KR20150001838U - 입자 분배장치 - Google Patents

Abstract

본 고안에 의한 입자 분배장치는, 상측이 개방된 원통 형상으로 형성되며, 수직 중심축을 중심으로 셋 이상의 배출구가 방사형을 이루도록 배열되어 측벽에 형성되고, 각각의 배출구에 배출관이 구비되는 트러프; 상기 트러프의 상부를 덮도록 결합되며, 수직중심선 상에 투입구가 형성되어 상기 트러프의 바닥판 중심으로 입자 공급을 유도하는 커버; 상기 트러프의 하측에 장착되는 베이스 플레이트; 상기 베이스 플레이트에 결합되어, 상기 트러프의 수직 중심축을 회전축으로 일정각도 회전되는 성분을 갖는 상하방향 진동을 상기 트러프의 저면 중심부에 인가하는 바이브레이터;를 포함하여 구성된다. 본 고안에 의한 입자 분배장치는, 다량의 입자가 한 번에 공급되더라도 입자들이 뭉치는 현상 없이 고르고 원활하게 분배시킬 수 있고, 공기분사기를 생략할 수 있어 내부 구성이 간단해지며, 입자 분배비율 및 분배 개수를 간편하게 조정할 수 있어 활용도가 매우 높다는 장점이 있다.

Description

입자 분배장치 {Particle dispenser}

본 고안은 분말 등과 같은 미세 입자를 고르게 분배하기 위한 분배장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 다수 개의 입자들이 뭉치는 현상 없이 고르고 원활하게 분배될 수 있고, 필요에 따라 분배비율을 조정할 수 있도록 구성되는 입자 분배장치에 관한 것이다.

통상적으로, 석탄, 시멘트원료, 밀가루, 미분탄, 알루미나와 같은 입자상물질을 여러 개의 지관으로 균등 분배하는 장치로는 스플리터(splitter)를 구비하는 입자 분배장치가 가장 널리 이용되고 있다.

일반적으로 스플리터형 입자 분배장치는, 원료저장탱크의 하부에 설치된 지관에 각각 연결되는 분지통로를 형성하여, 각각의 분지통로에 고압의 공기를 불어넣음으로써 입자상물질을 지관에 분배하도록 구성된다.

이러한 스플리터형 입자 분배장치는, 설비구조가 간단하고 추가적인 설비를 요구하지 않으면서 여러 개의 지관으로 입자상물질을 분배할 수 있다는 장점이 있으나, 원료저장탱크 하부를 여러 개의 분지통로로 나눈 부분에서 막힘 현상이 자주 발생하고, 각 지관별로 원료공급을 중단할 필요가 있을 때 이를 조절할 수 없으며, 균등분배의 정확도가 저하되는 단점을 가진다.

이를 보완하기 위하여 최근에는 회전식 피더형 균등분배장치가 사용되어지고 있지만, 원료물질의 균등분배문제는 해결된 반면, 압축공기를 이용하여 원료물질을 이송할 경우 많은 양의 시료가 동시에 포켓으로부터 떨어짐으로 인하여 맥동현상이 발생하고, 이러한 맥동현상은 리시버탱크(Receiver Tank)에 설비의 충격을 가함으로서 설비의 수명을 단축시키는 문제점을 야기하며, 또한 각각의 지관에 대한 통제가 불가능해 여러 개의 이송라인 중 어느 하나의 이송라인에 문제가 발생할 경우 전체 설비를 중단시켜야 하는 문제점이 있었다.

또한, 상기 언급한 입자 분배장치들은, 입자들을 균등하게 분배하도록 구성되어 있을 뿐 분배 비율을 조정할 수는 없으며, 압축공기 분사가 필수적으로 요구되는바 상기 압축공기에 의해 미세 입자들이 날린다는 단점이 있다.

KR 20-2000-0012736 A1

본 고안은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 입자가 뭉치는 현상 없이 고르고 원활하게 분배될 수 있고, 공기분사기를 생략할 수 있어 내부 구성이 간단하며, 입자 분배비율 및 분배 개수를 간편하게 조정할 수 있는 입자 분배장치를 제공하는데 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 고안에 의한 입자 분배장치는, 상측이 개방된 원통 형상으로 형성되며, 수직 중심축을 중심으로 셋 이상의 배출구가 방사형을 이루도록 배열되어 측벽에 형성되고, 각각의 배출구에 배출관이 구비되는 트러프; 상기 트러프의 상부를 덮도록 결합되며, 수직중심선 상에 투입구가 형성되어 상기 트러프의 바닥판 중심으로 입자 공급을 유도하는 커버; 상기 트러프의 하측에 장착되는 베이스 플레이트; 상기 베이스 플레이트에 결합되어, 상기 트러프의 저면 중 중심부와 이격된 지점에 수직방향과 교차하는 방향의 진동을 인가하는 바이브레이터;를 포함하여 구성된다.

상기 베이스 플레이트 하측에 위치되되 상측단에 플랜지가 형성된 거치대와, 상기 베이스 플레이트의 저면 가장자리와 상기 플랜지의 상면 사이에 장착되어 상기 베이스 플레이트를 탄성 지지하는 탄성수단을 더 포함한다.

상기 배출관은 상기 트러프 내벽의 접선 방향으로 연장되도록 구성된다.

상기 트러프의 측벽에는, 상기 각각의 배출구를 독립적으로 개폐시키는 개폐도어가 구비된다.

상기 개폐도어는, 수평방향 미닫이 구조로 상기 배출구를 개폐시키도록 장착되어 상기 배출구의 개방 비율이 조정 가능하도록 구성된다.

상기 트러프 측벽에는 6개의 배출구가 등간격으로 배열되도록 구성된다.

상기 트러프의 바닥판은, 가운데 부위가 높고 가장자리 부위가 낮도록 경사지게 형성된다.

본 고안에 의한 입자 분배장치는, 다량의 입자가 한 번에 공급되더라도 입자들이 뭉치는 현상 없이 고르고 원활하게 분배시킬 수 있고, 공기분사기를 생략할 수 있어 내부 구성이 간단해지며, 입자 분배비율 및 분배 개수를 간편하게 조정할 수 있어 활용도가 매우 높다는 장점이 있다.

도 1은 본 고안에 의한 입자 분배장치의 사시도이다.
도 2는 본 고안에 의한 입자 분배장치의 분해사시도이다.
도 3은 본 고안에 의한 입자 분배장치의 수직단면도이다.
도 4는 트러프로 공급된 입자의 이동경로를 도시하는 수평단면도이다.
도 5는 본 고안에 포함되는 트러프의 제2 실시예 사시도이다.
도 6은 본 고안에 포함되는 트러프의 사용상태를 도시하는 수평단면도이다.
도 7은 본 고안에 포함되는 트러프의 제3 실시예 수직단면도이다.
도 8은 본 고안에 포함되는 트러프의 제4 실시예 수평단면도이다.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안에 의한 입자 분배장치의 실시예를 상세히 설명한다.

도 1은 본 고안에 의한 입자 분배장치의 사시도이고, 도 2는 본 고안에 의한 입자 분배장치의 분해사시도이며, 도 3은 본 고안에 의한 입자 분배장치의 수직단면도이고, 도 4는 트러프로 공급된 입자의 이동경로를 도시하는 수평단면도이다.

본 고안에 의한 입자 분배장치는 밀가루나 석탄가루, 시멘트원료 분말 등과 같은 입자상물질을 고르게 분배하기 위한 입자 분배장치에 관한 것으로서, 입자물질이 공급되는 트러프(400)와, 상기 트러프(400)의 상부를 덮도록 결합되며 수직중심선 상에 투입구(510)가 형성되어 상기 트러프(400)의 바닥판 중심으로 입자 공급을 유도하는 커버(500)와, 상기 트러프(400)의 하측에 장착되는 베이스 플레이트(200)와, 상기 베이스 플레이트(200)에 결합되어 상기 트러프(400)에 진동을 인가하는 바이브레이터(300)를 포함하여 구성된다.

상기 트러프(400)는, 외부로부터 다량의 입자물질을 공급받을 수 있도록 상측이 개방된 원통 형상으로 형성되며, 내측으로 공급된 다량의 입자물질이 분배되어 배출될 수 있도록 측벽에는 셋 이상의 배출구(410)가 형성된다. 이때, 상기 셋 이상의 배출구(410)는 트러프(400)의 수직 중심축을 중심으로 방사형을 이루도록 즉, 상기 트러프(400)의 원주방향을 따라 등간격으로 배열되며, 각각의 배출구(410)에는 입자물질의 배출방향을 가이드하기 위한 배출관(420)이 구비된다.

한편, 본 실시예에서는 커버(500)와 트러프(400)의 가장자리를 감싸도록 결합되는 체결링(600)에 의해 커버(500)가 트러프(400)에 결합되고, 트러프(400)와 베이스 플레이트(200)의 가장자리를 감싸도록 결합되는 체결링(600)에 의해 트러프(400)가 베이스 플레이트(200)에 결합되는 경우만을 도시하고 있으나, 상기 체결링(600)의 형상 및 결합구조는 다양하게 대체될 수 있다.

이와 같이 구성되는 본 고안에 의한 입자 분배장치를 이용하여 입자물질을 분배시키고자 하는 경우에는, 도 3에 도시된 바와 같이 커버(500)의 투입구(510)를 통해 입자물질을 트러프(400) 내측으로 공급하면서 바이브레이터(300)를 동작시켜 트러프(400)의 바닥판을 진동시킨다. 이때, 상기 바이브레이터(300)는 트러프(400)의 저면(더 명확하게는 트러프(400) 바닥판의 저면) 중심부에 수직방향으로 진동을 인가하는 것이 아니라, 트러프(400)의 저면 중심부와 일정 간격 이격된 지점에 수직방향과 교차하는 방향으로 즉, 약간 비스듬히 경사진 방향으로 진동을 인가하도록 구성된다. 따라서 상기 트러프(400) 바닥판은 단순히 수직 상하 방향으로만 진동되는 것이 아니라, 트러프(400) 바닥판의 수직 중심축을 중심으로 회전하는 비틀림 응력을 받으면서 상하 방향으로 진동되므로, 트러프(400)의 바닥판 중심으로 공급된 입자물질들은 트러프(400)의 바닥판이 진동될 때 트러프(400)의 바닥판 상에서 상하로 튀면서 트러프(400) 바닥판의 원주방향으로 회전하여 원심력을 받게 된다. 결과적으로 트러프(400) 바닥판에 공급된 입자물질들은, 트러프(400) 바닥판의 진동이 지속됨에 따라 도 4에 도시된 화살표 방향과 같이 트러프(400) 바닥판의 중심점을 기준으로 나선형을 그리면서 트러프(400)의 가장자리로 밀려나게 된다.

트러프(400)의 가장자리로 밀려난 입자물질은 트러프(400)의 측벽에 막혀 트러프(400)의 바닥판 중심으로부터 더 이상 멀어지지 못하고 트러프(400)의 측벽을 타고 이동하다가, 배출구(410)를 통해 외부로 배출된다. 이때, 트러프(400)의 바닥판에 공급된 입자물질들이 트러프(400)의 가장자리를 향해 나선형으로 분산될 때에는 어느 일측 방향으로 집중되는 것이 아니라 트러프(400)의 가장자리 전체에 걸쳐 고르게 분산되며, 트러프(400)의 측벽에 형성된 배출구(410)들은 트러프(400)의 원주방향을 따라 등간격으로 배열되는바, 입자물질이 각각의 배출구(410)로 유입되는 비율은 일정하게 설정된다. 예를 들어 본 실시예에 도시된 바와 같이 하나의 트러프(400)에 3개의 배출구(410) 및 배출관(420)이 구비되는 경우, 트러프(400)의 중심측으로 공급된 입자물질은 각각의 배출관(420)으로 1/3씩 분배된다.

또한, 본 고안에 의한 입자 분배장치를 이용하여 입자물질을 분배하는 경우, 상기 입자물질들이 트러프(400)의 바닥면을 타고 미끄러지듯이 이동하는 것이 아니라, 바이브레이터(300)의 진동에 의해 상하로 튀면서 이동하므로, 입자물질들이 뭉치는 현상이 방지되고, 이에 따라 상기 입자물질들을 보다 균등하게 분배할 수 있다는 장점이 있다.

이때, 트러프(400)의 내벽을 타고 이동하던 입자물질이 배출구(410)로 유입될 때에는, 배출구(410)로 유입되는 시점에서의 트러프(400) 내벽과 접선을 이루는 방향으로 이동하게 된다. 따라서 상기 배출관(420)은, 입자물질이 배출구(410)로 유입될 때의 운동 방향 그대로 배출관(420)을 지나도록 하여 상기 입자물질의 운동량 감소를 최소화시킬 수 있도록 즉, 입자물질이 배출구(410)로 유입되는 지점에서의 트러프(400) 내벽의 접선 방향으로 연장되도록 구성됨이 바람직하다.

한편, 상기 바이브레이터(300)가 진동을 발생시킬 때 베이스 플레이트(200) 측으로도 진동이 인가되므로, 상기 베이스 플레이트(200)가 지면에 직접 안착되도록 구성되면 바이브레이터(300) 진동 시 베이스 플레이트(200)와 지면 간의 충돌로 인해 소음이 크게 발생될 뿐만 아니라, 상기 베이스 플레이트(200)에 충격력이 인가되어 상기 베이스 플레이트(200) 및 이에 결합된 바이브레이터(300)가 손상될 우려가 있다. 따라서 본 고안에 의한 입자 분배장치는 베이스 플레이트(200)가 지면에 직접 안착되는 것이 아니라 상하 방향으로 완충력을 갖는 구조로 안착되도록 구성됨이 바람직하다. 즉, 본 고안에 의한 입자 분배장치는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 베이스 플레이트(200) 하측에 위치되되 상측단에 플랜지(110)가 형성된 거치대(100)와, 상기 베이스 플레이트(200)의 저면 가장자리와 상기 플랜지(110)의 상면 사이에 장착되어 상기 베이스 플레이트(200)를 탄성 지지하는 탄성수단(210)이 추가로 구비됨이 바람직하다.

이와 같이 상기 베이스 플레이트(200)가 거치대(100)에 고정 결합되는 것이 아니라 상하방향으로 압축 탄성을 갖는 탄성수단(210)을 매개체로 상기 거치대(100)에 안착되면, 바이브레이터(300)의 작동에 의해 베이스 플레이트(200)가 상하로 진동되더라도 상기 진동이 탄성수단(210)에 흡수되는바, 상기 거치대(100)로는 진동이 전달되지 아니하게 된다. 따라서 지면과의 충돌로 인해 소음이 발생되거나 부품이 손상되는 등의 문제가 발생되지 아니하게 된다는 장점이 있다. 이때, 상기 탄성수단(210)의 탄성계수 및 장착 개수는, 베이스플레이트 및 트러프(400)의 무게와 바이브레이터(300)의 진동특성 등 여러 가지 조건에 따라 다양하게 변경될 수 있다.

한편, 본 실시예에서는 베이스 플레이트(200)를 탄성 지지하는 탄성수단(210)이 상하방향으로 압축 및 복원되는 코일형 스프링으로 적용되는 경우만을 도시하고 있으나, 상기 탄성수단(210)은 판 스프링이나 핀 스프링 등 다양한 종류의 스프링으로 대체될 수 있다. 더 나아가, 베이스 플레이트(200)의 진동을 흡수할 수 있다면, 스펀지 등과 같은 탄성물질로 대체될 수도 있다. 그러나 상기 베이스 플레이트(200)에는 바이브레이터(300) 뿐만 아니라 트러프(400) 및 커버(500) 등 각종 구성요소들이 장착되므로, 상기 탄성수단(210)은 큰 중량의 물체를 보다 안정적으로 탄성 지지할 수 있도록 본 실시예에 도시된 바와 같이 코일형 스프링으로 적용됨이 바람직하다.

도 5는 본 고안에 포함되는 트러프(400)의 제2 실시예 사시도이고, 도 6은 본 고안에 포함되는 트러프(400)의 사용상태를 도시하는 수평단면도이다.

본 고안에 의한 입자 분배장치는, 각 배출구(410)로의 입자물질 유입여부를 설정할 수 있도록, 상기 각각의 배출구(410)를 독립적으로 개폐시키는 개폐도어(412)가 트러프(400)의 측벽에 구비될 수 있다. 이와 같이 배출구(410)를 개폐시키는 개폐도어(412)가 구비되면, 사용자는 각 배출구(410)의 개폐 여부를 선택함으로써, 각각의 배출관(420)으로 유입되는 입자물질의 비율을 조절할 수 있다는 장점이 있다.

예를 들어, 도 6에 도시된 바와 같이 3개의 배출구(410) 중 상측에 위치하는 배출구(410)는 개폐도어(412)로 막고 나머지 배출구(410)는 개방시킨 상태에서 트러프(400)로 다량의 입자물질을 공급시키면서 바이브레이터(300)를 작동시키면, 도 6에 도시된 화살표와 같이 왼쪽 하측에 위치하는 배출관(420)으로는 도 4에 도시된 경우와 마찬가지로 트러프(400)로 공급된 입자물질 중 1/3이 유입되지만, 오른쪽 하측에 위치하는 배출관(420)으로는 상측에 위치하는 배출구(410)로 유입될 입자물질까지 추가적으로 유입된다. 즉, 왼쪽 하측에 위치하는 배출관(420)으로는 전체 입자물질의 1/3이 유입되고, 오른쪽 하측에 위치하는 배출관(420)으로는 전체 입자물질의 2/3가 유입된다. 이와 같이 본 고안에 의한 입자 배출장치를 이용하는 경우, 사용자는 각 배출구(410)의 개폐 여부를 적절히 선택 조합함으로써, 각 배출관(420)으로의 입자물질 유입량을 다양한 비율로 조절할 수 있게 된다.

또한 상기 개폐도어(412)는, 도 5에 도시된 바와 같이 수평방향 미닫이 구조로 설치되어, 각 배출구(410)의 개방 비율을 조정할 수 있도록 구성될 수 있다. 이와 같이 각 배출구(410)의 개방 비율이 조절 가능하도록 구성되면, 사용자는 각 배출관(420)으로 유입되는 입자물질의 비율을 더욱 다양하게 조절할 수 있다는 장점이 있다.

예를 들어 개폐도어(412)를 절반가량 열면 상기 개폐도어(412)를 완전 개방시켰을 때에 비해 입자물질이 절반가량만 유입되도록 설정된 경우, 도 6에 도시된 상태에서 상측 배출구(410)를 닫고 있던 개폐도어(412)를 절반가량 열게 되면, 상측 배출관(420)으로는 전체 공급 입자물질의 1/6이 유입되고, 오른쪽 하측 배출관(420)으로는 3/6의 입자물질이 유입되며, 왼쪽 하측 배출관(420)으로는 2/6의 입자물질이 유입되도록 할 수 있다.

이와 같이 상기 개폐도어(412)가 수평방향으로 슬라이딩되면서 배출구(410)를 개폐시키도록 구성되면, 사용자는 입자물질 분배비율을 다양하게 조정할 수 있으므로, 본 고안에 의한 입자 분배장치의 활용도가 매우 높아진다는 장점이 있다.

도 7은 본 고안에 포함되는 트러프(400)의 제3 실시예 수직단면도이다.

본 고안에 의한 입자 분배장치는 트러프(400)의 바닥판 중심부로 공급된 입자물질이 트러프(400)의 가장자리로 고르게 퍼지면서 분배되도록 구성되는바, 입자물질의 분배가 보다 빠르게 이루어지기 위해서는 트러프(400) 바닥판에 위치한 입자물질이 보다 빠르게 트러프(400)의 가장자리로 이동되어야 한다. 이때, 바이브레이터(300)의 진동 세기를 증가시키면 입자물질의 이동이 빨라질 수 있지만, 진동 세기를 증가시키기 위해서는 바이브레이터(300)를 큰 규격으로 교체해야 하고, 보다 많은 양의 전력이 요구된다는 단점이 있다.

따라서 본 고안에 의한 입자 분배장치는, 바이브레이터(300)의 진동 세기를 증가시키지 아니하더라도 입자물질의 이동속도를 향상시킬 수 있도록, 도 7에 도시된 바와 같이 상기 트러프(400)의 바닥판을 볼록한 형상 즉, 가운데 부위가 높고 가장자리 부위가 낮도록 경사진 형상으로 제작함이 바람직하다. 이와 같이 트러프(400)의 바닥판이 가장자리로 갈수록 하향 경사지게 형성되면, 트러프(400)의 중심부로 공급된 입자물질이 보다 빠르게 트러프(400) 가장자리로 이동될 수 있으므로, 단위 시간 내에 보다 많은 양의 입자물질을 분배시킬 수 있다는 장점이 있다.

도 8은 본 고안에 포함되는 트러프(400)의 제4 실시예 수평단면도이다.

본 고안에 의한 입자 분배장치는 배출관(420)의 개수만큼 입자물질을 분배시킬 수 있으므로, 상기 배출관(420)의 개수는 입자 분배장치의 용도 등 여러 조건에 따라 자유롭게 증감될 수 있다. 예를 들어 도 1 내지 도 7에 도시된 실시예와 같이 하나의 트러프(400)에 3개의 배출구(410) 및 배출관(420)이 형성되어 트러프(400)로 공급된 입자물질을 3등분하여 분배하도록 구성될 수도 있고, 도 8에 도시된 바와 같이 하나의 트러프(400)에 6개의 배출구(410) 및 배출관(420)이 형성되어 트러프(400)로 공급된 입자물질을 6등분하여 분배하도록 구성될 수도 있다.

또한, 하나의 트러프(400)에 6개의 배출구(410) 및 배출관(420)이 형성되되 각 배출구(410)에 개폐도어(412)가 설치되면, 6개의 배출구(410)를 교번으로 개방 및 폐쇄시킴으로써 트러프(400)로 공급된 입자물질을 3등분하여 분배하도록 활용될 수도 있다. 더 나아가, 상기 개폐도어(412)가 슬라이딩 방식으로 배출구(410)를 개폐시키도록 구성되는 경우, 각 개폐도어(412)의 개방비율을 적절히 조절함으로써, 트러프(400)로 공급된 입자물질을 다양한 비율로 분배하도록 활용될 수 있다. 상기 배출구(410) 및 배출관(420)의 개수는 본 실시예에 도시된 실시예에 한정되지 아니하고, 사용자의 선택에 따라 자유롭게 변경될 수 있다.

이상, 본 고안을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 고안의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 실용신안등록청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 고안의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.

100 : 거치대 110 : 플랜지
200 : 베이스 플레이트 210 : 탄성수단
300 : 바이브레이터 400 : 트러프
410 : 배출구 412 : 개폐도어
420 : 배출관 500 : 커버
510 : 투입구 600 : 체결링

Claims (7)

1. 상측이 개방된 원통 형상으로 형성되며, 수직 중심축을 중심으로 셋 이상의 배출구(410)가 방사형을 이루도록 배열되어 측벽에 형성되고, 각각의 배출구(410)에 배출관(420)이 구비되는 트러프(400);
   상기 트러프(400)의 상부를 덮도록 결합되며, 수직중심선 상에 투입구(510)가 형성되어 상기 트러프(400)의 바닥판 중심으로 입자 공급을 유도하는 커버(500);
   상기 트러프(400)의 하측에 장착되는 베이스 플레이트(200);
   상기 베이스 플레이트(200)에 결합되어, 상기 트러프(400)의 저면 중 중심부와 이격된 지점에 수직방향과 교차하는 방향의 진동을 인가하는 바이브레이터(300);
   를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.
   
2. 제1항에 있어서,
   상기 베이스 플레이트(200) 하측에 위치되되 상측단에 플랜지(110)가 형성된 거치대(100)와, 상기 베이스 플레이트(200)의 저면 가장자리와 상기 플랜지(110)의 상면 사이에 장착되어 상기 베이스 플레이트(200)를 탄성 지지하는 탄성수단(210)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.
   
3. 제1항에 있어서,
   상기 배출관(420)은 상기 트러프(400) 내벽의 접선 방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.
   
4. 제1항에 있어서,
   상기 트러프(400)의 측벽에는, 상기 각각의 배출구(410)를 독립적으로 개폐시키는 개폐도어(412)가 구비되는 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.
   
5. 제4항에 있어서,
   상기 개폐도어(412)는, 수평방향 미닫이 구조로 상기 배출구(410)를 개폐시키도록 장착되어 상기 배출구(410)의 개방 비율이 조정 가능한 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.
   
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 트러프(400) 측벽에는 6개의 배출구(410)가 등간격으로 배열되는 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.
   
7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 트러프(400)의 바닥판은, 가운데 부위가 높고 가장자리 부위가 낮도록 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 입자 분배장치.

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