KR20150145419A - Roll to roll processing apparatus and method of surface modification of thin film - Google Patents

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Abstract

Disclosed are a device and a method for modifying a surface of a thin film through a roll-to-roll process. A thin film unrolled from a bobbin is dried and is uniformly and sufficiently cooled to a cooling target temperature in a transferred direction and a depth direction. When an electric heating body directly comes in contact with a surface of the transferred thin film, a part from the surface of the thin film to a particular depth is partially heated through heat conduction, and the partially heated surface of the thin film is physically processed, so a nano-scale shape is imprinted. The surface of the thin film partially heated right after imprinting is cooled, so the nano-scale shape is fixed and rolled through a bobbin and the surface of the thin film is modified through a roll-to-roll process.

Description

롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치 및 그 방법{Roll to roll processing apparatus and method of surface modification of thin film}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a surface modification process for a thin film by a roll-

본 발명은 박막 필름의 표면개질 처리방법에 관한 것이다. 더 구체적으로는 박막 필름의 표면이 원래의 물성과는 다른 변화된 표면을 갖도록 롤투롤(Roll-to-rolll) 공정을 통하여 가공하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a surface modification treatment method of a thin film. More particularly, the present invention relates to a method of processing a thin film through a roll-to-roll process so that the surface of the thin film has a changed surface different from the original physical properties.

건축자재 기타의 다양한 기술분야에서 폴리머 계열 등의 박막 필름이 널리 사용되고 있으며, 이러한 박막 필름은 친수력이나 발수력 등의 다양한 수요를 충족하기 위하여 표면을 가공함으로써 제품화되어 유통되고 있다.Thin film films such as polymer series are widely used in various technical fields such as construction materials and the like. Such thin film films have been commercialized by processing the surface to meet various demands such as hydrophilic force and hydraulic power.

박막 필름의 표면 가공에는 알려진 다양한 표면 가공 기술이 적용되고 있는데, 주로 프린팅이나 마스킹 기법, 또는 코팅 기법을 이용하여 롤투롤 가공에 의해 대량으로 표면 가공이 이루어지고 있다. A variety of surface processing techniques known in the surface processing of thin film films have been applied, and surface processing has been performed in large quantities by roll-to-roll processing, mainly using printing, masking, or coating techniques.

롤투롤 공정을 이용한 표면 개질 방법은 다수의 공정이 필요하나 연속 공정화가 가능하여 생산성이 높은 것이 특징이다.A surface modification method using a roll-to-roll process requires a plurality of processes, but is capable of continuous processing, and thus is highly productive.

그런데, 종래의 프린팅이나 마스킹 기법, 또는 코팅 기법의 경우 공정이 복잡하고 경제성이 낮아, 제품의 단가가 올라가는 단점이 있다.Conventional printing, masking, or coating techniques, however, have complicated processes and low economic efficiency, resulting in an increase in the unit cost of the product.

롤투롤 공정을 통해 박막 필름의 제조 공정상 표면을 물리적으로 직접 가공하여 표면 개질 처리를 한다면 이론상 제조 단가를 낮출 수 있을 것이라 예상되지만, 폴리머 계열 등 공지의 박막 필름은 재질의 속성과 인장력의 한계로 표면을 기존의 물리적 가공방법에 의한 표면 개질 처리가 어려웠다.Though it is expected that the manufacturing cost will be lowered theoretically if the surface is modified by physically processing the surface directly in the manufacturing process of the thin film through the roll-to-roll process. However, the known thin film such as the polymer series is limited to the properties of the material and the tensile strength It has been difficult to carry out surface modification treatment by a conventional physical processing method.

한편, 최근 연구결과 코팅이 아닌 물리적 또는 전기적 가공을 통하여 박막의 표면에 나노스케일의 형상을 만드는 방법이 개발되기도 하였으나, 제조 원가 절감과 대량생산을 위한 전제라 할 수 있는 롤투롤 공정에 적용되기 어려운 한계를 가지고 있다.Meanwhile, recent researches have developed a method of forming a nanoscale shape on the surface of a thin film through physical or electrical processing rather than coating, but it is difficult to apply to a roll-to-roll process, which is a prerequisite for manufacturing cost reduction and mass production It has limitations.

문헌 1. 대한민국 등록특허 10-0523989 "식품 포장재용 에틸렌비닐알코올 필름의 표면 개질방법"Document 1. Korean Registered Patent No. 10-0523989 "Surface Modification Method of Ethylene Vinyl Alcohol Film for Food Packaging Material" 문헌 2. 대한민국 등록특허 10-0629360 "에틸렌이민 커플링제를 이용한 폴리이미드 필름의 표면개질방법, 그를 이용한 동박 적층 필름의 제조방법 및 그로 제조된 2층 구조의 동박 적층필름"Korean Patent Registration No. 10-0629360 "A method for modifying the surface of a polyimide film using an ethyleneimine coupling agent, a method for producing a copper-clad laminated film using the same, and a copper-clad laminated film having a two- 문헌 3. 대한민국 특허공개 10-2005-0080083 "플라즈마 이온주입 방법을 이용한 폴리머 필름의 표면 개질방법"Document 3: Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2005-0080083 "Method for modifying the surface of a polymer film using a plasma ion implantation method" 문헌 4. 대한민국 등록특허 10-0716022 "나노다공성 실리카필름의 표면개질을 위한 다관능성 Si-기제 올리고머/폴리머의 사용"Document 4: Korean Patent No. 10-0716022 "Use of multifunctional Si-based oligomer / polymer for surface modification of nanoporous silica film" 문헌 5. 대한민국 등록특허 10-1135090 "편광판 보호필름의 표면개질 방법 및 편광판 제조방법"Document 5: Korean Patent No. 10-1135090 "Method for modifying the surface of polarizing plate protective film and method for producing polarizing plate" 문헌 6. 대한민국 특허공개 10-2012-0133891 "편광자 보호필름의 표면 개질 방법"Document 6: Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2012-0133891 "Method of modifying surface of polarizer protective film"

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해소하기 위한 것으로,SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems,

롤투롤 공정에 의하여 박막 필름의 표면을 직접 물리적으로 가공하여 나노스케일의 패턴을 형성하는 표면개질 방법을 제시하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a surface modification method for forming a nanoscale pattern by directly physically processing the surface of a thin film by a roll-to-roll process.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치는 박막 필름이 권출되는 제 1 보빈; In order to accomplish the above object, an apparatus for processing a surface of a thin film through a roll-to-roll process according to the present invention comprises: a first bobbin on which a thin film is wound;

상기 제 1 보빈에서 권출되는 박막 필름을 건조시키는 건조로;A drying furnace for drying the thin film wound on the first bobbin;

건조된 박막 필름의 적어도 일부 구간을 목표 온도로 냉각시키는 제 1 냉각기;A first cooler for cooling at least a portion of the dried thin film to a target temperature;

상기 제 1 냉각기를 통해 냉각된 후 이송된 박막 필름의 표면에 직접 접촉하는 전열체를 포함하되, 상기 전열체를 통해 박막 필름의 표면에 열을 인가함으로써 냉각된 박막 필름 표면으로부터 일정 두께만큼을 부분 가열하되, 부분 가열된 박막 필름의 표면에 나노 스케일의 형상을 임프린팅하는 부분 가열 및 임프린트 수단; And a heat transfer member directly contacting the surface of the transferred thin film after being cooled through the first cooler, wherein heat is applied to the surface of the thin film through the heat transfer member, Partially heating and imprinting means for imprinting the nanoscale shape on the surface of the partially heated thin film;

임프린트 수단을 거친 박막 필름을 냉각시키는 제 2 냉각기; A second cooler for cooling the thin film through the imprint means;

상기 제 2 냉각기에서 냉각된 박막 필름을 권취하는 제 2 보빈;A second bobbin for winding the thin film cooled in the second cooler;

제 1 보빈으로부터 권출되는 박막 필름이 건조로, 제 1 냉각기, 부분 가열기, 임프린트 수단를 거쳐 제 2 보빈으로 권취되도록 박막 필름을 이송하는 이송수단; 및Conveying means for conveying the thin film so that the thin film wound from the first bobbin is wound on the second bobbin via the drying furnace, the first chiller, the partial heater, and the imprint means; And

상기 제 1 냉각기의 냉각 목표 온도, 냉각 시간, 상기 전열체의 온도, 상기 전열체와 박막 필름의 단위 구간 접촉 시간 가운데 하나 이상을 설정하거나, 설정에 따라 상기 제 1 냉각기, 부분 가열기, 임프린트 수단 또는 이송수단을 제어하는 콘트롤 패널을 구비한다.A first cooling unit, a partial heater, an imprinting unit, or a second cooling unit, depending on the setting, a cooling target temperature of the first cooling unit, a cooling time, a temperature of the heating unit, And a control panel for controlling the conveying means.

이때, 콘트롤 패널은 박막 필름의 재질과 가공 깊이에 따라 상기 제 1 냉각기의 냉각 목표 온도, 냉각 시간, 상기 부분 가열기의 온도 및 박막 필름 단위 구간과의 접촉 시간, 상기 이송수단의 이송 속도, 상기 임프린트 수단의 동작 조건 가운데 하나 이상을 미리 설정한 프리셋을 가질 수 있다.
At this time, the control panel controls the cooling target temperature of the first cooler, the cooling time, the temperature of the partial heater, the contact time with the thin film unit section, the conveying speed of the conveying means, One or more of the operating conditions of the means may be preset.

한편, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법은, 박막 필름을 보빈으로부터 권출하는 단계;According to another aspect of the present invention, there is provided a method for modifying a surface of a thin film through a roll-to-roll process, the method comprising: winding a thin film from a bobbin;

박막 필름을 건조시키는 단계;Drying the thin film;

건조된 박막 필름을 이송방향과 깊이 방향으로 냉각 목표 온도로 균일하게 냉각시키는 단계;Uniformly cooling the dried thin film to the cooling target temperature in the transport direction and the depth direction;

냉각 후 이송된 박막 필름의 표면에 전열체를 직접 접촉시켜 전도에 의해 박막 필름의 표면으로부터 일정 깊이까지만 부분적으로 가열하되, 부분 가열된 박막 필름의 표면을 물리적으로 가공하여 나노 스케일의 형상을 임프린트하는 단계;After the cooling, the heat transfer member is directly brought into contact with the surface of the transferred thin film to partially heat the surface of the thin film from the surface of the thin film to a certain depth. The surface of the partially heated thin film is physically processed to imprint the nanoscale shape step;

임프린트가 이루어진 직후 상기 박막 필름의 부분 가열된 표면으로부터 심부로의 열전달이 차단되도록 신속하게 박막 필름의 표면을 냉각시키는 단계; 및Rapidly cooling the surface of the thin film film so that heat transfer from the partially heated surface of the thin film to the core is blocked shortly after the imprint is made; And

냉각된 박막 필름을 보빈으로 권취하는 단계;를 포함한다.And winding the cooled thin film with a bobbin.

이때, 상기 부분 가열된 박막 필름의 표면을 물리적으로 가공하여 나노 스케일의 형상을 임프린트하는 단계 동안, 부분 가열된 표면의 반대측 표면으로부터 적어도 임계값 이상의 두께만큼, 연화점 이하의 온도가 유지되도록 처리한다.At this time, during the step of physically processing the surface of the partially heated thin film and imprinting the nanoscale shape, the temperature is maintained at a temperature equal to or lower than the softening point by at least the thickness of the opposite surface of the partially heated surface.

이러한 본 발명에 의할 때,According to the present invention,

롤투롤 공정에 의해 박막 필름의 표면을 물리적으로 직접 가공하여 표면을 개질하는 것이 가능해진다. The surface of the thin film can be physically directly processed by the roll-to-roll process to modify the surface.

이에 의하여, 용이하게 대량생산을 할 수 있으며 제조 단가를 크게 절감할 수 있다는 효과가 있다.Thereby, it is possible to mass-produce easily, and the manufacturing cost can be greatly reduced.

특히, 본 발명에서 제시하는 방법에 의할 때 박막 필름의 양면이 이질적인 성질을 갖도록 개질하는 것이 가능해진다.Particularly, according to the method proposed in the present invention, it becomes possible to modify the both surfaces of the thin film to have heterogeneous properties.

도 1은 본 발명에 의한 박막 필름의 표면개질 방법을 시계열적으로 설명하는 플로우차트이며,
도 2는 표면 개질 공정에서의 박막 필름의 성질 변화를 설명하는 도면이며,
도 3은 표면 개질 공정을 통해 제조된 폴리머 표면을 확대한 사진이며,
도 4는 본 발명에 의한 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치의 외형을 설명하는 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart for explaining a method of surface modification of a thin film according to the present invention in a time-
2 is a view for explaining a property change of the thin film in the surface modification step,
3 is an enlarged photograph of the surface of the polymer produced through the surface modification step,
FIG. 4 is a view for explaining the outline of an apparatus for processing a surface of a thin film through a roll-to-roll process according to the present invention.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예 및 첨부하는 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하되, 도면의 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭함을 전제하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments of the present invention and the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like elements.

발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에서 어느 하나의 구성요소가 다른 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 당해 구성요소만으로 이루어지는 것으로 한정되어 해석되지 아니하며, 다른 구성요소들을 더 포함할 수 있는 것으로 이해되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "comprising" another element in the description of the invention or in the claims, it is not to be construed as being limited to only that element, And the like.

이하에서 개시되는 본 발명은 롤투롤 공정을 통해 박막 필름의 표면개질을 처리하는 방법에 관한 것으로, 폴리 프로필렌, 폴리 에틸렌 등의 다양한 재질의 공지의 박막 필름에 적용될 수 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention disclosed below is directed to a method for processing a surface modification of a thin film through a roll-to-roll process, and can be applied to a known thin film of various materials such as polypropylene and polyethylene.

이하에서는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법이 구현된 일 예를 특정한 실시예를 통해 설명하기로 한다. Hereinafter, a method of modifying the surface of a thin film through a roll-to-roll process will be described with reference to specific examples.

도 1은 본 발명에 의한 박막 필름의 표면개질 방법을 시계열적으로 설명하는 플로우차트이며,BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart for explaining a method of surface modification of a thin film according to the present invention in a time-

도 2는 표면 개질 공정에서의 박막 필름의 성질 변화를 설명하는 도면이며,2 is a view for explaining a property change of the thin film in the surface modification step,

도 3은 표면 개질 공정을 통해 제조된 박막 필름 표면을 확대한 사진이다.3 is an enlarged photograph of the surface of the thin film produced through the surface modification process.

도 1에 도시된 바에 의할 때, 본 발명에 의한 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법은, 건조 단계(S1), 박막 냉각 단계(S2), 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3), 냉각 및 패턴 고정 단계(S4)로 이루어진다.1, a method of modifying the surface of a thin film through a roll-to-roll process according to the present invention includes a drying step S1, a thin film cooling step S2, a partial heating and pattern pressing step S3, Cooling and pattern fixing step S4.

건조 단계(S1)에서는 롤 형태로 준비된 박막 필름을 건조시킨다.In the drying step (S1), the thin film prepared in roll form is dried.

박막 필름은 제조 및 이송 과정에서 과도한 수분을 흡수하는 경우가 있으며, 이는 가공 공정에서 불량을 일으키는 요인이 되기 때문에, 가공에 앞서 박막을 건조시킨다.Thin films sometimes absorb excessive moisture during the manufacturing and transporting process, which leads to defects in the processing process, so the thin film is dried prior to processing.

별도의 건조로에서 미리 건조시킬 수도 있으며, 롤투롤 공정장비 상에서 가공할 부위를 건조시킬 수도 있다.It may be pre-dried in a separate drying oven or it may be dried on the roll-to-roll process equipment.

이후, 박막 냉각 단계(S2)에서는 박막을 목표온도까지 냉각시킨다.Thereafter, in the thin film cooling step (S2), the thin film is cooled to a target temperature.

이와 같이 박막을 냉각하는 것은 이후의 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)에서 수㎛ 깊이까지만 성형이 이루어지도록 하기 위함이다.The cooling of the thin film in this way is intended to allow molding to a depth of only a few micrometers in the partial heating and pattern pressing step S3 thereafter.

충분히 냉각이 이루어지지 않는 경우, 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)에서 박막에 신장 등의 영구변형, 파손이 발생할 수 있으며, 반대로 과도한 냉각이 이루어질 경우에는 박막의 패턴이 원하는 수준으로 가공되지 않을 수 있다.In the case where sufficient cooling can not be achieved, permanent deformation such as elongation or breakage may occur in the thin film in the partial heating and pattern press step (S3). On the contrary, if excessive cooling is performed, the thin film pattern may not be processed to a desired level have.

도 2의 (a)는 박막의 일부 구간이 균일하게 목표온도까지 냉각된 상태를 예시한다.2 (a) illustrates a state in which a part of the thin film is uniformly cooled to a target temperature.

이후, 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)에서는 냉각된 박막의 가공할 표면을 부분 가열한다.Then, in the partial heating and pattern pressing step S3, the surface to be worked of the cooled thin film is partially heated.

냉각단계를 거쳐 이송된 박막의 표면에 전열체를 직접 접촉시켜 전도에 의해 박막 표면으로부터 수㎛ 깊이까지만 부분적으로 온도를 상승시킨다.The temperature is raised only partially to the depth of several micrometers from the surface of the thin film by conduction by directly contacting the surface of the thin film transferred through the cooling step.

도 2의 (b)는 박막의 표면으로부터 수㎛ 깊이까지 부분적으로 가열된 상태를 도시한다.Fig. 2 (b) shows a partially heated state from the surface of the thin film to a depth of several mu m.

박막을 전체적으로 고르게 가열할 경우, 가공가능 두께에 대한 조절이 어려우며 파손 및 영구적인 변형 가능성이 높아져 가공 신뢰성이 현저히 낮아지기 때문에, 전열체를 이용한 직접 전도에 의한 부분 가열을 하는 것이다.In the case of uniformly heating the thin film as a whole, it is difficult to control the workable thickness, and the possibility of breakage and permanent deformation is increased, thereby remarkably lowering the processing reliability, so that partial heating is performed by direct conduction using the heater.

폴리머 박막의 경우 기본적으로 열전달 성능이 낮은 특성을 갖는다. 이러한 특성을 이용하여 접촉을 통한 열전달을 통해 박막의 표면에서 수㎛ 깊이까지만 가공이 가능한 조건을 형성할 수 있다.In the case of the polymer thin film, the heat transfer performance is basically low. By using these characteristics, it is possible to form a condition capable of processing only from the surface of the thin film to the depth of several micrometers through the heat transfer through the contact.

이와 같이 표면개질 처리를 할 박막의 표면 부위가 부분 가열되면, 가열부위를 프레싱하여 나노 형상을 임프린트(Imprint)한다.When the surface portion of the thin film to be subjected to the surface modification treatment is partially heated in this way, the nano shape is imprinted by pressing the heated portion.

도 2의 (c)는 박막의 표면, 부분적으로 가열된 부위에 프레싱을 통한 나노 형상의 임프린팅이 처리된 모습을 도시한다.FIG. 2 (c) shows a state in which the nano-shaped imprinting is processed through pressing on the surface of the thin film, the partially heated region.

도 2의 (c)에 도시된 바에 의할 때, 박막 표면의 부분적으로 가열된 부위가 프레싱되어 표면에 미세한 돌기가 형성된 것을 확인할 수 있다. 2 (c), it is confirmed that the partially heated portion of the thin film surface is pressed to form fine protrusions on the surface.

한편, 도 2의 (c)에 따르면 냉각 상태가 유지되고 있는 박막 저면과는 달리, 프레싱 처리된 가공 부위는 여전히 가열된 상태임을 알 수 있다.On the other hand, according to FIG. 2 (c), it can be seen that, unlike the thin film bottom surface where the cooling state is maintained, the pressed portion is still heated.

이와 같이 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)를 거친 박막은 표면과 심부의 온도차이에 의해, 심부로 열이 이동하게 된다.In the thin film thus subjected to the heating and pattern press step (S3), heat is transferred to the deep portion due to the temperature difference between the surface and the deep portion.

심부로 열이 이동함에 따라 박막은 심부까지 연화되는 물성을 갖게 되며, 롤투롤 가공 공정 특성상 발생하는 인장력에 의해 영구신장되는 변형 또는 표면의 나노스케일의 가공형상이 변형되는 문제가 발생할 수 있다.As the heat moves to the core portion, the thin film has a physical property softened to the core portion, and the permanent stretching due to the tensile force generated due to the characteristic of the roll-to-roll processing or the processing shape of the nanoscale of the surface may be deformed.

이러한 변형을 방지하기 위하여, 냉각 및 패턴 고정 단계(S4)에서는 프레스 가공된 박막 부위를 냉각시켜 표면의 열이 심부로 이동하는 것을 차단한다.In order to prevent such deformation, in the cooling and pattern fixing step S4, the pressed thin film portion is cooled to block the heat of the surface from moving to the deep portion.

이를 위하여 프레싱 직후 이송된 박막 부위에 대하여 신속히 냉각처리를 수행한다.For this purpose, the cooling process is rapidly performed on the thin film portion transferred immediately after the pressing.

도 2의 (d)는 프레싱 처리된 가공 부위가 냉각되어 박막의 저면과의 온도차이가 충분히 줄어든 상태를 도시한다.Fig. 2 (d) shows a state in which the pressed portion is cooled and the temperature difference from the bottom of the thin film is sufficiently reduced.

이러한 본 발명에 의한 박막 필름의 표면 개질 방법은 열소성 가공방법에 해당하며, 하나의 성형장비를 통하여 다양한 재질의 박막 필름에 다양한 두께의 나노패턴 성형이 가능하다는 장점이 있다.The method of modifying the surface of a thin film according to the present invention corresponds to a thermo plastic working method and has the advantage of being able to form nanopatterns of various thicknesses on a thin film of various materials through one molding machine.

본 발명은 박막에 인장력을 버티는 영역을 형성함으로써 물리적 가공이 가능하도록 하는 것에 특징이 있으며, 가공 깊이는 박막 필름의 재질과 박막 냉각 단계(S2)에서의 목표온도에 의하여 결정된다.The present invention is characterized in that physical processing is enabled by forming a tensile holding area on the thin film, and the processing depth is determined by the material of the thin film and the target temperature in the thin film cooling step (S2).

가공 깊이를 정밀하게 유지하기 위하여, 공정 과정에서의 온도제어가 중요하다.In order to maintain the processing depth precisely, temperature control in the process is important.

우선, 박막 냉각 단계(S2)에서의 박막 냉각시 두께 방향과 길이 방향으로 균일한 온도 분포를 갖도록 하여야 한다.First, it is necessary to have a uniform temperature distribution in the thickness direction and the longitudinal direction when the thin film is cooled in the thin film cooling step (S2).

두께 방향의 온도 균일도는 임프린트되는 패턴의 정밀성과 관계가 있다.The temperature uniformity in the thickness direction is related to the precision of the imprinted pattern.

한편, 롤(Roll) 길이 방향으로의 온도 균일도는 박막의 위치에 따른 나노패턴의 불균일한 가공을 방지하는 것으로 실질적으로 양산에 있어서 매우 중요한 요소이다.On the other hand, the temperature uniformity in the longitudinal direction of the roll is a very important factor in the mass production because it prevents non-uniform processing of the nanopattern depending on the position of the thin film.

한편, 냉각 정도는 사용하고자 하는 박막의 물성에 따라 다소 차이가 발생한다. 냉각 정도는 이후 공정의 가열공정과 밀접한 관계를 갖고 있다. 가열에 있어서는 박막의 재질의 열전도도, 열전달 시간(박막의 이송속도 및 가열구간의 길이), 가열면과 박막의 접촉열저항, 박막의 비열 등과 관련되어 박막의 물성에 따라 다른 값을 갖는다.On the other hand, the degree of cooling varies somewhat depending on the physical properties of the thin film to be used. The degree of cooling is closely related to the heating process of the subsequent process. The heating depends on the thermal conductivity of the material of the thin film, the heat transfer time (the transport speed of the thin film and the length of the heating zone), the contact heat resistance of the heating surface and the thin film, and the specific heat of the thin film.

박막 필름은 박막 냉각 단계(S2)에서 냉각된 후 이송되어, 롤투롤 공정 장비 상에서 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)를 거치면서 가공 표면이 전열체에 의한 접촉을 통해 가열되는데, 가열되는 두께를 제외한 나머지 구간은 연화점 온도 이하로 유지되어야 한다.The thin film is cooled after being cooled in the thin film cooling step (S2), and is subjected to partial heating and pattern pressing step (S3) on the roll-to-roll processing equipment, while the working surface is heated through contact with the heating element, The remaining section shall be maintained below the softening point temperature.

가열되는 면의 이면, 두께방향으로 나머지 구간을 연화점 온도 이하로 유지함으로써 충분한 강성을 확보할 수 있으며, 이에 의하여 박막이 가공에 필요한 인장력에 의하여 변형되는 것을 막을 수 있다.A sufficient rigidity can be secured by keeping the remaining section in the thickness direction on the back surface of the heated surface at a softening point temperature or lower, thereby preventing the thin film from being deformed by the tensile force required for processing.

즉, 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)를 거치는 동안 박막의 변형이 발생하는 것을 막을 수 있다. 따라서, 연화점 이하의 온도로 유지되는 구간은 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)가 진행되는 동안 소정의 두께 이상으로 유지되어야 한다.That is, it is possible to prevent deformation of the thin film during the partial heating and pattern press step S3. Therefore, a section maintained at a temperature equal to or lower than the softening point must be maintained at a predetermined thickness or more during the partial heating and pattern pressing step S3.

연화점 이하의 온도로 유지되는 구간의 두께는 박막 필름의 재질의 인장강도와 상관관계가 있으며 재질의 특성에 따라 달리 설정될 수 있다.The thickness of the section maintained at the temperature below the softening point correlates with the tensile strength of the material of the thin film and can be set differently depending on the characteristics of the material.

한편, 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)에서는 박막의 표면으로부터 수㎛ 깊이까지 온도를 전달하는 것을 목표로 하며 가열면의 온도와 접촉열저항 그리고 박막의 열전도도와 비열에 따라 달리 설정될 수 있다.On the other hand, in the partial heating and pattern pressing step (S3), it is aimed to transfer the temperature from the surface of the thin film to the depth of several μm, and it can be set differently depending on the temperature of the heating surface, the contact thermal resistance, and the thermal conductivity and specific heat of the thin film.

이상과 같은 본 발명에 의할 때, 대량생산에 적합한 방식으로 박막 필름의 표면에 나노 스케일의 형상을 임프린트할 수 있다.According to the present invention as described above, the nanoscale shape can be imprinted on the surface of the thin film in a manner suitable for mass production.

도 3은 본 발명에 의한 표면 개질 공정을 통해 제조된 박막 필름 표면을 현미경으로 확대한 사진을 도시한다.FIG. 3 is a micrograph of a surface of a thin film produced through a surface modification process according to the present invention.

이하에서는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치가 구현된 일 예를 특정한 실시예를 통해 설명하기로 한다. Hereinafter, an example in which a surface modification process apparatus of a thin film through a roll-to-roll process is implemented will be described with reference to specific embodiments.

도 4는 본 발명에 의한 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치의 외형을 설명하는 도면이다.FIG. 4 is a view for explaining the outline of an apparatus for processing a surface of a thin film through a roll-to-roll process according to the present invention.

도 4에 도시된 본 발명에 의한 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치(100)는 상기 살펴본 바와 같은 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정방법이 실행되는 장비로서, 건조로(110), 제 1 냉각기(120), 부분 가열기(130), 임프린트 수단(140) 및 제 2 냉각기(150)를 갖는다.The apparatus 100 for processing a surface of a thin film through a roll-to-roll process according to the present invention shown in FIG. 4 is a device for executing a process for surface modification of a thin film through the roll-to-roll process, 110, a first cooler 120, a partial heater 130, an imprint means 140 and a second cooler 150.

한편, 박막 필름의 표면개질 공정장치(100)는 박막 필름(1)이 권출되는 제 1 보빈(101)과 표면 개질 공정이 완료된 박막 필름(1)을 권취하는 제 2 보빈(120)을 더 구비한다.The surface modification apparatus 100 of the thin film film further includes a first bobbin 101 on which the thin film 1 is wound and a second bobbin 120 for winding the thin film 1 on which the surface modification process is completed do.

제 1 보빈(101)에서 권출된 박막 필름(1)은 건조로(110)로 이송된다.The thin film (1) wound on the first bobbin (101) is conveyed to the drying furnace (110).

건조로(110)는 바람직하게는 권출된 박막 필름(1)이 이송되어 들어오는 인입구와, 건조된 박막 필름(1)이 배출되는 배출구를 더 구비하며, 내부에 박막 필름(1)으로 건조 열기를 송풍하는 송풍덕트(111)를 더 구비할 수 있다.The drying furnace 110 preferably further comprises an inlet through which the unwound thin film 1 is fed and an outlet through which the dried thin film 1 is discharged and a drying oven And a blowing duct 111 for blowing air.

이러한 건조로(110)에서는 상기 살펴본 바와 같은 건조 단계(S1)가 실행된다.In the drying furnace 110, the drying step S1 as described above is performed.

건조로를 거치는 동안 박막 필름(1)이 흡수하고 있던 과도한 수분이 제거된다.Excessive moisture absorbed by the thin film (1) is removed during the passage through the drying furnace.

한편, 건조로(110)를 거친 박막 필름(1)은 도 4에 도시된 바와 같이 제 1 냉각기(120) 내부로 이송된다. On the other hand, the thin film 1 having passed through the drying furnace 110 is transferred into the first cooler 120 as shown in FIG.

제 1 냉각기(120)는 바람직하게는 외기의 유동이 차단되는 챔버 구조를 가지며, 내부로 이송된 박막 필름(1)을 설정된 목표 온도로 냉각시킨다.The first cooler 120 preferably has a chamber structure in which the flow of the outside air is shut off, and cools the thin film 1 transferred to the inside to a set target temperature.

목표 온도는 박막 필름의 재질과 가공 깊이에 따라서 다르게 설정된다.The target temperature is set differently depending on the material of the thin film and the processing depth.

제 1 냉각기(120)에서는 상기 살펴본 바와 같은 박막 냉각 단계(S2)가 실행되며, 박막 필름(1)의 챔버 내부로 이송된 부위를 목표온도까지 균일하게, 충분히 냉각시킨다.In the first cooler 120, the thin film cooling step S2 as described above is performed, and the portion transferred to the inside of the chamber of the thin film 1 is uniformly cooled sufficiently to the target temperature.

제 1 냉각기(120)를 통해 박막 필름(1)의 냉각이 이루어지면, 박막 필름(1)은 부분 가열기(130)로 이송된다.When the thin film 1 is cooled through the first cooler 120, the thin film 1 is transferred to the partial heater 130.

부분 가열기(130)는 넓은 접촉 면적을 갖는 전열체(131)를 갖는다.The partial heater 130 has a heat transfer body 131 having a wide contact area.

부분 가열기(130) 내부로 박막 필름(1)이 이송되면, 전열체(131)를 박막 필름(1)의 표면에 밀착시켜 박막 필름(1)의 가공부위를 부분 가열한다.When the thin film 1 is transferred into the partial heater 130, the heat transfer member 131 is brought into close contact with the surface of the thin film 1 to partially heat the processed portion of the thin film 1.

전열체(131)는 박막 필름(1)의 이송과 동시에 열의 직접 전도에 의해 박막 필름(1)을 부분가열할 수 있도록 롤러의 형태를 가질 수 있다. 이 경우 박막 필름(1)에 밀착된 채 회전하면서 박막 필름(1)의 표면을 가열할 수 있다.The heat transfer member 131 may have the form of a roller so that the thin film 1 can be partially heated by the direct conduction of heat at the same time as the thin film 1 is conveyed. In this case, the surface of the thin film 1 can be heated while being tightly adhered to the thin film 1.

전도에 의해 박막 표면으로부터 수㎛ 깊이까지만 부분적으로 온도를 상승시킨 다음, 지체없이 임프린트 수단(140)를 통해 부분 가열된 박막 필름(1)의 표면을 프레싱하여 나노 형상을 물리적으로 임프린트한다.The temperature is partially raised from the surface of the thin film to the depth of several micrometers by conduction, and then the surface of the thin film 1 partially heated through the imprint means 140 is pressed without delay to physically imprint the nano-shape.

임프린트 수단(140)는 박막 필름(1)의 표면을 소정의 압력으로 프레싱하여 표면 개질을 처리한다.The imprint means 140 processes the surface modification by pressing the surface of the thin film 1 at a predetermined pressure.

부분 가열기(130)와 임프린트 수단(140)를 통해 상기 살펴본 바와 같은 부분 가열 및 패턴 프레스 단계(S3)가 실행된다.The partial heating and pattern pressing step S3 as described above is executed through the partial heater 130 and the imprint means 140. [

도 4의 예에서는 부분 가열기(130)와 임프린트 수단(140)를 별개로 구성하였으나, 박막 표면을 부분가열함과 동시에 프레싱하여 나노 패턴을 형성하도록 부분 가열기(130)와 임프린트 수단(140)를 단일의 장치로 구현할 수도 있다.4, the partial heater 130 and the imprinting unit 140 are separately formed. However, the partial heater 130 and the imprinting unit 140 may be formed in a single unit so that the surface of the thin film is partially heated and pressed to form a nano pattern. As shown in FIG.

한편, 나노 형상의 임프린트가 완료된 직후 박막 필름(1)은 지체없이 제 2 냉각기(150)로 이송된다.On the other hand, immediately after the nano-shaped imprint is completed, the thin film 1 is transferred to the second cooler 150 without delay.

제 2 냉각기(150)는 바람직하게는 냉기류를 송풍하여 나노 형상이 임프린트된 박막 필름(1) 표면을 냉각시켜 표면의 열이 심부로 이동하는 것을 차단한다.The second cooler 150 preferably blows cool air to cool the surface of the thin film film 1 imprinted with the nano shape to block the heat of the surface from moving to the deep part.

제 2 냉각기(150)를 통해 상기 살펴본 바와 같은 냉각 및 패턴 고정 단계(S4)가 실행되며, 이에 의하여 롤투롤 공정 특성상 발생하는 인장력에 의해 박막 필름(1)의 영구 변형 또는 표면의 나노스케일의 가공형상의 변형을 막을 수 있다.The cooling and pattern fixing step S4 as described above is performed through the second cooler 150 so that permanent deformation of the thin film 1 or nanoscale processing of the surface due to the tensile force generated by the roll- It is possible to prevent deformation of the shape.

제 2 냉각기(150)를 거친 박막 필름(1)은 제 2 보빈(120)으로 권취된다.The thin film 1 having passed through the second cooler 150 is wound around the second bobbin 120.

이송수단(104)은 제 1 보빈(101)으로부터 권출되는 박막 필름이 건조로(110), 제 1 냉각기(120), 부분 가열기(130), 임프린트 수단(140)를 거쳐 제 2 보빈(102)으로 권취되도록 박막 필름을 이송한다.The transfer means 104 transfers the thin film to the second bobbin 102 through the drying furnace 110, the first cooler 120, the partial heater 130, and the imprint means 140, The thin film is transported to be wound with the film.

한편, 작업자는 콘트롤 패널(103)을 이용하여 상기 제 1 냉각기(120)의 냉각 목표 온도, 냉각 시간, 상기 전열체(131)의 온도, 상기 전열체(131)와 박막 필름의 단위 구간 접촉 시간 가운데 하나 이상을 설정할 수 있다.On the other hand, the operator uses the control panel 103 to control the cooling target temperature, the cooling time, the temperature of the heating element 131, the unit section contact time of the heating element 131 and the thin film You can set one or more of them.

콘트롤 패널(103)은 작업자의 설정에 따라 상기 제 1 냉각기(120), 부분 가열기(130), 임프린트 수단(140) 또는 이송수단(104) 가운데 하나 이상을 제어한다.The control panel 103 controls at least one of the first cooler 120, the partial heater 130, the imprinting unit 140, or the conveying unit 104 according to the setting of the operator.

한편, 콘트롤 패널(103)은 박막 필름의 재질과 가공 깊이에 따라 상기 제 1 냉각기(120)의 냉각 목표 온도, 냉각 시간, 상기 부분 가열기(130)의 온도 및 박막 필름 단위 구간과의 접촉 시간, 상기 이송수단(104)의 이송 속도, 상기 임프린트 수단(140)의 동작 조건 가운데 하나 이상을 미리 설정한 다수의 프리셋을 가질 수 있다. The control panel 103 controls the cooling target temperature of the first cooler 120, the cooling time, the temperature of the partial heater 130 and the contact time with the thin film unit section according to the material and depth of the thin film, The conveyance speed of the conveying means 104, and the operating condition of the imprinting means 140. [0064]

작업자는 보빈에 감긴 박막 필름의 재질과 가공깊이에 따라 미리 설정된 프리셋 가운데 어느 하나를 간단히 선택하는 것만으로, 다양한 재질과 두께를 갖는 박막 필름에 대한 표면개질을 처리할 수 있다.The operator can process the surface modification of the thin film having various materials and thicknesses by simply selecting one of the presets preset according to the material and the processing depth of the thin film wound on the bobbin.

이상 몇 가지의 실시예를 통해 본 발명의 기술적 사상을 살펴보았다.The technical idea of the present invention has been described through several embodiments.

본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기재사항으로부터 상기 살펴본 실시예를 다양하게 변형하거나 변경할 수 있음은 자명하다. 또한, 비록 명시적으로 도시되거나 설명되지 아니하였다 하여도 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기재사항으로부터 본 발명에 의한 기술적 사상을 포함하는 다양한 형태의 변형을 할 수 있음은 자명하며, 이는 여전히 본 발명의 권리범위에 속한다. 첨부하는 도면을 참조하여 설명된 상기의 실시예들은 본 발명을 설명하기 위한 목적으로 기술된 것이며 본 발명의 권리범위는 이러한 실시예에 국한되지 아니한다.It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications may be made to the embodiments described above from the description of the present invention. Further, although not explicitly shown or described, those skilled in the art can make various modifications including the technical idea of the present invention from the description of the present invention Which is still within the scope of the present invention. The above-described embodiments described with reference to the accompanying drawings are for the purpose of illustrating the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments.

본 발명은 박막 필름의 제조 및 가공 기술분야에 적용될 수 있다.The present invention can be applied to the field of manufacturing and processing thin film.

1 : 박막 필름
101 : 제 1 보빈
102 : 제 2 보빈
103 : 콘트롤 패널
104 : 이송수단
110 : 건조로
111 : 송풍덕트
120 : 제 1 냉각기
130 : 부분 가열기
131 : 전열체
140 : 임프린트 수단
150 : 제 2 냉각기
1: Thin film
101: 1st bobbin
102: 2nd bobbin
103: Control panel
104: conveying means
110: drying furnace
111: blowing duct
120: first cooler
130: partial heater
131:
140: Imprint means
150: second cooler

Claims (8)

박막 필름이 권출되는 제 1 보빈(101);
권출된 박막 필름의 적어도 일부 구간을 목표 온도로 냉각시키는 제 1 냉각기(120);
상기 제 1 냉각기(120)를 통해 냉각된 후 이송된 박막 필름의 표면에 직접 접촉하는 전열체(131)를 포함하되, 상기 전열체(131)를 통해 박막 필름의 표면에 열을 인가함으로써 냉각된 박막 필름 표면으로부터 일정 두께만큼을 부분 가열하는 부분 가열기(130);
상기 부분 가열기(130)를 통해 표면으로부터 일정 두께만큼 부분 가열된 박막 필름의 표면에 나노 스케일의 형상을 임프린팅하는 임프린트 수단(140);
상기 임프린트 수단(140)를 거친 박막 필름을 냉각시키는 제 2 냉각기(150); 및
상기 제 2 냉각기(150)에서 냉각된 박막 필름을 권취하는 제 2 보빈(102);
제 1 보빈(101)으로부터 권출되는 박막 필름이 제 1 냉각기(120), 부분 가열기(130), 임프린트 수단(140)를 거쳐 제 2 보빈(102)으로 권취되도록, 박막 필름을 이송하는 이송수단(104); 및
상기 제 1 냉각기(120)의 냉각 목표 온도, 냉각 시간, 상기 전열체(131)의 온도, 상기 전열체(131)와 박막 필름의 단위 구간 접촉 시간 가운데 하나 이상을 설정하거나, 설정에 따라 상기 제 1 냉각기(120), 부분 가열기(130), 임프린트 수단(140) 또는 이송수단(104)을 제어하는 콘트롤 패널(103)을 구비하는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치.
A first bobbin 101 from which a thin film is wound;
A first cooler (120) for cooling at least a part of the rolled thin film to a target temperature;
And a heat transfer member 131 that is in direct contact with the surface of the transferred thin film after being cooled through the first cooler 120. The heat transfer member 131 is cooled by applying heat to the surface of the thin film through the heat transfer member 131 A partial heater 130 for partially heating a predetermined thickness from the surface of the thin film;
Imprint means 140 for imprinting the nanoscale shape on the surface of the thin film partially heated from the surface through the partial heater 130 by a predetermined thickness;
A second cooler (150) for cooling the thin film passed through the imprint means (140); And
A second bobbin (102) for winding the thin film cooled in the second cooler (150);
A transfer means for transferring the thin film so that the thin film wound from the first bobbin 101 is wound on the second bobbin 102 via the first cooler 120, the partial heater 130 and the imprint means 140 104); And
It is possible to set at least one of a cooling target temperature of the first cooler 120, a cooling time, a temperature of the heat transfer member 131, and a unit section contact time of the thin film and the heat transfer member 131, The apparatus for processing a surface of a thin film by means of a roll-to-roll process comprising a cooler (120), a partial heater (130), an imprint means (140) or a control panel (103) for controlling the conveying means (104).
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 보빈(101)에서 권출되는 박막 필름을 건조시키는 건조로(110)를 더 구비하되,
상기 이송수단(104)은 상기 건조로(110)를 거친 박막 필름을 상기 제 1 냉각기(120)로 이송하는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치.
The method according to claim 1,
And a drying furnace (110) for drying the thin film wound on the first bobbin (101)
The transfer means 104 transfers the thin film passed through the drying furnace 110 to the first cooler 120 through a roll-to-roll process.
제 1 항에 있어서,
상기 콘트롤 패널(103)은 박막 필름의 재질과 가공 깊이에 따라 상기 제 1 냉각기(120)의 냉각 목표 온도, 냉각 시간, 상기 부분 가열기(130)의 온도 및 박막 필름 단위 구간과의 접촉 시간, 상기 이송수단(104)의 이송 속도, 상기 임프린트 수단(140)의 동작 조건 가운데 하나 이상을 미리 설정한 프리셋을 갖는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 공정장치.
The method according to claim 1,
The control panel 103 controls the cooling target temperature of the first cooler 120, the cooling time, the temperature of the partial heater 130 and the contact time with the thin film unit section according to the material and depth of the thin film, A transfer speed of the transfer means (104), and an operation condition of the imprint means (140).
박막 필름을 보빈으로부터 권출하는 단계;
이송되어진 박막 필름을 목표 온도로 균일하게 냉각시키는 단계;
냉각 후 이송된 박막 필름의 표면에 전열체를 직접 접촉시켜 전도에 의해 박막 필름의 표면으로부터 일정 깊이까지만 부분적으로 가열하되, 부분 가열된 박막 필름의 표면을 물리적으로 가공하여 나노 스케일의 형상을 임프린트하는 단계;
임프린트 직후 부분적으로 가열된 상기 박막 필름의 표면을 냉각시키는 단계; 및
냉각된 박막 필름을 보빈으로 권취하는 단계;를 포함하는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법.
Releasing the thin film from the bobbin;
Uniformly cooling the transferred thin film to a target temperature;
After the cooling, the heat transfer member is directly brought into contact with the surface of the transferred thin film to partially heat the surface of the thin film from the surface of the thin film to a certain depth. The surface of the partially heated thin film is physically processed to imprint the nanoscale shape step;
Cooling the surface of the thin film that is partially heated immediately after imprinting; And
And winding the cooled thin film into a bobbin.
제 4 항에 있어서,
상기 박막 필름을 보빈으로부터 권출하는 단계 이후, 박막 필름을 목표 온도로 균일하게 냉각시키는 단계 이전에,
박막 필름을 건조시키는 단계;를 더 포함하는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법.
5. The method of claim 4,
Before the step of uniformly cooling the thin film to the target temperature after the step of winding the thin film from the bobbin,
And drying the thin film. ≪ Desc / Clms Page number 20 >
제 4 항에 있어서,
상기 박막 필름의 표면으로부터 일정 깊이까지만 부분적으로 가열하는 단계에서, 박막 필름 재질의 열전도도, 가열면과 박막 필름의 접촉열저항, 박막의 비열 가운데 하나 이상에 따라 박막 필름의 이송 속도 및 전열체의 온도가 결정되는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법.
5. The method of claim 4,
In the step of partially heating the film to a certain depth from the surface of the thin film, the transfer speed of the thin film according to at least one of thermal conductivity of the thin film material, contact thermal resistance between the heating surface and the thin film, A method of modifying the surface of a thin film through a roll-to-roll process in which the temperature is determined.
제 4 항에 있어서,
상기 부분 가열된 박막 필름의 표면을 물리적으로 가공하여 나노 스케일의 형상을 임프린트하는 단계에서,
박막 필름의 재질과 박막 필름을 냉각하는 단계에서의 냉각 목표 온도에 의하여 가공 깊이가 결정되는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법.
5. The method of claim 4,
In the step of physically processing the surface of the partially heated thin film to imprint the nanoscale shape,
A method of modifying the surface of a thin film through a roll-to-roll process in which the processing depth is determined by the material temperature of the thin film and the cooling target temperature in the step of cooling the thin film.
제 4 항에 있어서,
상기 부분 가열된 박막 필름의 표면을 물리적으로 가공하여 나노 스케일의 형상을 임프린트하는 단계 동안, 부분 가열된 표면의 반대측 표면으로부터 적어도 임계값 이상의 두께만큼, 연화점 이하의 온도가 유지되도록 처리하는 롤투롤 공정을 통한 박막 필름의 표면개질 방법.
5. The method of claim 4,
A step of performing physical processing of the surface of the partially heated thin film to impregnate the shape of the nanoscale so that a temperature of at least a thickness equal to or more than the threshold value is maintained from the opposite side surface of the partially heated surface to a temperature below the softening point, / RTI > The method for modifying the surface of a thin film through <
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