KR20150124107A - Liquid flow rate control system - Google Patents

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Abstract

The present disclosure relates to a flow rate control system which controls a chemical liquid for cleaning and etching nozzles of a semiconductor process. According to one aspect of the present disclosure, the flow rate control system comprises: a constant pressure regulator which adjusts the opening and closing rate of a diaphragm to adjust the chemical liquid flow rate by the pressure of supplied air; a flowmeter which measures the chemical liquid flow rate; a pneumatic regulator which adjusts the pressure of the air supplied to the constant pressure regulator, and adjusts the pressure of the air on the basis of the difference between a set reference flow rate and the flow rate detected by the flowmeter; and a control unit which controls the difference between the flow rate information and the set reference flow rate to fall within an error tolerance by applying an electrical signal to the pneumatic regulator on the basis of the difference between the flow rate information input from the flowmeter and the set reference flow rate.

Description

유량제어시스템{LIQUID FLOW RATE CONTROL SYSTEM}[0001] LIQUID FLOW RATE CONTROL SYSTEM [0002]

본 개시(Disclosure)는, 유량제어시스템에 관한 것으로서, 특히 반도체 공정의 클린 및 식각 노즐의 화학약품 약액의 유랑을 제어하는 유량제어시스템에 관한 것이다.This disclosure relates to flow control systems, and more particularly to flow control systems that control the wicking of chemical fluids in clean and etch nozzles in semiconductor processes.

여기서는, 본 개시에 관한 배경기술이 제공되며, 이들이 반드시 공지기술을 의미하는 것은 아니다(This section provides background information related to the present disclosure which is not necessarily prior art).Herein, the background art relating to the present disclosure is provided, and these are not necessarily meant to be known arts.

일반적으로, 반도체 공정에는 웨이퍼 상에 막을 형성하는 도포 또는 증착하는 공정, 웨이퍼 상에 도포 된 감광막에 포토 마스크의 패턴을 전사하는 노광 공정, 웨이퍼 상에 형성된 막을 제거하는 식각 공정, 웨이퍼 표면을 세정하는 세정공정 등과 같은 다양한 공정이 사용되는데, 이들 공정에는 웨이퍼 상에 공정에 필요한 화학약품 약액을 분사하는 과정을 필요로 하며, 그러한 약액의 유량 제어를 위해 유량제어시스템이 구비된다.Generally, a semiconductor process includes a process of applying or depositing a film on a wafer, an exposure process of transferring a pattern of the photomask to the photoresist film applied on the wafer, an etching process of removing the film formed on the wafer, And a cleaning process. In these processes, a process of spraying a chemical liquid necessary for the process on the wafer is required, and a flow control system is provided for controlling the flow rate of such chemical liquid.

종래 유량제어시스템은 유량 제어 밸브와 이를 제어하는 컨트롤러, 실시간 유량을 계측하는 유량계로 구성된다. The conventional flow control system is composed of a flow control valve, a controller for controlling the flow control valve, and a flow meter for measuring a real time flow rate.

유량 제어 밸브는 스텝모터(Step motor)를 이용한 전동밸브가 사용된다. 스텝모터를 이용한 전동밸브의 경우, 입력단 압력의 변동이 생기면, 별도의 유량 보정 기능이 없으므로 출력단 유량의 헌팅을 야기한다. As the flow control valve, a motorized valve using a step motor is used. In the case of a motorized valve using a stepper motor, if the input pressure fluctuates, there is no additional flow correction function, which causes hunting of the output flow rate.

유량의 헌팅은 곧 반도체 공정상의 유량 모니터링 장비의 알람 레벨에 도달하여 공정 정지와 같은 손해를 일으킬 수 있다.Flow hunting may soon reach the alarm level of the flow monitoring equipment in the semiconductor process, causing damage such as a process stop.

한편, 반도체 공정 설비에 적용되는 종래 유량제어시스템에는 ON/OFF 밸브를 별도로 장착하여 사용하기도 한다. On the other hand, an ON / OFF valve may be separately installed in a conventional flow control system applied to a semiconductor process facility.

이 경우, 초기 약액을 토출 할 때, 상위 제어기에서 유량제어시스템에 설정 유량 값 정보를 보내 주고, 이 정보를 기준으로 유량이 제어된다. 이때 유량을 제어하는 기능은 유량제어시스템이 담당하나, ON/OFF 밸브는 상위 제어기가 담당하게 된다. In this case, when the initial chemical liquid is discharged, the host controller sends the set flow rate value information to the flow rate control system, and the flow rate is controlled based on this information. At this time, the flow control system is responsible for controlling the flow rate, while the ON / OFF valve is responsible for the upstream controller.

따라서, 토출 초기에 유량제어시스템이 닫혀 있다가 설정 유량 값만큼 밸브를 열어 제어하는 시간이 다소 길게 소요된다. 따라서 토출 초기에 설정 유량 값보다 적은 유량이 토출 되고 일정 시간(약 3초) 후에나 설정 유량 값에 도달하여 공정에 영향을 미치기도 한다.Therefore, it takes a long time to control the valve by opening the valve by the set flow rate value while the flow control system is closed at the initial stage of discharge. Therefore, a flow rate smaller than the set flow rate is discharged at the initial stage of discharge, and after a certain time (about 3 seconds), the flow rate reaches the set flow rate value, which may affect the process.

본 개시는 입력단 압력의 변동에 의한 출력단 유량의 헌팅을 방지할 수 있는 유량제어시스템의 제공을 일 목적으로 한다.It is an object of the present disclosure to provide a flow control system capable of preventing hunting of output flow rate due to fluctuation of input pressure.

본 개시는 토출 초기 토출 되는 유량이 설정 유량 값에 이르는 시간을 최소화할 수 있는 유량제어시스템의 제공을 일 목적으로 한다. It is an object of the present disclosure to provide a flow control system capable of minimizing the time required for the flow rate discharged at the initial stage of discharge to reach the set flow rate value.

여기서는, 본 개시의 전체적인 요약(Summary)이 제공되며, 이것이 본 개시의 외연을 제한하는 것으로 이해되어서는 아니된다(This section provides a general summary of the disclosure and is not a comprehensive disclosure of its full scope or all of its features).SUMMARY OF THE INVENTION Herein, a general summary of the present disclosure is provided, which should not be construed as limiting the scope of the present disclosure. of its features).

본 개시의 일 태양에 따르면(According to one aspect of the present disclosure), 공급되는 공기의 압력에 의해, 약액의 유량을 조절하는 다이어프레임의 개폐율이 조절되는 정압 레귤레이터; 상기 약액의 유량을 계측하는 유량계; 상기 정압 레귤레이터에 공급되는 공기의 압력을 조절하는 정공 레귤레이터;로서, 상기 공기의 압력은 설정된 기준 유량과 상기 유량계에 의해 감지된 유량의 차이를 기준으로 조절되는 정공 레귤레이터; 및 상기 유량계로부터 입력되는 유량 정보와 상기 설정된 기준 유량의 차이를 기준으로 상기 정공 레귤레이터에 전기적 신호를 인가하여, 상기 유량 정보와 상기 설정된 기준 유량의 차이를 오차범위 내로 제어하는 제어부;를 포함하는 유량제어시스템이 제공된다.According to one aspect of the present disclosure, there is provided a static pressure regulator in which a rate of opening and closing of a diaphragm for regulating a flow rate of a chemical liquid is controlled by a pressure of supplied air; A flowmeter for measuring a flow rate of the chemical liquid; A hole regulator adjusting the pressure of the air supplied to the constant-pressure regulator, wherein the pressure of the air is regulated based on a difference between a set reference flow rate and a flow rate sensed by the flow meter; And a controller for applying an electrical signal to the hole regulator based on a difference between the flow rate information input from the flow meter and the set reference flow rate to control a difference between the flow rate information and the set reference flow rate within an error range, A control system is provided.

여기서, 상기 정공 레귤레이터는 상기 제어부에서 인가되는 아날로그 전기 신호의 크기를 기준으로 출력되는 공기의 압력을 조절하는 것을 특징으로 한다.Here, the hole regulator adjusts the pressure of air output based on the magnitude of the analog electric signal applied from the controller.

또한, 상기 제어부에서 인가되는 전기적 신호는 4~20mA의 아날로그 전류 신호인 것을 특징으로 한다.Also, the electrical signal applied by the controller is an analog current signal of 4 to 20 mA.

이에 의하면, 약액의 유량 제어를 위한 밸브가 전동밸브가 아닌 정압 레귤레이터로 구비되며, 정압 레귤레이터를 통과하는 유량의 제어가 정공 레귤레이터에서 공급되는 공기의 압력에 의해 이루어지므로, 일시적 압력 변동에 의한 유량 헌팅을 방지할 수 있게 된다.According to this, since the valve for controlling the flow rate of the chemical liquid is provided as a constant-pressure regulator, not a motor-operated valve, and the flow rate of the liquid passing through the constant-pressure regulator is controlled by the pressure of air supplied from the hole regulator, Can be prevented.

한편, 본 개시의 일 태양에 있어서, 상기 유량계는 초음파 유량계로 구비되는 것을 특징으로 한다. 이에 의하면 유량계에 의한 유량의 계측 오차 발생을 최소화할 수 있게 된다.According to an aspect of the present disclosure, the flow meter is provided with an ultrasonic flow meter. According to this, it is possible to minimize the occurrence of a measurement error of the flow rate by the flowmeter.

또한, 본 개시의 일 태양에 있어서, 외부로부터 상기 설정된 기준 유량을 입력받아 상기 제어부에 인가하는 상위 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for measuring a flow rate of a fluid, comprising:

한편, 본 개시의 일 태양에 있어서, 상기 약액의 유동 방향으로 상기 정압 레귤레이터의 하류에 배치되는 ON/OFF 밸브;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present disclosure, there is further provided an ON / OFF valve disposed downstream of the constant-pressure regulator in a flow direction of the chemical liquid.

여기서, 상기 정압 레귤레이터는 상기 ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 상기 다이어프레임이 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되도록 제어되는 것을 특징으로 한다.Here, the constant-pressure regulator is controlled so that the diaphragm is pre-opened to a predetermined amount when the ON / OFF valve is OFF.

또한, 상기 정공 레귤레이터에는, 상기 ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 상기 설정된 기준 유량의 토출을 위해 인가되어야 하는 전류 크기의 80~90%에 해당하는 전류가 미리 인가되도록 제어되는 것을 특징으로 한다.In addition, the hole regulator is controlled such that a current corresponding to 80 to 90% of a current magnitude to be applied for discharging the set reference flow rate in the OFF state of the ON / OFF valve is previously applied.

이에 의하면, ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 정압 레귤레이터가 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되므로, 토출 초기 토출 되는 유량이 설정된 기준 유량에 신속히 이를 수 있게 된다. According to this, since the constant-pressure regulator is pre-openedly opened by an amount that is set when the ON / OFF valve is in the OFF state, the flow rate discharged at the initial stage of discharge can quickly reach the set reference flow rate.

본 개시의 일 태양에 따른 유량제어시스템에 의하면, 약액의 유량 제어를 위한 밸브가 전동밸브가 아닌 정압 레귤레이터로 구비되며, 정압 레귤레이터를 통과하는 유량의 제어가 정공 레귤레이터에서 공급되는 공기의 압력에 의해 이루어지므로, 일시적 압력 변동에 의한 유량 헌팅을 방지할 수 있게 된다.According to the flow rate control system according to one aspect of the present disclosure, the valve for controlling the flow rate of the chemical liquid is provided as a constant-pressure regulator, not a motor-operated valve, and the control of the flow rate passing through the constant-pressure regulator is controlled by the pressure of air supplied from the hole- The flow hunting due to the temporary pressure fluctuation can be prevented.

본 개시의 일 태양에 따른 유량제어시스템에 의하면, ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 정압 레귤레이터가 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되므로, 토출 초기 토출 되는 유량이 설정된 기준 유량에 신속히 이를 수 있게 된다. According to the flow rate control system in accordance with an aspect of the present disclosure, since the constant-pressure regulator is pre-openedly opened by the set amount in the OFF state of the ON / OFF valve, .

도 1은 본 개시의 일 실시형태에 따른 유량제어시스템을 개념적으로 보인 도면,
도 2는 본 개시에 다른 일 실시형태에 따른 유량제어시스템을 개념적으로 보인 도면 및
도 3은 도 2에 따른 유량제어시스템의 구성을 보인 도면이다.1 is a conceptual illustration of a flow control system in accordance with an embodiment of the present disclosure;
Figure 2 conceptually illustrates a flow control system in accordance with another embodiment of the present disclosure;
3 is a view showing a configuration of a flow rate control system according to FIG.

이하, 본 개시를 첨부된 도면을 참고로 하여 자세하게 설명한다(The present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawing(s)).The present disclosure will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

다만, 이하에서 개시되는 기술적 사상의 명료한 이해를 위해 제한된 실시형태를 예로서 설명하였으나, 이에 한정되지는 아니하고 특허청구범위에 개시된 기술적 사상으로부터 해당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 도출할 수 있는 실시형태도 본 명세서에 개시된 실시형태로 이해되어야 함을 밝혀둔다.However, the present invention is not limited to these embodiments. For example, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit and scope of the present invention. It should be understood that the embodiments described herein are to be understood as the embodiments disclosed herein.

또한, 본 명세서 및 특허청구범위에서 사용된 용어는 본 발명자가 설명의 편의를 위하여 선택한 개념으로, 그 의미를 파악함에 있어서 사전적 의미에 한정되지 않고 본 개시의 기술적 사상에 부합되도록 적절히 해석되어야 할 것이다. The terms used in this specification and claims are to be understood by the inventor as a concept selected for the convenience of explanation and should not be construed in a linguistic sense in understanding the meaning thereof but should be appropriately interpreted in accordance with the technical idea of the present disclosure will be.

도 1은 본 개시의 일 실시형태에 따른 유량제어시스템을 개념적으로 보인 도면이다.1 is a conceptual view of a flow control system according to an embodiment of the present disclosure;

도 1을 참조하면, 본 실시형태에 따른 유량제어시스템(100)은, 정압 레귤레이터(110), 유량계(130), 정공 레귤레이터(120), 제어부(140) 및 상위 제어부(150)를 포함한다.1, the flow rate control system 100 according to the present embodiment includes a constant-pressure regulator 110, a flow meter 130, a hole regulator 120, a controller 140, and an upper controller 150.

정압 레귤레이터(110)는, 다이어프레임(미도시)의 개폐율에 따라 약액의 유량이 조절되며, 다이어프레임(미도시)의 개폐율은 후술하는 정공 레귤레이터(120)에서 공급되는 공기의 압력에 의해 조절되도록 구비된다.The flow rate of the chemical liquid is controlled in accordance with the opening / closing rate of the diaphragm (not shown), and the opening / closing rate of the diaphragm (not shown) is controlled by the air pressure supplied from the hole regulator 120 .

유량계(130)는, 약액의 흐름 방향으로 정압 레귤레이터(110)의 상류에 구비되어 약액의 유량을 계측하는 것으로서, 그 종류는 무관하나, 초음파 유량계(130)로 구비되는 것이 유량계에 의한 유량의 계측 오차 발생을 최소화할 수 있는 이점을 가지므로 바람직하다.The flow meter 130 is provided upstream of the constant-pressure regulator 110 in the flow direction of the chemical liquid to measure the flow rate of the chemical liquid. However, the flow meter 130 is provided with the ultrasonic flow meter 130, It is advantageous because it has an advantage of minimizing the occurrence of errors.

정공 레귤레이터(120)는, 정압 레귤레이터(110)에 공기를 공급하여, 정압 레귤레이터(110)에 구비되는 다이어프레임을 개폐시키기 위한 것으로서, 공급되는 공기의 압력을 조절하여 다이어프레임의 개도(開度)를 조절하도록 구비된다.The hole regulator 120 supplies air to the positive pressure regulator 110 to open and close the diaphragm provided in the positive pressure regulator 110. The hole regulator 120 adjusts the pressure of the supplied air to adjust the opening degree of the diaphragm, .

여기서, 공급되는 공기의 압력은, 후술하는 상위 제어부(150)를 통해 외부로부터 입력된 설정된 기준 유량과 유량계(130)에 의해 감지된 유량의 차이를 기준으로 조절되도록 구비된다. Here, the supplied air pressure is adjusted based on the difference between the set reference flow rate input from the outside through the upper control unit 150, which will be described later, and the flow rate sensed by the flow meter 130.

제어부(140)는, 유량계(130)에 의해 감지된 유량 정보와 설정된 기준 유량을 차이를 피드백 제어에 의해 오차 범위 내로 제어하게 된다.The control unit 140 controls the difference between the flow rate information sensed by the flow meter 130 and the set reference flow rate within an error range by feedback control.

구체적으로, 후술하는 상위 제어부(150)로부터 외부로부터 입력된 설정된 기준 유량을 전달받고, 유량계(130)로부터 감지된 유량 정보를 전달받아 양자의 크기를 비교한 후, 그 차이를 기준으로 정공 레귤레이터(120)에 전기적 신호를 인가한다. More specifically, the control unit 150 receives a preset reference flow rate input from the upper control unit 150, receives the flow rate information from the flow meter 130, compares sizes of the flow rate information, and outputs the flow rate information to the hole regulator 120, respectively.

전기적 신호를 인가받은 정공 레귤레이터(120)는 그 전기적 신호의 크기에 비례하는 압력의 공기를 정압 레귤레이터(110)에 공급하여 다이어프레임을 개폐하게 된다. The hole regulator 120, to which the electric signal is applied, supplies air having a pressure proportional to the magnitude of the electrical signal to the positive pressure regulator 110 to open and close the diaphragm.

이에 의해, 유량이 변경되며, 유량계(130)에 의해 계측된 변경된 유량과 설정된 기준 유량을 다시 비교하여 위 제어동작을 반복함으로써, 유량계(130)로부터 입력되는 유량 정보와 설정된 기준 유량의 차이를 오차 범위 내로 제어하게 된다.Thereby, the flow rate is changed, and the difference between the flow rate information input from the flow meter 130 and the set reference flow rate is corrected by comparing the changed flow rate measured by the flow meter 130 with the set reference flow rate again, Within the range.

여기서, 제어부(140)에서 정공 레귤레이터(120)에 인가되는 전기적 신호는 4~20mA의 아날로그 전류 신호로 마련되는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the electrical signal applied to the hole regulator 120 in the control unit 140 is provided as an analog current signal of 4 to 20 mA.

전류 신호에 의한 제어는, 전압 신호에 의한 제어에 비하여 외부 노이즈에 대한 영향이 적은 장점을 갖는다. The control by the current signal has the advantage of being less influenced by external noise than the control by the voltage signal.

한편, 4~20mA의 전류 제어 신호는 아날로그 제어 규격과의 호환성에 있어서 유리한 이점을 가진다.On the other hand, the current control signal of 4 to 20 mA has an advantage in compatibility with the analog control standard.

상위 제어부(150)는, 외부(예: 공정설비 운용자)로부터 설정된 기준 유량을 입력받아 제어부(140)에 인가하는 것이다. 상위 제어부(150)는 설정된 기준 유량 외에도 공정 설비의 운용을 위한 다양한 설정 값을 입력받고 공정 설비의 전체를 제어하는 기능을 수행하게 된다. 상위 제어부(150)와 제어부(140) 사이의 정보 전달은 통신에 의해 이루어지게 된다.The upper control unit 150 receives the reference flow amount set from the outside (for example, the process facility operator), and applies the reference flow amount to the control unit 140. The upper control unit 150 receives various set values for operating the process facility in addition to the set reference flow rate, and controls the entire process facility. The information transfer between the upper control unit 150 and the control unit 140 is performed by communication.

이상에서 설명한 본 개시의 일 실시형태에 따른 유량제어시스템(100)에 의하면, 약액의 유량 제어를 위한 밸브가 전동밸브가 아닌 정압 레귤레이터로 구비되며, 정압 레귤레이터를 통과하는 유량의 제어가 정공 레귤레이터에서 공급되는 공기의 압력에 의해 이루어지므로, 일시적 압력 변동에 의한 유량 헌팅을 방지할 수 있게 된다.According to the above-described flow control system 100 according to the embodiment of the present disclosure, the valve for controlling the flow rate of the chemical liquid is provided as a constant-pressure regulator, not a motorized valve, and the flow rate control through the constant- The flow rate hunting due to the temporary pressure fluctuation can be prevented.

도 2는 본 개시에 다른 일 실시형태에 따른 유량제어시스템을 개념적으로 보인 도면 및 도 3은 도 2에 따른 유량제어시스템의 구성을 보인 도면이다.FIG. 2 is a conceptual view of a flow control system according to another embodiment of the present disclosure, and FIG. 3 is a view showing a configuration of a flow control system according to FIG.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 실시형태에 따른 유량제어시스템(200)은 앞서 실시형태와 동일하게 정압 레귤레이터(210), 유량계(230), 정공 레귤레이터(220), 제어부(240) 및 상위 제어부(250)를 포함한다. 다만, 약액의 유동 방향으로 정압 레귤레이터(210)의 하류에 배치되는 ON/OFF 밸브(213)를 더 포함하는 점에서 차이를 가진다.2 and 3, the flow rate control system 200 according to the present embodiment includes a constant pressure regulator 210, a flow meter 230, a hole regulator 220, a controller 240, And a control unit 250. However, it has a difference in that it further includes an ON / OFF valve 213 disposed downstream of the positive pressure regulator 210 in the flow direction of the chemical liquid.

따라서, 정압 레귤레이터(210), 유량계(230), 정공 레귤레이터(220), 제어부(240) 및 상위 제어부(250)에 대한 설명은 앞선 설명으로 갈음하고, 이하에서는 ON/OFF 밸브(213)에 대해 자세히 설명한다.The description of the constant-pressure regulator 210, the flow meter 230, the hole regulator 220, the control unit 240, and the upper control unit 250 is omitted in the foregoing description. Hereinafter, the ON / OFF valve 213 I will explain in detail.

본 실시형태에 있어서, ON/OFF 밸브(213)는 토출 초기 유량이 설정된 기준 유량에 신속하게 이르도록 하기 위한 구성이다. 구체적으로, 토출 초기 정압 레귤레이터(210)를 통해 토출 되는 유량이 설정된 기준 유량에 근접시킨 후 ON/OFF 밸브(213)를 ON 상태로 전환함으로써 유량제어시스템(200)을 통해 설정된 기준 유량이 공급될 수 있도록 한다.In the present embodiment, the ON / OFF valve 213 is configured so that the discharge initial flow rate quickly reaches the set reference flow rate. Specifically, the reference flow rate set through the flow control system 200 is supplied by switching the ON / OFF valve 213 to the ON state after the flow rate discharged through the initial static pressure regulator 210 approaches the set reference flow rate .

그러나, 이 경우 토출 초기 정압 레귤레이터(210)를 통해 토출 되는 유량이 설정된 기준 유량에 근접시키는 데 상당한 시간(약 3초)이 소요되며, 이를 개선하기 위한 구성이 요구된다. However, in this case, it takes a considerable time (about 3 seconds) to bring the flow rate discharged through the initial static pressure regulator 210 close to the set reference flow rate, and a structure for improving the flow rate is required.

이를 위해, 본 실시형태는, 정압 레귤레이터(210)는 상기 ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 다이어프레임이 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되도록 제어된다.To this end, in the present embodiment, the constant-pressure regulator 210 is controlled so that the diaphragm is pre-opened (open) by an amount that is set when the ON / OFF valve is OFF.

구체적으로, 정공 레귤레이터(220)에, ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 설정된 기준 유량의 토출을 위해 인가되어야 하는 전류 크기의 80~90%에 해당하는 전류가 미리 인가되도록 제어하여 다이어프레임이 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되도록 한다.Specifically, control is performed such that a current corresponding to 80 to 90% of the current magnitude to be applied for discharging the reference flow rate set in the OFF state of the ON / OFF valve is previously applied to the hole regulator 220, (Pre-Ready Open).

이에 의하면, ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 정압 레귤레이터가 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되므로, 토출 초기 토출 되는 유량이 설정된 기준 유량에 신속히 이를 수 있게 된다. 본 발명자의 실험에 의하면 약 1.5초 이내에 설정된 기준 유량과 1% 이내의 차이를 가지는 유량 토출이 이루어짐을 확인하였다.
According to this, since the constant-pressure regulator is pre-openedly opened by an amount that is set when the ON / OFF valve is in the OFF state, the flow rate discharged at the initial stage of discharge can quickly reach the set reference flow rate. According to the experiment of the present inventor, it was confirmed that the flow rate discharge with a difference of less than 1% between the reference flow rate set within about 1.5 seconds was achieved.

Claims (8)

공급되는 공기의 압력에 의해, 약액의 유량을 조절하는 다이어프레임의 개폐율이 조절되는 정압 레귤레이터;
상기 약액의 유량을 계측하는 유량계;
상기 정압 레귤레이터에 공급되는 공기의 압력을 조절하는 정공 레귤레이터;로서, 상기 공기의 압력은 설정된 기준 유량과 상기 유량계에 의해 감지된 유량의 차이를 기준으로 조절되는 정공 레귤레이터; 및
상기 유량계로부터 입력되는 유량 정보와 상기 설정된 기준 유량의 차이를 기준으로 상기 정공 레귤레이터에 전기적 신호를 인가하여, 상기 유량 정보와 상기 설정된 기준 유량의 차이를 오차범위 내로 제어하는 제어부;를 포함하는 유량제어시스템.A static pressure regulator whose opening and closing rate of the diaphragm is controlled by the pressure of supplied air to control the flow rate of the chemical liquid;
A flowmeter for measuring a flow rate of the chemical liquid;
A hole regulator adjusting the pressure of the air supplied to the constant-pressure regulator, wherein the pressure of the air is regulated based on a difference between a set reference flow rate and a flow rate sensed by the flow meter; And
And a controller for applying an electrical signal to the hole regulator based on a difference between the flow rate information input from the flow meter and the set reference flow rate to control a difference between the flow rate information and the set reference flow rate within an error range, system. 청구항 1에 있어서,
상기 정공 레귤레이터는 상기 제어부에서 인가되는 아날로그 전기 신호의 크기를 기준으로 출력되는 공기의 압력을 조절하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.The method according to claim 1,
Wherein the hole regulator adjusts the pressure of the air to be output based on the magnitude of the analog electric signal applied from the controller. 청구항 2에 있어서,
상기 제어부에서 인가되는 전기적 신호는 4~20mA의 아날로그 전류 신호인 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.The method of claim 2,
Wherein the electrical signal applied by the controller is an analog current signal of 4 to 20 mA. 청구항 2에 있어서,
상기 유량계는 초음파 유량계로 구비되는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.The method of claim 2,
Wherein the flow meter is an ultrasonic flow meter. 청구항 2 내지 청구항 4 중 어느 하나의 청구항에 있어서,
외부로부터 상기 설정된 기준 유량을 입력받아 상기 제어부에 인가하는 상위 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.The method according to any one of claims 2 to 4,
And an upper control unit receiving the reference flow amount from the outside and applying the reference flow amount to the control unit. 청구항 5에 있어서,
상기 약액의 유동 방향으로 상기 정압 레귤레이터의 하류에 배치되는 ON/OFF 밸브;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.The method of claim 5,
And an ON / OFF valve disposed downstream of the positive pressure regulator in the flow direction of the chemical liquid. 청구항 6에 있어서,
상기 정압 레귤레이터는 상기 ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 상기 다이어프레임이 설정된 양만큼 사전 개방(Pre-Ready Open)되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.The method of claim 6,
Wherein the constant-pressure regulator is controlled so that the diaphragm is pre-openedly opened by a predetermined amount when the ON / OFF valve is in an OFF state. 청구항 7에 있어서,
상기 정공 레귤레이터에는, 상기 ON/OFF 밸브가 OFF 상태에서 상기 설정된 기준 유량의 토출을 위해 인가되어야 하는 전류 크기의 80~90%에 해당하는 전류가 미리 인가되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 유량제어시스템.



The method of claim 7,
Wherein the hole regulator is controlled so that a current corresponding to 80 to 90% of a current magnitude to be applied for discharging the set reference flow rate in the OFF state of the ON / OFF valve is previously applied.



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