KR20150032994A - 피부개선 및 발모용 광 요법 장치 - Google Patents
피부개선 및 발모용 광 요법 장치 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 전원이 인가 되도록 온/오프 시키는 전원 스위치와, 사용목적에 따라 선택하는 양식 스위치와, 구동 광원의 파형을 제어하는 파형 제어장치와, 광원 모듈의 제1 광원과 제2 광원과 제3 광원을 단독 또는 조합하여 선택하고 전류를 제어하여 구동하는 마이컴과, 회로로 구성된 제어부와; 상기 하우징(s 001; housing)의 내부에 위치하고, 파장이 상이한 제1 광원과 제2 광원과 제3 광원이 조합되어 PCB 회로 기판에 형성된 광원 모듈과, 상기 PCB 회로 기판의 배면과 결합 된 열을 방출하는 방열 판으로 구성된 광원 부와; 상기 광원 부의 전면에는 혼합되지 않은 파장의 광선의 방출을 방지하는 격벽과, 상기 격벽의 내부에는 광선의 파장을 혼합하는 다층의 혼합층(mixing layer)과, 상기 혼합층의 전면에는 상기 격벽과 결합 된 구조의 광학렌즈와, 상기 광학렌즈의 전면에는 상기 하우징의 일부가 개방된 곳에 위치하고 탈, 부착 가능한 구조의 광 전달 빗살로 구성된 광학 부가 형성된 구조로 이루어진다.
상기의 제어 부의 전원 스위치와 제1 양식 스위치와 제2 양식 스위치와 제3 양식 스위치는 하우징(housing)의 외부 일 측에 형성되고, 제어부의 파형 제어장치와 마이컴(micom)과 회로와 광원 부와 광학 부는 외부 충격에서 보호 되도록 상기 하우징의 내측에 위치하여 형성된다.
또한, 상기의 광원 부 전면에는 광원 모듈에서 발산되는 파장이 상이한 광선의 방출을 방지하고 혼합층으로 광선을 유도하는 역할의 격벽이 상기 광원모듈의 광원조합과 일치한 위치에 각각 구성되고, 상기 격벽의 내부에는 다층의 혼합층이 구성되고, 상기 혼합층의 전면에는 혼합층에서 혼합되고 확산 된 광선을 집중하여 방출하는 기능의 광학렌즈가 격벽과 결합 된 형태로 구성되고, 상기 광학렌즈의 전면에는 탈, 부착이, 가능한 구조의 광 전달 빗살이 구성된다.
상기 광 전달 빗살은 발모와 육모와 두피 케어의 용도로써, 광학렌즈에서 방출되는 광선을 모발과 두피로 전달하고 모발을 정리하는 빗살의 형태로써, 빗살 하단부의 둥근 렌즈 형태는 두피에 광을 집중시키게 되고 광 빗살의 측면을 통하여 방출되는 광선은 모발에 광을 조사하는 구조로 이루어진다.
또한, 상기의 광원 부는 자외선 영역~ 단파장 영역의 제1 광원과 장파장 영역의 제2 광원과 적외선 영역의 제3 광원의 파장이 서로 상이한 광원이 조합된 형태로써 1~n개의 광원조합이 구성되고, 상기의 1~n개의 광원조합은 PCB기판에 형성되어 광원모듈이 구성되고, 상기 광원이 형성된 PCB기판의 배면에는 광원에서 발생 되는 열을 방출하는 방열 판이 결합 되는 구조로 이루어진다.
상기 광원 모듈에 구성된 제1 광원은 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum), 황색 포도상 구균(Staphylococcus aureus), P-acne 등의 기생충과 균을 사멸하고 활동을 억제하며, 뼈와 모발의 영양분의 합성 인자인 비타민 D의 합성 효과가 있는 430nm 이하의 대역에서 피크 파장이 있는 단파장 영역의 광원이며, 제2 광원(s 014)은 세균의 성장 억제 및 염증을 가라앉히는 효과와 콜라겐 생성 및 엘라스틴 재생 효과와 세포재생 효과가 있는 630nm 이상의 대역에서 피크 파장이 있는 장 파장영역의 광원이며, 제3 광원은 소양증의 완화 효과와 혈류개선 및 세포재생 효과와 산화질소를 체내에 형성하여 항산화 작용에 의해 생체 활성효과와 면역력이 향상되는 효과와 광의 피부침투 깊이를 향상시키는 효과가 있는 780nm~15,000nm의 대역에서 피크 파장이 있는 적외선 영역의 광원이다.
또한, 상기의 제어부의 양식 스위치(mode switch)는 사용목적에 따라 선택하는 스위치로써, 제1 모드(#1mode)는 제1 광원과 제2 광원과 제3 광원의 복합구동에 의한 유해 균의 억제와 사멸로 지루성 피부염(seborrheic dermattis), 아토피성 피부염(atopic dermatitis), 여드름(acne), 비염(rhinitis), 관절염(arthritis) 등의 염증 치료 작용에 의한 피부 염증개선(improvementinfection) 및 탈모방지(prevention of hair loss)와 소양증(pruritus) 완화와 당뇨환자(diabetic patient)의 상처회복(recover wound) 목적의 선택 스위치이고, 제2 양식(#2mode)은 제1 광원과 제3 광원의 복합구동에 의한 모(毛)의 영양원인 비타민 D의 공급으로 모(毛)를 튼튼하게 양생시키는 육모 및 탈모방지(prevention of hair loss)와 골밀도(bone density)를 향상시키는 목적의 선택 스위치이고, 제3 양식(s 005; #3mode)은 제2 광원과 제3 광원의 복합구동으로 콜라겐(collagen) 생성과 엘라스틴(elastin) 재생과 세포재생(cell restoration)과 모낭 세포(follicular cell)의 자극과 혈류개선(pulse magnetic field)과 생체 활성(bioactivity)과 면역력 향상(immunity improvement )에 의한 피부미용(skin care)과 발모(hair restore) 효과와 상처회복(recover wound) 목적의 선택 스위치이다.
또한, 상기의 마이컴(micom)은 양식 스위치와 파형 제어 장치와 광원 모듈이 회로를 통하여 연동 되어 양식 스위치의 선택에 따라 광원이 선택되어 전류 량과 파형이 마이컴(micom)을 통하여 제어되고 구동된다…
또한, 상기의 광원모듈의 전면에는 광원에서 발산되는 혼합되지 않은 다 파장(multi wave)의 광선이 혼합(mixing)되기 전에 방출되는 것을 방지하고, 광을 혼합하는 혼합층(mixing layer)으로 광을 유도하는 격벽(partition wall)이 구성된다.
상기 격벽(partition wall)은 광선의 파장이 혼합되는 혼합층과 혼합된 광선을 집중하여 방출하는 광학렌즈와 결합 된 형태로 구성된다.
상기 혼합층은 격벽(partition wall)의 내부에 위치하여 광을 확산하고 혼합하는 필름 형태 및 판 형태의 다층 구조로 혼합 층(mixing layer)이 구성되고, 상기 혼합 층(mixing layer)의 전면에는 혼합파장의 광선을 집중 또는 확산하는 기능의 광학렌즈가 혼합 층(mixing layer)과 일정한 유격을 두고 격벽(partition wall)과 결합 되어있는 구조로 구성된다.
상기 격벽의 내부에 위치한 혼합 층(mixing layer)은 복수구조의 다층으로 구성되고, 확산 제가 함유되어 있는 렌즈형태 또는, 필름형태 또는, 판 형태로 구성되어 파장이 상이한 제1 광원, 제2 광원, 제3 광원에서 발산되는 각각의 파장을 균일하게 혼합하여 혼합된 파장의 광선을 광학렌즈에 발산하게 된다.
상기 혼합층((mixing layer)에서 혼합된 광선은 상기의 광학렌즈를 통하여 광학적으로 집중된 광선으로 피부에 직접 조사되거나, 광 전달 빗살을 통하여 모발과 두피에 조사되게 된다.
상기 광학렌즈의 전면에는 모발을 정리하고 광을 전달하는 투명한 재질의 광 전달 빗살이 민머리 용도 또는, 빈모(貧毛) 용도 또는, 피부용도 또는, 발모촉진 용도 등의 모발상태와 사용처에 따라 탈착과 부착이, 가능한 구조로 구성된다.
상기와 같이 본 발명에서는 제1 광원, 제2 광원, 제3 광원이 조합된 형태의 다 파장(multi wave)으로 광원모듈이 구성되고, 상기 광원 모듈의 전면에는 파장 혼합 층(mixing layer)을 구성하여 다 파장(multi wave)의 광원으로부터 발산된 복합파장(complex wave)의 광선이 혼합(mixing)된 혼합파장(multi wave mixing)의 광선이 방출되고, 상기의 혼합파장의 광선의 광을 다시 집중하여 방출하여 세포 각각에 혼합파장으로 조사되며, 적외선 영역의 제3 광원에 의한 세포 여기 작용과 파동에 의한 광선의 광 유도 역할에 의해 제1 광원 및 제2 광원에서 방출되는 광선의 피부 침투 깊이가 향상되는 등의 시너지 효과에 의해 광 요법 시간이 단축되는 것이다.
또한, 사용처에 따라 광 전달 빗살이 탈, 부착이, 가능한 구조로 구성되어 피부용도와 두피 및 모발 용도 모두에 적용되어 사용가능하게 되는 것이다.
상기의 제어 부의 전원 스위치와 제1 양식 스위치와 제2 양식 스위치와 제3 양식 스위치는 하우징(housing)의 외부 일 측에 형성되고, 제어부의 파형 제어장치와 마이컴(micom)과 회로와 광원 부와 광학 부는 외부 충격에서 보호 되도록 상기 하우징의 내측에 위치하여 형성된다.
또한, 상기의 광원 부 전면에는 광원 모듈에서 발산되는 파장이 상이한 광선의 방출을 방지하고 혼합층으로 광선을 유도하는 역할의 격벽이 상기 광원모듈의 광원조합과 일치한 위치에 각각 구성되고, 상기 격벽의 내부에는 다층의 혼합층이 구성되고, 상기 혼합층의 전면에는 혼합층에서 혼합되고 확산 된 광선을 집중하여 방출하는 기능의 광학렌즈가 격벽과 결합 된 형태로 구성되고, 상기 광학렌즈의 전면에는 탈, 부착이, 가능한 구조의 광 전달 빗살이 구성된다.
상기 광 전달 빗살은 발모와 육모와 두피 케어의 용도로써, 광학렌즈에서 방출되는 광선을 모발과 두피로 전달하고 모발을 정리하는 빗살의 형태로써, 빗살 하단부의 둥근 렌즈 형태는 두피에 광을 집중시키게 되고 광 빗살의 측면을 통하여 방출되는 광선은 모발에 광을 조사하는 구조로 이루어진다.
또한, 상기의 광원 부는 자외선 영역~ 단파장 영역의 제1 광원과 장파장 영역의 제2 광원과 적외선 영역의 제3 광원의 파장이 서로 상이한 광원이 조합된 형태로써 1~n개의 광원조합이 구성되고, 상기의 1~n개의 광원조합은 PCB기판에 형성되어 광원모듈이 구성되고, 상기 광원이 형성된 PCB기판의 배면에는 광원에서 발생 되는 열을 방출하는 방열 판이 결합 되는 구조로 이루어진다.
상기 광원 모듈에 구성된 제1 광원은 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum), 황색 포도상 구균(Staphylococcus aureus), P-acne 등의 기생충과 균을 사멸하고 활동을 억제하며, 뼈와 모발의 영양분의 합성 인자인 비타민 D의 합성 효과가 있는 430nm 이하의 대역에서 피크 파장이 있는 단파장 영역의 광원이며, 제2 광원(s 014)은 세균의 성장 억제 및 염증을 가라앉히는 효과와 콜라겐 생성 및 엘라스틴 재생 효과와 세포재생 효과가 있는 630nm 이상의 대역에서 피크 파장이 있는 장 파장영역의 광원이며, 제3 광원은 소양증의 완화 효과와 혈류개선 및 세포재생 효과와 산화질소를 체내에 형성하여 항산화 작용에 의해 생체 활성효과와 면역력이 향상되는 효과와 광의 피부침투 깊이를 향상시키는 효과가 있는 780nm~15,000nm의 대역에서 피크 파장이 있는 적외선 영역의 광원이다.
또한, 상기의 제어부의 양식 스위치(mode switch)는 사용목적에 따라 선택하는 스위치로써, 제1 모드(#1mode)는 제1 광원과 제2 광원과 제3 광원의 복합구동에 의한 유해 균의 억제와 사멸로 지루성 피부염(seborrheic dermattis), 아토피성 피부염(atopic dermatitis), 여드름(acne), 비염(rhinitis), 관절염(arthritis) 등의 염증 치료 작용에 의한 피부 염증개선(improvementinfection) 및 탈모방지(prevention of hair loss)와 소양증(pruritus) 완화와 당뇨환자(diabetic patient)의 상처회복(recover wound) 목적의 선택 스위치이고, 제2 양식(#2mode)은 제1 광원과 제3 광원의 복합구동에 의한 모(毛)의 영양원인 비타민 D의 공급으로 모(毛)를 튼튼하게 양생시키는 육모 및 탈모방지(prevention of hair loss)와 골밀도(bone density)를 향상시키는 목적의 선택 스위치이고, 제3 양식(s 005; #3mode)은 제2 광원과 제3 광원의 복합구동으로 콜라겐(collagen) 생성과 엘라스틴(elastin) 재생과 세포재생(cell restoration)과 모낭 세포(follicular cell)의 자극과 혈류개선(pulse magnetic field)과 생체 활성(bioactivity)과 면역력 향상(immunity improvement )에 의한 피부미용(skin care)과 발모(hair restore) 효과와 상처회복(recover wound) 목적의 선택 스위치이다.
또한, 상기의 마이컴(micom)은 양식 스위치와 파형 제어 장치와 광원 모듈이 회로를 통하여 연동 되어 양식 스위치의 선택에 따라 광원이 선택되어 전류 량과 파형이 마이컴(micom)을 통하여 제어되고 구동된다…
또한, 상기의 광원모듈의 전면에는 광원에서 발산되는 혼합되지 않은 다 파장(multi wave)의 광선이 혼합(mixing)되기 전에 방출되는 것을 방지하고, 광을 혼합하는 혼합층(mixing layer)으로 광을 유도하는 격벽(partition wall)이 구성된다.
상기 격벽(partition wall)은 광선의 파장이 혼합되는 혼합층과 혼합된 광선을 집중하여 방출하는 광학렌즈와 결합 된 형태로 구성된다.
상기 혼합층은 격벽(partition wall)의 내부에 위치하여 광을 확산하고 혼합하는 필름 형태 및 판 형태의 다층 구조로 혼합 층(mixing layer)이 구성되고, 상기 혼합 층(mixing layer)의 전면에는 혼합파장의 광선을 집중 또는 확산하는 기능의 광학렌즈가 혼합 층(mixing layer)과 일정한 유격을 두고 격벽(partition wall)과 결합 되어있는 구조로 구성된다.
상기 격벽의 내부에 위치한 혼합 층(mixing layer)은 복수구조의 다층으로 구성되고, 확산 제가 함유되어 있는 렌즈형태 또는, 필름형태 또는, 판 형태로 구성되어 파장이 상이한 제1 광원, 제2 광원, 제3 광원에서 발산되는 각각의 파장을 균일하게 혼합하여 혼합된 파장의 광선을 광학렌즈에 발산하게 된다.
상기 혼합층((mixing layer)에서 혼합된 광선은 상기의 광학렌즈를 통하여 광학적으로 집중된 광선으로 피부에 직접 조사되거나, 광 전달 빗살을 통하여 모발과 두피에 조사되게 된다.
상기 광학렌즈의 전면에는 모발을 정리하고 광을 전달하는 투명한 재질의 광 전달 빗살이 민머리 용도 또는, 빈모(貧毛) 용도 또는, 피부용도 또는, 발모촉진 용도 등의 모발상태와 사용처에 따라 탈착과 부착이, 가능한 구조로 구성된다.
상기와 같이 본 발명에서는 제1 광원, 제2 광원, 제3 광원이 조합된 형태의 다 파장(multi wave)으로 광원모듈이 구성되고, 상기 광원 모듈의 전면에는 파장 혼합 층(mixing layer)을 구성하여 다 파장(multi wave)의 광원으로부터 발산된 복합파장(complex wave)의 광선이 혼합(mixing)된 혼합파장(multi wave mixing)의 광선이 방출되고, 상기의 혼합파장의 광선의 광을 다시 집중하여 방출하여 세포 각각에 혼합파장으로 조사되며, 적외선 영역의 제3 광원에 의한 세포 여기 작용과 파동에 의한 광선의 광 유도 역할에 의해 제1 광원 및 제2 광원에서 방출되는 광선의 피부 침투 깊이가 향상되는 등의 시너지 효과에 의해 광 요법 시간이 단축되는 것이다.
또한, 사용처에 따라 광 전달 빗살이 탈, 부착이, 가능한 구조로 구성되어 피부용도와 두피 및 모발 용도 모두에 적용되어 사용가능하게 되는 것이다.
Description
본 발명은 인간을 포함하는 동물의 피부상재 염증 균의 억제와, 지루성 피부염(seborrheic dermatitis), 각화 증(keratosis) 아토피 등의 피부 염증의 개선에 의한 피부 염증 치료 및 탈모방지와, 비타민 D 합성과, 혈류개선(improve blood stream) 및 세포 재생(cell restoration)에 의한 골다공증 개선과 피부미용 및 발모를 촉진하기 위한 광 요법 장치에 관한 것이다.
동물의 모낭(hair follicle)과 피부에는 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum), 황색 포도상 구균(Staphylococcus aureus), P-acne 등의 기생충과 균이 상재하고 있으며 면역세포와 환경의 변화에 의해 과다번식과 호르몬의 과다 분비는 지루성 피부염 등의 피부 염증 및 두피 염증과 소양증을 유발하고 탈모가 발생 원인이 된다.
피부 염증은 환자에게 고통을 유발하고, 탈모는 미용에 영향을 주어 자신감 상실의 원인이 되기도 하며, 고양이, 애완견 등의 인간과 함께 생활하는 동물의 탈모는 인간에게 피부병과 천식, 알레르기 등의 2차 감염을 유발하는 원인이 되기도 한다.
한편, 인체에 유용한 효과의 파장의 광선을 집중 조사하여 세포의 광 자극과 반응을 이용하여 질병의 치료와 노화를 방지하는 것을 임상적 치료효과의 광 요법이라 한다.
광 요법은 세포의 미세전류를 자극하여 치료를 하는 목적으로써, 장파장의 광선은 혈류를 개선하고 세포를 재생하는 역할이 있으며 단파장의 광선은 염증의 치료와 균의 사멸 및 억제에 효과가 있다.
또한, 자외선 및 430nm이하 단파장의 광선은 비타민 D의 합성 인자로 인간을 포함하는 동물의 털에 영양을 주어 굵고 튼튼하게 양생하는 효과가 있다.
또한, 적외선 영역 중에서 원적외선은 인체의 파동과 유사한 파동으로 신체의 활성작용이 있고 근 적외선은 광선의 피부침투 깊이의 향상과 체내에 산화 질소를 생성하여 활성산소를 제거하는 등의 면역체계를 향상시켜주는 항산화 효과가 있다.
특정파장의 생체의학적인 광 반응으로 치료효과를 갖는 임상적 광 요법 장치에는 협소한 범위의 파장에 광이 집중되어 있는 광원이 유리하며 레이저, 엘디(LD), 엘 이디(LED), 캔텀 닷 엘 이디(Q-LED), 오엘이디(OLED) 등의 반도체 광원이 주로 이용되고 있으며 상기와 같은 연유로 종래의 피부노화 방지 및 발모용 광 요법 장치에는 630nm 이상의 장파장의 가시광선 또는, 적외선 영역의 레이저 및 엘이디(LED) 광원이 주로 이용되고 있다.
종래의 피부 염증 치료용의 광 요법 장치에는 자외선을 포함하는 440nm 이하의 단 파장의 광선이 이용되고 있고, 주름개선 등의 피부미용 용도의 광 요법 장치와 발모촉진 용도의 광 요법 장치에는 630nm 이상의 장파장의 광선과 적외선의 광선이 동일하게 이용되고 있으나, 발모촉진 용도의 광 요법 장치에는 모발을 정리하고 모발 아래의 두피에 광을 전달하는 광 전달 빗살이 구성된 것이 피부용의 광 요법 장치와 모발용의 광 요법 장치의 구조상의 차이점이다.
상기와 같이 종래의 피부 염증 치료 및 피부 미용 목적의 광 요법 장치에 주로 이용되는 엘이디(LED) 및 엘디(LD) 등의 레이저 광원에서 발산되는 단파장의 광선은 피부 침투 깊이가 2mm 이하이고, 장 파장의 가시광선과 원적외선의 광선은 피부침투 깊이가 최대 6mm이하 이며, 가시광선과 원적외선의 광선은 피부에 침투하는 과정에서 모낭의 지질과 피지에 의한 빛의 산란과 반사로 상피세포(epithelial cells)의 4mm 깊이에 있는 모근(hair root)과 모 구(hair bulb)가 위치한 피하조직(subcutaneous tissue)에의 광선 도달이 어려워 피하조직(subcutaneous tissue)의 신경섬유(nerve fiber)와 모낭 세포(follicular cell)의 재생에 장시간이 소요되어 주름개선 및 발모 치료 효과가 더딘 문제점과, 종래의 피부미용 용도의 광 요법 장치와 발모촉진 용도의 광 요법 장치는 동일한 파장과 광원으로 구성되어 있음에도 구조적 차이로 장치를 별도로 구입하여야 하는 경제적 부담의 문제점이 있다.
한편, 지루성 피부염(seborrheic dermatitis), 각화 증(keratosis), 아토피 피부염(atopic dermatitis) 등의 피부 및 두피 염증과 염증에 의한 소양증(pruritus)은 환자의 고통유발 및 탈모의 원인이 되고, 자연 상태 및 발모제(hair restorer)에 의해 새로이 발모 된 작은 크기의 모(毛)는 주변의 기존 모(毛)에 의한 그늘의 형성과 생활환경의 요인 등에 의하여 태양광선의 두피 공급이 원활하지 못하여 모(毛)의 영양분인 비타민 D의 합성 곤란으로 새로이 발모 된 모발이 장기적인 착상과 성장을 못 하고 탈락 되는 문제점이 있다.
그러나, 종래의 발모촉진 광 요법장치에는 탈모의 원인인 지루성 피부염(seborrheic dermatitis), 각화 증(keratosis), 아토피 등의 두피 염증과 염증에 의한 소양증과 비타민 D의 합성에 대하여는 대처 방법이 없는 단점으로 탈모의 진행과 영양 부족으로 육모가 곤란한 문제점이 있다.
한편, 최근의 피부미용 및 치료용의 광 요법 장치는 각기 다른 파장이 세포에 미치는 시너지 효과를 강구하기 위하여 상이한 파장의 광원이 조합된 형태의 다 파장 광원으로 광 요법 장치의 광원모듈을 구성하고 있다.
그러나 조명장치 및 광 요법장치의 광원 배열 간극은 세포크기의 수만 배 이상이며, 일반적인 조명장치와 달리 광 요법 장치에는 광의 감쇄를 회피하기 위하여 확산 층의 구성이 결여되는 문제점으로 광원장치에서 방출되는 광선은 장치에서 광선이 방출된 이후 일정 거리 이상에서 혼합이 되게 된다.
피부미용 용도의 광 요법 마스크, 피부 염증치료 용도의 광 조사기, 발모촉진 용도의 광 요법 빗 등 대부분의 광 요법 장치는 피부에 밀착하여 사용되므로, 광 요법 장치에서 방출되는 광선 대부분은 지름이 약 0.1~0.25μm 크기에 불과한 세포단위에 혼합 파장으로 조사되지 못하는 문제점으로 광 요법 효과의 발현에 장시간이 소요되는 단점이 있다.
전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명에서는, 피부 염증 및 소양증 개선에 의한 두피케어(scalp care) 및 탈모방지 용의 광원과, 모발에 영양원을 공급하여 탈모방지 및 육모를 개선하는 광원과, 세포활성 및 세포재생에 의한 피부미용 및 발모용의 광원을 혼합하여 다 파장(multi wave)의 광원 모듈 구성을 제공하는데 목적이 있다.
또한, 피부 침투 깊이 향상과 사용목적에 적합한 양식(mode)별 구동 광원의 조합과 파형을 제공하는데 목적이 있다.
또한, 혼합파장의 생성 후에 광선이 방출되도록 장치를 구성하여, 혼합된 파장(multi mixing wave)의 광선이 세포단위에 조사되는 광 방출 구조를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.
본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 염증 유발 원인균의 활동 억제와 사멸로 두피를 포함하는 피부 염증의 치료와 비타민 D의 합성으로 모(毛)를 굵고 튼튼하게 양생시켜 탈모를 방지하는 250nm ~ 430nm의 파장 대역에 피크 파장이 있는 자외선 및 단파장 영역의 제1 광원과 혈류개선 및 세포재생으로 발모 효과가 있는 630nm ~ 690nm의 파장 대역에 피크 파장이 있는 장파장 영역인 제2 광원과 소양증의 완화 및 생체 활성 효과와 광의 피부 침투 깊이를 향상시키는 780nm 이상의 파장 대역에 피크 파장이 있는 적외선 영역의 제3 광원이 조합된, 다 파장의 광원으로 조합을 이룬 1~ n개의 광원조합이 PCB 회로 기판에 장착되어 광원 모듈이 구성된다.
상기 광원모듈과 더하여, 광원모듈의 배면에는 광원에서 발생하는 열을 방출구를 통하여 방출하는 기능의 방열 판이 결합 되는 구조로 광원 부가 구성된다.
또한, 상기 광원모듈의 전면에는 제1 광원, 제2 광원, 제3 광원에서 발산되는 다 파장(multi wave)의 광선이 혼합(mixing)되기 전에 방출되는 것을 방지하는 격벽(partition wall)이 구성된다.
상기 격벽(partition wall)은 광선의 파장이 혼합되는 혼합층과 혼합된 광선을 집중하여 방출하는 광학렌즈와 결합 된 형태로써, 상기의 광원조합과 일치하는 위치에 구성된다.
상기 격벽(partition wall)의 내부에는 확산 제가 함유되어 광을 확산하고 혼합하는 필름 형태 및 판 형태로 구성된 다층 구조의 혼합 층(mixing layer)이 구성되고, 상기 혼합 층(mixing layer)의 전면에는 혼합 층(mixing layer)에 의해 혼합된 혼합파장의 광선을 집중 또는 확산하는 기능의 광학렌즈가 혼합 층(mixing layer)과 일정한 유격을 두고 격벽(partition wall)과 결합 되어있는 구조로 구성된다.
상기 혼합 층(mixing layer)과 광학렌즈는 산화 티타니윰 또는, 실리카 또는, 탄산 칼슘 또는, PMMA 재질의 비드(bead) 중에서 선택된 확산 제가 함유되어 광을 확산하도록 구성함이 더욱 바람직하다.
상기 광학렌즈의 전면에는 모발을 정리하고 광을 전달하는 투명한 재질의 빗살이 민머리, 빈모(貧毛), 피부용도, 발모촉진 용도 등의 모발상태와 사용처에 따라 탈착과 부착이, 가능한 구조로 구성됨이 더욱 바람직하다.
상기와 같이 본 발명에서는, 광학렌즈와 확산 층과 격벽(partition wall)과 광 전달 빗살로 광학 부가 구성된다.
또한, 사용 목적에 따라 선택하는 양식 스위치와, 제1 광원, 제2 광원, 제3 광원 중에서 단독 또는, 조합된 형태의 구동 광원의 선택과, 연속파형 또는, 펄스 파형으로 파형이 조절되는 파형 제어장치와, 가변전압의 정 전류회로와, 상기 양식 스위치와, 광원 모듈과, 파형 제어장치와, 회로와 연동하여 구동 광원의 선택과 파형과 전압과 전류를 입력된 값으로 조절하는 역할을 수행하는 마이컴(MICOM)으로 이루어진 제어부로 구성된다.
또한, 외부의 일 측에 상기 제어부의 양식 스위치와 전원 스위치가 위치하고, 내부에는 상기 광원 부와, 상기 광학 부와 상기 제어부의 회로와 마이컴(MICOM)이 위치하는 하우징(housing)으로 구성된다.
상기와 같이 본 발명에서는 종래 별도의 피부용과 발모용 광 요법 장치에서 동일한 파장에 의해 발현하는 광 요법 기능을 조합하여 광원모듈이 구성되고 또한, 탈모 방지, 두피케어 및 피부 염증개선, 피부소양증 개선의 용도가 통합된 제1 양식과 모발에 영향을 주는 육모 용도의 제2 양식과 피부미용 및 발모촉진 용도의 제3 양식의, 3가지 양식에 따라 구동 광원과 전류와 파형이 선택되어 구동되고 또한, 사용 용도별로 광 전달 빗살이 탈, 부착 가능한 구조로 구성된다.
세포 각각에 혼합파장으로 조사하게 되고, 광의 피부 침투가 깊어져 광 요법 효과가 빠르게 발현하는 효과가 있다.
피부 염증 원인균의 억제와 사멸 및 모낭 각화 증(keratosis), 지루성 피부염(seborrheic dermatitis), 아토피 등의 염증 치료에 의한 피부 염증의 개선 및 두피케어(scalp care)에 의한 탈모방지 효과가 있다.
생체 활성, 혈류개선, 세포 재생에 의한 피부미용 및 발모 효과와 면역력 개선 효과가 있다.
소양증(가려움증)의 완화로 긁어서 발생하는 염증의 악순환과 탈모를 예방
하고 고통을 완화하는 효과가 있다.
단파장 광선의 공급에 의한 비타민 D의 합성으로 모(毛)를 굵고 튼튼하게 양생시켜 탈모 방지와 새로이 발모 된 모(毛)를 고착 성장시키는 육모 효과와 칼슘의 흡수를 향상시켜 구루병의 치료와 골 밀도를 향상시키는 효과가 있다.
피부 미용 및 탈모방지와 두피를 포함하는 피부 염증개선 기능 및 육모와 발모의 기능이 하나의 장치에 구성이 되어 있어 사용자의 편의성이 향상되고, 각 기능의 복합작용으로 효과가 향상되는 효과가 있다.
도 1은 종래의 발모용 광 요법 장치와 광원 부의 구성도이고,
도 2는 본 발명에 의한 탈모 방지 및 발모용 광 요법 장치와 광원 부의 구성도이다.
도 2는 본 발명에 의한 탈모 방지 및 발모용 광 요법 장치와 광원 부의 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 피부개선 및 발모용 광 요법 장치의 구성도이다.
이하 본 발명에 따른 피부개선(skin improvement) 및 발모( hair restorering)용 광 요법 장치의 구성에 대한 실시 예를 첨부되는 도면을 통해 상세히 설명하도록 한다.
본 발명의 피부개선 및 발모용 광 요법 장치는 도 2에 도시된 바와 같이 전원이 인가 되도록 온, 오프 시키는 전원 스위치(s 002)와, 사용목적에 따라 선택하는 양식 스위치(s 003, s 004, s 005)와, 구동 광원의 파형을 제어하는 파형 제어장치(s 010)와, 광원 모듈(s 012)의 제1 광원(s 013)과 제2 광원(s 014)과 제3 광원(s 015)을 단독 또는 조합하여 선택하고 전류를 제어하여 구동하는 마이컴(s 008)과 회로(s 009)로 구성된 제어부(s 007)와, 상기 하우징(s 001)의 내부에 위치하고, 파장이 상이한 제1 광원(s 013)과 제2 광원(s 014)과 제3 광원(s 015)이 조합되어 PCB 회로 기판(s 016)에 형성된 광원 모듈(s 012)과, 상기 PCB 회로 기판(s 016)의 배면과 결합 된 열을 방출하는 방열 판(s 017)으로 구성된 광원 부(s 011)와, 상기 광원 부(s 011)의 전면에는 혼합되지 않은 파장의 광선의 방출을 방지하는 격벽(h 201)과, 상기 격벽(h 201)의 내부에는 광선의 파장을 혼합하는 다층의 혼합층(s 019; mixing layer)과, 상기 혼합층(s 019)의 전면에는 상기 격벽(h 201)과 결합 된 구조의 광학렌즈(s 020)와, 상기 광학렌즈(s 020)의 전면에는 상기 하우징(s 001)의 일부가 개방된 곳에 위치하고 탈, 부착 가능한 구조의 광 전달 빗살(s 006)로 구성된 광학 부(s 018)가 형성된 구조로 이루어진다.
상기의 제어 부(s 007)의 전원 스위치(s 002)와 제1 양식 스위치(s 003)와 제2 양식 스위치(s 004)와 제3 양식 스위치(s 005)는 하우징 (s 001)의 외부 일 측에 형성 되고, 제어부(s 007)의 파형 제어장치(s 010)와 마이컴(s 008)과 회로(s 009)와 광원 부(s 011)와 광학 부(s 011)는 외부 충격에서 보호 되도록 상기 하우징(s 001)의 내측에 위치하여 형성된다.
또한, 상기의 광원 부 전면에는 광원 모듈(s 012)에서 발산되는 파장이 상이한 광선의 방출을 방지하고 혼합층으로 광선을 유도하는 역할의 격벽(h 201)이 상기 광원 모듈(s 012)의 광원조합과 일치한 위치에 각각 구성되고, 상기 격벽(h 201)의 내부에는 다층의 혼합층(s 019)이 구성되고, 상기 혼합층(s 019)의 전면에는 혼합층(s 019)에서 혼합되고 확산 된 광선을 집중하여 방출하는 기능의 광학렌즈(s 020)가 상기 격벽과 결합한 구조로 구성되고 상기 광학렌즈(s 020)의 전면에는 탈, 부착이, 가능한 구조의 광 전달 빗살(s 006)이 구성된다.
상기 광 전달 빗살(s 006)은 광학렌즈(s 020)에서 방출되는 광선을 모발과 두피로 전달하고 모발을 정리하는 빗살의 형태로써, 빗살 하단부의 둥근 렌즈 형태는 두피에 광을 집중시키게 되고 광 빗살의 측면을 통하여 방출되는 광선은 모발에 광을 조사하는 구조로 이루어진다.
또한, 상기의 광원 부(s 011)는 자외선 영역~ 단파장 영역의 제1 광원(s 013)과 장파장 영역의 제2 광원(s 014)과 적외선 영역의 제3 광원(s 015)의 파장이 서로 상이한 광원이 조합된 형태로써 1~n개의 광원조합이 구성되고, 상기의 1~n개의 광원조합은 PCB기판(s 016)에 형성되어 광원모듈(s 012)이 구성되고, 상기 광원이 형성된 PCB기판(s 016)의 배면에는 광원에서 발생 되는 열을 방출하는 방열 판(s 017)이 결합 되는 구조로 이루어진다.
상기 광원 모듈(s 012)에 구성된 제1 광원(s 013)은 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum), 황색 포도상 구균(Staphylococcus aureus), P-acne 등의 기생충과 균을 사멸하고 활동을 억제하며, 모발의 영양분인 비타민 D의 합성 효과가 있는 430nm 이하의 대역에서 피크 파장이 있는 단파장 영역의 광원이며, 제2 광원(s 014)은 세균의 성장 억제 및 염증을 가라앉히는 효과와 콜라겐 생성 및 엘라스틴 재생 효과와 세포재생 효과가 있는 630nm 이상의 대역에서 피크 파장이 있는 장 파장영역의 광원이며, 제3 광원(s 015)은 소양증의 완화 효과와 혈류개선 및 세포재생 효과와 산화질소를 체내에 형성하여 항산화 작용에 의해 생체 활성효과와 면역성을 향상시키는 효과와 광의 피부침투 깊이를 향상시키는 효과가 있는 780nm~15,000nm의 대역에서 피크 파장이 있는 적외선 영역의 광원이다.
또한, 상기의 제어부(s 007)의 양식 스위치(mode switch)는 사용목적에 따라 선택하는 스위치로써, 제1 양식(1mode)은 제1 광원과 제2 광원과 제3 광원의 복합구동에 의한 유해 균의 억제와 사멸로 지루성 피부염(seborrheic dermattis), 아토피성 피부염(atopic dermatitis), 여드름(acne), 대상포진(herpes zoster), 비염(rhinitis), 관절염(arthritis) 등의 염증 치료 작용에 의한 피부 염증개선(improvementinfection) 및 탈모방지(prevention of hair loss)와 소양증(pruritus) 완화와 당뇨환자(diabetic patient)의 상처회복(recover wound) 목적의 선택 스위치이고, 제2 양식(2mode)은 제1 광원과 제3 광원의 복합구동에 의한 모(毛)의 영양원인 비타민 D의 공급으로 모(毛)를 튼튼하게 양생시키는 육모 및 탈모방지(prevention of hair loss)와 골밀도(bone density)를 향상시키는 목적의 선택 스위치이고, 제3 양식(3mode)은 제2 광원과 제3 광원의 복합구동으로 콜라겐(collagen) 생성과 엘라스틴(elastin) 재생과 세포재생(cell restoration)과 모낭 세포(follicular cell)의 자극과 혈류개선(pulse magnetic field)과 생체 활성(bioactivity)과 면역력 향상(immunity improvement)에 의한 피부미용(skin care)과 발모(hair restore) 효과와 상처회복(recover wound) 목적의 선택 스위치이다.
또한, 상기의 마이컴(s 008; Micom)은 양식 스위치와 파형 제어 장치와 광원 모듈이 회로를 통하여 연동 되어 양식 스위치의 선택에 따라 구동되며, 광원모듈(s 012)에 구성된 제1 광원(s 013), 제2 광원(s 014), 제3 광원(s 015)을 선택하고 조합하여 전류 량의 조절과 파형(wave form)을 제어하여 구동하게 된다.
상기 제1 양식 스위치(s 003)는 제1 광원(s 013)과 제2 광원(s 014)과 제3 광원(s 015)이 선택되어, 전체 광의 세기는 0.5 J/㎠~15 J/㎠의 범위이고, 제1 광원(s 013)과 제2 광원(s 014)과 제3 광원(s 015)이 250 msec의 펄스넓이(PW) 및 250 msec의 펄스간격(pulse spacing)의 펄스 파형(pulse wave form)으로 구동되도록 전류 량과 파형이 마이컴(s 008; micom)을 통하여 제어된다.
상기 제2 양식 스위치(s 004)의 선택은 제1 광원(s 013)과 제3 광원(s 015)이 조합 되어 구동되고, 전체 광의 세기가 1 J/㎠~8 J/㎠의 범위이고, 제1 광원(s 013)과 제3 광원(s 015) 모두 연속파형(CW)으로 구동되도록 전류 량과 파형이 마이컴(s 008; micom)을 통하여 제어된다.
상기 제3 양식 스위치(s 005)는 제2 광원(s 014)과 제3 광원(s 015)이 조합되어 구동되고, 전체 광의 세기가 0.5 J/㎠~4J/㎠의 범위이고, 250 msec의 펄스넓이(PW) 및 250 msec의 펄스간격(pulse spacing)의 펄스 파형(pulse wave form)으로 구동되도록 전류 량과 파형이 마이컴(s 008)을 통하여 제어된다.
또한, 상기의 광원모듈(s 012)의 전면에는 제1 광원(s 013)과 제2 광원(s 014)과 제3 광원(s 015)에서 발산되는 혼합되지 않은 다 파장(multi wave)의 광선이 혼합(mixing)되기 전에 방출되는 것을 방지하고, 광을 혼합하는 혼합층(s 019; mixing layer)으로 광을 유도하는 격벽(partition wall; h 201)이 구성된다.
상기 격벽(partition wall; h 201)은 광선의 파장이 혼합되는 혼합층(s 019)과 혼합 된 광선을 집중하여 방출하는 광학렌즈(s 020)와 결합 된 형태로 구성된다.
상기 혼합층(s 019)은 격벽(partition wall; h 201)의 내부에 위치하여 광을 확산하고 혼합하는 필름 형태 및 판 형태의 다층 구조로 혼합 층(mixing layer; s 019)이 구성되고, 상기 혼합 층(mixing layer; s 019)의 전면에는 혼합파장의 광선을 집중 또는 확산하는 기능의 광학렌즈(s 020)가 혼합 층(mixing layer; h 019)과 일정한 유격을 두고 격벽(partition wall; h 201)과 결합 되어있는 구조로 구성된다.
상기 격벽의 내부에 위치한 혼합 층(mixing layer; s 019)은 복수구조의 다층(h 191, h 192, h 193)으로 구성되고, 산화 티타니윰, 실리카, 탄산 칼슘, PMMA, 유리 비드(bead) 등이 함유되어 있는 렌즈형태 또는, 필름형태 또는, 판 형태로 구성되어 파장이 상이한 제1 광원(s 013), 제2 광원(s 014), 제3 광원(s 015)에서 발산되는 각각의 파장을 균일하게 혼합하여 혼합된 파장의 광선을 광학렌즈(s 020)에 발산하게 된다.
상기 혼합층((mixing layer; s 019)에서 혼합된 광선은 상기의 광학렌즈(s 020)를 통하여 광학적으로 집중된 광선으로 피부에 직접 조사되거나, 광 전달 빗살(s 006)을 통하여 모발과 두피에 조사되게 된다.
상기 광학렌즈(s 020)의 전면에는 모발을 정리하고 광을 전달하는 투명한 재질의 광 전달 빗살(s 006)이 민머리 용도 또는, 빈모(貧毛) 용도 또는, 피부용도 또는, 발모촉진 용도 등의 모발상태와 사용처에 따라 탈착과 부착이, 가능한 구조로 구성된다.
상기와 같이 본 발명에서는 제1 광원(s 013), 제2 광원(s 014), 제3 광원(s 015)이 조합된 형태의 다 파장(multi wave)으로 광원모듈(s 012)이 구성되고, 상기 광원 모듈(s 012)의 전면에는 파장 혼합 층(mixing layer; s 019)을 구성하여 다 파장(multi wave)광원으로부터 발산된 복합파장(complex wave)의 광선이 혼합(mixing)된 혼합파장(multi wave mixing)의 광선이 방출되고, 상기의 혼합파장의 광선의 광을 다시 집중하여 방출하여 세포 각각에 혼합파장으로 조사되어 작용하며, 적외선 영역의 제3 광원(s 015)에 의한 세포 여기 작용과 파동에 의한 광선의 광 유도 역할에 의해 제1 광원(s 013) 및 제2 광원(s 014)에서 방출되는 광선의 피부 침투 깊이가 향상되는 등의 시너지 효과에 의해 광 요법 시간이 단축됨을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 특징으로는 소양증 및 통증 완화 기능과, 두피를 포함하는 피부 염증의 개선과 뼈와 모발에 영양을 공급하는 구루병과 골다공증 예방 및 치료기능과, 탈모방지 기능 및 양모의 기능과, 세포재생, 생체 활성 기능과 혈류개선으로 피부미용 및 발모를 촉진하는 기능이 하나의 장치에 모두 구성되어 적용됨이 종래의 피부미용 및 발모용 광 요법 장치와의 차이점이다.
이하 본 발명의 구체 실시 예를 통하여 본 발명을 설명한다.
이는 본 발명의 특징을 설명하기 위한 것으로 본 발명의 범위가 하기 실시 예의 범위로 국한되지 않는다.
제1 실시 예
하우징(s 001)은 사용자의 편의성을 도모하는 디자인의 외형과, 내부 구성물을 보호 하기 위한 목적으로써, 수지와 경금속의 재질이다.
상기 하우징(s 020)의 내부에 구성되어 있는 광원 부(s 011)와 제어 부(s 007)는 서로 연동 되도록 고안되어, 제1 양식 스위치(s 002)와 제2 양식 스위치(s 003)와 제3 양식 스위치(s 004) 중에서 선택된 신호는 마이컴(s 008)에 전달되고, 선택신호를 전달받은 상기 마이컴(s 008)에서는 사전 설정된 입력 값에 의해 구동 광원의 선택과, 파형과 전류 량을 조절하여 광원모듈(s 012)을 구동하고, 상기 광원 모듈(s 012)의 구동 광원에서 발산되는 각기 다른 파장의 빛은 혼합 층(s 019)에서 균일하게 파장이 분산되어 혼합파장((multi wave mixing))으로 광학렌즈(s 020)를 통하여 광이 방출되어 피부와 두피에 조사되거나, 광학렌즈(s 020) 전면에 추가로 구성된 광 전달 빗살(s 006)의 측면을 통한 방출로 혼합된 광선이 모발에 조사되고 상기 광 전달 빗살(s 006)의 둥근 끝을 통하여 광학적으로 집중된 혼합된 파장의 광선이 두피에 조사되게 된다.
상기의 광원 부(s 011) 구성으로는, 제1 광원(s 013)은 415nm 대역에서 피크 파장이 있는 단파장의 엘 이디(LED) 광원이고, 제2 광원(s 014)은 634nm대역에서 피크 파장이 있는 장파장의 엘 이디(LED) 광원이며, 제3 광원(s 015)은 850nm 대역에서 피크 파장이 있는 근 적외선의 엘 이디(LED) 광원이다.
상기 제1 광원(s 013), 제2 광원(s 014), 제3 광원(s 015)을 각각 10개씩 1:1:1의 비율로 조합하여 PCB기판(s 016)에 총 10개의 광원조합을 배열하고, PCB기판(s 016)의 배면에 PCB기판(s 016)과 동일한 면적의 방열판(s 017; heat sink)을 열전도 테이프를 이용하여 고정하여 광원 부(s 011)를 구성하고 하우징(s 001; housing)의 내부에 위치하도록 하였다.
상기의 광원모듈(s 012)의 광원조합 전면에는 격벽을 설치하고, 격벽의 내부에
광원으로부터 5mm의 유격을 두고 시판되고 있는 3M사의 확산필름(모델 NO; BEF 4-GMV2) 3매를 각 1mm 사이를 두고 3개의 층으로 설치하여 혼합 층(s 019; mixing layer)을 구성하였고, 상기 혼합 층(s 019)의 전면에는 지름 6.3mm 크기의 볼록렌즈(s 020)가 구성되고, 상기 광학렌즈(s 020)의 전면에는 무색 투명한 실리콘 재질로 사출되고 원기둥 형태에 끝이 볼록한 형태의 지름 2,7mm, 길이 25mm의
광 전달 빗살을 구성하였다.
상기의 하우징(s 001; housing) 외부의 일 측에 구성된 전원 스위치(s 002)와, 제1 양식스위치(s 003)와 제2 양식 스위치(s 004)와 제3 양식스위치(s 005) 및 하우징(s 001; housing)의 내부에 위치한 마이컴(s 008; micom)과, 파형 제어장치(s 010)와, 회로(s 009)로 제어 부(s 007)를 구성하였다.
상기와 같이 실시를 위한 장치를 구성하고 양식별로 광 요법 효과를 측정하였다.
415nm 대역에서 피크 파장이 있는 제1 광원(s 013)과 634nm 대역에서 피크 파장이 있는 제2 광원(s 014)과 850nm 대역에서 피크 파장이 있는 제3 광원(s 015)이 펄스 파형으로 구동되는 제1 양식으로 하루 2시간씩 최장 40일간 조사하여, 아토피, 여드름, 지루성 피부염을 포함하는 두피 염증의 완화에 의한 두피 케어(scalp care)와, 소양증의 완화에 대한 효과를 종래의 방법과 비교하였다.
. 두피 지루성 피부염 환자의 자가면역에 의해 발현하는 염증 호르몬인 사이토카인 호르몬의 분비 중단 시간과 CRT측정을 실시하고, 변화된 CRT지수에 의한 피부염 개선 정도와 가려움이 사라지는 소양증 개선 시간을 측정하여, 종래의 피부염 개선 방법과, 본 발명의 실시 예1의 제1 양식에 의한 방법에 대한 효과를 비교 실측한 결과는 아래의 표1 과 같다.
| 종래의 방법#1 |
종래의 방법#2 |
본 발명 제1 실시 예의 제1 양식 |
|
| 구동 광원 |
단일 광원 (자외선 또는 405nm) |
2가지 파장의 광원구성 (415nm+640nm) |
3가지 파장의 광원 (415nm+634nm+850nm) |
| 경증 지루성 피부염 환자 (CRT지수; 11mg/dl) 의사이토카인 호르몬 분비 억제 시간 및 CRT지수변화 |
8 시간 (CRT지수; 9mg/dl) |
3일 (CRT지수;9mg/dl) |
17 분 (CRT지수; 9mg/dl) |
| 중증 지루성 피부염 환자 (CRT지수; 16mg/dl)의 사이토카인 호르몬 분비 억제 시간 및 CRT지수 변화 |
7일 (CRT지수; 10mg/dl) |
4주(28일) (CRT지수;7mg/dl) |
1일 (CRT지수; 7mg/dl) |
| 소양증 개선 소요 시간 |
- |
- |
5 분 |
415nm 대역에서 피크 파장이 있는 제1 광원(s 013)과 850nm 대역에서 피크 파장이 있는 제3 광원(s 015)을 연속 파형으로 구동되는, 제2 양식으로 일 2시간씩 30일간 조사하고, 비타민 D 합성 원의 제공으로 모발에 영양을 공급하여 탈모를 방지하고 모발을 튼튼하게 양생하는 효과와, 염증 유발 원인균의 억제 효과와, 소양증 및 통증 완화 효과에 대하여 유추하였다.
발모촉진 작용이 있고 안전성이 높은 감광소 301호(takanal)을 사용하여 발모가 이루어진 환자를 대상으로, 새로 발모 된 모발이 중도 탈락 없이 25mm 길이로 육모 될 때까지의 성장 %와, 2시간 조사 후의 탈모 원인균인 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum)의 사멸에 대한 종래의 발모 장치 사용과 본 실시 예의 제2 양식에 의한 비교 결과는 다음의 표 2와 같다.
| 종래의 발모장치#1 |
종래의 발모장치#2 |
본 발명 제1 실시 예의 제2 양식 |
|
| 구동 광원의 피크파장(nm) |
단일 광원 (660nm) |
적외선 단일광원 (1500nm~15000nm) |
2가지 파장의 광원 (415nm+850nm) |
| 육모(%) |
42% |
27% |
64% |
| 모낭 충 사멸(%) |
5% 이하 |
24% 이하 |
68~87% |
634nm 대역에서 피크 파장이 있는 제2 광원(s 014)과 850nm 대역에서 피크 파장이 있는 근 적외선의 제3 광원(s 015)을 펄스 파형으로 구동하는, 제3 양식으로 하루 2시간씩 40일간 실시하여 발모 효과에 대하여 유추하였다.
종래의 광 요법 발모 방법과, 본 발명의 제1 실시 예의 제3 양식에 의한 방법으로 하루 2시간씩 탈모 환자에게 조사하여, 최초 발모가 나타나는 시간과 소양증 개선에 대한 비교 결과는 아래의 표3과 같다.
| 종래의 방법#1 |
종래의 방법#2 |
본 발명 제1 실시 예의 제3 양식 |
|
| 구동 광원 |
단일 광원 (660nm) |
적외선 단일광원 (1500nm~15000nm) |
2가지 파장의 광원 구동 (634nm+850nm) |
| 초기 탈모 환자의 최초 발모에 소요되는 시간 |
14일 |
27일 |
4일 |
| 중증 탈모 진행 환자의 최초 발모에 소요되는 시간 |
35일 |
40일 |
24일 |
| 소양증 개선 소요 시간 |
- |
- |
45 분 |
제2 실시 예
상기의 광원 부(s 011) 구성으로는 제1 광원(s 013)은 360nm 대역에서 피크 파장이 있는 자외선 엘 이디(LED) 광원이고, 제2 광원(s 014)은 660nm대역에서 피크 파장이 있는 장파장의 엘 이디(LED) 광원이며, 제3 광원(s 015)으로는 1,500nm∼15,000nm 의 대역에서 피크 파장이 있는 지름 62mm 크기의 필립스에서 생산되는 원 적외선 광원이다.
중앙에는 원적외선의 제3 광원이 위치하고 주변에 상기 제1 광원과 제2 광원을 각각 20개씩 1:1의 비율로 도넛 형태의 PCB기판(s 016)에 총 20개의 조합으로 배열하고, PCB기판(s 016)의 배면에 PCB기판(s 016)과 동일한 도넛 형태와 면적의 방열 판(s 017; heat sink)을 열전도 테이프를 이용하여 고정하여 광원 부(s 011)를 구성하고 하우징(s 001)의 내부에 위치하도록 하였다.
광원 부의 구성을 제외한 기타 나머지 구성은 실시 예 1과 동일하다.
360nm 대역에서 피크 파장이 있는 자외선 영역의 제1 광원(s 013)과, 660nm 대역에서 피크 파장이 있는 제2 광원(s 014)과, 1,500nm∼15,000nm 대역에서 피크 파장이 있는 제3 광원(s 015)이 펄스 파형으로 구동되는 제1 양식으로, 하루 2시간씩 최장 4주(28일) 동안 조사하여, 아토피, 여드름, 지루성 피부염을 포함하는 두피 염증의 완화에 의한 두피 케어(scalp care)와, 소양증의 완화에 대한 효과를 종래의 방법과 비교하였다.
. 두피 지루성 피부염 환자의 자가면역에 의해 발현하는 염증 호르몬인 사이토카인 호르몬의 분비 중단 시간과 CRT측정을 실시하고, 변화된 CRT지수에 의한 피부염 개선 정도와 가려움이 사라지는 소양증 개선 시간을 측정하여, 종래의 피부염 개선 방법과 본 발명의 실시 예2의 제1 양식에 의한 방법에 대한 효과를 비교 실측한 결과는 아래의 표4와 같다.
| 종래의 방법#1 |
종래의 방법#2 |
본 발명 제2 실시 예의 제1 양식 |
|
| 광원 구성 |
단일 광원 (자외선 또는 405nm) |
2가지 파장의 광원구성 (415nm+640nm) |
3가지 파장의 광원구성 (415nm+634nm +1,500nm∼15,000nm) |
| 경증 지루성 피부염 환자 (CRT지수; 11mg/dl) 변화 및 사이토카인 호르몬 분비 억제 시간 |
8 시간 (CRT지수; 9mg/dl) |
3일 (CRT지수;9mg/dl) |
24 분 (CRT지수; 9mg/dl) |
| 중증 지루성 피부염 환자 (CRT지수; 16mg/dl) 변화 및 사이토카인 호르몬 분비 억제 시간 |
7일 (CRT지수; 10mg/dl) |
4주(28일) (CRT지수;7mg/dl) |
2일 (CRT지수; 7mg/dl) |
| 소양증 개선에 소요된 시간 |
- |
- |
5 분 |
360nm 대역에서 피크 파장이 있는 자외선 영역의 제1 광원(s 013)과 1500nm ~15000nm 대역에서 피크 파장이 있는 적외선의 제3 광원(s 015)을 연속 파형으로 구동되는 제2 양식으로, 일 2시간씩 30일간 조사하고, 비타민 D 합성 원의 제공으로 모발에 영양을 공급하여 탈모를 방지하고 모발을 튼튼하게 양생하는 효과와, 염증 유발 원인균의 억제 효과와, 소양증 및 통증완화 효과에 대하여 유추하였다.
발모촉진 작용이 있고 안전성이 높은 감광소 301호(takanal)을 사용하여 발모가 이루어진 환자를 대상으로, 새로 발모 된 모발이 중도 탈락 없이 25mm 길이로 육모 될 때까지의 성장 %와, 2시간 조사 후의 탈모 원인균인 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum)의 사멸에 대한 종래의 발모 장치 사용과 본 실시 예 2의 제2 양식에 의한 비교 결과는 다음의 표 5와 같다.
| 종래의 발모장치#1 |
종래의 발모장치#2 |
본 발명 제2 실시 예의 제2 양식 |
|
| 구동 광원의 피크파장(nm) |
단일 광원 (660nm) |
적외선 단일광원 (1500nm~15000nm) |
2가지 파장의 광원 (360nm+1500 ~15000 nm) |
| 육모(%) |
42% |
27% |
68% |
| 모낭 충 사멸(%) |
5% 이하 |
24% 이하 |
87~98% |
660nm 대역에서 피크 파장이 있는 제2 광원(s 014)과 1500nm~15000nm 대역에서 피크 파장이 있는 적외선의 제3 광원(s 015)을 펄스 파형으로 구동하는, 제3 양식으로 하루 2시간씩 최장 40일간 실시하여 발모 효과에 대하여 유추하였다.
종래의 광 요법 발모 방법과, 본 발명의 제2 실시 예의 제3 양식에 의한 방법으로 하루 2시간씩 최장 40일간 탈모 환자에게 조사하여, 최초 발모가 나타나는 시간과 소양증 개선에 대한 비교 결과는 아래의 표6과 같다.
| 종래의 방법#1 |
종래의 방법#2 |
본 발명 제1 실시 예의 제3 양식 |
|
| 구동 광원 |
단일 광원 (660nm) |
적외선 단일광원 (1500nm~15000nm) |
2가지 파장의 광원 구동 (660nm+1500nm ~15000nm) |
| 초기 탈모 환자의 최초 발모에 소요되는 시간 |
14일 |
27일 |
8일 |
| 중증 탈모 진행 환자의 최초 발모에 소요되는 시간 |
35일 |
40일 |
29일 |
| 소양증 개선 소요 시간 |
- |
- |
3일 |
제3 실시 예
광원 부(s 011) 광원 구성으로는 제1 광원(s 013)은 430nm 대역에서 피크 파장이 있는 단파장의 엘 이디(led) 광원이고, 제2 광원(s 014)은 660nm대역에서 피크 파장이 있는 장파장의 엘디(LD) 광원이며, 제3 광원(s 015)은 980nm 의 대역에서 피크 파장이 있는 근 적외선의 엘이디(led) 광원이다.
상기 제1 광원(s 013), 제2 광원(s 014), 제3 광원(s 015)을 각각 10개씩 1:1:1의 비율로 조합하고 엘디(LD) 광원과 엘 이디(LED) 광원의 높이를 동일하게 하기 위하여 2단으로 PCB기판(s 016)을 적층하고 총 10개의 광원조합을 배열하였으며, 기타 장치의 구성은 실시 예 1과 동일하게 구성하였다.
상기와 같이 실시를 위한 장치를 구성하고 양식별로 광 요법 효과를 측정하였다.
430nm 대역에서 피크 파장이 있는 제1 광원(s 013)과 660nm 대역에서 피크 파장이 있는 제2 광원(s 014)과 980nm 대역에서 피크 파장이 있는 제3 광원(s 015)이 펄스 파형으로 구동되는, 제1 양식으로 하루 2시간씩 최장 40일간 조사하여, 아토피, 여드름, 지루성 피부염을 포함하는 두피 염증의 완화에 의한 두피 케어(scalp care)와, 소양증의 완화에 대한 효과를 종래의 방법과 비교하였다.
. 두피 지루성 피부염 환자의 자가면역에 의해 발현하는 염증 호르몬인 사이토카인 호르몬의 분비 중단 시간과 CRT측정을 실시하고, 변화된 CRT지수에 의한 피부염 개선 정도와 가려움이 사라지는 소양증 개선 시간을 측정하여, 종래의 피부염 개선 방법과, 본 발명의 실시 예3의 제1 양식에 의한 방법에 대한 효과를 비교 실측한 결과는 아래의 표7 과 같다.
| 종래의 방법#1 |
종래의 방법#2 |
본 발명 제3 실시 예의 제1 양식 |
|
| 구동 광원 |
단일 광원 (자외선 또는 405nm) |
2가지 파장의 광원구성 (415nm+640nm) |
3가지 파장의 광원 (430nm+660nm+980nm) |
| 경증 지루성 피부염 환자 (CRT지수; 11mg/dl) 의사이토카인 호르몬 분비 억제 시간 및 CRT지수변화 |
8 시간 (CRT지수; 9mg/dl) |
3일 (CRT지수;9mg/dl) |
70 분 (CRT지수; 9mg/dl) |
| 중증 지루성 피부염 환자 (CRT지수; 16mg/dl)의 사이토카인 호르몬 분비 억제 시간 및 CRT지수 변화 |
7일 (CRT지수; 10mg/dl) |
4주(28일) (CRT지수;7mg/dl) |
3일 (CRT지수; 7mg/dl) |
| 소양증 개선 소요 시간 |
- |
- |
7 분 |
415nm 대역에서 피크 파장이 있는 제1 광원(s 013)과 850nm 대역에서 피크 파장이 있는 제3 광원(s 015)을 연속 파형으로 구동되는, 제2 양식으로 일 2시간씩 30일간 조사하고, 비타민 D 합성 원의 제공으로 모발에 영양을 공급하여 탈모를 방지하고 모발을 튼튼하게 양생하는 효과와, 염증 유발 원인균의 억제 효과와, 소양증 및 통증 완화 효과에 대하여 유추하였다.
발모촉진 작용이 있고 안전성이 높은 감광소 301호(takanal)을 사용하여 발모가 이루어진 환자를 대상으로, 새로 발모 된 모발이 중도 탈락 없이 25mm 길이로 육모 될 때까지의 성장 %와, 2시간 조사 후의 탈모 원인균인 데모덱스 모낭 충(Demodex folliculorum)의 사멸에 대한 종래의 발모 장치 사용과 본 실시 예 3의 제2 양식에 의한 비교 결과는 다음의 표 8과 같다.
| 종래의 발모장치#1 |
종래의 발모장치#2 |
본 발명 제3 실시 예의 제2 양식 |
|
| 구동 광원의 피크파장(nm) |
단일 광원 (660nm) |
적외선 단일광원 (1500nm~15000nm) |
2가지 파장의 광원 (430nm+980nm) |
| 육모(%) |
42% |
27% |
52% |
| 모낭 충 사멸(%) |
5% 이하 |
24% 이하 |
60~74% |
660nm 대역에서 피크 파장이 있는 엘디(LD)의 제2 광원(s 014)과 980nm 대역에서 피크 파장이 있는 근 적외선의 제3 광원(s 015)을 펄스 파형으로 구동하는, 제3 양식으로 하루 2시간씩 최장 40일간 실시하여 발모 효과에 대하여 유추하였다.
종래의 광 요법 발모 방법과, 본 발명의 제3 실시 예의 제3 양식에 의한 방법으로 하루 2시간씩 탈모 환자에게 조사하여, 최초 발모가 나타나는 시간과 소양증 개선에 대한 비교 결과는 아래의 표9와 같다.
| 종래의 방법#1 |
종래의 방법#2 |
본 발명 제1 실시 예의 제3 양식 |
|
| 구동 광원 |
단일 광원 (660nm) |
적외선 단일광원 (1500nm~15000nm) |
2가지 파장의 광원 구동 (634nm+850nm) |
| 초기 탈모 환자의 최초 발모에 소요되는 시간 |
14일 |
27일 |
3일 |
| 중증 탈모 진행 환자의 최초 발모에 소요되는 시간 |
35일 |
40일 |
20일 |
| 소양증 개선 소요 시간 |
- |
- |
90 분 |
상기의 제1 실시 예와, 제2 실시 예와, 제3 실시 예의 양식별 실시 결과에 의하면, 본 발명의 방법이 종래의 발모장치보다 탈모의 원인인 염증 원인균의 억제와 육모 효과가 높고, 피부 염증 개선과 발모에 소요되는 시간이 단축되었으며, 소양증에 대한 개선 효과가 있음이 확인되었다.
또한, 본 발명의 광원 구성 중에서 자외선을 제1 광원으로 사용하는 제2 실시 예가 단파장을 제1 광원으로 하는 제1 실시 예와 제3 실시 예에 비하여 육모 율은 비슷하지만 염증 원인균의 사멸에는 가장 우수한 효과가 발휘됨을 확인할 수 있고, 제3 실시 예의 엘디(LD) 광원이 제1 실시 예와 제2 실시 예의 엘 이디(LED) 광원보다 발모효과가 우수함을 확인할 수 있었다.
상기한 바와 같이 본 발명의 두피 케어(scalp care) 및 발모용 광 요법 장치는 각기 다른 파장을 갖는 2가지 이상의 광원의 빛이 균일하게 혼합되어 피부 세포 단위에 혼합파장으로 조사되고, 적외선 파장인 제3 광원에서 발산되는 빛의 파동과 세포 여기에 의한 광 유도 효과에 의해 제1 광원과 제2 광원에서 발산되는 파장의 광선을 포함하는 혼합된 광선의 피부 침투 깊이가 향상되어, 모구(hair bulb)의 피하조직(subcutaneous tissue)에 혼합된 파장의 광선이 세포단위에 작용하게 되고, 개개의 고유한 파동과 파장의 복합 작용에 의해 광 요법 효과가 빠르게 발현되게 되는 것이다.
또한, 염증 원인균의 사멸 효과의 광선과, 세포재생 효과의 광선과, 소양증 개선 효과가 있는 광선이 혼합되어 세포단위에 작용하게 되고, 혼합광선의 복합 작용에 의해 피부 염증 원인균의 억제와 상처회복 효과에 의해 피부 염증이 개선되는 효과와 탈모를 예방하는 효과가 있게 되는 것이다.
또한, 세포재생 효과의 광선과, 혈류개선 효과 광선의 복합 작용에 의해 체내 산화 질소가 발생이 되어 모낭 내의 노폐물이 배출되고, 모세혈관의 형성과 확장에 의한 혈류의 개선으로 모발을 만들어내는 모모세포(keratinocyte cell)가 증식되어 피부미용 효과와 발모 효과가 향상되게 되는 것이다.
또한, 뼈와 모발의 영양분인 비타민 D 합성 원의 공급으로, 구루병과 골다공증이 개선되고 모발이 튼튼하게 육모 되는 효과가 있게 되는 것이다.
또한, 소양증의 개선에 의한 고통의 감소와, 피부 염증개선 및 두피케어(scalp care) 기능과, 피부 미용 및 발모 기능이 하나의 장치에 구성되어 육모 관리가 용이하고 사용자의 편의성이 개선되는 효과가 있게 되는 것이다.
본 발명은 상기한 특징의 바람직한 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지에 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시할 수 있는 것은 물론, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 내에 있게 된다.
1) 본 발명의 제1 양식의 광원 구성은 아토피, 여드름, 비염, 대상포진, 관절염, 지루성 피부염 등의 모든 염증의 개선과 치료용의 광 요법 장치의 광원구성으로 이용될 수 있다.
2) 본 발명의 제2 양식의 광원 구성은 육모 및 발모용 광 요법 장치와 구루병, 골다공증의 광 요법 치료기의 광원 구성으로 이용될 수 있다.
3) 본 발명의 제3 양식의 광원 구성은 피부미용 및 생체 활성 장치 또는, 발모용 장치 또는, 탈모방지용의 광 요법 장치의 광원구성에 이용될 수 있다.
4) 본 발명의 격막과 혼합층이 구성되어 혼합광선을 방출하는 광학 부의 구조는 다파장 광원구성을 갖는 모든 광 요법 장치에 이용될 수 있다.
5) 본 발명의 적외선 광원이 포함된 다파장 광원 구성은, 모든 광 요법 장치의 광 요법 효과를 향상시키기 위한 목적으로 이용될 수 있다.
s 001; 하우징
h 001; 열 방출 구
s 002; 전원 스위치
s 003; 제1 양식 스위치(피부 염증 및 두피케어 기능)
s 004; 제2 양식 스위치(소양증 개선 및 육모 기능)
s 005; 제3 양식 스위치(피부미용 및 발모 기능)
s 006; 광 전달 및 모발 정리용 투명 빗살
h 061; 모발용 측면 발광
h 062; 두피용 집중 발광
s 007; 제어부
s 008; 마이컴
s 009; 회로
s 010; 연속파/펄스파(CW/PW) 파형 변환장치
s 011; 광원 부
s 012; 광원 모듈
s 013; 제1 광원(자외선 ~ 430nm 이하의 단파장 광원)
s 014; 제2 광원(630nm 이상의 장파장 광원)
s 015; 제3 광원(적외선 대역)
s 016; PCB 회로기판
s 017; 방열 판(heat sink)
s 018; 광학 부
s 019; 혼합 층(mixing layer)
h 191; 제1 확산 층
h 192; 제2 확산 층
h 193; 제3 확산 층
s 020; 광학렌즈
h 201; 격벽(partition wall)
h 001; 열 방출 구
s 002; 전원 스위치
s 003; 제1 양식 스위치(피부 염증 및 두피케어 기능)
s 004; 제2 양식 스위치(소양증 개선 및 육모 기능)
s 005; 제3 양식 스위치(피부미용 및 발모 기능)
s 006; 광 전달 및 모발 정리용 투명 빗살
h 061; 모발용 측면 발광
h 062; 두피용 집중 발광
s 007; 제어부
s 008; 마이컴
s 009; 회로
s 010; 연속파/펄스파(CW/PW) 파형 변환장치
s 011; 광원 부
s 012; 광원 모듈
s 013; 제1 광원(자외선 ~ 430nm 이하의 단파장 광원)
s 014; 제2 광원(630nm 이상의 장파장 광원)
s 015; 제3 광원(적외선 대역)
s 016; PCB 회로기판
s 017; 방열 판(heat sink)
s 018; 광학 부
s 019; 혼합 층(mixing layer)
h 191; 제1 확산 층
h 192; 제2 확산 층
h 193; 제3 확산 층
s 020; 광학렌즈
h 201; 격벽(partition wall)
Claims (7)
- 2가지 이상의 파장의 광원으로 구성된 광원 모듈에서 발산되는 다 파장(multi wave)의 광선이 혼합된 후에 광선을 방출하여, 세포 단위에 혼합파장(multi mixing wave)의 빛이 조사되도록 구성된 광 요법 장치
- 염증 유발 원인균의 활동 억제와 사멸로 두피를 포함하는 피부 염증의 치료와 비타민 D의 합성으로 모(毛)를 굵고 튼튼하게 양생시켜 탈모를 방지하고 뼈에 칼슘의 공급을 원활히 하여 구루병을 치료하는 250nm ~ 430nm의 파장 대역에 피크 파장이 있는 자외선 및 단파장 영역의 제1 광원과, 혈류개선 및 세포재생으로 발모 효과가 있는 630nm ~ 690nm의 파장 대역에 피크 파장이 있는 장파장 영역인 제2 광원과, 소양증의 완화 및 생체 활성 효과와 광의 피부 침투 깊이를 향상시키는 780nm 이상의 파장 대역에 피크 파장이 있는 적외선 영역의 제3 광원으로 구성된, 다 파장의 광원으로 조합을 이루고 상기 광원조합이 다수개의 영역으로 PCB 회로기판에 장착되어 광원 모듈이 구성된 광 요법 장치
- 430nm 이하 대역에서 피크 파장이 있는 제1 광원에 의한 비타민 D의 합성과 적외선 영역의 제3 광원의 신체활성과 광 유도작용에 의해, 모발과 뼈에 영양 제공과 면역력 향상작용에 의해 탈모를 방지하고 모발을 양생하는, 육모 목적과 탈모 방지 목적과 구루병 치료 및 골밀도 향상 목적의 광 요법 장치
- 430nm 이하 대역에서 피크 파장이 있는 자외선 및 단 파장 영역의 제1 광원과, 630nm 이상의 대역에서 피크 파장이 있는 장파장 영역의 제2 광원과, 780nm 이상의 대역에서 피크 파장이 있는 적외선 영역의 제3 광원에서 발산되는 광선이 혼합된 복합파장의 빛에 의해 지루성 피부염(seborrheic dermattis), 아토피성 피부염(atopic dermatitis), 여드름(acne), 대상포진(herpes zoster), 비염(rhinitis), 관절염(arthritis) 등의 염증 치료 작용에 의한 피부 염증개선(improvementinfection)과, 탈모방지(prevention of hair loss)와, 소양증(pruritus) 완화와, 골다공증 개선과, 당뇨환자(diabetic patient)의 상처 회복(recover wound)을 촉진하는 목적의 광 요법 장치
- 630nm이상의 대역에서 피크 파장이 있는 제2 광원과 780nm이상의 대역에서 피크 파장이 있는 적외선 영역의 제3 광원의 혼합된 복합파장의 광선에 의한 콜라겐(collagen) 생성과 엘라스틴(elastin) 재생과 세포재생(cell restoration)과 모낭 세포(follicular cell)의 자극과 혈류개선(pulse magnetic field)과 생체 활성(bioactivity)과 면역력 향상(immunity improvement)에 의한 피부미용(skin care)의 효과와, 발모(hair restore) 효과와, 상처회복(recover wound)효과를 목적으로 하는 광 요법 장치
- 두피를 포함하는 피부의 소양증 및 염증의 개선기능과, 비타민D 합성에 의한 육모 기능과, 세포재생 및 혈류개선에 의한 발모 기능과 피부미용 기능과 구루병 및 골다공증 개선 기능이 하나의 장치에 구성된 광 요법 장치
- 민머리를 포함하는 피부용과, 모발용의 용도가 선택 가능하도록 광 전달 빗살의 결합과 분리가, 가능하도록 구성된 광 요법 장치
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- 2013-09-23 KR KR1020130112405A patent/KR101598665B1/ko active IP Right Grant
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