KR20150118799A - Method for manufacturing touch screen panel - Google Patents

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KR20150118799A
KR20150118799A KR1020140044881A KR20140044881A KR20150118799A KR 20150118799 A KR20150118799 A KR 20150118799A KR 1020140044881 A KR1020140044881 A KR 1020140044881A KR 20140044881 A KR20140044881 A KR 20140044881A KR 20150118799 A KR20150118799 A KR 20150118799A
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transparent electrode
electrode material
transparent
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conductive metal
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김기환
고화석
임재범
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일진디스플레이(주)
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Abstract

The present invention relates to a method for manufacturing a touch screen panel. The method for manufacturing the touch screen panel comprises the steps of: forming a conductive metal layer, composed of a conductive metal, at an outer side of a view area of a transparent polymer film; and forming a transparent electrode material layer on the transparent polymer film with the conductive metal layer by printing or sputtering, at low temperatures, a transparent electrode material thereon. The present invention previously forms the conductive metal layer constituting a wiring pattern and forms the transparent electrode material layer constituting a transparent electrode pattern thereon, thereby preventing the transparent electrode material from being damaged in an etching process for forming the wiring pattern. Additionally the present invention forms the transparent electrode material layer by a printing process or a low temperature sputtering process by using the transparent electrode material making the printing process possible or making the low temperature sputtering process possible in place of traditional ITO used in the conventional art, thereby preventing thermal damage due to high temperatures occurring in the sputtering process of the transparent polymer film in the case that a substrate of the touch screen panel is the transparent polymer film.

Description

터치 스크린 패널 제조 방법{Method for manufacturing touch screen panel}Technical Field [0001] The present invention relates to a method for manufacturing a touch screen panel,

본 발명은 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a touch screen panel.

디스플레이 장치의 입력 요소로서 사용자의 터치 지점을 인식하는 입력 장치인 터치 스크린이 널리 사용되고 있다.As an input element of a display device, a touch screen, which is an input device for recognizing a touch point of a user, is widely used.

저항막 방식, 정전용량 방식 등 다양한 방식의 터치 스크린이 알려져 있으며, 최근에는 멀티 터치 인식과 우수한 내구성 등의 장점을 가지는 정전용량 방식의 터치 스크린이 많이 사용되고 있다.A touch screen of various types such as a resistance film type and a capacitive type is known. Recently, a capacitive type touch screen having advantages of multi-touch recognition and excellent durability is widely used.

통상적으로, 터치 스크린 패널을 제조하기 위해, ITO(indium tin oxide)와 같은 투명전극 물질을 투명 기판의 전체 면에 스퍼터링(sputtering)한 후 원하는 패턴으로 에칭(etching)하여 투명 전극을 형성하며, 그리고 나서 투명 전극이 형성된 기판의 전체 면에 도전성 금속을 스퍼터링한 후 원하는 패턴으로 에칭을 하여 배선 패턴을 형성하게 된다. 배선 패턴을 ACF(anisotropic conductive film) 등에 연결되어 외부 회로에 연결된다. 이러한 터치 스크린 패널이 디스플레이 장치의 윈도우 패널에 투명 접착제를 이용하여 부착된다. 한편, 터치 기능의 구현을 위한 투명 전극 패턴 및 배선 패턴이 별도의 기판에 형성되는 것이 아니라 윈도우 패널에 직접 형성될 수도 있다.Typically, in order to manufacture a touch screen panel, a transparent electrode material such as indium tin oxide (ITO) is sputtered on the entire surface of a transparent substrate and then etched in a desired pattern to form a transparent electrode, Then, a conductive metal is sputtered on the entire surface of the substrate on which the transparent electrode is formed, and then etching is performed in a desired pattern to form a wiring pattern. The wiring pattern is connected to an external circuit by being connected to an ACF (anisotropic conductive film) or the like. Such a touch screen panel is attached to the window panel of the display device using a transparent adhesive. On the other hand, the transparent electrode pattern and the wiring pattern for implementing the touch function may be formed directly on the window panel instead of being formed on a separate substrate.

이러한 터치 스크린 패널을 형성하기 위해, 투명 기판(또는 윈도우 패널)의 시야영역(viewing area, VA)의 외측에 존재하는 도전성 금속층은 에칭을 통해 선택적으로 제거되어 배선 패턴을 형성하고 시야영역의 투명 전극 패턴 상에 존재하는 도전성 금속층은 에칭을 통해 모두 제거되어야 하는데, 도전성 금속층을 에칭하는 과정에서 미리 형성되어 있던 투명 전극이 손상되는 문제가 있었다. 이로 인해 도전성 금속 및 투명 전극 물질의 선정에 제약이 있었다. 특히 기존의 ITO를 대체할 투명 전극 물질이 다양하게 개발되고 있는 상황에서 이와 같은 투명 전극 물질의 선정의 제약은 터치 스크린 패널의 제조에서 중요한 한계로 인식되고 있다.In order to form such a touch screen panel, a conductive metal layer existing outside a viewing area (VA) of a transparent substrate (or window panel) is selectively removed through etching to form a wiring pattern, The conductive metal layer existing on the pattern must be completely removed through etching. However, there is a problem that the transparent electrode previously formed in the process of etching the conductive metal layer is damaged. This has limited the selection of conductive metal and transparent electrode materials. Especially, in a situation where a transparent electrode material to replace the conventional ITO is being developed in various ways, the restriction of the selection of the transparent electrode material is recognized as an important limitation in the manufacture of the touch screen panel.

한편 공개특허공보 10-2011-0060334호에서는 아크릴 또는 글래스 소재로 이루어지는 윈도우 패널의 배면에 배선 패턴과 투명 전극 패턴을 차례로 형성하는 기술이 개시되어 있다. 그러나 이 기술에서는 윈도우 패널에 금속층을 스퍼터링 방식으로 형성하고 에칭하여 배선 패턴을 형성하고 다시 그 위에 투명 도전성 물질(ITO)을 스퍼터링하고 에칭하여 투명 전극 패턴을 형성한다. 이러한 방식은 투명 전극 패턴을 형성하기 위한 ITO가 고온 스퍼터링을 통해서 윈도우 패널의 배면에 증착되기 때문에, 윈도우 패널이 고온에 노출되어야 하는 문제가 있다. 이에 따라 해당 문헌의 배경기술 부분에 기재된 바와 같이 윈도우 패널이 아크릴이나 글래스와 같은 비교적 열에 강한 경질 재질로 한정될 수 밖에 없었다.On the other hand, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-2011-0060334 discloses a technique for sequentially forming a wiring pattern and a transparent electrode pattern on the back surface of a window panel made of acrylic or glass material. However, in this technology, a metal layer is formed on a window panel by a sputtering method and is etched to form a wiring pattern, and then a transparent conductive material (ITO) is sputtered and etched thereon to form a transparent electrode pattern. In this method, the ITO for forming the transparent electrode pattern is deposited on the back surface of the window panel through the high-temperature sputtering, so that the window panel must be exposed to high temperature. Accordingly, the window panel has to be limited to a relatively hard material such as acrylic or glass, as described in the background section of the document.

한국 공개특허공보 10-2011-0060334Korean Patent Publication No. 10-2011-0060334

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 배선 패턴을 형성하기 위한 에칭 과정에서 투명 전극 패턴을 형성하는 물질이 손상되는 것을 방지할 수 있으며 또한 터치 스크린 패널의 기판이 투명 폴리머 필름인 경우 종래의 ITO 스퍼터링 과정에서 발생하는 열에 의해 투명 폴리머 필름이 손상되는 것을 방지할 수 있는 터치 스크린 패널의 제조 방법 및 그에 따른 터치 스크린 패널을 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an ITO sputtering method and a manufacturing method thereof, which can prevent the material forming the transparent electrode pattern from being damaged in an etching process for forming a wiring pattern, A method of manufacturing a touch screen panel capable of preventing a transparent polymer film from being damaged by heat generated, and a touch screen panel therefor.

본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법은, 투명 폴리머 필름의 시야영역 외측에 도전성 금속으로 이루어지는 도전성 금속 층을 형성하는 단계, 그리고 상기 도전성 금속 층이 형성된 투명 폴리머 필름 상에 투명 전극 물질을 인쇄하거나 저온 스퍼터링하여 투명 전극 물질 층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming a conductive metal layer made of a conductive metal outside a viewing area of a transparent polymer film and forming a transparent electrode material on the transparent polymer film having the conductive metal layer formed thereon Printing or low-temperature sputtering to form a transparent electrode material layer.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법은 상기 투명 도전성 물질 층을 형성하기 전에 상기 도전성 금속 층을 에칭하여 배선 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있고, 상기 투명 전극 물질 층은 상기 배선 패턴이 형성된 상기 투명 폴리머 필름 상에 형성될 수 있다.The method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention may further include forming a wiring pattern by etching the conductive metal layer before forming the transparent conductive material layer, Can be formed on the transparent polymer film on which the wiring pattern is formed.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법은, 상기 투명 전극 물질 층이 상기 투명 전극 물질을 저온 스퍼터링하여 형성되는 경우, 상기 투명 전극 물질 층을 패터닝하여 투명 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch screen panel, comprising: forming a transparent electrode pattern by patterning the transparent electrode material layer when the transparent electrode material layer is formed by low temperature sputtering the transparent electrode material; .

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법은, 상기 투명 전극 물질 층을 형성한 후, 상기 도전성 금속 층과 상기 투명 전극 물질 층의 함께 에칭하여 상기 도전성 금속으로 이루어지는 배선 패턴과 상기 투명 전극 물질로 이루어지는 투명 전극 패턴을 동시에 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch screen panel, comprising: forming a transparent electrode material layer; etching the conductive metal layer and the transparent electrode material layer together to form a wiring pattern made of the conductive metal; And forming a transparent electrode pattern made of an electrode material at the same time.

상기 투명 폴리머 필름은 플렉서블(flexible)한 필름일 수 있다.The transparent polymer film may be a flexible film.

상기 투명 폴리머 필름은 PET(Polyethylene terephthalate), PC(Polycarbonate), COP(cyclo olefin polymer) 중 어느 하나일 수 있다.The transparent polymer film may be any one of polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), and cycloolefin polymer (COP).

상기 인쇄 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 실버(Ag) 와이어 잉크, 도전성 폴리머, 탄소 나노 튜브 중 어느 하나일 수 있고, 상기 저온 스퍼터링 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 ZnO(Zinc oxide)일 수 있다.The transparent electrode material used in the printing process may be any one of a silver wire ink, a conductive polymer, and a carbon nanotube. The transparent electrode material used in the low temperature sputtering process may be ZnO (zinc oxide).

상기 투명 폴리머 필름 상에 형성되는 상기 배선 패턴 및 상기 투명 전극 패턴은 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 형성될 수 있다.The wiring pattern and the transparent electrode pattern formed on the transparent polymer film may be formed in a roll-to-roll manner.

본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 투명 폴리머 필름, 상기 투명 폴리머 필름의 시야영역 외측에 도전성 금속으로 이루어진 배선 패턴, 그리고 상기 투명 폴리머 필름의 시야영역 및 상기 배선 패턴 상에 형성되는 투명 전극 패턴을 포함한다.A touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a transparent polymer film, a wiring pattern made of a conductive metal outside the viewing area of the transparent polymer film, and a viewing area of the transparent polymer film and a transparent electrode Pattern.

상기 투명 폴리머 필름은 플렉서블(flexible)한 필름일 수 있다.The transparent polymer film may be a flexible film.

상기 투명 전극 패턴은 상기 도전성 금속 패턴이 형성된 투명 폴리머 필름 상에 투명 전극 물질을 인쇄하는 공정 또는 투명 전극 물질을 저온 스퍼터링한 후 에칭하는 공정으로 형성될 수 있다.The transparent electrode pattern may be formed by a process of printing a transparent electrode material on a transparent polymer film having the conductive metal pattern formed thereon, or a process of low-temperature sputtering and etching the transparent electrode material.

상기 배선 패턴은 상기 에칭 공정에 의해 상기 투명 전극 패턴과 함께 형성될 수 있다.The wiring pattern may be formed together with the transparent electrode pattern by the etching process.

상기 인쇄 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 실버(Ag) 와이어 잉크, 도전성 폴리머, 탄소 나노 튜브 중 어느 하나일 수 있고, 상기 저온 스퍼터링 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 ZnO(Zinc oxide)일 수 있다.The transparent electrode material used in the printing process may be any one of a silver wire ink, a conductive polymer, and a carbon nanotube. The transparent electrode material used in the low temperature sputtering process may be ZnO (zinc oxide).

한편, 본 발명의 실시예에 따른 전자 기기는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 포함한다.Meanwhile, an electronic device according to an embodiment of the present invention includes a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 의하면, 배선 패턴을 이루는 도전성 금속 층이 먼저 형성되고 그 위해 투명 전극 패턴을 형성하는 투명 전극 물질 층이 형성됨으로써 배선 패턴을 형성하기 위한 에칭 과정에서 투명 전극 물질이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 특히 종래에 주로 사용되는 통상의 ITO 대신에 인쇄 공정이 가능한 투명 전극 물질 또는 저온 스퍼터링이 가능한 투명 전극 물질을 사용하여 인쇄 공정 또는 저온 스퍼터링에 의해 투명 전극 물질 층을 형성함으로써, 터치 스크린 패널의 기판이 투명 폴리머 필름인 경우 투명 폴리머 필름이 스퍼터링 과정에서 발생하는 고온에 의해 열 손상되는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, the conductive metal layer forming the wiring pattern is formed first, and the transparent electrode material layer for forming the transparent electrode pattern is formed, thereby preventing the transparent electrode material from being damaged in the etching process for forming the wiring pattern In particular, by forming a transparent electrode material layer by a printing process or low-temperature sputtering using a transparent electrode material capable of being printed or a low-temperature sputterable transparent electrode material instead of conventional ITO, When the substrate is a transparent polymer film, the transparent polymer film can be prevented from being thermally damaged by the high temperature generated in the sputtering process.

나아가, 본 발명의 의하면, 터치 스크린 패널의 기판이 투명 고분자 필름(110)이기 때문에, 종래에 사용되는 글라스나 아크릴 등의 경질 재질의 기판과는 달리, 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 제조될 수 있다. 이에 따라 터치 스크린 패널의 생산 효율이 크게 향상될 수 있다.Furthermore, since the substrate of the touch screen panel is a transparent polymer film 110, unlike a substrate made of a hard material such as glass or acryl, which is conventionally used, a roll-to-roll . Accordingly, the production efficiency of the touch screen panel can be greatly improved.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법에 따라 제조된 터치 스크린 패널의 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절개한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법 중 투명 폴리머 필름 상에 도전성 금속 층을 형성하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법 중 투명 전극 패턴을 형성하기 위한 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법 중 투명 전극 패턴을 형성하기 위한 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법 중 투명 전극 패턴을 형성하기 위한 과정을 설명하기 위한 도면이다.1 is a plan view of a touch screen panel manufactured according to a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG.
3 is a view illustrating a process of forming a conductive metal layer on a transparent polymer film in a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
4 is a view illustrating a process for forming a transparent electrode pattern in a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
5 is a view illustrating a process of forming a transparent electrode pattern in a method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.
6 is a view illustrating a process for forming a transparent electrode pattern in a method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널(100)은 기판(110)을 포함한다. 기판(110)은 투명 폴리머 필름일 수 있으며, 예를 들어 PET(Polyethylene terephthalate), PC(Polycarbonate), COP(cyclo olefin polymer) 등의 재질로 형성되는 필름일 수 있다. 또한 투명 폴리머 필름인 기판은 플렉서블(flexible) 디스플레이에의 적용을 위해 플렉서블한 필름일 수 있다. 이하에서는 기판을 투명 폴리머 필름으로 칭한다.Referring to FIGS. 1 and 2, a touch screen panel 100 according to an embodiment of the present invention includes a substrate 110. The substrate 110 may be a transparent polymer film, for example, a film formed of a material such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), and cycloolefin polymer (COP). The substrate, which is also a transparent polymer film, can be a flexible film for application to a flexible display. Hereinafter, the substrate is referred to as a transparent polymer film.

배선 패턴(120)과 투명 전극 패턴(130)이 투명 폴리머 필름(110) 상에 형성된다. 배선 패턴(120)은 도전성 금속으로 이루어질 수 있으며, 투명 전극 패턴(130)은 투명 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 이때, 배선 패턴(120)의 터치 스크린 패널의 시야 영역(VA)의 외측에 형성되며, 투명 전극 패턴(130)은 시야영역(VA) 및 그 외측 일부에 형성된다. 투명 전극 패턴(130) 중 시야영역(VA)의 외측에 위치하는 부분은 배선 패턴(120)과 상하로 적층되는 상태로 접촉되어 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 종래 기술에서는 투명 전극 패턴(130)이 먼저 형성되고 그 위에 배선 패턴(120)이 형성되는 데 반해, 본 발명의 실시예에서는 배선 패턴(120)이 투명 폴리머 필름(110) 상에 먼저 형성되고 그 위에 투명 전극 패턴(130)이 형성되기 때문에, 종래와 같은 배선 패턴(120)의 에칭 과정에서 투명 전극 패턴(130)을 이루는 투명 전극 물질이 손상되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라 개발되고 있는 다양한 종류의 투명 전극 물질의 폭 넓은 적용이 가능하다.The wiring pattern 120 and the transparent electrode pattern 130 are formed on the transparent polymer film 110. The wiring pattern 120 may be formed of a conductive metal, and the transparent electrode pattern 130 may be formed of a transparent conductive material. At this time, the wiring pattern 120 is formed outside the viewing area VA of the touch screen panel, and the transparent electrode pattern 130 is formed in the viewing area VA and a part of the outside thereof. A portion of the transparent electrode pattern 130 located outside the viewing area VA may be electrically connected to the wiring pattern 120 in a state of being stacked up and down. The transparent electrode pattern 130 is formed first and the wiring pattern 120 is formed on the transparent electrode pattern 130. In the present invention, the wiring pattern 120 is formed on the transparent polymer film 110, It is possible to prevent the transparent electrode material forming the transparent electrode pattern 130 from being damaged in the etching process of the wiring pattern 120 as in the conventional art. Accordingly, it is possible to widely apply various kinds of transparent electrode materials being developed.

투명 전극 패턴(130)은 터치 스크린 패널의 사용자의 터치에 따른 정전용량 변화를 감지하기 위한 전극 패턴이며, 배선 패턴(120)은 투명 전극 패턴(130)에 연결되어 해당하는 신호를 외부 회로로 연결하기 위한 패턴이다.The transparent electrode pattern 130 is an electrode pattern for sensing a change in capacitance of the touch screen panel according to a user's touch. The wiring pattern 120 is connected to the transparent electrode pattern 130, .

이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 투명 폴리머 필름(110) 상에 배선 패턴(120)을 형성하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining the process of forming the wiring pattern 120 on the transparent polymer film 110. FIG.

먼저, 배선 패턴(120)을 형성하기 위한 도전성 금속 층(121)이 투명 폴리머 필름(110)의 일면에 형성된다. 도전성 금속 층(121)은 도전성 금속으로 이루어지며 투명 폴리머 필름(110)의 시야영역(VA) 외측에 형성될 수 있다. 예를 들어, 도전성 금속은 은(Ag)과 같은 전기 전도성이 양호한 금속일 수 있다.First, a conductive metal layer 121 for forming the wiring pattern 120 is formed on one side of the transparent polymer film 110. [ The conductive metal layer 121 is made of a conductive metal and may be formed outside the viewing area VA of the transparent polymer film 110. For example, the conductive metal may be a metal having good electrical conductivity such as silver (Ag).

예를 들어, 도전성 금속 층(121)은 도 3에 도시된 바와 같은 과정을 통해 형성될 수 있다. 구체적으로, 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 투명 폴리머 필름(110)에 마스크 패턴 층(10)이 형성될 수 있다. 여기서, 마스크 패턴 층(10)은 터치 스크린 패널의 시야영역(VA)을 덮고 그 외측 영역을 노출하는 형태로 형성될 수 있다. 그리고 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 마스크 패턴 층(10)이 형성된 상태에서 도전성 금속을 스퍼터링하여 도전성 금속 층(121)을 형성할 수 있다. 그리고, 도 3의 (c)에 도시된 바와 같이, 도전성 금속 층(121)을 형성하고 나서 마스크 패턴 층(10)을 제거함으로써 투명 폴리머 필름(110) 상에 도전성 금속 층(121)이 형성될 수 있다. 그리고 나서, 도 3의 (d)에 도시된 바와 같이, 도전성 금속 층(121)을 에칭하여 배선 패턴(120)을 형성할 수 있다. 한편, 마스크 패턴 층(10)은 형성된 배선 패턴(120)이 도전성 금속의 스퍼터링 과정에서 동시에 형성되도록 시야영역 외측에 대응하는 부분이 미리 패터닝 되어 있을 수도 있으며, 이 경우에는 별도의 에칭 공정이 필요하지 않다. 이때, 도전성 금속 층(121)을 에칭하여 배선 패턴(120)을 형성하는 과정은 뒤에서 설명한 투명 전극 패턴을 형성하기 위한 에칭 시에 동시에 수행될 수도 있다.For example, the conductive metal layer 121 may be formed through a process as shown in FIG. Specifically, as shown in FIG. 3A, the mask pattern layer 10 may be formed on the transparent polymer film 110. Here, the mask pattern layer 10 may be formed to cover the viewing area VA of the touch screen panel and expose the outer area thereof. Then, as shown in FIG. 3 (b), the conductive metal layer 121 can be formed by sputtering a conductive metal in a state where the mask pattern layer 10 is formed. 3C, after the conductive metal layer 121 is formed and the mask pattern layer 10 is removed, the conductive metal layer 121 is formed on the transparent polymer film 110 . Then, as shown in FIG. 3D, the conductive metal layer 121 may be etched to form the wiring pattern 120. Next, as shown in FIG. Meanwhile, the mask pattern layer 10 may be formed by patterning a portion corresponding to the outside of the viewing area so that the formed wiring pattern 120 is simultaneously formed during the sputtering of the conductive metal. In this case, a separate etching process is required not. At this time, the process of forming the wiring patterns 120 by etching the conductive metal layer 121 may be performed simultaneously at the time of etching for forming the transparent electrode pattern described later.

도 4는 도 3에 의한 배선 패턴(120)이 형성되어 있는 투명 폴리머 필름(110) 상에 투명 전극 패턴(130)을 형성하는 과정을 설명하기 위한 도면이다.4 is a view for explaining the process of forming the transparent electrode pattern 130 on the transparent polymer film 110 on which the wiring pattern 120 according to FIG. 3 is formed.

먼저, 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 배선 패턴(120)이 형성되어 있는 투명 폴리머 필름(110) 상에 투명 전극 물질을 이용하여 투명 전극 물질 층(131)이 형성된다. 이때, 투명 전극 물질 층(131)은 투명 도전성 물질(즉, 투명 전극 물질)을 저온 스퍼터링하여 형성될 수 있다. 투명 전극 물질로 사용되는 통상의 ITO는 상대적으로 높은 온도에서 스퍼터링이 이루어질 수 있으나, 본 발명의 실시예에서는 예를 들어 ZnO(Zinc oxide)와 같은 저온 스퍼터링이 가능한 물질을 사용하여 저온 스퍼터링에 의해 투명 전극 물질 층(131)이 형성된다. 이에 따라 투명 폴리머 필름(110)이 상대적으로 융점이 낮은 저내열성의 폴리머(예를 들어, 위에서 언급한 PET, PC, COP 등)로 형성되는 경우에도 투명 폴리머 필름(110)이 스퍼터링 과정에서 열에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있다.3 (a), a transparent electrode material layer 131 is formed on a transparent polymer film 110 on which a wiring pattern 120 is formed by using a transparent electrode material. At this time, the transparent electrode material layer 131 may be formed by low-temperature sputtering a transparent conductive material (that is, a transparent electrode material). In general, ITO, which is used as a transparent electrode material, can be sputtered at a relatively high temperature. In an embodiment of the present invention, a low-temperature sputtering material such as ZnO (zinc oxide) An electrode material layer 131 is formed. Accordingly, even when the transparent polymer film 110 is formed of a polymer having a relatively low melting point and a low heat resistance (for example, the above-mentioned PET, PC, or COP), the transparent polymer film 110 is thermally It is possible to prevent damage.

그리고 나서, 도 3의 (b)에 도시된 바와 같이, 투명 전극 물질 층(131)을 에칭하여 원하는 투명 전극 패턴(130)을 형성할 수 있다. 이때, 도면에 도시된 것처럼, 투명 전극 패턴(130) 중 시야영역 외에 위치하는 부분은 배선 패턴(120)과 상하로 중첩되어 서로 접촉됨으로써 서로 전기적으로 연결된다.3 (b), the transparent electrode material layer 131 may be etched to form a desired transparent electrode pattern 130. Next, as shown in FIG. At this time, as shown in the drawing, the portion of the transparent electrode pattern 130 located outside the viewing area overlaps with the wiring pattern 120 and is electrically connected to each other by being in contact with each other.

도 5는 배선 패턴(120)과 투명 전극 패턴(130)을 형성하는 다른 방법을 설명하기 위한 도면이다. 본 예에서는, 도전성 금속 층(121)을 형성한 후 이를 바로 에칭하지 않고 투명 전극 물질 층(133)을 먼저 형성한 후 양자를 함께 에칭하여 배선 패턴(120)과 투명 전극 패턴(130)을 함께 형성한다.5 is a view for explaining another method of forming the wiring pattern 120 and the transparent electrode pattern 130. FIG. In this example, after the conductive metal layer 121 is formed, the transparent electrode material layer 133 is first formed without directly etching the conductive metal layer 121, and then the both are etched together to form the wiring pattern 120 and the transparent electrode pattern 130 together .

즉, 도 5의 (a)에 도시된 바와 같이, 도전성 금속 층(121)이 형성된 투명 폴리머 필름(110) 상에 투명 전극 물질을 이용하여 투명 전극 물질 층(133)을 형성한다. 투명 전극 물질 층(133)은 도 4의 경우와 동일하게 ZnO를 사용하여 저온 스퍼터링으로 형성될 수 있다. 그리고 나서 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 도전성 금속 층(121)과 투명 전극 물질 층(133)을 에칭하여 배선 패턴(120)과 투명 전극 패턴(130)을 형성할 수 있다. 이때, 도전성 금속 층(121)과 투명 전극 물질 층(133)이 상하로 중첩된 부분에서는 도전성 금속 층(121)와 투명 전극 물질 층(133)이 동시에 에칭됨으로써 배선 패턴(120)과 투명 전극 패턴(130)이 동시에 형성될 수 있다. 이때 에칭은 레이저 에칭일 수 있다.5 (a), a transparent electrode material layer 133 is formed on a transparent polymer film 110 on which a conductive metal layer 121 is formed using a transparent electrode material. The transparent electrode material layer 133 may be formed by low temperature sputtering using ZnO as in the case of FIG. 5B, the conductive metal layer 121 and the transparent electrode material layer 133 may be etched to form the wiring pattern 120 and the transparent electrode pattern 130. Next, as shown in FIG. At this time, the conductive metal layer 121 and the transparent electrode material layer 133 are simultaneously etched at the portions where the conductive metal layer 121 and the transparent electrode material layer 133 are vertically overlapped, (130) may be formed at the same time. The etching may be laser etching.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 투명 전극 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 본 실시예에서는 저온 스퍼터링 대신에 인쇄 방법이 사용된다.6 is a view for explaining a method of forming a transparent electrode pattern according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, a printing method is used instead of low temperature sputtering.

먼저, 도 6의 (a)의 투명 폴리머 필름(110)은 도 3의 (d)와 동일한 것으로 그 표면에 배선 패턴(120)이 형성되어 있으며, 배선 패턴(120)의 표면과 투명 폴리머 필름(110)의 표면의 시야영역(VA)에 해당하는 영역에 투명 전극 물질을 이용하여 인쇄 방법으로 투명 전극 패턴(130)이 형성된다. 이때, 투명 전극 물질은 실버(Ag) 와이어 잉크, 도전성 폴리머, 탄소 나노 튜브와 같은 인쇄 방식으로 도포될 수 있는 투명 도전성 물질이다. 투명 도전성 물질을 이용하여 인쇄 방식으로 투명 전극 패턴(130)을 형성함으로써 종래의 ITO 고온 스퍼터링에서와 같이 투명 폴리머 필름(110)이 고온에 노출되는 것을 방지할 수 있다.The transparent polymer film 110 of FIG. 6A is the same as that of FIG. 3 (d), and a wiring pattern 120 is formed on the surface of the transparent polymer film 110. The surface of the wiring pattern 120 and the transparent polymer film The transparent electrode pattern 130 is formed by a printing method using a transparent electrode material in an area corresponding to the viewing area VA of the surface of the substrate 110. [ Here, the transparent electrode material is a transparent conductive material that can be applied by a printing method such as a silver wire ink, a conductive polymer, or a carbon nanotube. The transparent polymer film 110 can be prevented from being exposed to a high temperature as in the conventional ITO high temperature sputtering by forming the transparent electrode pattern 130 by a printing method using a transparent conductive material.

한편, 본 발명의 실시예에 따르면, 터치 스크린 패널의 기판이 투명 고분자 필름(110)이기 때문에, 종래에 사용되는 글라스나 아크릴 등의 경질 재질의 기판과는 달리, 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 제조될 수 있다. 이에 따라 터치 스크린 패널의 생산 효율이 크게 향상될 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since the substrate of the touch screen panel is the transparent polymer film 110, unlike the conventional substrate made of hard material such as glass or acrylic, the roll-to-roll ). ≪ / RTI > Accordingly, the production efficiency of the touch screen panel can be greatly improved.

본 발명의 실시예에 따른 전자 기기는 위에서 설명한 본 발명의 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 포함할 수 있으며, 예를 들어 전자 기기는 휴대폰, 스마트폰, 각종 디스플레이 장치 등 터치 스크린 패널이 장착될 수 있는 임의의 전자 기기일 수 있다.The electronic device according to an embodiment of the present invention may include a touch screen panel according to the embodiment of the present invention described above. For example, the electronic device may be a touch screen panel such as a mobile phone, a smart phone, Lt; / RTI >

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, .

110: 투명 폴리머 필름
120: 배선 패턴
121: 도전성 금속 층
130: 투명 전극 패턴
131, 133: 투명 전극 물질 층
10: 마스크 패턴 층110: transparent polymer film
120: wiring pattern
121: conductive metal layer
130: transparent electrode pattern
131, 133: transparent electrode material layer
10: mask pattern layer

Claims (14)

투명 폴리머 필름의 시야영역 외측에 도전성 금속으로 이루어지는 도전성 금속 층을 형성하는 단계, 그리고
상기 도전성 금속 층이 형성된 투명 폴리머 필름 상에 투명 전극 물질을 인쇄하거나 저온 스퍼터링하여 투명 전극 물질 층을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널 제조 방법.Forming a conductive metal layer made of a conductive metal outside the viewing area of the transparent polymer film, and
And printing or low-temperature sputtering a transparent electrode material on the transparent polymer film on which the conductive metal layer is formed to form a transparent electrode material layer. 제1항에서,
상기 투명 도전성 물질 층을 형성하기 전에 상기 도전성 금속 층을 에칭하여 배선 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 투명 전극 물질 층은 상기 배선 패턴이 형성된 상기 투명 폴리머 필름 상에 형성되는 터치 스크린 패널 제조 방법.The method of claim 1,
Further comprising the step of etching the conductive metal layer to form a wiring pattern before forming the transparent conductive material layer,
Wherein the transparent electrode material layer is formed on the transparent polymer film on which the wiring pattern is formed. 제2항에서,
상기 투명 전극 물질 층이 상기 투명 전극 물질을 저온 스퍼터링하여 형성되는 경우, 상기 투명 전극 물질 층을 패터닝하여 투명 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 스크린 패널 제조 방법.3. The method of claim 2,
And forming a transparent electrode pattern by patterning the transparent electrode material layer when the transparent electrode material layer is formed by low temperature sputtering the transparent electrode material. 제1항에서,
상기 투명 전극 물질 층을 형성한 후, 상기 도전성 금속 층과 상기 투명 전극 물질 층의 함께 에칭하여 상기 도전성 금속으로 이루어지는 배선 패턴과 상기 투명 전극 물질로 이루어지는 투명 전극 패턴을 동시에 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 스크린 패널 제조 방법.The method of claim 1,
Forming the transparent electrode material layer, and etching the conductive metal layer and the transparent electrode material layer together to form a wiring pattern made of the conductive metal and a transparent electrode pattern made of the transparent electrode material at the same time A method of manufacturing a touch screen panel. 제1항에서,
상기 투명 폴리머 필름은 플렉서블(flexible)한 필름인 터치 스크린 패널 제조 방법.The method of claim 1,
Wherein the transparent polymer film is a flexible film. 제1항에서,
상기 투명 폴리머 필름은 PET(Polyethylene terephthalate), PC(Polycarbonate), COP(cyclo olefin polymer) 중 어느 하나인 터치 스크린 제조 패널 방법.The method of claim 1,
Wherein the transparent polymer film is one of PET (polyethylene terephthalate), PC (polycarbonate), and COP (cycloolefin polymer). 제1항에서,
상기 인쇄 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 실버(Ag) 와이어 잉크, 도전성 폴리머, 탄소 나노 튜브 중 어느 하나이고,
상기 저온 스퍼터링 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 ZnO(Zinc oxide)인 터치 스크린 패널 제조 방법.The method of claim 1,
The transparent electrode material used in the printing process is any one of silver (Ag) wire ink, conductive polymer, and carbon nanotube,
Wherein the transparent electrode material used in the low-temperature sputtering process is ZnO (zinc oxide). 제1항에서,
상기 투명 폴리머 필름 상에 형성되는 상기 배선 패턴 및 상기 투명 전극 패턴은 롤투롤(roll-to-roll) 방식으로 형성되는 터치 스크린 패널 제조 방법.The method of claim 1,
Wherein the wiring pattern and the transparent electrode pattern formed on the transparent polymer film are formed in a roll-to-roll manner. 투명 폴리머 필름,
상기 투명 폴리머 필름의 시야영역 외측에 도전성 금속으로 이루어진 배선 패턴, 그리고
상기 투명 폴리머 필름의 시야영역 및 상기 배선 패턴 상에 형성되는 투명 전극 패턴을 포함하는 터치 스크린 패널.Transparent polymer film,
A wiring pattern made of a conductive metal outside the viewing area of the transparent polymer film, and
And a transparent electrode pattern formed on the wiring pattern and a viewing area of the transparent polymer film. 제9항에서,
상기 투명 폴리머 필름은 플렉서블(flexible)한 필름인 터치 스크린 패널.The method of claim 9,
Wherein the transparent polymer film is a flexible film. 제9항에서,
상기 투명 전극 패턴은 상기 도전성 금속 패턴이 형성된 투명 폴리머 필름 상에 투명 전극 물질을 인쇄하는 공정 또는 투명 전극 물질을 저온 스퍼터링한 후 에칭하는 공정으로 형성되는 터치 스크린 패널.The method of claim 9,
Wherein the transparent electrode pattern is formed by a process of printing a transparent electrode material on a transparent polymer film having the conductive metal pattern formed thereon or a process of low-temperature sputtering and etching the transparent electrode material. 제11항에서,
상기 배선 패턴은 상기 에칭 공정에 의해 상기 투명 전극 패턴과 함께 형성되는 터치 스크린 패널.12. The method of claim 11,
Wherein the wiring pattern is formed together with the transparent electrode pattern by the etching process. 제11항에서,
상기 인쇄 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 실버(Ag) 와이어 잉크, 도전성 폴리머, 탄소 나노 튜브 중 어느 하나이고,
상기 저온 스퍼터링 공정에 사용되는 투명 전극 물질은 ZnO(Zinc oxide)인 터치 스크린 패널.12. The method of claim 11,
The transparent electrode material used in the printing process is any one of silver (Ag) wire ink, conductive polymer, and carbon nanotube,
Wherein the transparent electrode material used in the low temperature sputtering process is ZnO (zinc oxide). 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 다른 터치 스크린 패널을 포함하는 전자 기기.An electronic device comprising a touch screen panel as claimed in any one of claims 9 to 13.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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