KR20150126470A - Transparent conductive film and touch panel comprising the same - Google Patents

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KR20150126470A
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김헌조
서지연
김원국
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(주)엘지하우시스
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Abstract

The present invention relates to a transparent conductive film and a touch panel including the same. The present invention includes a transparent member; a high refractive layer formed in an upper part of the transparent member; a low refractive layer formed in an upper part of the high refractive layer; and a transparent conductive layer formed in an upper part of the low refractive layer. The high refractive layer is formed of a composite for coating the high refractive layer, including a siloxane compound of a chemical formula 1 and a metal alkoxide compound of a chemical formula 2: [Chemical formula 1] (R1)n-Si-(O-R2)4-n. [Chemical formula 2] R3-O-M. The R1 is carbon number 1 to 18 of an alkyl group, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group, or acrylic group. The R2 is carbon number 1 to 6 of the alkyl group or acetyl group. The n is an integer of 0<n<4. The M is titanium, zirconium, or aluminium.

Description

투명 도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널{TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND TOUCH PANEL COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a transparent conductive film and a touch panel including the transparent conductive film.

본 발명은 투명 도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널에 관한 것이다.
The present invention relates to a transparent conductive film and a touch panel including the transparent conductive film.

터치 패널에는, 위치 검출의 방법에 따라 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등이 있다. 저항막 방식의 터치 패널은, 투명 도전성 필름과 투명 도전체층이 부착된 유리가 스페이서를 개재하여 대향 배치되어 있고, 투명 도전성 필름에 전류를 흘려 투명 도전체층이 부착된 유리에서의 전압을 계측하는 구조로 되어 있다. 한편, 정전 용량 방식의 터치 패널은, 기재 상에 투명 도전층을 갖는 것을 기본적 구성으로 하고, 가동 부분이 없는 것이 특징이며, 고내구성, 고투과율을 갖기 때문에, 차재 용도 등에 있어서 적용되고 있다.The touch panel includes an optical system, an ultrasonic system, an electrostatic capacity system, and a resistive film system depending on the position detection method. The resistance film type touch panel has a structure in which a transparent conductive film and a glass having a transparent conductive layer are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween and a voltage is measured in a glass having a transparent conductive layer attached thereto by passing a current through the transparent conductive film . On the other hand, a capacitive touch panel has a basic structure having a transparent conductive layer on a substrate, and is characterized by the absence of a movable part, and has a high durability and a high transmittance.

상기 터치 패널에 적용되는 투명 도전성 필름은 투명 기재의 일방면에, 상기 투명 기재 측에서부터 고굴절층, 저굴절층 및 도전층이 순서대로 형성되어 있는 것이 보통인바, 최근에는 고굴절층의 굴절율을 조절하여 인덱스 매칭이 우수한 투명 도전성 필름에 대한 연구가 계속되고 있다.
The transparent conductive film to be applied to the touch panel usually has a high refractive index layer, a low refractive index layer and a conductive layer sequentially formed on one surface of the transparent substrate from the transparent substrate side. In recent years, the refractive index of the high refractive index layer Studies on a transparent conductive film having excellent index matching have been continued.

본 발명은 투명 기재; 상기 투명 기재 상부에 형성된 고굴절층; 상기 고굴절층 상부에 형성된 저굴절층; 및 상기 저굴절층 상부에 형성된 투명 도전층을 포함하고, 상기 고굴절층은 화학식 1의 실록산 화합물 및 화학식 2의 금속 알콕사이드 화합물을 포함하는 고굴절층 코팅용 조성물로 형성된 투명 도전성 필름을 제공하고자 한다: The present invention relates to a transparent substrate; A high refractive index layer formed on the transparent substrate; A low refractive index layer formed on the high refractive index layer; And a transparent conductive layer formed on the low refractive index layer, wherein the high refractive index layer comprises a composition for high refractive index layer coating comprising a siloxane compound of the formula (1) and a metal alkoxide compound of the formula (2)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1)n-Si-(O-R2)4-n (R1) n- Si- (O-R2) 4-n

[화학식 2](2)

R3-O-MR3-O-M

상기 R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 비닐기, 알릴기, 에폭시기 또는 아크릴기이고, 상기 R2 및 R2는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 n은 0<n<4의 정수이며, 상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄이다.Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group or an acrylic group, and R 2 and R 2 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an acetyl group, , And M is titanium, zirconium or aluminum.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
However, the technical problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other matters not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 투명 기재; 상기 투명 기재 상부에 형성된 고굴절층; 상기 고굴절층 상부에 형성된 저굴절층; 및 상기 저굴절층 상부에 형성된 투명 도전층을 포함하고, 상기 고굴절층은 화학식 1의 실록산 화합물 및 화학식 2의 금속 알콕사이드 화합물을 포함하는 고굴절층 코팅용 조성물로 형성된 투명 도전성 필름을 제공한다: The present invention relates to a transparent substrate; A high refractive index layer formed on the transparent substrate; A low refractive index layer formed on the high refractive index layer; And a transparent conductive layer formed on the low refractive index layer, wherein the high refractive index layer comprises a composition for high refractive index layer coating comprising a siloxane compound of formula (1) and a metal alkoxide compound of formula (2)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1)n-Si-(O-R2)4-n (R1) n- Si- (O-R2) 4-n

[화학식 2](2)

R3-O-MR3-O-M

상기 R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 비닐기, 알릴기, 에폭시기 또는 아크릴기이고, 상기 R2 및 R2는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 n은 0<n<4의 정수이며, 상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄이다.Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group or an acrylic group, and R 2 and R 2 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an acetyl group, , And M is titanium, zirconium or aluminum.

상기 실록산 화합물은 알콕시 실란 화합물; 및 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 아크릴기, 글리시딜기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로 치환된 기능성 실란 화합물의 혼합으로 형성될 수 있다.The siloxane compound may be an alkoxysilane compound; And a functional silane compound substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an acryl group, a glycidyl group, and combinations thereof.

상기 실록산 화합물은 상기 실록산 화합물이 졸-겔 반응하여 형성된 망상 구조의 고분자 실록산 화합물을 포함할 수 있다.The siloxane compound may include a polymeric siloxane compound having a network structure formed by the sol-gel reaction of the siloxane compound.

상기 고분자 실록산 화합물의 중량평균분자량이 3,000 내지 55,000일 수 있다.The weight average molecular weight of the polymeric siloxane compound may range from 3,000 to 55,000.

상기 고분자 실록산 화합물은 상기 실록산 화합물 100 중량부 대비, 0.1 중량부 내지 100 중량부일 수 있다.The polymeric siloxane compound may be 0.1 part by weight to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the siloxane compound.

상기 금속 알콕사이드 화합물은 상기 실록산 화합물 100 중량부 대비, 50 중량부 내지 1000 중량부일 수 있다.The metal alkoxide compound may be 50 to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the siloxane compound.

상기 투명 기재는 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylenenaphthalate), PES(polyethersulfone), PC(Polycarbonate), PP(polypropylene) 및 노보르넨계 수지 중에서 선택된 하나 이상으로 이루어진 필름일 수 있다.The transparent substrate may be a film made of at least one selected from the group consisting of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylenenaphthalate), PES (polyethersulfone), PC (polycarbonate), PP (polypropylene) and norbornene resins.

상기 고굴절층의 굴절율은 1.58 내지 1.74일 수 있다.The refractive index of the high refractive index layer may be 1.58 to 1.74.

상기 고굴절층의 두께는 200 nm 내지 1.0 ㎛일 수 있다.The thickness of the high refractive index layer may be 200 nm to 1.0 탆.

상기 저굴절층의 굴절율은 1.40 내지 1.45일 수 있다.The refractive index of the low refraction layer may be 1.40 to 1.45.

상기 저굴절층의 두께는 10 nm 내지 30 nm일 수 있다.The thickness of the low refraction layer may be 10 nm to 30 nm.

상기 투명 도전층은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 FTO(Fluorine-doped Tin Oxide)로 이루어질 수 있다.The transparent conductive layer may be formed of ITO (Indium Tin Oxide) or FTO (Fluorine-doped Tin Oxide).

상기 투명 기재의 하부에 형성된 하드코팅층을 추가로 포함할 수 있다. And a hard coating layer formed under the transparent substrate.

본 발명의 일 구현예로, 상기 투명 도전성 필름을 포함하는 터치 패널을 제공한다.
According to an embodiment of the present invention, there is provided a touch panel including the transparent conductive film.

본 발명에 따른 투명 도전성 필름에 적용되는 고굴절층 코팅용 조성물 내 실록산 화합물은 졸-겔 반응하여 형성된 망상 구조의 고분자 실록산 화합물을 포함할 수 있고, 금속 알콕사이드 화합물의 분산성이 우수한 것으로, 투명 기재 상부에 별도로 하드코팅층을 형성하지 않고, 투명 기재 상부에 바로 형성된 고굴절층은 굴절율 조절이 가능하면서 표면이 균일성을 확보할 수 있다.The siloxane compound in the high refractive index layer coating composition applied to the transparent conductive film according to the present invention may include a polymeric siloxane compound having a network structure formed by a sol-gel reaction and has excellent dispersibility of the metal alkoxide compound, The refractive index of the high refractive index layer formed directly on the transparent substrate can be controlled and uniformity of the surface can be ensured.

또한, 본 발명에 따른 투명 도전성 필름은 안정적인 인덱스 매칭이 가능하다.
In addition, the transparent conductive film according to the present invention can perform stable index matching.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 투명 도전성 필름의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 구현예에 따른 투명 도전성 필름의 개략적인 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to another embodiment of the present invention.

본 발명자들은 투명 도전성 필름에 대해 연구하던 중, 고굴절층 코팅용 조성물에 실록산 화합물 및 금속 알콕사이드 화합물을 포함시킴으로써, 투명 도전성 필름의 인덱스 매칭이 우수함을 확인함으로써 본 발명을 완성하였다.
The inventors of the present invention completed the present invention by studying the transparent conductive film and confirming that the index matching of the transparent conductive film is excellent by incorporating the siloxane compound and the metal alkoxide compound into the composition for high refractive index layer coating.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. In the drawings, for the convenience of explanation, the thicknesses of some layers and regions are exaggerated.

이하에서 기재의 “상부 (또는 하부)” 또는 기재의 “상 (또는 하)”에 임의의 구성이 형성된다는 것은, 임의의 구성이 상기 기재의 상면 (또는 하면)에 접하여 형성되는 것을 의미할 뿐만 아니라, 상기 기재와 기재 상에 (또는 하에) 형성된 임의의 구성 사이에 다른 구성을 포함하지 않는 것으로 한정하는 것은 아니다.
Hereinafter, the formation of any structure in the "upper (or lower)" or the "upper (or lower)" of the substrate means that any structure is formed in contact with the upper surface (or lower surface) of the substrate However, the present invention is not limited to not including other configurations between the substrate and any structure formed on (or under) the substrate.

본 발명은 투명 기재; 상기 투명 기재 상부에 형성된 고굴절층; 상기 고굴절층 상부에 형성된 저굴절층; 및 상기 저굴절층 상부에 형성된 투명 도전층을 포함하고, 상기 고굴절층은 화학식 1의 실록산 화합물 및 화학식 2의 금속 알콕사이드 화합물을 포함하는 고굴절층 코팅용 조성물로 형성된 투명 도전성 필름을 제공한다: The present invention relates to a transparent substrate; A high refractive index layer formed on the transparent substrate; A low refractive index layer formed on the high refractive index layer; And a transparent conductive layer formed on the low refractive index layer, wherein the high refractive index layer comprises a composition for high refractive index layer coating comprising a siloxane compound of formula (1) and a metal alkoxide compound of formula (2)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1)n-Si-(O-R2)4-n (R1) n- Si- (O-R2) 4-n

[화학식 2](2)

R3-O-MR3-O-M

상기 R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 비닐기, 알릴기, 에폭시기 또는 아크릴기이고, 상기 R2 및 R2는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 n은 0<n<4의 정수이며, 상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄이다.
Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group or an acrylic group, and R 2 and R 2 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an acetyl group, , And M is titanium, zirconium or aluminum.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 투명 도전성 필름의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 구현예에 따른 투명 도전성 필름(10)은 투명 기재(1); 상기 투명 기재(1) 상부에 형성된 고굴절층(2); 상기 고굴절층(2) 상부에 형성된 저굴절층(3); 및 상기 저굴절층(3) 상부에 형성된 투명 도전층(4)을 포함하여 형성된다.1, a transparent conductive film 10 according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate 1; A high refractive index layer (2) formed on the transparent substrate (1); A low refractive layer (3) formed on the high refractive index layer (2); And a transparent conductive layer (4) formed on the low refractive layer (3).

도 2는 본 발명의 다른 구현예에 따른 투명 도전성 필름의 개략적인 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to another embodiment of the present invention.

도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 구현예에 따른 투명 도전성 필름(10)은 투명 기재(1); 고굴절층(2); 저굴절층(3); 및 투명 도전층(4)은 도 1에 도시한 바와 동일하나, 상기 투명 기재(1)의 하부에 형성된 하드코팅층(5)을 추가로 포함하여 형성된다.
2, the transparent conductive film 10 according to another embodiment of the present invention includes a transparent substrate 1; A high-refraction layer (2); A low refractive layer 3; And the transparent conductive layer 4 are the same as those shown in FIG. 1 but are formed by further including a hard coating layer 5 formed on the lower portion of the transparent substrate 1.

투명 기재(1)The transparent substrate (1)

상기 투명 기재(1)는 투명성과 강도가 우수한 필름이 사용될 수 있다. 상기 투명 기재(1)는 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylenenaphthalate), PES(polyethersulfone), PC(Polycarbonate), PP(polypropylene) 및 노보르넨계 수지 중에서 선택된 하나 이상으로 이루어진 필름인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 상기 투명 기재(1)는 단일 필름의 형태 또는 적층 필름의 형태가 될 수 있다.
The transparent substrate 1 may be a film having excellent transparency and strength. The transparent substrate 1 is preferably a film made of at least one selected from the group consisting of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylenenaphthalate), PES (polyethersulfone), PC (Polycarbonate), PP (polypropylene) and norbornene resins. It is not limited. Further, the transparent substrate 1 may be in the form of a single film or a laminated film.

고굴절층High-refraction layer (2)(2)

상기 고굴절층(2)은 상기 투명 기재(1) 상부에 형성된 것으로, 상기 투명 기재(1) 상부에 별도로 하드코팅층을 형성하지 않고, 투명 기재 상부에 바로 형성된다. 투명 도전성 필름(10)을 구성하는 고굴절층(2)은 저굴절층(3)에 비해 굴절율이 높은 것으로, 투명 기재(1)와 굴절율의 차이가 크지 않아 투명 도전성 필름(10)의 안정적인 인덱스 매칭이 가능하게 하면서, 터치 패널 스크린용 디스플레이의 투과광에 대한 간섭현상을 낮추고, 도전성을 높게 하는 역할을 한다.The high refractive index layer 2 is formed on the transparent substrate 1 and is formed directly on the transparent substrate 1 without forming a hard coating layer on the transparent substrate 1. The high refractive index layer 2 constituting the transparent conductive film 10 has a higher refractive index than that of the low refractive index layer 3. The difference in refractive index between the transparent substrate 1 and the transparent substrate 1 is small, While reducing the interference phenomenon with respect to the transmitted light of the touch panel screen display and increasing the conductivity.

상기 고굴절층(2)은 화학식 1의 실록산 화합물 및 화학식 2의 금속 알콕사이드 화합물을 포함하는 고굴절층 코팅용 조성물로 형성된다: The high refractive index layer (2) is formed of a high refractive index layer coating composition comprising a siloxane compound of formula (1) and a metal alkoxide compound of formula (2)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1)n-Si-(O-R2)4-n (R1) n- Si- (O-R2) 4-n

[화학식 2](2)

R3-O-MR3-O-M

상기 R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 비닐기, 알릴기, 에폭시기 또는 아크릴기이고, 상기 R2 및 R2는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 n은 0<n<4의 정수이며, 상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄이다.Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group or an acrylic group, and R 2 and R 2 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an acetyl group, , And M is titanium, zirconium or aluminum.

상기 실록산 화합물은 하기 화학식 1로 나타난다.The siloxane compound is represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

(R1)n-Si-(O-R2)4-n (R1) n- Si- (O-R2) 4-n

상기 R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 비닐기, 알릴기, 에폭시기 또는 아크릴기이고, 상기 R2는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 n은 0<n<4의 정수이다.Wherein R1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group or an acrylic group, R2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an acetyl group, and n is an integer satisfying 0 <n <4.

상기 실록산 화합물은 물리적 굴절율이 낮은 특성이 있는 화합물로서, 알콕시 실란 화합물; 및 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 아크릴기, 글리시딜기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로 치환된 기능성 실란 화합물의 혼합으로 형성될 수 있다.The siloxane compound is a compound having a low physical refractive index, and includes an alkoxysilane compound; And a functional silane compound substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an acryl group, a glycidyl group, and combinations thereof.

즉, 고굴절층 코팅용 조성물에 상기 실록산 화합물을 포함함으로써, 굴절율을 조절하고, 반응 안정성을 향상시키는 효과가 있다.That is, the inclusion of the siloxane compound in the composition for high refractive index layer coating has an effect of controlling the refractive index and improving the reaction stability.

상기 실록산 화합물은 상기 실록산 화합물이 졸-겔 반응하여 형성된 망상 구조의 고분자 실록산 화합물을 포함할 수 있다. The siloxane compound may include a polymeric siloxane compound having a network structure formed by the sol-gel reaction of the siloxane compound.

졸-겔 반응은 가수분해 또는 탈수축합에 의해서 얻어진 수십, 수백nm의 콜로이드 입자가 액체 중에 분산된 졸의 화염가수분해에서 얻어진 실리카 미립자 등을 액체에 분산시킨 졸에서 콜로이드 입자의 응집, 응결에 의해 졸의 유동성이 손실되어 다공체의 겔을 형성하는 반응을 일컫는다.The sol-gel reaction is carried out by coagulation and condensation of colloidal particles in a sol which is obtained by hydrolysis or dehydration condensation of silica fine particles obtained by flame hydrolysis of a sol having dispersed therein several hundreds of tens of nanometers of colloidal particles dispersed in a liquid Refers to a reaction in which the fluidity of the sol is lost to form a gel of the porous body.

즉, 상기 실록산 화합물의 졸-겔 반응으로 고분자 실론산 화합물을 형성할 수 있고, 예를 들어, 상기 화학식 1의 실록산 화합물을 물 및 에탄올과 혼합하여 반응시켜 실리카 졸을 합성하고, 합성된 졸을 액체 상의 망상 조직으로 변환시켜 무기질 망상 조직의 고분자 실록산 화합물을 제조할 수 있다.That is, it is possible to form a polymeric silonic acid compound by the sol-gel reaction of the siloxane compound, for example, by mixing the siloxane compound of the formula 1 with water and ethanol to synthesize silica sol, To convert it into a liquid phase network to prepare a polymeric siloxane compound of inorganic network structure.

상기 고분자 실록산 화합물의 중량평균분자량이 3,000 내지 55,000인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 상기 고분자 실록산 화합물이 상기 중량평균분자량의 범위를 유지함으로써 박막 형성시 두께 조절 면에서 유리하며, 표면 거칠기를 균일하게 유지하는 효과를 용이하게 구현할 수 있다.The polymer siloxane compound preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 55,000, but is not limited thereto. By maintaining the weight average molecular weight of the polymeric siloxane compound, it is advantageous in terms of thickness control during the formation of the thin film, and the effect of uniformly maintaining the surface roughness can be easily realized.

상기 고분자 실록산 화합물은 상기 실록산 화합물 100 중량부 대비, 0.1 중량부 내지 100 중량부인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 상기 고분자 실록산 화합물은 상기 언더코팅층 형성용 조성물의 굴절율에 영향을 미치는 바, 상기 범위의 고분자 실록산 화합물을 포함함으로써 굴절률 조절 효과를 용이하게 구현할 수 있다. The polymer siloxane compound is preferably 0.1 part by weight to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the siloxane compound, but is not limited thereto. The polymer siloxane compound affects the refractive index of the composition for forming an undercoat layer. By including the polymer siloxane compound in the above range, the refractive index can be easily controlled.

종래 고굴절층의 경우 주로 고굴절 나노입자를 이용하여 코팅층을 형성함으로써 굴절율을 제어하고 있으나, 나노입자가 갖는 낮은 분산성과 코팅 표면의 불균일성에 따른 문제점이 있고, 나노입자의 높은 원재료가격으로 인하여 경제적이지 않은 문제점이 있었는바, 고굴절층 코팅용 조성물에 나노입자 대신 분산성이 우수한 금속 알콕사이드 화합물을 포함시킴으로써 고굴절층의 굴절률의 조절 및 표면 균일성을 동시에 확보할 수 있다.Conventionally, in the case of a high refractive index layer, refractive index is controlled by forming a coating layer mainly using high refractive index nanoparticles. However, there is a problem due to low dispersion of the nanoparticles and nonuniformity of the coating surface, The refractive index of the high refractive index layer can be controlled and the surface uniformity can be secured by including a metal alkoxide compound having excellent dispersibility in place of the nanoparticles in the high refractive index layer coating composition.

즉, 고굴절층 코팅용 조성물에 상기 금속 알콕사이드 화합물을 포함함으로써, 낮은 제조 원가를 갖는 균일한 물성의 고굴절 조성물을 확보할 수 있는 효과가 있다.That is, by including the metal alkoxide compound in the composition for high-refractive-index layer coating, it is possible to secure a high-refractive-index composition having a uniform physical property having a low manufacturing cost.

상기 금속 알콕사이드 화합물은 하기 화학식 2로 나타난다.The metal alkoxide compound is represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

R3-O-MR3-O-M

상기 R3는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄이다.R3 is an alkyl or acetyl group having 1 to 6 carbon atoms, and M is titanium, zirconium or aluminum.

상기 금속 알콕사이드 화합물은 티타늄 이소프로폭사이드(Titanium tetraisopropoxide) 또는 지르코늄(IV) 부톡사이드(Zirconium(IV) butoxide)일 수 있다.The metal alkoxide compound may be titanium tetraisopropoxide or zirconium (IV) butoxide.

상기 금속 알콕사이드 화합물은 상기 실록산 화합물 100 중량부 대비, 50 중량부 내지 1000 중량부인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 금속 알콕사이드 화합물이 50 중량부 미만인 경우, 고굴절 기능을 만족할 만큼의 굴절율이 확보 되지않는 문제점이 있고, 금속 알콕사이드 화합물이 1000 중량부를 초과하는 경우, 고굴절층 코팅용 조성물의 반응 안정성 저하 및 저장 안정성이 낮아지는 문제점이 있다.The metal alkoxide compound is preferably 50 parts by weight to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the siloxane compound, but is not limited thereto. When the amount of the metal alkoxide compound is less than 50 parts by weight, a refractive index sufficient to satisfy the high refractive index function is not secured. When the amount of the metal alkoxide compound exceeds 1000 parts by weight, the reaction stability and storage stability Is low.

상기 고굴절층(2)의 굴절율은 1.58 내지 1.74인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 고굴절층(2)의 굴절율이 1.58 미만인 경우, 투명 도전층(4)의 패턴 은폐성 저하 되어 인덱스 매칭에 불리한 문제점이 있고, 고굴절층(2)의 굴절율이 1.74를 초과하는 경우, 고굴절층(2)의 도막 형성 정도가 저하되는 문제점이 있다.The refractive index of the high refractive index layer 2 is preferably from 1.58 to 1.74, but is not limited thereto. At this time, when the refractive index of the high refractive index layer 2 is less than 1.58, the pattern concealability of the transparent conductive layer 4 is deteriorated, which is disadvantageous in index matching. When the refractive index of the high refractive index layer 2 exceeds 1.74, There is a problem that the degree of formation of the coating film of the coating film 2 is lowered.

상기 고굴절층(2)의 두께는 200 nm 내지 1.0 ㎛인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 고굴절층(2)의 두께가 200 nm 미만인 경우, 고굴절층(2) 형성에 따른 코팅층의 두께 균일성을 확보하기 힘든 문제점이 있고, 고굴절층(2)의 두께가 1.0㎛를 초과하는 경우, 도막 형성을 위한 경화성이 저하되며, 경화 이후 고굴절층(2)의 갈라짐(crack)에 대해 취약해지는 문제점이 있다.The thickness of the high refractive index layer 2 is preferably 200 nm to 1.0 탆, but is not limited thereto. If the thickness of the high refractive index layer 2 is less than 200 nm, it is difficult to ensure the thickness uniformity of the coating layer due to the formation of the high refractive index layer 2. When the thickness of the high refractive index layer 2 exceeds 1.0 탆 , There is a problem that the curability for the formation of the coating film is lowered and the curability of the high refractive index layer 2 after the curing becomes weak.

즉, 상기 고굴절층(2)의 두께가 상기 범위를 유지함으로써, 투명 기재(1) 상부에 별도로 하드코팅층을 형성하지 않고, 상기 고굴절층(2)이 투명 기재(1) 상부에 바로 형성되더라도 굴절율 조절이 가능하면서 표면이 균일성을 확보할 수 있다.
That is, even if the high refractive index layer 2 is directly formed on the transparent substrate 1 without forming the hard coating layer separately on the transparent substrate 1 by keeping the thickness of the high refractive index layer 2 within the above range, The surface can be adjusted and the uniformity of the surface can be ensured.

저굴절층Low refraction layer (3)(3)

상기 저굴절층(3)은 상기 고굴절층(2) 상부에 형성된 것이다.The low refractive index layer (3) is formed on the high refractive index layer (2).

투명 도전성 필름(10)을 구성하는 저굴절층(3)은 고굴절층(2)에 비해 굴절율이 낮은 것으로, 투명 도전층(4)과 굴절율의 차이가 크지 않아 투명 도전성 필름(10)의 안정적인 인덱스 매칭이 가능하게 하면서, 터치 패널 스크린용 디스플레이의 투과광에 대한 간섭현상을 낮추고, 도전성을 높게 하는 역할을 한다.The low refractive index layer 3 constituting the transparent conductive film 10 has a lower refractive index than that of the high refractive index layer 2 and the difference in refractive index between the transparent conductive layer 4 and the transparent conductive layer 4 is small, Thereby lowering the interference phenomenon with respect to the transmitted light of the touch panel screen display and increasing the conductivity.

상기 저굴절층(3)의 굴절율은 1.40 내지 1.45인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 저굴절층(3)의 굴절율이 1.40 미만인 경우, 인덱스 매칭성 확보를 위한 두께 조절이 어려운 문제점이 있고, 저굴절층(3)의 굴절율이 1.45를 초과하는 경우, 투명 도전층(4)의 패턴 은폐성 저하 되어 인덱스 매칭에 불리한 문제점이 있다.The refractive index of the low refractive layer 3 is preferably 1.40 to 1.45, but is not limited thereto. When the refractive index of the low refractive layer 3 is less than 1.40, it is difficult to adjust the thickness for ensuring the index matching property. When the refractive index of the low refractive layer 3 exceeds 1.45, There is a problem in that the pattern hiding ability of the recording medium is deteriorated and the index matching is disadvantageous.

상기 저굴절층(3)의 두께는 10 nm 내지 30 nm인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 저굴절층(3)의 두께가 10 nm 미만인 경우, 저굴절층(3) 형성에 따른 코팅층의 두께 균일성을 확보하기 힘든 문제점이 있고, 저굴절층(3)의 두께가 30 nm를 초과하는 경우, 투과율이 증가하여 인덱스 매칭이 불리한 문제점이 있다.
The thickness of the low refractive index layer 3 is preferably 10 nm to 30 nm, but is not limited thereto. When the thickness of the low refraction layer 3 is less than 10 nm, it is difficult to ensure uniformity of the thickness of the coating layer due to the formation of the low refraction layer 3. When the thickness of the low refraction layer 3 is 30 nm The transmittance is increased and the index matching is disadvantageously disadvantageous.

투명 Transparency 도전층Conductive layer (4)(4)

상기 투명 도전층(4)은 상기 저굴절층(3) 상부에 형성된 것이다.The transparent conductive layer 4 is formed on the low refractive index layer 3.

상기 투명 도전층(4)은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 FTO(Fluorine-doped Tin Oxide)로 이루어질 수 있다.The transparent conductive layer 4 may be formed of ITO (Indium Tin Oxide) or FTO (Fluorine-doped Tin Oxide).

상기 투명 도전층(4)의 두께는 5nm 내지 50nm인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 투명 도전층(4)의 두께가 상기 범위를 유지함으로써 투명 전도성 필름(10)의 시인성 및 전기 전도성 확보에 유리하다.
The thickness of the transparent conductive layer 4 is preferably 5 nm to 50 nm, but is not limited thereto. At this time, the thickness of the transparent conductive layer 4 is kept within the above range, which is advantageous for ensuring the visibility and electrical conductivity of the transparent conductive film 10.

상기 투명 도전성 필름(10)에 적용되는 고굴절층 코팅용 조성물 내 실록산 화합물은 졸-겔 반응하여 형성된 망상 구조의 고분자 실록산 화합물을 포함할 수 있고, 금속 알콕사이드 화합물의 분산성이 우수한 것으로, 투명 기재(1) 상부에 별도로 하드코팅층을 형성하지 않고, 투명 기재(1) 상부에 바로 형성된 고굴절층(2)은 굴절율 조절이 가능하면서 표면이 균일성을 확보할 수 있다.The siloxane compound in the high refractive index layer coating composition applied to the transparent conductive film 10 may include a polymeric siloxane compound having a network structure formed by a sol-gel reaction and has excellent dispersibility of a metal alkoxide compound. 1, the refractive index of the high refractive index layer 2 formed directly on the transparent substrate 1 can be adjusted without forming a hard coating layer on the upper surface, and uniformity of the surface can be ensured.

또한, 상기 투명 도전성 필름(10)은 안정적인 인덱스 매칭이 가능하다.
In addition, the transparent conductive film 10 can perform stable index matching.

하드코팅층Hard coating layer (5)(5)

상기 투명 기재(1)의 하부에 형성된 하드코팅층(5)을 추가로 포함할 수 있다. 상기 하드코팅층(5)은 아크릴계 수지, 우레탄 아크릴계 수지 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 하드코팅층(5)의 두께는 0.5 ㎛ 내지 2.0㎛인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 하드코팅층(5)의 두께가 상기 범위를 유지함으로써 상기 투명 기재(1)의 스크래치를 효과적으로 방지할 수 있다.
A hard coating layer 5 formed on the lower surface of the transparent substrate 1 may be further included. The hard coating layer 5 may be made of an acrylic resin, a urethane acrylic resin, or the like. The thickness of the hard coat layer 5 is preferably 0.5 탆 to 2.0 탆, but is not limited thereto. At this time, by keeping the thickness of the hard coat layer 5 within the above range, the scratch of the transparent substrate 1 can be effectively prevented.

본 발명의 일 구현예로, 상기 투명 도전성 필름(10)을 포함하는 터치 패널을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a touch panel including the transparent conductive film (10).

상기 투명 도전성 필름(10)은 터치 패널, 특히 저항막 방식의 터치 패널의 상부 기판 및/또는 하부 기판으로 유용하다. 저항막 방식의 터치 패널은 한 쌍의 투명 도전성 기재가 스페이서를 개재하여 배향 배치되어 있으며, 손가락이나 펜 등으로 상부 패널을 가압하면, 상기 투명 도전성 기재가 굴곡되면서, 상부 기판과 하부 기판의 도전성 박막이 접촉되어 통전함으로써, 위치를 검지한다.The transparent conductive film 10 is useful as a top substrate and / or a bottom substrate of a touch panel, particularly a resistive touch panel. In the resistive touch panel, a pair of transparent conductive substrates are oriented and arranged with a spacer interposed therebetween. When the upper panel is pressed with a finger or a pen, the transparent conductive base material is bent and the conductive thin film So that the position is detected.

상기 터치 패널은 LCD, PDP, LED, OLED 또는 E-Paper와 같은 디스플레이 장치에 장착되어 사용될 수 있다.
The touch panel may be used in a display device such as an LCD, a PDP, an LED, an OLED or an E-paper.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are provided only for the purpose of easier understanding of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are provided only for the purpose of easier understanding of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example ]]

실시예Example 1 One

트리메톡시(메틸)실란 1 mol에 대해서 테트라-에톡시오르소실리케이트(TEOS) 50 mol을 물 및 에탄올과 1:2:2의 몰비로 혼합하고, 질산 0.1mol 용액을 투입하여 2시간 동안 반응시켜 굴절율 1.43을 갖는 망상 구조의 고분자 실록산 화합물을 형성하였다. 고분자 실록산 화합물을 함유하는 용액에, 금속 알콕사이드 화합물을 상기 고분자 실록산 화합물 100중량부에 대하여 1000중량부를 첨가하고, 추가로 24시간 동안 반응 시켜 고굴절 조성물을 형성하였다. 형성된 고굴절 조성물에 대하여 에틸알콜(EtOH)로 희석하여 전체 고형분 18%의 고굴절층 코팅용 조성물을 제조하였다. 50 mol of tetra-ethoxyorthosilicate (TEOS) was mixed with water and ethanol at a molar ratio of 1: 2: 2 relative to 1 mol of trimethoxy (methyl) silane, and 0.1 mol of nitric acid was added thereto. To form a polymeric siloxane compound having a refractive index of 1.43. 1000 parts by weight of a metal alkoxide compound was added to a solution containing a polymeric siloxane compound in an amount of 100 parts by weight of the polymeric siloxane compound, and further reacted for 24 hours to form a high refractive index composition. The formed high refractive index composition was diluted with ethyl alcohol (EtOH) to prepare a high refractive index layer coating composition having a total solid content of 18%.

고굴절층 코팅용 조성물을 PET 필름의 상부에 코팅한 후, 150℃ 오븐에서 1분 동안 경화시킴으로써 고굴절층을 형성하였다. 이때, 고굴절층의 굴절율은 1.736으로 측정(측정장비: Prism Coupler(SPA-4000, the wavelength of laser at 532 nm))되었고, 두께는 493 nm이다.The composition for the high refractive index layer coating was coated on top of the PET film and then cured in an oven at 150 ° C for 1 minute to form a high refractive index layer. At this time, the refractive index of the high-refractive-index layer was measured at 1.736 (measuring device: Prism Coupler (SPA-4000, the wavelength of laser at 532 nm)) and the thickness was 493 nm.

저굴절층 코팅용 조성물을 고굴절층의 상부에 코팅한 후, 150℃ 오븐에서 1분 동안 경화시킴으로써 저굴절층을 형성하였다. 이때, 저굴절층의 굴절율은 1.44로 측정되었고, 두께는 23~25 nm이다.The composition for coating a low refractive index layer was coated on top of the high refractive index layer and then cured in an oven at 150 캜 for one minute to form a low refractive index layer. At this time, the refractive index of the low refraction layer was measured to be 1.44 and the thickness was 23 to 25 nm.

저굴절층 상부에 스퍼터링 방식으로 ITO층을 20nm 성막하고, ITO층을 패터닝하여 투명 도전성 필름을 제조하였다.
An ITO layer was formed to a thickness of 20 nm on the low refraction layer by a sputtering method and the ITO layer was patterned to prepare a transparent conductive film.

실시예Example 2~6 2 to 6

금속 알콕사이드 화합물을 하기 표 1과 같이 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 고굴절층 형성용 조성물을 제조하였다.A composition for forming a high-refractive-index layer was prepared from a transparent conductive film in the same manner as in Example 1, except that the metal alkoxide compound was added as shown in Table 1 below.

금속 metal 알콕사이드Alkoxide 화합물 compound 고분자 Polymer 실록산Siloxane 화합물 100  Compound 100 중량부Weight portion 대비 금속  Contrast metal 알콕사이드Alkoxide 화합물의 함량 The content of the compound 실시예Example 1 One Titanium tetraisopropoxideTitanium tetraisopropoxide 10001000 실시예Example 2 2 Titanium tetraisopropoxideTitanium tetraisopropoxide 800800 실시예Example 3 3 Titanium tetraisopropoxideTitanium tetraisopropoxide 600600 실시예Example 4 4 Titanium tetraisopropoxideTitanium tetraisopropoxide 400400 실시예Example 5 5 Titanium tetraisopropoxideTitanium tetraisopropoxide 200200 실시예Example 6 6 Zirconium(IV) butoxideZirconium (IV) butoxide 10001000

하기 표 2는 실시예 1 내지 6에 따른 투명 도전성 필름에 대하여 ITO층 식각 패턴의 인덱스 매칭 여부를 평가한 결과에 대해 나타낸 것이다.Table 2 below shows the results of evaluating the index matching of the ITO layer etching pattern on the transparent conductive film according to Examples 1 to 6. [

인덱스 매칭 여부는 ITO층의 식각 패턴이 육안으로 확인되는지 여부로 평가하였으며, 인덱스 매칭이 우수한 정도에 따라 점수로 표기하며(매우 우수 : 3, 우수 : 2, 보통 : 1), 인덱스 매칭이 미흡한 경우는 X로 표기하였다.The index matching was evaluated by whether or not the etching pattern of the ITO layer was visually confirmed. The index was marked according to the degree of excellent index matching (very excellent: 3, excellent: 2, medium: 1) Is denoted by X.

굴절율Refractive index ( ( atat 532  532 nmnm )) 두께 (thickness ( nmnm )) 인덱스 index 매칭matching 평가 결과 Evaluation results 실시예Example 1 One 1.7361.736 493493 22 실시예Example 2 2 1.7081.708 502502 22 실시예Example 3 3 1.6821.682 513513 33 실시예Example 4 4 1.6481.648 498498 22 실시예Example 5 5 1.6021.602 506506 22 실시예Example 6 6 1.6821.682 508508 33

상기 표 2에서 보듯이, 실시예 1 내지 6에 따른 투명 도전성 필름은 ITO 식각 패턴을 육안으로 식별하기 쉬워 인덱스 매칭이 우수함을 확인하였다.As shown in Table 2, it was confirmed that the transparent conductive films according to Examples 1 to 6 were easy to visually recognize the ITO etching pattern, and thus the index matching was excellent.

또한, 실시예 1 내지 6에 따른 투명 도전성 필름에서 고굴절층의 두께가 상기 범위를 유지함으로써, 투명 기재 상부에 별도로 하드코팅층을 형성하지 않고, 고굴절층이 투명 기재 상부에 바로 형성되더라도 굴절율 조절이 가능하면서 표면이 균일성을 확보할 수 있다.
Further, by maintaining the thickness of the high refractive index layer in the transparent conductive film according to Examples 1 to 6, it is possible to control the refractive index even if the high refractive index layer is directly formed on the transparent substrate without forming a hard coating layer separately on the transparent substrate So that uniformity of the surface can be ensured.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (14)

투명 기재;
상기 투명 기재 상부에 형성된 고굴절층;
상기 고굴절층 상부에 형성된 저굴절층; 및
상기 저굴절층 상부에 형성된 투명 도전층을 포함하고,
상기 고굴절층은 화학식 1의 실록산 화합물 및 화학식 2의 금속 알콕사이드 화합물을 포함하는 고굴절층 코팅용 조성물로 형성된 투명 도전성 필름:
[화학식 1]
(R1)n-Si-(O-R2)4-n
[화학식 2]
R3-O-M
상기 R1은 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 비닐기, 알릴기, 에폭시기 또는 아크릴기이고, 상기 R2 및 R2는 탄소수 1 내지 6을 갖는 알킬기 또는 아세틸기이고, 상기 n은 0<n<4의 정수이며, 상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄이다.
Transparent substrate;
A high refractive index layer formed on the transparent substrate;
A low refractive index layer formed on the high refractive index layer; And
And a transparent conductive layer formed on the low refraction layer,
Wherein the high refractive index layer comprises a transparent conductive film formed from a composition for high refractive index layer coating comprising a siloxane compound of Formula 1 and a metal alkoxide compound of Formula 2:
[Chemical Formula 1]
(R1) n- Si- (O-R2) 4-n
(2)
R3-OM
Wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a vinyl group, an allyl group, an epoxy group or an acrylic group, and R 2 and R 2 are an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an acetyl group, , And M is titanium, zirconium or aluminum.
제1항에 있어서,
상기 실록산 화합물은
알콕시 실란 화합물; 및
탄소수 1 내지 18의 알킬기, 아크릴기, 글리시딜기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상으로 치환된 기능성 실란 화합물의 혼합으로 형성된
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The siloxane compound
Alkoxysilane compounds; And
A functional silane compound substituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an acryl group, a glycidyl group, and combinations thereof
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 실록산 화합물은 상기 실록산 화합물이 졸-겔 반응하여 형성된 망상 구조의 고분자 실록산 화합물을 포함하는
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The siloxane compound includes a polymeric siloxane compound having a network structure formed by the sol-gel reaction of the siloxane compound
Transparent conductive film.
제3항에 있어서,
상기 고분자 실록산 화합물의 중량평균분자량이 3,000 내지 55,000인
투명 도전성 필름.
The method of claim 3,
Wherein the polymer siloxane compound has a weight average molecular weight of 3,000 to 55,000
Transparent conductive film.
제3항에 있어서,
상기 고분자 실록산 화합물은 상기 실록산 화합물 100 중량부 대비, 0.1 중량부 내지 100 중량부인
투명 도전성 필름.
The method of claim 3,
The polymeric siloxane compound is used in an amount of 0.1 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the siloxane compound
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 금속 알콕사이드 화합물은 상기 실록산 화합물 100 중량부 대비, 50 중량부 내지 1000 중량부인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The metal alkoxide compound may be used in an amount of 50 to 1000 parts by weight per 100 parts by weight of the siloxane compound
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 투명 기재는 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylenenaphthalate), PES(polyethersulfone), PC(Polycarbonate), PP(polypropylene) 및 노보르넨계 수지 중에서 선택된 하나 이상으로 이루어진 필름인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The transparent substrate may be a film made of at least one selected from the group consisting of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylenenaphthalate), PES (polyethersulfone), PC (Polycarbonate), PP
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 고굴절층의 굴절율은 1.58 내지 1.74인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The refractive index of the high refractive index layer is 1.58 to 1.74
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 고굴절층의 두께는 200 nm 내지 1.0 ㎛인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The thickness of the high refractive index layer is in the range of 200 nm to 1.0 [
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 저굴절층의 굴절율은 1.40 내지 1.45인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The refractive index of the low refractive layer is 1.40 to 1.45
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 저굴절층의 두께는 10 nm 내지 30 nm인
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The thickness of the low refraction layer is preferably from 10 nm to 30 nm
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 투명 도전층은 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 FTO(Fluorine-doped Tin Oxide)로 이루어진
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
The transparent conductive layer may be formed of ITO (Indium Tin Oxide) or FTO (Fluorine-doped Tin Oxide).
Transparent conductive film.
제1항에 있어서,
상기 투명 기재의 하부에 형성된 하드코팅층을 추가로 포함하는
투명 도전성 필름.
The method according to claim 1,
Further comprising a hard coat layer formed on a lower portion of the transparent substrate
Transparent conductive film.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름을 포함하는
터치 패널.
A transparent conductive film comprising the transparent conductive film according to any one of claims 1 to 13
Touch panel.
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