<P4> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (1) ∼ (6) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P4> The positive resist composition according to any one of <P1> to <P3>, wherein the component (A) has one kind of photosensitive side chain selected from the group consisting of the following formulas (1) to (6) .

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식 중, A, B, D 는 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;Wherein A, B and D each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH- O-, or -O-CO-CH = CH-;

S 는, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ;S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;

T 는, 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ;T represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;

Y1 은, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;Y 1 represents a ring selected from monovalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, or the same or different 2 to 6 And each of the hydrogen atoms bonded to them is independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , -CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

Y2 는, 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;Y 2 is a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, and hydrogen atoms Each independently may be substituted with -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R 은, 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타내거나, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타낸다 ;R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or has the same definition as Y 1 ;

X 는, 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO- CH-;

Cou 는, 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;Cou is a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , A halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

q1 과 q2 는, 일방이 1 이고 타방이 0 이다 ;q1 and q2 are one in one and zero in the other;

q3 은 0 또는 1 이다 ;q3 is 0 or 1;

P 및 Q 는, 각각 독립적으로, 단결합, 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다. 단, X 가 -CH=CH-CO-O-, -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 P 또는 Q 는 방향 고리이다 ;P and Q each independently represent a group selected from the group consisting of a single bond, a divalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, to be. Provided that when X is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH-, then P or Q on the side to which -CH = CH- is an aromatic ring;

H 및 I 는, 각각 독립적으로, 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 및 그들의 조합에서 선택되는 기이다.H and I are each independently selected from divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, and combinations thereof.

<P5> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (7) ∼ (10) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P5> The positive resist composition according to any one of <P1> to <P3>, wherein the component (A) has one kind of photosensitive side chain selected from the group consisting of the following formulas (7) to (10) .

식 중, A, B, D, Y1, X, Y2, 및 R 은, 상기와 동일한 정의를 갖는다 ;Wherein A, B, D, Y 1 , X, Y 2 , and R have the same definitions as above;

l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타낸다 ;l represents an integer of 1 to 12;

m 은, 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, m1, m2 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ;m represents an integer of 0 to 2, m1 and m2 represent an integer of 1 to 3;

n 은 0 ∼ 12 의 정수 (단 n = 0 일 때 B 는 단결합이다) 를 나타낸다.n is an integer of 0 to 12 (provided that n is 0 and B is a single bond).

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

<P6> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (11) ∼ (13) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.It is preferable that the component (A) in any one of the above items <P1> to <P3> has any one photosensitive side chain selected from the group consisting of the following formulas (11) to (13) .

식 중, A, X, l, m 및 R 은, 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, X, l, m and R have the same definitions as above.

[화학식 11](11)

Figure pct00011
Figure pct00011

<P7> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P7> It is preferable that the component (A) in any one of <P1> to <P3> has a photosensitive side chain represented by the following formula (14) or (15).

식 중, A, Y1, X, l, m1 및 m2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다.In the formula, A, Y 1 , X, l, m 1 and m 2 have the same definitions as above.

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

<P8> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P8> It is preferable that the component (A) in any one of <P1> to <P3> has a photosensitive side chain represented by the following formula (16) or (17).

식 중, A, X, l 및 m 은, 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, X, l and m have the same definitions as above.

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

<P9> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P9> It is preferable that the component (A) has a photosensitive side chain represented by the following formula (18) or (19) in any one of <P1> to <P3>.

식 중, A, B, Y1, q1, q2, m1, 및 m2 는, 상기와 동일한 정의를 갖는다.In the formula, A, B, Y 1 , q 1 , q 2, m 1 , and m 2 have the same definitions as above.

R1 은, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기를 나타낸다.R 1 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms .

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

<P10> 상기 <P1> ∼ <P3> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (20) 으로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P10> It is preferable that the component (A) in any one of <P1> to <P3> has a photosensitive side chain represented by the following formula (20).

식 중, A, Y1, X, l 및 m 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, Y 1 , X, l and m have the same definitions as above.

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

<P11> 상기 <P1> ∼ <P10> 중 어느 한 항에 있어서, (A) 성분이, 하기 식 (21) ∼ (31) 로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 액정성 측사슬을 갖는 것이 좋다.<P11> The liquid crystal display device according to any one of <P1> to <P10>, wherein the component (A) has a liquid crystal side chain selected from the group consisting of the following formulas (21) to (31) good.

식 중, A, B, q1 및 q2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다 ;Wherein A, B, q1 and q2 have the same definitions as above;

Y3 은, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;Y 3 is a group selected from the group consisting of monovalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, nitrogen containing heterocyclic rings, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each hydrogen atom may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R3 은, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타낸다 ;R 3 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, A heterocyclic ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;

l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 내지 2 의 정수를 나타내고, 단, 식 (25) ∼ (26) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 2 이상이며, 식 (27) ∼ (28) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 1 이상이며, m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ;(25) to (26), the sum of all m is 2 or more, and in formulas (27) to (28), m represents an integer of 1 to 12, , The sum of all m is 1 or more, m1, m2 and m3 each independently represent an integer of 1 to 3;

R2 는, 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 알킬기, 또는 알킬옥시기를 나타낸다 ;R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen containing heterocyclic ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, , Or an alkyloxy group;

Z1, Z2 는 단결합, -CO-, -CH2O-, -CH=N-, -CF2- 를 나타낸다.Z 1 and Z 2 represent a single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH═N-, or -CF 2 -.

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

<P12> 상기 <P1> ∼ <P11> 중 어느 한 항에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판.<P12> A substrate having a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type manufactured by any one of <P1> to <P11>.

<P13> 상기 <P12> 의 기판을 갖는 횡전계 구동형 액정 표시 소자.<P13> A transverse electric field driving type liquid crystal display element having the substrate of the above <P12>.

<P14> 상기 <P12> 의 기판 (제 1 기판) 을 준비하는 공정 ;<P14> preparing a substrate (first substrate) of the above <P12>;

[I']제 2 기판 상에[I '] on the second substrate

(A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자,(A) a photosensitive side chain type polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,

(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and

(C) 유기 용매(C) an organic solvent

를 함유하는 중합체 조성물을, 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ;A step of applying a polymer composition to form a coating film;

[II'][I']에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ;Irradiating the coating film obtained in [II '] [I'] with polarized ultraviolet light;

And

[III'][II']에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;A step of heating the coating film obtained in [III '] [II'];

을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 액정 배향막을 얻는, 그 액정 배향막을 갖는 제 2 기판을 얻는 공정 ; 및To obtain a liquid crystal alignment film having the alignment control ability, and obtaining a second substrate having the liquid crystal alignment film; and

[IV]액정을 개재하여 제 1 및 제 2 기판의 액정 배향막이 상대하도록, 제 1 및 제 2 기판을 대향 배치하여 액정 표시 소자를 얻는 공정 ;[IV] a step of opposing the first and second substrates so that the liquid crystal alignment layers of the first and second substrates are opposed to each other through the liquid crystal to obtain a liquid crystal display element;

을 가짐으로써, 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 얻는, 그 액정 표시 소자의 제조 방법.To obtain a transverse electric field driven liquid crystal display element.

<P15> 상기 <P14> 에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자.&Lt; P15 &gt; A transverse electric field driven liquid crystal display device manufactured by the above &lt; P14 &gt;.

<P16> (A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자,(A) a photosensitive side chain type polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,

(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and

(C) 유기 용매(C) an organic solvent

를 함유하는, 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막 제조용 조성물.A liquid crystal alignment layer for liquid crystal display element, and a liquid crystal alignment layer for liquid crystal alignment layer.

<P17> 상기 <P16> 에 있어서, (B) 성분의 폴리이미드의 전구체가, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것인 것이 좋다.<P17> In the above <P16>, it is preferable that the polyimide precursor of the component (B) is obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component.

본 발명에 의해, 고효율로 배향 제어능이 부여되고, 노광 특성이 우수한, 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판 및 그 기판을 갖는 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a substrate having a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type, which has high controllability of alignment control with high efficiency and excellent in exposure characteristics, and a transverse electric field driven liquid crystal display device having the substrate.

본 발명의 방법에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자는, 고효율로 배향 제어능이 부여되어 있기 때문에 장시간 연속 구동해도 표시 특성이 저해되는 경우가 없다.Since the transverse electric-field-driven liquid crystal display device manufactured by the method of the present invention has the alignment control ability at a high efficiency, the display characteristics are not hindered even when the liquid crystal display device is continuously driven for a long period of time.

또, 본 발명에 있어서, (B) 성분인 폴리이미드 및 그 전구체에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체를 중합체 조성물에 함유시킴으로써, 액정 배향막에 있어서의 양호한 액정의 배향성을 실현할 수 있는 자외선의 조사량의 마진 영역을 확대할 수 있어, 조사량 영역이 넓어져, 보다 넓은 조사 영역에서 원하는 효과를 발휘할 수 있다.In the present invention, by including in the polymer composition at least one kind of polymer selected from polyimide (B) and a precursor thereof as the component (B), a margin of the dose of ultraviolet radiation capable of realizing good liquid crystal orientation in the liquid crystal alignment film The area can be enlarged, the irradiation amount area can be widened, and a desired effect can be exerted in a wider irradiation area.

도 1 은, 본 발명에 사용하는 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이며, 감광성의 측사슬에 가교성의 유기기를 사용하고, 도입된 이방성이 작은 경우의 도면이다.
도 2 는, 본 발명에 사용하는 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이며, 감광성의 측사슬에 가교성의 유기기를 사용하고, 도입된 이방성이 큰 경우의 도면이다.
도 3 은, 본 발명에 사용하는 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이며, 감광성의 측사슬에 프리스 전이 또는 이성화를 일으키는 유기기를 사용하고, 도입된 이방성이 작은 경우의 도면이다.
도 4 는, 본 발명에 사용하는 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이며, 감광성의 측사슬에 프리스 전이 또는 이성화를 일으키는 유기기를 사용하고, 도입된 이방성이 큰 경우의 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a diagram illustrating one example of a method for schematically describing anisotropic introduction treatment in the production method of a liquid crystal alignment film used in the present invention, in which a crosslinkable organic group is used as a photosensitive side chain, Fig.
Fig. 2 is an example of a schematic illustration of an introduction process of anisotropy in the process for producing a liquid crystal alignment film used in the present invention, in which a cross-linkable organic group is used as a photosensitive side chain, Fig.
Fig. 3 is an example of a schematic illustration of an introduction process of anisotropy in the process for producing a liquid crystal alignment film used in the present invention. In Fig. 3, an organic group causing fresnel transition or isomerization is used as a photosensitive side chain, Is a diagram showing a small anisotropy.
Fig. 4 is an example of a schematic illustration of an introduction process of anisotropy in the process for producing a liquid crystal alignment film used in the present invention. In Fig. 4, an organic group causing fresnel transition or isomerization is used as a photosensitive side chain, Is a diagram showing a case where the anisotropy is large.

본 발명자는 예의 연구를 실시한 결과, 이하의 지견을 얻어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive studies, the present inventors have obtained the following findings and have completed the present invention.

본 발명의 제조 방법에 있어서 사용되는 중합체 조성물은 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자 (이하, 간단히 측사슬형 고분자라고도 부른다) 를 가지고 있고, 상기 중합체 조성물을 사용하여 얻어지는 도포막은 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자를 갖는 막이다. 이 도포막에는 러빙 처리를 실시하는 일 없이, 편광 조사에 의해 배향 처리를 실시한다. 그리고, 편광 조사 후, 그 측사슬형 고분자막을 가열하는 공정을 거쳐, 배향 제어능이 부여된 도포막 (이하, 액정 배향막이라고도 칭한다) 이 된다. 이 때, 편광 조사에 의해 발현된 약간의 이방성이 드라이빙 포스가 되어, 액정성의 측사슬형 고분자 자체가 자기 조직화에 의해 효율적으로 재배향된다. 그 결과, 액정 배향막으로서 고효율인 배향 처리가 실현되어, 높은 배향 제어능이 부여된 액정 배향막을 얻을 수 있다.The polymer composition used in the production method of the present invention has a photosensitive side chain type polymer capable of exhibiting liquid crystallinity (hereinafter, simply referred to as a side chain type polymer), and a coating film obtained by using the above polymer composition is a liquid crystal Is a film having a photosensitive side chain type polymer capable of expressing the properties of the polymer. The coating film is subjected to orientation treatment by polarized irradiation without rubbing treatment. After the polarized light irradiation, the side-chain polymer film is heated to form a coating film (hereinafter, also referred to as a liquid crystal alignment film) imparted with orientation control capability. At this time, a slight anisotropy expressed by polarized light is a driving force, and the liquid crystalline side chain polymer itself is efficiently rearranged by self-organization. As a result, a highly efficient alignment treatment as a liquid crystal alignment film can be realized, and a liquid crystal alignment film having high alignment control capability can be obtained.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

<액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법> 및 <액정 표시 소자의 제조 방법>&Lt; Manufacturing Method of Substrate Having Liquid Crystal Alignment Film &gt; &lt; Production Method of Liquid Crystal Display Element &

본 발명의 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법은,A method of manufacturing a substrate having a liquid crystal alignment film of the present invention includes:

[I](A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자, [I] A photosensitive resin composition comprising: (A) a photosensitive side chain polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range;

(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and

(C) 유기 용매(C) an organic solvent

를 함유하는 중합체 조성물을, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ; On a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field to form a coating film;

[II][I]에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및[II] a step of irradiating polarized ultraviolet rays to the coating film obtained in [I]; and

[III][II]에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;[III] a step of heating the coating film obtained in [II];

을 갖는다.Respectively.

상기 공정에 의해, 배향 제어능이 부여된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 얻을 수 있고, 그 액정 배향막을 갖는 기판을 얻을 수 있다.By this process, it is possible to obtain a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type to which alignment control ability is imparted, and a substrate having the liquid crystal alignment film can be obtained.

또, 상기 얻어진 기판 (제 1 기판) 외에, 제 2 기판을 준비함으로써, 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 얻을 수 있다.Further, by preparing a second substrate in addition to the obtained substrate (first substrate), a transverse electric field driving type liquid crystal display element can be obtained.

제 2 기판은, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 대신에, 횡전계 구동용의 도전막을 가지지 않은 기판을 사용하는 것 이외에, 상기 공정[I]∼[III](횡전계 구동용의 도전막을 가지지 않은 기판을 사용하기 때문에, 편의 상, 본원에 있어서, 공정[I']∼[III'] 로 약기하는 경우가 있다) 을 사용함으로써, 배향 제어능이 부여된 액정 배향막을 갖는 제 2 기판을 얻을 수 있다.The second substrate may be a substrate which does not have a conductive film for driving a transversal electric field, instead of a substrate having a conductive film for driving a transversal electric field, but the steps [I] to [III] The second substrate having the liquid crystal alignment film having the alignment control ability can be obtained by using the steps [I '] to [III'] in this specification for convenience .

횡전계 구동형 액정 표시 소자의 제조 방법은,A method of manufacturing a transverse electric field driven liquid crystal display element,

[IV]상기에서 얻어진 제 1 및 제 2 기판을, 액정을 개재하여 제 1 및 제 2 기판의 액정 배향막이 상대하도록, 대향 배치하여 액정 표시 소자를 얻는 공정 ;[IV] a step of arranging the first and second substrates obtained above so as to oppose each other with the liquid crystal alignment layer facing the liquid crystal alignment layers of the first and second substrates to obtain a liquid crystal display element;

을 갖는다. 이로써 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 얻을 수 있다.Respectively. As a result, a transverse electric field driven liquid crystal display element can be obtained.

이하, 본 발명의 제조 방법이 갖는[I]∼[III], 및[IV]의 각 공정에 대해 설명한다.The respective steps [I] to [III] and [IV] of the production method of the present invention will be described below.

<공정[I]>&Lt; Process [I] &gt;

공정[I]에서는, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에, 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자, 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및 유기 용매를 함유하는 중합체 조성물을 도포하여 도포막을 형성한다.In the step [I], on a substrate having a conductive film for transversal electric field drive, a photosensitive side-chain type polymer that exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range, at least one kind selected from the group consisting of polyimide and its precursor A polymer composition containing a polymer and an organic solvent is applied to form a coating film.

<기판><Substrate>

기판에 대해서는, 특별히 한정은 되지 않지만, 제조되는 액정 표시 소자가 투과형인 경우, 투명성이 높은 기판이 사용되는 것이 바람직하다. 그 경우, 특별히 한정은 되지 않고, 유리 기판, 또는 아크릴 기판이나 폴리카보네이트 기판 등의 플라스틱 기판 등을 사용할 수 있다.The substrate is not particularly limited, but when the liquid crystal display element to be manufactured is a transmissive type, it is preferable that a substrate having high transparency is used. In this case, there is no particular limitation, and a glass substrate, a plastic substrate such as an acrylic substrate or a polycarbonate substrate, or the like can be used.

또, 반사형의 액정 표시 소자에 대한 적용을 고려하여, 실리콘 웨이퍼 등의 불투명한 기판도 사용할 수 있다.Also, considering the application to a reflective liquid crystal display device, an opaque substrate such as a silicon wafer can be used.

<횡전계 구동용의 도전막>&Lt; Conductive film for driving a transverse electric field &

기판은 횡전계 구동용의 도전막을 갖는다.The substrate has a conductive film for driving a transverse electric field.

그 도전막으로서, 액정 표시 소자가 투과형인 경우, ITO (Indium Tin Oxide : 산화인듐주석), IZO (Indium Zinc Oxide : 산화인듐아연) 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되지 않는다.When the liquid crystal display element is a transmissive type, ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) can be used as the conductive film. However, the conductive film is not limited to these.

또, 반사형의 액정 표시 소자의 경우, 도전막으로서 알루미늄 등의 광을 반사하는 재료 등을 들 수 있지만 이들로 한정되지 않는다.In the case of a reflection-type liquid crystal display element, a material for reflecting light such as aluminum may be used as the conductive film, but the present invention is not limited thereto.

기판에 도전막을 형성하는 방법은 종래 공지된 수법을 사용할 수 있다.As a method for forming a conductive film on a substrate, a conventionally known method can be used.

<중합체 조성물>&Lt; Polymer composition &gt;

횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상, 특히 도전막 상에, 중합체 조성물을 도포한다.The polymer composition is applied onto a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field, in particular, on a conductive film.

본 발명의 제조 방법에 사용되는, 그 중합체 조성물은, (A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자 ; (B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체 ; 및 (C) 유기 용매 ; 를 함유한다.The polymer composition used in the production method of the present invention comprises (A) a photosensitive side chain polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range, (B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and a precursor thereof And (C) an organic solvent.

<<(A) 측사슬형 고분자>><< (A) Side chain type polymer >>

(A) 성분은 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자이다.(A) is a photosensitive side chain type polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range.

(A) 측사슬형 고분자는 250 nm ∼ 400 nm 의 파장 범위의 광으로 반응하고, 또한 100 ℃ ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내는 것이 좋다.The side chain type polymer (A) reacts with light in a wavelength range of 250 nm to 400 nm and exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 100 ° C to 300 ° C.

(A) 측사슬형 고분자는 250 nm ∼ 400 nm 의 파장 범위의 광에 반응하는 감광성 측사슬을 갖는 것이 바람직하다.The side chain polymer (A) preferably has a photosensitive side chain reacting with light in a wavelength range of 250 nm to 400 nm.

(A) 측사슬형 고분자는 100 ℃ ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내기 위해 메소겐기를 갖는 것이 바람직하다.The side chain type polymer (A) preferably has a mesogen group in order to exhibit liquid crystallinity in a temperature range of 100 占 폚 to 300 占 폚.

(A) 측사슬형 고분자는 주사슬에 감광성을 갖는 측사슬이 결합하고 있고, 광에 감응하여 가교 반응, 이성화 반응, 또는 광 프리스 전위를 일으킬 수 있다. 감광성을 갖는 측사슬의 구조는 특별히 한정되지 않지만, 광에 감응하여 가교 반응, 또는 광 프리스 전위를 일으키는 구조가 바람직하고, 가교 반응을 일으키는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 열 등의 외부 스트레스에 노출되었다고 해도, 실현된 배향 제어능을 장기간 안정적으로 유지할 수 있다. 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자막의 구조는 그러한 특성을 만족하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 측사슬 구조에 강직한 메소겐 성분을 갖는 것이 바람직하다. 이 경우, 그 측사슬형 고분자를 액정 배향막으로 했을 때에, 안정적인 액정 배향을 얻을 수 있다.The side chain type polymer (A) has a side chain having photosensitivity to the main chain, and may react with light to cause a crosslinking reaction, an isomerization reaction, or a light free electric potential. The structure of the side chain having photosensitivity is not particularly limited, but a structure that causes a crosslinking reaction or a light-free potential in response to light is preferable, and it is more preferable to cause a crosslinking reaction. In this case, even when exposed to external stress such as heat, the realized orientation control ability can be stably maintained for a long period of time. The structure of the photosensitive side chain type polymer membrane capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as it satisfies such characteristics, but it is preferable that the structure has a mesogen component which is rigid in the side chain structure. In this case, when the side chain type polymer is used as the liquid crystal alignment film, a stable liquid crystal alignment can be obtained.

그 고분자의 구조는, 예를 들어, 주사슬과 그것에 결합하는 측사슬을 가지며, 그 측사슬이 비페닐기, 터페닐기, 페닐시클로헥실기, 페닐벤조에이트기, 아조벤젠기 등의 메소겐 성분과, 선단부에 결합된, 광에 감응하여 가교 반응이나 이성화 반응을 하는 감광성기를 갖는 구조나, 주사슬과 그것에 결합하는 측사슬을 가지며, 그 측사슬이 메소겐 성분으로도 되고, 또한 광 프리스 전위 반응을 하는 페닐벤조에이트기를 갖는 구조로 할 수 있다.The structure of the polymer includes, for example, a main chain and a side chain bonded to the main chain, and the side chain thereof is bonded to a mesogen component such as a biphenyl group, a terphenyl group, a phenylcyclohexyl group, a phenylbenzoate group or an azobenzene group, A structure having a photosensitive group which is bonded to the tip and reacts with light to perform a crosslinking reaction or an isomerization reaction, or a structure having a main chain and a side chain bonded to the main chain, the side chain of which may be a mesogen component, And a phenylbenzoate group having a phenylbenzoate group.

액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자막의 구조의 보다 구체적인 예로서는, 탄화수소, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸말레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 구성된 주사슬과, 하기 식 (1) 내지 (6) 중 적어도 1 종으로 이루어지는 측사슬을 갖는 구조인 것이 바람직하다.More specific examples of the structure of the photosensitive side chain type polymer membrane capable of exhibiting liquid crystallinity include hydrocarbon, (meth) acrylate, itaconate, fumarate, maleate,? -Methylene-? -Butyrolactone, styrene, A structure having a main chain composed of at least one kind selected from the group consisting of a radical polymerizable group such as vinyl, maleimide and norbornene and a siloxane and a side chain comprising at least one of the following formulas (1) to (6) .

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 중, A, B, D 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ; Wherein A, B and D each independently represent a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-O -, or -O-CO-CH = CH-;

S 는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ; S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;

T 는 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ; T is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;

Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

Y2 는 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Y 2 is a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each independently may be substituted with -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R 은 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타내거나, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타낸다 ; R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or has the same definition as Y 1 ;

X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ; X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;

Cou 는 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Cou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH- Group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

q1 과 q2 는 일방이 1 이고 타방이 0 이다 ; q1 and q2 are 1 in one and 0 in the other;

q3 은 0 또는 1 이다 ; q3 is 0 or 1;

P 및 Q 는 각각 독립적으로 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다 ; 단, X 가 -CH=CH-CO-O-, -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 P 또는 Q 는 방향 고리이며, P 의 수가 2 이상이 될 때는, P 끼리는 동일하거나 상이해도 되고, Q 의 수가 2 이상이 될 때는, Q 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ; P and Q are each independently a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof; Is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH-, P or Q on the side bonded to -CH = CH- is an aromatic ring. When the number of P is 2 or more, P may be the same or different, and when Q is 2 or more, Qs may be the same or different;

l1 은 0 또는 1 이다 ; l1 is 0 or 1;

l2 는 0 ∼ 2 의 정수이다 ; l2 is an integer of 0 to 2;

l1 과 l2 가 모두 0 일 때는, T 가 단결합일 때는 A 도 단결합을 나타낸다 ; When l1 and l2 are both 0, when T is a single bond, A also represents a single bond;

l1 이 1 일 때는, T 가 단결합일 때는 B 도 단결합을 나타낸다 ; When l1 is 1, B is also a single bond when T is a single bond;

H 및 I 는 각각 독립적으로 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 및 그들의 조합에서 선택되는 기이다.H and I are each independently a group selected from divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, and combinations thereof.

측사슬은 하기 식 (7) ∼ (10) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬인 것이 좋다.The side chain may be any one of the photosensitive side chains selected from the group consisting of the following formulas (7) to (10).

식 중, A, B, D, Y1, X, Y2, 및 R 은 상기와 동일한 정의를 갖는다 ; Wherein A, B, D, Y 1 , X, Y 2 , and R have the same definitions as above;

l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타낸다 ; l represents an integer of 1 to 12;

m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, m1, m2 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ; m represents an integer of 0 to 2, m1 and m2 represent an integer of 1 to 3;

n 은 0 ∼ 12 의 정수 (단 n = 0 일 때 B 는 단결합이다) 를 나타낸다.n is an integer of 0 to 12 (provided that n is 0 and B is a single bond).

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

측사슬은 하기 식 (11) ∼ (13) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬인 것이 좋다.The side chain may be any one of the photosensitive side chains selected from the group consisting of the following formulas (11) to (13).

식 중, A, X, l, m, m1 및 R 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, X, l, m, m1 and R have the same definitions as above.

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

측사슬은 하기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 감광성 측사슬인 것이 좋다.The side chain may be a photosensitive side chain represented by the following formula (14) or (15).

식 중, A, Y1, l, m1 및 m2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다.In the formula, A, Y 1 , l, m 1 and m 2 have the same definitions as above.

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

측사슬은 하기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 감광성 측사슬인 것이 좋다.The side chain may be a photosensitive side chain represented by the following formula (16) or (17).

식 중, A, X, l 및 m 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, X, l and m have the same definitions as above.

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

또, 측사슬은 하기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 감광성 측사슬인 것이 좋다.The side chain may be a photosensitive side chain represented by the following formula (18) or (19).

식 중, A, B, Y1, q1, q2, m1, 및 m2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다.In the formula, A, B, Y 1 , q 1 , q 2, m 1 , and m 2 have the same definitions as above.

R1 은 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기를 나타낸다.R 1 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms.

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

측사슬은 하기 식 (20) 으로 나타내는 감광성 측사슬인 것이 좋다.The side chain may be a photosensitive side chain represented by the following formula (20).

식 중, A, Y1, X, l 및 m 은 상기와 동일한 정의를 갖는다.Wherein A, Y 1 , X, l and m have the same definitions as above.

[화학식 23](23)

Figure pct00023
Figure pct00023

또, (A) 측사슬형 고분자는 하기 식 (21) ∼ (31) 로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 액정성 측사슬을 갖는 것이 좋다.The side chain type polymer (A) preferably has any one kind of liquid crystal side chain selected from the group consisting of the following formulas (21) to (31).

식 중, A, B, q1 및 q2 는 상기와 동일한 정의를 갖는다 ; Wherein A, B, q1 and q2 have the same definitions as above;

Y3 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ; Y 3 is a group selected from the group consisting of monovalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, nitrogen containing heterocyclic rings, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each hydrogen atom may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;

R3 은 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타낸다 ; R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, A ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;

l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 내지 2 의 정수를 나타내고, 단, 식 (23) ∼ (24) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 2 이상이며, 식 (25) ∼ (26) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 1 이상이며, m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ; m represents an integer of 0 to 2, provided that the sum of all m in the formulas (23) to (24) is 2 or more, and the formulas (25) to (26) , The sum of all m is 1 or more, m1, m2 and m3 each independently represent an integer of 1 to 3;

R2 는 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 알킬기, 또는 알킬옥시기를 나타낸다 ; R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen containing heterocyclic ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, Or an alkyloxy group;

Z1, Z2 는 단결합, -CO-, -CH2O-, -CH=N-, -CF2- 를 나타낸다.Z 1 and Z 2 represent a single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH═N-, or -CF 2 -.

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure pct00024
Figure pct00024

<<감광성의 측사슬형 고분자의 제법>><< Preparation of Photosensitive Side Chain Polymer >>

상기의 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자는 상기의 감광성 측사슬을 갖는 광 반응성 측사슬 모노머 및 액정성 측사슬 모노머를 중합함으로써 얻을 수 있다.The photosensitive side chain type polymer capable of exhibiting liquid crystallinity can be obtained by polymerizing a photoreactive side chain monomer having a photosensitive side chain and a liquid crystal side chain monomer.

[광 반응성 측사슬 모노머][Photoreactive side chain monomer]

광 반응성 측사슬 모노머란, 고분자를 형성한 경우에, 고분자의 측사슬 부위에 감광성 측사슬을 갖는 고분자를 형성할 수 있는 모노머이다.The photoreactive side chain monomer is a monomer capable of forming a polymer having a photosensitive side chain at a side chain portion of the polymer when the polymer is formed.

측사슬이 갖는 광 반응성기로서는 하기의 구조 및 그 유도체가 바람직하다.As the photoreactive group of the side chain, the following structures and derivatives thereof are preferable.

[화학식 25](25)

Figure pct00025
Figure pct00025

광 반응성 측사슬 모노머의 보다 구체적인 예로서는, 탄화수소, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸말레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 구성된 중합성기와, 상기 식 (1) ∼ (6) 중 적어도 1 종으로 이루어지는 감광성 측사슬, 바람직하게는, 예를 들어, 상기 식 (7) ∼ (10) 중 적어도 1 종으로 이루어지는 감광성 측사슬, 상기 식 (11) ∼ (13) 중 적어도 1 종으로 이루어지는 감광성 측사슬, 상기 식 (14) 또는 (15) 로 나타내는 감광성 측사슬, 상기 식 (16) 또는 (17) 로 나타내는 감광성 측사슬, 상기 식 (18) 또는 (19) 로 나타내는 감광성 측사슬, 상기 식 (20) 으로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 구조인 것이 바람직하다.More specific examples of the photoreactive side chain monomers include monomers such as hydrocarbon, (meth) acrylate, itaconate, fumarate, maleate,? -Methylene-? -Butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide and norbornene A polymerizable group composed of at least one kind selected from the group consisting of a radical polymerizable group and a siloxane and a photosensitive side chain comprising at least one of the above-mentioned formulas (1) to (6) (14) or (15), a photosensitive side chain composed of at least one of the above-mentioned formulas (7) to (10), a photosensitive side chain comprising at least one of the formulas (11) The photosensitive side chain represented by the formula (16) or (17), the photosensitive side chain represented by the formula (18) or (19) and the photosensitive side chain represented by the formula (20).

본원은, 광 반응성 및/또는 액정성 측사슬 모노머로서, 이하의 식 (1) ∼ (11) 로 나타내는 신규 화합물 (1) ∼ (11) ; 및 이하의 식 (12) ∼ (17) 로 나타내는 화합물 (12) ∼ (17) 을 제공한다.The present invention relates to novel compounds (1) to (11) represented by the following formulas (1) to (11) as photoreactive and / or liquid crystalline side chain monomers, To give the compounds (12) to (17).

식 중, R 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다 ; S 는 탄소수 2 ∼ 10 의 알킬렌기를 나타낸다 ; R10 은 Br 또는 CN 을 나타낸다 ; S 는 탄소수 2 ∼ 10 의 알킬렌기를 나타낸다 ; u 는 0 또는 1 을 나타낸다 ; 및 Py 는 2-피리딜기, 3-피리딜기 또는 4-피리딜기를 나타낸다. 또, v 는 1 또는 2 를 나타낸다.In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group; S represents an alkylene group having a carbon number of 2 ~ 10; R 10 represents a Br or CN; S represents an alkylene group having a carbon number of 2 ~ 10; u is 0 or 1 And Py represents a 2-pyridyl group, a 3-pyridyl group or a 4-pyridyl group. V represents 1 or 2;

[화학식 26](26)

Figure pct00026
Figure pct00026

[화학식 27](27)

Figure pct00027
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[화학식 28](28)

Figure pct00028
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[액정성 측사슬 모노머][Liquid crystalline side chain monomer]

액정성 측사슬 모노머란, 그 모노머 유래의 고분자가 액정성을 발현하고, 그 고분자가 측사슬 부위에 메소겐기를 형성할 수 있는 모노머이다.The liquid crystal side chain monomer is a monomer from which the polymer originating from the monomer can express liquid crystallinity and the polymer can form a mesogen group at a side chain site.

측사슬이 갖는 메소겐기로서, 비페닐이나 페닐벤조에이트 등의 단독으로 메소겐 구조가 되는 기이거나, 벤조산 등과 같이 측사슬끼리가 수소 결합함으로써 메소겐 구조가 되는 기여도 된다. 측사슬이 갖는 메소겐기로서는 하기의 구조가 바람직하다.As the mesogen group of the side chain, there may be used a group which has a mesogen structure alone such as biphenyl or phenylbenzoate, or a mesogen structure by hydrogen bonding of side chains such as benzoic acid. The mesogen group of the side chain is preferably the following structure.

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure pct00029
Figure pct00029

액정성 측사슬 모노머의 보다 구체적인 예로서는, 탄화수소, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸말레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 구성된 중합성기와, 상기 식 (21) ∼ (31) 중 적어도 1 종으로 이루어지는 측사슬을 갖는 구조인 것이 바람직하다.More specific examples of the liquid crystalline side chain monomers include monomers such as hydrocarbon, (meth) acrylate, itaconate, fumarate, maleate,? -Methylene-? -Butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide and norbornene A radical polymerizable group and a siloxane, and a side chain comprising at least one of the above-mentioned formulas (21) to (31).

(A) 측사슬형 고분자는 상기 서술한 액정성을 발현하는 광 반응성 측사슬 모노머의 중합 반응에 의해 얻을 수 있다. 또, 액정성을 발현하지 않는 광 반응성 측사슬 모노머와 액정성 측사슬 모노머의 공중합이나, 액정성을 발현하는 광 반응성 측사슬 모노머와 액정성 측사슬 모노머의 공중합에 의해 얻을 수 있다. 또한, 액정성의 발현능을 저해하지 않는 범위에서 그 밖의 모노머와 공중합할 수 있다.The side chain type polymer (A) can be obtained by a polymerization reaction of a photoreactive side chain monomer that exhibits the liquid crystallinity described above. In addition, copolymerization of a photoreactive side chain monomer and a liquid crystal side chain monomer that do not exhibit liquid crystallinity and copolymerization of a photoreactive side chain monomer and a liquid crystal side chain monomer that exhibit liquid crystallinity can be obtained. Further, it can be copolymerized with other monomers within a range that does not inhibit the liquid crystalline property.

그 밖의 모노머로서는, 예를 들어 공업적으로 입수할 수 있는 라디칼 중합 반응 가능한 모노머를 들 수 있다.As other monomers, for example, industrially available monomers capable of radical polymerization can be given.

그 밖의 모노머의 구체예로서는, 불포화 카르복실산, 아크릴산에스테르 화합물, 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산 무수물, 스티렌 화합물 및 비닐 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of other monomers include unsaturated carboxylic acids, acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.

불포화 카르복실산의 구체예로서는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등을 들 수 있다.Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid.

아크릴산에스테르 화합물로서는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 나프틸아크릴레이트, 안트릴아크릴레이트, 안트릴메틸아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-에톡시에틸아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸아크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸아크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실아크릴레이트, 및, 8-에틸-8-트리시클로데실아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the acrylic acid ester compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, Acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, 2-ethoxy ethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, Methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate , And 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

메타크릴산에스테르 화합물로서는, 예를 들어, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 나프틸메타크릴레이트, 안트릴메타크릴레이트, 안트릴메틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-에톡시에틸메타크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트, 3-메톡시부틸메타크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸메타크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸메타크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트, 및, 8-에틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 글리시딜(메트)아크릴레이트, (3-메틸-3-옥세타닐)메틸(메트)아크릴레이트, 및 (3-에틸-3-옥세타닐)메틸(메트)아크릴레이트 등의 고리형 에테르기를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물도 사용할 수 있다.Examples of the methacrylic acid ester compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthrylmethyl methacrylate , Phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, Methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, 2-propyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Adamantyl methacrylate, 2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate. Cyclic ethers such as glycidyl (meth) acrylate, (3-methyl-3-oxetanyl) methyl (meth) acrylate and (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl (Meth) acrylate compound having a group can also be used.

비닐 화합물로서는, 예를 들어, 비닐에테르, 메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 2-하이드록시에틸비닐에테르, 페닐비닐에테르, 및, 프로필비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of the vinyl compound include vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, and propyl vinyl ether.

스티렌 화합물로서는, 예를 들어, 스티렌, 메틸스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.

말레이미드 화합물로서는, 예를 들어, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, 및 N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.Examples of the maleimide compound include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

본 실시형태의 측사슬형 고분자의 제조 방법에 대해서는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 공업적으로 다루어지고 있는 범용인 방법을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 액정성 측사슬 모노머나 광 반응성 측사슬 모노머의 비닐기를 이용한 카티온 중합이나 라디칼 중합, 아니온 중합에 의해 제조할 수 있다. 이들 중에서는 반응 제어의 용이함 등의 관점에서 라디칼 중합이 특히 바람직하다.The method of producing the side chain type polymer of the present embodiment is not particularly limited, and a general-purpose method which is handled industrially can be used. Specifically, it can be produced by cation polymerization, radical polymerization or anionic polymerization using a vinyl group of a liquid crystal side chain monomer or a photoreactive side chain monomer. Of these, radical polymerization is particularly preferable from the viewpoints of ease of reaction control and the like.

라디칼 중합의 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제나, 가역적 부가 - 개열형 연쇄 이동 (RAFT) 중합 시약 등의 공지된 화합물을 사용할 수 있다.As the polymerization initiator of the radical polymerization, known compounds such as a radical polymerization initiator and a reversible addition-cleavage type chain transfer (RAFT) polymerization reagent can be used.

라디칼 열중합 개시제는, 분해 온도 이상으로 가열함으로써, 라디칼을 발생시키는 화합물이다. 이와 같은 라디칼 열중합 개시제로서는, 예를 들어, 케톤퍼옥사이드류 (메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드 등), 디아실퍼옥사이드류 (아세틸퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드 등), 하이드로퍼옥사이드류 (과산화수소, tert-부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드 등), 디알킬퍼옥사이드류 (디-tert-부틸퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드 등), 퍼옥시케탈류 (디부틸퍼옥시시클로헥산 등), 알킬퍼에스테르류 (퍼옥시네오데칸산-tert-부틸에스테르, 퍼옥시피발산-tert-부틸에스테르, 퍼옥시2-에틸시클로헥산산-tert-아밀에스테르 등), 과황산염류 (과황산칼륨, 과황산나트륨, 과황산암모늄 등), 아조계 화합물 (아조비스이소부티로니트릴, 및 2,2'-디(2-하이드록시에틸)아조비스이소부티로니트릴 등) 을 들 수 있다. 이와 같은 라디칼 열중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용할 수도 있고, 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.The radical thermal polymerization initiator is a compound which generates a radical by heating at a decomposition temperature or higher. Examples of such radical thermal polymerization initiators include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and cyclohexanone peroxide, diacyl peroxides such as acetyl peroxide and benzoyl peroxide and hydroperoxides such as (Di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, di-lauroyl peroxide, etc.), peroxyketal (dibutyl peroxide, (Peroxyneodecanoic acid-tert-butyl ester, peroxypivalic acid-tert-butyl ester, peroxy 2-ethylcyclohexanoic acid-tert-amyl ester, etc.), persulfate Azo compounds such as azobisisobutylonitrile and 2,2'-di (2-hydroxyethyl) azobisisobutyronitrile, and the like can be used in combination with an organic peroxide such as potassium persulfate, potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate, . These radical thermal polymerization initiators may be used singly or in combination of two or more.

라디칼 광 중합 개시제는 라디칼 중합을 광 조사에 의해 개시하는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 라디칼 광 중합 개시제로서는, 벤조페논, 미힐러케톤, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 크산톤, 티오크산톤, 이소프로필크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-에틸안트라퀴논, 아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시-2-메틸-4'-이소프로필프로피오페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 이소프로필벤조인에테르, 이소부틸벤조인에테르, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 캄퍼퀴논, 벤즈안트론, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4,4'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,4,4'-트리(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2-(4'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-펜틸옥시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤즈옥사졸, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤즈티아졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 3,3'-카르보닐비스(7-디에틸아미노쿠마린), 2-(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 3-(2-메틸-2-디메틸아미노프로피오닐)카르바졸, 3,6-비스(2-메틸-2-모르폴리노프로피오닐)-9-n-도데실카르바졸, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 비스(5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(t-헥실퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-디(메톡시카르보닐)-4,4'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,4'-디(메톡시카르보닐)-4,3'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 4,4'-디(메톡시카르보닐)-3,3'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2-(3-메틸-3H-벤조티아졸-2-일리덴)-1-나프탈렌-2-일-에타논, 또는 2-(3-메틸-1,3-벤조티아졸-2(3H)-일리덴)-1-(2-벤조일)에타논 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 2 개 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.The radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that initiates radical polymerization by light irradiation. Examples of such a radical photopolymerization initiator include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, 2,4-diethylthioxanthone , 2-ethyl anthraquinone, acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, iso Benzoinone, 2-methyl-1- [4- ((2, 3-diethoxybenzoyl) Methyl 4-methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, ethyl 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -Dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4,4'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,4,4'-tri (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2- (4'-methoxysty Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxystyryl) -4,6-bis Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2'-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- (4'-pentyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- triazine, 4- [pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl ) - 2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2'-chlorophenyl) (Trichloromethyl) -5- (4'-methoxyphenyl) -s-triazine, 2- (p-dimethylaminostyryl) benzoxazole, 2- (p- dimethylaminostyryl) benzothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 3,3'-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 2- (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- '-Bimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) 2,2'-bis (2,4-dichlo 4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2' bis (2,4-dibromophenyl) -Tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl- (2-methyl-2-morpholinopropionyl) -9-n-dodecylcarbazole, 1 (3-methyl-2-morpholinopropionyl) carbazole, (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium , 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, Di (methoxycarbonyl) -4,4'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,4'-di (methoxycarbonyl) Benzophenone, 4,4'-di (methoxycarbonyl) -3,3'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2- (3-methyl- Ylidene) -1-naphthalen-2-yl-ethanone, or 2- (3- Butyl-1,3-benzothiazol -2 (3H) - ylidene) -1- (2-benzoyl and the like) ethanone. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

라디칼 중합법은 특별히 제한되는 것이 아니고, 유화 중합법, 현탁 중합법, 분산 중합법, 침전 중합법, 괴상 중합법, 용액 중합법 등을 사용할 수 있다.The radical polymerization method is not particularly limited, and an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, a precipitation polymerization method, a bulk polymerization method, a solution polymerization method and the like can be used.

액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자의 중합 반응에 사용하는 유기 용매로서는, 생성된 고분자가 용해되는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예를 이하에 든다.The organic solvent used in the polymerization reaction of the photosensitive side chain type polymer capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as the resulting polymer dissolves. Specific examples thereof are given below.

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 디펜텐, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부틸레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 디옥산, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 시클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산메틸에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드 등을 들 수 있다.N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, But are not limited to, pyridine, dimethyl sulfone, hexamethyl sulfoxide,? -Butyrolactone, isopropyl alcohol, methoxymethyl pentanol, dipentene, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, Ketones, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol mono Butyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate Diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol Monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, diisobutylene, N-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, cyclohexanone, ethylene carbonate, isopropanol, n-butanol, isobutanol, Propylene carbonate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, propyl acetate Methoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, Propyl propionate, butyl 3-methoxypropionate, diglyme, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 3-methoxy- Propane amide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide and the like.

이들 유기 용매는 단독으로 사용하거나, 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 생성되는 고분자를 용해시키지 않는 용매여도, 생성된 고분자가 석출되지 않는 범위에서, 상기 서술한 유기 용매에 혼합하여 사용해도 된다.These organic solvents may be used alone or in combination. In addition, a solvent which does not dissolve the produced polymer may be used in combination with the above-described organic solvent within a range in which the produced polymer is not precipitated.

또, 라디칼 중합에 있어서 유기 용매 중의 산소는 중합 반응을 저해하는 원인이 되므로, 유기 용매는 가능한 정도로 탈기된 것을 사용하는 것이 바람직하다.Further, in the radical polymerization, oxygen in the organic solvent causes the polymerization reaction to be inhibited. Therefore, it is preferable to use an organic solvent which has been degassed to the extent possible.

라디칼 중합 시의 중합 온도는 30 ℃ ∼ 150 ℃ 의 임의의 온도를 선택할 수 있지만, 바람직하게는 50 ℃ ∼ 100 ℃ 의 범위이다. 또, 반응은 임의의 농도로 실시할 수 있지만, 농도가 너무 낮으면 고분자량의 중합체를 얻는 것이 어려워지고, 농도가 너무 높으면 반응액의 점성이 너무 높아져 균일한 교반이 곤란해지므로, 모노머 농도가 바람직하게는 1 질량% ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 5 질량% ∼ 30 질량% 이다. 반응 초기는 고농도로 실시하고, 그 후, 유기 용매를 추가할 수 있다.The polymerization temperature in the radical polymerization can be selected from any of 30 ° C to 150 ° C, preferably 50 ° C to 100 ° C. If the concentration is too high, it becomes difficult to obtain a polymer having a high molecular weight. If the concentration is too high, the viscosity of the reaction liquid becomes too high and it becomes difficult to perform uniform stirring. Therefore, Preferably 1% by mass to 50% by mass, and more preferably 5% by mass to 30% by mass. The reaction is carried out at a high concentration in the initial stage, and then an organic solvent can be added.

상기 서술한 라디칼 중합 반응에 있어서는, 라디칼 중합 개시제의 비율이 모노머에 대해 많으면 얻어지는 고분자의 분자량이 작아지고, 적으면 얻어지는 고분자의 분자량이 커지므로, 라디칼 개시제의 비율은 중합시키는 모노머에 대해 0.1 몰% ∼ 10 몰% 인 것이 바람직하다. 또 중합 시에는 각종 모노머 성분이나 용매, 개시제 등을 추가할 수도 있다.In the above-mentioned radical polymerization reaction, when the ratio of the radical polymerization initiator to the monomer is small, the molecular weight of the obtained polymer is small, and if it is small, the molecular weight of the obtained polymer is large. To 10 mol%. In the polymerization, various monomer components, solvents, initiators, etc. may be added.

[중합체의 회수][Recovery of Polymer]

상기 서술한 반응에 의해 얻어진, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자의 반응 용액으로부터, 생성된 고분자를 회수하는 경우에는, 반응 용액을 빈용매에 투입하고, 그들 중합체를 침전시키면 된다. 침전에 사용하는 빈용매로서는, 메탄올, 아세톤, 헥산, 헵탄, 부틸셀로솔브, 헵탄, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에탄올, 톨루엔, 벤젠, 디에틸에테르, 메틸에틸에테르, 물 등을 들 수 있다. 빈용매에 투입하여 침전시킨 중합체는, 여과하여 회수한 후, 상압 혹은 감압하에서, 상온 혹은 가열하여 건조시킬 수 있다. 또, 침전 회수한 중합체를, 유기 용매에 재용해시키고, 재침전 회수하는 조작을 2 회 ∼ 10 회 반복하면, 중합체 중의 불순물을 적게 할 수 있다. 이 때의 빈용매로서 예를 들어, 알코올류, 케톤류, 탄화수소 등을 들 수 있고, 이들 중에서 선택되는 3 종류 이상의 빈용매를 사용하면, 보다 한층 정제의 효율이 오르므로 바람직하다.In the case of recovering the resulting polymer from the reaction solution of the photosensitive side chain type polymer capable of exhibiting liquid crystallinity obtained by the above-described reaction, the reaction solution may be put into a poor solvent and the polymer may be precipitated . Examples of the poor solvent for use in the precipitation include methanol, acetone, hexane, heptane, butyl cellosolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene, diethyl ether, methyl ethyl ether, . The polymer precipitated by charging into a poor solvent can be recovered by filtration and then dried at room temperature or under reduced pressure or under normal pressure. In addition, by repeating the operation of redissolving the polymer recovered and recovered in an organic solvent and re-precipitating and recovering the polymer twice to 10 times, impurities in the polymer can be reduced. As the poor solvent at this time, for example, alcohols, ketones, hydrocarbons and the like can be mentioned, and when three or more poor solvents selected from these are used, the purification efficiency is further increased, which is preferable.

본 발명의 (A) 측사슬형 고분자의 분자량은, 얻어지는 도포막의 강도, 도포막 형성 시의 작업성, 및 도포막의 균일성을 고려한 경우, GPC (Gel Permeation Chromatography) 법으로 측정한 중량 평균 분자량이 2000 ∼ 1000000 이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 5000 ∼ 100000 이다.The molecular weight of the side chain type polymer (A) of the present invention is preferably in the range of, for example, 1, 2, 3, 4, 5, Preferably from 2,000 to 1,000,000, and more preferably from 5,000 to 100,000.

[중합체 조성물의 조제][Preparation of polymer composition]

본 발명에 사용되는 중합체 조성물은 액정 배향막의 형성에 적합해지도록 도포액으로서 조제되는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에 사용되는 중합체 조성물은 수지 피막을 형성하기 위한 수지 성분이 유기 용매에 용해된 용액으로서 조제되는 것이 바람직하다. 여기서, 그 수지 성분이란, 이미 설명한 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자를 함유하는 수지 성분이다. 그 때, 수지 성분의 함유량은 1 질량% ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 질량% ∼ 15 질량%, 특히 바람직하게는 3 질량% ∼ 10 질량% 이다.The polymer composition used in the present invention is preferably prepared as a coating liquid so as to be suitable for formation of a liquid crystal alignment film. That is, the polymer composition used in the present invention is preferably prepared as a solution in which a resin component for forming a resin coating is dissolved in an organic solvent. Here, the resin component is a resin component containing a photosensitive side chain type polymer capable of exhibiting the liquid crystallinity described above. At this time, the content of the resin component is preferably 1% by mass to 20% by mass, more preferably 3% by mass to 15% by mass, and particularly preferably 3% by mass to 10% by mass.

본 실시형태의 중합체 조성물에 있어서, 전술한 수지 성분은, 모두가 상기 서술한 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자여도 되지만, 액정 발현능 및 감광 성능을 저해하지 않는 범위에서 그들 이외의 다른 중합체가 혼합되어 있어도 된다. 그 때, 수지 성분 중에 있어서의 다른 중합체의 함유량은 0.5 질량% ∼ 80 질량%, 바람직하게는 1 질량% ∼ 50 질량% 이다.In the polymer composition of the present embodiment, the above-mentioned resin component may be all of the photosensitive side chain type polymers capable of exhibiting the above-described liquid crystallinity, but in addition to the above, Of other polymer may be mixed. At that time, the content of the other polymer in the resin component is from 0.5% by mass to 80% by mass, and preferably from 1% by mass to 50% by mass.

그러한 다른 중합체는, 예를 들어, 폴리(메트)아크릴레이트나 폴리아믹산 등으로 이루어지고, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자가 아닌 중합체 등을 들 수 있다.Such another polymer includes, for example, a polymer which is composed of poly (meth) acrylate or polyamic acid and is not a photosensitive side chain type polymer capable of exhibiting liquid crystallinity.

<<(B) 성분>><< Component (B) >>

본 발명에 사용되는 중합체 조성물은, (B) 성분으로서, 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체를 갖는다. 바람직하게는, (B) 성분은, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 폴리이미드 전구체, 및, 이 폴리이미드 전구체를 이미드화하여 얻어지는 폴리이미드에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체이다. 폴리이미드 전구체로서는, 예를 들어, 폴리아믹산 (폴리아미드산이라고도 한다.) 이나, 폴리아믹산에스테르 등을 들 수 있다.The polymer composition used in the present invention has at least one polymer selected from the group consisting of a polyimide and a precursor thereof as the component (B). Preferably, the component (B) is at least one polymer selected from a polyimide precursor obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component, and a polyimide obtained by imidizing the polyimide precursor. Examples of the polyimide precursor include polyamic acid (also referred to as polyamic acid), polyamic acid ester, and the like.

<<<테트라카르복실산 성분>>><<< tetracarboxylic acid component >>>

(B) 성분의 원료인 테트라카르복실산 성분으로서, 예를 들어 이하의 테트라카르복실산 2 무수물을 들 수 있다.As the tetracarboxylic acid component which is a raw material of the component (B), for example, the following tetracarboxylic acid dianhydride may be mentioned.

지환식 구조 또는 지방족 구조를 갖는 테트라카르복실산 2 무수물로서는, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2 무수물, 1,2-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2 무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2 무수물, 1,2,3,4-테트라메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 2 무수물, 2,3,4,5-테트라하이드로푸란테트라카르복실산 2 무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 2 무수물, 3,4-디카르복시-1-시클로헥실숙신산 2 무수물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 2 무수물, 비시클로[3.3.0]옥탄-2,4,6,8-테트라카르복실산 2 무수물, 3,3',4,4'-디시클로헥실테트라카르복실산 2 무수물, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 2 무수물, 시스-3,7-디부틸시클로옥타-1,5-디엔-1,2,5,6-테트라카르복실산 2 무수물, 트리시클로[4.2.1.02,5]노난-3,4,7,8-테트라카르복실산-3,4:7,8-2 무수물, 헥사시클로[6.6.0.12,7.03,6.19,14.010,13]헥사데칸-4,5,11,12-테트라카르복실산-4,5:11,12-2 무수물, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라하이드로-1-나프탈렌숙신산 2 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride having an alicyclic or aliphatic structure include 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutane tetra Carboxylic acid dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutane Tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,4,5- Cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, 3,4-dicarboxy-1-cyclohexylsuccinic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride, bicyclo [3.3.0] , 4,6,8-tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-dicyclohexyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, cis- 3,7-dibutylcycloocta-1,5-diene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, Tricyclo [4.2.1.0 2,5] nonane -3,4,7,8- tetracarboxylic acid -3,4: 7,8-2 anhydride, hexahydro cyclo [6.6.0.1 2,7 .0 3,6 .1 9,14 .0 10,13] hexadecane -4,5,11,12- tetracarboxylic acid 4,5: 11,12-2 anhydride, 3,4-dicarboxyphenyl -1,2,3 , 4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic dianhydride, and the like.

방향족 테트라카르복실산 2 무수물로서는, 피로멜리트산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 2 무수물, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 2 무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복실산 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)에테르 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰 2 무수물, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복실산 2 무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 2 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,3', 4 '-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,3', 4,4'- (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid Acid anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, and the like.

상기의 테트라카르복실산 2 무수물은, 형성되는 액정 배향막의 액정 배향성, 전압 유지 특성, 축적 전하 등의 특성에 따라, 1 종류 또는 2 종류 이상 병용할 수 있다.The above-mentioned tetracarboxylic acid dianhydride can be used alone or in combination of two or more, depending on the properties of the liquid crystal alignment film to be formed, such as liquid crystal aligning property, voltage holding property, and accumulated charge.

또, (B) 성분의 원료인 테트라카르복실산 성분으로서, 테트라카르복실산디알킬에스테르나, 테트라카르복실산디알킬디에스테르디클로라이드를 사용해도 된다. 또한, 테트라카르복실산 성분이 이와 같은 테트라카르복실산디알킬에스테르나 테트라카르복실산디알킬에스테르디클로라이드를 함유하면, 중합체는 폴리이미드 전구체인 폴리아믹산에스테르가 된다. 사용 가능한 테트라카르복실산디알킬에스테르는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 지방족 테트라카르복실산디에스테르, 방향족 테트라카르복실산디알킬에스테르 등을 들 수 있다.As the tetracarboxylic acid component which is a raw material of the component (B), a tetracarboxylic acid dialkyl ester or a tetracarboxylic acid dialkyl diester dichloride may be used. Further, when the tetracarboxylic acid component contains such a tetracarboxylic acid dialkyl ester or a tetracarboxylic acid dialkyl ester dichloride, the polymer becomes a polyamic acid ester which is a polyimide precursor. The tetracarboxylic acid dialkyl ester that can be used is not particularly limited and includes, for example, aliphatic tetracarboxylic acid diesters and aromatic tetracarboxylic acid dialkyl esters.

그 구체예를 이하에 든다.Specific examples thereof are given below.

지방족 테트라카르복실산디에스테르의 구체적인 예로서는, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산디알킬에스테르, 1,2-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산디알킬에스테르, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산디알킬에스테르, 1,2,3,4-테트라메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산디알킬에스테르, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산디알킬에스테르, 2,3,4,5-테트라하이드로푸란테트라카르복실산디알킬에스테르, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산디알킬에스테르, 3,4-디카르복시-1-시클로헥실숙신산디알킬에스테르, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라하이드로-1-나프탈렌숙신산디알킬에스테르, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산디알킬에스테르, 비시클로[3.3.0]옥탄-2,4,6,8-테트라카르복실산디알킬에스테르, 3,3',4,4'-디시클로헥실테트라카르복실산디알킬에스테르, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산디알킬에스테르, 시스-3,7-디부틸시클로옥타-1,5-디엔-1,2,5,6-테트라카르복실산디알킬에스테르, 트리시클로[4.2.1.02,5]노난-3,4,7,8-테트라카르복실산-3,4:7,8-디알킬에스테르, 헥사시클로[6.6.0.12,7.03,6.19,14.010,13]헥사데칸-4,5,11,12-테트라카르복실산-4,5:11,12-디알킬에스테르, 3,4-디카르복시-1,2,3,4-테트라하이드로-1-나프탈렌숙신산 2 무수물 등을 들 수 있다.Specific examples of the aliphatic tetracarboxylic acid diester include 1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dialkyl ester, 1,2-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dialkyl ester, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dialkyl ester, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dialkyl ester , 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid dialkyl ester, 2,3,4,5-tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dialkyl ester, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid di Alkyl esters, 3,4-dicarboxy-1-cyclohexylsuccinic acid dialkyl ester, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic acid dialkyl ester, 1,2,3 , 4-butanetetracarboxylic acid dialkyl ester, bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid dialkyl ester, 3,3 ', 4,4'-dicyclohexyltetracar Malic acid Alkyl esters, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dialkyl ester, cis-3,7-dibutylcycloocta-1,5-diene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid dialkyl ester, tricyclo [4.2.1.0 2,5] nonane -3,4,7,8- tetracarboxylic acid -3,4: 7,8-di-alkyl ester, cyclo hexa [6.6.0.1 2,7 .0 3, 6 .1 9,14 .0 10,13] hexadecane -4,5,11,12- tetracarboxylic acid 4,5: 11,12- di-alkyl ester, 3,4-dicarboxy-1,2 , 3,4-tetrahydro-1-naphthalenesuccinic dianhydride, and the like.

방향족 테트라카르복실산디알킬에스테르의 구체적인 예로서는, 피로멜리트산디알킬에스테르, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산디알킬에스테르, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산디알킬에스테르, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산디알킬에스테르, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산디알킬에스테르, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복실산디알킬에스테르, 비스(3,4-디카르복시페닐)에테르디알킬에스테르, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰디알킬에스테르, 1,2,5,6-나프탈렌테트라카르복실산디알킬에스테르, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산디알킬에스테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid dialkyl ester include pyromellitic acid dialkyl ester, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dialkyl ester, 2,2', 3,3'-biphenyltetra 2,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid dialkyl ester, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid dialkyl ester, 2,3,3 ', 4'- , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dialkyl ester, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfonyl alkyl ester, 1,2,5,6 -Naphthalenetetracarboxylic acid dialkyl ester, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dialkyl ester, and the like.

<<<디아민 성분>>><<< Diamine Ingredients >>>

(B) 성분의 원료인 디아민 성분으로서는, 예를 들어, 이하의 지환식 디아민, 방향족 디아민, 복소 고리형 디아민, 지방족 디아민이나 우레아 결합 함유 디아민을 들 수 있다.Examples of the diamine component as the raw material of the component (B) include the following alicyclic diamines, aromatic diamines, heterocyclic diamines, aliphatic diamines and urea bond-containing diamines.

지환식 디아민의 예로서는, 1,4-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로헥산, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디메틸디시클로헥실아민, 이소포론디아민 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic diamine include 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyl Dicyclohexylamine, isophoronediamine, and the like.

방향족 디아민의 예로서는, o-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 2,4-디아미노톨루엔, 2,5-디아미노톨루엔, 3,5-디아미노톨루엔, 1,4-디아미노-2-메톡시벤젠, 2,5-디아미노-p-자일렌, 1,3-디아미노-4-클로로벤젠, 3,5-디아미노벤조산, 1,4-디아미노-2,5-디클로로벤젠, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4'-디아미노-2,2'-디메틸비벤질, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디메틸디페닐메탄, 2,2'-디아미노스틸벤, 4,4'-디아미노스틸벤, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술파이드, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노벤조페논, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 3,5-비스(4-아미노페녹시)벤조산, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비벤질, 2,2-비스[(4-아미노페녹시)메틸]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플로로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 1,1-비스(4-아미노페닐)시클로헥산, α,α'-비스(4-아미노페닐)-1,4-디이소프로필벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 2,2-비스(3-아미노페닐)헥사플로로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플로로프로판, 4,4'-디아미노디페닐아민, 2,4-디아미노디페닐아민, 1,8-디아미노나프탈렌, 1,5-디아미노나프탈렌, 1,5-디아미노안트라퀴논, 1,3-디아미노피렌, 1,6-디아미노피렌, 1,8-디아미노피렌, 2,7-디아미노플루오렌, 1,3-비스(4-아미노페닐)테트라메틸디실록산, 벤지딘, 2,2'-디메틸벤지딘, 1,2-비스(4-아미노페닐)에탄, 1,3-비스(4-아미노페닐)프로판, 1,4-비스(4-아미노페닐)부탄, 1,5-비스(4-아미노페닐)펜탄, 1,6-비스(4-아미노페닐)헥산, 1,7-비스(4-아미노페닐)헵탄, 1,8-비스(4-아미노페닐)옥탄, 1,9-비스(4-아미노페닐)노난, 1,10-비스(4-아미노페닐)데칸, 1,3-비스(4-아미노페녹시)프로판, 1,4-비스(4-아미노페녹시)부탄, 1,5-비스(4-아미노페녹시)펜탄, 1,6-비스(4-아미노페녹시)헥산, 1,7-비스(4-아미노페녹시)헵탄, 1,8-비스(4-아미노페녹시)옥탄, 1,9-비스(4-아미노페녹시)노난, 1,10-비스(4-아미노페녹시)데칸, 디(4-아미노페닐)프로판-1,3-디오에이트, 디(4-아미노페닐)부탄-1,4-디오에이트, 디(4-아미노페닐)펜탄-1,5-디오에이트, 디(4-아미노페닐)헥산-1,6-디오에이트, 디(4-아미노페닐)헵탄-1,7-디오에이트, 디(4-아미노페닐)옥탄-1,8-디오에이트, 디(4-아미노페닐)노난-1,9-디오에이트, 디(4-아미노페닐)데칸-1,10-디오에이트, 1,3-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕프로판, 1,4-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕부탄, 1,5-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕펜탄, 1,6-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕헥산, 1,7-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕헵탄, 1,8-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕옥탄, 1,9-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕노난, 1,10-비스〔4-(4-아미노페녹시)페녹시〕데칸 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic diamines include aromatic diamines such as o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, Diamino-2-methoxybenzene, 2,5-diamino-p-xylene, 1,3-diamino-4-chlorobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid, , 5-dichlorobenzene, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbibenzyl, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 2,2'-diaminostilbene, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diamine, Diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis Benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 3,5-bis (4- Benzoic acid, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) bibenzyl, 2,2-bis [ Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- Bis (4-aminophenyl) phenyl] sulfone, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane, 4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2- , 2,4-diaminodiphenylamine, 1,8-diaminonaphthalene, 1,5-diaminonaphthalene, 1,5-diaminoanthraquinone, 1,3-diaminopyrrene, 1,6-diamino Pyrene, 1,8-diaminopyrene, 2,7-diaminofluorene, 1,3-bis (4-aminophenyl) tetramethyldisiloxane, benzidine, 2,2'-dimethylbenzidine, (4-aminophenyl) ethane Bis (4-aminophenyl) pentane, 1,6-bis (4-aminophenyl) propane, Bis (4-aminophenyl) heptane, 1,9-bis (4-aminophenyl) Bis (4-aminophenoxy) pentane, 1,6-bis (4-aminophenoxy) pentane, Bis (4-aminophenoxy) octane, 1,9-bis (4-aminophenoxy) heptane, ) Nonane, 1,10-bis (4-aminophenoxy) decane, di (4-aminophenyl) propane-1,3-dioate, di Di (4-aminophenyl) heptane-1, 7-dioate, di (4-aminophenyl) (4-aminophenyl) nonane-1,9-dioate, di (4-aminophenyl) ) Decane-1,10-diate, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] propane, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] Bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] pentane, 1,6-bis [4- -Aminophenoxy) phenoxy] heptane, 1,8-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] octane, 1,9- 1,10-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] decane, and the like.

방향족-지방족 디아민의 예로서는, 하기 식[DAM]으로 나타내는 디아민 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic-aliphatic diamine include diamines represented by the following formula [DAM].

[화학식 30](30)

Figure pct00030
Figure pct00030

(식 중,(Wherein,

Ar 은 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 나타내고,Ar represents a benzene ring or a naphthalene ring,

R1 은 탄소 원자수가 1 ∼ 5 의 알킬렌기이며, 및R 1 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and

R2 는 수소 원자 또는 메틸기이다.)R 2 is a hydrogen atom or a methyl group.)

방향족-지방족 디아민의 구체예로서는, 3-아미노벤질아민, 4-아미노벤질아민, 3-아미노-N-메틸벤질아민, 4-아미노-N-메틸벤질아민, 3-아미노페네틸아민, 4-아미노페네틸아민, 3-아미노-N-메틸페네틸아민, 4-아미노-N-메틸페네틸아민, 3-(3-아미노프로필)아닐린, 4-(3-아미노프로필)아닐린, 3-(3-메틸아미노프로필)아닐린, 4-(3-메틸아미노프로필)아닐린, 3-(4-아미노부틸)아닐린, 4-(4-아미노부틸)아닐린, 3-(4-메틸아미노부틸)아닐린, 4-(4-메틸아미노부틸)아닐린, 3-(5-아미노펜틸)아닐린, 4-(5-아미노펜틸)아닐린, 3-(5-메틸아미노펜틸)아닐린, 4-(5-메틸아미노펜틸)아닐린, 2-(6-아미노나프틸)메틸아민, 3-(6-아미노나프틸)메틸아민, 2-(6-아미노나프틸)에틸아민, 3-(6-아미노나프틸)에틸아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic-aliphatic diamines include 3-aminobenzylamine, 4-aminobenzylamine, 3-amino-N-methylbenzylamine, Amino-N-methylphenethylamine, 3- (3-aminopropyl) aniline, 4- (3-aminopropyl) aniline, 3- 4- (4-aminobutyl) aniline, 3- (4-methylaminobutyl) aniline, 4- 3- (5-methylaminopentyl) aniline, 4- (5-methylaminopentyl) aniline, Aniline, 2- (6-aminonaphthyl) methylamine, 3- (6-aminonaphthyl) methylamine, 2- .

복소 고리형 디아민의 예로서는, 2,6-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노-1,3,5-트리아진, 2,7-디아미노디벤조푸란, 3,6-디아미노카르바졸, 2,4-디아미노-6-이소프로필-1,3,5-트리아진, 2,5-비스(4-아미노페닐)-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.Examples of the heterocyclic diamine include 2,6-diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine, 2,4-diamino-1,3,5-triazine, 2,7-diaminodibenzofuran, 3 Diaminocarbazole, 2,4-diamino-6-isopropyl-1,3,5-triazine, 2,5-bis (4-aminophenyl) -1,3,4-oxadiazole And the like.

지방족 디아민의 예로서는, 1,2-디아미노에탄, 1,3-디아미노프로판, 1,4-디아미노부탄, 1,5-디아미노펜탄, 1,6-디아미노헥산, 1,7-디아미노헵탄, 1,8-디아미노옥탄, 1,9-디아미노노난, 1,10-디아미노데칸, 1,3-디아미노-2,2-디메틸프로판, 1,6-디아미노-2,5-디메틸헥산, 1,7-디아미노-2,5-디메틸헵탄, 1,7-디아미노-4,4-디메틸헵탄, 1,7-디아미노-3-메틸헵탄, 1,9-디아미노-5-메틸노난, 1,12-디아미노도데칸, 1,18-디아미노옥타데칸, 1,2-비스(3-아미노프로폭시)에탄 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, Diaminoethane, 1,8-diaminooctane, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,3-diamino-2,2-dimethylpropane, 1,6-diamino- Diamino-2,5-dimethylheptane, 1,7-diamino-4,4-dimethylheptane, 1,7-diamino-3-methylheptane, 1,9- Diamino-5-methyl nonane, 1,12-diaminododecane, 1,18-diaminooctadecane, 1,2-bis (3-aminopropoxy) ethane and the like.

우레아 결합 함유 디아민의 예로서는, N,N'-비스(4-아미노페네틸)우레아 등을 들 수 있다.Examples of urea bond-containing diamines include N, N'-bis (4-aminophenethyl) urea and the like.

또한, (B) 성분에 있어서, 테트라카르복실산 성분과 중합 반응시키는 디아민 성분으로서, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 수직 배향용 측사슬을 갖는 디아민을 함유해도 된다.In the component (B), the diamine component to be polymerized with the tetracarboxylic acid component may contain a diamine having a side chain for vertical alignment within a range not hindering the effect of the present invention.

또, (B) 성분에 있어서의 디아민 성분은, 이하의 디아민을 함유해도 된다.The diamine component in the component (B) may contain the following diamines.

[화학식 31](31)

Figure pct00031
Figure pct00031

(식 중, m, n 은 각각 1 내지 11 의 정수이며, m+n 은 2 내지 12 의 정수이며, h 는 1 ∼ 3 의 정수이며, j 는 0 내지 3 의 정수이다.)(Wherein m and n are each an integer of 1 to 11, m + n is an integer of 2 to 12, h is an integer of 1 to 3, and j is an integer of 0 to 3.)

이들의 디아민을 도입함으로써, 본 발명의 액정 배향제로부터 형성되는 액정 배향막을 사용하는 액정 표시 소자의 전압 유지율 (VHR 이라고도 한다.) 을 보다 향상시키는데 유리하다. 이들의 디아민은, 그러한 액정 표시 소자의 축적 전하 저감 효과가 우수한 관점에서 바람직하다.By introducing these diamines, it is advantageous to further improve the voltage holding ratio (also referred to as VHR) of a liquid crystal display element using a liquid crystal alignment film formed from the liquid crystal aligning agent of the present invention. These diamines are preferred from the viewpoint of excellent accumulation charge reduction effect of such liquid crystal display elements.

더하여, (B) 성분에 있어서의 디아민 성분으로서, 하기의 식으로 나타내는 바와 같은 디아미노실록산 등도 들 수 있다.In addition, as the diamine component in the component (B), a diaminosiloxane represented by the following formula can also be used.

[화학식 32](32)

Figure pct00032
Figure pct00032

(식 중, m 은, 1 내지 10 의 정수이다.)(Wherein m is an integer of 1 to 10)

이들 (B) 성분에 있어서의 디아민 성분은, 액정 배향막으로 했을 때의 액정 배향성, 전압 유지 특성, 축적 전하 등의 특성에 따라, 각각 1 종류 또는 2 종류 이상 병용할 수 있다. 그 때의 혼재하는 비율은 한정되지 않는다.The diamine component in the component (B) may be used alone or in combination of two or more, depending on the properties such as liquid crystal aligning property, voltage holding property, and accumulated charge when used as a liquid crystal alignment film. The mixing ratio at that time is not limited.

또, (B) 성분의 중합체 (폴리이미드 전구체, 폴리이미드) 의 분자량은, 얻어지는 액정 배향막의 강도 및, 액정 배향막 형성 시의 작업성, 액정 배향막의 균일성을 고려하면, GPC (Gel Permeation Chromatography) 법으로 측정한 중량 평균 분자량으로 5,000 ∼ 1,000,000 으로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 10,000 ∼ 150,000 이다.The molecular weight of the polymer (polyimide precursor, polyimide) of the component (B) may be determined by GPC (Gel Permeation Chromatography) considering the strength of the obtained liquid crystal alignment film, workability in forming the liquid crystal alignment film, and uniformity of the liquid crystal alignment film. Is preferably from 5,000 to 1,000,000, and more preferably from 10,000 to 150,000, by weight.

각각의 원료의 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 중합 반응에 의해, 상기 (B) 성분의 중합체를 얻는데 있어서는, 공지된 합성 수법을 사용할 수 있다. 일반적으로는 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 유기 용매 중에서 반응시키는 방법이다. 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 반응은, 유기 용매 중에서 비교적 용이하게 진행되고, 또한 부생성물이 발생하지 않는 점에서 유리하다.A known synthetic method can be used to obtain the polymer of the component (B) by the polymerization reaction of the tetracarboxylic acid component and the diamine component of each raw material. Generally, the tetracarboxylic acid component and the diamine component are reacted in an organic solvent. The reaction between the tetracarboxylic acid component and the diamine component is advantageous in that it proceeds relatively easily in an organic solvent and no by-product is generated.

테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 반응에 사용하는 유기 용매로서는, 생성된 폴리아믹산이 용해되는 것이면 특별히 한정되지 않는다.The organic solvent used for the reaction of the tetracarboxylic acid component and the diamine component is not particularly limited as long as it dissolves the produced polyamic acid.

그 구체예를 이하에 든다.Specific examples thereof are given below.

여기서 사용 가능한 유기 용매로서는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, γ-부티로락톤, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 디펜텐, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부틸레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 디옥산, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 시클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산메틸에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하거나, 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 폴리아믹산을 용해시키지 않는 용매여도, 생성된 폴리아믹산이 석출되지 않는 범위에서, 상기 용매에 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the organic solvent usable herein include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N- But are not limited to, sulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone,? -Butyrolactone, isopropyl alcohol, methoxymethyl pentanol, dipentene, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol mono isopropyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, Glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethyl Diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, Dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethylisobutyl ether, diisobutylene Butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, propyl ether, dihexyl ether, dioxane, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, cyclohexanone, Ethylene carbonate, propylene carbonate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate , Propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl 3-methoxypropionate, methyl ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid, 3- Methoxypropyl methacrylate, propyl methoxy propionate, butyl 3-methoxypropionate, diglyme, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 3- -Dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, and the like. These may be used alone or in combination. In addition, a solvent which does not dissolve the polyamic acid may be used in combination with the solvent insofar as the produced polyamic acid does not precipitate.

또, 유기 용매 중의 수분은 중합 반응을 저해하고, 나아가서는 생성된 폴리아믹산을 가수 분해시키는 원인이 되므로, 유기 용매는 가능한 한 탈수 건조시킨 것을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, water in the organic solvent inhibits the polymerization reaction, and further causes hydrolysis of the resulting polyamic acid. Therefore, it is preferable to use an organic solvent that is dehydrated and dried as much as possible.

테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 유기 용매 중에서 반응시킬 때에는, 디아민 성분을 유기 용매에 분산 혹은 용해시킨 용액을 교반시키고, 테트라카르복실산 성분을 그대로, 또는 유기 용매에 분산 혹은 용해시켜 첨가하는 방법, 반대로 테트라카르복실산 성분을 유기 용매에 분산 혹은 용해시킨 용액에 디아민 성분을 첨가하는 방법, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 교대로 첨가하는 방법 등을 들 수 있고, 이들의 어느 방법을 사용해도 된다. 또, 테트라카르복실산 성분 또는 디아민 성분이 복수종의 화합물로 이루어지는 경우에는, 미리 혼합한 상태로 반응시켜도 되고, 개별적으로 순차 반응시켜도 되고, 또한 개별적으로 반응시킨 저분자량체를 혼합 반응시켜 고분자량체로 해도 된다.When the tetracarboxylic acid component and the diamine component are reacted in an organic solvent, a method in which a solution in which a diamine component is dispersed or dissolved in an organic solvent is stirred, and the tetracarboxylic acid component is added as it is or dispersed or dissolved in an organic solvent , A method of adding a diamine component to a solution in which a tetracarboxylic acid component is dispersed or dissolved in an organic solvent, a method of alternately adding a tetracarboxylic acid component and a diamine component, and the like. . When the tetracarboxylic acid component or the diamine component is composed of a plurality of compounds, they may be reacted in a previously mixed state, or they may be subjected to sequential reactions individually, or the low molecular weight compounds reacted individually may be mixed and reacted to form a high molecular weight You can.

그 때의 중합 온도는 -20 ℃ 내지 150 ℃ 의 임의의 온도를 선택할 수 있지만, 바람직하게는 -5 ℃ 내지 100 ℃ 의 범위이다. 또, 반응은 임의의 농도로 실시할 수 있지만, 농도가 너무 낮으면 고분자량의 중합체를 얻는 것이 어려워지고, 농도가 너무 높으면 반응액의 점성이 너무 높아져 균일한 교반이 곤란해지므로, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분의 반응 용액 중에서의 합계 농도가, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 30 질량% 이다. 반응 초기는 고농도로 실시하고, 그 후, 유기 용매를 추가할 수 있다.The polymerization temperature at that time may be any temperature between -20 DEG C and 150 DEG C, but is preferably in the range of -5 DEG C to 100 DEG C. When the concentration is too low, it becomes difficult to obtain a polymer having a high molecular weight. When the concentration is too high, the viscosity of the reaction liquid becomes too high and it becomes difficult to perform uniform stirring. Therefore, The total concentration of the acid component and the diamine component in the reaction solution is preferably 1 to 50 mass%, more preferably 5 to 30 mass%. The reaction is carried out at a high concentration in the initial stage, and then an organic solvent can be added.

폴리아믹산의 중합 반응에 있어서는, 테트라카르복실산 성분의 합계 몰수와 디아민 성분의 합계 몰수의 비는 0.8 ∼ 1.2 인 것이 바람직하다. 통상적인 중축합 반응과 마찬가지로, 이 몰비가 1.0 에 가까울수록 생성되는 폴리아믹산의 분자량은 커진다.In the polymerization reaction of the polyamic acid, the ratio of the total number of moles of the tetracarboxylic acid component to the total number of moles of the diamine component is preferably 0.8 to 1.2. As in the case of the usual polycondensation reaction, the closer the molar ratio is to 1.0, the larger the molecular weight of the produced polyamic acid.

<<<폴리이미드>>><<< Polyimide >>>

폴리이미드는, 상기의 폴리아믹산이나 폴리아믹산에스테르 등의 폴리이미드 전구체를 탈수 폐환시킴으로써 얻을 수 있다. 폴리이미드에 있어서, 아미드산기의 탈수 폐환율 (이미드화율) 은, 반드시 100 % 일 필요는 없고, 0 % 내지 100 % 의 범위에서 용도나 목적에 따라 임의로 조정할 수 있다.The polyimide can be obtained by subjecting a polyimide precursor such as the above-mentioned polyamic acid or polyamic acid ester to dehydration ring closure. In the polyimide, the dehydration / removal rate (imidization rate) of the amidic acid group does not necessarily have to be 100%, but may be arbitrarily adjusted depending on the purpose and purpose in the range of 0% to 100%.

폴리이미드 전구체를 이미드화시키는 방법으로서는, 폴리아믹산이나 폴리아믹산에스테르의 용액을 그대로 가열하는 열 이미드화, 폴리아믹산이나 폴리아믹산에스테르의 용액에 촉매를 첨가하는 촉매 이미드화를 들 수 있다.Examples of the method for imidizing the polyimide precursor include thermal imidization in which a solution of a polyamic acid or a polyamic acid ester is directly heated, and catalyst imidization in which a catalyst is added to a solution of a polyamic acid or a polyamic acid ester.

폴리아믹산이나 폴리아믹산에스테르를 용액 중에서 열 이미드화시키는 경우의 온도는, 100 ℃ ∼ 400 ℃, 바람직하게는 120 ℃ ∼ 250 ℃ 이며, 이미드화 반응에 의해 생성되는 물을 계 외로 제거하면서 실시하는 것이 바람직하다.When the polyamic acid or the polyamic acid ester is thermally imidized in the solution, the temperature is 100 ° C to 400 ° C, preferably 120 ° C to 250 ° C, and the water generated by the imidization reaction is removed while removing it from the system desirable.

폴리아믹산이나 폴리아믹산에스테르의 촉매 이미드화는, 폴리아믹산이나 폴리아믹산에스테르의 용액에, 염기성 촉매와 산무수물을 첨가하여, -20 ∼ 250 ℃, 바람직하게는 0 ∼ 180 ℃ 에서 교반함으로써 실시할 수 있다. 염기성 촉매의 양은 아미드산기의 0.5 ∼ 30 몰배, 바람직하게는 2 ∼ 20 몰배이며, 산무수물의 양은 아미드산기의 1 ∼ 50 몰배, 바람직하게는 3 ∼ 30 몰배이다. 염기성 촉매로서는 피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리부틸아민, 트리옥틸아민 등을 들 수 있고, 그 중에서도 피리딘은 반응을 진행시키는데 적당한 염기성을 가지므로 바람직하다. 산무수물로서는, 무수 아세트산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산 등을 들 수 있고, 그 중에서도 무수 아세트산을 사용하면 반응 종료 후의 정제가 용이해지므로 바람직하다. 촉매 이미드화에 의한 이미드화율은, 촉매량과 반응 온도, 반응 시간을 조절함으로써 제어할 수 있다.The catalyst imidation of polyamic acid or polyamic acid ester can be carried out by adding a basic catalyst and acid anhydride to a solution of polyamic acid or polyamic acid ester and stirring at -20 to 250 ° C, preferably 0 to 180 ° C have. The amount of the basic catalyst is 0.5 to 30 moles, preferably 2 to 20 moles, of the amide group, and the amount of the acid anhydride is 1 to 50 moles, preferably 3 to 30 moles, of the amide group. Examples of the basic catalyst include pyridine, triethylamine, trimethylamine, tributylamine, trioctylamine and the like. Of these, pyridine is preferred because it has a suitable basicity for promoting the reaction. As the acid anhydride, acetic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be given. Among them, acetic anhydride is preferable because the purification after completion of the reaction becomes easy. The imidization rate by the catalyst imidization can be controlled by adjusting the catalyst amount, the reaction temperature, and the reaction time.

또한, 폴리아믹산에스테르를 합성하는 방법으로서는, 상기 테트라카르복실산디에스테르를 염화티오닐, 염화술푸릴, 염화옥살릴, 옥시염화인 등의 할로겐화제와 반응시켜 얻어지는 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드와 디아민 성분의 반응이나, 테트라카르복실산디에스테르와 디아민 성분을 적당한 축합제, 염기의 존재하에서 반응시키는 방법을 들 수 있다. 또는, 미리 폴리아믹산을 중합하고, 고분자 반응을 이용하여 아믹산 중의 카르복실산을 에스테르화하는 것으로도 얻을 수 있다.Examples of the method for synthesizing the polyamic acid ester include a method in which the tetracarboxylic acid diester is reacted with a halogenating agent such as thionyl chloride, sulfuryl chloride, oxalyl chloride or phosphorus oxychloride, and a diamine component Or a method of reacting a tetracarboxylic acid diester and a diamine component in the presence of a suitable condensing agent or a base. Alternatively, it is also possible to polymerize the polyamic acid in advance and then esterify the carboxylic acid in the amic acid using a polymer reaction.

구체적으로는, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드와 디아민을 염기와 유기 용제의 존재하에서 -20 ℃ ∼ 150 ℃, 바람직하게는 0 ℃ ∼ 50 ℃ 에 있어서, 30 분 ∼ 24 시간, 바람직하게는 1 ∼ 4 시간 반응시킴으로써 합성할 수 있다.Specifically, the tetracarboxylic acid diester dichloride and diamine are reacted in the presence of a base and an organic solvent at -20 ° C to 150 ° C, preferably 0 ° C to 50 ° C for 30 minutes to 24 hours, For 4 hours.

상기 염기에는, 피리딘, 트리에틸아민, 4-디메틸아미노피리딘을 사용할 수 있지만, 반응이 온화하게 진행되기 위해서 피리딘이 바람직하다. 염기의 첨가량은, 제거가 용이한 양이고, 또한 고분자량체가 얻기 쉽다는 관점에서, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드에 대해, 2 ∼ 4 배몰인 것이 바람직하다.As the base, pyridine, triethylamine, and 4-dimethylaminopyridine can be used, but pyridine is preferable for the reaction to proceed mildly. The amount of the base to be added is preferably 2 to 4 times the molar amount of the tetracarboxylic acid diester dichloride from the viewpoint of easy removal and high molecular weight.

축합제 존재하에서 축합 중합을 실시하는 경우, 트리페닐포스파이트, 디시클로헥실카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염, N,N'-카르보닐디이미다졸, 디메톡시-1,3,5-트리아지닐메틸모르폴리늄, O-(벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄테트라플루오로보레이트, O-(벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, (2,3-디하이드로-2-티옥소-3-벤조옥사졸릴)포스폰산디페닐, 4-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)4-메톡시모르폴리늄클로라이드 n-수화물 등을 사용할 수 있다.When the condensation polymerization is carried out in the presence of a condensing agent, it is possible to use condensation polymerization such as triphenylphosphite, dicyclohexylcarbodiimide, 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride, N, N, N ', N'-tetramethyluronium tetrafluoroborate, O (benzotriazol-1-yl) N, N, N ', N'-tetramethyluronium hexafluorophosphate, (2,3-dihydro-2-thioxo-3-benzoxazolyl) 4- (4,6-dimethoxy-1,3,5-triazin-2-yl) -4-methoxymorpholinium chloride n-hydrate and the like can be used.

또, 상기 축합제를 사용하는 방법에 있어서, 루이스산을 첨가제로서 첨가함으로써 반응이 효율적으로 진행된다. 루이스산으로서는, 염화리튬, 브롬화리튬 등의 할로겐화 리튬이 바람직하다. 루이스산의 첨가량은 테트라카르복실산디에스테르에 대해 0.1 ∼ 1.0 배몰량인 것이 바람직하다.Further, in the method using the condensing agent, the reaction proceeds efficiently by adding Lewis acid as an additive. As the Lewis acid, lithium halides such as lithium chloride and lithium bromide are preferable. The addition amount of the Lewis acid is preferably 0.1 to 1.0 times the molar amount relative to the tetracarboxylic acid diester.

상기의 반응에 사용하는 용매는, 상기에서 나타낸 폴리아믹산을 중합할 때에 사용되는 용매로 실시할 수 있지만, 모노머 및 폴리머의 용해성에서 N-메틸-2-피롤리돈, γ-부티로락톤이 바람직하고, 이들은 1 종 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 합성 시의 농도는, 폴리머의 석출이 일어나기 어렵고, 또한 고분자량체가 얻기 쉽다는 관점에서, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다. 또, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드의 가수 분해를 방지하기 위해, 폴리아믹산에스테르의 합성에 사용하는 용매는 가능한 한 탈수되어 있는 것이 좋고, 질소 분위기 중에서, 외부 공기의 혼입을 방지하는 것이 바람직하다.The solvent used in the above reaction may be a solvent used when the polyamic acid shown above is polymerized. However, the solubility of the monomer and the polymer is preferably N-methyl-2-pyrrolidone or? -Butyrolactone These may be used alone or in combination of two or more. The concentration at the time of the synthesis is preferably 1 to 30% by mass, and more preferably 5 to 20% by mass, from the viewpoint that the precipitation of the polymer hardly occurs and the high molecular weight material is easily obtained. In order to prevent the hydrolysis of the tetracarboxylic acid diester dichloride, the solvent used for the synthesis of the polyamic acid ester is preferably dehydrated as much as possible, and it is preferable to prevent the introduction of outside air in a nitrogen atmosphere.

폴리아믹산이나, 폴리아믹산에스테르 등의 폴리이미드 전구체, 폴리이미드의 반응 용액으로부터, 생성된 폴리아믹산, 폴리아믹산에스테르 등의 폴리이미드 전구체, 폴리이미드를 회수하는 경우에는, 반응 용액을 빈용매에 투입하여 침전시키면 된다. 침전에 사용하는 빈용매로서는 메탄올, 아세톤, 헥산, 부틸셀로솔브, 헵탄, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에탄올, 톨루엔, 벤젠, 물 등을 들 수 있다. 빈용매에 투입하여 침전시킨 중합체는 여과하여 회수한 후, 상압 혹은 감압하에서, 상온 혹은 가열하여 건조시킬 수 있다. 또, 침전 회수한 중합체를, 유기 용매에 재용해시켜, 재침전 회수하는 조작을 2 ∼ 10 회 반복하면, 중합체 중의 불순물을 적게 할 수 있다. 이 때의 빈용매로서 예를 들어, 알코올류, 케톤류, 탄화수소 등을 들 수 있고, 이들 중에서 선택되는 3 종류 이상의 빈용매를 사용하면, 보다 한층 정제 효율이 오르므로 바람직하다.When a polyimide precursor such as polyamic acid or polyamic acid ester or a polyimide precursor or polyimide such as polyamic acid or polyamic acid ester produced from a reaction solution of polyimide is recovered, the reaction solution is added to a poor solvent It can be precipitated. Examples of the poor solvent used in the precipitation include methanol, acetone, hexane, butyl cellosolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene and water. The polymer precipitated by pouring into a poor solvent can be recovered by filtration and then dried at normal temperature or under reduced pressure or by heating. In addition, by repeating the operation of re-dissolving the polymer recovered and precipitated in the organic solvent and re-precipitating and recovering the polymer 2 to 10 times, impurities in the polymer can be reduced. As the poor solvent at this time, for example, alcohols, ketones, hydrocarbons and the like can be mentioned, and when three or more poor solvents selected from these are used, the purification efficiency is further improved, which is preferable.

이와 같은 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 전구체는, 예를 들어, 하기 식[a]로 나타내는 반복 단위를 갖는 중합체이다. 또, 이와 같은 반복 단위를 갖는 폴리이미드 전구체를 탈수 폐환시킨 것이, 폴리이미드이다.The polyimide precursor obtained by such a polymerization reaction of a tetracarboxylic acid component and a diamine component is, for example, a polymer having a repeating unit represented by the following formula [a]. The polyimide in which the polyimide precursor having such a repeating unit is subjected to dehydration ring closure is polyimide.

[화학식 33](33)

Figure pct00033
Figure pct00033

(식[a]중, R11 은, 원료의 테트라카르복실산 성분 (하기 식 (c)) 에서 유래하는 4 가의 유기기이며, R12 는, 원료의 디아민 성분 (하기 식 (b)) 에서 유래하는 2 가의 유기기이며, A11 및 A12 는, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기이며, 각각 동일하거나 상이해도 되고, j 는 양의 정수를 나타낸다.)(Wherein R 11 is a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid component (the following formula (c)) of the raw material and R 12 is a tetravalent organic group derived from a diamine component of the starting material (the following formula (b) And A 11 and A 12 are each a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and may be the same or different and j is a positive integer.

상기 식[a]에 있어서, R11 및 R12 가 각각 1 종류이며 동일한 반복 단위를 갖는 중합체여도 되고, 또, R11 이나 R12 가 복수종이며 상이한 구조의 반복 단위를 갖는 중합체여도 된다.In the formula [a], each of R 11 and R 12 may be a polymer having the same repeating unit, or may be a polymer having a plurality of R 11 or R 12 and a repeating unit having a different structure.

상기 식[a]에 있어서, R11 은 원료인 테트라카르복실산 성분에서 유래하는 기이기 때문에, (A) 성분 및 (B) 성분의 폴리이미드 전구체는, R11 은, 상기 식 (4) 로 나타내는 구조를 갖는다. 또, R12 는 원료인 디아민 성분에서 유래하는 기이기 때문에, (A) 성분의 폴리이미드 전구체는, R12 는 -P1-(Q1)P-(Q2)q-(Q3)r-P2 로 나타내는 측사슬을 가지며, 또, (B) 성분의 폴리이미드 전구체는, R12 는 주사슬에 -CR21 2- 를 갖는다.In the formula [a], R 11 is in because the group derived from a raw material of the tetracarboxylic acid component, (A) component and (B) a polyimide precursor, R 11 is the formula (4) of the component . Since R 12 is a group derived from a diamine component as a raw material, the polyimide precursor of the component (A) is represented by the formula: R 12 is -P 1 - (Q 1 ) P - (Q 2 ) q - (Q 3 ) r has a side chain represented by the -P 2, the polyimide precursor of the addition, (B) component, R 12 is -CR 21 2 in the main chain-has a.

[화학식 34](34)

Figure pct00034
Figure pct00034

(식[b]및 식[c]중, R11 및 R12 는, 식[a]에서 정의한 것과 동일하다.)(In the formulas [b] and [c], R 11 and R 12 are the same as defined in formula [a].)

<유기 용매><Organic solvent>

본 발명에 사용되는 중합체 조성물에 사용하는 유기 용매는 수지 성분을 용해시키는 유기 용매이면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예를 이하에 든다.The organic solvent used in the polymer composition used in the present invention is not particularly limited as long as it is an organic solvent dissolving the resin component. Specific examples thereof are given below.

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸카프로락탐, 2-피롤리돈, N-에틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 1,3-디메틸-이미다졸리디논, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 시클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하거나, 혼합하여 사용해도 된다.N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 2-pyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N- Dimethyl sulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethyl sulfone, hexamethyl sulfoxide,? -Butyrolactone, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N, Amide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, 1,3-dimethyl-imidazolidinone, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl isopropyl ketone, But are not limited to, hexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, diglyme, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol- Ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, Propylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl Methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, and the like. These may be used alone or in combination.

본 발명에 사용되는 중합체 조성물은 상기 (A), (B) 및 (C) 성분 이외의 성분을 함유해도 된다. 그 예로서는, 중합체 조성물을 도포했을 때의, 막두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매나 화합물, 액정 배향막과 기판의 밀착성을 향상시키는 화합물 등을 들 수 있지만, 이것으로 한정되지 않는다.The polymer composition used in the present invention may contain components other than the above components (A), (B) and (C). Examples thereof include, but are not limited to, a solvent or a compound that improves film thickness uniformity or surface smoothness when the polymer composition is applied, a compound that improves adhesion between the liquid crystal alignment film and the substrate, and the like.

막두께의 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매 (빈용매) 의 구체예로서는, 다음의 것을 들 수 있다.Specific examples of the solvent (poor solvent) for improving the uniformity of the film thickness and the surface smoothness include the following.

예를 들어, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸카르비톨아세테이트, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부틸레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 1-헥산올, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산메틸에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 1-부톡시-2-프로판올, 1-페녹시-2-프로판올, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노에틸에테르-2-아세테이트, 디프로필렌글리콜, 2-(2-에톡시프로폭시)프로판올, 락트산메틸에스테르, 락트산에틸에스테르, 락트산n-프로필에스테르, 락트산n-부틸에스테르, 락트산이소아밀에스테르 등의 저표면 장력을 갖는 용매 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include isopropyl alcohol, methoxymethyl pentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethyl Propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, , Dipropylene glycol monoacetate monoethyl Propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, Hexane, n-pentane, n-pentane, n-pentane, n-pentane, n-pentane, n-pentane, n-butane, Methyl propionate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, Methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, 1- 2-propanol, 1-butoxy-2-propanol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, propylene glycol- Lactic acid methyl ester, lactic acid ethyl ester, lactic acid n-propyl ester, lactic acid n-butyl ester, lactic acid isoamyl ester, lactic acid ethyl ester-2-acetate, dipropylene glycol, 2- (2- ethoxypropoxy) propanol, And a solvent having a low surface tension such as an ester.

이들 빈용매는 1 종류이거나 복수 종류를 혼합하여 사용해도 된다. 상기 서술한 바와 같은 용매를 사용하는 경우에는, 중합체 조성물에 함유되는 용매 전체의 용해성을 현저하게 저하시키는 일이 없도록, 용매 전체의 5 질량% ∼ 80 질량% 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 질량% ∼ 60 질량% 이다.These poor solvents may be used alone or in combination. In the case of using the solvent as described above, it is preferably 5% by mass to 80% by mass, more preferably 20% by mass, and most preferably 20% by mass, of the entire solvent so as not to significantly lower the solubility of the solvent contained in the polymer composition. Mass% to 60 mass%.

막두께의 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 화합물로서는, 불소계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제 및 논이온계 계면 활성제 등을 들 수 있다.Examples of the compound that improves film thickness uniformity and surface smoothness include fluorinated surfactants, silicone surfactants, and nonionic surfactants.

보다 구체적으로는, 예를 들어, 에프톱 (등록상표) 301, EF303, EF352 (토켐 프로덕츠사 제조), 메가팍크 (등록상표) F171, F173, R-30 (DIC 사 제조), 플로라드 FC430, FC431 (스미토모 3M 사 제조), 아사히가드 (등록상표) AG710 (아사히 글라스사 제조), 서플론 (등록상표) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (AGC 세이미 케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제의 사용 비율은, 중합체 조성물에 함유되는 수지 성분의 100 질량부에 대해, 바람직하게는 0.01 질량부 ∼ 2 질량부, 보다 바람직하게는 0.01 질량부 ∼ 1 질량부이다.More specifically, it is possible to use, for example, EFTOT (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by TOKEM PRODUCTS CO., LTD.), Megapack (registered trademark) F171, F173, R- SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (manufactured by AGC Seiyaku Chemical Co., Ltd.), FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Company), Asahi Guard (registered trademark) AG710 (manufactured by Asahi Glass Co., ) And the like. The use ratio of these surfactants is preferably 0.01 parts by mass to 2 parts by mass, more preferably 0.01 parts by mass to 1 part by mass based on 100 parts by mass of the resin component contained in the polymer composition.

액정 배향막과 기판의 밀착성을 향상시키는 화합물의 구체예로서는, 다음에 나타내는 관능성 실란 함유 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound that improves the adhesion between the liquid crystal alignment layer and the substrate include the following functional silane-containing compounds and the like.

예를 들어, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.For example, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxy (2-aminoethyl) Aminopropyltriethoxysilane, N-trimethoxysilylpropyltriethoxysilane, N-trimethoxysilylpropyltriethoxysilane, N-trimethoxysilylpropyltriethoxysilane, N-trimethoxysilylpropyltriethoxysilane, Amine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl Acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N- Bis (oxyethylene) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N- Aminopropyltriethoxysilane, and the like.

또한, 기판과 액정 배향막의 밀착성의 향상에 더하여, 액정 표시 소자를 구성했을 때의 백라이트에 의한 전기 특성의 저하 등을 방지하는 목적으로, 이하와 같은 페노플라스트계나 에폭시기 함유 화합물의 첨가제를 중합체 조성물 중에 함유시켜도 된다. 구체적인 페노플라스트계 첨가제를 이하에 나타내지만, 이 구조로 한정되지 않는다.In addition to the enhancement of the adhesion between the substrate and the liquid crystal alignment film, for the purpose of preventing deterioration of the electric characteristics due to the backlight when the liquid crystal display element is constituted, additives such as the following phenoplast series or epoxy group- . Specific phenoplast additives are shown below, but the structure is not limited thereto.

[화학식 35](35)

Figure pct00035
Figure pct00035

구체적인 에폭시기 함유 화합물로서는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,3,5,6-테트라글리시딜-2,4-헥산디올, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄 등이 예시된다.Specific examples of the epoxy group-containing compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl Glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6- Tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) Cyclohexane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, and the like.

기판과의 밀착성을 향상시키는 화합물을 사용하는 경우, 그 사용량은 중합체 조성물에 함유되는 수지 성분의 100 질량부에 대해 0.1 질량부 ∼ 30 질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 질량부 ∼ 20 질량부이다. 사용량이 0.1 질량부 미만이면 밀착성 향상의 효과는 기대할 수 없고, 30 질량부보다 많아지면 액정의 배향성이 나빠지는 경우가 있다.When a compound improving the adhesion with the substrate is used, the amount thereof to be used is preferably 0.1 part by mass to 30 parts by mass, more preferably 1 part by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component contained in the polymer composition Wealth. If the amount is less than 0.1 part by mass, the effect of improving the adhesion can not be expected. If the amount is more than 30 parts by mass, the alignment property of the liquid crystal may be deteriorated.

첨가제로서 광 증감제를 사용할 수도 있다. 무색 증감제 및 삼중항 증감제가 바람직하다.A photosensitizer may also be used as an additive. Colorless sensitizer and triplet sensitizer are preferable.

광 증감제로서는, 방향족 니트로 화합물, 쿠마린(7-디에틸아미노-4-메틸쿠마린, 7-하이드록시4-메틸쿠마린), 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 방향족2-하이드록시케톤, 및 아미노 치환된, 방향족2-하이드록시케톤(2-하이드록시벤조페논, 모노- 혹은 디-p-(디메틸아미노)-2-하이드록시벤조페논), 아세토페논, 안트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤, 벤즈안트론, 티아졸린(2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린), 옥사졸린(2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린), 벤조티아졸, 니트로아닐린(m- 혹은 p-니트로아닐린, 2,4,6-트리니트로아닐린) 또는 니트로아세나프텐(5-니트로아세나프텐), (2-[(m-하이드록시-p-메톡시)스티릴]벤조티아졸, 벤조인알킬에테르, N-알킬화프탈론, 아세토페논케탈(2,2-디메톡시페닐에타논), 나프탈렌, 안트라센(2-나프탈렌메탄올, 2-나프탈렌카르복실산, 9-안트라센메탄올, 및 9-안트라센카르복실산), 벤조피란, 아조인돌리진, 메로쿠마린 등이 있다.Examples of the photosensitizer include aromatic nitro compounds, coumarin (7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-hydroxy4-methylcoumarin), ketocoumarin, carbonylbiscumarin, aromatic 2- (2-hydroxybenzophenone, mono- or di-p- (dimethylamino) -2-hydroxybenzophenone), acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, (2-benzoylmethylene-3-methyl- beta -naphthothiazoline, 2- (beta -naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- (alpha -naphthoylmethylene) -3 -Methyl-β-naphthothiazoline, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzothiazoline, 2- Methyl-β-naphthothiazoline, 2- (p-fluorobenzoylmethylene) -3-methyl-β-naphthothiazoline), oxazoline (2-benzoylmethylene- Oxazoline, 2- (β-naphthoylmethylene) 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzooxazoline, 2- (? -Naphthoylmethylene) -3-methylbenzooxazoline, 2- ) -3-methyl- beta -naphthooxazoline, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methyl- beta -naphthoxazoline, 2- (p- fluorobenzoylmethylene) Nitro-aniline, 2,4,6-trinitroaniline) or nitro-acenaphthene (5-nitro-acenaphthene), (2 - [(m- (2,2-dimethoxyphenylethanone), naphthalene, anthracene (2-naphthalene methanol, 2-naphthalene methanol, 2- Naphthalenecarboxylic acid, 9-anthracene methanol, and 9-anthracenecarboxylic acid), benzopyran, azoindolizine, merocoumarin and the like.

바람직하게는, 방향족2-하이드록시케톤(벤조페논), 쿠마린, 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 아세토페논, 안트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤, 및 아세토페논케탈이다.Preferred are aromatic 2-hydroxy ketone (benzophenone), coumarin, ketocoumarin, carbonylbiscumarin, acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, and acetophenone ketal.

중합체 조성물에는, 상기 서술한 것 외에, 본 발명의 효과가 저해되지 않는 범위이면, 액정 배향막의 유전율이나 도전성 등의 전기 특성을 변화시키는 목적으로, 유전체나 도전 물질, 나아가서는, 액정 배향막으로 했을 때의 막의 경도나 치밀도를 높이는 목적으로, 가교성 화합물을 첨가해도 된다.The polymer composition may contain, in addition to the above-mentioned ones, a dielectric substance or a conductive substance, or a liquid crystal alignment film, for the purpose of changing electric characteristics such as dielectric constant and conductivity of the liquid crystal alignment film, A cross-linking compound may be added for the purpose of increasing the hardness and density of the film.

상기 서술한 중합체 조성물을 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않는다.The method of applying the above-described polymer composition onto a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field is not particularly limited.

도포 방법은, 공업적으로는, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 플렉소 인쇄 또는 잉크젯법 등으로 실시하는 방법이 일반적이다. 그 밖의 도포 방법으로서는, 딥법, 롤 코터법, 슬릿 코터법, 스피너법 (회전 도포법) 또는 스프레이법 등이 있고, 목적에 따라 이들을 사용해도 된다.As a coating method, a method generally carried out by screen printing, offset printing, flexographic printing, inkjet printing or the like is generally used. Examples of other coating methods include a dip method, a roll coater method, a slit coater method, a spinner method (spin coating method), a spray method, and the like.

횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 중합체 조성물을 도포한 후는, 핫 플레이트, 열순환형 오븐 또는 IR (적외선) 형 오븐 등의 가열 수단에 의해 50 ∼ 200 ℃, 바람직하게는 50 ∼ 150 ℃ 에서 용매를 증발시켜 도포막을 얻을 수 있다. 이 때의 건조 온도는 측사슬형 고분자의 액정상 발현 온도보다 낮은 것이 바람직하다.After the polymer composition is applied onto a substrate having a conductive film for driving a transverse electric field, the polymer composition is heated to 50 to 200 占 폚, preferably 50 to 150 占 폚, by heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven or an IR Lt; RTI ID = 0.0 &gt; C, &lt; / RTI &gt; The drying temperature at this time is preferably lower than the liquid crystal phase temperature of the side chain type polymer.

도포막의 두께는, 너무 두꺼우면 액정 표시 소자의 소비 전력의 면에서 불리해지고, 너무 얇으면 액정 표시 소자의 신뢰성이 저하되는 경우가 있으므로, 바람직하게는 5 nm ∼ 300 nm, 보다 바람직하게는 10 nm ∼ 150 nm 이다.When the thickness of the coating film is too large, the power consumption of the liquid crystal display element is deteriorated. When the thickness of the coating film is too thin, the reliability of the liquid crystal display element may be deteriorated, and therefore preferably 5 nm to 300 nm, more preferably 10 nm ~ 150 nm.

또한,[I]공정 후, 계속되는[II]공정 전에 도포막이 형성된 기판을 실온에까지 냉각시키는 공정을 설정하는 것도 가능하다.It is also possible to set a step of cooling the substrate on which the coated film has been formed to the room temperature after the [I] process and before the subsequent [II] process.

<공정[II]>&Lt; Process [II] &gt;

공정[II]에서는, 공정[I]에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사한다. 도포막의 막면에 편광된 자외선을 조사하는 경우, 기판에 대해 일정한 방향으로부터 편광판을 개재하여 편광된 자외선을 조사한다. 사용하는 자외선으로서는, 파장 100 nm ∼ 400 nm 의 범위의 자외선을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 사용하는 도포막의 종류에 따라 필터 등을 개재하여 최적인 파장을 선택한다. 그리고, 예를 들어, 선택적으로 광 가교 반응을 야기할 수 있도록, 파장 290 nm ∼ 400 nm 의 범위의 자외선을 선택하여 사용할 수 있다. 자외선으로서는, 예를 들어, 고압 수은등으로부터 방사되는 광을 사용할 수 있다.In the step [II], polarized ultraviolet rays are irradiated onto the coating film obtained in the step [I]. When polarized ultraviolet rays are irradiated to the film surface of the coating film, polarized ultraviolet rays are irradiated to the substrate through a polarizer from a certain direction. As ultraviolet rays to be used, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 100 nm to 400 nm can be used. Preferably, the optimum wavelength is selected through a filter or the like depending on the type of the coating film to be used. For example, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 290 nm to 400 nm can be selectively used so as to cause photo-crosslinking reaction selectively. As ultraviolet rays, for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.

편광된 자외선의 조사량은 사용하는 도포막에 의존한다. 조사량은, 그 도포막에 있어서의, 편광된 자외선의 편광 방향과 평행한 방향의 자외선 흡광도와 수직인 방향의 자외선 흡광도의 차인 ΔA 의 최대치 (이하, ΔAmax 라고도 칭한다) 를 실현하는 편광 자외선의 양의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 1 % ∼ 50 % 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다.The irradiation amount of the polarized ultraviolet ray depends on the coating film to be used. The irradiation dose is the amount of the polarized ultraviolet light that realizes the maximum value of? A (hereinafter also referred to as? Amma) which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet ray and the ultraviolet absorbance in the perpendicular direction Is preferably within a range of 1% to 70%, and more preferably within a range of 1% to 50%.

<공정[III]>&Lt; Process [III] &gt;

공정[III]에서는, 공정[II]에서 편광된 자외선이 조사된 도포막을 가열한다. 가열에 의해, 도포막에 배향 제어능을 부여할 수 있다.In the step [III], the coated film irradiated with the polarized ultraviolet rays in the step [II] is heated. By heating, orientation control ability can be imparted to the coating film.

가열은 핫 플레이트, 열순환형 오븐 또는 IR (적외선) 형 오븐 등의 가열 수단을 사용할 수 있다. 가열 온도는 사용하는 도포막의 액정성을 발현시키는 온도를 고려하여 결정할 수 있다.Heating can be performed by a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven, or an IR (infrared) type oven. The heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystal property of the coating film to be used is expressed.

가열 온도는 측사슬형 고분자가 액정성을 발현하는 온도 (이하, 액정 발현 온도라고 한다) 의 온도 범위 내인 것이 바람직하다. 도포막과 같은 박막 표면의 경우, 도포막 표면의 액정 발현 온도는, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 고분자를 벌크로 관찰한 경우의 액정 발현 온도보다 낮은 것이 예상된다. 이 때문에, 가열 온도는 도포막 표면의 액정 발현 온도의 온도 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 즉, 편광 자외선 조사 후의 가열 온도의 온도 범위는 사용하는 측사슬형 고분자의 액정 발현 온도의 온도 범위의 하한보다 10 ℃ 낮은 온도를 하한으로 하고, 그 액정 온도 범위의 상한보다 10 ℃ 낮은 온도를 상한으로 하는 범위의 온도인 것이 바람직하다. 가열 온도가 상기 온도 범위보다 낮으면, 도포막에 있어서의 열에 의한 이방성의 증폭 효과가 불충분해지는 경향이 있고, 또 가열 온도가 상기 온도 범위보다 너무 높으면, 도포막 상태가 등방성의 액체 상태 (등방상) 에 가까워지는 경향이 있고, 이 경우, 자기 조직화에 의해 일방향으로 재배향하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.It is preferable that the heating temperature is within the temperature range of the temperature at which the side chain type polymer exhibits liquid crystallinity (hereinafter referred to as liquid crystal forming temperature). In the case of a thin film surface such as a coated film, it is expected that the temperature of liquid crystal display on the surface of the coated film is lower than the liquid crystal expression temperature when the photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquid crystallinity is observed in bulk. Therefore, it is more preferable that the heating temperature is within the temperature range of the liquid crystal display temperature on the surface of the coating film. That is, the temperature range of the heating temperature after irradiation with the polarized ultraviolet light is set to a temperature lower by 10 占 폚 than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal display temperature of the side chain type polymer to be used and a temperature lower by 10 占 폚 than the upper limit of the liquid crystal temperature range, The temperature is preferably in the range of &lt; RTI ID = 0.0 &gt; If the heating temperature is lower than the above-mentioned temperature range, the amplifying effect of anisotropy due to heat in the coating film tends to become insufficient. If the heating temperature is too higher than the above temperature range, the coating film state becomes isotropic liquid state ). In this case, it may become difficult to reorient in one direction by self-organization.

또한, 액정 발현 온도는, 측사슬형 고분자 또는 도포막 표면이 고체상으로부터 액정상으로 상전이가 일어나는 유리 전이 온도 (Tg) 이상으로서, 액정상으로부터 아이소트로픽상 (등방상) 으로 상전이를 일으키는 아이소트로픽 상전이 온도 (Tiso) 이하의 온도를 말한다.The liquid crystal display temperature is preferably at least the glass transition temperature (Tg) at which the surface of the side chain type polymer or the coating film undergoes phase transition from the solid phase to the liquid crystal phase, and isotropic phase transition from the liquid crystal phase to the isotropic phase (isotropic phase) Refers to the temperature below the temperature (Tiso).

이상의 공정을 가짐으로써, 본 발명의 제조 방법에서는, 고효율인, 도포막으로의 이방성의 도입을 실현할 수 있다. 그리고, 고효율로 액정 배향막이 형성된 기판을 제조할 수 있다.By the above process, the production method of the present invention can realize introduction of anisotropy into the coating film with high efficiency. A substrate on which a liquid crystal alignment film is formed with high efficiency can be produced.

<공정[IV]>&Lt; Process [IV] &gt;

[IV]공정은,[III]에서 얻어진, 횡전계 구동용의 도전막 상에 액정 배향막을 갖는 기판 (제 1 기판) 과, 마찬가지로 상기[I']∼[III']에서 얻어진, 도전막을 가지지 않는 액정 배향막이 형성된 기판 (제 2 기판) 을, 액정을 개재하여, 쌍방의 액정 배향막이 상대하도록 대향 배치하고, 공지된 방법으로 액정 셀을 제작하여, 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 제작하는 공정이다. 또한, 공정[I']∼[III']는, 공정[I]에 있어서, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 대신에, 그 횡전계 구동용 도전막을 가지지 않는 기판을 사용한 것 이외에, 공정[I]∼[III]과 마찬가지로 실시할 수 있다. 공정[I]∼[III]과 공정[I']∼[III'] 의 차이점은, 상기 서술한 도전막의 유무 뿐이기 때문에, 공정[I']∼[III'] 의 설명을 생략한다.The step [IV] includes the steps of: preparing a substrate (first substrate) having a liquid crystal alignment film on a conductive film for driving a transversal electric field obtained in [III] (Second substrate) on which a liquid crystal alignment film having no liquid crystal alignment film formed thereon is opposed to the liquid crystal alignment film so as to face each other with liquid crystal interposed therebetween and a liquid crystal cell is manufactured by a known method to manufacture a transverse electric field driven liquid crystal display element to be. It is to be noted that the steps [I '] to [III'] are the same as the steps [I '] to [III'] except that a substrate having no conductive film for transversal field driving is used instead of the substrate having a conductive film for driving a transversal electric field, I] to [III]. The description of the steps [I '] to [III'] is omitted because the difference between the steps [I] to [III] and the steps [I '] to [III'] is only the presence or absence of the above-described conductive film.

액정 셀 또는 액정 표시 소자의 제작의 일례를 든다면, 상기 서술한 제 1 및 제 2 기판을 준비하고, 편방의 기판의 액정 배향막 상에 스페이서를 살포하고, 액정 배향막면이 내측이 되도록 하고, 다른 편방의 기판을 첩합(貼合)하고, 액정을 감압 주입하여 밀봉하는 방법, 또는, 스페이서를 살포한 액정 배향막면에 액정을 적하한 후에, 기판을 첩합하여 밀봉을 실시하는 방법 등을 예시할 수 있다. 이 때, 편측의 기판에는 횡전계 구동용의 빗살과 같은 구조의 전극을 갖는 기판을 사용하는 것이 바람직하다. 이 때의 스페이서의 직경은 바람직하게는 1 ㎛ ∼ 30 ㎛, 보다 바람직하게는 2 ㎛ ∼ 10 ㎛ 이다. 이 스페이서 직경이 액정층을 협지하는 1 쌍의 기판간 거리, 즉, 액정층의 두께를 결정하게 된다.In order to prepare a liquid crystal cell or a liquid crystal display element, the above-described first and second substrates are prepared, a spacer is sprayed on the liquid crystal alignment film of the substrate of the single chamber to make the liquid crystal alignment film face inward, A method in which a substrate of a single chamber is bonded and a liquid crystal is injected under reduced pressure to seal the substrate or a method in which liquid crystal is dropped on a surface of a liquid crystal alignment film on which a spacer is spread, have. At this time, it is preferable to use a substrate having electrodes of a structure like a comb-like driving electrode for lateral electric field driving on one side of the substrate. The diameter of the spacer at this time is preferably 1 m to 30 m, more preferably 2 m to 10 m. This spacer diameter determines the distance between a pair of substrates sandwiching the liquid crystal layer, that is, the thickness of the liquid crystal layer.

본 발명의 도포막이 형성된 기판의 제조 방법은, 중합체 조성물을 기판 상에 도포하여 도포막을 형성한 후, 편광된 자외선을 조사한다. 이어서, 가열을 실시함으로써 측사슬형 고분자막에 대한 고효율인 이방성의 도입을 실현하고, 액정의 배향 제어능을 구비한 액정 배향막이 형성된 기판을 제조한다.In the method for producing a substrate on which a coating film of the present invention is formed, a polymer composition is applied on a substrate to form a coating film, and then irradiated with polarized ultraviolet rays. Subsequently, by heating, introduction of high-efficiency anisotropy into the side-chain type polymer film is realized, and a substrate on which a liquid crystal alignment film having the liquid crystal alignment control ability is formed is produced.

본 발명에 사용하는 도포막에서는, 측사슬의 광 반응과 액정성에 기초하는 자기 조직화에 의해 야기되는 분자 재배향의 원리를 이용하여, 도포막에 대한 고효율인 이방성의 도입을 실현한다. 본 발명의 제조 방법에서는, 측사슬형 고분자에 광 반응성기로서 광 가교성기를 갖는 구조의 경우, 측사슬형 고분자를 사용하여 기판 상에 도포막을 형성한 후, 편광된 자외선을 조사하고, 이어서, 가열을 실시한 후, 액정 표시 소자를 제조한다.In the coating film to be used in the present invention, the introduction of highly efficient anisotropy into the coating film is realized by utilizing the principle of molecular rearrangement caused by the self-organization based on the light reaction of side chains and liquid crystallinity. In the production method of the present invention, in the case of a structure having a photocrosslinkable group as a photoreactive group on a side chain type polymer, a coating film is formed on a substrate using a side chain type polymer, then irradiated with polarized ultraviolet rays, After heating, a liquid crystal display element is manufactured.

이하, 광 반응성기로서 광 가교성기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 실시형태를 제 1 형태, 광 반응성기로서 광 프리스 전위기 또는 이성화를 일으키는 기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 실시형태를 제 2 형태라고 칭하여 설명한다.Hereinafter, embodiments using side-chain polymers having a structure having a photocrosslinkable group as the photoreactive group will be described as first embodiment, embodiments using the side-chain polymer having a structure having a group causing a photo- Will be referred to as a second embodiment.

도 1 은, 본 발명에 있어서의 제 1 형태에 있어서, 광 반응성기로서 광 가교성기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이다. 도 1(a) 는 편광 조사 전의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 1(b) 는 편광 조사 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 1(c) 는 가열 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 특히 도입된 이방성이 작은 경우, 즉, 본 발명의 제 1 형태에 있어서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 15 % 의 범위 내인 경우의 모식도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view for explaining an introduction process of anisotropy in a process for producing a liquid crystal alignment film using a side chain type polymer having a photo-crosslinkable group as a photo-reactive group in the first aspect of the present invention Fig. Fig. 1 (a) is a diagram schematically showing the state of a side-chain type polymer membrane before polarization irradiation, Fig. 1 (b) is a diagram schematically showing the state of a side- Is a diagram schematically showing the state of the side chain type polymer membrane after heating. Specifically, in the case where the introduced anisotropy is small, that is, in the first embodiment of the present invention, the ultraviolet irradiation amount of the step [II] And is within the range of 1% to 15% of the ultraviolet radiation dose.

도 2 는, 본 발명에 있어서의 제 1 형태에 있어서, 광 반응성기로서 광 가교성기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이다. 도 2(a) 는 편광 조사 전의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 2(b) 는 편광 조사 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 2(c) 는 가열 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 특히 도입된 이방성이 큰 경우, 즉, 본 발명의 제 1 형태에 있어서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 15 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우의 모식도이다.2 schematically illustrates introduction of anisotropy in the process for producing a liquid crystal alignment film using a side chain type polymer having a photo-crosslinkable group as a photo-reactive group in the first aspect of the present invention Fig. Fig. 2 (a) is a diagram schematically showing the state of the side-chain polymer film before the polarized light irradiation, Fig. 2 (b) is a diagram schematically showing the state of the side- Is a diagram schematically showing the state of the side chain type polymer membrane after heating. In particular, in the case where the introduced anisotropy is large, that is, in the first embodiment of the present invention, the ultraviolet radiation amount in the step [II] And is within the range of 15% to 70% of the ultraviolet radiation dose.

도 3 은, 본 발명에 있어서의 제 2 형태에 있어서, 광 반응성기로서 광 이성 화성기나, 상기 서술한 식 (18) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이다. 도 3(a) 는 편광 조사 전의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 3(b) 는 편광 조사 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 3(c) 는 가열 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 특히 도입된 이방성이 작은 경우, 즉, 본 발명의 제 2 양태에 있어서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우의 모식도이다.Fig. 3 is a schematic view showing a liquid crystal alignment layer (hereinafter referred to as &quot; liquid crystal alignment layer &quot;) using a photo-isomerizable group as a photoreactive group or a side chain-type polymer having a structure having a light- Fig. 8 is an example diagram schematically illustrating an introduction process of anisotropy in the manufacturing method of the present invention. Fig. 3 (a) is a diagram schematically showing the state of the side-chain polymer film before the polarized light irradiation, Fig. 3 (b) is a diagram schematically showing the state of the side- Is a diagram schematically showing the state of the side chain type polymer membrane after heating. In the case where the introduced anisotropy is small, that is, in the second aspect of the present invention, the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] And is within the range of 1% to 70% of the ultraviolet radiation dose.

도 4 는, 본 발명에 있어서의 제 2 형태에 있어서, 광 반응성기로서 상기 서술한 식 (19) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막의 제조 방법에 있어서의 이방성의 도입 처리를 모식적으로 설명하는 하나의 예의 도면이다. 도 4(a) 는 편광 조사 전의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 4(b) 는 편광 조사 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 도 4(c) 는 가열 후의 측사슬형 고분자막의 상태를 모식적으로 나타내는 도면이며, 특히 도입된 이방성이 큰 경우, 즉, 본 발명의 제 2 양태에 있어서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우의 모식도이다.Fig. 4 is a graph showing the results of evaluation of the method for producing a liquid crystal alignment layer using a side chain type polymer having a structure having a light-free stress period represented by the above-mentioned formula (19) as a photoreactive group in the second aspect of the present invention Fig. 2 is a view showing an example of a process of introducing anisotropy of the present invention. FIG. 4A is a diagram schematically showing the state of the side-chain polymer film before the polarized light irradiation, FIG. 4B is a diagram schematically showing the state of the side-chain polymer film after the polarized light irradiation, Is a diagram schematically showing the state of the side chain type polymer membrane after heating. Specifically, when the introduced anisotropy is large, that is, in the second embodiment of the present invention, the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] And is within the range of 1% to 70% of the ultraviolet radiation dose.

본 발명에 있어서의 제 1 형태에 있어서, 도포막에 대한 이방성의 도입 처리에서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 15 % 의 범위 내인 경우는, 먼저, 기판 상에 도포막 (1) 을 형성한다. 도 1(a) 에 나타내는 바와 같이, 기판 상에 형성된 도포막 (1) 에서는, 측사슬 (2) 이 랜덤하게 배열되는 구조를 갖는다. 도포막 (1) 의 측사슬 (2) 의 랜덤 배열에 따라, 측사슬 (2) 의 메소겐 성분 및 감광성기도 랜덤하게 배향되어 있고, 그 도포막 (1) 은 등방성이다.In the first aspect of the present invention, in the case where the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is within the range of 1% to 15% of the ultraviolet irradiation amount which maximizes the ΔA in the process of introducing anisotropy into the coating film, A coating film (1) is formed on a substrate. As shown in Fig. 1 (a), the coating film 1 formed on a substrate has a structure in which the side chains 2 are randomly arranged. The mesogenic component of the side chain 2 and the photosensitive film are randomly oriented in accordance with the random arrangement of the side chains 2 of the coating film 1 and the coating film 1 is isotropic.

본 발명에 있어서의 제 1 형태에 있어서, 도포막에 대한 이방성의 도입 처리에서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 15 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우는, 먼저, 기판 상에 도포막 (3) 을 형성한다. 도 2(a) 에 나타내는 바와 같이, 기판 상에 형성된 도포막 (3) 에서는, 측사슬 (4) 이 랜덤하게 배열되는 구조를 갖는다. 도포막 (3) 의 측사슬 (4) 의 랜덤 배열에 따라, 측사슬 (4) 의 메소겐 성분 및 감광성기도 랜덤하게 배향되어 있고, 그 도포막 (2) 은 등방성이다.In the first aspect of the present invention, in the case where the ultraviolet ray irradiation amount in the step [II] is within the range of 15% to 70% of the ultraviolet ray irradiation amount which maximizes? A in the process of introducing anisotropy into the coating film, A coating film (3) is formed on a substrate. As shown in Fig. 2 (a), the coating film 3 formed on the substrate has a structure in which the side chains 4 are randomly arranged. The mesogenic component of the side chain 4 and the photosensitive film are randomly oriented in accordance with the random arrangement of the side chains 4 of the coating film 3 and the coating film 2 is isotropic.

본 발명에 있어서의 제 2 형태에 있어서, 도포막에 대한 이방성의 도입 처리에서, 광 이성화성기나, 상기 서술한 식 (18) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막을 사용한 경우에 있어서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우는, 먼저, 기판 상에 도포막 (5) 을 형성한다. 도 3(a) 에 나타내는 바와 같이, 기판 상에 형성된 도포막 (5) 에서는, 측사슬 (6) 이 랜덤하게 배열되는 구조를 갖는다. 도포막 (5) 의 측사슬 (6) 의 랜덤 배열에 따라, 측사슬 (6) 의 메소겐 성분 및 감광성기도 랜덤하게 배향되어 있고, 그 측사슬형 고분자막 (5) 은 등방성이다.In the second embodiment of the present invention, in the process of introducing anisotropy into the coating film, a photo-isomerization type or a side chain type polymer having a structure having a light-free stress period represented by the above-mentioned formula (18) In the case of using a liquid crystal alignment film, when the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] is within the range of 1% to 70% of the amount of ultraviolet irradiation that maximizes DELTA A, a coating film 5 is first formed on the substrate. As shown in Fig. 3 (a), the coating film 5 formed on the substrate has a structure in which the side chains 6 are randomly arranged. The mesogenic component of the side chain 6 and the photosensitive film are randomly oriented in accordance with the random arrangement of the side chains 6 of the coating film 5 and the side chain type polymer film 5 is isotropic.

본 발명에 있어서의 제 2 형태에 있어서, 도포막에 대한 이방성의 도입 처리에서, 상기 서술한 식 (19) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막을 사용한 경우에 있어서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우는, 먼저, 기판 상에 도포막 (7) 을 형성한다. 도 4(a) 에 나타내는 바와 같이, 기판 상에 형성된 도포막 (7) 에서는, 측사슬 (8) 이 랜덤하게 배열되는 구조를 갖는다. 도포막 (7) 의 측사슬 (8) 의 랜덤 배열에 따라, 측사슬 (8) 의 메소겐 성분 및 감광성기도 랜덤하게 배향되어 있고, 그 도포막 (7) 은 등방성이다.In the second embodiment of the present invention, in the case where a liquid crystal alignment film using a side chain type polymer having a structure having a light-free stress period represented by the above-described formula (19) is used in the process of introducing anisotropy into the coating film , When the amount of ultraviolet radiation in the step [II] is within the range of 1% to 70% of the amount of ultraviolet radiation which maximizes the amount of ΔA, the coating film 7 is first formed on the substrate. As shown in Fig. 4 (a), the coating film 7 formed on the substrate has a structure in which the side chains 8 are randomly arranged. The mesogenic component of the side chain 8 and the photosensitive film are randomly oriented in accordance with the random arrangement of the side chains 8 of the coating film 7 and the coating film 7 is isotropic.

본 실시의 제 1 형태에서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 15 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 이 등방성의 도포막 (1) 에 대해, 편광된 자외선을 조사한다. 그러면, 도 1(b) 에 나타내는 바와 같이, 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 배열되는 측사슬 (2) 중 감광성기를 갖는 측사슬 (2a) 의 감광성기가 우선적으로 2 량화 반응 등의 광 반응을 일으킨다. 그 결과, 광 반응을 한 측사슬 (2a) 의 밀도가 조사 자외선의 편광 방향에서 약간 높아지고, 결과적으로 도포막 (1) 에 매우 작은 이방성이 부여된다.In the first embodiment, when the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] is within a range of 1% to 15% of the amount of ultraviolet irradiation that maximizes DELTA A, the isotropic coating film 1 is irradiated with polarized ultraviolet . Then, as shown in Fig. 1 (b), among the side chains 2 arranged in the direction parallel to the polarization direction of ultraviolet rays, the photosensitive group of the side chain 2a having a photosensitive group is preferentially subjected to a photoreaction such as a diminishing reaction Cause. As a result, the density of the side chain 2a that has undergone the photoreaction becomes slightly higher in the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray, and consequently very small anisotropy is imparted to the coating film 1.

본 실시의 제 1 형태에서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 15 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 이 등방성의 도포막 (3) 에 대해, 편광된 자외선을 조사한다. 그러면, 도 2(b) 에 나타내는 바와 같이, 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 배열되는 측사슬 (4) 중 감광성기를 갖는 측사슬 (4a) 의 감광성기가 우선적으로 2 량화 반응 등의 광 반응을 일으킨다. 그 결과, 광 반응을 한 측사슬 (4a) 의 밀도가 조사 자외선의 편광 방향에서 높아지고, 결과적으로 도포막 (3) 에 작은 이방성이 부여된다.In the first embodiment, when the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] is within the range of 15% to 70% of the amount of ultraviolet irradiation that maximizes DELTA A, the isotropic coating film 3 is irradiated with polarized ultraviolet . Then, as shown in Fig. 2 (b), among the side chains 4 arranged in the direction parallel to the polarization direction of ultraviolet rays, the photosensitive group of the side chain 4a having a photosensitive group is preferentially subjected to a photoreaction such as a dimerization reaction Cause. As a result, the density of the side chain 4a that has undergone the photoreaction becomes higher in the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray, and consequently, the coating film 3 is given a small anisotropy.

본 실시의 제 2 형태에서, 광 이성화성기나, 상기 서술한 식 (18) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 액정 배향막을 사용하여,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 이 등방성의 도포막 (5) 에 대해, 편광된 자외선을 조사한다. 그러면, 도 3(b) 에 나타내는 바와 같이, 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 배열되는 측사슬 (6) 중 감광성기를 갖는 측사슬 (6a) 의 감광성기가 우선적으로 광 프리스 전위 등의 광 반응을 일으킨다. 그 결과, 광 반응을 한 측사슬 (6a) 의 밀도가 조사 자외선의 편광 방향에서 약간 높아지고, 결과적으로 도포막 (5) 에 매우 작은 이방성이 부여된다.In the second embodiment, a liquid crystal alignment film using a photo-isomerizable group or a side chain-type polymer having a structure represented by the above-described formula (18) and having a light-free stress state is used to measure the ultraviolet radiation amount Polarized ultraviolet rays are irradiated to the isotropic coating film 5 in the range of 1% to 70% of the ultraviolet irradiation amount which maximizes the? A. Then, as shown in Fig. 3 (b), among the side chains 6 arranged in the direction parallel to the polarization direction of ultraviolet rays, the photosensitive group of the side chain 6a having a photosensitive group preferentially undergoes a photoreaction such as a light- Cause. As a result, the density of the side chain 6a that has undergone the photoreaction slightly increases in the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray, and consequently very small anisotropy is imparted to the coating film 5.

본 실시의 제 2 형태에서, 상기 서술한 식 (19) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 도포막을 사용하여,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 이 등방성의 도포막 (7) 에 대해, 편광된 자외선을 조사한다. 그러면, 도 4(b) 에 나타내는 바와 같이, 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 배열되는 측사슬 (8) 중 감광성기를 갖는 측사슬 (8a) 의 감광성기가 우선적으로 광 프리스 전위 등의 광 반응을 일으킨다. 그 결과, 광 반응을 한 측사슬 (8a) 의 밀도가 조사 자외선의 편광 방향에서 높아지고, 결과적으로 도포막 (7) 에 작은 이방성이 부여된다.In the second embodiment, a coating film using a side-chain type polymer having a structure having a light-free stress period represented by the above-described formula (19) is used, and the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] Polarized ultraviolet rays are irradiated to the isotropic coating film 7 in the range of 1% to 70% of the ultraviolet ray irradiation amount. Then, as shown in Fig. 4 (b), the photosensitive group of the side chain 8a having the photosensitive group among the side chains 8 arranged in the direction parallel to the polarization direction of the ultraviolet ray preferentially reacts with light such as the light- Cause. As a result, the density of the side chain 8a that has undergone the photoreaction becomes higher in the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray, and consequently, the coating film 7 is given a small anisotropy.

이어서, 본 실시의 제 1 형태에서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 15 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 편광 조사 후의 도포막 (1) 을 가열하여, 액정 상태로 한다. 그러면 도 1(c) 에 나타내는 바와 같이, 도포막 (1) 에서는, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향과 수직인 방향의 사이에서, 생긴 가교 반응의 양이 상이하다. 이 경우, 조사 자외선의 편광 방향과 평행 방향으로 생긴 가교 반응의 양이 매우 작기 때문에, 이 가교 반응 부위는 가소제로서의 기능을 한다. 그 때문에, 조사 자외선의 편광 방향과 수직 방향의 액정성이 평행 방향의 액정성보다 높아져, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 자기 조직화하여 메소겐 성분을 함유하는 측사슬 (2) 이 재배향된다. 그 결과, 광 가교 반응에서 야기된 도포막 (1) 의 매우 작은 이방성은 열에 의해 증폭되어, 도포막 (1) 에 있어서 보다 큰 이방성이 부여되게 된다.Next, in the first embodiment, in the case where the amount of ultraviolet irradiation in the step [II] is within the range of 1% to 15% of the amount of ultraviolet irradiation that maximizes DELTA A, the coated film 1 after the irradiation of polarized light is heated, Liquid crystal state. Then, as shown in Fig. 1 (c), in the coating film 1, the amount of the crosslinking reaction generated between the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray and the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiation ultraviolet ray differs. In this case, since the amount of the crosslinking reaction occurring in the direction parallel to the polarization direction of the irradiating ultraviolet ray is very small, the crosslinking reaction site functions as a plasticizer. Therefore, the liquid crystal property in the direction parallel to the polarization direction of the irradiating ultraviolet ray becomes higher than the liquid crystalline property in the parallel direction, and the side chains 2 containing the mesogen component are self-organized in the direction parallel to the polarization direction of the irradiating ultraviolet rays, do. As a result, the extremely small anisotropy of the coating film 1 caused by the photo-crosslinking reaction is amplified by the heat, and a greater anisotropy is imparted to the coating film 1.

마찬가지로, 본 실시의 제 1 형태에서,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 15 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 편광 조사 후의 도포막 (3) 을 가열하여, 액정 상태로 한다. 그러면 도 2(c) 에 나타내는 바와 같이, 측사슬형 고분자막 (3) 에서는, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향과 수직인 방향의 사이에서, 생긴 가교 반응의 양이 상이하다. 그 때문에, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 자기 조직화하여 메소겐 성분을 함유하는 측사슬 (4) 이 재배향된다. 그 결과, 광 가교 반응에서 야기된 도포막 (3) 의 작은 이방성은 열에 의해 증폭되어, 도포막 (3) 에 있어서 보다 큰 이방성이 부여되게 된다.Likewise, in the first embodiment, in the case where the ultraviolet irradiation amount in the step [II] is within the range of 15% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes? A, the coated film 3 after the polarized light irradiation is heated, Liquid crystal state. Then, as shown in Fig. 2 (c), in the side-chain polymer film 3, the amount of the cross-linking reaction occurring between the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray and the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiation ultraviolet ray differs. Therefore, the side chains 4 containing the mesogen component are self-organized in a direction parallel to the polarization direction of the irradiating ultraviolet rays and are rearranged. As a result, the small anisotropy of the coating film 3 caused by the photo-crosslinking reaction is amplified by the heat, and the coating film 3 is given greater anisotropy.

마찬가지로, 본 실시의 제 2 형태에서, 광 이성화성기나, 상기 서술한 식 (18) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 도포막을 사용하여,[II]공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 편광 조사 후의 도포막 (5) 을 가열하여, 액정 상태로 한다. 그러면 도 3(c) 에 나타내는 바와 같이, 도포막 (5) 에서는, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향과 수직인 방향의 사이에서, 생긴 광 프리스 전위 반응의 양이 상이하다. 이 경우, 조사 자외선의 편광 방향과 수직 방향으로 생긴 광 프리스 전위체의 액정 배향력이 반응 전의 측사슬의 액정 배향력보다 강하기 때문에, 조사 자외선의 편광 방향과 수직인 방향으로 자기 조직화하여 메소겐 성분을 함유하는 측사슬 (6) 이 재배향된다. 그 결과, 광 프리스 전위 반응에서 야기된 도포막 (5) 의 매우 작은 이방성은 열에 의해 증폭되어, 도포막 (5) 에 있어서 보다 큰 이방성이 부여되게 된다.Likewise, in the second embodiment, by using a coating film using a photo-isomerizable group or a side chain-type polymer having a structure represented by the above-mentioned formula (18) and having a light-free stress period, When the irradiation amount is within the range of 1% to 70% of the ultraviolet irradiation amount that maximizes DELTA A, the coated film 5 after the irradiation of polarized light is heated to the liquid crystal state. Then, as shown in Fig. 3 (c), in the coating film 5, the amount of the light-free potential reaction generated is different between the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray and the direction perpendicular to the polarization direction. In this case, since the liquid crystal aligning force of the light-free electric potential body formed in the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiating ultraviolet ray is stronger than the liquid crystal aligning force of the side chain before the reaction, it self-aligns in the direction perpendicular to the polarization direction of the irradiating ultraviolet ray, Is rearranged. As a result, the very small anisotropy of the coating film 5 caused by the light-free-potential reaction is amplified by the heat, and a greater anisotropy is imparted to the coating film 5.

마찬가지로, 본 실시의 제 2 형태에서, 상기 서술한 식 (19) 로 나타내는, 광 프리스 전위기를 갖는 구조의 측사슬형 고분자를 사용한 도포막을 사용하여, [II] 공정의 자외선 조사량이 ΔA 를 최대로 하는 자외선 조사량의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내인 경우에 있어서, 편광 조사 후의 도포막 (7) 을 가열하여, 액정 상태로 한다. 그러면 도 4(c) 에 나타내는 바와 같이, 측사슬형 고분자막 (7) 에서는, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향과 수직인 방향의 사이에서, 생긴 광 프리스 전위 반응의 양이 상이하다. 광 프리스 전위체 (8(a)) 의 앵커링 힘은 전위 전의 측사슬 (8) 보다 강하기 때문에, 어느 일정량 이상의 광 프리스 전위체가 생기면, 조사 자외선의 편광 방향과 평행한 방향으로 자기 조직화하여 메소겐 성분을 함유하는 측사슬 (8) 이 재배향된다. 그 결과, 광 프리스 전위 반응에서 야기된 도포막 (7) 의 작은 이방성은 열에 의해 증폭되어, 도포막 (7) 에 있어서 보다 큰 이방성이 부여되게 된다.Likewise, in the second embodiment, by using the coating film using the side-chain type polymer having a structure having the light-free stress period represented by the above-mentioned formula (19), the ultraviolet irradiation amount of the step [II] , The coating film 7 after the irradiation of polarized light is heated to a liquid crystal state. Then, as shown in Fig. 4 (c), in the side-chain polymer film 7, the amount of the light-free potential reaction generated is different between the direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet ray and the direction perpendicular to the polarization direction. Since the anchoring force of the light-free electric potential element 8 (a) is stronger than that of the side chain 8 before the electric potential, when a certain amount or more of the light-free electric potential elements is generated, the anisotropic magnetization is self-organized in a direction parallel to the polarization direction of the irradiated ultraviolet light, Is rearranged. As a result, the small anisotropy of the coating film 7 caused by the light-free-potential reaction is amplified by the heat, and a greater anisotropy is imparted to the coating film 7.

따라서, 본 발명의 방법에 사용하는 도포막은, 도포막에 대한 편광된 자외선의 조사와 가열 처리를 순차 실시함으로써, 고효율로 이방성이 도입되어, 배향 제어능이 우수한 액정 배향막으로 할 수 있다.Therefore, the coating film used in the method of the present invention can be made into a liquid crystal alignment film having high orientation anisotropy introduced with high efficiency, by sequentially irradiating the coating film with polarized ultraviolet light and heat treatment.

그리고, 본 발명의 방법에 사용하는 도포막에서는, 도포막에 대한 편광된 자외선의 조사량과, 가열 처리에 있어서의 가열 온도를 최적화한다. 그것에 의해 고효율인, 도포막에 대한 이방성의 도입을 실현할 수 있다.In the coating film used in the method of the present invention, the irradiation amount of the polarized ultraviolet ray to the coating film and the heating temperature in the heating treatment are optimized. Thus, introduction of anisotropy into the coating film with high efficiency can be realized.

본 발명에 사용되는 도포막에 대한 고효율인 이방성의 도입에 최적인 편광 자외선의 조사량은 그 도포막에 있어서 감광성기가 광 가교 반응이나 광 이성화 반응, 혹은 광 프리스 전위 반응하는 양을 최적으로 하는 편광 자외선의 조사량에 대응한다. 본 발명에 사용되는 도포막에 대해 편광된 자외선을 조사한 결과, 광 가교 반응이나 광 이성화 반응, 혹은 광 프리스 전위 반응하는 측사슬의 감광성기가 적으면, 충분한 광 반응량이 되지 않는다. 그 경우, 그 후에 가열해도 충분한 자기 조직화는 진행되지 않는다. 한편, 본 발명에 사용되는 도포막에서, 광 가교성기를 갖는 구조에 대해 편광된 자외선을 조사한 결과, 가교 반응하는 측사슬의 감광성기가 과잉이 되면 측사슬간에서의 가교 반응이 너무 진행되게 된다. 그 경우, 얻어지는 막은 강직해지고, 그 후의 가열에 의한 자기 조직화의 진행의 방해가 되는 경우가 있다. 또, 본 발명에 사용되는 도포막에서, 광 프리스 전위기를 갖는 구조에 대해 편광된 자외선을 조사한 결과, 광 프리스 전위 반응하는 측사슬의 감광성기가 과잉이 되면, 도포막의 액정성이 너무 저하되게 된다. 그 경우, 얻어지는 막의 액정성도 저하되고, 그 후의 가열에 의한 자기 조직화의 진행의 방해가 되는 경우가 있다. 또한, 광 프리스 전위기를 갖는 구조에 대해 편광된 자외선을 조사하는 경우, 자외선의 조사량이 너무 많으면, 측사슬형 고분자가 광 분해되고, 그 후의 가열에 의한 자기 조직화의 진행의 방해가 되는 경우가 있다.The irradiation dose of the polarized ultraviolet ray which is most suitable for introducing the highly efficient anisotropy into the coating film used in the present invention is the polarizing ultraviolet ray which optimizes the amount of the photosensitive group to react with the light crosslinking reaction, the optical isomerization reaction, . &Lt; / RTI &gt; As a result of irradiating the coating film used in the present invention with polarized ultraviolet rays, a sufficient photoreaction amount can not be obtained if the number of photosensitive groups in the side chain to be subjected to a photo-crosslinking reaction, a photoisomerization reaction, or a light- In that case, sufficient self-organization does not proceed even after heating. On the other hand, in the coating film used in the present invention, the structure having a photocrosslinkable group is irradiated with polarized ultraviolet rays, and as a result, if the photosensitive group of the side chain to be crosslinked is excessive, the cross-linking reaction in the side chain becomes too much. In such a case, the obtained film becomes rigid, which may interfere with the progress of self-organization by the subsequent heating. In the coating film used in the present invention, the polarizing ultraviolet rays are irradiated to the structure having the light-free pressing phenomenon, and as a result, when the photosensitive group of the side chain reacting with the light-free potential is excessive, the liquid crystallinity of the coating film is excessively lowered . In such a case, the liquid crystallinity of the obtained film is also lowered, which may interfere with the progress of self-organization by the subsequent heating. Further, in the case of irradiating polarized ultraviolet rays to a structure having a light-free stress period, if the irradiation amount of ultraviolet light is too high, the side-chain type polymer is photodegraded and the subsequent self- have.

따라서, 본 발명에 사용되는 도포막에 있어서, 편광 자외선의 조사에 의해 측사슬의 감광성기가 광 가교 반응이나 광 이성화 반응, 혹은 광 프리스 전위 반응하는 최적인 양은 그 측사슬형 고분자막이 갖는 감광성기의 0.1 몰% ∼ 40 몰% 로 하는 것이 바람직하고, 0.1 몰% ∼ 20 몰% 로 하는 것이 보다 바람직하다. 광 반응하는 측사슬의 감광성기의 양을 이와 같은 범위로 함으로써, 그 후의 가열 처리에서의 자기 조직화가 효율적으로 진행되고, 막 중에서의 고효율인 이방성의 형성이 가능해진다.Therefore, in the coating film to be used in the present invention, the optimal amount of photo-crosslinking reaction, photoisomerization reaction, or light-free potential reaction of the photosensitive group of the side chain by irradiation with polarized ultraviolet light is preferably such that the photosensitive group of the side chain- Is preferably 0.1 mol% to 40 mol%, and more preferably 0.1 mol% to 20 mol%. By setting the amount of the photosensitive group of the photoreactive side chain within such a range, the self-organization in the subsequent heat treatment proceeds efficiently, and it becomes possible to form anisotropy with high efficiency in the film.

본 발명의 방법에 사용하는 도포막에서는, 편광된 자외선의 조사량의 최적화에 의해, 측사슬형 고분자막의 측사슬에 있어서의, 감광성기의 광 가교 반응이나 광 이성화 반응, 또는 광 프리스 전위 반응의 양을 최적화한다. 그리고, 그 후의 가열 처리와 아울러, 고효율인, 본 발명에 사용되는 도포막에 대한 이방성의 도입을 실현한다. 그 경우, 바람직한 편광 자외선의 양에 대해서는, 본 발명에 사용되는 도포막의 자외 흡수의 평가에 기초하여 실시하는 것이 가능하다.In the coating film used in the method of the present invention, by optimizing the amount of irradiation of the polarized ultraviolet ray, the amount of the photo-crosslinking reaction or the optical isomerization reaction or the optical free-potential reaction in the side chain of the side chain type polymer membrane . In addition to the subsequent heat treatment, introduction of anisotropy into the coating film used in the present invention, which is highly efficient, is realized. In this case, the preferable amount of the polarized ultraviolet ray can be carried out based on the evaluation of the ultraviolet absorption of the coating film used in the present invention.

즉, 본 발명에 사용되는 도포막에 대해, 편광 자외선 조사 후의, 편광된 자외선의 편광 방향과 평행한 방향의 자외선 흡수와, 수직인 방향의 자외선 흡수를 각각 측정한다. 자외 흡수의 측정 결과로부터, 그 도포막에 있어서의, 편광된 자외선의 편광 방향과 평행한 방향의 자외선 흡광도와 수직인 방향의 자외선 흡광도의 차인 ΔA 를 평가한다. 그리고, 본 발명에 사용되는 도포막에 있어서 실현되는 ΔA 의 최대치 (ΔAmax) 와 그것을 실현하는 편광 자외선의 조사량을 구한다. 본 발명의 제조 방법에서는, 이 ΔAmax 를 실현하는 편광 자외선 조사량을 기준으로 하여, 액정 배향막의 제조에 있어서 조사하는, 바람직한 양의 편광된 자외선량을 결정할 수 있다.That is, for the coating film used in the present invention, ultraviolet ray absorption in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet ray after irradiation with the polarized ultraviolet ray and ultraviolet ray absorption in the perpendicular direction are respectively measured. From the measurement result of ultraviolet absorption,? A which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet ray and the ultraviolet absorbance in the direction perpendicular to the polarized direction of the polarized ultraviolet ray is evaluated. Then, the maximum value DELTA Amax realized in the coating film used in the present invention and the irradiation amount of the polarized ultraviolet ray for realizing the maximum DELTA Amax are obtained. In the manufacturing method of the present invention, it is possible to determine the amount of polarized ultraviolet ray to be irradiated in the production of the liquid crystal alignment film on the basis of the polarized ultraviolet radiation amount for realizing the DELTA Amma.

본 발명의 제조 방법에서는, 본 발명에 사용되는 도포막에 대한 편광된 자외선의 조사량을, ΔAmax 를 실현하는 편광 자외선의 양의 1 % ∼ 70 % 의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 1 % ∼ 50 % 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 사용되는 도포막에 있어서, ΔAmax 를 실현하는 편광 자외선의 양의 1 % ∼ 50 % 의 범위 내의 편광 자외선의 조사량은, 그 측사슬형 고분자막이 갖는 감광성기 전체의 0.1 몰% ∼ 20 몰% 를 광 가교 반응시키는 편광 자외선의 양에 상당한다.In the production method of the present invention, the irradiation amount of the polarized ultraviolet ray to the coating film used in the present invention is preferably within a range of 1% to 70% of the amount of the polarized ultraviolet ray realizing DELTA Amma, preferably 1% to 50% And more preferably within the range of &lt; RTI ID = 0.0 &gt; In the coating film used in the present invention, the irradiation amount of the polarized ultraviolet ray within the range of 1% to 50% of the amount of the polarized ultraviolet ray realizing DELTA Amma is preferably 0.1 mol% to 20 mol% % To the amount of polarized ultraviolet rays subjected to photo-crosslinking reaction.

이상으로부터, 본 발명의 제조 방법에서는, 도포막에 대한 고효율인 이방성의 도입을 실현하기 위해, 그 측사슬형 고분자의 액정 온도 범위를 기준으로 하여, 상기 서술한 바와 같은 바람직한 가열 온도를 정하는 것이 좋다. 따라서, 예를 들어, 본 발명에 사용되는 측사슬형 고분자의 액정 온도 범위가 100 ℃ ∼ 200 ℃ 인 경우, 편광 자외선 조사 후의 가열 온도를 90 ℃ ∼ 190 ℃ 로 하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 본 발명에 사용되는 도포막에 있어서, 보다 큰 이방성이 부여되게 된다.From the above, in the production method of the present invention, in order to realize introduction of highly efficient anisotropy into the coating film, it is preferable to set the preferable heating temperature as described above based on the liquid crystal temperature range of the side chain type polymer . Therefore, for example, in the case where the liquid crystal temperature range of the side chain type polymer used in the present invention is 100 ° C to 200 ° C, it is preferable to set the heating temperature after irradiation with the polarized ultraviolet ray to 90 ° C to 190 ° C. By doing so, a greater anisotropy is imparted to the coating film used in the present invention.

이렇게 함으로써, 본 발명에 의해 제공되는 액정 표시 소자는 광이나 열 등의 외부 스트레스에 대해 높은 신뢰성을 나타내게 된다.By doing so, the liquid crystal display element provided by the present invention exhibits high reliability against external stress such as light or heat.

이상과 같이 하여, 본 발명의 방법에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 기판 또는 그 기판을 갖는 횡전계 구동형 액정 표시 소자는 신뢰성이 우수한 것이 되고, 대화면으로 고정밀한 액정 텔레비젼 등에 바람직하게 이용할 수 있다.As described above, the transverse electric field driving type liquid crystal display element manufactured by the method of the present invention or the transverse electric field driving type liquid crystal display element having the substrate is excellent in reliability and is preferably used for a liquid crystal television Can be used.

실시예Example

실시예에서 사용하는 약호는 이하와 같다.The abbreviations used in the examples are as follows.

<메타크릴 모노머>&Lt; Methacrylate monomer &gt;

[화학식 36](36)

Figure pct00036
Figure pct00036

MA1 은 특허문헌 (WO2011-084546) 에 기재된 합성법으로 합성했다.MA1 was synthesized by the synthetic method described in the patent document (WO2011-084546).

MA2 는 특허문헌 (일본 공개특허공보 평9-118717) 에 기재된 합성법으로 합성했다.MA2 was synthesized by the synthetic method described in the patent document (Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-118717).

<테트라카르복실산 2 무수물>&Lt; Tetracarboxylic acid dianhydride &gt;

CBDA : 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 2 무수물 CBDA: 1,2,3,4-Cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride

PMDA : 피로멜리트산 2 무수물 PMDA: pyromellitic acid dianhydride

BODA : 비시클로[3.3.0]옥탄-2,4,6,8-테트라카르복실산 2 무수물BODA: bicyclo [3.3.0] octane-2,4,6,8-tetracarboxylic acid dianhydride

<디아민><Diamine>

DDE : 4,4'-디아미노디페닐에테르 DDE: 4,4'-diaminodiphenyl ether

DDM : 4,4'-디아미노디페닐메탄 DDM: 4,4'-diaminodiphenylmethane

DA-3MG : 1,3-비스(4-아미노페닐옥시)프로판DA-3MG: 1,3-bis (4-aminophenyloxy) propane

<유기 용매><Organic solvent>

THF : 테트라하이드로푸란 THF: tetrahydrofuran

NMP : N-메틸-2-피롤리돈 NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

BC : 부틸셀로솔브 BC: butyl cellosolve

CH2Cl2 : 디클로로메탄CH 2 Cl 2 : Dichloromethane

<중합 개시제><Polymerization Initiator>

AIBN : 2,2'-아조비스이소부티로니트릴AIBN: 2,2'-azobisisobutyronitrile

[폴리아믹산 및 폴리이미드의 합성예][Synthesis examples of polyamic acid and polyimide]

<합성예 1 : 폴리아믹산>&Lt; Synthesis Example 1: Polyamic acid &gt;

MA1 (9.97 g, 30.0 mmol) 을 THF (92.0 g) 중에 용해하고, 다이아프램 펌프로 탈기를 실시한 후, AIBN (0.246 g, 1.5 mmol) 을 첨가하고 다시 탈기를 실시했다. 이 후 50 ℃ 에서 30 시간 반응시켜 메타크릴레이트의 폴리머 용액을 얻었다. 이 폴리머 용액을 디에틸에테르 (1000 ㎖) 에 적하하고, 얻어진 침전물을 여과했다. 이 침전물을 디에틸에테르로 세정하고, 40 ℃ 의 오븐 중에서 감압 건조시켜 메타크릴레이트 폴리머 분말을 얻었다.MA1 (9.97 g, 30.0 mmol) was dissolved in THF (92.0 g) and deaerated by a diaphragm pump. AIBN (0.246 g, 1.5 mmol) was then added and degassed again. Thereafter, the reaction was carried out at 50 DEG C for 30 hours to obtain a polymer solution of methacrylate. This polymer solution was added dropwise to diethyl ether (1000 ml), and the resulting precipitate was filtered. The precipitate was washed with diethyl ether and dried under reduced pressure in an oven at 40 ° C to obtain a methacrylate polymer powder.

얻어진 분말 6.0 g 에 NMP 54.0 g 을 첨가하여, 실온에서 3 시간 교반했다. 고형분 농도가 10.0 wt%, 의 메타크릴레이트 폴리머 용액 (M1) 을 얻었다. 교반 종료 시점에서 폴리머는 완전히 용해되어 있었다.To 6.0 g of the obtained powder was added 54.0 g of NMP and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. To obtain a methacrylate polymer solution (M1) having a solid concentration of 10.0 wt%. At the end of the stirring, the polymer was completely dissolved.

<합성예 2 : 폴리아믹산>&Lt; Synthesis Example 2: Polyamic acid &gt;

상기 합성예 1 과 동일한 방법을 이용하여 MA1 (1.99 g, 6.0 mmol) 과 MA2 (7.35 g, 24.0 mmol) 를 AIBN (0.14 g), THF (85.45 g) 로, 합성예 2 의 메타크릴레이트의 폴리머 용액 (M2) 를 얻었다.MA1 (1.99 g, 6.0 mmol) and MA2 (7.35 g, 24.0 mmol) were treated with AIBN (0.14 g) and THF (85.45 g) in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain a polymer of methacrylate To obtain a solution M2.

<합성예 3 : 폴리아믹산>&Lt; Synthesis Example 3: Polyamic acid &gt;

테트라카르복실산 2 무수물 성분으로서, CBDA 를 1.82 g, 디아민 성분으로서, DDE 를 2.00 g 을 사용하고, NMP 34.43 g 중, 실온에서 18 시간 반응시켜 폴리아믹산 (PAA-1) 의 농도 10 wt% 의 용액을 얻었다.(PAA-1) concentration of 10 wt% was obtained by reacting 1.82 g of CBDA as a tetracarboxylic acid dianhydride component and 2.00 g of DDE as a diamine component in 34.43 g of NMP at room temperature for 18 hours. Solution.

<합성예 4 ∼ 7 : 폴리아믹산>&Lt; Synthesis Examples 4 to 7: Polyamic acid &gt;

하기 표 1 에 나타내는 조성으로, 상기 폴리아믹산의 합성예 3 과 동일한 방법을 이용하여 합성예 4 ∼ 7 의 폴리아믹산 용액을 합성했다.The polyamic acid solutions of Synthesis Examples 4 to 7 were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 3 of the polyamic acid in the composition shown in Table 1 below.

Figure pct00037
Figure pct00037

<합성예 8 : 폴리이미드>&Lt; Synthesis Example 8: Polyimide &gt;

합성예 5 에서 얻어진 폴리아믹산 용액 (PAA-3) 10.0 g 에, NMP 를 6.7 g 첨가하여 희석하고, 농도 6 wt% 의 폴리아믹산 용액을 조제했다. 이 폴리아믹산 용액에 무수 아세트산 2.2 g 과 피리딘 1.0 g 을 첨가하고, 50 ℃ 에서 3 시간 반응시켜 이미드화했다. 얻어진 폴리이미드 용액을 실온 정도까지 냉각 후, 메탄올 70 g 중에 투입하고, 침전된 고형물을 회수했다. 또한, 이 고형물을 메탄올로 2 회 세정한 후, 100 ℃ 에서 감압 건조시켜, 폴리이미드의 황토색 분말을 얻었다. 얻어진 분말 3.0 g 을 NMP 27.0 g 실온에서 3 시간 교반했다. 고형분 농도가 10.0 wt% 인 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 얻었다. 교반 종료 시점에서 폴리머는 완전히 용해되어 있었다.To 10.0 g of the polyamic acid solution (PAA-3) obtained in Synthesis Example 5, 6.7 g of NMP was added and diluted to prepare a polyamic acid solution having a concentration of 6 wt%. 2.2 g of acetic anhydride and 1.0 g of pyridine were added to the polyamic acid solution, and the mixture was allowed to react at 50 캜 for 3 hours to imidate. The obtained polyimide solution was cooled to room temperature, and then charged into 70 g of methanol, and the precipitated solid matter was recovered. Further, this solid was washed twice with methanol, and then dried under reduced pressure at 100 占 폚 to obtain a polyimide earth-yellow powder. 3.0 g of the obtained powder was stirred with NMP 27.0 g at room temperature for 3 hours. A polyimide solution (SPI-1) having a solid concentration of 10.0 wt% was obtained. At the end of the stirring, the polymer was completely dissolved.

(실시예 1)(Example 1)

상기 합성예 1 에서 얻어진 메타크릴산 폴리머 (M1) 1.2 g 에, 폴리아믹산 용액 (PAA-1) 을 4.8 g 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 또한 이 용액에 BCS 4.0 g 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여, 고형분 농도가 6.0 wt% 인 폴리머 용액 (A1) 을 얻었다. 이 폴리머 용액은, 그대로 액정 배향막을 형성하기 위한 액정 배향제가 된다.4.8 g of a polyamic acid solution (PAA-1) was added to 1.2 g of the methacrylic acid polymer (M1) obtained in Synthesis Example 1, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 4.0 g of BCS was added to this solution, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour to obtain a polymer solution (A1) having a solid concentration of 6.0 wt%. This polymer solution is directly used as a liquid crystal aligning agent for forming a liquid crystal alignment film.

(실시예 2 ∼ 8, 비교예 1 ∼ 2)(Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 and 2)

하기 표 2 에 나타내는 조성으로, 실시예 1 과 동일한 방법을 이용하여 실시예 2 ∼ 10 의 폴리머 용액을 얻었다. 또 비교예 1 ∼ 2 도 동일한 방법으로 조정했다.The polymer solutions of Examples 2 to 10 were obtained in the same manner as in Example 1, with the compositions shown in Table 2 below. Also, Comparative Examples 1 and 2 were adjusted in the same manner.

Figure pct00038
Figure pct00038

[액정 셀의 제작][Production of liquid crystal cell]

실시예 1 얻어진 액정 배향제 (A1) 을 사용하여 하기에 나타내는 바와 같은 순서로 액정 셀의 제작을 실시했다. 기판은, 30 mm × 40 mm 의 크기로, 두께가 0.7 mm 의 유리 기판이며, ITO 막을 패터닝하여 형성된 빗살 모양의 화소 전극이 배치된 것을 사용했다. 화소 전극은, 중앙 부분이 굴곡한 く 자 형상의 전극 요소를 복수 배열하여 구성된 빗살 모양의 형상을 갖는다. 각 전극 요소의 짧은 방향의 폭은 10 ㎛ 이며, 전극 요소간의 간격은 20 ㎛ 였다. 각 화소를 형성하는 화소 전극이, 중앙 부분이 굴곡한 く 자 형상의 전극 요소를 복수 배열하여 구성되어 있기 때문에, 각 화소의 형상은 장방 형상이 아니고, 전극 요소와 마찬가지로 중앙 부분에서 굴곡하는, 굵은 글씨의 く 자를 닮은 형상을 구비하고 있었다. 그리고, 각 화소는, 그 중앙의 굴곡 부분을 경계로 하여 상하로 분할되어, 굴곡 부분의 상측의 제 1 영역과 하측의 제 2 영역을 가졌다. 각 화소의 제 1 영역과 제 2 영역을 비교하면, 그것들을 구성하는 화소 전극의 전극 요소의 형성 방향이 상이한 것으로 되어 있었다. 즉, 후술하는 액정 배향막의 배향 처리 방향을 기준으로 한 경우, 화소의 제 1 영역에서는 화소 전극의 전극 요소가 +15 °의 각도 (시계 방향) 를 이루도록 형성되고, 화소의 제 2 영역에서는 화소 전극의 전극 요소가 -15 °의 각도 (시계 방향) 를 이루도록 형성되어 있었다. 즉, 각 화소의 제 1 영역과 제 2 영역에서는, 화소 전극과 대향 전극의 사이의 전압 인가에 의해 야기되는 액정의, 기판면 내에서의 회전 동작 (인플레인·스위칭) 의 방향이 서로 역방향이 되도록 구성되어 있었다.Example 1 Using the obtained liquid crystal aligning agent (A1), a liquid crystal cell was produced in the following order. The substrate was a glass substrate having a size of 30 mm x 40 mm and a thickness of 0.7 mm, and a comb-like pixel electrode formed by patterning an ITO film was disposed. The pixel electrode has a comb-like shape formed by arranging a plurality of elongated electrode elements having a bent central portion. The width of each electrode element in the short direction was 10 占 퐉, and the interval between the electrode elements was 20 占 퐉. Since the pixel electrode forming each pixel is constituted by arranging a plurality of electrode elements bent in a central portion in the shape of a letter, the shape of each pixel is not rectangular, It had a shape resembling the character of the letter. Each pixel is divided into upper and lower portions with the central bent portion as a boundary, and has a first region on the upper side of the bent portion and a second region on the lower side. When the first region and the second region of each pixel are compared with each other, the electrode elements of the pixel electrodes constituting the first region and the second region are formed in different directions. That is, in the first region of the pixel, the electrode element of the pixel electrode is formed so as to form an angle of +15 degrees (clockwise direction) in the direction of alignment of the liquid crystal alignment film, And the electrode elements were formed so as to form an angle of -15 DEG (clockwise direction). That is, in the first region and the second region of each pixel, the directions of rotation (inflation / switching) of the liquid crystal caused by the application of the voltage between the pixel electrode and the counter electrode are opposite to each other .

합성예 1 에서 얻어진 액정 배향제 (A1) 을, 준비된 상기 전극이 형성된 기판에 스핀 코트했다. 이어서, 70 ℃ 의 핫 플레이트로 90 초간 건조시키고, 막두께 100 nm 의 액정 배향막을 형성했다. 이어서, 도막면에 편광판을 개재하여 313 nm 의 자외선을 1 mJ/㎠ 조사한 후에 150 ℃ 의 핫 플레이트로 10 분간 가열하고 (1 차 소성), 실온까지 제랭(除冷)한 기판을 재차 150 ℃ 의 핫 플레이트로 10 분간 가열 (2 차 소성) 함으로써 액정 배향막이 형성된 기판을 얻었다. 동일하게 하여, 자외선의 조사량이, 1 mJ/㎠ ∼ 10 mJ/㎠ 에서는 1 mJ/㎠ 간격으로, 10 mJ/㎠ ∼ 100 mJ/㎠ 에서는 10 mJ/㎠ 간격으로, 100 mJ/㎠ 이상에서는 50 mJ/㎠ 간격으로, 각각 상이한 기판을 제조했다. 또, 대향 기판으로서 전극이 형성되어 있지 않은 높이 4 ㎛ 의 기둥형 스페이서를 갖는 유리 기판에도, 동일하게 도막을 형성시켜, 배향 처리를 실시했다. 일방의 기판의 액정 배향막 상에 시일제 (쿄리츠 화학 제조 XN-1500T) 를 인쇄했다. 이어서, 다른 일방의 기판을, 액정 배향막면이 마주 보아 배향 방향이 0 °가 되도록 하여 접착시킨 후, 시일제를 열 경화시켜 빈 셀을 제작했다. 이 빈 셀에 감압 주입법에 의해, 액정 MLC-2041 (머크 주식회사 제조) 을 주입하고, 주입구를 봉지하여, IPS (In-Planes Switching) 모드 액정 표시 소자의 구성을 구비한 액정 셀을 얻었다.The liquid crystal aligning agent (A1) obtained in Synthesis Example 1 was spin-coated on the prepared substrate on which the electrode was formed. Subsequently, the substrate was dried with a hot plate at 70 DEG C for 90 seconds to form a liquid crystal alignment film having a thickness of 100 nm. Subsequently, the coated film was irradiated with 1 mJ / cm 2 of 313 nm ultraviolet rays through a polarizing plate, and then heated on a hot plate at 150 ° C for 10 minutes (first sintering), and the substrate cooled to room temperature was heated again at 150 ° C And then heated with a hot plate for 10 minutes (secondary baking) to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film formed thereon. In the same manner, the irradiation amount of ultraviolet rays is set to 10 mJ / cm 2 at an interval of 1 mJ / cm 2 for 10 mJ / cm 2 to 10 mJ / cm 2, to 10 mJ / cm 2 for 10 mJ / mJ / cm &lt; 2 &gt;, respectively. A coating film was similarly formed on a glass substrate having a columnar spacer having a height of 4 占 퐉, on which no electrode was formed as a counter substrate, and the alignment treatment was carried out. A sealant (XN-1500T manufactured by Kyoritsu Chemical Co., Ltd.) was printed on the liquid crystal alignment film of one of the substrates. Subsequently, another substrate was adhered to the liquid crystal alignment film so that the alignment direction thereof was 0 deg., And the sealant was thermally cured to prepare empty cells. Liquid crystal MLC-2041 (manufactured by Merck Co., Ltd.) was injected into this empty cell by a vacuum injection method and the injection port was sealed to obtain a liquid crystal cell having a configuration of an IPS (In-Planes Switching) mode liquid crystal display element.

실시예 2 ∼ 9 에서 얻어진 액정 배향제 (A2 ∼ A9) 에 관해서도, A1 과 동일한 방법을 이용하여 액정 셀을 제조했다.The liquid crystal aligning agents (A2 to A9) obtained in Examples 2 to 9 were also manufactured by the same method as in A1.

(배향성 관찰)(Observation of Orientation)

상기의 방법으로 액정 셀을 제작했다. 그 후, 120 ℃ 의 오븐으로 60 분간 재배향 처리를 실시했다. 그 후, 편광판을 크로스 니콜 상태로 한 편광 현미경을 통하여 관찰했다. 액정 셀을 회전하여 흑 표시 상태로 했을 때에 휘점이나 배향 불량이 없는 상태를 양호로 했다. 자외선의 조사량이, 상기와 같이 각각 상이한 기판에 대해 배향성을 관찰한 결과, 배향성 양호한 조사량 마진에 대해 표 3 에 나타낸다.A liquid crystal cell was produced by the above-mentioned method. Thereafter, a re-aroma treatment was performed in an oven at 120 캜 for 60 minutes. Thereafter, the polarizing plate was observed through a polarizing microscope in a cross-Nicol state. When the liquid crystal cell was rotated and turned to the black display state, a state in which there was no luminescent spot or orientation defect was made good. The irradiated amount of ultraviolet rays was observed on the substrates different from each other as described above, and the results are shown in Table 3 for a good irradiation dose margin with good orientation.

(전압 유지율 (VHR) 평가)(Evaluation of voltage holding ratio (VHR)) [

VHR 의 평가는, 얻어진 액정 셀에, 70 ℃ 의 온도하에서 5 V 의 전압을 60 ㎲ 간 인가하고, 1667 ms 후의 전압을 측정하여, 전압이 어느 정도 유지되어 있는지를 전압 유지율로서 계산했다.The evaluation of the VHR was carried out by applying a voltage of 5 V for 60 seconds at a temperature of 70 占 폚 to the obtained liquid crystal cell, measuring the voltage after 1667 ms and calculating the voltage holding ratio.

또한, 전압 유지율의 측정에는, 토요 테크니카사 제조의 전압 유지율 측정 장치 VHR-1 을 사용했다.For the measurement of the voltage holding ratio, a voltage holding ratio measuring device VHR-1 manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. was used.

비교예 1 에서 얻어진 액정 배향제 (B1) 및 비교예 2 에서 얻어진 액정 배향제 (B2) 를 사용하여, 상기 서술한 액정 배향제 (A1) 을 사용한 경우와 동일하게 액정 셀의 제조를 실시하고, 동일한 방법으로, VHR 을 평가했다.The liquid crystal cell was produced in the same manner as in the case of using the above liquid crystal aligning agent (A1) by using the liquid crystal aligning agent (B1) obtained in Comparative Example 1 and the liquid crystal aligning agent (B2) obtained in Comparative Example 2, In the same way, the VHR was evaluated.

결과는 하기 표 3 에 나타내는 바와 같았다.The results are shown in Table 3 below.

Figure pct00039
Figure pct00039

표 3 에 나타내고 있는 바와 같이, 본 발명에 따르는 실시예 1 ∼ 5 는, (A) 성분이 공통이고, (B) 성분을 함유하지 않는 비교예 1 에 비해, 조사량 영역 (조사 마진) 이 넓어져 있어, 보다 넓은 조사 영역에서 원하는 효과를 발휘할 수 있는 것이 판명되었다. 실시예 6 ∼ 10 과 비교예 2 의 비교에 있어서도, 동일한 것을 말할 수 있는 것이 판명되었다.As shown in Table 3, in Examples 1 to 5 according to the present invention, the irradiation dose region (irradiation margin) was widened as compared with Comparative Example 1 in which component (A) was common and component (B) And it was found that a desired effect can be exerted in a wider irradiation area. In the comparison between Examples 6 to 10 and Comparative Example 2, it was found that the same can be said.

도 1
1 : 측사슬형 고분자막
2, 2a : 측사슬
도 2
3 : 측사슬형 고분자막
4, 4a : 측사슬
도 3
5 : 측사슬형 고분자막
6, 6a : 측사슬
도 4
7 : 측사슬형 고분자막
8, 8a : 측사슬
1
1: Side chain type polymer membrane
2, 2a: side chain
2
3: Side chain type polymer membrane
4, 4a: Side chain
3
5: Side chain type polymer membrane
6, 6a: Side chain
4
7: Side chain type polymer membrane
8, 8a: Side chain

Claims (17)

(A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자,
(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및
(C) 유기 용매
를 함유하는 중합체 조성물.
(A) a photosensitive side chain type polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,
(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and
(C) an organic solvent
&Lt; / RTI &gt;
제 1 항에 있어서,
(A) 성분이, 광 가교, 광 이성화, 또는 광 프리스 전이를 일으키는 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
The method according to claim 1,
(A) has a photosensitive side chain that causes photo-crosslinking, photoisomerization, or light-free transition.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(B) 성분의 폴리이미드의 전구체가, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것인 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the polyimide precursor of component (B) is obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (1) ∼ (6)
(식 중, A, B, D 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
S 는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ;
T 는 단결합 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬렌기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 할로겐기로 치환되어 있어도 된다 ;
Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
Y2 는 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
R 은 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타내거나, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타낸다 ;
X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ;
Cou 는 쿠마린-6-일기 또는 쿠마린-7-일기를 나타내고, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
q1 과 q2 는 일방이 1 이고 타방이 0 이다 ;
q3 은 0 또는 1 이다 ;
P 및 Q 는 각각 독립적으로 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이다 ; 단, X 가 -CH=CH-CO-O-, -O-CO-CH=CH- 인 경우, -CH=CH- 가 결합하는 측의 P 또는 Q 는 방향 고리이며, P 의 수가 2 이상이 될 때는, P 끼리는 동일하거나 상이해도 되고, Q 의 수가 2 이상이 될 때는, Q 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ;
l1 은 0 또는 1 이다 ;
l2 는 0 ∼ 2 의 정수이다 ;
l1 과 l2 가 모두 0 일 때는, T 가 단결합일 때는 A 도 단결합을 나타낸다 ;
l1 이 1 일 때는, T 가 단결합일 때는 B 도 단결합을 나타낸다 ;
H 및 I 는 각각 독립적으로 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 및 그들의 조합에서 선택되는 기이다.)
으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 1]
Figure pct00040
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A) is represented by the following formulas (1) to (6)
(Wherein, A, B, D represents a single bond, -O-, -CH 2 each independently -, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO- O-, or -O-CO-CH = CH-;
S is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;
T is a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to them may be substituted with a halogen group;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
Y 2 is a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each independently may be substituted with -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or has the same definition as Y 1 ;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;
Cou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH- Group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
q1 and q2 are 1 in one and 0 in the other;
q3 is 0 or 1;
P and Q are each independently a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof; Is -CH = CH-CO-O- or -O-CO-CH = CH-, P or Q on the side bonded to -CH = CH- is an aromatic ring. When the number of P is 2 or more, P may be the same or different, and when Q is 2 or more, Qs may be the same or different;
l1 is 0 or 1;
l2 is an integer of 0 to 2;
When l1 and l2 are both 0, when T is a single bond, A also represents a single bond;
When l1 is 1, B is also a single bond when T is a single bond;
H and I are each independently a group selected from divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, and combinations thereof.
Wherein the photosensitive side chain is selected from the group consisting of the following.
[Chemical Formula 1]
Figure pct00040
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (7) ∼ (10)
(식 중, A, B, D 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타낸다 ;
m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, m1, m2 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ;
n 은 0 ∼ 12 의 정수 (단 n = 0 일 때 B 는 단결합이다) 를 나타낸다 ;
Y2 는 2 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
R 은 하이드록시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타내거나, 또는 Y1 과 동일한 정의를 나타낸다)
으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 2]
Figure pct00041
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A) is represented by the following formulas (7) to (10)
(Wherein, A, B, D represents a single bond, -O-, -CH 2 each independently -, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO- O-, or -O-CO-CH = CH-;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;
l represents an integer of 1 to 12;
m represents an integer of 0 to 2, m1 and m2 represent an integer of 1 to 3;
n is an integer of 0 to 12 (provided that when n = 0, B is a single bond);
Y 2 is a group selected from the group consisting of divalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings, alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each independently may be substituted with -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R represents a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or represents the same definition as Y 1 )
Wherein the photosensitive side chain is selected from the group consisting of the following.
(2)
Figure pct00041
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (11) ∼ (13)
(식 중, A 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고, m1 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ;
R 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 되거나, 또는 하이드록시기 혹은 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기를 나타낸다)
으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 3]
Figure pct00042
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A) is represented by the following formulas (11) to (13)
(Wherein, A is each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO- , -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-O-, or -O-CO-CH = CH-;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;
l represents an integer of 1 to 12, m represents an integer of 0 to 2, and m1 represents an integer of 1 to 3;
R represents a ring selected from monovalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, pyrrole rings and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, or the same or different rings of 2 to 6 selected from the substituents thereof And a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , -CN , the -CH = C (CN) 2, -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or alkyl having 1 to 5 carbon atoms or may be substituted with an oxy, or hydroxy, or 1 to 6 carbon atoms in the Alkoxy group)
Wherein the photosensitive side chain is selected from the group consisting of the following.
(3)
Figure pct00042
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (14) 또는 (15)
(식 중, A 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m1, m2 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다) 로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 4]
Figure pct00043
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A) is a compound represented by the following formula (14) or (15)
(Wherein, A is each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO- , -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-O-, or -O-CO-CH = CH-;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
1 represents an integer of 1 to 12, and m1 and m2 represent an integer of 1 to 3).
[Chemical Formula 4]
Figure pct00043
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (16) 또는 (17)
(식 중, A 는 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다)
로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 5]
Figure pct00044
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A) is a compound represented by the following formula (16) or (17)
(Wherein A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO- CO-CH = CH-;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;
l represents an integer of 1 to 12, and m represents an integer of 0 to 2)
&Lt; / RTI &gt;
[Chemical Formula 5]
Figure pct00044
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (18) 또는 (19)
(식 중, A, B 는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
q1 과 q2 는 일방이 1 이고 타방이 0 이다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m1, m2 는 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ;
R1 은 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기를 나타낸다) 로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 6]
Figure pct00045
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
(A) is a compound represented by the following formula (18) or (19)
(Wherein, A, B are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO- , -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH-CO-O- , Or -O-CO-CH = CH-;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
q1 and q2 are 1 in one and 0 in the other;
l represents an integer of 1 to 12, and m1 and m2 represent an integer of 1 to 3;
R 1 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms. Wherein the photosensitive side chain is selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid.
[Chemical Formula 6]
Figure pct00045
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (20) (식 중, A 는 단결합, -O-, -CH2-, -COO-, -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타낸다 ;
Y1 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 피롤 고리 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소에서 선택되는 고리를 나타내거나, 그들의 치환기에서 선택되는 동일 또는 상이한 2 ∼ 6 의 고리가 결합기 B 를 개재하여 결합하여 이루어지는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -COOR0 (식 중, R0 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다), -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
X 는 단결합, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CH=CH-, -C≡C-, -CH=CH-CO-O-, 또는 -O-CO-CH=CH- 를 나타내고, X 의 수가 2 가 될 때는, X 끼리는 동일하거나 상이해도 된다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다) 으로 나타내는 감광성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 7]
Figure pct00046
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Component (A) of the following formula (20): (wherein, A represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -COO- , -OCO-, -CONH-, -NH-CO-, -CH = CH -CO-O-, or -O-CO-CH = CH-;
Y 1 represents a ring selected from a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a pyrrole ring and an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, or a ring selected from the same or different 2 to 6 rings Are bonded to each other through a bonding group B, and the hydrogen atoms bonded to them are each independently -COOR 0 (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms), -NO 2 , - CN, -CH = C (CN) 2 , -CH = CH-CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
X is a single bond, -COO-, -OCO-, -N═N-, -CH═CH-, -C≡C-, -CH═CH-CO-O-, or -O-CO-CH═CH -, and when the number of X's is 2, X's may be the same or different;
1 represents an integer of 1 to 12, and m represents an integer of 0 to 2).
(7)
Figure pct00046
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
(A) 성분이 하기 식 (21) ∼ (31) (식 중, A 및 B 는 상기와 동일한 정의를 갖는다 ;
Y3 은 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 그들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 기이며, 그들에 결합하는 수소 원자는 각각 독립적으로 -NO2, -CN, 할로겐기, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬옥시기로 치환되어도 된다 ;
R3 은 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타낸다 ;
q1 과 q2 는 일방이 1 이고 타방이 0 이다 ;
l 은 1 ∼ 12 의 정수를 나타내고, m 은 0 내지 2 의 정수를 나타내고, 단, 식 (23) ∼ (24) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 2 이상이며, 식 (25) ∼ (26) 에 있어서, 모든 m 의 합계는 1 이상이며, m1, m2 및 m3 은 각각 독립적으로 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다 ;
R2 는 수소 원자, -NO2, -CN, 할로겐기, 1 가의 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 비페닐 고리, 푸란 고리, 질소 함유 복소 고리, 및 탄소수 5 ∼ 8 의 지환식 탄화수소, 및, 알킬기, 또는 알킬옥시기를 나타낸다 ;
Z1, Z2 는 단결합, -CO-, -CH2O-, -CH=N-, -CF2- 를 나타낸다) 로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 액정성 측사슬을 갖는 조성물.
[화학식 8]
Figure pct00047
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
(A) has the following formulas (21) to (31): wherein A and B have the same definitions as above;
Y 3 is a group selected from the group consisting of monovalent benzene rings, naphthalene rings, biphenyl rings, furan rings, nitrogen containing heterocyclic rings, and alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof, Each hydrogen atom may be independently substituted with -NO 2 , -CN, a halogen group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms;
R 3 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH═C (CN) 2 , -CH═CH-CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, A ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms;
q1 and q2 are 1 in one and 0 in the other;
m represents an integer of 0 to 2, provided that the sum of all m in the formulas (23) to (24) is 2 or more, and the formulas (25) to (26) , The sum of all m is 1 or more, m1, m2 and m3 each independently represent an integer of 1 to 3;
R 2 represents a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, a halogen group, a monovalent benzene ring, a naphthalene ring, a biphenyl ring, a furan ring, a nitrogen containing heterocyclic ring, an alicyclic hydrocarbon having 5 to 8 carbon atoms, Or an alkyloxy group;
Z 1 and Z 2 each represent a single bond, -CO-, -CH 2 O-, -CH═N-, or -CF 2 -).
[Chemical Formula 8]
Figure pct00047
[I]제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을, 횡전계 구동용의 도전막을 갖는 기판 상에 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ;
[II][I]에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및
[III][II]에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;
을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 얻는, 상기 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법.
[I] a step of coating the composition described in any one of claims 1 to 11 on a substrate having a conductive film for transverse electric field driving to form a coating film;
[II] a step of irradiating polarized ultraviolet rays to the coating film obtained in [I]; and
[III] a step of heating the coating film obtained in [II];
To obtain a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element of a transverse electric field driving type to which orientation control ability is imparted.
제 12 항에 기재된 방법에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판.A substrate having a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display device of a transverse electric field driving type manufactured by the method according to claim 12. 제 13 항에 기재된 기판을 갖는 횡전계 구동형 액정 표시 소자.A transverse electric field driving type liquid crystal display element having the substrate according to claim 13. 제 13 항에 기재된 기판 (제 1 기판) 을 준비하는 공정 ;
[I']제 2 기판 상에
(A) 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 고분자,
(B) 폴리이미드 및 그 전구체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체, 및
(C) 유기 용매
를 함유하는 중합체 조성물을, 도포하여 도포막을 형성하는 공정 ;
[II'][I']에서 얻어진 도포막에 편광된 자외선을 조사하는 공정 ; 및
[III'][II']에서 얻어진 도포막을 가열하는 공정 ;
을 가짐으로써 배향 제어능이 부여된 액정 배향막을 얻는, 상기 액정 배향막을 갖는 제 2 기판을 얻는 공정 ; 및
[IV]액정을 개재하여 상기 제 1 및 제 2 기판의 액정 배향막이 상대하도록, 상기 제 1 및 제 2 기판을 대향 배치하여 액정 표시 소자를 얻는 공정 ;
을 가짐으로써, 횡전계 구동형 액정 표시 소자를 얻는, 그 액정 표시 소자의 제조 방법.
Preparing a substrate (first substrate) according to claim 13;
[I '] on the second substrate
(A) a photosensitive side chain type polymer which exhibits liquid crystallinity in a predetermined temperature range,
(B) at least one polymer selected from the group consisting of polyimide and its precursor, and
(C) an organic solvent
A step of applying a polymer composition to form a coating film;
Irradiating the coating film obtained in [II '] [I'] with polarized ultraviolet light; and
A step of heating the coating film obtained in [III '] [II'];
To obtain a liquid crystal alignment film having the alignment control ability, thereby obtaining a second substrate having the liquid crystal alignment film; and
[IV] a step of arranging the first and second substrates so that the liquid crystal alignment layers of the first and second substrates oppose each other through the liquid crystal to obtain a liquid crystal display element;
To obtain a transverse electric field driven liquid crystal display element.
제 15 항에 있어서,
(B) 성분의 폴리이미드의 전구체가, 테트라카르복실산 성분과 디아민 성분을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것인 방법.
16. The method of claim 15,
Wherein the polyimide precursor of component (B) is obtained by polymerizing a tetracarboxylic acid component and a diamine component.
제 15 항 또는 제 16 항에 기재된 방법에 의해 제조된 횡전계 구동형 액정 표시 소자.A transverse electric field driving type liquid crystal display element manufactured by the method according to claim 15 or 16.
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