KR20150109001A

KR20150109001A - Mask frame assembly and deposition apparatus using the same

Info

Publication number: KR20150109001A
Application number: KR1020140031818A
Authority: KR
Inventors: 김정훈; 지필선; 홍재민; 권하늘; 김한영; 정우영
Original assignee: 삼성디스플레이 주식회사
Priority date: 2014-03-18
Filing date: 2014-03-18
Publication date: 2015-10-01
Also published as: KR102235600B1

Abstract

According to an embodiment of the present invention, a mask frame assembly comprises: a mask wherein a perforated area with a pattern hole and a non-perforated area without a pattern hole are alternately placed in one direction; and a frame joined to the mask. The further the non-perforated area of the mask gets away from the perforated area, the more the non-perforated area of the mask gradually thickens.

Description

[0001] The present invention relates to a mask frame assembly and a deposition apparatus using the mask frame assembly.

본 발명은 박막의 증착에 사용되는 마스크 프레임 조립체와 그것을 이용하는 증착 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a mask frame assembly used for depositing a thin film and a deposition apparatus using the same.

일반적으로 유기 발광 표시 장치는 애노드와 캐소드에 주입되는 정공과 전자가 발광층에서 재결합하여 발광하는 원리로 화상을 구현할 수 있는 디스플레이 장치로서, 애노드와 캐소드 사이에 발광층을 삽입한 적층형 구조이다. 그러나, 상기한 구조로는 고효율 발광을 얻기 어렵기 때문에 상기 두 전극 사이의 중간층으로서 상기 발광층과 함께 전자 주입층, 전자 수송층, 정공 수송층, 및 정공 주입층 등을 선택적으로 추가하여 이용하고 있다.2. Description of the Related Art In general, an organic light emitting display is a display device capable of realizing an image by the principle that holes and electrons injected into an anode and a cathode are recombined in a light emitting layer to emit light, and a laminate structure in which a light emitting layer is inserted between an anode and a cathode. However, since it is difficult to obtain high-efficiency light emission in the above-described structure, an electron injection layer, an electron transport layer, a hole transport layer, a hole injection layer, and the like are selectively added to the intermediate layer between the two electrodes together with the light emission layer.

한편, 유기 발광 표시 장치의 전극들과 중간층은 여러 가지 방법으로 형성할 수 있는데, 이중 하나의 방법이 증착법이다. 증착 방법을 이용하여 유기 발광 표시 장치를 제조할 때에는, 형성하고자 하는 박막 패턴과 동일한 패턴을 가지는 마스크 프레임 조립체를 기판 위에 정렬하고, 그 마스크 프레임 조립체를 통해 기판에 박막의 원소재를 증착하여 소망하는 패턴의 박막을 형성하게 된다.Meanwhile, the electrodes and the intermediate layer of the organic light emitting display can be formed by various methods, one of which is a deposition method. When the organic light emitting display is manufactured using the deposition method, a mask frame assembly having the same pattern as the thin film pattern to be formed is aligned on the substrate, and a raw material of the thin film is deposited on the substrate through the mask frame assembly, Thereby forming a thin film of the pattern.

본 발명의 실시예들은 박막 증착에 사용되는 마스크 프레임 조립체와 그것을 이용하는 증착 장치를 제공한다.Embodiments of the present invention provide a mask frame assembly for use in thin film deposition and a deposition apparatus using the same.

본 발명의 실시예는 패턴홀이 형성된 유공영역 및 패턴홀이 없는 무공영역이 일방향을 따라 교대로 배치된 마스크와, 상기 마스크가 결합되는 프레임을 포함하며, 상기 마스크의 상기 무공영역 두께가 상기 유공영역에서 멀어질수록 점진적으로 두꺼워지는 마스크 프레임 조립체를 제공한다.An embodiment of the present invention includes a mask in which a hole region in which pattern holes are formed and a non-aperture region in which no pattern holes are formed are alternately arranged along one direction, and a frame to which the mask is coupled, And the mask frame assembly is gradually thickened away from the region.

상기 마스크는 상기 일방향을 따라 연신된 상태로 그 양단부가 상기 프레임에 결합될 수 있다. The mask may be stretched along the one direction and both ends of the mask may be coupled to the frame.

상기 마스크는 복수 개로 분할된 스틱형 마스크를 포함할 수 있다. The mask may include a plurality of divided stick-shaped masks.

상기 무공영역의 두께는 서로 인접한 두 유공영역 사이의 가운데 지점을 기준으로 대칭 모양을 이룰 수 있다. The thickness of the non-porous region may be symmetrical with respect to a center point between two adjacent porous regions.

상기 가운데 지점이 상기 무공영역에서 가장 두꺼운 부위가 될 수 있다. The center point may be the thickest part in the non-air area.

또한, 본 발명의 실시예는 증착원과, 상기 증착원과 대면하는 기판의 제1면에 배치되는 마스크 프레임 조립체와, 상기 제1면과 반대편인 상기 기판의 제2면에 배치되어 상기 마스크 프레임 조립체를 상기 기판에 자력으로 밀착시키는 마그넷을 포함하고, 상기 마스크 프레임 조립체는 패턴홀이 형성된 유공영역 및 패턴홀이 없는 무공영역이 일방향을 따라 교대로 배치된 마스크와, 상기 마스크가 결합되는 프레임을 포함하며, 상기 무공영역의 두께가 상기 유공영역에서 멀어질수록 점진적으로 두꺼워지는 증착 장치를 제공한다.An embodiment of the present invention is also directed to an exposure apparatus including a deposition source, a mask frame assembly disposed on a first surface of the substrate facing the deposition source, and a second mask disposed on a second surface of the substrate opposite to the first surface, Wherein the mask frame assembly includes a mask in which a hole region in which pattern holes are formed and a non-hole region in which pattern holes are not provided are alternately disposed along one direction, and a frame in which the mask is coupled And the thickness of the non-porous region gradually increases as the distance from the porous region increases.

상기 기판과 상기 마그넷 사이에 상기 기판을 눌러주는 가압판이 더 구비될 수 있다. And a pressure plate for pressing the substrate between the substrate and the magnet.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 발명의 실시예에 따른 마스크 프레임 조립체와 증착 장치에 의하면 마스크에 작용하는 자력과 응력의 부위별 편차를 줄일 수 있게 되어, 마스크 웨이브 완화 및 기판에 대한 마스크 밀착성 향상 등의 효과를 얻을 수 있다. 따라서 이 마스크 프레임 조립체를 증착 작업에 사용하면 안정적인 제품 생산을 보장할 수 있게 된다. According to the mask frame assembly and the deposition apparatus according to the embodiment of the present invention, it is possible to reduce the deviation of the magnetic force and stress acting on the mask, thereby reducing the mask wave and improving the mask adhesion to the substrate. Therefore, when the mask frame assembly is used for the deposition operation, it is possible to ensure stable product production.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치를 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 증착 장치에 채용된 마스크 프레임 조립체를 도시한 분리사시도이다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 4는 도 1에 도시된 증착 장치를 이용하여 제조되는 유기 발광 표시 장치를 보인 도면이다.1 is a view showing a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view showing a mask frame assembly employed in the deposition apparatus of FIG. 1; FIG.
3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in Fig.
FIG. 4 is a view showing an organic light emitting display manufactured using the deposition apparatus shown in FIG. 1. FIG.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like or corresponding components throughout the drawings, and a duplicate description thereof will be omitted .

이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In the following examples, the singular forms "a", "an" and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise.

이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. In the following embodiments, terms such as inclusive or possessive are intended to mean that a feature, or element, described in the specification is present, and does not preclude the possibility that one or more other features or elements may be added.

이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다. In the following embodiments, when a part of a film, an area, a component or the like is on or on another part, not only the case where the part is directly on the other part but also another film, area, And the like.

도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In the drawings, components may be exaggerated or reduced in size for convenience of explanation. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.

어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다. If certain embodiments are otherwise feasible, the particular process sequence may be performed differently from the sequence described. For example, two processes that are described in succession may be performed substantially concurrently, and may be performed in the reverse order of the order described.

도 1은 일 실시예에 따른 증착 장치를 도시한 것이고, 도 2는 그 증착 장치에 채용된 마스크 프레임 조립체를 도시한 것이며, 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절단한 단면도이다. FIG. 1 illustrates a deposition apparatus according to an embodiment, FIG. 2 illustrates a mask frame assembly employed in the deposition apparatus, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG.

먼저, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 증착 장치는, 기판(200)에 대한 증착 작업 공간을 형성하는 챔버(600)와, 그 챔버(600) 내에 설치된 증착원(500)과, 상기 기판(200)의 증착원(500) 대향면에 배치되는 마스크 프레임 조립체(100) 및, 상기 마스크 프레임 조립체(100)를 자력으로 끌어당겨서 기판(200)에 밀착시키는 마그넷(400) 등을 구비하고 있다. 참조부호 700는 마그넷(400)의 자력을 작용시키기 전에 먼저 자중으로 기판(200)을 눌러서 마스크 프레임 조립체(100)와 기판(200) 간의 틈새를 줄어주는 가압판을 나타낸다. 1, the deposition apparatus includes a chamber 600 forming a deposition work space for the substrate 200, an evaporation source 500 installed in the chamber 600, And a magnet 400 for attracting the mask frame assembly 100 by magnetic force and closely contacting the substrate 200 to the substrate 200. The magnet 400 is mounted on the substrate 200, Reference numeral 700 denotes a pressure plate that presses the substrate 200 with its own weight to reduce the gap between the mask frame assembly 100 and the substrate 200 before applying the magnetic force of the magnet 400.

이러한 구조의 증착 장치에서 증착이 진행되면, 상기 증착원(500)에서 발생된 증착가스가 상기 마스크 프레임 조립체(100)의 패턴홀(111a)을 통과해 기판(200)에 증착되고, 이에 따라 그 패턴홀(111a)에 대응하는 박막이 기판(200)에 만들어지게 된다.The deposition gas generated in the deposition source 500 passes through the pattern holes 111a of the mask frame assembly 100 and is deposited on the substrate 200. As a result, A thin film corresponding to the pattern hole 111a is formed on the substrate 200. [

여기서, 상기 마스크 프레임 조립체(100)의 구조를 자세히 살펴보면, 도 2에 도시된 바와 같이, 프레임(120)과, 프레임(120)에 양단부가 고정된 다수개의 마스크(110)를 구비하고 있다. As shown in FIG. 2, the mask frame assembly 100 includes a frame 120 and a plurality of masks 110 having both ends fixed to the frame 120.

프레임(120)은 마스크 프레임 조립체(100)의 외곽 틀을 형성하는 것으로, 중앙에 개구부(121)가 형성된 사각형 모양을 하고 있다. 이 프레임(120)의 서로 마주보는 한 쌍의 변에 마스크(110)의 양단부가 용접으로 고정된다.The frame 120 forms an outer frame of the mask frame assembly 100 and has a rectangular shape with an opening 121 formed at the center thereof. Both ends of the mask 110 are welded to a pair of opposite sides of the frame 120.

상기 마스크(110)는 다수개로 분할된 스틱형 마스크로서, 상기 패턴홀(111a)이 형성된 유공영역(111)과, 패턴홀이 없는 무공영역(112)이 교대로 배치되어 있으며 그 양단부는 상기한 바와 같이 프레임(120)에 용접된다. The mask 110 is a stick-shaped mask divided into a plurality of blocks. The mask 110 has a hole region 111 in which the pattern hole 111a is formed and a non-hole region 112 in which no pattern hole is formed. Welded to frame 120 as shown.

이 마스크(110)를 큰 부재 하나로 만들 수도 있지만, 그럴 경우 자중에 의한 처짐 현상이 심해질 수 있으므로, 도면과 같이 다수개의 스틱형 마스크로 분할해서 만든다. 그리고, 도 1에서는 설명의 편의 상 개구부(121)를 보이기 위해 몇 개의 마스크(110) 만을 도시하였으나, 실제 제조 완료 후에는 개구부(121)가 마스크(110)들로 모두 채워지게 된다.The mask 110 may be made of a large member, but in such a case, the deflection phenomenon due to its own weight may be increased. Therefore, the mask 110 is divided into a plurality of stick type masks as shown in the drawing. In FIG. 1, only a few masks 110 are shown to show the opening 121 for convenience of explanation. However, after the actual fabrication, the openings 121 are filled with the masks 110.

각 마스크(110)에는 상기한 바와 같이 유공영역(111)과 무공영역(112)이 구비되어 있으며, 용접 전의 상태에는 양단에 클램핑영역(113)도 마련되어 있다. Each of the masks 110 is provided with a perforated region 111 and a non-porous region 112 as described above. The clamping region 113 is also provided at both ends of the mask 110 before welding.

마스크(110)를 프레임(120)에 용접할 때에는 해당 마스크(110)를 유공영역(111)과 무공영역(112)이 교대로 배치된 장변 방향(A1,A2;이하 일방향이라 함)으로 팽팽하게 당겨서 인장시킨 후 용접하게 되는데, 이렇게 마스크(110)를 잡아당길 때 파지하기 위해 양단부에 마련된 부위가 상기 클램핑영역(113)이 된다. 이 클램핑영역(113)은 용접이 완료된 후에는 절단된다. When the mask 110 is welded to the frame 120, the mask 110 is stretched in the long-side direction A1 and A2 (hereinafter, referred to as one direction) in which the perforated region 111 and the non-porous region 112 are alternately arranged The clamping region 113 is formed at both ends to grasp the mask 110 when the mask 110 is pulled. This clamping area 113 is cut after welding is completed.

상기 유공영역(111)은 다수의 패턴홀(111a)들이 형성된 영역으로, 증착 공정 시 증착 증기가 이 패턴홀(111a)을 통과하면서 마스크(110)에 밀착되어 있는 기판(200)에 박막층을 형성하게 된다. The perforated region 111 is a region where a plurality of pattern holes 111a are formed and a thin film layer is formed on the substrate 200 which is in close contact with the mask 110 while the deposition vapor passes through the pattern hole 111a during the deposition process .

상기 무공영역(112)은 패턴홀(111a)이 없기 때문에 증착은 일어나지 않는 영역이다. 도 3을 참조해서 이 무공영역(112)의 구조에 대해 자세히 설명하기로 한다. 상기한 바와 같이 무공영역(112)은 증착에 직접 기여하는 영역은 아니지만 기본적으로 마스크(110)의 강성을 유지해주는 역할을 한다. 즉, 유공영역(111)에는 많은 패턴홀(111a) 들이 뚫려있기 때문에 상대적으로 강성이 약하다. 따라서, 마스크(110)가 쉽게 쳐지거나 휘어지지 않을 정도의 강성을 확보하기 위해서 무공영역(112)은 유공영역(111)에 비해 두껍게 형성된다. The non-porous region 112 is an area where deposition does not occur because there is no pattern hole 111a. The structure of the non-porous region 112 will be described in detail with reference to FIG. As described above, the non-porous region 112 is not a region directly contributing to the deposition, but basically serves to maintain the rigidity of the mask 110. That is, since the pattern hole 111a is perforated in the perforated region 111, the stiffness is relatively weak. Therefore, the non-porous region 112 is formed thicker than the perforated region 111 in order to secure the rigidity such that the mask 110 is not easily chipped or warped.

그런데, 만일 무공영역(112)의 두께를 유공영역(111)에 비해 급격히 두꺼워지게 즉, 단차가 생기도록 만들게 되면, 프레임(120)과의 용접을 위한 마스크(110) 인장 시 그 단차가 있는 부위에 응력이 집중되어 웨이브가 생기기 쉬운 취약부가 될 수 있다. 뿐만 아니라, 마그넷(400)에 의한 자력을 작용시킬 때에도 이러한 단차가 있는 부위는 주변 부위와 자력 편차가 심해져서 기판(200)에 밀착이 잘 안 되는 문제가 생길 수 있다. 이와 같이 마스크(110)에서 응력이나 자력 편차가 심한 부위가 있으면, 기판(200)과 밀착이 잘 안 되므로, 섀도우와 같은 증착 불량이 발생하기 쉽다. However, if the thickness of the non-porous region 112 is made to be thicker than that of the perforated region 111, that is, a step is formed, the mask 110 for welding with the frame 120, So that it becomes a weak part where a wave easily occurs. In addition, even when a magnetic force is applied by the magnet 400, such a stepped portion may have a problem that the magnetic force of the peripheral portion and the magnetic force deviates so much as to make it difficult to closely contact the substrate 200. If there is a region where the stress or magnetic force deviates greatly in the mask 110, adhesion with the substrate 200 is difficult, and deposition defects such as shadows are liable to occur.

따라서, 본 실시예에서는 이러한 문제를 방지하기 위해 무공영역(112)의 두께를 도 3과 같이 유공영역(111)에서 멀어짐에 따라 점진적으로 두꺼워지는 구조로 구성하고 있다. 즉, 두 유공영역(111) 사이에 있는 무공영역(112)을 기준으로 보면, 중앙에 있는 가운데 지점(C)이 가장 두껍고, 그 가운데 지점(C)을 기준으로 양측이 대칭을 이루면서 점진적으로 두께가 변하는 구조로 이루어져 있다. Therefore, in order to prevent such a problem, in this embodiment, the thickness of the non-porous region 112 is made to gradually increase as the distance from the porous region 111 is increased as shown in FIG. In other words, when viewed from the non-porous region 112 between the two pore regions 111, the center point C in the center is the thickest, and the two sides are symmetric with respect to the point C in the center, Is changed.

이렇게 되면, 유공영역(111)과 무공영역(112) 간의 단차가 없어지게 되므로, 마스크(110) 인장 시 경계부에 응력이 집중되어 웨이브가 심하게 생기거나 자력 편차가 심해져서 기판(200)과 밀착이 잘 안 되는 등의 문제가 해소될 수 있다. As a result, stress is concentrated on the boundary portion at the time of tensile stress of the mask 110, so that the wave is severely generated or the magnetic force deviates excessively, It is possible to solve the problem that it is not easy.

이와 같은 구조의 마스크 프레임 조립체(100)를 제조할 때에는, 상기 프레임(200)과 복수의 스틱형 마스크(110)를 각각 준비한다. When the mask frame assembly 100 having such a structure is manufactured, the frame 200 and the plurality of stick-shaped masks 110 are prepared.

프레임(200)은 중앙에 개구(201)가 형성된 사각 형상의 틀이며, 마스크(110)는 상기와 같이 유공영역(111)과 무공영역(112) 및 클램핑영역(113)이 구비된 스틱형으로 준비된다. The frame 200 is a square frame having an opening 201 formed at the center thereof and the mask 110 is a stick-shaped frame having the perforated region 111, the non-porous region 112 and the clamping region 113 as described above Ready.

그리고, 준비된 마스크(110)의 양단부에 있는 클램핑영역(113)을 인장기(미도시)로 파지하여 마스크(110) 장변 방향인 일방향으로 잡아당겨서 팽팽하게 만든 다음 프레임(200)에 용접하여 고정시킨다. 고정 후에는 클램핑영역(113)을 커팅하여 제거한다. 같은 방식으로 여러 개의 마스크(110)를 차례로 프레임(200)에 용접해 나가면서 개구부(121)를 다 메운다. 이때, 마스크(110)의 유공영역(111)과 무공영역(112) 사이의 경계부는 두께가 급격히 변하는 단차 형태가 아니라 완만한 경사로 형성이 되어 있으므로, 인장력이 경계부에 집중되어 울룩불룩한 웨이브가 생기는 등의 문제는 생기지 않게 된다. The clamping area 113 at both ends of the prepared mask 110 is gripped by a stretching machine (not shown) and pulled in one direction in the direction of the long side of the mask 110 to be tightened and then welded and fixed to the frame 200 . After the fixing, the clamping area 113 is cut and removed. The plurality of masks 110 are sequentially welded to the frame 200 in the same manner to fill the openings 121. At this time, since the boundary portion between the perforated region 111 and the non-porous region 112 of the mask 110 is formed as a gentle slope rather than a stepped shape in which the thickness is rapidly changed, a tensile force is concentrated at the boundary portion, There will be no problem.

이와 같이 마스크(110)의 유공영역(111)과 무공영역(112) 사이의 경계부에 급격한 단차가 없으면, 부위별 응력이나 자력의 편차가 감소하게 되므로 기판(미도시)과의 밀착성이 매우 좋아지게 되며, 따라서 이를 이용하면 안정적인 증착 작업이 가능해진다. If there is no sharp step in the boundary between the perforated region 111 and the non-apertured region 112 of the mask 110, the deviation of the stress or magnetic force per region is reduced, and the adhesion with the substrate (not shown) Therefore, stable deposition can be performed by using this method.

한편, 본 발명에 따른 마스크 프레임 조립체(100)는 각종 박막 증착용으로 사용될 수 있는데, 예컨대 유기 발광 표시 장치의 유기막이나 대향전극의 패턴을 형성하는 데 사용될 수 있다. Meanwhile, the mask frame assembly 100 according to the present invention can be used for various thin film deposition, for example, to form a pattern of an organic film or an opposite electrode of an organic light emitting display device.

도 4는 본 실시예의 마스크 프레임 조립체(100)를 이용하여 제조할 수 있는 유기 발광 표시 장치의 예를 도시한 도면이다.4 is a diagram showing an example of an organic light emitting display device that can be manufactured using the mask frame assembly 100 of this embodiment.

도 4를 참조하면, 기판(320)상에 버퍼층(330)이 형성되어 있고, 이 버퍼층(330) 상부로 TFT가 구비된다. Referring to FIG. 4, a buffer layer 330 is formed on a substrate 320, and a TFT is provided on the buffer layer 330.

TFT는 반도체 활성층(331)과, 이 활성층(331)을 덮도록 형성된 게이트 절연막(332)과, 게이트 절연막(332) 상부의 게이트 전극(333)을 갖는다. The TFT has a semiconductor active layer 331, a gate insulating film 332 formed to cover the active layer 331, and a gate electrode 333 over the gate insulating film 332.

게이트 전극(333)을 덮도록 층간 절연막(334)이 형성되며, 층간 절연막(334)의 상부에 소스 및 드레인 전극(335)이 형성된다. An interlayer insulating film 334 is formed so as to cover the gate electrode 333 and source and drain electrodes 335 are formed on the interlayer insulating film 334. [

소스 및 드레인 전극(335)은 게이트 절연막(332) 및 층간 절연막(334)에 형성된 컨택홀에 의해 활성층(331)의 소스 영역 및 드레인 영역에 각각 접촉된다.The source and drain electrodes 335 are respectively in contact with the source region and the drain region of the active layer 331 by the contact holes formed in the gate insulating film 332 and the interlayer insulating film 334. [

그리고, 소스 및 드레인 전극(335)에 유기 발광 소자(OLED)의 화소전극(321)이 연결된다. 화소전극(321)은 평탄화막(337) 상부에 형성되어 있으며, 이 화소전극(321)을 덮도록 화소정의막(Pixel defining layer: 338)이 형성된다. 그리고, 이 화소정의막(338)에 소정의 개구부가 형성된 후, 유기 발광 소자(OLED)의 유기발광층(326)이 형성되고, 그 위에 대향전극(327)이 증착된다.The pixel electrode 321 of the organic light emitting diode OLED is connected to the source and drain electrodes 335, respectively. The pixel electrode 321 is formed on the planarization layer 337 and a pixel defining layer 338 is formed to cover the pixel electrode 321. After the predetermined opening is formed in the pixel defining layer 338, the organic light emitting layer 326 of the organic light emitting element OLED is formed, and the counter electrode 327 is deposited thereon.

이중에서, 예컨대 상기 유기발광층(326)의 형성 시 상기 유공영역(111)의 패턴홀(111a)이 상기 유기발광층(326)에 대응하도록 상기한 마스크 프레임 조립체(100)를 준비해서 증착을 진행하면, 전술한 바와 같이 기판(200)과 마스크(110) 간의 밀착성이 좋기 때문에 정밀한 패턴을 얻을 수 있다. The mask frame assembly 100 is prepared and deposited so that the pattern hole 111a of the hole area 111 corresponds to the organic light emitting layer 326 when the organic light emitting layer 326 is formed, , As described above, since the adhesion between the substrate 200 and the mask 110 is good, a precise pattern can be obtained.

또한, 대향전극(327)의 경우에도 마찬가지로 그 패턴에 대응하도록 상기한 마스크 프레임 조립체(100)를 준비해서 사용하면, 기판(200)과 마스크(110)의 밀착성이 높아져서 정밀한 패턴을 얻을 수 있다.In the case of the counter electrode 327, if the mask frame assembly 100 described above is prepared and used in correspondence with the pattern, the adhesion between the substrate 200 and the mask 110 is increased and a precise pattern can be obtained.

이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the exemplary embodiments, and that various changes and modifications may be made therein without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

100: 마스크 프레임 조립체 110: 마스크
111: 유공영역 111a: 패턴홀
112: 무공영역 113: 클램핑영역
120: 프레임 200: 기판
400: 마그넷 500: 증착원
600: 챔버100: mask frame assembly 110: mask
111: hole region 111a: pattern hole
112: non-porous region 113: clamping region
120: frame 200: substrate
400: magnet 500: evaporation source
600: chamber

Claims

A mask in which a hole having a pattern hole and a non-hole area having no pattern hole are alternately arranged along one direction, and a frame to which the mask is coupled,
Wherein the non-porous area thickness of the mask is progressively thicker as it is away from the area of the aperture.

The method according to claim 1,
Wherein the mask is stretched along the one direction and both ends of the mask are coupled to the frame.

The method according to claim 1,
Wherein the mask comprises a plurality of divided, stick-shaped masks.

The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the non-porous region is symmetrical with respect to a center point between two adjacent perforated regions.

5. The method of claim 4,
Wherein the center point is the thickest portion in the non-porous region.

A mask frame assembly disposed on a first surface of the substrate facing the evaporation source, and a second mask disposed on a second surface of the substrate opposite to the first surface, the mask frame assembly being brought into close contact with the substrate by a magnetic force And a magnet,
Wherein the mask frame assembly includes a mask in which a hole area in which pattern holes are formed and a non-aperture area in which no pattern holes are formed are alternately arranged along one direction, and a frame to which the mask is coupled, The deposition apparatus gradually becomes thicker as the quality increases.

The method according to claim 6,
And a pressure plate for pressing the substrate between the substrate and the magnet.

The method according to claim 6,
Wherein the mask is stretched along the one direction and both ends of the mask are coupled to the frame.

The method according to claim 6,
Wherein the mask comprises a plurality of divided stick-shaped masks.

The method according to claim 6,
Wherein the thickness of the non-porous region is symmetrical with respect to a center point between two adjacent perforated regions.

11. The method of claim 10,
Wherein the center point is the thickest portion in the non-porous region.