KR20150130166A - Head skin massage apparatus for radio frequency - Google Patents

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KR20150130166A
KR20150130166A KR1020140057398A KR20140057398A KR20150130166A KR 20150130166 A KR20150130166 A KR 20150130166A KR 1020140057398 A KR1020140057398 A KR 1020140057398A KR 20140057398 A KR20140057398 A KR 20140057398A KR 20150130166 A KR20150130166 A KR 20150130166A
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Abstract

The present invention relates to a high-frequency device for massaging scalp, which comprises: a main body composed of a head unit and a grasping unit; a power unit arranged inside the main body; a substrate unit arranged inside the main body, and connected with the power unit; an operation unit formed on a border portion of the head unit and the grasping unit, and connected with the power unit and the substrate unit; and at least one electrode arranged on the head unit, and connected with the substrate unit.

Description

고주파 두피 마사지기{Head skin massage apparatus for radio frequency}[0001] The present invention relates to a high-frequency scalp massage apparatus,

본 발명은 고주파 두피 마사지기에 관한 것이다.The present invention relates to a high frequency scalp massager.

두피 마사지는 두피에 자극을 주어 혈액순환을 개선시키고 모공 속에 쌓여 있는 노폐물과 공해물질을 배출해 영양공급을 원활하게 해준다. 신진대사가 원활해지고 머리가 상쾌해지며 한층 건강하고 찰랑거리는 머릿결을 얻을 수 있다.Scalp massage stimulates the scalp to improve blood circulation and exhaust waste and pollutants accumulated in the pores to facilitate nutrition. Your metabolism will be smooth and your hair will be refreshed, and you will get healthier and chewy hair.

두피 마사지는 손가락 끝을 사용해서 누르듯이 부드럽게 마사지한다. 아래에서 위로 아주 조금씩 손톱을 세우거나 머리카락을 당기거나 하지 않도록 부드럽게 손가락 끝으로 마사지를 한다. 입욕 중이나 목욕이 끝났을 때 등 혈행이 좋을 때 하면 더욱 효과적이다. 또 목과 어깨에 결림이 있으면 두피에도 영향을 주기 때문에 함께 목과 어깨를 돌리거나 스트레칭을 해서 유연하게 만들어준다.Massage your scalp using your fingertips and gently massage. Gently massage your fingertips so that you do not lift your fingernails or pull your hair slightly from the bottom up. It is more effective when blood circulation is good, such as when bathing or bathing is over. If there is a stiff neck and shoulder, it affects the scalp as well, so you can stretch and stretch your neck and shoulders together to make it more flexible.

이러한 두피 마사지는 단순히 손가락으로 누르는 방식으로 하므로 큰 효과를 얻을 수 없었다.Such a scalp massage was simply performed by pressing with a finger, so that a great effect could not be obtained.

등록특허 제10-1110871호 (2012.01.20)Registration No. 10-1110871 (2012.01.20)

본 발명은 두피에 고주파 전류를 흘려 보내 두피를 효율적으로 자극하여 두피 마사지 효과를 높인 고주파 두피 마사지기를 제공한다.The present invention provides a high-frequency scalp massage device in which a high-frequency current is supplied to the scalp to efficiently stimulate the scalp to enhance the scalp massage effect.

본 발명의 한 실시예에 따른 고주파 두피 마사지기는 헤드부와 파지부로 이루어진 본체, 상기 본체 내부에 배치되어 있는 전원부, 상기 본체 내부에 배치되어 있고, 상기 전원부와 연결된 기판부, 상기 파지부와 상기 헤드부 경계 부분에 형성되어 있고, 상기 전원부 및 상기 기판부와 연결된 조작부 및 상기 헤드부에 배치되어 있고 상기 기판부와 연결된 적어도 하나의 전극을 포함한다.A high frequency scalp massage device according to an embodiment of the present invention includes a main body including a head portion and a grip portion, a power source portion disposed inside the main body, a substrate portion connected to the power source portion, An operating portion formed at a boundary portion of the head portion and connected to the power source portion and the substrate portion, and at least one electrode disposed on the head portion and connected to the substrate portion.

상기 헤드부는 상기 파지부를 기준으로 10도 내지 30도로 경사져 있을 수 있다.The head portion may be inclined by 10 to 30 degrees with respect to the grip portion.

상기 헤드부의 하면에는 적어도 하나의 봉우리가 돌출되어 있고, 상기 봉우리에 상기 전극이 위치할 수 있다.At least one peak protrudes from the lower surface of the head portion, and the electrode may be positioned in the peaks.

상기 전극은 상기 봉우리 외부에 위치하고, 두피에 접촉될 수 있는 마사지부 및 상기 마사지부와 연결되어 있고, 상기 봉우리를 관통하여 상기 기판과 연결된 핀부를 포함하고, 상기 마사지부의 직경은 상기 봉우리의 직경보다 작고, 상기 핀부의 직경은 상기 마사지부의 직경보다 작을 수 있다.Wherein the electrode has a massage part which is located outside the peaks and can be brought into contact with the scalp and a fin part connected to the massage part and connected to the substrate through the peaks and the diameter of the massage part is larger than the diameter of the peaks And the diameter of the fin portion may be smaller than the diameter of the massage portion.

상기 고주파 두피 마사지기는 상기 파지부에 연결되어 있고, 상기 전원부를 단속하는 마개를 더 포함할 수 있다.The high-frequency scalp massager may further include a cap connected to the gripper and for interrupting the power source.

상기 마개는, 상기 전원부를 단속하는 단속부재, 상기 몸체에 연결되어 있고 상기 본체 내부에 위치한 이탈방지부재 및 상기 이탈방지부에 형성되어 있고 상기 본체의 내부면에 걸리는 스토퍼부재를 포함할 수 있다.The stopper may include an intermittent member for interrupting the power supply unit, a release preventing member connected to the body and located inside the main body, and a stopper member formed on the release preventing unit and hooked to the inner surface of the main body.

본 발명의 실시예에 따르면, 전극을 통해 고주파 전류를 두피에 흘려 보내게 되면서 고주파 전류가 두피를 자극하게 되며, 고주파 전류에 의해 마사지 효과가 높아질 수 있다.According to the embodiment of the present invention, a high-frequency current flows through the scalp to the scalp while the high-frequency current stimulates the scalp, and the massage effect can be enhanced by the high-frequency current.

본 발명의 실시예에 따르면, 두피에 접촉되는 마사지부의 끝부분이 반구 모양으로 형성되어 마사지부에 의한 자극을 최소화할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the end portion of the massage part contacting the scalp is formed in a hemispherical shape, so that the stimulation by the massage part can be minimized.

본 발명의 실시예에 따르면, 전극이 배치된 헤드부가 파지부를 기준으로 기설정된 각도로 기울어져 있어 인체공학적이며 사용시 손목, 팔 등에 부하가 발생하지 않는다.According to the embodiment of the present invention, the head portion where the electrodes are arranged is inclined at a predetermined angle with respect to the grip portion, so that ergonomic operation does not occur in the wrist, arm and the like during use.

본 발명의 실시예에 따르면, 고주파 두피 마사지기를 사용하지 않을 때 마개가 파지부의 개방부를 막고 있어 본체 내부로 먼지, 유체 등의 이물질이 유입되지 않는다. 이에 본체 내부가 이물질에 의해 오염되는 것을 예방할 수 있다. 또한 마개가 본체에서 분리되지 않으므로 분실될 위험이 없다.According to the embodiment of the present invention, when the high-frequency scalp massage device is not used, the stopper blocks the opening portion of the grip portion, and foreign substances such as dust and fluid do not flow into the body. Therefore, it is possible to prevent the inside of the main body from being contaminated by foreign matter. Also, there is no risk of being lost because the stopper is not detached from the body.

본 발명의 실시예에 따르면, 봉우리에 의해 전극이 본체에 접촉되는 면적이 넓어질 수 있다. 이에 전극은 본체에 안정적으로 설치며, 사용시 흔들리지 않는다.According to the embodiment of the present invention, the area in which the electrode contacts the main body by the peaks can be widened. Therefore, the electrode is stably installed in the main body, and it does not shake when used.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 고주파 두피 마사지기를 나타낸 사시도.
도 2는 도 1에 도시한 고주파 두피 마사지기를 나타낸 저면 사시도.
도 3은 도 1에 도시한 고주파 두피 마사지기를 나타낸 정면도.
도 4는 도 2에 도시한 IV-IV선을 따라 고주파 두피 마사지기를 자른 단면도.
도 5는 도 4에 도시한 A 부분 확대도.
도 6는 도 2에 도시한 VI-VI선을 따라 고주파 두피 마사지기를 자른 단면도.
도 7은 도 6에 도시한 B 부분 확대도.1 is a perspective view showing a high-frequency scalp massage device according to an embodiment of the present invention;
2 is a bottom perspective view showing the high frequency scalp massage device shown in FIG. 1;
FIG. 3 is a front view showing the high frequency scalp massage device shown in FIG. 1;
FIG. 4 is a cross-sectional view of a high frequency scalp massage device taken along the line IV-IV shown in FIG. 2;
5 is an enlarged view of a portion A shown in Fig.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a high frequency scalp massage device taken along the line VI-VI shown in FIG. 2;
7 is an enlarged view of a portion B shown in Fig.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Like parts are designated with like reference numerals throughout the specification.

그러면 본 발명의 한 실시예에 따른 고주파 두피 마사지기 에 대하여 도 1 내지 도 7을 참고하여 설명한다.A high-frequency scalp massage device according to an embodiment of the present invention will now be described with reference to FIGS. 1 to 7. FIG.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 고주파 두피 마사지기를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시한 고주파 두피 마사지기를 나타낸 저면 사시도이며, 도 3은 도 1에 도시한 고주파 두피 마사지기를 나타낸 정면도이고, 도 4는 도 2에 도시한 IV-IV선을 따라 고주파 두피 마사지기를 자른 단면도이며, 도 5는 도 4에 도시한 A 부분 확대도이고, 도 6는 도 2에 도시한 VI-VI선을 따라 고주파 두피 마사지기를 자른 단면도이며, 도 7은 도 6에 도시한 B 부분 확대도.FIG. 1 is a perspective view showing a high frequency scalp massager according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a bottom perspective view showing the high frequency scalp massager shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a front view showing a high frequency scalp massager shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the high frequency scalp massage device taken along the line IV-IV shown in FIG. 2, FIG. 5 is an enlarged view of the portion A shown in FIG. 4, FIG. 7 is an enlarged view of a portion B shown in FIG. 6; FIG.

도 1 내지 도 7을 참고하면, 본 실시예에 따른 고주파 두피 마사지기(1)는 본체(10), 전원부(20), 기판부(40), 조작부(50), 전극(60) 및 마개(30)를 포함한다.1 to 7, a high-frequency scalp massage device 1 according to the present embodiment includes a main body 10, a power source unit 20, a base unit 40, an operating unit 50, an electrode 60, ).

본체(10)는 상부부재(11) 및 하부부재(12)가 서로 분리할 수 있게 결합되어 있으며, 헤드부(101)와 파지부(102)로 이루어져 있다. 본체(10)의 내부는 비어 있다. 헤드부(101)는 파지부(102)를 기준으로 10도 내지 30도 각도(D)로 경사져 있다. 위 각도는 사용자가 파지부(102)를 잡고 헤드부(101)를 두피에 위치시켰을 가장 편한 자세로 헤드부(101)를 두피에 위치시킬 수 있다. 이에 사용자의 손목, 팔 등에 부하가 발생하지 않는다.The main body 10 is separated from the upper member 11 and the lower member 12 so as to be separated from each other and comprises a head portion 101 and a grip portion 102. The inside of the main body 10 is empty. The head portion 101 is inclined at an angle (D) of 10 to 30 degrees with respect to the grip portion (102). The above angle allows the head 101 to be placed on the scalp in the most comfortable position in which the user holds the grip 102 and places the head 101 on the scalp. Therefore, no load is generated on the user's wrist or arm.

헤드부(101)의 저면에는 적어도 하나의 봉우리(121)가 돌출되어 있다. 봉우리(121)의 내부를 통하여 본체(10) 내부는 외부와 연통될 수 있다. 헤드부(101)의 내부에는 기판부(40)가 배치되어 있고, 파지부(102)의 내부에는 기판부(40)와 연결되는 전원부(20)가 배치되어 있다. 전원부(20)는 건전지일 수 있다. 전원부(20)의 전원에 의해 기판부(40)에서는 고주파 전류가 출력될 수 있다. 기판부(40)는 헤드부(101)와 파지부(102)의 경계 부분에 형성된 조작부(50)와 전기적으로 연결되어 있고 조작부(50)의 조작으로 고주파 전류가 제어될 수 있다. 조작부(50)에는 전원부(20)의 충전상태를 나타내는 표시부(51)가 형성되어 있다.At least one peak 121 protrudes from the bottom of the head 101. The inside of the main body 10 can communicate with the outside through the inside of the peaks 121. A substrate portion 40 is disposed inside the head portion 101 and a power source portion 20 connected to the substrate portion 40 is disposed inside the grip portion 102. The power source unit 20 may be a battery. A high-frequency current can be output from the substrate section 40 by the power source of the power source section 20. [ The substrate portion 40 is electrically connected to the operating portion 50 formed at the boundary portion between the head portion 101 and the grip portion 102 and the high frequency current can be controlled by the operation of the operating portion 50. [ A display section 51 indicating the charged state of the power supply section 20 is formed in the operation section 50. [

위 설명에서 전원부(20)를 건전지로 설명하였지만, 전원부(20)는 고주파 전류를 발생시키는 컨트롤러(도시하지 않음)와 연결된 접속단자일 수 있다.Although the power supply unit 20 is described as a battery in the above description, the power supply unit 20 may be a connection terminal connected to a controller (not shown) for generating a high frequency current.

개방부(103)를 통해 본체(10) 내부로 먼지, 유체 등의 이물질이 유입되는 것을 차단하기 위해 개방부(103)에는 마개(30)가 결합되어 있다. 마개(30)는 단속부재(31), 이탈방지부재(32) 및 스토퍼부재(33)를 포함한다.A stopper 30 is coupled to the opening 103 to block foreign substances such as dust and fluid from entering the main body 10 through the opening 103. The stopper 30 includes an intermittent member 31, a release preventing member 32, and a stopper member 33.

단속부재(31)는 본체(10) 외부에 위치하여 개방부(103)에 배치되어 있다. 단속부재(31)는 개방부(103)의 주변부분에 밀착되며 이물질이 본체(10) 내부로 유입되는 것을 차단한다. The intermittent member 31 is located outside the main body 10 and is disposed in the opening portion 103. The intermittent member 31 is in close contact with the peripheral portion of the opening portion 103 and blocks the foreign matter from flowing into the main body 10.

이탈방지부재(32)는 기설정된 길이를 가지며, 단속부재(31)에 연결되어 있고, 본체(10)를 관통하여 본체(10) 내부에 위치한다.The release preventing member 32 has a predetermined length and is connected to the intermittent member 31 and is located inside the main body 10 through the main body 10.

스토퍼부재(33)는 이탈방지부재(32)에 형성되어 있으며 본체(10) 내부에 위치한다. 스토퍼부재(33)의 직경은 이탈방지부재(32)의 직경보다 크게 형성되어 있다. 이에 스토퍼부재(33)는 본체(10)의 내부면에 걸릴 수 있다. 스토퍼부재(33)에 의해 단속부재(31)가 전원부(20)에서 분리 되더라도 본체(10)에 연결된 상태를 유지할 수 있다.The stopper member 33 is formed in the release preventing member 32 and is located inside the main body 10. [ The diameter of the stopper member 33 is formed to be larger than the diameter of the release preventing member 32. The stopper member 33 can be caught on the inner surface of the main body 10. [ Even if the intermittent member 31 is separated from the power source unit 20 by the stopper member 33, the state of being connected to the main body 10 can be maintained.

마개(30)는 탄성이 있는 고무 등으로 만들어질 수 있다.The stopper 30 can be made of elastic rubber or the like.

전극(60)은 마사지부(61) 및 핀부(62)를 포함하며, 기판부(40)에 전달된 고주파를 두피에 전달한다. 전극(60)은 봉우리(121)에 배치되어 기판부(40)와 연결되어 있다. 전극(60)의 마사지부(61)는 봉우리(121) 외부에 위치하며 두피에 접촉되는 끝 부분은 반구로 형성되어 있다. 마사지부(61)의 직경은 봉우리(121)의 직경보다 작게 형성되어 있다. 핀부(62)는 봉우리(121) 내부에 위치하며 마사지부(61)와 기판부(40)을 연결한다. 핀부(62)는 봉우리(121)에 안정적으로 설치며, 봉우리(121)와 핀부(62)의 접촉 면적에 의해 전극(60)은 흔들리지 않고 안정적으로 본체(10)에 결합될 수 있다. 핀부(62)의 직경은 마사지부(61)의 직경보다 작게 형성되어 있다.The electrode 60 includes a massage part 61 and a fin part 62 and transfers the high frequency transmitted to the base part 40 to the scalp. The electrode 60 is disposed in the peaks 121 and connected to the substrate portion 40. The massaging portion 61 of the electrode 60 is located outside the peaks 121 and the end portion contacting the scalp is formed as a hemisphere. The diameter of the massage part 61 is smaller than the diameter of the peaks 121. The fin portion 62 is located inside the peaks 121 and connects the massage portion 61 and the base portion 40. The fin portion 62 is stably installed in the peaks 121 and the electrode 60 can be stably coupled to the main body 10 by the contact area between the peaks 121 and the fin portions 62. [ The diameter of the fin portion (62) is smaller than the diameter of the massage portion (61).

이와 같은 고주파 두피 마사지기(1)는 마사지부(61)를 두피에 접촉시킨 상태에서 조작부(50)를 조작하면 고주파 전류가 기판부(40)를 통하여 전극(60)에 전달되고, 전극(60)의 고주파 전류는 두피에 전달된다. 두피에 전달된 고주파 전류는 두피를 자극하여 마사지하게 된다.When the manipulation unit 50 is operated while the massage unit 61 is in contact with the scalp, the high frequency scalp massager 1 transmits a high frequency current to the electrode 60 through the substrate unit 40, Of the high frequency current is delivered to the scalp. The high frequency current delivered to the scalp stimulates the scalp to massage.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, Of the right.

1: 고주파 두피 마사지기 10: 본체
11: 상부부재 12: 하부부재
101: 헤드부 102: 파지부
121: 봉우리 20: 전원부
30: 마개 31: 단속부재
32: 이탈방지부재 33: 스토퍼부재
40: 기판부 50: 조작부
60: 전극 61: 마사지부
62: 핀부1: High frequency scalp massage device 10: Body
11: upper member 12: lower member
101: head part 102: grip part
121: Peaks 20: Power source
30: stopper 31: intermittent member
32: release preventing member 33: stopper member
40: substrate portion 50:
60: Electrode 61: Massage unit
62:

Claims (6)

헤드부와 파지부로 이루어진 본체,
상기 본체 내부에 배치되어 있는 전원부,
상기 본체 내부에 배치되어 있고, 상기 전원부와 연결된 기판부,
상기 파지부와 상기 헤드부 경계 부분에 형성되어 있고, 상기 전원부 및 상기 기판부와 연결된 조작부 및
상기 헤드부에 배치되어 있고 상기 기판부와 연결된 적어도 하나의 전극
을 포함하는 고주파 두피 마사지기.A main body including a head portion and a grip portion,
A power supply unit disposed in the main body,
A substrate portion disposed in the main body and connected to the power source portion,
An operating portion formed at a boundary portion between the grip portion and the head portion and connected to the power source portion and the substrate portion,
At least one electrode disposed on the head portion and connected to the substrate portion,
Wherein the high frequency scalp massage device comprises: 제1항에서,
상기 헤드부는 상기 파지부를 기준으로 10도 내지 30도로 경사져 있는 고주파 두피 마사지기.The method of claim 1,
Wherein the head portion is inclined at 10 to 30 degrees with respect to the grip portion. 제1항에서,
상기 헤드부의 하면에는 적어도 하나의 봉우리가 돌출되어 있고, 상기 봉우리에 상기 전극이 위치하는 고주파 두피 마사지기.The method of claim 1,
Wherein at least one peak protrudes from a lower surface of the head portion, and the electrode is located in the peak. 제3항에서,
상기 전극은 상기 봉우리 외부에 위치하고, 두피에 접촉될 수 있는 마사지부 및
상기 마사지부와 연결되어 있고, 상기 봉우리를 관통하여 상기 기판과 연결된 핀부
를 포함하고,
상기 마사지부의 직경은 상기 봉우리의 직경보다 작고, 상기 핀부의 직경은 상기 마사지부의 직경보다 작은
고주파 두피 마사지기.4. The method of claim 3,
Wherein the electrode is located outside the peaks and comprises a massaging part capable of contacting the scalp,
And a massage unit connected to the massage unit,
Lt; / RTI >
The diameter of the massage part is smaller than the diameter of the peaks, and the diameter of the fin part is smaller than the diameter of the massage part
High frequency scalp massage machine. 제1항에서,
상기 파지부에 연결되어 있고, 상기 전원부를 단속하는 마개를 더 포함하는 고주파 두피 마사지기.The method of claim 1,
Further comprising a cap connected to the gripping portion and for controlling the power source unit. 제5항에서,
상기 마개는,
상기 전원부를 단속하는 단속부재,
상기 몸체에 연결되어 있고 상기 본체 내부에 위치한 이탈방지부재 및
상기 이탈방지부에 형성되어 있고 상기 본체의 내부면에 걸리는 스토퍼부재
를 포함하는
고주파 두피 마사지기.The method of claim 5,
Wherein the stopper
An intermittent member for interrupting the power supply unit,
A release preventing member connected to the body and positioned inside the body,
And a stopper member which is formed on the departure-
Containing
High frequency scalp massage machine.
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KR20220152620A (en) * 2021-05-10 2022-11-17 주식회사 큐비스트 Facial massage apparatus for promotes absorption of cosmetics

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