KR20150144974A - Photomask Case Having Penetration Part - Google Patents

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KR20150144974A
KR20150144974A KR1020140074107A KR20140074107A KR20150144974A KR 20150144974 A KR20150144974 A KR 20150144974A KR 1020140074107 A KR1020140074107 A KR 1020140074107A KR 20140074107 A KR20140074107 A KR 20140074107A KR 20150144974 A KR20150144974 A KR 20150144974A
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조승열
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세양전자 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a photomask case comprising a penetration part. According to the present invention, the photomask case comprises: a housing including a base and a cover formed to be opened and closed from the base, forming an accommodating space sealed from the outside while the cover is closed, and mixed with poly carbonate; a support part provided on the base and the cover so as to support a photomask accommodated in the accommodating space; and a penetration part provided in the housing, formed to have transparency, and allowing a user to check the accommodating space from the outside with the naked eye while the cover is closed.

Description

투시부를 포함하는 포토마스크 케이스{Photomask Case Having Penetration Part}(Photomask Case Having Penetration Part)

본 발명은 포토마스크를 수용하여 보관하는 포토마스크 케이스에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폴리 카보네이트가 혼입된 하우징에 투시부가 형성된 포토마스크 케이스에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a photomask case for accommodating and storing a photomask, and more particularly, to a photomask case having a penetration portion formed in a housing containing polycarbonate.

일반적으로 미세화된 IC회로의 제조를 위해 복잡한 형상의 회로 패턴을 반도체 기판의 표면에 전사하는 과정을 거치게 되며, 이때 상기와 같은 회로 패턴이 형성된 것을 포토마스크라 한다.Generally, in order to manufacture a miniaturized IC circuit, a circuit pattern of a complicated shape is transferred to a surface of a semiconductor substrate. In this case, the circuit pattern is formed as a photomask.

이와 같은 포토마스크는 반도체의 집적도가 날이 갈수록 상승함에 따라 더욱 미세해지고, 보다 정밀해지고 있는 추세이다. 즉 포토마스크의 손상 또는 이물질의 부착은 미세한 패턴 형성에 절대적인 악영향을 미치게 되므로, 포토마스크의 보관 및 운반 취급은 매우 주의를 기울여야 할 필요가 있다.Such a photomask is becoming finer and more precise as the degree of integration of the semiconductor increases day by day. That is, damage to the photomask or adherence of the foreign material adversely affects the formation of a fine pattern, so it is necessary to pay careful attention to the storage and handling of the photomask.

따라서 이와 같은 포토마스크를 안정적으로 보관 및 운반하기 위해, 포토마스크 전용의 케이스가 개발되어 사용되고 있다. 그리고 상기와 같은 포토마스크 케이스는, 포토마스크의 물리적 안정화 외에도 우수한 대전 방지 기능을 보유하여야 할 필요가 있다. 이는 포토마스크의 미세 패턴이 정전기에 의해 손실될 가능성이 있기 때문이다.Therefore, in order to stably store and transport such a photomask, a case dedicated to a photomask has been developed and used. In addition, the above-described photomask case needs to have an excellent antistatic function in addition to the physical stabilization of the photomask. This is because there is a possibility that the fine pattern of the photomask is lost due to static electricity.

다만, 종래의 포토마스크 케이스의 경우 그 재질이 일반적인 합성수지로 이루어지므로, 대전 방지 기능이 미미하다는 문제가 있었다. 이에 따라 포토마스크의 미세 패턴이 정전기에 의해 손실되는 치명적인 문제가 종종 발생하기도 하였다.However, the conventional photomask case has a problem that its antistatic function is insufficient because its material is made of general synthetic resin. Thus, a fatal problem that a fine pattern of a photomask is lost due to static electricity often occurs.

따라서 이와 같은 문제점들을 해결하기 위한 방법이 요구된다.Therefore, a method for solving such problems is required.

한국등록실용신안 제20-0212351호Korean Registered Utility Model No. 20-0212351

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 발명으로서, 대전 방지 성능을 대폭 향상시킨 포토마스크 케이스를 제공하기 위함이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art described above, and it is an object of the present invention to provide a photomask case with greatly improved antistatic performance.

또한 상기 포토마스크 케이스의 사용 시 미세 파티클이 발생하는 것을 방지하기 위한 포토마스크 케이스를 제공하기 위함이다.The present invention also provides a photomask case for preventing fine particles from being generated when the photomask case is used.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 투시부를 포함하는 포토마스크 케이스는, 베이스, 및 상기 베이스로부터 개폐 가능하게 형성된 커버를 포함하고, 상기 커버가 폐쇄된 상태에서 외부로부터 밀폐된 수용공간을 형성하며, 폴리 카보네이트가 혼입된 하우징, 상기 베이스 및 상기 커버에 구비되어 상기 수용공간에 수용되는 포토마스크를 지지하는 지지부 및 상기 하우징에 구비되며, 투명성을 가지도록 형성되어 상기 커버가 폐쇄된 상태에서 외부로부터 상기 수용공간을 육안으로 확인할 수 있도록 하는 투시부를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a photomask case including a base and a cover which is openable and closable from the base, wherein the cover is closed to form an enclosed accommodation space from the outside, A support for supporting the photomask, the support being provided in the base and the cover, the photomask being accommodated in the accommodating space, and a cover provided on the housing, the cover being formed to have transparency, And a sight portion for visually confirming the accommodation space.

그리고 상기 베이스, 상기 커버 및 상기 지지부 중 적어도 어느 하나에는 도전성 입자가 혼입될 수 있다.At least one of the base, the cover, and the support may include conductive particles.

또한 상기 투시부에 도전성 입자가 더 혼입될 수 있다.Further, conductive particles may be further incorporated into the transparent portion.

그리고 상기 투시부는 투명성을 가지는 사출부재로 형성되며, 상기 하우징은 상기 투시부를 인서트로 하여 인서트 성형될 수 있다.The transparent portion is formed of an injection member having transparency, and the housing can be insert-molded using the transparent portion as an insert.

또한 상기 투시부의 둘레에는 외측으로 돌출된 고정돌기가 형성될 수 있다.Further, a fixing protrusion protruding outwardly may be formed around the perimeter.

그리고 상기 하우징 중 상기 투시부의 둘레 영역에는 상기 고정돌기를 감싸는 고정부가 형성될 수 있다.A fixing portion for surrounding the fixing protrusion may be formed in a peripheral region of the transparent portion of the housing.

또한 상기 고정부는, 상기 고정돌기의 상측을 감싸는 상부고정부와, 상기 고정돌기의 하측을 감싸는 하부고정부를 포함할 수 있다.The fixing portion may include an upper fixing portion surrounding the upper side of the fixing protrusion and a lower fixing portion surrounding the lower side of the fixing protrusion.

그리고 상기 하부고정부는 상기 상부고정부보다 길게 형성될 수 있다.The lower fixing part may be longer than the upper fixing part.

또한 상기 하부고정부는, 제1두께를 가지는 연장영역 및 상기 연장영역의 끝단에 구비되고, 상기 제1두께보다 두꺼운 제2두께를 가지는 분진유출방지영역을 포함할 수 있다.The lower fixing portion may include an extended region having a first thickness and a dust prevention region provided at an end of the extended region and having a second thickness greater than the first thickness.

그리고 상기 지지부는, 상기 커버 및 상기 베이스의 코너 측에 한 쌍이 서로 이격되도록 구비될 수 있다.The support portion may be provided on the corner side of the cover and the base so as to be spaced apart from each other.

또한 상기 커버 및 상기 베이스의 코너 측에 구비된 한 쌍의 지지부는 상기 포토마스크의 서로 다른 모서리를 지지하도록 수직하게 배치될 수 있다.Further, the cover and the pair of supports provided on the corner side of the base may be vertically arranged to support the different corners of the photomask.

그리고 상기 지지부에는, 상기 포토마스크의 모서리가 삽입되는 삽입홈이 형성될 수 있다.The supporting portion may be formed with an insertion groove into which the edge of the photomask is inserted.

또한 상기 삽입홈의 바닥면은 하향 경사지게 형성되어 상기 포토마스크와 점 접촉될 수 있다.Further, the bottom surface of the insertion groove may be formed in a downward sloping manner and may be in point contact with the photomask.

그리고 상기 베이스에 구비된 지지부의 높이는, 상기 커버에 구비된 지지부의 높이보다 높게 형성될 수 있다.Further, the height of the support portion provided on the base may be higher than the height of the support portion provided on the cover.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 투시부를 포함하는 포토마스크 케이스는 다음과 같은 효과가 있다.In order to solve the above-described problems, the photomask case including the perspective portion of the present invention has the following effects.

첫째, 하우징에 폴리 카보네이트가 혼입되므로, 종래에 비해 매우 우수한 대전 방지 성능을 가질 수 있는 장점이 있다.First, since the polycarbonate is mixed in the housing, there is an advantage that it can have a very excellent antistatic performance compared to the conventional one.

둘째, 상기 하우징이 폴리 카보네이트가 혼입됨으로 인한 불투명성을 가지나, 투시부를 통해 수용공간을 육안으로 확인할 수 있는 장점이 있다.Secondly, although the housing has opacity due to incorporation of polycarbonate, there is an advantage that the accommodation space can be visually confirmed through the transparent portion.

셋째, 투시부가 형성됨으로 인한 미세 파티클 발생 가능성을 원천적으로 차단할 수 있는 장점이 있다.Third, there is an advantage that the possibility of fine particles due to the formation of the penetration portion can be fundamentally blocked.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스의 전체 모습을 나타낸 사시도;
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 커버 및 베이스가 분리된 상태의 모습을 나타낸 사시도;
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 지지부의 모습을 나타낸 사시도;
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 하우징의 수용공간에 포토마스크가 수용된 모습을 나타낸 단면도;
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 투시부 및 둘레 영역의 구조를 나타낸 단면도;
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 투시부 및 둘레 영역의 구조를 나타낸 단면도;
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 지지부의 형상을 나타낸 단면도; 및
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 커버에 구비된 지지부 및 베이스에 구비된 지지부의 모습을 나타낸 단면도이다.1 is a perspective view showing an entire structure of a photomask case according to a first embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a perspective view of a photomask case according to a first embodiment of the present invention, in which a cover and a base are separated; FIG.
FIG. 3 is a perspective view of a support of a photomask case according to a first embodiment of the present invention; FIG.
4 is a cross-sectional view of a photomask case according to a first embodiment of the present invention in which a photomask is accommodated in a housing space of a housing;
5 is a cross-sectional view showing the structure of a perimeter region and a perimeter region in the photomask case according to the first embodiment of the present invention;
6 is a cross-sectional view showing the structure of a perimeter region and a perimeter region in a photomask case according to a second embodiment of the present invention;
7 is a cross-sectional view showing the shape of a support portion of the photomask case according to the third embodiment of the present invention; And
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a support portion provided on the cover and a support portion provided on the base in the photomask case according to the fourth embodiment of the present invention.

이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiment, the same designations and the same reference numerals are used for the same components, and further description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스의 전체 모습을 나타낸 사시도이며, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 커버(100a) 및 베이스(100b)가 분리된 상태의 모습을 나타낸 사시도이다.FIG. 1 is a perspective view showing an entire structure of a photomask case according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view of a cover 100a and a base 100b of the photomask case according to the first embodiment of the present invention. And FIG.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스는 하우징(100)과, 지지부(120)와, 투시부(110)를 포함한다.1 and 2, the photomask case according to the first embodiment of the present invention includes a housing 100, a support 120, and a transparent portion 110.

구체적으로 상기 하우징(100)은 베이스(100b)와 커버(100a)를 포함하며, 상기 커버(100a)는 상기 베이스(100b)로부터 개폐 가능하게 형성된다. 그리고 상기 커버(100a) 및 상기 베이스(100b)의 개폐 방식은 제한 없이 다양하게 이루어질 수 있다.Specifically, the housing 100 includes a base 100b and a cover 100a. The cover 100a is openable and closable from the base 100b. The opening and closing of the cover 100a and the base 100b can be variously performed without limitation.

본 실시예의 경우, 상기 커버(100a)는 상기 베이스(100b)로부터 분리 및 결합되도록 상기 베이스(100b)와 독립적으로 형성되며, 상기 커버(100a)와 상기 베이스(100b)가 결합된 상태에서 별도의 클립 등을 이용하여 고정된다. 이에 따라 상기 커버(100a)와 상기 베이스(100b)에는 상기 클립이 걸리는 걸림돌기(102)가 형성된다.The cover 100a is formed independently of the base 100b so as to be separated from and coupled to the base 100b and the cover 100a and the base 100b are coupled to each other, Clips or the like. Accordingly, the cover 100a and the base 100b are formed with the locking protrusions 102 for catching the clip.

다만, 이와 달리 상기 커버(100a)는 상기 베이스(100b)로부터 힌지 방식으로 연결되어 개폐되도록 할 수도 있는 등 다양한 개폐 방식을 가질 수 있음은 물론이다. 또한 상기 커버(100a)와 상기 베이스(100b)의 상호 고정 방식 역시 다양한 방법이 사용될 수 있을 것이다.Alternatively, the cover 100a may be hingedly connected to the base 100b to open or close the cover 100a, or the like. Also, various methods of mutual fixing of the cover 100a and the base 100b may be used.

그리고 상기 커버(100a)가 폐쇄된 상태에서 상기 하우징(100)의 내부에는 외부로부터 밀폐된 수용공간이 형성되며, 이후 포토마스크는 상기 수용공간에 수용된다.In a state in which the cover 100a is closed, an enclosed accommodation space is formed inside the housing 100 from the outside, and then the photomask is accommodated in the accommodation space.

본 실시예에서 상기 커버(100a) 및 상기 베이스(100b)는 각각 제1수용공간(S1) 및 제2수용공간(S2)을 가지도록 형성되어 상기 수용공간을 분할하도록 형성된다. 물론, 이와 달리 상기 커버(100a) 및 상기 베이스(100b) 중 어느 일측만이 수용공간을 가지도록 형성될 수도 있을 것이다.In the present embodiment, the cover 100a and the base 100b are formed to have a first accommodation space S 1 and a second accommodation space S 2, respectively, so as to divide the accommodation space. Alternatively, only one of the cover 100a and the base 100b may have a receiving space.

한편 상기 하우징(100)은, 폴리 카보네이트가 혼입된다. 상기 폴리 카보네이트는 흑색의 미세한 탄소분말로서, 그 입자의 크기는 1∼500mℓ 정도로 형성된다. 그리고 상기 하우징(100)의 성형 과정에서 상기 폴리 카보네이트를 첨가하여 혼합 가열할 경우 상기 하우징(100)은 도전성을 가지게 되며, 그 고유저항은 혼합 물질의 배합비율에 따라 1x10-4~10-9Ωcm의 범위 내에서 임의로 변화시킬 수 있다.On the other hand, the housing 100 incorporates polycarbonate. The polycarbonate is a black fine carbon powder, and its particle size is about 1 to 500 mℓ. When the polycarbonate is added and mixed and heated in the molding process of the housing 100, the housing 100 is made conductive, and its resistivity is 1 × 10 -4 to 10 -9 Ωcm And can be arbitrarily changed within the range.

또한 본 실시예에서 상기 하우징(100)에는 도전성 입자가 더 포함될 수 있다. 이와 같이 상기 폴리 카보네이트와 상기 도전성 입자를 동시에 혼입할 경우, 낮은 저항치를 가지도록 형성되어 대전 방지 성능을 대폭 향상시킬 수 있다. 따라서 본 발명의 포토마스크 케이스는 정전기의 발생을 원천적으로 차단하여 포토마스크가 손상되지 않도록 보관이 가능하게 된다.Also, in the present embodiment, the housing 100 may further include conductive particles. When the polycarbonate and the conductive particles are mixed together at the same time, they have a low resistance value and can greatly improve the antistatic performance. Therefore, the photomask case of the present invention can prevent the photomask from being damaged by originally blocking the generation of static electricity.

다만, 이와 같이 하우징(100)에 폴리 카보네이트가 혼입될 경우에는, 상기 하우징(100)이 불투명해지므로, 상기 하우징(100)의 내부를 용이하게 확인할 수 없다는 문제가 있다. 내부의 확인을 위해 커버(100a)를 개방할 경우, 상기 커버(100a)와 하우징(100b) 간의 마찰에 의해 미세 파티클이 발생할 가능성이 있으므로, 이와 같은 확인 방법은 바람직하지 않을 수 있다.However, when the polycarbonate is mixed into the housing 100, the housing 100 becomes opaque, so that the inside of the housing 100 can not be easily confirmed. When the cover 100a is opened for the inside confirmation, fine particles may be generated due to friction between the cover 100a and the housing 100b, so that such a confirmation method may not be preferable.

따라서 본 실시예의 경우, 상기 하우징(100)의 일측에는 투시부(110)가 형성된다. 상기 투시부(110)는 투명성을 가지도록 형성되어 상기 커버(100a)가 폐쇄된 상태에서 외부로부터 상기 수용공간을 육안으로 확인할 수 있도록 하는 구성요소이다.Therefore, in the present embodiment, the perspective portion 110 is formed on one side of the housing 100. The perimeter 110 is formed to have transparency and is a constituent element for visually confirming the accommodating space from the outside in a state in which the cover 100a is closed.

상기 투시부(110)는 투명성을 가질 필요가 있으므로, 상기 투시부(110)에는 상기 카본 블랙이 소량 혼입, 또는 혼입되지 않도록 형성될 수 있으며, 상기 도전성 입자는 선택적으로 혼입될 수 있다.Since the penetration portion 110 needs to have transparency, the penetration portion 110 may be formed such that the carbon black is not mixed or mixed with a small amount, and the conductive particles may be selectively incorporated.

이와 같이 본 발명의 하우징(100)에는 투시부(110)가 형성되므로, 대전 방지 성능을 대폭 향상시키는 동시에 상기 커버(100a)의 개폐로 인한 미세 파티클의 발생을 방지할 수 있다. 즉 폴리 카보네이트의 혼입으로 인해 하우징(100)이 불투명해져 육안으로는 내부를 확인할 수 없게 되나, 본 발명의 경우 상기 투시부(110)를 통해 커버(100a)의 개폐 없이도 내부를 확인할 수 있는 장점을 가진다.Since the transparent portion 110 is formed in the housing 100 of the present invention, it is possible to greatly enhance the antistatic performance and to prevent the generation of fine particles due to the opening and closing of the cover 100a. That is, the housing 100 becomes opaque due to the incorporation of polycarbonate, and the inside can not be visually confirmed. However, in the present invention, the inside can be confirmed without opening / closing the cover 100a through the transparent portion 110 I have.

이때 상기 투시부(110)는 상기 하우징(100)과 별도로 사출되므로, 상기 투시부(110)와 상기 하우징(100) 사이에 유격이 발생하여 흔들림 등이 발생할 수 있는 문제가 있을 수 있다. 따라서 본 실시예의 경우 상기 투시부(110) 및 상기 하우징(100)은 인서트 사출에 의해 성형되며, 이에 대해서는 후술하도록 한다.At this time, since the perimeter 110 is separately projected from the housing 100, a clearance may be generated between the perimeter 110 and the housing 100, resulting in a problem of wobbling. Therefore, in the case of the present embodiment, the transparent portion 110 and the housing 100 are formed by insert injection, which will be described later.

상기 지지부(120)는 상기 베이스(100b) 및 상기 커버(100a)에 구비되어 상기 수용공간에 수용되는 포토마스크를 지지하는 구성요소이며, 본 실시예의 경우 상기 포토마스크는 사각형 형상으로 형성되므로, 상기 지지부(120) 역시 상기 포토마스크의 코너 측에 구비된다.The supporting portion 120 is a component that is provided in the base 100b and the cover 100a to support a photomask accommodated in the accommodating space. In the present embodiment, the photomask is formed in a rectangular shape, The supporting portion 120 is also provided on the corner side of the photomask.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 지지부(120)의 모습을 나타낸 사시도이며, 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 하우징(100)의 수용공간에 포토마스크(M)가 수용된 모습을 나타낸 단면도이다.FIG. 3 is a perspective view showing a support 120 in a photomask case according to a first embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of a photomask according to the first embodiment of the present invention, And the photomask M is accommodated in the receiving space of the photomask.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서 상기 지지부(120)는 상기 포토마스크의 코너 측에 제1지지부(120a) 및 제2지지부(120b)를 포함하여 한 쌍이 구비된다.As shown in FIG. 3, in the present embodiment, the support part 120 includes a pair of first and second support parts 120a and 120b on the corner side of the photomask.

즉 서로 수직하게 배열된 제1지지부(120a) 및 제2지지부(120b)가 포토마스크의 서로 다른 모서리를 지지하게 되므로 흔들림을 방지할 수 있으며, 이때 상기 제1지지부(120a) 및 제2지지부(120b)에는 상기 포토마스크의 모서리가 삽입되는 삽입홈(122)이 형성된다.That is, since the first and second support portions 120a and 120b, which are vertically aligned with each other, support different corners of the photomask, it is possible to prevent the first support portion 120a and the second support portion 120a 120b are formed with insertion grooves 122 into which the corners of the photomask are inserted.

그리고 도 4와 같이, 상기 포토마스크(M)의 각 모서리가 상기 복수의 지지부(120)에 각각 삽입된 상태에서 커버(100a)를 폐쇄하게 되며, 이때 상기 커버(100a) 측에 구비된 지지부(120)가 상기 포토마스크(M)를 가압하게 된다. 따라서 상기 포토마스크(M)는 흔들림 없이 안정적으로 고정될 수 있다.4, the cover 100a is closed while each edge of the photomask M is inserted into the plurality of support portions 120. At this time, the support portion (not shown) provided on the cover 100a side 120) press the photomask (M). Therefore, the photomask M can be stably fixed without shaking.

또한 상기 지지부(120)는 본 실시예 외에도 다양한 형태로 형성될 수 있음은 물론이다.Further, the supporting part 120 may be formed in various forms other than the embodiment.

이상으로 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 대해 자세히 설명하였으며, 이하에서는 상기 투시부(110) 및 하우징(100)의 사출방법 및 그 구조에 대해 보다 자세히 설명하도록 한다.The photomask case according to the first embodiment of the present invention has been described in detail. Hereinafter, the injection method and the structure of the perimeter 110 and the housing 100 will be described in more detail.

도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 투시부(110) 및 둘레 영역의 구조를 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing the structure of the perimeter region 110 and the peripheral region in the photomask case according to the first embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서 상기 투시부(110)는 투명성을 가지는 사출부재로 형성되며, 하우징(100)의 일부 영역에 구비된다. 본 실시예의 경우 상기 투시부(110)는 사각형 형상으로 형성되며, 커버(100a) 측에 구비되는 것으로 하였다.As shown in FIG. 5, in the present embodiment, the perimeter 110 is formed of an injection member having transparency and is provided in a part of the housing 100. In the present embodiment, the perspective portion 110 is formed in a rectangular shape and is provided on the cover 100a side.

전술한 바와 같이, 상기 투시부(110)는 상기 하우징(100)과 별도로 사출되므로, 상기 투시부(110)와 상기 하우징(100) 사이에 유격이 발생하여 흔들림 등이 발생할 수 있는 문제가 있을 수 있다.As described above, since the perimeter 110 is separately projected from the housing 100, there is a possibility that a clearance is generated between the perimeter 110 and the housing 100, have.

따라서 본 실시예의 경우 상기 커버(100a)는 상기 투시부(110)를 인서트로 하여 인서트 성형된다. 즉 상기 투시부(110)를 먼저 사출한 뒤, 이를 성형장치에 삽입하고, 상기 투시부(110)의 둘레에 수지를 주입함에 따라 상기 투시부(110)와 커버(100a)가 일체화될 수 있다.Therefore, in the case of this embodiment, the cover 100a is insert-molded by using the transparent portion 110 as an insert. That is, the transparent portion 110 and the cover 100a may be integrated by injecting the transparent portion 110 first, inserting the transparent portion 110 into the molding device, and injecting the resin around the transparent portion 110 .

따라서 상기 투시부(110)를 커버(100a)에 결합하는 별도의 공정이 요구되지 않아 수율을 증가시킬 수 있음은 물론이며, 상기 투시부(110)의 결합 과정에서 미세 파티클이 발생하는 것을 원천적으로 방지할 수 있다.Therefore, a separate process of coupling the penetration unit 110 to the cover 100a is not required, and the yield can be increased. It is needless to say that the generation of fine particles in the process of combining the penetration unit 110 .

또한 본 실시예에서, 상기 투시부(110)의 둘레에는 외측으로 돌출된 고정돌기(112)가 형성되며, 상기 커버(100a) 중 상기 투시부(110)의 둘레 영역에는 상기 고정돌기(112)를 감싸는 고정부(104, 106)가 형성된다.In the present embodiment, a fixing protrusion 112 protruding outward is formed around the perimeter 110, and the fixing protrusion 112 is formed in a peripheral region of the perimeter 110 of the cover 100a. The fixing portions 104 and 106 are formed.

그리고 상기 고정부(104, 106)는, 상기 고정돌기(112)의 상측을 감싸는 상부고정부(106)와, 상기 고정돌기(112)의 하측을 감싸는 하부고정부(104)를 포함한다.The fixing portions 104 and 106 include an upper fixing portion 106 for covering an upper side of the fixing protrusion 112 and a lower fixing portion 104 for covering a lower side of the fixing protrusion 112.

즉 인서트 성형 과정에서 주입되는 수지는 상기 고정돌기(112)의 상하로 유입되므로, 상기 커버(100a)에는 이와 같이 고정부(104, 106)가 형성되며, 상기 투시부(110)를 안정적으로 고정시킬 수 있게 된다.That is, the resin injected in the insert molding process flows above and below the fixing protrusions 112, so that the fixing portions 104 and 106 are formed on the cover 100a, and the fixing portion 110 is stably fixed .

이상으로 본 발명의 제1실시예에 대해 설명하였으며, 이하에서는 본 발명의 다른 실시예에 대해 설명하도록 한다.The first embodiment of the present invention has been described above, and other embodiments of the present invention will be described below.

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 투시부(110) 및 둘레 영역의 구조를 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing the structure of the perimeter region 110 and the peripheral region in the photomask case according to the second embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 포토마스크 케이스는 전술한 제1실시예와 전체적으로 동일하게 형성되나, 투시부(110)의 세부 형상 및 커버(100a)의 고정부(204, 106)가 다르게 형성된다.6, the photomask case according to the second embodiment of the present invention is formed in the same manner as the first embodiment described above. However, the detailed configuration of the transparent portion 110 and the fixing portion of the cover 100a, (204, 106) are formed differently.

구체적으로 본 실시예에서 상기 하부고정부(204)는 상기 상부고정부(106)보다 길게 형성되며, 이때 상기 하부고정부(204)는 제1두께를 가지는 연장영역(204a) 및 상기 연장영역(204a)의 끝단에 구비되고, 상기 제1두께보다 두꺼운 제2두께를 가지는 분진유출방지영역(204b)을 포함한다.Specifically, in the present embodiment, the lower fixing part 204 is formed to be longer than the upper fixing part 106, wherein the lower fixing part 204 has an extended area 204a having a first thickness and an extended area 204a having a first thickness, And a dust-outflow preventing region 204b provided at an end of the first dust-proofing member 204a and having a second thickness greater than the first thickness.

즉 본 실시예의 경우 상기 하부고정부(204)는 상기 연장영역(204a)의 두께가 상기 분진유출방지영역(204b)보다 두께가 얇게 형성되므로, 상측에서 바라볼 때 함몰된 형태를 형성한다.That is, in the case of this embodiment, since the thickness of the extended region 204a is formed to be thinner than the dust leakage preventing region 204b, the lower fixing portion 204 forms a recessed shape when viewed from above.

본 실시예에서 상기 투시부(110)와 커버(100a)는 인서트 성형되므로 양측 사이에 유격이 발생하지 않으며, 마찰에 의한 미세 파티클 발생 위험은 거의 없다고 사료되나, 혹시 미세 파티클이 발생된다고 하더라도, 상기 하부고정부(204)가 상기와 같은 형상으로 형성됨으로 인해 발생된 미세 파티클은 상기 연장영역(204a)의 상면에 안착될 것이다. 그리고 상기 분진유출방지영역(204b)은 상기 연장영역(204a)의 상면에 안착된 미세 파티클이 수용공간 내부로 유입되는 것을 차단하게 되므로, 본 발명 포토마스크 케이스의 신뢰도를 더욱 향상시킬 수 있다.In this embodiment, since the penetration part 110 and the cover 100a are insert-molded, there is no clearance between both sides, and there is almost no risk of occurrence of fine particles due to friction. However, even if fine particles are generated, The fine particles generated due to the shape of the lower fixing portion 204 as described above will be seated on the upper surface of the extended region 204a. The dust leakage preventing region 204b blocks the fine particles deposited on the upper surface of the extended region 204a from flowing into the receiving space. Therefore, the reliability of the photomask case of the present invention can be further improved.

도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 지지부(220)의 형상을 나타낸 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing the shape of the support portion 220 of the photomask case according to the third embodiment of the present invention.

도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 따른 포토마스크 케이스의 지지부(220)는, 전술한 제1실시예와 마찬가지로 포토마스크(M)가 삽입되는 삽입홈(222)이 형성된다.7, the supporting part 220 of the photomask case according to the third embodiment of the present invention is formed with an insertion groove 222 into which the photomask M is inserted, similarly to the first embodiment described above do.

다만, 본 실시예의 경우 상기 삽입홈(222)의 바닥면(223)이 하향 경사지게 형성되며, 이에 따라 상기 지지부(220)는 상기 포토마스크(M)와 점 접촉된다.However, in this embodiment, the bottom surface 223 of the insertion groove 222 is inclined downward, so that the supporting portion 220 is in point contact with the photomask M.

따라서 본 실시예의 경우, 상기 포토마스크(M)를 최소 접점만으로 지지할 수 있어 상기 포토마스크(M)의 표면이 손상되는 것을 방지할 수 있는 장점을 가진다.Therefore, in the present embodiment, the photomask M can be supported only by the minimum contact point, and the surface of the photomask M can be prevented from being damaged.

도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 포토마스크 케이스에 있어서, 커버(100a)에 구비된 지지부(220a) 및 베이스(100b)에 구비된 지지부(220b)의 모습을 나타낸 단면도이다.FIG. 8 is a cross-sectional view showing a support portion 220a provided on the cover 100a and a support portion 220b provided on the base 100b in the photomask case according to the fourth embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제4실시예에 따른 포토마스크 케이스의 지지부(220a, 220b)는, 전술한 제3실시예와 마찬가지로 포토마스크(M)가 삽입되는 삽입홈이 형성된다는 점이 동일하다.As shown in FIG. 8, the support portions 220a and 220b of the photomask case according to the fourth embodiment of the present invention are similar to those of the third embodiment described above except that the insertion grooves into which the photomask M is inserted are formed The points are the same.

다만, 본 실시예의 경우 상기 베이스(100b)에 구비된 지지부(220b)의 높이는, 상기 커버(100a)에 구비된 지지부(220a)의 높이보다 높게 형성된다는 것이 다르다.However, in this embodiment, the height of the support portion 220b of the base 100b is different from that of the support portion 220a of the cover 100a.

최근에는 기술의 발전에 따라 포토마스크의 면적이 증가하고 있는 추세이며, 이에 따라 상기 지지부(220a, 220b)로 포토마스크의 모서리를 지지할 경우, 상기 포토마스크의 중심부가 자중에 의해 처지는 현상이 발생하게 된다.In recent years, the area of the photomask has been increasing with the development of technology. Accordingly, when the corners of the photomask are supported by the supporting portions 220a and 220b, the central portion of the photomask is sagged by its own weight .

따라서 본 실시예에서는 상기 베이스(100b)에 구비된 지지부(220b)의 높이를 상기 커버(100a)에 구비된 지지부(220a)의 높이보다 높게 형성하여, 상기 포토마스크에 처짐 현상이 발생함에 따라 상기 포토마스크의 하면이 상기 베이스(100b)의 바닥면에 접촉되는 것을 방지할 수 있다.Therefore, in this embodiment, the height of the support part 220b provided on the base 100b is set to be higher than the height of the support part 220a provided on the cover 100a, and as the sagging phenomenon occurs in the photomask, It is possible to prevent the bottom surface of the photomask from contacting the bottom surface of the base 100b.

또한 이와 같은 현상은 상기 포토마스크 케이스를 운반 중 흔들림에 의해 보다 심해질 수 있으므로, 이를 고려하여 상기 지지부(220a, 220b)의 높이를 설정할 수 있을 것이다.In addition, such a phenomenon may be further exacerbated by shaking during transport of the photomask case, so that the heights of the supports 220a and 220b may be set in consideration of this.

더불어, 상기 베이스(100b) 측에 구비된 지지부(220b)의 높이가 높게 형성되므로 사용자가 상기 베이스(100b)에 수용된 포토마스크를 보다 용이하게 인출할 수 있게 됨은 물론이다.
In addition, since the height of the support portion 220b provided on the base 100b is high, the user can easily take out the photomask stored in the base 100b.

이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.It will be apparent to those skilled in the art that the present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments are to be considered as illustrative rather than restrictive, and the present invention is not limited to the above description, but may be modified within the scope of the appended claims and equivalents thereof.

100: 하우징 100a: 커버
100b: 베이스 110: 투시부
120: 지지부 M: 포토마스크100: housing 100a: cover
100b: base 110:
120: Support part M: Photomask

Claims (14)

베이스, 및 상기 베이스로부터 개폐 가능하게 형성된 커버를 포함하고, 상기 커버가 폐쇄된 상태에서 외부로부터 밀폐된 수용공간을 형성하며, 폴리 카보네이트가 혼입된 하우징;
상기 베이스 및 상기 커버에 구비되어 상기 수용공간에 수용되는 포토마스크를 지지하는 지지부; 및
상기 하우징에 구비되며, 투명성을 가지도록 형성되어 상기 커버가 폐쇄된 상태에서 외부로부터 상기 수용공간을 육안으로 확인할 수 있도록 하는 투시부;
를 포함하는 포토마스크 케이스.A housing including a base and a cover formed to be openable and closable from the base, the housing including a closed space formed in an enclosed state in which the cover is closed, the polycarbonate being enclosed;
A support provided on the base and the cover to support a photomask accommodated in the accommodation space; And
A transparent portion provided in the housing and having transparency to allow the accommodating space to be visually recognized from the outside in a state that the cover is closed;
And a photomask. 제1항에 있어서,
상기 베이스, 상기 커버 및 상기 지지부 중 적어도 어느 하나에는 도전성 입자가 혼입된 포토마스크 케이스.The method according to claim 1,
Wherein at least one of the base, the cover, and the supporting portion contains conductive particles. 제2항에 있어서,
상기 투시부에 도전성 입자가 더 혼입된 포토마스크 케이스.3. The method of claim 2,
And the conductive particles are further mixed into the transparent portion. 제1항에 있어서,
상기 투시부는 투명성을 가지는 사출부재로 형성되며,
상기 하우징은 상기 투시부를 인서트로 하여 인서트 성형되는 포토마스크 케이스.The method according to claim 1,
Wherein the transparent portion is formed of an injection member having transparency,
Wherein the housing is insert-molded with the transparent portion as an insert. 제4항에 있어서,
상기 투시부의 둘레에는 외측으로 돌출된 고정돌기가 형성된 포토마스크 케이스.5. The method of claim 4,
And a fixing protrusion protruded outward is formed around the perimeter of the photomask. 제5항에 있어서,
상기 하우징 중 상기 투시부의 둘레 영역에는 상기 고정돌기를 감싸는 고정부가 형성된 포토마스크 케이스.6. The method of claim 5,
Wherein a fixing portion for surrounding the fixing protrusion is formed in a peripheral region of the perimeter of the housing. 제6항에 있어서,
상기 고정부는,
상기 고정돌기의 상측을 감싸는 상부고정부와, 상기 고정돌기의 하측을 감싸는 하부고정부를 포함하는 포토마스크 케이스.The method according to claim 6,
The fixing unit includes:
An upper fixing part surrounding the upper side of the fixing protrusion, and a lower fixing part surrounding the lower side of the fixing protrusion. 제7항에 있어서,
상기 하부고정부는 상기 상부고정부보다 길게 형성된 포토마스크 케이스.8. The method of claim 7,
Wherein the lower fixing part is longer than the upper fixing part. 제8항에 있어서,
상기 하부고정부는,
제1두께를 가지는 연장영역; 및
상기 연장영역의 끝단에 구비되고, 상기 제1두께보다 두꺼운 제2두께를 가지는 분진유출방지영역;
을 포함하는 포토마스크 케이스.9. The method of claim 8,
The lower fixing part
An extension region having a first thickness; And
A dust leakage preventing region provided at an end of the extended region and having a second thickness that is thicker than the first thickness;
And a photomask. 제1항에 있어서,
상기 지지부는,
상기 커버 및 상기 베이스의 코너 측에 한 쌍이 서로 이격되도록 구비된 포토마스크 케이스.The method according to claim 1,
The support portion
And a pair of the cover and the base are spaced apart from each other on the corner side. 제10항에 있어서,
상기 커버 및 상기 베이스의 코너 측에 구비된 한 쌍의 지지부는 상기 포토마스크의 서로 다른 모서리를 지지하도록 수직하게 배치된 포토마스크 케이스.11. The method of claim 10,
Wherein the cover and the pair of supporting portions provided on the corner side of the base are vertically arranged to support different corners of the photomask. 제1항에 있어서,
상기 지지부에는,
상기 포토마스크의 모서리가 삽입되는 삽입홈이 형성된 포토마스크 케이스.The method according to claim 1,
In the supporting portion,
Wherein the photomask has an insertion groove into which the edge of the photomask is inserted. 제12항에 있어서,
상기 삽입홈의 바닥면은 하향 경사지게 형성되어 상기 포토마스크와 점 접촉되는 포토마스크 케이스.13. The method of claim 12,
Wherein a bottom surface of the insertion groove is formed in a downward sloping manner and is in point contact with the photomask. 제1항에 있어서,
상기 베이스에 구비된 지지부의 높이는, 상기 커버에 구비된 지지부의 높이보다 높게 형성된 포토마스크 케이스.The method according to claim 1,
Wherein a height of a support portion provided on the base is higher than a height of a support portion provided on the cover.
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