KR20150090497A - Photosensitive resin composition - Google Patents

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KR20150090497A
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KR1020140011203A
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허근
나종호
권진
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롬엔드하스전자재료코리아유한회사
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Abstract

The present invention relates to a photosensitive resin composition including: (1) a copolymer; (2) a pearl pigment; (3) a polymerizable unsaturated compound; and (4) a photopolymerization initiator. When a hardening film is produced by using the photosensitive resin composition of the present invention, the produced hardening film exhibits hiding power and aesthetics, has excellent film flatness, and can be thinned. When a bezel is produced by using the same from a display device of various portable devices such as a mobile phone, a tablet PC, and the like and a display device such as a TV, a monitor, and the like, repeat reproducibility of a bezel position is excellent, so that multiple bezel units can be formed on a large-area cover member, thereby being Accordingly, the composition can be usefully used.

Description

감광성 수지 조성물{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}[0001] PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION [0002]

본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 액정표시장치(liquid crystal display; LCD) 및 다양한 포터블 디스플레이의 베젤의 제조에 유용하게 사용될 수 있는 펄 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition, and more particularly, to a photosensitive resin composition containing a pearl pigment that can be usefully used in the manufacture of a liquid crystal display (LCD) and a bezel of various portable displays.

휴대폰 및 태블릿 PC 등의 포터블 기기는 베젤 부위에 착색의 잉크가 프린팅된 커버글래스와 터치 센서가 합착된 상판, 및 기존의 액정표시장치 혹은 유기발광소자를 이용한 디스플레이 장치로 구성되어 있다. 이 중, 터치센서는 다층의 패터닝된 전도성 필름을 통하여 제작되어 왔으나 박막화 및 고정세화(高精細化)를 위하여 최근에는 커버글래스에 전도성 필름을 증착하고, 식각을 통해 패터닝을 한 후, 전도성 필름간 절연을 위한 열경화형 오버코트를 사용하는 형태로 발전해 오고 있다.Portable devices such as mobile phones and tablet PCs are composed of an upper plate on which a cover glass on which a colored ink is printed on a bezel and a touch sensor are cemented together, and a display device using an existing liquid crystal display device or an organic light emitting device. In recent years, a conductive film is deposited on a cover glass, patterned through etching, and then a conductive film is formed between the conductive film and the conductive film. Has developed into a form using a thermosetting overcoat for insulation.

이에 따라, 디스플레이 부분의 베젤에 해당하는 층이 터치센서의 첫번째 층이 되므로 전도성 패턴의 형성 및 절연층 형성시 필요한 고열 및 에칭 등을 위한 높은 수준의 내열 및 내화학 특성이 요구된다. Accordingly, since the layer corresponding to the bezel of the display portion becomes the first layer of the touch sensor, a high level of heat resistance and chemical resistance are required for the formation of the conductive pattern and the high temperature and etching required for forming the insulating layer.

또한, 기존의 스크린 인쇄를 통하여, 대면적을 가지는 커버글래스에 동시에 개별 제품 크기에 대응하는 다수의 베젤을 정확한 위치에서 구현하기에는 막의 평탄성, 베젤 위치의 반복 재현성 등에 있어서 문제점을 나타내므로, 이를 해결하기 위하여 감광성 수지를 이용하려는 시도가 있었다. Further, in order to realize a plurality of bezels corresponding to individual product sizes simultaneously at a precise position in a cover glass having a large area through conventional screen printing, problems are presented in the flatness of the film, repetitive reproducibility of the position of the bezel, Attempts have been made to use photosensitive resins.

한편, 백색 감광성 수지 조성물을 적용하여 제조된 백색 베젤의 경우에 박막이면서도 충분한 차광효과(은폐율)를 얻는 것이 쉽지 않았다.On the other hand, in the case of a white bezel manufactured by applying a white photosensitive resin composition, it is not easy to obtain a sufficient light shielding effect (concealment ratio) even though it is a thin film.

따라서, 본 발명의 목적은 제조된 경화막의 박막화가 가능하고, 막의 차광성이 우수한 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition which can be made into a thin film of a cured film and which is excellent in light shielding property of a film.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 (1) 공중합체; (2) 펄 안료; (3) 중합성 불포화 화합물; 및 (4) 광중합 개시제를 포함하는, 감광성 수지 조성물을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention relates to (1) a copolymer; (2) Pearl pigments; (3) a polymerizable unsaturated compound; And (4) a photopolymerization initiator.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 이를 이용하여 경화막을 제조할 경우, 제조된 경화막이 은폐력 및 심미감을 나타내고, 막의 평탄성이 우수하면서도, 박막화가 가능하며, 이를 이용하여 휴대폰, 태블릿 PC 등의 다양한 포터블 기기의 디스플레이 장치, 및 TV, 모니터 등의 디스플레이 장치의 베젤 제조시 베젤 위치의 반복 재현성이 뛰어나 대면적의 커버부재에 다수의 베젤 부위를 형성할 수 있으므로, 유용하게 사용될 수 있다. The photosensitive resin composition of the present invention shows a hiding power and aesthetics when the cured film is produced by using the cured film, and it is possible to make the film thinner with excellent flatness of the film. By using the cured film, various photosensitive devices such as mobile phones and tablet PCs A bezel of a display device such as a display device, a TV, and a monitor is excellent in repetitive reproducibility of the position of the bezel, so that a large number of bezel portions can be formed on a large-area cover member.

본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 (1) 공중합체; (2) 펄 안료; (3) 중합성 불포화 화합물; 및 (4) 광중합 개시제를 포함하며, 필요에 따라 (5) 백색 안료, (6) 실란 커플링제, (7) 계면활성제, 및/또는 (8) 용매를 추가로 포함할 수 있다.
The photosensitive resin composition according to the present invention comprises (1) a copolymer; (2) Pearl pigments; (3) a polymerizable unsaturated compound; And (4) a photopolymerization initiator and, if necessary, (5) a white pigment, (6) a silane coupling agent, (7) a surfactant, and / or (8) a solvent.

이하, 본 발명의 구성 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
Hereinafter, the constituent components of the present invention will be described in detail.

(1) 공중합체(1) Copolymer

상기 공중합체는 (1-1) 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 구성단위, 및 (1-2) 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되는 구성단위를 포함하며, 추가로 (1-3) 측쇄에 Si-O 골격을 포함하는 불포화 단량체로부터 유도되는 구성단위, 및/또는 (1-4) 상기 구성단위 (1-1) 내지 (1-3)과는 상이한 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되는 구성단위를 포함할 수 있다.
The copolymer includes (1-1) a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture thereof, and (1-2) a structural unit derived from an aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound And (1-4) a structural unit derived from an unsaturated monomer containing a Si-O skeleton in the side chain (1-3) and / or (1-4) a structural unit derived from the structural unit (1-1) May contain constituent units derived from different ethylenically unsaturated compounds.

(1-1) 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 구성단위 (1-1) a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture thereof

본 발명에서 구성단위 (1-1)은 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 혼합물로부터 유도되며, 상기 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 혼합물은 분자에 하나 이상의 카복실기가 있는 중합가능한 불포화 단량체로서, (메트)아크릴산, 크로톤산, 알파-클로로아크릴산 및 신남산과 같은 불포화 모노카복실산; 말레인산, 말레인산 무수물, 푸마르산, 이타콘산, 이타콘산 무수물, 시트라콘산, 시트라콘산 무수물 및 메사콘산과 같은 불포화 디카복실산 및 이의 무수물; 3가 이상의 불포화 폴리카복실산 및 이의 무수물; 및 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙시네이트 및 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]프탈레이트와 같은 2가 이상의 폴리카복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르 중에서 선택되는 적어도 1종 이상일 수 있다. 이중에서 특히 현상성 측면에서 바람직하게는 (메트)아크릴산일 수 있다.In the present invention, the constituent unit (1-1) is derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture thereof, wherein the ethylenically unsaturated carboxylic acid, ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, Unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, alpha-chloroacrylic acid and cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride and mesaconic acid, and anhydrides thereof; Unsaturated polycarboxylic acids of trivalent or more and their anhydrides; Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] acrylate of a dicarboxylic or higher polycarboxylic acid such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate and mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] And esters. Among them, (meth) acrylic acid can be preferably used from the viewpoint of developability.

상기 구성단위 (1-1)의 함량은 공중합체를 구성하는 총 구성단위 중, 5 내지 98 몰%일 수 있고, 양호한 현상성을 유지하기 위하여 바람직하게는 15 내지 50 몰%일 수 있다.The content of the constituent unit (1-1) may be from 5 to 98 mol% of the total constituent units constituting the copolymer, and preferably from 15 to 50 mol% in order to maintain good developing properties.

본 발명에서, (메트)아크릴 및 (메트)아크릴레이트의 용어는 각각 아크릴 및/또는 메타크릴, 및 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다.
In the present invention, the terms (meth) acrylate and (meth) acrylate refer to acrylic and / or methacrylic, and acrylate and / or methacrylate, respectively.

(1-2) 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되는 구성단위(1-2) a structural unit derived from an aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound

본 발명에서 구성단위 (1-2)는 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되며, 상기 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물은 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메트)아크릴레이트; 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌과 같은 알킬 치환기를 갖는 스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 요오드스티렌과 같은 할로겐을 갖는 스티렌; 메톡시스티렌, 에톡시스티렌, 프로폭시스티렌과 같은 알콕시 치환기를 갖는 스티렌; 4-히드록시스티렌, p-히드록시-α-메틸스티렌, 아세틸스티렌; 비닐톨루엔, 디비닐벤젠, 비닐페놀, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, 및 p-비닐벤질글리시딜에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다. 이중에서 특히 중합성 측면에서 바람직하게는 스티렌계 화합물일 수 있다.In the present invention, the structural unit (1-2) is derived from an aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound, and the aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound is selected from the group consisting of phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, p-nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, p-nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) Acrylate; Styrene; Styrene having alkyl substituents such as methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, triethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, heptylstyrene and octylstyrene; Styrene having a halogen such as fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, and iodostyrene; Styrene having an alkoxy substituent such as methoxystyrene, ethoxystyrene, propoxystyrene; 4-hydroxystyrene, p-hydroxy-a-methylstyrene, acetyl styrene; Vinyl benzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, and p-vinylbenzyl glycidyl ether, and the like. Of these, styrene-based compounds are preferable in view of polymerizability.

상기 구성단위(1-2)의 함량은 공중합체를 구성하는 총 구성단위 중 2 내지 95 몰%일 수 있고, 내화학성 측면에서 바람직하게는 10 내지 60 몰%일 수 있다.
The content of the constituent unit (1-2) may be from 2 to 95 mol% of the total constituent units constituting the copolymer, and preferably from 10 to 60 mol% from the viewpoint of the chemical resistance.

(1-3) 측쇄에 Si-O 골격을 포함하는 불포화 단량체로부터 유도되는 구성단위(1-3) a structural unit derived from an unsaturated monomer containing a Si-O skeleton in a side chain

본 발명에서 구성단위 (1-3)은 측쇄에 Si-O 골격을 포함하는 불포화 단량체로부터 유도되며, 상기 측쇄에 Si-O 골격을 포함하는 불포화 단량체는 하기 화학식 1로 표시되는 것일 수 있다.In the present invention, the constituent unit (1-3) may be derived from an unsaturated monomer containing a Si-O skeleton in its side chain, and the unsaturated monomer containing a Si-O skeleton in the side chain may be represented by the following formula (1).

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서, In Formula 1,

R1은 수소, 또는 탄소수 1 내지 8의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기이고, R2은 단일결합 또는 탄소수 1 내지 5개의 알킬렌기이고, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 18의 아릴기이고, R5는 수소, 메틸기, 또는 에틸기이며, n은 2 내지 20의 정수이다.
R 1 is hydrogen or a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 is a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 3 and R 4 are each independently hydrogen, Branched or cyclic alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, R 5 is hydrogen, a methyl group or an ethyl group, and n is an integer of 2 to 20.

(1-4) 상기 구성단위 (1-1) 내지 (1-3)과는 상이한 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되는 구성단위(1-4) Structural unit derived from an ethylenically unsaturated compound which is different from the above-mentioned constituent units (1-1) to (1-3)

본 발명에서 구성단위 (1-4)는 상기 구성단위 (1-1) 내지 (1-3)과는 상이한 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되며, 구체적인 예로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메트)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜)메틸에테르(메트)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필(메트)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메트)아크릴레이트, 이소보닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트를 포함하는 불포화 카복실산 에스테르류; N-비닐피롤리돈, N-비닐카바졸 및 N-비닐모폴린과 같은 N-비닐을 포함하는 N-비닐 삼차아민류; 비닐메틸에테르 및 비닐에틸에테르를 포함하는 불포화 에테르류; 글리시딜(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메트)아크릴레이트, 4,5-에폭시펜틸(메트)아크릴레이트, 5,6-에폭시헥실(메트)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸(메트)아크릴레이트, 2,3-에폭시시클로펜틸(메트)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메트)아크릴레이트, α-에틸글리시딜아크릴레이트, α-n-프로필글리시딜아크릴레이트, α-n-부틸글리시딜아크릴레이트, N-(4-(1,3-에폭시프로폭시)-3,5-디메틸벤질)아크릴아미드, N-(4-2,3-에폭시프로폭시)-3,5-디메틸페닐프로필)아크릴아미드, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, 2-메틸알릴글리시딜에테르 등의 에폭시기를 1개 이상 포함하는 불포화 단량체; N-페닐말레이미드, N-(4-클로로페닐)말레이미드, N-(4-히드록시페닐)말레이미드 및 N-시클로헥실말레이미드를 포함하는 불포화 이미드류로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종 이상일 수 있고, 특히, 공중합성 및 절연막의 강도 향상 측면에서 에폭시기를 포함하는 에틸렌성 불포화 화합물일 수 있으며, 바람직하게는 글리시딜(메트)아크릴레이트일 수 있다. In the present invention, the structural unit (1-4) is derived from an ethylenically unsaturated compound which is different from the structural units (1-1) to (1-3), and specific examples thereof include methyl (meth) acrylate, ethyl Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl (meth) (Meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (a-hydroxy) methyl acrylate, propyl? -Hydroxymethylacrylate, butyl? -Hydroxymethylacrylate , 2-methoxy (Meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethyleneglycol (meth) acrylate, (Ethylene glycol) methyl ether (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl Acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, isobonyl ) Acrylates, unsaturated carboxylic acid esters including dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate; N-vinyl tertiary amines including N-vinyl, such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole and N-vinylmorpholine; Unsaturated ethers including vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether; (Meth) acrylate, 5,6-epoxyhexyl (meth) acrylate, 6,7-epoxy (meth) acrylate, (Meth) acrylate,? -Ethylglycidyl acrylate,? -N-propylglycidyl (meth) acrylate, Acrylate,? -N-butylglycidyl acrylate, N- (4- (1,3-epoxypropoxy) -3,5-dimethylbenzyl) acrylamide, N- One or more epoxy groups such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, Unsaturated monomers including; Unsaturated imides including N-phenylmaleimide, N- (4-chlorophenyl) maleimide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide and N-cyclohexylmaleimide. In particular, it may be an ethylenically unsaturated compound including an epoxy group in terms of copolymerization and strength improvement of an insulating film, and may preferably be glycidyl (meth) acrylate.

상기 구성단위(1-3)의 함량, 또는 상기 구성단위(1-4)의 함량은 공중합체를 구성하는 총 구성단위 중 0 내지 60 몰%일 수 있고, 바람직하게는 10 내지 55 몰%일 수 있다. 상기 범위에서 감광성 수지 조성물의 저장안정성이 유지되고, 도막의 내열성, 잔막률이 향상된다.
The content of the constituent unit (1-3) or the content of the constituent unit (1-4) may be 0 to 60 mol%, preferably 10 to 55 mol%, of the total constituent units constituting the copolymer . Within the above range, the storage stability of the photosensitive resin composition is maintained, and the heat resistance and residual film ratio of the coating film are improved.

본 발명에서 사용되는 공중합체는 분자량 조절제, 중합 개시제, 용매, 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 혼합물, 및 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물을 넣고, 필요에 따라 측쇄에 Si-O 골격을 포함하는 불포화 단량체 또는 기타의 에틸렌성 불포화 화합물을 넣고 질소를 투입한 후, 서서히 교반하면서 중합시켜 제조될 수 있다. 제조된 공중합체의 겔투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출 용매로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 3,000 내지 50,000일 수 있고, 바람직하게는 5,000 내지 40,000일 수 있다. 상기 범위에서 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며 점도가 적절하게 된다.The copolymer used in the present invention may be prepared by adding a molecular weight regulator, a polymerization initiator, a solvent, an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture thereof, and an aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound, O skeleton, or other ethylenically unsaturated compound, into which nitrogen is added, followed by polymerization while slowly stirring. The weight average molecular weight (Mw) of the prepared copolymer in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC; tetrahydrofuran as an elution solvent) may be 3,000 to 50,000, preferably 5,000 to 40,000 . In the above range, adhesion with the substrate is excellent, physical and chemical properties are good, and viscosity is appropriate.

상기 분자량 조절제는 특별히 한정되지 않으나, 부틸메캅탄, 옥틸메캅탄 등의 메캅탄 화합물 또는 α-메틸스티렌다이머일 수 있다.The molecular weight modifier is not particularly limited, but may be a mercaptan compound such as butylmercaptan, octylmercaptan or the like or? -Methylstyrene dimer.

상기 중합 개시제는 특별히 한정되지 않으나, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 또는 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 디아조 화합물, 및 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트 또는 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로헥산일 수 있다.The polymerization initiator is not particularly limited, Diazo compounds such as 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) or 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), and benzoyl peroxide , Lauryl peroxide, t-butyl peroxypivalate or 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane.

또한, 상기 용매는 공중합체의 제조에 사용되는 것이면 어느 것이나 사용 가능하나, 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)일 수 있다.The solvent may be any solvent used in the production of the copolymer, preferably propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA).

상기 공중합체는 감광성 수지 조성물에 단독으로 또는 2종 이상 함유될 수 있다. 상기 공중합체는 현상단계에서는 현상성을 구현하는 알칼리 가용성 수지이면서, 또한 코팅 후 도막을 형성하는 기저 역할 및 최종 패턴을 구현하는 구조물 역할을 할 수 있다.The copolymer may be contained in the photosensitive resin composition alone or in combination of two or more. The copolymer may be an alkali-soluble resin that realizes developability in the development step, and may serve as a base for performing a base role of forming a coating film after coating and a final pattern.

사용되는 공중합체의 함량은 용매를 제외한 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 0.5 내지 60 중량%일 수 있고, 바람직하게는 2 내지 50 중량%일 수 있다. 상기의 범위이면 현상 후의 패턴 현상이 양호하고, 내열성, 내화학성 등의 특성이 향상된다.
The content of the copolymer used may be 0.5 to 60% by weight, preferably 2 to 50% by weight, based on the total weight of the photosensitive resin composition excluding the solvent (based on the solid content). Within the above-mentioned range, pattern development after development is favorable, and properties such as heat resistance and chemical resistance are improved.

(2) 펄 안료(2) Pearl pigment

본 발명의 감광성 수지 조성물은 경화막을 형성하여 베젤로 이용시 은폐율을 증가시키고, 광학밀도를 높이기 위해 펄 안료를 포함한다. 본 발명에서 사용되는 펄 안료는 광산란성 물질로 반사광을 흩어지게 하여 난반사를 증가시켜, 은폐율을 증가시킨다. The photosensitive resin composition of the present invention includes a pearl pigment to increase a concealment ratio when used as a bead to form a cured film and to increase optical density. The pearl pigment used in the present invention disperses the reflected light with a light-scattering substance to increase diffuse reflection, thereby increasing the concealment rate.

상기 펄 안료로서는 예컨대 Magnapearl® Exterior CFS 3103, MagnaPearl® Exterior CFS 1103, Glacier™ Frost White EH 568 (S1303D), Mearlin® Satin White 139F, Mearlin® Bright Silver 1303Z, Mearlin® Sparkle 139P, Firemist White Pearl, Mearlin® Nu-Antique Silver 등을 들 수 있다. Examples of the pearl pigments such as Magnapearl ® Exterior CFS 3103, MagnaPearl ® Exterior CFS 1103, Glacier ™ Frost White EH 568 (S1303D), Mearlin ® Satin White 139F, Mearlin ® Bright Silver 1303Z, Mearlin ® Sparkle 139P, Firemist White Pearl, Mearlin ® Nu-Antique Silver and the like.

상기 펄 안료를 유효하게 분산하게 하기 위해서 분산제를 병용할 수 있다. 상기 분산제로는 특별히 제한되지 않으며, 본 발명의 추가의 구성요소인 백색 안료의 항목에 기재된 분산제를 적용할 수 있다.A dispersing agent may be used in combination in order to effectively disperse the pearl pigment. The dispersing agent is not particularly limited, and the dispersing agent described in the item of white pigment, which is a further component of the present invention, can be applied.

상기 펄 안료의 함량은 용매를 제외한 상기 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 5 내지 60 중량%일 수 있고, 바람직하게는 10 내지 40 중량%일 수 있다. 상기 범위이면 은폐율 특성을 개선시킬 수 있고, 높은 광학 밀도를 구현할 수 있다.
The content of the pearl pigment may be 5 to 60% by weight, preferably 10 to 40% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition excluding the solvent (based on the solid content). In the above range, the concealment rate characteristic can be improved, and a high optical density can be realized.

(3) 중합성 불포화 화합물 (3) Polymerizable unsaturated compound

상기 중합성 불포화 화합물은 중합 개시제의 작용으로 중합될 수 있는 화합물로서, 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 모노머, 올리고머 또는 중합체로서, 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 가지는 아크릴산 또는 메타크릴산의 단관능 또는 다관능 에스테르 화합물을 포함할 수 있지만, 내화학성 측면에서 바람직하게는 2관능 이상의 다관능성 화합물일 수 있다.The polymerizable unsaturated compound is a compound which can be polymerized by the action of a polymerization initiator, and is a monomer, oligomer or polymer generally used in a photosensitive resin composition, and may be a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid having at least one ethylenic unsaturated double bond Functional or multifunctional ester compound, but from the viewpoint of chemical resistance, it may preferably be a multifunctional compound having two or more functional groups.

상기 중합성 불포화 화합물은 반응성 불포화 화합물로서 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트(펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트의 반응물), 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 에폭시아크릴레이트, 및 에틸렌글리콜모노메틸에테르아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Wherein the polymerizable unsaturated compound is at least one selected from the group consisting of ethyleneglycol di (meth) acrylate, propyleneglycol di (meth) acrylate, diethyleneglycol di (meth) acrylate, triethyleneglycol di (meth) (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, monoesters of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and succinic acid, caprolactone-modified di (Reaction product of pentaerythritol triacrylate and hexamethylene diisocyanate), tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate (reaction product of pentaerythritol triacrylate and hexamethylene diisocyanate), tripentaerythritol But are not limited to, at least one selected from the group consisting of lithol octa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy acrylate, and ethylene glycol monomethyl ether acrylate.

상기 중합성 불포화 화합물이 올리고머 또는 중합체로 사용되는 경우 6,000 내지 10,000의 중량평균분자량을 가질 수 있다. When the polymerizable unsaturated compound is used as an oligomer or polymer, it may have a weight average molecular weight of 6,000 to 10,000.

상기 중합성 화합물의 함량은 용매를 제외한 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분)에 대하여 5 내지 60 중량%, 바람직하게는 10 내지 55 중량%일 수 있다. 상기의 범위 내일 경우 패턴 형성이 용이하며, 도막 형성 후 도막 표면이 거칠어지지 않고 패턴 윤곽이 우수하며, 현상시 하단부에 스컴(scum) 등의 패턴형상의 문제가 발생하지 않는다.
The content of the polymerizable compound may be 5 to 60% by weight, preferably 10 to 55% by weight based on the total weight (solid content) of the photosensitive resin composition excluding the solvent. When the thickness is within the above range, the pattern is easily formed, the surface of the coated film is not roughened after formation of the coating film, the pattern outline is excellent, and the problem of the pattern shape such as scum is not generated at the lower end during development.

(4) 광중합 개시제(4) Photopolymerization initiator

본 발명의 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제를 포함하며, 당 분야에 사용되는 광중합 개시제라면 제한되지 않는다. The photosensitive resin composition of the present invention includes a photopolymerization initiator and is not limited as long as it is a photopolymerization initiator used in the art.

상기 광중합 개시제의 예로서는 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 오늄염계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 디케톤계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 디아조계 화합물, 이미드설포네이트계 화합물, 옥심계 화합물, 카바졸계 화합물, 설포늄 보레이트계 화합물, 및 이들의 혼합물로 이루어진 광중합 개시제를 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include an acetophenone based compound, a nonimidazole based compound, a triazine based compound, an onium salt based compound, a benzoin based compound, a benzophenone based compound, a diketone based compound, an? - diketone based compound, a polynuclear quinone based compound, A photopolymerization initiator comprising an acid-tonide compound, a diazo compound, an imide sulfonate compound, an oxime compound, a carbazole compound, a sulfonium borate compound, and a mixture thereof.

또한, KR 2004-0007700, KR 2005-0084149, KR 2008-0083650, KR 2008-0080208, KR 2007-0044062, KR 2007-0091110, KR 2007-0044753, KR 2009-0009991,KR 2009-0093933, KR 2010-0097658, KR 2011-0059525, KR 2011-0091742, KR 2011-0026467, KR 2011-0015683, WO 2010/102502, WO 2010/133077에 기재된 옥심계 화합물 중의 1종 이상을 사용하는 것이 고감도의 측면에서 바람직하다. 이들의 상품명으로서는 OXE-01(BASF), OXE-02(BASF), N-1919(ADEKA), NCI-930(ADEKA), NCI-831(ADEKA) 등을 들 수 있다.In addition, in accordance with the present invention, there is provided a method for producing a compound of formula (I) as described in JP-A 2004-0007700, KR 2005-0084149, KR 2008-0083650, KR 2008-0080208, KR 2007-0044062, KR 2007-0091110, KR 2007-0044753, KR 2009-0009991, KR 2009-0093933, It is preferable to use at least one of the oxime compounds described in JP-A No. 0097658, KR 2011-0099542, KR 2011-0026467, KR 2011-0015683, WO 2010/102502, and WO 2010/133077 from the viewpoint of high sensitivity . Examples of these trade names include OXE-01 (BASF), OXE-02 (BASF), N-1919 (ADEKA), NCI-930 (ADEKA) and NCI-831 (ADEKA).

상기 광중합 개시제는 용매를 제외한 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 5 중량%의 양으로 사용할 수 있다. 상기 범위에서 노광에 의해 경화가 충분히 달성되어, 우수한 패턴 마진 특성을 얻기 용이하며 기판과 충분히 밀착될 수 있다.
The photopolymerization initiator may be used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.2 to 5% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition excluding the solvent (based on the solid content). In this range, curing is sufficiently achieved by exposure, and it is easy to obtain excellent pattern margin characteristics and can be sufficiently adhered to the substrate.

(5) 백색 안료(5) white pigment

본 발명의 감광성 수지 조성물은 베젤 형성시 차광성을 부여하기 위한 착색제로서 백색 안료를 포함한다. The photosensitive resin composition of the present invention comprises a white pigment as a coloring agent for imparting light shielding property when forming a bezel.

상기 백색 안료로는 무기 안료로 발색성이 높고 내열성이 높은 안료가 바람직하다. As the white pigment, a pigment having high coloring property and high heat resistance is preferably used as the inorganic pigment.

상기 무기 안료로는 공지의 것이라면 어느 것이라도 사용가능하며, 무기 안료의 구체예로는 산화티탄, 황산바륨, 활석, 탄산바륨, 탄산 석탄분, 실리카, 알칼리성 탄산마그네슘, 알루미나 화이트, 그로스 화이트, 및 새틴 화이트로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종 이상을 들 수 있고, 그 중에서도 광학 밀도 면에서 산화티탄이 바람직하다. Specific examples of the inorganic pigments include titanium oxide, barium sulfate, talc, barium carbonate, carbonated coal powder, silica, alkaline magnesium carbonate, alumina white, gross white, and the like. And satin white. Of these, titanium oxide is preferable in terms of optical density.

한편, 본 발명의 감광성 수지 조성물에 백색 안료를 분산시키기 위해 분산제를 사용할 수 있다. 상기 분산제는 안료 분산제로 공지된 것이면 어느 것이라도 사용할 수 있으며, 구체적인 예로는 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제를 들 수 있다. 시판되는 분산제로는 BYK사의 Disperbyk-182, Disperbyk-183, Disperbyk-184, Disperbyk-185, Disperbyk-2000, Disperbyk-2150, Disperbyk-2155, Disperbyk-2163, Disperbyk-2164 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Meanwhile, a dispersant may be used to disperse the white pigment in the photosensitive resin composition of the present invention. The dispersant may be any of those known as pigment dispersants. Specific examples thereof include a cationic surfactant, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, a silicone surfactant, and a fluorinated surfactant. have. Commercially available dispersing agents include Disperbyk-182, Disperbyk-183, Disperbyk-184, Disperbyk-185, Disperbyk-2000, Disperbyk-2150, Disperbyk-2155, Disperbyk-2163 and Disperbyk-2164 of BYK. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 분산제는 미리 백색 안료에 표면 처리하는 방식으로 백색 안료에 내부 첨가시켜 사용하거나, 백색 안료와 함께 감광성 수지 조성물 제조시에 첨가하여 사용할 수도 있다. The dispersing agent may be added to the white pigment in advance in a manner of surface-treating the white pigment, or may be used in the production of the photosensitive resin composition together with the white pigment.

상기 백색 안료를 바인더와 함께 혼합한 후, 감광성 수지 조성물의 제조에 사용할 수 있다. 이때 사용되는 바인더는 본 발명에 기재된 상기 (1) 공중합체 또는 공지의 공중합체 중에서 선택되는 1종 이상의 물질일 수 있다.After mixing the white pigment with the binder, it may be used in the production of a photosensitive resin composition. The binder used herein may be one or more materials selected from the above-mentioned (1) copolymer or a known copolymer as described in the present invention.

상기 백색 안료의 함량은 용매를 제외한 상기 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 5 내지 75 중량%일 수 있고, 바람직하게는 10 내지 65 중량%일 수 있다.The content of the white pigment may be 5 to 75% by weight, preferably 10 to 65% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition excluding the solvent (based on the solid content).

상기 백색 안료의 함량이 상기 범위이면 광학 밀도가 너무 낮아지는 것을 방지할 수 있고, 높은 광학 밀도의 달성과 함께 현상성 등과 같은 공정성의 개선 효과가 있다.
When the content of the white pigment is within the above range, it is possible to prevent the optical density from becoming too low, achieve high optical density, and improve the processability such as developability.

(6) 계면활성제 (6) Surfactant

본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라, 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면활성제를 추가로 포함할 수 있다. 상기 계면활성제의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제일 수 있다. 상기 불소계 계면활성제의 시판품으로서는 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등을 들 수 있다. 상기 실리콘계 계면활성제의 시판품으로서는 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400, GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등, 및 BYK사의 BYK 333 등을 들 수 있다. 이 중, 분산성의 면에서 바람직하게는 BYK사의 BYK 333가 사용될 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition of the present invention may further contain a surfactant, if necessary, for improving coating properties and preventing defect formation. The kind of the surfactant is not particularly limited, but it may preferably be a fluorine-based surfactant or a silicon-based surfactant. Examples of commercial products of the above fluorine-based surfactants include Megafiz F-470, F-471, F-475, F-482 and F-489 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated. Examples of commercially available silicone surfactants include DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400, and TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460 and TSF-4452 of GE Toshiba Silicone Co., , BYK 333 manufactured by BYK, and the like. Of these, BYK 333 manufactured by BYK Corporation may be preferably used in terms of dispersibility. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 계면활성제는 용매를 제외한 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%의 양으로 사용할 수 있다. 상기 범위이면 감광성 수지 조성물의 코팅이 원활하게 된다.
The surfactant may be used in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition excluding the solvent (based on the solid content). Within the above range, coating of the photosensitive resin composition is smooth.

(7) 실란 커플링제(7) Silane coupling agent

본 발명의 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 실란 커플링제를 추가로 포함할 수 있다. 이러한 실란 커플링제는 예를 들면, 카르복실기, (메트)아크릴로일기, 이소시아네이트기, 아미노기, 머캅토기, 비닐기, 에폭시기 및 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 반응성 치환기를 가질 수 있다.The photosensitive resin composition of the present invention may further include a silane coupling agent to improve the adhesiveness with the substrate. Such a silane coupling agent may have at least one reactive substituent selected from the group consisting of a carboxyl group, a (meth) acryloyl group, an isocyanate group, an amino group, a mercapto group, a vinyl group, an epoxy group and a combination thereof.

상기 실란 커플링제의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이토프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, N-페닐아미노프로필트리메톡시실란 및 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 1종 이상이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 잔막율을 향상시키면서 기판과의 접착성이 좋은 γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 또는 N-페닐아미노프로필트리메톡시실란이 사용될 수 있다. 또한, 내화학성의 향상을 위해서 이소시아네이트기를 갖는 γ-이소시아네이토프로필트리에톡시실란(Shin-Etsu사의 KBE-9007)이 사용될 수도 있다.The type of the silane coupling agent is not particularly limited, and examples thereof include trimethoxysilylbenzoic acid,? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane,? -Isocyanatopropyltri Glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -Glycidoxypropyltriethoxysilane, N-phenylaminopropyltrimethoxysilane and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy Silane, and preferably at least one selected from the group consisting of? -Glycidoxypropyltriethoxysilane and? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane which have good adhesion to the substrate while improving the residual film ratio Or N-phenylaminopropyltrimethoxysilane can be used. To improve the chemical resistance,? -Isocyanatopropyltriethoxysilane (KBE-9007, Shin-Etsu) having an isocyanate group may also be used.

상기 실란 커플링제의 함량은 용매를 제외한 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%일 수 있다. 상기의 범위이면 감광성 수지 조성물의 접착성이 향상될 수 있다.
The content of the silane coupling agent may be 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition excluding the solvent (based on the solid content). Within the above range, the adhesive property of the photosensitive resin composition can be improved.

(8) 용매 (8) Solvent

본 발명의 감광성 수지 조성물은 통상적인 방법에 의해 제조될 수 있으며, 바람직하게는 상기한 성분들을 용매와 혼합한 액상 조성물로 제조될 수 있다. 상기 용매로는 전술한 감광성 수지 조성물 성분들과 상용성을 가지되 이들과 반응하지 않는 것으로서, 감광성 수지 조성물에 사용되는 공지의 용매이면 어느 것이나 사용 가능하다. The photosensitive resin composition of the present invention may be prepared by a conventional method, and preferably, a liquid composition in which the above-mentioned components are mixed with a solvent. The solvent is compatible with the above-described photosensitive resin composition components and does not react with the above photosensitive resin composition components, and any known solvent used in the photosensitive resin composition can be used.

이러한 용매의 예로는 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 2-히드록시프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 디에틸렌글리콜류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류 등을 들 수 있다. 상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수 있다.Examples of such solvents include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Diethylene glycol such as diethylene glycol monomethyl ether; And propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 얻어지는 감광성 수지 조성물의 도포성, 안정성 등의 관점에서, 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 통상적으로 5 내지 70 중량%가 되는 양일 수 있고, 바람직하게는 10 내지 55 중량%가 되는 양일 수 있다.
The content of the solvent is not particularly limited and may be an amount such that the total concentration of each component other than the solvent of the composition is usually from 5 to 70% by weight from the standpoint of coatability, stability and the like of the resulting photosensitive resin composition, By weight is 10 to 55% by weight.

이 외에도, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 물성을 저하시키지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타의 첨가제를 포함할 수 있다.
In addition, the photosensitive resin composition of the present invention may contain other additives such as an antioxidant and a stabilizer within a range not lowering the physical properties.

본 발명의 감광성 수지 조성물의 제조 방법의 일례로는 다음과 같은 방법을 예시할 수 있다. As an example of the method for producing the photosensitive resin composition of the present invention, the following method can be exemplified.

먼저 펄 안료를 미리 용매와 혼합하여 펄 안료의 평균 입경이 원하는 수준으로 될 때까지 비드밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 펄 안료 외에 필요에 따라 백색 안료를 사용하는 경우, 함께 혼합하여 분산시킬 수도 있고, 펄 안료를 포함하는 분산액과 백색 안료를 포함하는 분산액을 각각 제조한 후 감광성 수지 조성물 제조에 사용할 수도 있다.First, the pearl pigment is mixed with the solvent in advance and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the pearl pigment reaches a desired level. In this case, in addition to the pearlescent pigment, white pigments may be mixed and dispersed together if necessary. Alternatively, dispersions containing pearlescent pigments and dispersions containing white pigments may be respectively prepared and used in the production of photosensitive resin compositions.

필요에 따라 계면활성제를 함께 사용할 수 있고, 또한 공중합체의 일부 또는 전부가 배합될 수도 있다. 얻어진 분산액에 공중합체, 중합성 불포화 화합물, 광중합 개시제를 첨가하고, 필요에 따라 실란 커플링제 등의 첨가제 또는 추가의 용매를 소정의 농도가 되도록 더 배합한 후, 충분히 교반하여 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다.
Surfactants may be used together if necessary, and some or all of the copolymer may be blended. A copolymer, a polymerizable unsaturated compound and a photopolymerization initiator are added to the resulting dispersion, and if necessary, an additive such as a silane coupling agent or an additional solvent is further added so as to have a predetermined concentration, and the mixture is sufficiently stirred to obtain a photosensitive resin composition have.

상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 경화막을 제조하는 방법의 일례로는 다음과 같은 방법을 예시할 수 있다. As an example of a method for producing a cured film using the above photosensitive resin composition, the following method can be exemplified.

상기 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코팅법, 롤 코팅법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께, 예를 들어 1 내지 25 ㎛의 두께로 도포한 후, 70 내지 90 ℃의 온도에서 1 내지 10분 동안 가열하여 용매를 제거함으로써 도막을 형성할 수 있다. The photosensitive resin composition is coated on a predetermined pretreated substrate by a spin or slit coating method, a roll coating method, a screen printing method, an applicator method or the like to a desired thickness, for example, a thickness of 1 to 25 μm And then the solvent is removed by heating at a temperature of 70 to 90 DEG C for 1 to 10 minutes to form a coating film.

상기 얻어진 도막에 필요한 패턴 형성을 위해 소정 형태의 마스크를 개재한 뒤, 200 내지 500 nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다. 노광량은 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 고압 수은등을 사용하는 경우에는 500 mJ/cm2 (365 nm 파장에서) 이하일 수 있다. In order to form a pattern necessary for the obtained coating film, a mask of a predetermined type is interposed, and an active line of 200 to 500 nm is irradiated. As the light source used for the irradiation, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, and the like can be used. The exposure dose varies depending on the kind of each component of the composition, the blending amount and the dried film thickness, but may be 500 mJ / cm 2 (at a wavelength of 365 nm) or less when a high-pressure mercury lamp is used.

상기 노광 단계에 이어, 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드 등의 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성시킬 수 있다. 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 상온까지 식힌 후에, 열풍순환식 건조로에서 180℃ 내지 250℃에서 10 내지 60분간 후경화(post-bake)하여 경화막을 얻을 수 있다. 상기 경화막은 1.5 ㎛의 두께에서 5% 이상, 보다 바람직하게는 8% 이상의 은폐율을 나타내며, 백색 안료를 포함하는 경화막이 적층되는 경우, 더욱 효율적인 특성을 나타낼 수 있다. Following the above exposure step, an unnecessary portion is dissolved and removed by using an alkaline aqueous solution of sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, or the like as a developing solution, so that only the exposed portion can be left to form a pattern. After the image pattern obtained by the development is cooled to room temperature, it is post-baked at 180 ° C to 250 ° C for 10 to 60 minutes in a hot air circulation type drying furnace to obtain a cured film. The cured film exhibits a concealment ratio of 5% or more, more preferably 8% or more at a thickness of 1.5 탆, and can exhibit more efficient characteristics when a cured film including a white pigment is laminated.

즉, 본 발명의 감광성 수지 조성물을 이용하여 경화막을 형성하는 경우, 필요에 따라, 상기 펄 안료 대신 백색 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제조한 후, 상기 펄 안료를 포함하는 경화막 상에 상기 조성물을 도포, 광조사, 현상 및 경화로 이어지는 일련의 과정을 통해 백색 경화막을 적층함으로써, 펄 안료를 포함하는 경화막과 백색 안료를 포함하는 경화막이 적층된 복합 형태의 막을 제조할 수 있다. That is, in the case of forming a cured film by using the photosensitive resin composition of the present invention, a photosensitive resin composition containing a white pigment may be prepared, if necessary, in place of the pearl pigment, And a white cured film is laminated through a series of processes including coating, light irradiation, development and curing, so that a composite film in which a cured film containing a pearl pigment and a cured film containing a white pigment are laminated can be manufactured.

따라서, 본 발명은 (1) 공중합체, (2) 펄 안료, (3) 중합성 불포화 화합물 및 (4) 광중합 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물로부터 수득된 제1 경화막, 및 (1) 공중합체, (3) 중합성 불포화 화합물, (4) 광중합 개시제 및 (5) 백색 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물로부터 수득된 제2 경화막을 포함하는 복합 경화막을 제공한다. Accordingly, the present invention provides a first cured film obtained from a photosensitive resin composition comprising (1) a copolymer, (2) a pearl pigment, (3) a polymerizable unsaturated compound, and (4) a photopolymerization initiator, and (1) , (3) a polymerizable unsaturated compound, (4) a photopolymerization initiator, and (5) a white pigment.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 이를 이용하여 경화막을 제조할 경우, 제조된 경화막이 은폐력 및 심미감을 나타내고, 막의 평탄성이 우수하면서도, 박막화가 가능하다. When the cured film is produced using the photosensitive resin composition of the present invention, the cured film produced exhibits a hiding power and aesthetics, and the film can be made thin, while the flatness of the film is excellent.

또한, 상기 감광성 수지 조성물을 휴대폰, 태블릿 PC 등의 다양한 포터블 기기의 디스플레이 장치, 및 TV, 모니터 등의 디스플레이 장치의 베젤 부위 형성에 적용할 수 있고, 이때 베젤 위치의 반복 재현성이 뛰어나, 대면적의 커버 부재에 수치안정적으로 다수의 베젤 부위를 형성할 수 있다. 또한, 펄 안료를 포함함으로써 심미감을 발휘할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 감광성 수지 조성물에 백색 안료를 추가로 포함하여 경화막을 형성하거나, 펄 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물로 형성된 경화막에 백색 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물 형성된 경화막을 적층한 복합 형태를 구성함으로써, 베젤이 충분한 은폐율을 나타내도록 하면서, 동시에 박막화를 달성할 수 있다. Further, the photosensitive resin composition can be applied to the formation of a bezel portion of a display device of a variety of portable devices such as a mobile phone, a tablet PC, and a display device such as a TV and a monitor. In this case, A plurality of bezel portions can be formed in a numerical stability in the cover member. In addition, not only is it possible to exhibit aesthetic sensation by including a pearl pigment, but also a cured film can be formed by further including a white pigment in the photosensitive resin composition, or a cured film formed from a photosensitive resin composition containing a pearl pigment, By constituting the composite form in which the cured film formed by the photosensitive resin composition is laminated, thinning can be achieved at the same time while the bezel exhibits a sufficient concealment ratio.

따라서, 본 발명은 상기 디스플레이 장치의 베젤 및 이를 포함하는 커버 부재를 제공한다. Accordingly, the present invention provides a bezel of the display device and a cover member including the bezel.

본 발명의 디스플레이 장치는 본 발명의 디스플레이 장치용 커버 부재를 구비한 것을 제외하고는 본 발명의 기술분야에서 당업자에게 알려진 구성을 포함할 수 있다. 즉, 본 발명의 디스플레이 장치의 베젤 및 이를 포함하는 커버 부재를 적용할 수 있는 디스플레이 장치는 모두 본 발명에 포함될 수 있다.
The display device of the present invention may include a configuration known to those skilled in the art, except for having a cover member for a display device of the present invention. That is, the bezel of the display device of the present invention and the display device to which the cover member including the bezel can be applied can all be included in the present invention.

이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 좀 더 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples are intended to illustrate the present invention, but the scope of the present invention is not limited thereto.

하기 제조예에 기재된 중량평균분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값이다.
The weight average molecular weight described in the following Production Examples is a polystyrene reduced value measured by gel permeation chromatography (GPC).

제조예Manufacturing example 1: 공중합체 A의 제조 1: Preparation of copolymer A

온도계, 냉각관, 질소 가스 도입관, 및 교반기를 장착한 4구 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 400 중량부를 도입하고 80 ℃로 승온시킨 뒤, 반응 용기 내를 질소로 치환한 후, 적하관으로부터 2,2'-아조비스 이소부티로니트릴 2 중량부, 벤질메타크릴레이트 57 중량부, 메타크릴산 13 중량부, 메타크릴옥시폴리실록산(제품명 silaplane TM0701, 치소사제) 30 중량부의 혼합물을 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 종료 후, 추가로 3시간 반응을 계속하여, 중량평균분자량(Mw) 12,500의 측쇄에 실록산 골격을 갖는 아크릴 공중합체 수지 용액을 얻었다. 실온까지 냉각한 후, 수지 용액 약 2 중량부를 샘플링 하여 180 ℃에서 20분간 가열 건조한 후 고형분을 측정하고, 먼저 합성한 수지 용액에 고형분이 20중량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 첨가하여 공중합체 A를 얻었다.
400 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was introduced into a four-necked flask equipped with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas introducing tube and a stirrer and heated to 80 DEG C, A mixture of 2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile, 57 parts by weight of benzyl methacrylate, 13 parts by weight of methacrylic acid, and 30 parts by weight of methacryloxypolysiloxane (product name: silaplane TM0701, manufactured by Chisso Corporation) Was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the reaction was further continued for 3 hours to obtain an acrylic copolymer resin solution having a siloxane skeleton in the side chain having a weight average molecular weight (Mw) of 12,500. After cooling to room temperature, about 2 parts by weight of the resin solution was sampled, heated and dried at 180 DEG C for 20 minutes, and then the solid content was measured. Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added to the resin solution so that the solid content was 20 wt% To obtain a copolymer A. < tb >< TABLE >

제조예Manufacturing example 2: 펄 안료 분산액의 제조 2: Preparation of pearl pigment dispersion

고분자 분산제(DISPERBYK®-2000) 11.1 g, 펄 안료(Glacier™ Frost White EH 568 (S1303D), BASF) 17.7 g 및 PGMEA 71.2 g을 페인트 쉐이커에서 25 내지 60 ℃에서 6 시간 동안 분산 처리하였다. 0.3 mm 지르코니아 비드를 사용하여 분산을 진행하였으며, 비드는 분산액과 동일한 중량을 첨가하였다. 분산 종료후 필터로 비드와 분산액을 분리하여 최종 펄 안료 분산액을 제조하였다.
11.1 g of a polymer dispersant (DISPERBYK -2000), 17.7 g of pearl pigment (Glacier 占 Frost White EH 568 (S1303D), BASF) and 71.2 g of PGMEA were dispersed in a paint shaker at 25 to 60 占 폚 for 6 hours. Dispersion was carried out using 0.3 mm zirconia beads, and beads were added to the same weight as the dispersion. After dispersion was completed, the beads and the dispersion were separated by a filter to prepare a final pearl pigment dispersion.

제조예Manufacturing example 3: 백색 무기 안료 분산액의 제조 3: Preparation of White Inorganic Pigment Dispersion

고분자 분산제(DISPERBYK®-2000) 6 g, 백색 무기 안료로서 TiO2 120 g 및 PGMEA 74 g을 페인트 쉐이커에서 25 내지 60 ℃에서 6 시간 동안 분산 처리하였다. 0.3 mm 지르코니아 비드를 사용하여 분산을 진행하였으며, 비드는 분산액과 동일한 중량을 첨가하였다. 분산 종료후 필터로 비드와 분산액을 분리하여 최종 백색 무기 안료 분산액을 제조하였다.
A polymer dispersant (DISPERBYK ® -2000) 6 g, a TiO 2 120 g PGMEA and 74 g as a white inorganic pigment dispersion was treated for 6 hours at 25 to 60 ℃ in a paint shaker. Dispersion was carried out using 0.3 mm zirconia beads, and beads were added to the same weight as the dispersion. After the dispersion was completed, the beads and the dispersion were separated by a filter to prepare a final white inorganic pigment dispersion.

실시예Example 1 : 감광성 수지 조성물 (1)의 제조 1: Preparation of photosensitive resin composition (1)

제조예 1에서 제조한 공중합체 A 53.131 g, 중합성 불포화 화합물로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA, Nippon Kayaku사제) 10.095 g, 옥심계 광중합 개시제(OXE-02, 시바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.6 g, 계면활성제(제품명 DISPERBYK®-333, BYK사제) 0.06 g, 실란 커플링제(KBE-9007, Shin-Etsu사제) 0.150 g 및 제조예 2에서 제조한 펄 안료 분산액 31.250g을 용매인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 4.173 g에 잘 교반하여 펄 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물 (1)을 제조하였다.
(DPHA, manufactured by Nippon Kayaku) 10.095 g, oxime-based photopolymerization initiator (OXE-02, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.) 0.6 0.131 g of Polymerizable unsaturated compound as a polymerizable unsaturated compound, 10.095 g of dipentaerythritol hexaacrylate g, a surfactant (product name DISPERBYK ® -333, BYK Co., Ltd.) 0.06 g, a silane coupling agent (KBE-9007, Shin-Etsu Co., Ltd.) and 0.150 g of propylene glycol monomethyl the pearl pigment dispersion 31.250g produced in Production example 2, a solvent And 4.173 g of methyl ether acetate (PGMEA) was well stirred to prepare a photosensitive resin composition (1) containing a pearl pigment.

실시예Example 2 : 감광성 수지 조성물 (2)의 제조 2: Preparation of photosensitive resin composition (2)

제조예 1에서 제조한 공중합체 A 23.557 g, 중합성 불포화 화합물로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA, Nippon Kayaku사제) 4.476 g, 옥심계 광중합 개시제(OXE-02, 시바 스페셜티 케미컬즈사제) 0.6 g, 계면활성제(DISPERBYK®-333, BYK사제) 0.06 g, 실란 커플링제(KBE-9007, Shin-Etsu사제) 0.150 g 및 제조예 3에서 제조한 백색 무기 안료 분산액 32.43 g을 용매인 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 38.723 g에서 잘 교반하여 백색 무기안료를 포함하는 감광성 수지 조성물 (2)를 제조하였다.
23.557 g of the copolymer A prepared in Preparation Example 1, 4.476 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku) as the polymerizable unsaturated compound, 0.6 g of oxime-based photopolymerization initiator (OXE-02, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) g, surface active agent (DISPERBYK ® -333, BYK Co., Ltd.) 0.06 g, a silane coupling agent (KBE-9007, Shin-Etsu Co., Ltd.) and 0.150 g of propylene glycol monomethyl the white inorganic pigment dispersion 32.43 g prepared in Production example 3, the solvent And the mixture was well stirred with 38.723 g of methyl ether acetate (PGMEA) to prepare a photosensitive resin composition (2) containing a white inorganic pigment.

실시예Example 3 3

상기 실시예 1에서 얻은 감광성 수지 조성물 (1)을 유리 기판상에 스핀 코터를 이용하여 두께 1.7 ㎛로 도포한 후, 90 ℃에서 100초간 건조하여 도막을 형성하였다. 얻어진 도막에 패턴 마스크를 이용하여, 365 ㎚의 파장의 빛을 100 mJ/㎠로 조사하였다. 이어서 수산화칼륨이 1 중량%로 희석된 수용액으로 25 ℃에서 60초간 현상한 뒤, 순수한 물로 1분간 세정하여 불필요한 부분을 제거한 패턴을 얻을 수 있었다. 상기 형성된 패턴을 오븐에서 230 ℃로 30분간 가열하여 경화시킨 다음, 최종적으로 두께 1.5 ㎛의 펄 안료를 포함하는 경화막을 얻었다.
The photosensitive resin composition (1) obtained in Example 1 was coated on a glass substrate with a thickness of 1.7 탆 using a spin coater and then dried at 90 캜 for 100 seconds to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with light having a wavelength of 365 nm at a dose of 100 mJ / cm 2 using a pattern mask. Subsequently, the substrate was developed with an aqueous solution containing 1 wt% of potassium hydroxide at 25 DEG C for 60 seconds, and then washed with pure water for 1 minute to obtain a pattern in which unnecessary portions were removed. The pattern thus formed was heated in an oven at 230 캜 for 30 minutes to be cured, and finally a cured film containing a pearl pigment having a thickness of 1.5 탆 was obtained.

실시예Example 4 4

도포 두께를 2.9 ㎛로 한 것을 제외하고는 실시예 3과 마찬가지의 방법을 통하여, 최종적으로 두께 2.5 ㎛의 펄 안료를 포함하는 경화막을 얻었다.
A cured film containing a pearl pigment having a thickness of 2.5 占 퐉 was finally obtained by the same method as in Example 3 except that the coating thickness was changed to 2.9 占 퐉.

실시예Example 5 5

도포 두께를 4.5 ㎛로 한 것을 제외하고는 실시예 3과 마찬가지의 방법을 통하여, 최종적으로 두께 4.0 ㎛의 펄 안료를 포함하는 경화막을 얻었다.
A cured film containing a pearl pigment having a thickness of 4.0 mu m was finally obtained through the same method as in Example 3 except that the coating thickness was 4.5 mu m.

실시예Example 6 6

상기 실시예 2에서 얻은 감광성 수지 조성물 (2)를 이용하여, 실시예 3과 마찬가지의 방법으로 상기 실시예 3의 경화막 상에 4.0 ㎛ 두께의 백색 경화막을 형성하여, 최종적으로 5.5 ㎛의 복합 경화막을 얻었다.
Using the photosensitive resin composition (2) obtained in Example 2, a white cured film having a thickness of 4.0 占 퐉 was formed on the cured film of Example 3 in the same manner as in Example 3, and finally a 5.5 占 퐉 composite curing Film.

실시예Example 7 7

상기 실시예 2에서 얻은 감광성 수지 조성물 (2)를 이용하여, 실시예 3과 마찬가지의 방법으로 상기 실시예 4의 경화막 상에 4.0 ㎛ 두께의 백색 경화막을 형성하여, 최종적으로 두께 6.5 ㎛의 복합 경화막을 얻었다.
Using the photosensitive resin composition (2) obtained in Example 2, a white cured film having a thickness of 4.0 탆 was formed on the cured film of Example 4 in the same manner as in Example 3, and finally a composite A cured film was obtained.

실시예Example 8 8

상기 실시예 2에서 얻은 감광성 수지 조성물 (2)를 이용하여, 실시예 3과 마찬가지의 방법으로 상기 실시예 5의 경화막 상에 4.0 ㎛ 두께의 백색 경화막을 형성하여, 최종적으로 두께 8.0 ㎛의 복합 경화막을 얻었다.
Using the photosensitive resin composition (2) obtained in Example 2, a white cured film having a thickness of 4.0 탆 was formed on the cured film of Example 5 in the same manner as in Example 3, and finally a composite A cured film was obtained.

실시예Example 9 9

상기 실시예 2에서 얻은 감광성 수지 조성물 (2)를 이용하여, 실시예 3과 마찬가지의 방법으로 상기 실시예 3의 경화막 상에 9.0 ㎛ 두께의 백색 경화막을 형성하여, 최종적으로 두께 10.5 ㎛의 복합 경화막을 얻었다.
Using the photosensitive resin composition (2) obtained in Example 2, a white cured film having a thickness of 9.0 mu m was formed on the cured film of Example 3 in the same manner as in Example 3, and finally a composite of 10.5 mu m in thickness A cured film was obtained.

실시예Example 10 10

상기 실시예 2에서 얻은 감광성 수지 조성물 (2)를 이용하여, 실시예 3과 마찬가지의 방법으로 상기 실시예 4의 경화막 상에 9.0 ㎛ 두께의 백색 경화막을 형성하여, 최종적으로 두께 11.5 ㎛의 복합 경화막을 얻었다.
Using the photosensitive resin composition (2) obtained in Example 2, a white cured film having a thickness of 9.0 mu m was formed on the cured film of Example 4 in the same manner as in Example 3, and finally a composite of 11.5 mu m in thickness A cured film was obtained.

실시예Example 11 11

상기 실시예 2에서 얻은 감광성 수지 조성물 (2)를 이용하여, 실시예 3과 마찬가지의 방법으로 상기 실시예 5의 경화막 상에 9.0 ㎛ 백색 경화막을 형성하여, 최종적으로 두께 13.0 ㎛의 복합 경화막을 얻었다.
Using the photosensitive resin composition (2) obtained in Example 2, a 9.0 탆 white cured film was formed on the cured film of Example 5 in the same manner as in Example 3 to finally obtain a composite cured film having a thickness of 13.0 탆 .

시험예Test Example 1: 은폐율 측정 1: Measurement of concealment rate

본 발명에서 은폐율은 경화막의 후면이 보이는 정도를 나타내는 척도를 나타낸다. 상기 실시예 3 내지 11에서 제조된 각각의 경화막에 대해 은폐율지(LENETA Form 2A-opacity, LENETA CO.), 및 은폐율 측정기(NOVO Shade DUO(45/0 reflectometer), RHOPOINT Instrumentation Ltd.)를 사용하여 은폐율을 얻었다. In the present invention, the concealment rate represents a measure indicating the degree of visibility of the rear surface of the cured film. For each of the cured films prepared in Examples 3 to 11, LENETA Form 2A-opacity (LENETA CO.) And NOVO Shade DUO (45/0 reflectometer, RHOPOINT Instrumentation Ltd.) And concealment rate was obtained.

Figure pat00002
Figure pat00002

시험예Test Example 2: 광학 밀도 측정 2: Optical density measurement

상기 실시예 6 내지 11에서 제조된 각각의 경화막에 대해 UV-vis 장비(Cary 100 Conc, Varian)를 이용해서 투과율을 측정하고, 투과율을 하기 수학식 2에 대입하여 광학밀도(OD)를 얻었다. Each of the cured films prepared in Examples 6 to 11 was measured for transmittance using a UV-vis equipment (Cary 100 Conc, Varian), and the transmittance was substituted into the following equation 2 to obtain an optical density (OD) .

Figure pat00003
Figure pat00003

시험예Test Example 3:  3: 현상성의Developable 측정 Measure

상기 실시예 3 내지 11에서의 현상공정에서 패턴 현상성을 관찰하였다.
The pattern developing properties were observed in the developing steps in Examples 3 to 11.

경화막Curing membrane 평가 항목Evaluation items 두께 (㎛)Thickness (㎛) 은폐율Concealment rate
(%)(%)
광학밀도Optical density 패턴 pattern 현상성Developability
펄 안료를 포함하는 경화막A curing film comprising a pearl pigment
(감광성 수지(Photosensitive resin
조성물 (1))Composition (1))
백색 White 경화막Curing membrane
(감광성 수지(Photosensitive resin
조성물 (2))Composition (2))
총 두께Total thickness
실시예 3Example 3 1.51.5 -- 1.51.5 9.29.2 -- 양호Good 실시예 4Example 4 2.52.5 -- 2.52.5 11.811.8 -- 양호Good 실시예 5Example 5 4.04.0 -- 4.04.0 32.232.2 -- 양호Good 실시예 6Example 6 1.51.5 4.04.0 5.55.5 82.882.8 1.901.90 양호Good 실시예 7Example 7 2.52.5 4.04.0 6.56.5 85.085.0 1.991.99 양호Good 실시예 8Example 8 4.04.0 4.04.0 8.08.0 88.588.5 2.172.17 양호Good 실시예 9Example 9 1.5 1.5 9.0 9.0 10.5 10.5 91.391.3 2.112.11 양호Good 실시예 10Example 10 2.5 2.5 9.0 9.0 11.5 11.5 92.192.1 2.222.22 양호Good 실시예 11Example 11 4.0 4.0 9.0 9.0 13.0 13.0 93.893.8 2.382.38 양호Good

상기 표 1의 실험결과로부터, 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 사용하여 경화막을 제조하는 경우, 실시예 3 내지 5에서 알 수 있는 바와 같이, 1.5 ㎛의 두께일 때 5% 이상의 은폐율과 함께 심미감을 나타내며, 실시예 6 내지 11과 같이, 상기 펄 안료를 포함하는 실시예 3 내지 5의 경화막 상에 백색 안료를 포함하는 경화막이 적층되는 경우에는 은폐율이 더욱 더 향상되었다. 따라서, 백색 베젤로서 사용가능한 광학밀도를 갖는 경화막을 수 ㎛ 내지 수십 ㎛의 박막으로 제조가능하였다. As can be seen from Examples 3 to 5, when the cured film is prepared using the photosensitive resin composition according to the present invention, the results of the experiment shown in Table 1 show that when the thickness is 1.5 탆, And as in Examples 6 to 11, when the cured film including a white pigment was laminated on the cured films of Examples 3 to 5 including the pearl pigment, the concealment rate was further improved. Therefore, a cured film having an optical density usable as a white bezel can be formed into a thin film having a thickness of several mu m to several tens of mu m.

Claims (7)

(1) 공중합체;
(2) 펄 안료;
(3) 중합성 불포화 화합물; 및
(4) 광중합 개시제
를 포함하는, 감광성 수지 조성물.
(1) a copolymer;
(2) Pearl pigments;
(3) a polymerizable unsaturated compound; And
(4) Photopolymerization initiator
Wherein the photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition.
제 1 항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물로부터 수득된 경화막이 1.5 ㎛의 두께에서 5% 이상의 은폐율을 갖는 것을 특징으로 하는, 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the cured film obtained from the photosensitive resin composition has a concealment ratio of 5% or more at a thickness of 1.5 占 퐉.
제 1 항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물이, (5) 백색 안료를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the photosensitive resin composition further comprises (5) a white pigment.
제 1 항에 있어서,
상기 (1) 공중합체가 (1-1) 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 혼합물로부터 유도되는 구성단위, 및 (1-2) 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되는 구성단위를 포함하는, 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the copolymer (1) is derived from (1-1) a structural unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture thereof, and (1-2) an aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound Wherein the photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition.
제 4 항에 있어서,
상기 (1) 공중합체가 공중합체를 구성하는 총 구성단위 중 상기 구성단위 (1-1) 및 (1-2)를 각각 5 내지 98 몰% 및 2 내지 95 몰%의 양으로 포함하고, 추가로
(1-3) 측쇄에 Si-O 골격을 포함하는 불포화 단량체로부터 유도되는 구성단위, 또는 (1-4) 상기 구성단위 (1-1) 내지 (1-3)과는 상이한 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도되는 구성단위를 0 내지 60 몰%의 양으로 포함하는 것을 특징으로 하는, 감광성 수지 조성물.
5. The method of claim 4,
The copolymer (1) contains the constituent units (1-1) and (1-2) in an amount of 5 to 98 mol% and 2 to 95 mol%, respectively, of the total constituent units constituting the copolymer, in
(1-3) a structural unit derived from an unsaturated monomer containing a Si-O skeleton in the side chain or (1-4) a structural unit derived from an ethylenically unsaturated compound different from the structural units (1-1) to (1-3) Wherein the photosensitive resin composition contains the derived constituent units in an amount of 0 to 60 mol%.
제 1 항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물이, 감광성 수지 조성물 전체 중량(고형분 함량 기준)에 대하여 (1) 공중합체, (2) 펄 안료, (3) 중합성 불포화 화합물, 및 (4) 광중합 개시제를 각각 0.5 내지 60 중량%, 5 내지 60 중량%, 5 내지 60 중량%, 및 0.01 내지 10 중량%의 양으로 포함하는 것을 특징으로 하는, 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
(1) a copolymer, (2) a pearl pigment, (3) a polymerizable unsaturated compound, and (4) a photopolymerization initiator, based on the total weight of the photosensitive resin composition (based on the solid content) %, 5 to 60 wt%, 5 to 60 wt%, and 0.01 to 10 wt%, based on the total weight of the photosensitive resin composition.
(1) 공중합체, (2) 펄 안료, (3) 중합성 불포화 화합물 및 (4) 광중합 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물로부터 수득된 제1 경화막, 및
(1) 공중합체, (3) 중합성 불포화 화합물, (4) 광중합 개시제 및 (5) 백색 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물로부터 수득된 제2 경화막을 포함하는 복합 경화막.
A first cured film obtained from a photosensitive resin composition comprising (1) a copolymer, (2) a pearl pigment, (3) a polymerizable unsaturated compound and (4) a photopolymerization initiator, and
A composite cured film comprising a second cured film obtained from a photosensitive resin composition comprising (1) a copolymer, (3) a polymerizable unsaturated compound, (4) a photopolymerization initiator, and (5) a white pigment.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220163887A1 (en) * 2020-11-24 2022-05-26 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. Colored photosensitive resin composition and multilayer cured film prepared therefrom

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