KR20150052546A - Method of measuring resistance of transparent electrodes - Google Patents

Method of measuring resistance of transparent electrodes Download PDF

Info

Publication number
KR20150052546A
KR20150052546A KR1020130134078A KR20130134078A KR20150052546A KR 20150052546 A KR20150052546 A KR 20150052546A KR 1020130134078 A KR1020130134078 A KR 1020130134078A KR 20130134078 A KR20130134078 A KR 20130134078A KR 20150052546 A KR20150052546 A KR 20150052546A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent electrode
resistance
conductive tape
electrode
measuring
Prior art date
Application number
KR1020130134078A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김혜경
Original Assignee
영남대학교 산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 영남대학교 산학협력단 filed Critical 영남대학교 산학협력단
Priority to KR1020130134078A priority Critical patent/KR20150052546A/en
Publication of KR20150052546A publication Critical patent/KR20150052546A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant

Abstract

The present invention provides a method to measure resistance of transparent electrodes which includes a step to manufacture transparent electrodes formed with networks by making use of nanowire; a step to create electrodes by using a conductive tape on the transparent electrodes; and a step to measure resistance of the transparent electrodes. For this reason, the repeated measurement of resistance on network-formed transparent electrodes can be realized and the resistance of transparent electrodes can be measured without damaging the transparent electrodes.

Description

투명전극의 저항 측정방법 및 측정장치{Method of measuring resistance of transparent electrodes}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of measuring the resistance of a transparent electrode,

본 발명은 전극의 전기 전도성 측정 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 나노와이어가 네트워크로 형성된 투명전극의 저항 측정 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of measuring the electrical conductivity of an electrode, and more particularly to a method of measuring the resistance of a transparent electrode in which a nanowire is formed in a network.

반도체 기술의 발달로 나노 수준의 박막 형성기술이 개발되고 있으며, 이 중에서 투명전극은 80%이상의 투명도 및 500 Ω/sqm 이하의 전도도를 갖는 특성으로 구리와 같은 불투명도체를 대체하고 있다. 특히 투명전극은 엘씨디(LCD) 전면 전극, OLED 전극 등 디스플레이, 터치스크린, 태양전지, 광전자 소자 등 전자분야에 광범위하게 사용되는 기술이다. 기존 터치스크린패널(Touch Screen Panel,TSP)에 적용된 ITO 전극 소재는 유연성이 약해 휘거나 곡면인 플렉시블 디스플레이에 사용하기 어렵기 때문에 ITO필름을 대체할 차세대 신소재로 그래핀(Graphene), 탄소나노튜브(CNT), 은 나노와이어(Ag Nano Wire)등이 주목받고 있다.With the development of semiconductor technology, nano-level thin film forming technology is being developed. Among them, transparent electrode is replacing opaque conductor such as copper with transparency of 80% or more and conductivity of 500 Ω / sqm or less. In particular, transparent electrodes are widely used in electronic fields such as LCD front electrodes, OLED electrodes, displays, touch screens, solar cells, and optoelectronic devices. Because ITO electrode material applied to existing touch screen panel (TSP) is difficult to use in flexible display with flexible or curved surface, it can be used as next generation new material to replace ITO film. Graphene, carbon nanotube CNT), and silver nano wire (Ag Nano Wire).

은 나노 입자는 고전도성을 가지며 전기 전도성을 보유한 전극의 소재로 사용되고 있다. 이러한 성질을 이용하여 터치스크린, 디스플레이, OLED, 태양전지 등의 투명전극으로 적용 가능성이 대두되고 있다. 이러한 전극의 경우, 전도성 고분자나 ITO 등을 이용한 밀집한(dense) 필름 형태로 제조되는 경우가 존재하나, 탄소나노튜브나 금속 나노와이어의 경우와 같이 네트워크 형성을 통한 투명전극으로도 제조되고 있다. Silver nanoparticles are used as materials for electrodes with high conductivity and electrical conductivity. Using such properties, the possibility of application as a transparent electrode such as a touch screen, a display, an OLED, and a solar cell is increasing. Such electrodes may be manufactured in the form of dense films using conductive polymers or ITO, but they are also manufactured as transparent electrodes through network formation as in the case of carbon nanotubes or metal nanowires.

도 1은 종래의 전극의 저항을 측정하기 위한 4 포인트 프로브(point probe) 방식을 나타낸 개략도이다. 일반적으로 면저항은 단위 ohm/sq로 표시된다. 여기서 sq는 □로도 표시되며, 미터법(cm2 등)이 아닌 별도의 단위로서, 무한대의 면적으로 해석하는 것이 일반적이다. 선저항은 두개의 프로브로 임의의 거리에 대한 저항을 측정하지만, 면저항의 경우에는 동일한 간격의 4개 탐침으로 측정하게 된다. 이때 쓰이는 프로브가 4 포인트(point) 프로브이고, 일반적으로 탐침은 1mm 간격으로 일렬 구성된 프로브를 사용하며, 4개의 탐침으로 전류와 전압을 측정하여, 저항값을 구한 후, 면저항 단위인 ohm/sq로 계산하기 위해 보정계수(C.F)를 적용한다. 면저항값을 계산하기 위해서는 4 포인트 프로브로 측정한 저항값(ohm)에 보정계수를 적용해야한다. 보정계수는 샘플 사이즈(Sample size)와 박막의 두께, 그리고 측정 시 온도까지 3가지 계수를 이용하여 산출된다. 샘플 사이즈 계수는 40 mm 이상의 직경의 샘플일 경우 4.532이고, 박막두께계수는 박막두께가 약 400 ㎛ 이하 일 때 1이며, 온도는 샘플의 온도계수에 따라 약간의 변화가 있지만 약 23°C 일 때 1에 가깝다. 박막의 저항 혹은 밀집한(dense) 샘플의 저항은 면저항을 측정한 후, 박막의 두께를 이용하여 비저항을 측정하는 것이 바람직하다.1 is a schematic view showing a 4-point probe method for measuring resistance of a conventional electrode. In general, the sheet resistance is expressed in units of ohm / sq. Here, sq is also expressed as □, and it is generally interpreted as an infinite area as a separate unit rather than a metric method (such as cm 2 ). The line resistance measures the resistance to a certain distance with two probes, but the four probes with the same interval measure the sheet resistance. In this case, the probe used is a 4-point probe. In general, the probe is a probe arranged in a line at intervals of 1 mm, and the current and voltage are measured with four probes. Apply a correction factor (CF) to calculate. To calculate the sheet resistance value, the correction factor should be applied to the resistance value (ohm) measured by the 4-point probe. The correction factor is calculated by using three coefficients from the sample size to the thickness of the thin film and the temperature during the measurement. The sample size factor is 4.532 for a sample with a diameter of 40 mm or more and the thin film thickness coefficient is 1 when the thin film thickness is about 400 탆 or less and the temperature varies slightly depending on the temperature coefficient of the sample, 1 is close. It is desirable to measure the resistivity of the thin film or the dense sample after measuring the sheet resistance and then measuring the resistivity using the thickness of the thin film.

상기한 바와 같은 면저항 측정방법의 실시예로, 대한민국 공개특허공보 제10-2010-0077808호는 면저항 측정장비의 프로브컨디셔닝 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼에 형성된 박막의 면저항을 측정하는 면저항 측정장비의 프로브컨디셔닝 시스템을 개시하였다. 본 발명의 면저항 측정장비의 프로브컨디셔닝 시스템은 피측정용웨이퍼가 안착되고 상기 웨이퍼의 위치를 변경하는 웨이퍼 스테이지; 복수개의 프로브니들을 가지며 상기 웨이퍼에 접촉되어 전류를 공급하고 전압을 측정 가능하도록 하는 프로브; 상기 프로브을 상하 구동시키는 프로브구동축; 및 상기 웨이퍼 스테이지의 중앙 표면에 삽입되어 형성된 원판 형상의 컨디셔닝플래이트;를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2010-0077808, as an embodiment of the above-mentioned sheet resistance measuring method, relates to a probe conditioning system of a sheet resistance measuring instrument, and more particularly, A probe conditioning system of a sheet resistance measuring instrument is disclosed. A probe conditioning system of a sheet resistance measuring apparatus of the present invention includes a wafer stage on which a wafer to be measured is placed and changes the position of the wafer; A probe having a plurality of probe needles to contact the wafer to supply current and to measure a voltage; A probe driving shaft for vertically driving the probe; And a disc-shaped conditioning plate inserted into the center surface of the wafer stage.

본 발명에 따른 면저항 측정장비의 프로브컨디셔닝 시스템에 의하면 웨이퍼 스테이지의 표면에 컨디셔닝플래이트를 구비하고 자동으로 프로브컨디셔닝 작업을 수행함으로써 측정 정확도와 장비 가동률을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.According to the probe conditioning system of the sheet resistance measuring apparatus according to the present invention, the conditioning plate is provided on the surface of the wafer stage and the probe conditioning operation is automatically performed, thereby improving the measurement accuracy and the equipment operation rate.

그러나 네트워크 형성에 의한 투명전극의 경우, 일반적으로 사용하는 4 포인트 프로브(4 point prove) 방법은 프로브가 네트워크 부분에 접촉(contact) 하지 않을 경우 저항을 측정하기가 힘들고, 접촉 후 투명전극의 손상이 일어나고 있어, 재현성 있는 값을 얻기 힘들다. However, in the case of a transparent electrode by network formation, a commonly used 4-point probe method is difficult to measure the resistance when the probe is not in contact with the network portion, It's happening, and it's hard to get a reproducible value.

따라서 네트워크 형성에 의한 전극의 경우, 퍼콜레이션(percolation)에 의해 전도가 이루어짐으로 그에 대한 재현성 있는 저항 측정 방법 혹은 측정용 기구가 여전히 필요한 실정이다.Therefore, in the case of an electrode formed by network formation, conduction is performed by percolation, so that a reproducible resistance measuring method or measuring instrument for the electrode is still required.

본 발명은, 반복적인 저항 측정에도 재현성을 가지며 특히 네트워크가 형성된 투명전극의 경우에도 투명전극의 손상 없이 저항을 측정할 수 있는 방법 및 측정장치를 제공하는데 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a method and a measuring apparatus capable of measuring resistance without damaging a transparent electrode even in the case of a transparent electrode having a network, which has reproducibility even in repetitive resistance measurement.

본 발명은, 나노와이어를 이용하여 네트워크가 형성된 투명전극을 제조하는 단계; 상기 투명전극 상에 전도성테입을 이용하여 전극을 형성하는 단계; 및 상기 전극의 저항을 측정하는 단계를 포함하는 투명전극 저항 측정방법을 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing a transparent electrode, comprising: fabricating a transparent electrode in which a network is formed using nanowires; Forming an electrode on the transparent electrode using a conductive tape; And a step of measuring a resistance of the electrode.

또한 상기 나노와이어는, 금속 나노와이어, 금속 나노로드, 전기전도성섬유 및 탄소나노튜브로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 할 수 있다.The nanowire may be any one selected from the group consisting of metal nanowires, metal nanorods, electrically conductive fibers, and carbon nanotubes.

또한 상기 투명전극은, 상기 나노와이어를스퍼터링 방식 또는 전기 기상 증착 방법을 이용하여 네크워크가 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the transparent electrode may be characterized in that a network is formed using the nanowire by a sputtering method or an electric vapor deposition method.

또한 상기 전도성테입은, 구리, 은 및 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 할 수 있다. Also, the conductive tape may be any one selected from the group consisting of copper, silver, and aluminum.

또한 상기 전도성테입은, 일면에 점착층이 형성되어 상기 투명전극에 점착되며, 상기 투명전극과 전기적으로 도통되는 것을 특징으로 할 수 있다.In addition, the conductive tape may have an adhesive layer formed on one surface thereof, adhered to the transparent electrode, and electrically conductive with the transparent electrode.

본 발명에 따른 투명전극 저항 측정 방법에 의하면, 네트워크가 형성된 투명전극의 반복적인 저항측정에서 저항측정의 재현성을 가지며, 투명전극의 손상 없이 투명전극의 저항을 측정할 수 있다.According to the method for measuring the resistance of the transparent electrode according to the present invention, the resistance of the transparent electrode can be measured without repairs of the transparent electrode, with the reproducibility of the resistance measurement in the repeated resistance measurement of the transparent electrode formed with the network.

도 1은 종래의 전극의 저항을 측정하기 위한 4 포인트 프로브(point probe) 방식을 나타낸 개략적인 구성도,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 네트워크가 형성된 투명전극의 저항 측정 방법을 나타낸 개략적인 구성도,
도 3은 도 2에 나타낸 저항 측정방법을 조건을 달리하여 측정한 과정을 개략적으로 나타낸 구성도,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 투명전극에 전도성테입이 점착된 사진이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram showing a conventional four-point probe for measuring the resistance of an electrode;
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a method of measuring a resistance of a transparent electrode formed with a network according to an embodiment of the present invention. FIG.
FIG. 3 is a schematic view showing a process of measuring the resistance measurement method shown in FIG. 2,
4 is a photograph of a conductive tape adhered to a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 나노와이어를 이용하여 네트워크가 형성된 투명전극을 제조하는 단계; 상기 투명전극 상에 전도성테입을 이용하여 전극을 형성하는 단계; 및 상기 전극의 저항을 측정하는 단계를 포함하는 투명전극 저항 측정방법을 제공한다.The present invention provides a method of fabricating a transparent electrode, comprising: fabricating a transparent electrode having a network formed using nanowires; Forming an electrode on the transparent electrode using a conductive tape; And a step of measuring a resistance of the electrode.

투명전극은 80%이상의 투명도 및 500Ω/sqm 이하의 전도도를 갖는 특성으로 구리와 같은 불투명도체를 대체할 수 있다. 투명전극은 밀집한 필름 형태로 제조되는 것이 일반적이나, 상기와 같은 나노와이어를 이용하여 네크워크가 형성되어 도전되는 경우 종래의 저항 측정 방법인 4 포인트 프로브 방법은 네트워크 부분에 접촉되지 않을 경우 저항을 측정하는 것이 어렵고, 프로브의 접촉 이후에 투명전극이 손상되는 경우가 발생하여 재현성 있는 저항값을 측정하기 어렵다.Transparent electrodes can replace opaque conductors such as copper with a transparency of 80% or more and a conductivity of 500? / Sqm or less. In general, when the network is formed by using the nanowires as described above, the conventional four-point probe method, which is a resistance measuring method, measures the resistance when the wire is not in contact with the network portion It is difficult to measure the reproducible resistance value because the transparent electrode is damaged after the probe is contacted.

따라서 상기 투명전극을 제조하고, 상기 투명전극 상에 전도성테입을 상기 투명전극의 양단 편면측에 점착하고, 전기적으로 도통하여 전기 신호를 인가함에 따라 저항 측정할 수 있다. 상기 전도성테입을 통하여 저항을 측정하는 경우에는 상기 투명전극이 손상되지 않으며, 재현성있는저항값을 수득할 수 있다.Therefore, it is possible to manufacture the transparent electrode, to measure the resistance of the transparent electrode by adhering the conductive tape on the both side end faces of the transparent electrode, electrically conducting the electric field, and applying an electric signal. When the resistance is measured through the conductive tape, the transparent electrode is not damaged, and a reproducible resistance value can be obtained.

여기서 상기 나노와이어를 이용하여 네트워크가 형성된 투명전극을 제조하는 단계는 기재를 준비하고, 나노와이어가 함유된 잉크를 사용하여 상기 기재를 코팅하는 단계를 포함할 수 있다. The step of fabricating the transparent electrode having the network using the nanowire may include preparing a substrate and coating the substrate using the nanowire-containing ink.

상기 나노와이어는, 금속 나노와이어, 금소 나노로드, 전기전도성섬유 및 탄소나노튜브로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징할 수 있다.The nanowire may be any one selected from the group consisting of a metal nanowire, a nitrogen nano rod, an electrically conductive fiber, and a carbon nanotube.

상기 금속 나노와이어는 은(Ag) 착화합물을 포함할 수 있으며, 은 착화합물에 한정되는 것이 아니라 도전성 금속입자를 성장시켜 준비하고 도전성 금속입자기 분산되어 있는 형태인 경우에도 가능하다. The metal nanowires may include silver (Ag) complexes. The metal nanowires are not limited to silver complexes, but may be formed by growing conductive metal particles and forming conductive metal particles.

상기 투명전극은, 상기 나노와이어를 스퍼터링 방식 또는 전기 기상 증착 방법을 이용하여 네트워크가 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다. The transparent electrode may be formed of a network using the nanowire by a sputtering method or an electric vapor deposition method.

여기서 상기 나노와이어는 스핀(spin) 코팅, 롤(roll) 코팅, 스프레이 코팅, 딥(dip) 코팅, 플로(flow) 코팅, 닥터 블레이드(doctor blade)와 디스펜싱(dispensing), 잉크젯 프린팅, 옵셋 프린팅, 스크린 프린팅, 패드(pad) 프린팅, 그라비아프린팅, 플렉소(flexography) 프린팅, 스텐실 프린팅, 임프린팅(imprinting), 제로그라피(xerography) 및 리소그라피(lithography) 방법 중에서 선택되는 방법으로 코팅할 수 있다.The nanowire may be formed by spin coating, roll coating, spray coating, dip coating, flow coating, doctor blade and dispensing, inkjet printing, , Screen printing, pad printing, gravure printing, flexography printing, stencil printing, imprinting, xerography, and lithography.

또한 상기 전도성테입은, 구리, 은 및 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 할 수 있다.Also, the conductive tape may be any one selected from the group consisting of copper, silver, and aluminum.

여기서 상기 전도성테입은 자기 지지성을 갖고 전기 전도성을 나타내는 금속박이면 되고, 구리, 은, 알루미늄뿐만 아니라 니켈, 철 및 이들의 합금을 이용할 수 있다. 그 중에서 도전성, 비용, 가공성의 관점에서 구리를 사용하는 것이 바람직하다. Here, the conductive tape may be a metal foil having self-supportability and exhibiting electrical conductivity, and may be made of nickel, iron, and alloys thereof as well as copper, silver, and aluminum. Among them, copper is preferably used from the viewpoints of conductivity, cost and workability.

상기 전도성테입은, 일면에 점착층이 형성되어 상기 투명전극에 점착되며, 상기 투명전극과 전기적으로 도통되는 것을 특징으로 할 수 있다.The conductive tape may have a pressure-sensitive adhesive layer on one surface thereof and may be adhered to the transparent electrode, and may be electrically connected to the transparent electrode.

상기 점착층을 형성하는 점착제는 특별하게 제한되지 않으나, 아크릴계점착체, 고무계 점착제, 비닐 알킬에테르계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 우레탄계 점착제, 불소계 점착제, 에폭시계 점착제 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but may be an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, a vinyl alkyl ether pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, a polyester pressure-sensitive adhesive, a polyamide pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, Mixtures of these may be used.

상기 전도성테입은 선단에 단자부를 가지는 도통부가 설치될 수 있으며 상기 도통부에 연결되는 커패시터, 레지스터 및 RC회로를 이용하여 상기 투명전극의 저항값을 측정할 수 있다.The conductive tape may be provided with a conductive portion having a terminal portion at a front end thereof. The resistance value of the transparent electrode may be measured using a capacitor, a resistor, and an RC circuit connected to the conductive portion.

또한 본 발명은 상기 방법으로 제조된 투명전극 저항 측정 장치를 제공한다.The present invention also provides a transparent electrode resistance measuring apparatus manufactured by the above method.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

<< 실시예1Example 1 > 투명전극 제조> Transparent electrode manufacturing

1. 투명전극의 제조1. Manufacture of transparent electrode

투명전극을 제조하기 위하여 기재를 준비하였다. 기재로 준비한 광학용 PET(Polyethylene terephthalate) 필름 상에 1 wt% 의 고형분을 갖는 은나노잉크를 스프레이장비(장비종류, 구입처 및 사용조건을 기재하여 주십시오.)를 이용하여 상기 광학용 PET에 은나노와이어를 코팅하였다. A substrate was prepared to prepare a transparent electrode. A silver nano wire having a solid content of 1 wt% on an optical PET (polyethylene terephthalate) film prepared as a base material was sprayed with silver nano wire to the optical PET using a spray equipment (type of equipment, purchase place and conditions of use) Respectively.

은나노잉크의 농도를 점차 증가시키며, 샘플 1, 샘플2 및 샘플 3의 투명전극을 제조하였다. A transparent electrode of Sample 1, Sample 2 and Sample 3 was prepared, gradually increasing the concentration of the silver nano ink.

은나노와이어층을 형성시키고, 상온에서 30분간 건조하여 나노와이어를 이용하여 네트워크가 형성된 투명전극을 제조하였다.
A silver nano wire layer was formed and dried at room temperature for 30 minutes to prepare a transparent electrode having a network formed using nanowires.

2. 상기 2. The above- 기재 상의On the substrate 전도성테입Conductive tape 점착 및 저항측정 Adhesion and resistance measurement

실리콘이 도포된 박리지에, 상기 점착제 상에 구리 박에 점착제 용액을 도포하고 을 접합시키고, 이것을 롤 형상으로 권취하여 전도성테입을 제조하였다. 또한 구리 박막에 접착제가 도포되어 있는 상용의 전도성 테이프를 사용하였다. A pressure sensitive adhesive solution was applied to the release paper coated with silicone on the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, and the pressure-sensitive adhesive solution was adhered to the copper foil, and this was rolled up to prepare a conductive tape. A commercially available conductive tape having an adhesive applied to the copper foil was also used.

상기 전도성테입을 상기 제조된 투명전극의 양단 편면측에 점착하고, 상기 전도성테입의 선단의 단자부에 연결되는 커패시터, 레지스터 및 RC회로에 전압 또는 전류를 가하여 상기 투명전극의 저항값을 측정하였다.
The resistance value of the transparent electrode was measured by applying a voltage or a current to a capacitor, a resistor and an RC circuit connected to the terminal portion of the conductive tape at the tip of the conductive tape.

<< 실험예Experimental Example 1> 투명전극의 저항측정 1> Measurement of resistance of transparent electrode

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 네트워크가 형성된 투명전극의 저항 측정 방법을 나타낸 개략적인 구성도이고, 도 3은 도 2에 나타낸 저항 측정방법을 조건을 달리하여 측정한 과정을 개략적으로 나타낸 구성도, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 투명전극에 전도성테입이 점착된 사진이다. FIG. 2 is a schematic view illustrating a method of measuring a resistance of a transparent electrode formed with a network according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a schematic view illustrating a method of measuring resistance according to the present invention, FIG. 4 is a photograph of a conductive tape adhered to a transparent electrode according to an embodiment of the present invention.

실시예 1에서 제조된 투명전극에 양단 편면측에 점착된 전도성테입에 커패시터, 레지스터 및 RC회로에 전류 또는 전압을 가하여 저항을 측정한 값을 하기 표1에 나타내었다.Table 1 shows resistance values measured by applying a current or voltage to capacitors, resistors, and RC circuits on the conductive tape adhered to both sides of the transparent electrode prepared in Example 1.

샘플 1, 샘플 2 및 샘플3은 은나노잉크의 양을 증가시켜 은나노선의 함량이 샘플3으로 갈수록 높았다. 은나노선의 함량이 높을수록 저항값은 낮아지는 것을 확인하였으며, 기존의 방법을 사용할 경우, 투명전극을 손상시키고, 네트워크(network)가 형성되지 않은 부분에서 저항값 증가로 인하여 저항측정 시 재현성이 감소하는 것을 확인하였다. Sample 1, Sample 2 and Sample 3 increased the amount of silver nano ink, and the content of silver nano-ray was higher toward Sample 3. As the content of silver nano wire increases, the resistance value decreases. When the conventional method is used, the transparent electrode is damaged, and the reproducibility of the resistance measurement is decreased due to the increase of the resistance value at the part where no network is formed Respectively.

본 발명에서는 다수의 측정에서도 전극의 손상없이 유사한 저항값을 측정할 수 있었다.In the present invention, it was possible to measure a similar resistance value without damaging the electrodes even in a large number of measurements.

측정횟수Number of measurements 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010 샘플1Sample 1 40.440.4 41.541.5 35.135.1 23.623.6 27.527.5 44.144.1 56.456.4 39.839.8 45.945.9 37.937.9 샐플2Sample 2 34.434.4 28.828.8 26.526.5 25.725.7 27.427.4 31.731.7 24.524.5 19.419.4 22.322.3 26.226.2 샘플3Sample 3 16.316.3 18.518.5 28.728.7 17.217.2 17.717.7 18.318.3 15.215.2 16.716.7 15.115.1 21.421.4

측정된 값의 단위는 옴(ohm, Ω)이며, 비저항은 상기 저항값에 전극두께를 곱한 값이다. The unit of the measured value is ohm (OMEGA), and the resistivity is a value obtained by multiplying the resistance value by the electrode thickness.

제조된 투명전극을 복수의 샘플로 제작하여 각각의 샘플을 반복하여 저항을 측정하는 경우에도 재현성있는 저항값을 측정하였다.Reproducible resistance values were measured even when the prepared transparent electrodes were made into a plurality of samples and the resistance was measured by repeating the respective samples.

구리막으로 제조된 전도성테입을 이용하는 경우 투명전극에 점착이후에 경화를 위한 시간이 필요없으며 전도성 테이프 장착 후 즉각적인 저항 측정이 가능하였다. When a conductive tape made of a copper film is used, time for curing is not necessary after adhesion to the transparent electrode, and immediate resistance measurement is possible after mounting the conductive tape.

또한 투명전극의 저항을 측정하는데 있어서 저항측정 후에 투명전극의 손상을 제거할 수 있었다.
Further, in measuring the resistance of the transparent electrode, the damage of the transparent electrode can be removed after the resistance measurement.

<< 실시예2Example 2 > 4 포인트 > 4 points 프루브Probe 저항측정 resistance measurement

실시예 1에서 제조된 투명전극을 가지고 4포인트 프로브 방식을 저항을 측정하였다. The resistance of the transparent electrode prepared in Example 1 was measured using a 4-point probe method.

4포인트 프로브를 상기 투명전극에 접촉시키고 전류를 인가시켰다. 2개의 프로브에 전류를 인가하고, 나머지 두 개의 프로브의 전압차를 이용하여 저항을 측정하였다.
A four-point probe was brought into contact with the transparent electrode and a current was applied. The current was applied to the two probes, and the resistance was measured using the voltage difference of the remaining two probes.

<< 실험예Experimental Example 2> 4 포인트  2> 4 points 프루브Probe 의한 저항 측정 결과 Resistance measurement result by

실시예 1에서 제조된 투명전극에 4 포인트 프로브를 접촉시키고 전류를 인가시켰다.A 4-point probe was brought into contact with the transparent electrode prepared in Example 1 and a current was applied.

표 2는 4 포인트 프로브 방식에 의한 저항 측정값을 나타낸 표이다.Table 2 is a table showing resistance measurement values by the 4-point probe method.

여기서 단위는 Ω/□(ohm/square) 이며, 비저항은 측정값에 전극 두께를 곱한 값이다.Where the unit is Ω / □ (ohm / square) and the resistivity is the measured value multiplied by the electrode thickness.

측정
횟수
Measure
Number of times
1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010
샘플1Sample 1 61.861.8 20.9320.93 23.5123.51 21.5521.55 N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A 샐플2Sample 2 42.0542.05 46.7246.72 33.7633.76 22.2322.23 10.3710.37 27.0327.03 107.5107.5 113.3113.3 N/AN / A N/AN / A 샘플3Sample 3 248.3248.3 144.4144.4 154.2154.2 110.4110.4 188188 249.8249.8 N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A

같은 샘플인 경우에도 측정할 때 측정하는 지점마다 상이한 값을 보이고 있으며 같은 곳을 측정하는 경우라고 다른 값이 측정되거나, 측정되지 않는 경우가 있었다. Even in the case of the same sample, a different value is displayed for each measurement point at the time of measurement, and another value is measured or the measurement is not performed at the same place.

4 포인트 프로브 방식에 의한 저항 측정은 범용적으로 사용되어 밀집된 필름에는 사용가능하나, 필름에서 나노와이어에 의한 네트워크가 형성되지 않은 부분에서는 저항값이 측정불가한 것으로 판단된다.The resistance measurement by the 4-point probe method is generally used and can be used for the dense film, but it is judged that the resistance value can not be measured in the part where the network is not formed by the nanowire in the film.

그리고 반복적인 프로브의 접촉에 의하여 제조된 상기 투명전극은 손상정도가 증가되었으며, 투명전극의 손상으로 인하여 측정을 반복할수록 저항값을 측정할 수 없었다.
In addition, the degree of damage of the transparent electrode manufactured by the contact of the repetitive probe was increased, and the resistance value could not be measured as the measurement was repeated due to damage of the transparent electrode.

<< 실시예3Example 3 > > 은페이스트Silver paste 함유 전도성 구리  Containing conductive copper 테입Tape

전도성테입의 성능을 비교하기 위하여 상기 전도성테입을 은페이스트(Ag paste)를 제조하였다. In order to compare the performance of the conductive tape, the conductive tape was prepared as a silver paste.

상기 은페이스트1g 에 경화제1g 을 혼합하여 혼합물을 제조하였다. 1 g of the curing agent was mixed with 1 g of the silver paste to prepare a mixture.

상기 혼합물을 상기 투명전극의 양단에 증착하고 120℃에서 36시간 동안 경화시겼다. The mixture was deposited at both ends of the transparent electrode and cured at 120 DEG C for 36 hours.

상기 은페이스트로 제조된 전도성테입의 선단에 커패시터, 레지스터 및 RC회로를 연결하여 이용하여 상기 투명전극의 저항값을 측정하였다.
A resistance value of the transparent electrode was measured by connecting a capacitor, a resistor and an RC circuit to the tip of the conductive tape made of the silver paste.

<< 실험예Experimental Example 3>  3> 은페이스트Silver paste 함유  contain 전도성테입의Conductive Tape 저항 측정 resistance measurement

구리막으로 제조된 전도성테입과 성능을 비교하기 위하여 은페이스트를 함유한 전도성테입의 선단에 커패시터, 레지스터 및 RC회로에 전류 또는 전압을 가하여 상기 투명전극의 저항값을 측정하였다.In order to compare the performance of the conductive tape made of the copper film, the resistance value of the transparent electrode was measured by applying a current or voltage to the capacitor, resistor and RC circuit at the tip of the conductive tape containing the silver paste.

측정횟수Number of measurements 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010 샘플Sample 50.350.3 55.655.6 69.769.7 53.053.0 52.052.0 N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A N/AN / A

제조된 투명전극을 샘플로 제작하여 반복하여 5회 저항값을 측정하였다. The manufactured transparent electrode was fabricated as a sample, and the resistance value was measured five times.

이 경우 구리박을 이용하여 제조된 전도성테입을 이용하여 측정한 저항값과 마찬가지로 재현성있는 저항값을 측정하였다.In this case, the reproducible resistance value was measured in the same manner as the resistance value measured using the conductive tape manufactured using the copper foil.

상기 은페이스트를 함유한 전도성테입으로 저항을 측정하는 경우 계면저항은 낮으나, 상기 은페이스트의 경화를 위하여 24 내지 48 시간 동안 120 내지 180℃ 온도로 건조하여야 하며, 은페이스트를 제조하는 경우 고가의 은을 다량을 소모하여 비용이 증가되는 문제점이 야기되었다.When the resistance is measured by the conductive tape containing the silver paste, the interface resistance is low. However, in order to cure the silver paste, the silver paste should be dried at a temperature of 120 to 180 ° C for 24 to 48 hours. And the cost is increased.

따라서 투명전극의 저항을 측정하기 위한 전도성테입의 제작에 적합하지 않을 것으로 판단된다.
Therefore, it is judged that it is not suitable for the production of the conductive tape for measuring the resistance of the transparent electrode.

이상으로, 본 발명에 따르면 투명전극의 제조에 있어서 나노와이어를 이용하여 네트워크가 형성된 투명전극의 저항을 측정할 수 있다. 특히 투명전극에 전도성테입을 점착하여 간단한 투명전극 저항 측정 장치를 구성할 수 있으며, 종래의 4 포인트 프로브방식으로 저항을 측정할 수 없는 경우에도 용이하게 전극의 저항값을 수득할 수 있다. As described above, according to the present invention, it is possible to measure the resistance of a transparent electrode in which a network is formed by using nanowires in the production of transparent electrodes. In particular, a transparent electrode resistance measuring device can be constructed by adhering a conductive tape to a transparent electrode, and the resistance value of the electrode can be easily obtained even when the resistance can not be measured by the conventional 4-point probe method.

투명전극에 직접적인 접촉이 없기 때문에 반복적인 저항측정에서 저항측정의 재현성을 가지며, 투명전극의 손상 없이 투명전극의 저항을 측정할 수 있는 장점이 있다.
Since there is no direct contact with the transparent electrode, the resistance of the transparent electrode can be measured without repetition of the transparent electrode.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

100 : 투명기판 200 : 구리막전도성테입
300 :은페이스트 함유 전도성테이프 400 : 프로브 포인트
500 : 저항측정회로
100: transparent substrate 200: copper film conductive tape
300: silver paste conductive tape 400: probe point
500: Resistance measuring circuit

Claims (5)

나노와이어를 이용하여 네트워크가 형성된 투명전극을 제조하는 단계;
상기 투명전극 상에 전도성테입을 이용하여 전극을 형성하는 단계; 및
상기 전극의 저항을 측정하는 단계를 포함하는 투명전극 저항 측정방법.
Fabricating a transparent electrode having a network formed using nanowires;
Forming an electrode on the transparent electrode using a conductive tape; And
And measuring a resistance of the electrode.
청구항 1에 있어서,
상기 나노와이어는,
금속 나노와이어, 금속 나노로드, 전기전도성섬유 및 탄소나노튜브로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 투명전극 저항 측정 방법.
The method according to claim 1,
The nanowire may be a nanowire,
Wherein the electrode is any one selected from the group consisting of metal nanowires, metal nano-rods, electrically conductive fibers, and carbon nanotubes.
청구항 1에 또는 청구항 2에 있어서,
상기 투명전극은,
상기 나노와이어를 스퍼터링 방식 또는 전기 기상 증착 방법을 이용하여 네트워크가 형성되는 것을 특징으로 하는 투명전극 저항 측정 방법.
The method according to claim 1 or 2,
The transparent electrode
Wherein the nanowire is formed in a network using a sputtering method or an electric vapor deposition method.
청구항 1에 있어서,
상기 전도성테입은,
구리, 은 및 알루미늄으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 투명전극 저항 측정 방법.
The method according to claim 1,
In the conductive tape,
Copper, silver, and aluminum. 2. The method according to claim 1,
청구항 1에 있어서,
상기 전도성테입은,
일면에 점착층이 형성되어 상기 투명전극에 점착되며, 상기 투명전극과 전기적으로 도통되는 것을 특징으로 하는 투명전극 저항 측정 방법.
The method according to claim 1,
In the conductive tape,
Wherein an adhesive layer is formed on one surface of the transparent electrode, and the transparent electrode is electrically connected to the transparent electrode.
KR1020130134078A 2013-11-06 2013-11-06 Method of measuring resistance of transparent electrodes KR20150052546A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130134078A KR20150052546A (en) 2013-11-06 2013-11-06 Method of measuring resistance of transparent electrodes

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130134078A KR20150052546A (en) 2013-11-06 2013-11-06 Method of measuring resistance of transparent electrodes

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150052546A true KR20150052546A (en) 2015-05-14

Family

ID=53389428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130134078A KR20150052546A (en) 2013-11-06 2013-11-06 Method of measuring resistance of transparent electrodes

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20150052546A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7121092B2 (en) touch screen sensor
JP6181698B2 (en) Liquid crystal display cell
EP2075802B1 (en) Conductive pattern forming film, and conductive pattern forming method
EP2991083B1 (en) Method for manufacturing electroconductive pattern and electroconductive pattern-formed substrate
US20110042126A1 (en) Contact resistance measurement for resistance linearity in nanostructure thin films
CN105453001A (en) Bonding electronic components to patterned nanowire transparent conductors
KR100839226B1 (en) Method for measuring crack using sensor including carbon nanotubes, and method for measuring corrosion using the sensor
US9763313B2 (en) Conductive nanostructure-based films with improved ESD performance
KR20150134773A (en) Flexible electrode and manufacturing method thereof
CN107527675A (en) A kind of flexible conducting film and preparation method thereof
KR20200106745A (en) Pressure Resistive Pressure Sensor with Easy Pressure Distribution Confirmation Structure
Chen et al. Silver nanowire/polymer composite soft conductive film fabricated by large-area compatible coating for flexible pressure sensor array
US10390698B2 (en) Conductive and stretchable polymer composite
JP7284952B2 (en) Chloride ion sensor and method for measuring chloride ion concentration
Yin et al. Highly conductive and flexible thin film electrodes based on silver nanowires wrapped carbon fiber networks for supercapacitor applications
Yao et al. Two-probe versus van der Pauw method in studying the piezoresistivity of single-wall carbon nanotube thin films
JP2009009917A (en) Manufacturing method of touch panel
JP2010176297A (en) Touch panel
KR20150052546A (en) Method of measuring resistance of transparent electrodes
KR100945208B1 (en) Fabrication method of transparent heater containing carbon nanotubes and binders, and the transparent heater
Glier et al. Conductance-strain behavior in silver-nanowire composites: network properties of a tunable strain sensor
KR101521693B1 (en) flexible/stretchable transparent film having conductivity and manufacturing method thereof
CN112097631B (en) Composite conductive material, strain sensor and preparation method thereof
CN113764137A (en) Preparation method of nano silver wire conductive film, nano silver wire conductive film and application thereof
JP2011257217A (en) Material for sensor and pressure sensitive sensor including the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application