KR20150111456A - Display apparatus and method of manufacturing the same - Google Patents

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KR20150111456A
KR20150111456A KR1020140034172A KR20140034172A KR20150111456A KR 20150111456 A KR20150111456 A KR 20150111456A KR 1020140034172 A KR1020140034172 A KR 1020140034172A KR 20140034172 A KR20140034172 A KR 20140034172A KR 20150111456 A KR20150111456 A KR 20150111456A
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이상명
유승준
송영구
윤여건
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

A display apparatus includes a first substrate and a second substrate facing the first substrate. The first substrate includes a first base substrate, a wiring part, and a pad part connected to the wiring part. The second substrate includes a second base substrate and an encapsulation part. The encapsulation part is disposed on top of the pad part.

Description

표시 장치 및 이의 제조 방법{DISPLAY APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the same,

본 발명은 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the same.

최근 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display), 유기 전계 발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode), 전기 습윤 표시 장치(Electro Wetting Display Device), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel: PDP), 전기 영동 표시장치(Electrophoretic Display Device) 등 다양한 표시장치가 개발되고 있다.BACKGROUND ART [0002] Recently, a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode, an electro wetting display device, a plasma display panel (PDP), an electrophoretic display Display Device) are being developed.

일반적으로, 표시 장치는 서로 마주보는 두 기판들을 포함하는 표시 패널을 포함한다. 상기 표시 패널은 상기 두 기판들 사이에 개재된 영상 표시부를 포함한다. 상기 두 기판들의 평면상의 영역은 표시 영역 및 비표시 영역을 포함한다. 영상을 표시하기 위한 상기 영상 표시부는 상기 표시 영역에 배치된다. 상기 비표시 영역에는 봉지재가 형성된다. 상기 두 기판들은 상기 봉지재에 의해 접착된다. Generally, the display apparatus includes a display panel including two substrates facing each other. The display panel includes an image display unit interposed between the two substrates. The planar region of the two substrates includes a display region and a non-display region. The image display unit for displaying an image is disposed in the display area. An encapsulating material is formed in the non-display area. The two substrates are bonded by the sealing material.

상기 표시 장치는 상기 표시 패널을 구동하는 구동부를 포함하며, 상기 구동부는 상기 표시 패널의 적어도 일 측에 제공되어 상기 표시 패널과 전기적으로 연결된다. The display device includes a driving unit for driving the display panel, and the driving unit is provided on at least one side of the display panel and is electrically connected to the display panel.

본 발명의 목적은 경량화된 표시 장치를 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a light-weighted display device.

본 발명의 목적은 원가가 절감되고, 경량화된 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a display device in which cost is reduced and weight is reduced.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 표시 패널 및 상기 표시 패널을 구동하는 구동부를 포함한다. A display apparatus according to an embodiment of the present invention includes a display panel and a driver for driving the display panel.

상기 표시 패널은 화소들이 형성된 표시 영역 및 상기 표시 영역을 제외한 비표시 영역을 포함하는 제1 기판, 상기 제1 기판과 마주보는 제2 기판, 및 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 배치된 표시층을 포함한다. Wherein the display panel includes a first substrate including a display region in which pixels are formed and a non-display region except for the display region, a second substrate facing the first substrate, and a display disposed between the first substrate and the second substrate Layer.

상기 제1 기판은 제1 베이스 기판, 상기 제1 베이스 기판 상에 제공된 배선부, 및 상기 배선부에 연결되며 외부 배선과 연결되는 패드부를 포함한다The first substrate includes a first base substrate, a wiring portion provided on the first base substrate, and a pad portion connected to the wiring portion and connected to external wiring

상기 배선부는 상기 비표시 영역에 제공된 게이트 라인 및 상기 게이트 라인과 교차하는 데이터 라인, 상기 화소를 구동하는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극, 및 후술할 공통 전극에 공통 전압을 제공하는 공통 전압 라인을 포함한다. The wiring section includes a gate line provided in the non-display area and a data line crossing the gate line, a thin film transistor driving the pixel, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a common voltage Line.

상기 공통 전압 라인은 평면상에서 볼 때, 상기 비표시 영역 내에서, 상기 표시 영역의 가장자리 중 적어도 일부를 따라 제공될 수 있다. The common voltage line may be provided along at least a part of the edges of the display area in the non-display area when viewed in plan view.

상기 패드부는 상기 게이트 라인에 연결된 게이트 패드부, 상기 데이터 라인에 연결된 데이터 패드부, 및 상기 공통 전압 라인에 연결된 공통 전압 패드부를 포함할 수 있다. The pad portion may include a gate pad portion connected to the gate line, a data pad portion connected to the data line, and a common voltage pad portion connected to the common voltage line.

상기 게이트 패드부는 게이트 패드와 상기 게이트 패드에 연결된 게이트 패드 전극을 포함한다. 상기 게이트 패드는 상기 게이트 라인에 대응하여 연결된다. The gate pad portion includes a gate pad and a gate pad electrode connected to the gate pad. The gate pad is connected corresponding to the gate line.

상기 데이터 패드부는 상기 데이터 패드와 상기 데이터 패드에 연결된 데이터 패드 전극을 포함한다. 상기 데이터 패드는 상기 데이터 라인에 대응하여 연결된다.The data pad unit includes the data pad and a data pad electrode connected to the data pad. The data pads are connected corresponding to the data lines.

상기 공통 전압 패드부는 상기 공통 전압 패드와 상기 공통 전압 패드에 연결된 공통 전압 패드 전극을 포함한다. 상기 공통 전압 패드는 상기 공통 전압 라인에 대응하여 연결된다.The common voltage pad portion includes the common voltage pad and a common voltage pad electrode connected to the common voltage pad. The common voltage pad is connected corresponding to the common voltage line.

상기 제2 기판은 제2 베이스 기판, 컬러 필터, 블랙 매트릭스, 공통 전극, 및 상기 제2 베이스 기판의 가장자리를 따라 제공된 봉지부를 포함할 수 있다.The second substrate may include a second base substrate, a color filter, a black matrix, a common electrode, and an encapsulant provided along an edge of the second base substrate.

상기 봉지부는 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 합착시키는 역할을 한다. 상기 봉지부는 고분자 수지를 포함하는 화합물로 이루어질 수 있다. 상기 봉지부는 상기 제1 기판과 상기 제2기판이 합착될 때, 상기 패드부 상에 위치한다. The sealing part serves to bond the first substrate and the second substrate together. The sealing portion may be made of a compound including a polymer resin. The sealing portion is located on the pad portion when the first substrate and the second substrate are bonded together.

상기 구동부는 상기 게이트 라인 및 상기 데이터 라인 각각에 신호를 인가할 수 있다. 상기 구동부는 가요성 인쇄 회로 기판 및 인쇄 회로 기판을 포함할 수 있다. The driving unit may apply a signal to each of the gate line and the data line. The driving unit may include a flexible printed circuit board and a printed circuit board.

상기 가요성 인쇄 회로 기판은 상기 패드부 상에서 상기 패드부와 적어도 일부분 중첩하게 부착되어 상기 패드부와 상기 외부 배선을 연결할 수 있다. 상기 인쇄 회로 기판은 상기 제1 기판의 적어도 일 측에 제공되며 상기 가요성 인쇄 회로 기판을 통해 상기 패드부와 전기적으로 연결될 수 있다.The flexible printed circuit board may be attached on at least a portion of the pad portion on the pad portion to connect the pad portion and the external wiring. The printed circuit board may be provided on at least one side of the first substrate and may be electrically connected to the pad unit through the flexible printed circuit board.

본 발명의 일 실시예에서 상기 봉지부는 상기 패드부 및 상기 가요성 인쇄 회로 기판과 중첩하여 배치될 수 있다. 상기 가요성 인쇄 회로 기판은 상기 봉지부와 상기 패드부 사이에 배치될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the sealing portion may be disposed to overlap with the pad portion and the flexible printed circuit board. The flexible printed circuit board may be disposed between the sealing portion and the pad portion.

본 발명의 다른 실시예에서 상기 봉지부는 상기 공통 접안 패드부와 중첩할 수 있다. 여기서, 상기 봉지부는 도전성 물질을 포함한다.In another embodiment of the present invention, the sealing portion may overlap with the common eyepiece portion. Here, the sealing portion includes a conductive material.

본 발명의 일 실시예에서는 상기 제1 기판의 크기가 상기 제2 기판의 크기보다 크게 제공되나, 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 제1 기판의 크기와 상기 제2 기판의 크기가 같게 제공될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the size of the first substrate is larger than the size of the second substrate, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment of the present invention, the size of the first substrate, Can be provided equally.

본 발명의 일 실시에에서 상기 제2 기판은 상기 제2 베이스 기판 상에 형성된 상기 블랙 매트릭스 및 상기 컬러 필터를 포함하나, 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 제1 베이스 기판 상에 상기 블랙 매트릭스 및 컬러 필터가 형성되어 상기 제1 기판에 포함될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second substrate includes, but is not limited to, the black matrix and the color filter formed on the second base substrate. In another embodiment of the present invention, The black matrix and the color filter may be formed and included in the first substrate.

본 발명의 일 실시예에서는 상기 표시층은 액정층일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the display layer may be a liquid crystal layer.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조방법은 제1 베이스 기판 상에 배선부 및 상기 배선부에 연결된 패드부를 형성하는 단계, 상기 패드부 상에 가요성 인쇄 회로 기판을 부착하는 단계, 상기 제1 베이스 기판 상에 표시층을 형성하는 단계, 상기 제2 베이스 기판 상에 봉지부를 형성하는 단계, 상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판을 합착시키는 단계, 및 상기 가요성 인쇄 회로 기판에 인쇄 회로 기판을 부착시키는 단계를 포함할 수 있다. A method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming a wiring portion on a first base substrate and a pad portion connected to the wiring portion, attaching a flexible printed circuit board on the pad portion, A method of manufacturing a flexible printed circuit board, comprising: forming a display layer on a first base substrate; forming an encapsulation on the second base substrate; bonding the first base substrate and the second base substrate together; And attaching the printed circuit board.

상기 봉지부는 상기 제2 베이스 기판의 가장자리를 따라 형성된다. 상기 봉지부는 상기 가요성 인쇄 회로 기판을 사이에 두고 상기 패드부와 중첩할 수 있다.The sealing portion is formed along an edge of the second base substrate. The sealing portion may overlap the pad portion with the flexible printed circuit board interposed therebetween.

상기 표시층은 액정층일 수 있다. 상기 액정층은 액정들을 상기 제1 베이스 기판 상에 적하시켜 형성할 수 있다.The display layer may be a liquid crystal layer. The liquid crystal layer may be formed by dropping liquid crystals on the first base substrate.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 베젤의 폭을 줄임으로써, 표시 장치의 무게를 줄일 수 있다. 이에 따라, 표시 장치의 제조 원가를 절감할 수 있다.The display device according to an embodiment of the present invention can reduce the weight of the display device by reducing the width of the bezel. Thus, the manufacturing cost of the display device can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 화소의 확대 평면도이다.
도 4는 도 3의 I-I' 및 III-III'에 따른 단면도이다.
도 5는 도 2의 II-II' 및 도 3의 III-III'에 따른 단면도이다.
도 6은 도 5의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.
도 9a 내지 도 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 도시한 사시도이다.
1 is a block diagram of a display device according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of a display panel according to an embodiment of the present invention.
3 is an enlarged plan view of a pixel according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view along II 'and III-III' of FIG. 3;
5 is a cross-sectional view taken along II-II 'of FIG. 2 and III-III' of FIG. 3;
6 is a cross-sectional view of a display device according to another embodiment of FIG.
7 is a cross-sectional view of a display device according to another embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a display device according to another embodiment of the present invention.
9A to 9D are perspective views illustrating a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예를 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and are herein described in detail. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof. Also, where a section such as a layer, a film, an area, a plate, or the like is referred to as being "on" another section, it includes not only the case where it is "directly on" another part but also the case where there is another part in between. On the contrary, where a section such as a layer, a film, an area, a plate, etc. is referred to as being "under" another section, this includes not only the case where the section is "directly underneath"

각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 다수의 표현을 포함한다.Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown enlarged from the actual for the sake of clarity of the present invention. The terms first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by terms. Terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component. The singular forms "a," "an," and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명하고자 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 블록도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 사시도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 화소의 확대 평면도이며, 도 4는 도 3의 I-I' 및 도 III-III'에 따른 단면도이다. 도 5는 도 2의 II-II' 및 도 3의 III-III'에 따른 단면도이다.FIG. 1 is a block diagram of a display apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of a display panel according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is an enlarged plan view of a pixel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a sectional view taken along line I-I 'and III-III' of FIG. 5 is a cross-sectional view taken along II-II 'of FIG. 2 and III-III' of FIG. 3;

이하, 도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 복수의 화소들(PX)이 형성된 표시 패널(PNL) 및 상기 표시 패널(PNL)과 전기적으로 연결된 구동부를 포함한다. 1 to 5, a display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a display panel PNL having a plurality of pixels PX and a driver electrically connected to the display panel PNL do.

상기 표시 패널(PNL)은 액정 표시 패널(liquid crystal display panel), 유기 전계 발광 표시 패널(organic light emitting display panel), 전기영동 표시 패널(electrophoretic display panel), 일렉트로?팅 표시 패널(electrowetting display panel), MEMS 표시 패널(microelectromechanical system display panel) 등일 수 있으며, 이는 특별히 한정되지 않는다. The display panel PNL may be a liquid crystal display panel, an organic light emitting display panel, an electrophoretic display panel, an electrowetting display panel, , A MEMS display panel (microelectromechanical system display panel), or the like, and is not particularly limited.

이하, 본 발명의 일 실시예에서는 상기한 표시 패널들 중 액정 표시 패널을 일 예로서 설명한다. 또한, 상기 복수의 화소들은 서로 동일한 구조를 가지므로, 이하에서는, 설명의 편의상 하나의 화소만을 일 예로서 설명한다. 여기서, 상기 화소는 일 방향으로 길게 연장된 직사각형 모양으로 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 화소의 형상은 평면상에서 볼 때, V 자 형상, Z 자 형상 등 다양하게 형성될 수 있다.Hereinafter, a liquid crystal display panel among the display panels will be described as an example in the embodiment of the present invention. In addition, since the plurality of pixels have the same structure, only one pixel will be described as an example for convenience of explanation. Here, the pixel has a rectangular shape elongated in one direction, but is not limited thereto. The shape of the pixel may be variously formed in a V-shape, a Z-shape, or the like when viewed in a plan view.

상기 표시 패널(PNL)은 제1 기판(SUB1)과, 상기 제1 기판(SUB1)과 마주보는 제2 기판(SUB2), 및 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이에 개재된 액정층(LCL)을 포함할 수 있다.The display panel PNL includes a first substrate SUB1, a second substrate SUB2 facing the first substrate SUB1, and a second substrate SUB2 between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2. And a liquid crystal layer (LCL) interposed therebetween.

상기 제1 기판(SUB1)은 제1 베이스 기판(BS1), 상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에 제공된 배선부, 및 상기 배선부에 연결된 패드부를 포함한다.The first substrate SUB1 includes a first base substrate BS1, a wiring portion provided on the first base substrate BS1, and a pad portion connected to the wiring portion.

상기 제1 기판(SUB1)은 복수의 화소(PX)가 제공되는 화소 영역과, 상기 화소 영역의 적어도 일측에 제공되는 패드 영역으로 구분된다. 상기 화소 영역은 각 화소(PX)에 일대일로 대응하는 표시 영역(DA)과, 상기 표시 영역(DA)의 적어도 일측에 제공되며 영상이 표시되지 않는 비표시 영역(NDA)을 구분된다.The first substrate SUB1 is divided into a pixel region in which a plurality of pixels PX are provided and a pad region provided in at least one side of the pixel region. The pixel region is divided into a display region DA corresponding to each pixel PX on a one-to-one basis and a non-display region NDA provided on at least one side of the display region DA and not displaying an image.

상기 제1 베이스 기판(BS1)은 투명 또는 불투명한 절연 기판으로, 실리콘 기판, 유리 기판, 플라스틱 기판 등일 수 있다.The first base substrate BS1 may be a transparent or opaque insulating substrate, such as a silicon substrate, a glass substrate, a plastic substrate, or the like.

상기 배선부는 상기 비표시 영역(NDA)에 제공된 복수의 게이트 라인들(GL1~GLn +1), 복수의 데이터 라인들(DL1~DLm +1), 화소(PX), 박막 트랜지스터(TFT), 화소 전극(PE), 및 공통 전압 라인(CML)을 포함할 수 있다.The wiring portion may include a plurality of gate lines GL 1 to GL n +1 provided in the non-display region NDA, a plurality of data lines DL 1 to DL m +1 , a pixel PX, TFT, a pixel electrode PE, and a common voltage line CML.

상기 게이트 라인들(GL1~GLn +1)은 상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에 제1 방향(D1)으로 연장되어 서로 평행하게 배열될 수 있다. The gate lines (GL 1, GL ~ n +1) may be arranged in parallel with each other and extend in the first direction (D1) on the first base substrate (BS1).

상기 게이트 라인들(GL1~GLn +1) 상에는 제1 절연막(INS1)이 제공된다. 상기 제1 절연막(INS1)은 절연 물질, 예를 들어, 실리콘 질화물이나, 실리콘 산화물로 이루어질 수 있다. A first insulating film (INS1) formed on the gate lines (GL 1, GL ~ n +1), is provided. The first insulating layer INS1 may be formed of an insulating material, for example, silicon nitride or silicon oxide.

상기 데이터 라인들(DL1~DLm +1)은 상기 제1 절연막(INS1) 상에 제공된다. 상기 데이터 라인들(DL1~DLm +1)은 상기 제1 방향(D1)에 교차하는 제2 방향(D2)으로 연장되어 서로 평행하게 배열될 수 있다. The data lines DL 1 to DL m +1 are provided on the first insulating layer INS 1. The data lines DL 1 to DL m +1 extend in a second direction D 2 intersecting the first direction D 1 and may be arranged in parallel with each other.

상기 화소(PX)는 상기 게이트 라인들(GL1~GLn +1) 중 대응하는 게이트 라인(GL)과 상기 데이터 라인들(DL1~DLm +1) 중 대응하는 데이터 라인(DL)에 연결되어 영상을 제공할 수 있다.The pixel PX is connected to a corresponding one of the gate lines GL and the data lines DL 1 to DL m +1 of the gate lines GL 1 to GL n +1 Can be connected to provide images.

상기 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 게이트 라인(GL)과 상기 데이터 라인(DL)에 연결되며, 게이트 전극(GE), 반도체층(SM), 소스 전극(SE), 및 드레인 전극(DE)을 포함한다.The thin film transistor TFT is connected to the gate line GL and the data line DL and includes a gate electrode GE, a semiconductor layer SM, a source electrode SE, and a drain electrode DE do.

상기 게이트 전극(GE)은 상기 게이트 라인(GL)으로부터 돌출되거나 상기 게이트 라인(GL)의 일부 영역에 제공될 수 있다. 상기 게이트 라인(GL)과 상기 게이트 전극(GE)은 금속으로 이루어질 수 있다. 상기 게이트 전극(GE)은 니켈, 크롬, 몰리브덴, 알루미늄, 티타늄, 구리, 텅스텐, 및 이들을 포함하는 합금으로 이루어질 수 있다. 상기 게이트 전극(GE)은 상기 금속을 이용한 단일막 또는 다중막으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 게이트 전극(GE)은 몰리브덴, 알루미늄, 및 몰리브덴이 순차적으로 적층된 삼중막이거나, 티타늄과 구리가 순차적으로 적층된 이중막일 수 있다. 또는 티타늄과 구리의 합금으로 된 단일막일 수 있다. The gate electrode GE may protrude from the gate line GL or may be provided in a part of the gate line GL. The gate line GL and the gate electrode GE may be formed of a metal. The gate electrode GE may be formed of nickel, chromium, molybdenum, aluminum, titanium, copper, tungsten, or an alloy containing them. The gate electrode GE may be formed of a single film or multiple films using the metal. For example, the gate electrode GE may be a triple film in which molybdenum, aluminum, and molybdenum are sequentially laminated, or a double film in which titanium and copper are sequentially laminated. Or a single film of an alloy of titanium and copper.

상기 제1 절연막(INS1)은 상기 제1 베이스 기판(BS1)의 전면에 제공되어, 상기 게이트 전극(GE)을 커버한다.The first insulating layer INS1 is provided on the front surface of the first base substrate BS1 to cover the gate electrode GE.

상기 반도체층(SM)은 상기 제1 절연막(INS1)을 상에 형성되며, 상기 게이트 라인(GL)과 적어도 일부분 중첩하게 제공될 수 있다. The semiconductor layer SM may be formed on the first insulating layer INS1 and may be provided to overlap at least a portion of the gate line GL.

상기 소스 전극(SE)은 상기 데이터 라인(DL)으로부터 분지되어 제공되며, 상기 반도체층(SM) 상에서 상기 반도체층(SM)과 적어도 일부분 중첩하여 형성될 수 있다. The source electrode SE may be branched from the data line DL and may be formed on the semiconductor layer SM to overlap with the semiconductor layer SM at least partially.

상기 드레인 전극(DE)은 상기 소스 전극(SE)으로부터 이격되도록 제공된다. 상기 드레인 전극(DE)은 상기 반도체층(SM) 상에서 상기 반도체층(SM)과 적어도 일부분 중첩하여 형성될 수 있다. 여기서, 상기 반도체층(SM)은 상기 소스 전극(SE) 및 상기 드레인 전극(DE) 사이에서 전도 채널(conductive channel)을 이룬다.The drain electrode DE is provided to be spaced apart from the source electrode SE. The drain electrode DE may be formed on the semiconductor layer SM so as to overlap with the semiconductor layer SM at least partially. Here, the semiconductor layer SM forms a conductive channel between the source electrode SE and the drain electrode DE.

상기 소스 전극(SE)과 상기 드레인 전극(DE) 각각은 도전성 물질, 예컨대 금속으로 이루어질 수 있다. 상기 소스 전극(SE)과 상기 드레인 전극(DE) 각각은 단일 금속으로 형성될 수도 있으나, 두 종 이상의 금속, 또는 두 종 이상 금속의 합금 등으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 소스 전극(SE)과 상기 드레인 전극(DE)은 니켈, 크롬, 몰리브덴, 알루미늄, 티타늄, 구리, 텅스텐, 및 이들을 포함하는 합금으로 이루어질 수 있다. 또한 상기 소스 전극(SE)과 상기 드레인 전극(DE) 각각은 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 소스 전극(SE)과 상기 드레인 전극(DE) 각각은 티타늄과 구리로 이루어진 이중막으로 이루어질 수 있다. Each of the source electrode SE and the drain electrode DE may be formed of a conductive material such as a metal. Each of the source electrode SE and the drain electrode DE may be formed of a single metal, but may be formed of two or more kinds of metals, or an alloy of two or more kinds of metals. For example, the source electrode SE and the drain electrode DE may be formed of nickel, chromium, molybdenum, aluminum, titanium, copper, tungsten, or an alloy thereof. Each of the source electrode SE and the drain electrode DE may be formed as a single layer or a multilayer. For example, each of the source electrode SE and the drain electrode DE may be formed of a double layer made of titanium and copper.

상기 박막 트랜지스터(TFT)는 대응하는 상기 화소 전극(PE)으로 제공되는 구동 신호를 스위칭한다. 상기 박막 트랜지스터(TFT) 상에는 상기 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하는 보호층(PSV)이 형성된다. The thin film transistor TFT switches the driving signal provided to the corresponding pixel electrode PE. A protective layer (PSV) for protecting the thin film transistor (TFT) is formed on the thin film transistor TFT.

상기 화소 전극(PE)은 상기 보호층(PSV)을 사이에 두고 상기 드레인 전극(DE)과 연결된다. 상기 보호층(PSV)은 상기 드레인 전극(DE)의 일부를 노출시키는 제1 콘택홀(CH1)을 가지며, 상기 화소 전극(PE)은 상기 제1 콘택홀(CH1)을 통해 상기 드레인 전극(DE)과 연결된다. 상기 화소 전극(PE)은 도전성 물질, 예컨대 금속으로 이루어질 수 있다. 상기 화소 전극(PE) 상에는 상기 화소 전극(PE)을 보호하는 제2 절연막(INS2)이 제공될 수 있으나, 이는 생략될 수 있다. 상기 제2 절연막(INS2)는 무기 절연 재료 또는 유기 절연 재료로 이루어질 수 있다. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode DE via the protective layer PSV. The protective layer PSV has a first contact hole CH1 exposing a part of the drain electrode DE and the pixel electrode PE is electrically connected to the drain electrode DE through the first contact hole CH1. ). The pixel electrode PE may be formed of a conductive material such as a metal. A second insulating layer INS2 for protecting the pixel electrode PE may be provided on the pixel electrode PE, but this may be omitted. The second insulating layer INS2 may be formed of an inorganic insulating material or an organic insulating material.

상기 공통 전압 라인(CML)은 상기 비표시 영역(NDA) 내에서, 상기 화소 영역의 가장자리 중 적어도 일부를 따라 형성될 수 있으며, 상기 화소 영역을 둘러싸는 형태로 제공될 수 있다. 상기 공통 전압 라인(CML)은 상기 게이트 라인(GL)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 상기 공통 전압 라인(CML)은 후술할 공통 전극(CE)에 공통 전압을 제공하는 역할을 한다.The common voltage line CML may be formed along at least a part of the edge of the pixel region in the non-display region NDA, and may be provided in a form surrounding the pixel region. The common voltage line CML may be formed of the same material as the gate line GL. The common voltage line CML serves to provide a common voltage to the common electrode CE, which will be described later.

상기 패드부는 상기 게이트 라인(GL)에 연결된 게이트 패드부(GPP), 상기 데이터 라인(DL)에 연결된 데이터 패드부(DPP), 및 상기 공통 전압 라인(CML)에 연결된 공통 전압 패드부(CMPP)를 포함할 수 있다. The pad portion includes a gate pad portion GPP connected to the gate line GL, a data pad portion DPP connected to the data line DL, and a common voltage pad portion CMPP connected to the common voltage line CML. . ≪ / RTI >

상기 게이트 패드부(GPP), 데이터 패드부(DPP), 및 공통 전압 패드부(CMPP)는 상기 패드 영역에 제공된다. The gate pad portion GPP, the data pad portion DPP, and the common voltage pad portion CMPP are provided in the pad region.

상기 게이트 패드부(GPP)는 게이트 패드(GP)와 상기 게이트 패드(GP)에 연결된 게이트 패드 전극(GPE)을 포함한다. 상기 게이트 패드(GP)는 상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에서 상기 게이트 라인(GL)에 연결되어 제공된다. 상기 게이트 패드 전극(GPE)은 상기 제1 절연막(INS1)에 형성된 제2 콘택홀(CH2)을 통해 상기 게이트 패드(GP)에 연결된다.The gate pad portion GPP includes a gate pad GP and a gate pad electrode GPE connected to the gate pad GP. The gate pad GP is connected to the gate line GL on the first base substrate BS1. The gate pad electrode GPE is connected to the gate pad GP through a second contact hole CH2 formed in the first insulating layer INS1.

상기 데이터 패드부(DPP)는 데이터 패드(DP)와 상기 데이터 패드(DP)에 연결된 데이터 패드 전극(DPE)을 포함한다. 상기 데이터 패드(DP)는 상기 제1 절연막(INS1) 상에 상기 데이터 라인(DL)에 연결되어 제공된다. 상기 데이터 패드 전극(DPE)은 상기 데이터 패드(DP) 상에 직접 접촉하여 제공될 수 있다. The data pad unit DPP includes a data pad DP and a data pad electrode DPE connected to the data pad DP. The data pad DP is connected to the data line DL on the first insulating layer INS1. The data pad electrode DPE may be provided in direct contact with the data pad DP.

상기 공통 전압 패드부(CMPP)는 공통 전압 패드(CMP)와 상기 공통 전압 패드(CMP)에 연결된 공통 전압 패드 전극(CMPE)을 포함한다. 상기 공통 전압 패드(CMP)는 상기 제1 절연막(INS1) 상에 상기 공통 전압 라인(CML)에 연결되어 제공된다. 상기 공통 전압 패드 전극(CMPE)는 상기 공통 전압 패드(CMP) 상에 직접 접촉하여 제공될 수 있다. The common voltage pad unit CMPP includes a common voltage pad CMP and a common voltage pad electrode CMPE connected to the common voltage pad CMP. The common voltage pad CMP is connected to the common voltage line CML on the first insulating layer INS1. The common voltage pad electrode CMPE may be provided in direct contact with the common voltage pad CMP.

상기 공통 전압 라인(CML) 및 상기 공통 전압 패드 전극(CMPE) 상에는 도전성 물질로 이루어진 연결부(CL)가 제공될 수 있다. 상기 공통 전압은 상기 연결부(CL)를 통해 상기 공통 전극(CE)에 인가될 수 있다. A connection part CL made of a conductive material may be provided on the common voltage line CML and the common voltage pad electrode CMPE. The common voltage may be applied to the common electrode CE through the connection portion CL.

도시되지 않았으나, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 데이터 패드 전극 또는 공통 전압 패드 전극이 제공되지 않을 수 있다. 또한, 본 발명의 또 다른 실시예에서는 상기 데이터 패드 및 상기 공통 전압 패드 상에 추가 절연막이 제공될 수 있으며, 이 경우, 상기 데이터 패드 전극 및 공통 전압 패드는 상기 추가 절연막 상에 형성된 추가 콘택홀들을 통해 상기 데이터 패드 및 상기 공통 전압 패드에 연결될 수 있다.Although not shown, in another embodiment of the present invention, the data pad electrode or the common voltage pad electrode may not be provided. In another embodiment of the present invention, an additional insulating layer may be provided on the data pad and the common voltage pad. In this case, the data pad electrode and the common voltage pad may be formed on the additional insulating layer, To the data pad and to the common voltage pad.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 게이트 패드부(GPP)와 상기 데이터 패드부(DPP)는 외부 배선과 전기적으로 연결될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the gate pad unit GPP and the data pad unit DPP may be electrically connected to external wiring.

도시되지 않았으나, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 게이트 패드부 대신 상기 제1 베이스 기판 상에 실장된 게이트 구동부가 제공될 수 있다. 상기 게이트 구동부는 다수의 비정질 실리콘 트랜지스터로 이루어질 수 있다. 상기 비정질 실리콘 트랜지스터들은 상기 박막 트랜지스터 제조 공정을 통해 상기 제1 베이스 기판의 패드 영역 상에 직접적으로 형성될 수 있다. Although not shown, in another embodiment of the present invention, a gate driver mounted on the first base substrate may be provided instead of the gate pad portion. The gate driver may include a plurality of amorphous silicon transistors. The amorphous silicon transistors may be formed directly on the pad region of the first base substrate through the thin film transistor manufacturing process.

또한, 상기 데이터 패드부 대신 상기 제1 베이스 기판 상에 실장된 데이터 구동부가 제공될 수 있다. 상기 데이터 구동부는 다수의 비정질 실리콘 트랜지스터로 이루어질 수 있다. 상기 비정질 실리콘 트랜지스터들은 상기 박막 트랜지스터 제조 공정을 토해 상기 제1 베이스 기판의 패드 영역 상에 직접적으로 형성될 수 있다.Also, a data driver mounted on the first base substrate may be provided instead of the data pad. The data driver may include a plurality of amorphous silicon transistors. The amorphous silicon transistors may be formed directly on the pad region of the first base substrate due to the thin film transistor manufacturing process.

상기 제2 기판(SUB2)은 상기 제1 기판(SUB1)과 마주보며, 제2 베이스 기판(BS2), 컬러 필터(미도시), 블랙 매트릭스(BM), 공통 전극(CE), 및 봉지부(SL)를 포함할 수 있다. The second substrate SUB2 faces the first substrate SUB1 and includes a second base substrate BS2, a color filter (not shown), a black matrix BM, a common electrode CE, SL).

상기 제2 베이스 기판(BS2)은 투명 또는 불투명한 절연 기판으로, 실리콘 기판, 유리 기판, 플라스틱 기판 등일 수 있다.The second base substrate BS2 may be a transparent or opaque insulating substrate, such as a silicon substrate, a glass substrate, a plastic substrate, or the like.

상기 컬러 필터(미도시)는 상기 제2 베이스 기판(BS2) 상에 배치될 수 있다. 상기 컬러 필터는 예를 들어 각각 적색, 녹색광, 및 청색광 만을 투과시키는 레드, 그린, 및 블루 컬러 필터 중 어느 하나 일 수 있다. 상기 컬러 필터는 복수 개로 제공되며, 각 대응되는 화소(PX)에 배치된다.The color filter (not shown) may be disposed on the second base substrate BS2. The color filters may be any of red, green, and blue color filters that transmit only red, green, and blue light, respectively, for example. The color filters are provided in a plurality of, and are arranged in each corresponding pixel PX.

상기 블랙 매트릭스(BM)는 상기 제2 베이스 기판(BS2) 상에 배치되며, 상기 블랙 매트릭스(BM)로 입사되는 광을 차광한다. 따라서, 상기 블랙 매트릭스(BM)에 대응되는 영역은 영상이 표시되지 않는다. 상기 블랙 매트릭스(BM)는 상기 화소(PX)를 둘러싸도록 형성되며, 평면상에서 보았을 때, 격자 형상으로 배치되어 상기 화소(PX)의 표시 영역(DA)을 정의할 수 있다. 상기 블랙 매트릭스(BM)는 크롬(Cr) 박막, 산화크롬(CrxOy) 박막, 또는 크롬 박막과 실질적으로 동일한 광 투과율을 갖는 블랙 유기막 등을 패터닝 하여 형성될 수 있다. 따라서, 상기 박막 트랜지스터(TFT)가 형성되는 상기 비표시 영역(NDA)에 따라 상기 화소(PX)의 개구율이 결정된다. 즉, 상기 비표시 영역(NDA)을 작게 형성 할수록 상기 표시 영역(DA)이 넓어져 상기 화소(PX)의 개구율이 증가한다.The black matrix BM is disposed on the second base substrate BS2 and shields light incident on the black matrix BM. Therefore, no image is displayed in the area corresponding to the black matrix BM. The black matrix BM is formed so as to surround the pixel PX and may be arranged in a lattice form when viewed in a plane to define a display area DA of the pixel PX. The black matrix BM may be formed by patterning a chromium (Cr) thin film, a chromium oxide (CrxOy) thin film, or a black organic film having a light transmittance substantially equal to that of the chromium thin film. Therefore, the aperture ratio of the pixel PX is determined according to the non-display area NDA in which the thin film transistor TFT is formed. That is, the smaller the non-display area NDA, the wider the display area DA and the greater the aperture ratio of the pixel PX.

상기 공통 전극(CE)은 상기 제2 베이스 기판(BS2) 상에 투명전극으로 제공될 수 있으며, 상기 화소 전극(PE)과 함께 상기 액정층(LCL)에 전압을 인가하여 전계를 형성할 수 있다. 그러나, 이에 한정되지 않으며, 상기 공통 전극(CE)은 상기 제1 기판(SUB1) 상에 포함되어 상기 화소 전극(PE)과 전계를 형성할 수 있다.The common electrode CE may be provided as a transparent electrode on the second base substrate BS2 and a voltage may be applied to the liquid crystal layer LCL together with the pixel electrode PE to form an electric field . However, the present invention is not limited thereto, and the common electrode CE may be included on the first substrate SUB1 to form an electric field with the pixel electrode PE.

상기 봉지부(SL)는 상기 제2 베이스 기판(BS2)의 가장자리를 따라 제공될 수 있다. 상기 봉지부(SL)는 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2)을 합착시키는 역할을 한다. 또한, 상기 봉지부(SL)는 상기 액정층(LCL)을 봉지하여 액정들이 외부로 흘러나오는 것을 막을 수 있다. The sealing portion SL may be provided along the edge of the second base substrate BS2. The sealing portion SL serves to bond the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 together. In addition, the sealing portion SL can seal the liquid crystal layer (LCL) to prevent liquid crystals from flowing out to the outside.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 봉지부(SL)는 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2)이 합착될 때, 상기 패드부 상에 위치한다. 특히, 상기 봉지부(SL)는 상기 게이트 패드부(GPP) 및 상기 데이터 패드부(DPP)와 중첩하여 제공될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the sealing portion SL is positioned on the pad portion when the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 are attached to each other. In particular, the encapsulation unit SL may be provided so as to overlap with the gate pad unit GPP and the data pad unit DPP.

상기 봉지부(SL)는 아크릴계 수지, 에폭시계 수지 등으로 이루어질 수 있다. 여기서, 상기 엑폭시계 수지의 고형분을 향상시켜 상기 봉지부(SL)의 접착력을 향상시킬 수 있다.The sealing portion SL may be made of an acrylic resin, an epoxy resin, or the like. Here, the solid content of the epoxy resin can be improved to improve the adhesion of the sealing part SL.

상기 액정층(LCL)은 상기 제1 기판(SUB1)을 통하여 입사된 광을 제어한다. 상기 액정층(LCL)은 유전율 이방성을 가지는 복수의 액정분자들을 포함한다. 상기 액정분자는 예를 들어, 음의 유전율 이방성을 갖고 있어, 인가된 전계와 액정분자의 장축이 수직한 방향으로 배열될 수도 있다. 또한, 이에 한정되지 않고 액정분자는 양의 유전율을 갖고 있어, 액정분자의 장축이 인가된 전계와 평행한 방향으로 배열될 수 있다.The liquid crystal layer LCL controls light incident through the first substrate SUB1. The liquid crystal layer (LCL) includes a plurality of liquid crystal molecules having dielectric anisotropy. The liquid crystal molecules have, for example, a negative dielectric constant anisotropy, so that the applied electric field and the major axes of the liquid crystal molecules may be arranged in the perpendicular direction. Further, the liquid crystal molecules have a positive dielectric constant, and the long axis of the liquid crystal molecules can be arranged in a direction parallel to the applied electric field.

상기 액정분자들은 상기 액정분자들을 사이에 두고 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이의 배향막(미도시)에 의해 배열될 수 있다. The liquid crystal molecules may be arranged by an alignment film (not shown) between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 with the liquid crystal molecules interposed therebetween.

상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이에 전계가 인가되면 상기 액정분자들이 상기 제1 기판(SUB1)과 상기 제2 기판(SUB2) 사이에서 특정 방향으로 재배열되어 광을 제어할 수 있다. When an electric field is applied between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2, the liquid crystal molecules are rearranged in a specific direction between the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2, Can be controlled.

상기 제2 기판(SUB2)의 크기는 상기 제1 기판(SUB1)의 크기보다 작을 수 있다.The size of the second substrate SUB2 may be smaller than the size of the first substrate SUB1.

상기 구동부는 타이밍 컨트롤러(TC), 게이트 구동부(GD), 및 데이터 구동부(DD)를 포함할 수 있다.The driving unit may include a timing controller TC, a gate driving unit GD, and a data driving unit DD.

다시 도 1을 참조하면, 상기 타이밍 컨트롤러(TC)는 외부로부터 영상 신호(RGB) 및 이의 표시를 제어하기 위한 제어 신호들(CTRL), 예를 들면, 수직 동기 신호, 수평 동기 신호, 클럭 신호, 데이터 인에이블 신호 등을 제공받는다. 상기 타이밍 컨트롤러(TC)는 상기 제어 신호들(CTRL)에 기초하여 상기 영상 신호(RGB)를 상기 표시 패널(PNL)의 동작 조건에 맞게 처리한 데이터 신호(DAT) 및 제2 제어 신호(CONT2)를 상기 데이터 구동부(DD)로 제공하고, 제1 제어 신호(CONT1)를 상기 게이트 구동부(GD)로 제공한다. 상기 제2 제어 신호(CONT2)는 클럭 신호, 극성 반전 신호 및 라인 래치 신호를 포함하고, 상기 제1 제어 신호(CONT1)는 수직 동기 시작 신호, 출력 인에이블 신호 그리고 게이트 펄스 신호 등을 포함할 수 있다.Referring again to FIG. 1, the timing controller TC receives control signals CTRL for controlling the display of an image signal RGB from the outside, for example, a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, a clock signal, A data enable signal, and the like. The timing controller TC generates a data signal DAT and a second control signal CONT2 obtained by processing the video signal RGB according to the operation conditions of the display panel PNL based on the control signals CTRL. To the data driver DD and provides the first control signal CONT1 to the gate driver GD. The second control signal CONT2 includes a clock signal, a polarity inversion signal, and a line latch signal. The first control signal CONT1 may include a vertical synchronization start signal, an output enable signal, a gate pulse signal, have.

상기 게이트 구동부(GD)는 상기 타이밍 컨트롤러(TC)로부터의 상기 제1 제어 신호(CONT1)에 응답하여 게이트 온 전압을 상기 게이트 라인들(GL1~GLn +1)에 인가한다.The gate driver (GD) is applied to the first and the gate-on voltage in response to a first control signal (CONT1) and the gate lines (GL 1, GL ~ n +1) from the timing controller (TC).

상기 데이터 구동부(DD)는 상기 표시 패널(PNL)의 상기 데이터 라인들(DL1~DLm +1)에 연결되어 영상 신호에 대응하는 데이터 전압을 상기 화소들(PX)에 인가한다.The data driver DD is connected to the data lines DL 1 to DL m +1 of the display panel PNL to apply a data voltage corresponding to the video signal to the pixels PX.

상기 데이터 구동부(DD)는 상기 타이밍 컨트롤러(TC)로부터의 상기 제2 제어 신호(CONT2)에 응답하여 한 행의 화소들(PX)에 대한 데이터 신호(DAT)를 차례로 입력 받아 시프트시키고, 각 데이터 신호(DAT)에 대응하는 데이터 전압을 상기 데이터 라인들(DL1~DLm +1)에 인가한다.The data driver DD sequentially receives and shifts the data signals DAT for the pixels PX of one row in response to the second control signal CONT2 from the timing controller TC, And applies a data voltage corresponding to the signal DAT to the data lines DL 1 to DL m +1 .

상기 게이트 구동부(GD) 및 상기 데이터 구동부(DD)는 가요성 인쇄 회로 기판(flexible printed circuit board, FPCB)에 장착되어 TCP(tape carrier package, TCP)의 형태로 상기 표시 패널(PNL)에 부착되어 제공될 수 있다. 그러나, 필요에 따라, 상기 게이트 구동부(GD) 또는 상기 데이터 구동부(DD)는 복수의 구동 집적 회로 칩의 형태로 상기 표시 패널(PNL) 위에 직접 실장되어 제공될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.The gate driver GD and the data driver DD are mounted on a flexible printed circuit board (FPCB) and attached to the display panel PNL in the form of a TCP (tape carrier package) Can be provided. However, if necessary, the gate driver GD or the data driver DD may be directly mounted on the display panel PNL in a form of a plurality of drive IC chips, but is not limited thereto.

다시 도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시에에 따른 상기 게이트 구동부(GD)는 상기 게이트 패드부(GPP)와 전기적으로 연결된 제1 인쇄 회로 기판(PCB1)을 포함할 수 있다. 상기 제1 인쇄 회로 기판(PCB1)은 상기 제1 기판(SUB1)의 일변을 따라 상기 제2 방향(D2)으로 연장될 수 있다. 1 to 5, the gate driver GD according to an embodiment of the present invention may include a first printed circuit board PCB1 electrically connected to the gate pad unit GPP. The first printed circuit board PCB1 may extend in the second direction D2 along one side of the first substrate SUB1.

상기 게이트 구동부(GD)는 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1) 및 제1 구동칩(IC1)을 더 포함할 수 있다. 상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)은 상기 게이트 패드부(GPP)와 상기 제1 인쇄 회로 기판(PCB1)을 연결시킨다. 상기 제1 구동칩(IC1)은 상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)에 실장되어 상기 제1 인쇄 회로 기판(PCB1)로부터 상기 게이트 패드부(GPP)에 상기 구동 신호를 제공할 수 있다. The gate driver GD may further include a first flexible printed circuit board (FPCB1) and a first driving chip IC1. The first flexible printed circuit board (FPCB1) connects the gate pad unit GPP and the first printed circuit board PCB1. The first driving IC IC1 may be mounted on the first flexible printed circuit board FPCB1 to provide the driving signal from the first printed circuit board PCB1 to the gate pad unit GPP.

상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)은 상기 게이트 패드부(GPP) 상에서 상기 게이트 패드부(GPP)의 적어도 일부분과 중첩하게 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)은 상기 게이트 패드부(GPP)와 상기 봉지부(SL) 사이에 배치될 수 있다. The first flexible printed circuit board (FPCB1) may be arranged to overlap at least a part of the gate pad portion (GPP) on the gate pad portion (GPP). Accordingly, the first flexible printed circuit board (FPCB1) may be disposed between the gate pad portion (GPP) and the sealing portion (SL).

상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)은 폴리이미드 수지 등으로 이루어진 가요성을 갖는 필름으로 제공될 수 있다. 상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)은 상기 봉지부(SL)와의 접착력을 강화하기 위해, 상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1)의 상기 봉지부(SL)와 접촉하는 표면에 플라즈마(Plasma) 처리, 이온 빔(Ion Beam) 가공, 화학(Chemical) 처리 등을 할 수 있다.The first flexible printed circuit board (FPCB1) may be provided as a flexible film made of polyimide resin or the like. The first flexible printed circuit board FPCB1 may be formed of a material such as plasma or the like on the surface of the first flexible printed circuit board FPCB1 which is in contact with the sealing portion SL in order to enhance the adhesive force with the sealing portion SL. Plasma processing, ion beam processing, chemical processing, and the like.

상기 데이터 구동부(DD)는 상기 데이터 패드부(DPP)와 전기적으로 연결된 제2 인쇄 회로 기판(PCB2)을 포함할 수 있다. 상기 제2 인쇄 회로 기판(PCB2)은 상기 제1 기판(SUB1)의 또 다른 일변을 따라 상기 제1 방향(D1)으로 연장될 수 있다. The data driver DD may include a second printed circuit board PCB2 electrically connected to the data pad unit DPP. The second printed circuit board PCB2 may extend in the first direction D1 along another side of the first substrate SUB1.

상기 데이터 구동부(DD)는 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2) 및 제2 구동칩(IC2)를 더 포함할 수 있다. 상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)은 상기 데이터 구동부(DD)와 상기 제2 인쇄 회로 기판(PCB2)을 연결시킨다. 상기 제2 구동칩(IC2)은 상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)에 실장되어 상기 제2 인쇄 회로 기판(PCB2)로부터 상기 데이터 구동부(DD)에 구동 신호를 제공할 수 있다. The data driver DD may further include a second flexible printed circuit board (FPCB2) and a second driver chip IC2. The second flexible printed circuit board (FPCB2) connects the data driver (DD) and the second printed circuit board (PCB2). The second driving chip IC2 may be mounted on the second flexible printed circuit board FPCB2 to provide a driving signal to the data driving unit DD from the second printed circuit board PCB2.

상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)은 상기 데이터 구동부(DD) 상에서 상기 데이터 구동부(DD)의 적어도 일부분과 중첩하게 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)는 상기 데이터 구동부(DD)와 상기 봉지부(SL) 사이에 배치될 수 있다. The second flexible printed circuit board (FPCB2) may be disposed on the data driver (DD) so as to overlap with at least a part of the data driver (DD). Accordingly, the second flexible printed circuit board (FPCB2) may be disposed between the data driver (DD) and the sealing unit (SL).

상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)는 폴리이미드 수지 등으로 이루어진 가요성을 갖는 필름으로 제공될 수 있다. 상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)은 상기 봉지부(SL)와의 접착력을 강화하기 위해, 상기 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)의 상기 봉지부(SL)와 접촉하는 표면에 플라즈마(Plasma) 처리, 이온 빔(Ion Beam) 가공, 화학(Chemical) 처리 등을 할 수 있다. The second flexible printed circuit board (FPCB2) may be provided as a flexible film made of polyimide resin or the like. The second flexible printed circuit board FPCB2 may be formed of a conductive material such as plasma or the like on the surface of the second flexible printed circuit board FPCB2 which is in contact with the sealing portion SL, Plasma processing, ion beam processing, chemical processing, and the like.

상기한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 상기 봉지부가 상기 패드부 상에 배치됨에 따라, 기존에 인쇄 회로 기판을 패드부와 연결시키기 위해 필요로 했던 제1 기판의 비표시 영역의 일부 면적을 줄일 수 있다. As described above, in the display device according to an embodiment of the present invention, since the sealing portion is disposed on the pad portion, the sealing portion of the non-display region of the first substrate, which is required for connecting the printed circuit board to the pad portion, Some areas can be reduced.

본 발명의 일 실시예에서는 게이트 패드부와 데이터 패드부가 각각 제공되고, 여기에 제1 인쇄 회로 기판 및 제2 인쇄 회로 기판이 제1 가요성 인쇄 회로 기판 및 제2 가요성 인쇄 회로 기판에 연결된 형태이나, 이에 한정되지 않는다.In an embodiment of the present invention, a gate pad portion and a data pad portion are provided, respectively, and a first printed circuit board and a second printed circuit board are connected to the first flexible printed circuit board and the second flexible printed circuit board But is not limited thereto.

예를 들어, 상기 게이트 패드부 대신 상기 제1 베이스 기판 상에 실장된 게이트 구동부로 제공되어 상기 제2 인쇄 회로 기판이 생략될 수 있다. 또는 상기 데이터 패드부 대신 상기 제1 베이스 기판 상에 실장된 데이터 구동부로 제공되어 상기 제1 인쇄 회로 기판이 생략될 수 있다.For example, instead of the gate pad portion, the second printed circuit board may be provided to the gate driver mounted on the first base substrate. Or may be provided to the data driver mounted on the first base substrate instead of the data pad portion, so that the first printed circuit board may be omitted.

도 6은 도 5의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a display device according to another embodiment of FIG.

본 발명의 일 실시예에서 상기 봉지부는 절연물질로 이루어진 것으로 설명하였으나 이에 한정되지 않으며, 상기 봉지부는 도전성 물질로 이루어져 제공될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the encapsulant is made of an insulating material, but the present invention is not limited thereto. The encapsulant may be made of a conductive material.

도 6을 참고하면, 상기 공통 전압 패드부(CMPP)는 공통 전압 패드(CMP)와 상기 공통 전압 패드(CMP)에 연결된 공통 전압 패드 전극(CMPE)을 포함한다. 상기 공통 전압 패드(CMP)는 상기 제1 절연막(INS1) 상에 상기 공통 전압 라인에 연결되어 제공된다. 상기 공통 전압 패드 전극(CMPE)는 상기 공통 전압 패드(CMP) 상에 직접 접촉하여 제공될 수 있다. Referring to FIG. 6, the common voltage pad unit CMPP includes a common voltage pad CMP and a common voltage pad electrode CMPE connected to the common voltage pad CMP. The common voltage pad CMP is connected to the common voltage line on the first insulating layer INS1. The common voltage pad electrode CMPE may be provided in direct contact with the common voltage pad CMP.

상기 공통 전압 라인 및 상기 공통 전압 패드 전극(CMPE) 상에는 도전성 물질로 이루어진 봉지부(SL)가 제공될 수 있다. 상기 공통 전압은 상기 봉지부(SL)를 통해 상기 공통 전극(CE)에 인가될 수 있다. 이에 따라, 상기 공통 전압 라인 및 상기 공통 전압 패드 전극(CMPE) 상에 상기 공통 전압을 상기 공통 전극(CE)에 인가하기 위해 별도로 필요로 했던 연결부(도 5 참조: CL)를 생략할 수 있다.An encapsulant SL made of a conductive material may be provided on the common voltage line and the common voltage pad electrode CMPE. The common voltage may be applied to the common electrode CE through the encapsulation unit SL. Accordingly, a connecting portion (CL in FIG. 5) which is separately required for applying the common voltage to the common electrode line and the common voltage pad electrode CMPE can be omitted.

도 7는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a display device according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에서는 제1 기판의 크기가 제2 기판의 크기보다 큰 것을 도시하여 설명하였으나, 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다른 실시예에서는 상기 제1 기판의 크기와 상기 제2 기판의 크기가 같게 제공될 수 있다. In an embodiment of the present invention, the size of the first substrate is larger than that of the second substrate. However, the present invention is not limited thereto. In another embodiment of the present invention, The same size can be provided.

도 2 및 도 7를 참조하면, 상기 제1 기판(SUB1) 및 상기 제2 기판(SUB2)은 서로 동일한 크기로 제공될 수 있다. 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1) 및 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)이 패드부와 봉지부(SL) 사이에 제공됨에 따라, 상기 제1 기판(SUB1)의 상기 제1 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB1) 및 제2 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB2)이 부착되기 위해 필요로 했던 비표시 영역의 일부분을 줄일 수 있다. 그 결과, 표시 장치는 외곽부 테두리부분, 즉 베젤(bezel)을 줄여, 기존의 표시 장치에 비해 용이하게 대화면을 구현할 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 7, the first substrate SUB1 and the second substrate SUB2 may have the same size. As the first flexible printed circuit board (FPCB1) and the second flexible printed circuit board (FPCB2) are provided between the pad portion and the sealing portion SL, the first flexible printed circuit board (FPCB1) It is possible to reduce a part of the non-display area that is required for attaching the circuit board FPCB1 and the second flexible printed circuit board FPCB2. As a result, the display device can reduce the edge portion of the outer frame, that is, a bezel, and can realize a large screen easily compared with the conventional display device.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.8 is a cross-sectional view of a display device according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시에에서 블랙 매트릭스가 제2 기판에 포함된 것을 도시하여 설명하였으나, 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 다른 실시예에서 상기 블랙 매트릭스는 제1 기판에 포함될 수 있다. Although the black matrix is included in the second substrate in one embodiment of the present invention, the present invention is not limited thereto. In another embodiment of the present invention, the black matrix may be included in the first substrate.

도 3 및 도 8을 참조하면, 상기 제1 기판(SUB1)은 제1 베이스 기판(BS1), 상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에 제공된 컬러 필터부, 및 화소(PX)를 포함할 수 있다.3 and 8, the first substrate SUB1 may include a first base substrate BS1, a color filter portion provided on the first base substrate BS1, and a pixel PX .

상기 컬러 필터부는 박막 트랜지스터(TFT) 상에 제공될 수 있다. 상기 컬러 필터부는 컬러 필터(미도시)와 블랙 매트릭스(BM)를 포함할 수 있다.The color filter portion may be provided on a thin film transistor (TFT). The color filter unit may include a color filter (not shown) and a black matrix (BM).

상기 컬러 필터는 각 화소를 투과하는 광에 색을 제공하기 위한 것이다. 상기 컬러 필터는 적색 컬러 필터, 녹색 컬러 필터, 및 청색 컬러 필터 중 어느 하나일 수 있으며, 각 화소 영역에 대응하여 제공될 수 있다.The color filter is for providing color to light transmitted through each pixel. The color filter may be any one of a red color filter, a green color filter, and a blue color filter, and may be provided corresponding to each pixel region.

상기 컬러 필터부에는 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)의 일부를 노출하는 제1 콘택홀(CH1)이 형성될 수 있다. 상기 제1 콘택홀(CH1)을 통해 화소 전극(PE)이 상기 박막 트랜지스터(TFT)에 연결된다.A first contact hole CH1 for exposing a part of the drain electrode DE of the thin film transistor TFT may be formed in the color filter portion. The pixel electrode PE is connected to the thin film transistor TFT through the first contact hole CH1.

도시하지는 않았으나, 상기 컬러 필터부와 상기 박막 트랜지스터(TFT) 사이에는 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 채널부를 보호하는 보호막이 제공될 수 있다. 상기 보호막은 노출된 반도체층(SM)의 상부를 커버할 수 있다. Although not shown, a protective film for protecting the channel portion of the thin film transistor (TFT) may be provided between the color filter portion and the thin film transistor (TFT). The protective layer may cover the upper portion of the exposed semiconductor layer SM.

상기 화소 전극(PE)은 상기 컬러 필터부 상에 제공된다. 상기 화소 전극(PE)은 상기 컬러 필터부의 상기 제1 콘택홀(CH1)을 통해 상기 박막 트랜지스터(TFT)에 연결된다. The pixel electrode PE is provided on the color filter portion. The pixel electrode PE is connected to the thin film transistor TFT through the first contact hole CH1 of the color filter portion.

본 실시예에서 상기 제1 콘택홀(CH1)은 상기 블랙 매트릭스(BM)가 형성된 영역을 오픈함으로써 형성되었지만, 이에 한정하는 것은 아니다. 다른 실시예에서, 상기 제1 콘택홀은 상기 컬러 필터(CF)가 형성된 영역을 오픈하여 상기 화소 전극(PE)을 상기 박막 트랜지스터(TFT)에 연결시킬 수도 있다. In the present embodiment, the first contact hole CH1 is formed by opening the region where the black matrix BM is formed, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment, the first contact hole may open an area where the color filter CF is formed to connect the pixel electrode PE to the thin film transistor TFT.

이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 있어서, 상기 표시 장치의 제조방법에 대하여 상세하게 설명한다. 다만 설명의 편의상, 전술한 표시 장치의 설명과 중복되는 설명은 생략한다.Hereinafter, a method of manufacturing the display device in the display device according to the embodiment of the present invention will be described in detail. For the sake of convenience of explanation, the description overlapping with the description of the display device described above will be omitted.

도 9a 내지 도 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 도시한 사시도이다. 이하, 설명의 편의를 위해, 도 2 내지 도 5를 더 참조하여 표시 장치의 제조 방법을 설명한다.9A to 9D are perspective views illustrating a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, for convenience of explanation, a manufacturing method of a display device will be described with reference to Figs. 2 to 5. Fig.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조방법은 제1 베이스 기판 상에 배선부 및 상기 배선부에 연결된 패드부를 형성하는 단계, 상기 패드부 상에 가요성 인쇄 회로 기판을 부착하는 단계, 상기 제1 베이스 기판 상에 표시층을 형성하는 단계, 상기 제2 베이스 기판 상에 봉지부를 형성하는 단계, 상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판을 합착시키는 단계, 및 상기 가요성 인쇄 회로 기판에 인쇄 회로 기판을 부착시키는 단계를 포함할 수 있다. A method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming a wiring portion on a first base substrate and a pad portion connected to the wiring portion, attaching a flexible printed circuit board on the pad portion, A method of manufacturing a flexible printed circuit board, comprising: forming a display layer on a first base substrate; forming an encapsulation on the second base substrate; bonding the first base substrate and the second base substrate together; And attaching the printed circuit board.

도 9a를 참조하면, 제1 베이스 기판(BS1) 상에 배선부 및 상기 배선부의 말단에 위치하는 패드부를 형성될 수 있다.Referring to FIG. 9A, a wiring portion and a pad portion located at the end of the wiring portion may be formed on the first base substrate BS1.

상기 배선부는 게이트 배선부 및 데이터 배선부를 포함한다.The wiring portion includes a gate wiring portion and a data wiring portion.

상기 게이트 배선부는 게이트 라인(GL), 게이트 전극(GE), 게이트 패드(GP), 및 공통 전압 라인(CML)를 포함한다.The gate wiring portion includes a gate line GL, a gate electrode GE, a gate pad GP, and a common voltage line CML.

상기 게이트 배선부는 도전성 물질, 예컨대 금속으로 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 게이트 배선부는 상기 제1 베이스 기판(BS1)의 전면에 금속층을 형성하고 포토리소그래피 공정으로 상기 금속층을 패터닝하여 단일 공정으로 형성될 수 있다. 상기 게이트 배선부는 단일 금속 또는 합금으로 이루어진 단일층으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 두 종 이상의 금속 및/또는 이들의 합금으로 이루어진 다중층으로 형성될 수 있다.The gate wiring portion may be formed of a conductive material, for example, a metal. For example, the gate wiring portion may be formed as a single process by forming a metal layer on the entire surface of the first base substrate BS1 and patterning the metal layer by a photolithography process. The gate wiring portion may be formed of a single layer made of a single metal or an alloy, but not limited thereto, and may be formed of multiple layers of two or more kinds of metals and / or alloys thereof.

상기 게이트 배선부 상에는 제1 절연막(INS1)이 형성되고, 상기 제1 절연막(INS1) 상에는 반도체층(SM)이 형성된다. 상기 반도체층(SM)은 상기 게이트 전극(GE)의 상부에 제공되며, 평면상에서 볼 때 상기 게이트 전극(GE)의 적어도 일부와 중첩하여 형성된다. 상기 반도체층(SM)은 도핑되거나 비도핑된 실리콘, 또는 산화물 반도체로 이루어질 수 있다.A first insulating layer INS1 is formed on the gate wiring portion, and a semiconductor layer SM is formed on the first insulating layer INS1. The semiconductor layer SM is provided on top of the gate electrode GE and overlaps with at least a part of the gate electrode GE when viewed in plan view. The semiconductor layer SM may be doped or undoped silicon, or an oxide semiconductor.

상기 데이터 배선부는 상기 반도체층(SM) 상에 형성된다. 상기 데이터 배선부는 데이터 라인(DL), 소스 전극(SE), 드레인 전극(DE), 및 데이터 패드(DP)를 포함한다. The data wiring portion is formed on the semiconductor layer SM. The data wiring portion includes a data line DL, a source electrode SE, a drain electrode DE, and a data pad DP.

상기 데이터 배선부는 도전성 물질, 예컨대 금속으로 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 데이터 배선부는 상기 제1 베이스 기판(BS1)의 전면에 금속층을 형성하고 포토리소그래피 공정으로 상기 금속층을 패터닝하여 단일 공정으로 형성될 수 있다. 상기 데이터 배선부는 단일 금속 또는 합금으로 이루어진 단일층으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 두 종 이상의 금속 및/또는 이들의 합금으로 이루어진 다중층으로 형성될 수 있다.The data wiring portion may be formed of a conductive material, for example, a metal. For example, the data wiring portion may be formed as a single process by forming a metal layer on the entire surface of the first base substrate BS1 and patterning the metal layer by a photolithography process. The data wiring portion may be formed of a single layer made of a single metal or an alloy, but not limited thereto, and may be formed of multiple layers of two or more kinds of metals and / or alloys thereof.

상기 공정으로 형성된 상기 게이트 전극(GE), 상기 소스 전극(SE), 상기 드레인 전극(DE), 및 상기 반도체층(SM)은 박막 트랜지스터(TFT)를 이룬다. The gate electrode GE, the source electrode SE, the drain electrode DE, and the semiconductor layer SM formed in the above process form a thin film transistor (TFT).

상기 박막 트랜지스터(TFT) 상에 화소 전극(PE), 게이트 패드 전극(GPE), 및 데이터 패드 전극(DPE)이 형성된다. A pixel electrode PE, a gate pad electrode GPE, and a data pad electrode DPE are formed on the thin film transistor TFT.

상기 화소 전극(PE), 상기 게이트 패드 전극(GPE), 및 상기 데이터 패드 전극(DPE)은 상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에 도전 물질로 도전층을 형성한 다음 포토리소그래피 공정을 이용하여 상기 도전층을 패터닝함으로써 형성될 수 있다. 상기 화소 전극(PE)은 제1 콘택홀(CH1)을 통해 상기 드레인 전극(DE)에 연결된다. 상기 게이트 패드 전극(GPE)은 제2 콘택홀(CH2)을 통해 상기 게이트 패드(GP)에 연결되어 게이트 패드부(GPP)를 형성한다. 상기 데이터 패드 전극(DPE)은 상기 데이터 패드(DP) 상에 제공되어 상기 데이터 패드(DP)와 직접 접촉하여 데이터 패드부(DPP)를 형성할 수 있다.The pixel electrode PE, the gate pad electrode GPE and the data pad electrode DPE may be formed by forming a conductive layer on the first base substrate BS1 with a conductive material and then using a photolithography process, And then patterning the conductive layer. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode DE through the first contact hole CH1. The gate pad electrode GPE is connected to the gate pad GP through a second contact hole CH2 to form a gate pad portion GPP. The data pad electrode DPE may be provided on the data pad DP to directly contact the data pad DP to form a data pad portion DPP.

상기 화소 전극(PE) 상에는 상기 화소 전극(PE)을 보호하는 제2 절연막(INS2)이 제공될 수 있는 바, 상기 제2 절연막(INS2)은 상기 게이트 패드 전극(GPE) 및 상기 데이터 패드 전극(DPE) 상에는 제공되지 않을 수 있다. A second insulating layer INS2 may be provided on the pixel electrode PE to protect the pixel electrode PE and the second insulating layer INS2 may be formed on the gate pad electrode GPE and the data pad electrode DPE). ≪ / RTI >

상기 게이트 패드 전극(GPE) 및 상기 데이터 패드 전극(DPE) 상에 상기 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB)이 부착될 수 있다. The flexible printed circuit board (FPCB) may be attached on the gate pad electrode GPE and the data pad electrode DPE.

상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에는 표시층이 형성된다. 본 발명의 일 실시예에서 상기 표시층은 액정층(LCL)일 수 있다. 그러나, 상기 표시층은 이에 한정되지 않으며, 유기 발광층 등 다양하게 제공될 수 있다. A display layer is formed on the first base substrate BS1. In an embodiment of the present invention, the display layer may be a liquid crystal layer (LCL). However, the display layer is not limited thereto, and may be variously provided, such as an organic light emitting layer.

상기 액정층(LCL)은 상기 제1 베이스 기판(BS1) 상에 직접 액정들을 적하시켜 형성할 수 있다. 이 경우, 직접 기판상에 액정들을 적하하기 때문에 대면적의 표시 장치의 액정층(LCL)을 짧은 시간 안에 형성하는 것이 가능하다. 또한, 필요한 양의 액정만을 직접 기판상에 적하하기 때문에 액정의 소모를 최소화할 수 있다.The liquid crystal layer LCL may be formed by dropping liquid crystals directly on the first base substrate BS1. In this case, since the liquid crystal is directly dropped on the substrate, it is possible to form the liquid crystal layer (LCL) of the large-area display device in a short time. In addition, since only a required amount of liquid crystal is directly dropped onto the substrate, consumption of liquid crystal can be minimized.

도 9b를 참조하면, 제2 베이스 기판(BS2) 상에 상기 제2 베이스 기판(BS2)의 가장자리를 따라 봉지부(SL)를 형성할 수 있다. Referring to FIG. 9B, an encapsulation unit SL may be formed on the second base substrate BS2 along the edge of the second base substrate BS2.

상기 봉지부(SL)은 반경화 고분자 물질로 형성될 수 있다. 상기 고분자 물질은 완전 경화되기 전으로 일정 정도의 유동성을 갖는다. 상기 봉지부(SL)는 상기 고분자 물질을 소정 정도의 두께를 가지고 상기 제2 베이스 기판(BS2)의 가장자리에 제공할 수 있다. 상기 봉지부(SL)는 후술할 상기 제2 베이스 기판(BS2)과 상기 제1 베이스 기판(BS1)이 합착시킬 때, 상기 패드부와 중첩하는 위치에 형성된다.The sealing portion SL may be formed of a semi-hardened polymer material. The polymeric material has a certain degree of fluidity before it is fully cured. The sealing portion SL can provide the polymer material to the edge of the second base substrate BS2 with a predetermined thickness. The sealing portion SL is formed at a position overlapping with the pad portion when the second base substrate BS2 and the first base substrate BS1 to be described later coalesce.

도 9c를 참조하면, 제1 베이스 기판(BS1) 및 제2 베이스 기판(BS2)은 액정층(LCL) 및 상기 봉지부(SL)를 사이에 두고 합착된다. 상기 봉지부(SL)는 패드부 및 상기 패드부 상에 부착된 상기 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB)의 일부분과 중첩하여 배치될 수 있다. 상기 봉지부(SL)는 상기 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB)을 사이에 두고 상기 패드부와 중첩할 수 있다.Referring to FIG. 9C, the first base substrate BS1 and the second base substrate BS2 are bonded together with the liquid crystal layer LCL and the sealing portion SL interposed therebetween. The sealing portion SL may be disposed to overlap with a pad portion and a portion of the flexible printed circuit board (FPCB) attached on the pad portion. The sealing portion SL may overlap the pad portion with the flexible printed circuit board (FPCB) interposed therebetween.

도 9d를 참조하면, 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB)에 인쇄 회로 기판(PCB)을 부착할 수 있다. 상기 인쇄 회로 기판(PCB)은 상기 가요성 인쇄 회로 기판(FPCB)를 통해 제1 기판(SUB1)에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 9D, a printed circuit board (PCB) can be attached to the flexible printed circuit board (FPCB). The printed circuit board (PCB) may be electrically connected to the first substrate (SUB1) through the flexible printed circuit board (FPCB).

상기한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조방법은 먼저, 제1 기판에 형성된 패드부 상에 가요성 인쇄 회로 기판을 부착시킨 다음 제1 기판과 제2 기판을 합착시킨다. 그 후, 상기 가요성 인쇄 회로 기판에 인쇄 회로 기판을 부착시킨다. 이에 따라, 상기 제1 기판에 상기 가요성 인쇄 회로 기판을 부착시키기 위해 필요로 했던 비표시 영역의 일부분을 제거할 수 있다. As described above, in the method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention, a flexible printed circuit board is attached on a pad portion formed on a first substrate, and then a first substrate and a second substrate are bonded together. Then, the printed circuit board is attached to the flexible printed circuit board. Thus, a part of the non-display area required for attaching the flexible printed circuit board to the first substrate can be removed.

기존에는 제1 기판과 제2 기판을 합착시킨 다음에 상기 제1 기판에 가요성 인쇄 회로 기판을 부착하였기 때문에, 상기 제1 기판은 상기 가요성 인쇄 회로 기판이 부착되는 별도의 공간을 필요로 하였다. 이에 따라, 상기 제1 기판은 상기 제2 기판보다 큰 면적을 필요로 하였으며, 상기 제1 기판의 면적 중 상기 제2 기판 면적 보다 초과되는 부분에 상기 가요성 인쇄 회로 기판이 부착되었다.Conventionally, since the flexible printed circuit board is attached to the first substrate after attaching the first substrate and the second substrate, the first substrate requires a separate space to which the flexible printed circuit board is attached . Accordingly, the first substrate requires a larger area than the second substrate, and the flexible printed circuit board is attached to a portion of the area of the first substrate that exceeds the area of the second substrate.

그러나, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판의 크기를 적어도 제2 기판의 크기만큼 줄이는 것이 가능하다. 이에 상기 표시 장치의 베젤(bezel)의 폭을 줄임으로써, 경량화된 표시 장치를 제공할 수 있다. 또한, 상기 표시 장치를 제조하기 위한 원가를 절감할 수 있다. However, in the display device according to an embodiment of the present invention, it is possible to reduce the size of the first substrate by at least the size of the second substrate. Accordingly, by reducing the width of the bezel of the display device, it is possible to provide a light-weighted display device. In addition, the cost for manufacturing the display device can be reduced.

상기 표시 장치는 베젤(bezel)의 폭을 줄여 용이하게 대화면을 구현할 수 있다. The display device can easily realize a large screen by reducing the width of a bezel.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 기준하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiment, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. It will be understood that various modifications and changes may be made thereto without departing from the scope of the present invention.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

PNL : 표시 패널 SUB1 : 제1 기판
SUB2 : 제2 기판 BS1 : 제1 베이스 기판
BS2 : 제2 베이스 기판 LCL : 액정층
SL : 봉지부 PCB : 인쇄 회로 기판
FPCB : 가요성 인쇄 회로 기판 GPP : 게이트 패드부
DPP : 데이터 패드부 CMPP : 공통 전압 패드부
GP : 게이트 패드 GPE : 게이트 패드 전극
DP : 데이터 패드 DPE : 데이터 패드 전극
CMP : 공통 전압 패드 CMPE : 공통 전압 패드 전극
PNL: display panel SUB1: first substrate
SUB2: second substrate BS1: first base substrate
BS2: second base substrate LCL: liquid crystal layer
SL: Encapsulation PCB: Printed circuit board
FPCB: flexible printed circuit board GPP: gate pad part
DPP: data pad unit CMPP: common voltage pad unit
GP: Gate pad GPE: Gate pad electrode
DP: Data pad DPE: Data pad electrode
CMP: common voltage pad CMPE: common voltage pad electrode

Claims (20)

화소들이 형성된 표시 영역 및 상기 표시 영역을 제외한 비표시 영역을 포함하는 제1 기판, 상기 제1 기판과 마주보는 제2 기판, 및 상기 제1 기판 및 제2 기판 사이에 배치된 표시층을 포함하며,
상기 제1 기판은
제1 베이스 기판;
상기 제1 베이스 기판 상에 제공된 배선부; 및
상기 배선부에 연결되며 외부 배선과 연결되는 패드부를 포함하며,
상기 제2 기판은
제2 베이스 기판; 및
상기 제2 베이스 기판의 가장자리를 따라 제공된 봉지부를 포함하며,
상기 봉지부는 상기 패드부 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
A first substrate including a display region in which pixels are formed and a non-display region excluding the display region, a second substrate facing the first substrate, and a display layer disposed between the first substrate and the second substrate, ,
The first substrate
A first base substrate;
A wiring portion provided on the first base substrate; And
And a pad portion connected to the wiring portion and connected to the external wiring,
The second substrate
A second base substrate; And
And an encapsulant provided along an edge of the second base substrate,
And the sealing portion is disposed on the pad portion.
제1 항에 있어서,
상기 제2 기판은 상기 제2 베이스 기판 상에 제공된 공통 전극, 블랙 매트릭스, 및 컬러필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the second substrate further comprises a common electrode, a black matrix, and a color filter provided on the second base substrate.
제2 항에 있어서,
상기 배선부는 게이트 라인, 상기 게이트 라인과 교차하는 데이터 라인, 각 화소를 구동하는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극, 및 상기 공통 전극에 공통 전압을 제공하는 공통 전압 라인을 포함하는 표시 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the wiring portion includes a gate line, a data line intersecting the gate line, a thin film transistor for driving each pixel, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a common voltage line for providing a common voltage to the common electrode.
제3 항에 있어서,
상기 공통 전압 라인은 평면상에서 볼 때, 상기 표시 영역의 가장자리 중 적어도 일부를 따라 제공되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method of claim 3,
Wherein the common voltage line is provided along at least a part of edges of the display region when viewed in plan.
제4 항에 있어서,
상기 패드부는 상기 게이트 라인에 연결된 게이트 패드부, 상기 데이터 라인에 연결된 데이터 패드부, 및 상기 공통 전압 라인에 연결된 공통 전압 패드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the pad portion includes a gate pad portion connected to the gate line, a data pad portion connected to the data line, and a common voltage pad portion connected to the common voltage line.
제5 항에 있어서,
상기 패드부 상에 부착되어 상기 패드부와 상기 외부 배선을 연결하는 가요성 인쇄 회로 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
6. The method of claim 5,
And a flexible printed circuit board attached on the pad portion and connecting the pad portion and the external wiring.
제6 항에 있어서,
상기 제1 기판의 적어도 일 측에 제공되며 상기 가요성 인쇄 회로 기판을 통해 상기 패드부와 전기적으로 연결된 인쇄 회로 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 6,
Further comprising a printed circuit board provided on at least one side of the first substrate and electrically connected to the pad portion via the flexible printed circuit board.
제7 항에 있어서,
상기 가요성 인쇄 회로 기판은 상기 패드부 상에서 상기 패드부의 적어도 일부분과 중첩하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein the flexible printed circuit board overlaps at least a part of the pad portion on the pad portion.
제8 항에 있어서,
상기 봉지부는 상기 가요성 인쇄 회로 기판을 사이에 두고 상기 패드부와 중첩하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
9. The method of claim 8,
Wherein the sealing portion overlaps the pad portion with the flexible printed circuit board interposed therebetween.
제9 항에 있어서,
상기 봉지부는 고분자 수지를 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the sealing portion is a compound containing a polymer resin.
제1 항에 있어서,
상기 봉지부는 상기 공통 전압 패드부와 중첩하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
And the sealing portion overlaps with the common voltage pad portion.
제11 항에 있어서,
상기 봉지부는 도전성 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 표시 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the sealing portion is made of a conductive material.
제1 항에 있어서,
상기 제1 기판은 상기 제2 기판보다 크거나 같은 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first substrate is larger than or equal to the second substrate.
제1 항에 있어서,
상기 제1 기판은 상기 제1 베이스 기판 상에 형성된 블랙 매트릭스 및 컬러 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first substrate further comprises a black matrix and a color filter formed on the first base substrate.
제1 항에 있어서,
상기 표시층은 액정층인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the display layer is a liquid crystal layer.
제1 베이스 기판 상에 배선부 및 상기 배선부에 연결된 패드부를 형성하는 단계;
상기 패드부 상에 가요성 인쇄 회로 기판을 부착하는 단계;
상기 제1 베이스 기판 상에 표시층을 형성하는 단계;
상기 제2 베이스 기판 상에 봉지부를 형성하는 단계;
상기 봉지부가 상기 패드부 상에 배치되도록 상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판을 합착시키는 단계; 및
상기 가요성 인쇄 회로 기판에 인쇄 회로 기판을 부착시키는 단계;를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
Forming a wiring portion on the first base substrate and a pad portion connected to the wiring portion;
Attaching a flexible printed circuit board on the pad portion;
Forming a display layer on the first base substrate;
Forming an encapsulant on the second base substrate;
Attaching the first base substrate and the second base substrate together so that the sealing portion is disposed on the pad portion; And
And attaching a printed circuit board to the flexible printed circuit board.
제16 항에 있어서,
봉지부를 형성하는 단계에 있어서, 상기 봉지부는 상기 제2 베이스 기판의 가장자리를 따라 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 장치의 제조 방법.
17. The method of claim 16,
Wherein the encapsulating portion is formed along an edge of the second base substrate in the step of forming the encapsulation portion.
제17 항에 있어서,
상기 봉지부는 상기 가요성 인쇄 회로 기판을 사이에 두고 상기 패드부와 중첩하는 것을 특징으로 하는 표시 장치의 제조 방법.
18. The method of claim 17,
Wherein the sealing portion overlaps the pad portion with the flexible printed circuit board interposed therebetween.
제18 항에 있어서,
상기 표시층은 액정층인 것을 특징으로 하는 표시 장치 제조 방법.
19. The method of claim 18,
Wherein the display layer is a liquid crystal layer.
제19 항에 있어서,
상기 액정층은 액정들을 상기 제1 베이스 기판 상에 적하시켜 형성하는 것을 특징으로 하는 표시 장치 제조 방법.

20. The method of claim 19,
Wherein the liquid crystal layer is formed by dropping liquid crystals on the first base substrate.

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