KR20150001250A - 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템에 관한 것으로, 원격 플라즈마 발생기의 작동 감시 및 제어 시스템에 있어서, 점화 전력 모듈(140)과 리액터(150) 사이에 설치되는 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 측정값을 실시간으로 전달받아, 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 주제어 장치(160)와, 상기 주제어 장치(160)에 연결되어 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값 및 상기 작동 이상 여부를 표시하는 디스플레이(165);와, 상기 주제어 장치(160)와 연결되어 작동 이상으로 판단되는 경우 공정 설비(300)의 작동을 정지시키는 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200); 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100)에 관한 것이다.
본 발명에 의하는 경우, 실시간으로 주전력 모듈의 전류 및 전압, 원격 플라즈마 발생기의 출력 등 다양한 상태 값을 측정하여 이상 작동 유무를 감지하고 판단하며 표시하는 것과 동시에, 이상 작동이 감지되는 경우 즉각적으로 공정 설비의 작동을 정지시키도록 제어하여 공정 불량을 미연에 방지하여 설비 생산성을 향상시킬 수 있다는 효과가 있다.

Description

원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템{Detecting and Controll System for Remote Plasma system}
본 발명은 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템에 관한 것으로, 전원 모듈(110)로부터 공급받은 전력을 이용하여 고주파(RF) 전력을 발생시키는 주전력 모듈(120)과, 상기 주전력 모듈(120)에 연결되어 고주파 전력의 전압을 승압시키는 점화 전력 모듈(140)과, 상기 점화전력 모듈(140)에 연결되어 플라즈마를 발생시켜 프로세스 챔버(10)로 전달하는 리액터(150)를 포함하여 구성되는 원격 플라즈마 발생기의 작동 감시 및 제어 시스템에 있어서, 상기 점화 전력 모듈(140)과 상기 리액터(150) 사이에 각각 설치되는 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 측정값을 실시간으로 전달받아, 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 주제어 장치(160)와, 상기 주제어 장치(160)와 연결되어 작동 이상으로 판단되는 경우 공정 설비(300)의 작동을 정지시키는 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200); 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100)에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 보조 화학 반응은 반도체 및 평판 디스플레이 산업 분야에서 폭 넓게 사용되어 왔다. 일 실시예로서 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)을 들 수 있는데, 이는 활성 매트릭스 액정 디스플레이(AMLCDs)용의 박막 트랜지스터 및 집적회로의 제조에 사용되는 공정이다. 용량적으로 연결되어 있는 PECVD에 따라, 기판은 한 쌍의 평행 판 전극이 장착되어 있는 진공 증착 챔버 내에 배치된다. 전극 중의 하나, 예컨대 일반적으로 서셉터라 불리는 하부 전극은 기판을 지지한다.
다른 전극, 예컨대 상부 전극은 가스를 챔버로 전달하는 가스 유입 매니폴드 또는 샤워 헤드로서 작용한다. 증착하는 동안, 반응 가스가 상부 전극을 통해 챔버로 공급되고, 고주파(RF) 전압이 전극 사이에 인가되어 반응 가스 내에 플라즈마를 형성하게 된다. 플라즈마는 에너지를 제공하고 화학 반응을 촉진한다.
이러한 시스템은 기판 표면에 물질을 우선적으로 증착하도록 설계되었지만, 챔버 내의 다른 내부 표면에도 물질을 증착시킨다. 따라서, 반복 사용한 후에는 챔버 내에 쌓여 증착된 물질의 층이 통상적으로 인시츄 건식 세척 공정을 사용하여 제거되어야 한다. 인시츄 기술에 따라 선구체 가스가 챔버에 공급된다. 그 다음, 챔버 내의 선구체 가스에 글로우 방전 플라즈마를 국부적으로 인가함으로써, 반응종이 발생하게 된다. 이 반응종은 증착물과 반응함으로써 챔버 표면을 세척하고, 가스상태로 제거될 수 있는 휘발성 화합물을 형성한다.
그러나, 이러한 인시츄 세척 기술은 몇 가지 단점이 있다. 첫째, 반응종을 생성하기 위해 챔버 내에서 플라즈마를 사용하는 것은 비효율적이라는 것이다. 따라서, 수용가능한 세척률을 달성하기 위해 비교적 높은 전력을 사용할 필요가 있다. 그러나, 전력 수준이 높으면 챔버 내부의 하드웨어를 손상시켜 유효 수명을 상당히 단축시킨다. 손상된 하드웨어를 교체하는 비용은 고가이기 때문에, 증착 시스템을 사용하여 처리되는 기판당 제조 비용을 상당히 높일 수 있다. 기판 가격이 매우 중요한 위치를 차지하는 경쟁이 치열한 반도체 제조 산업 분야에서, 세척 공정중에 손상된 부품의 주기적 교체로 인하여 작업 비용이 증가하는 것은 바람직하지 않다.
통상의 인시츄 건식 세척 공정의 다른 문제점은 수용가능한 세척률을 얻기 위해 필요한 높은 전력 수준은 잔류물 또는 부산물을 생성하는 경향이 있으며, 이들이 다른 시스템 부품을 손상을 가하거나, 챔버 내부 표면을 물리적으로 닦아내지 않으면 제거될 수 없다는 것이다. 예를 들어, 세척을 위해 NF3를 사용하는 Si3N4 증착 시스템에서는, NxHyFz 화합물이 생성되는 경향이 있다. 이들 암모늄 화합물은 진공 펌프 내에 증착되는데, 여기서 이들은 기판 처리를 위한 진공 환경의 형성및 유지에 사용되는 펌프의 신뢰성에 부정적인 영향을 미칠 수 있다.
증착 챔버 또는 공정 키트 부품(예컨대, 가열기, 샤워 헤드, 클램프 링 등)은 세라믹이나 알루미늄으로 제조되는데, 이들은 종종 여기된 F*(가스) 종을 함유한 NF3 플라즈마를 사용하여 세척된다. 이 세척 공정을 진행하는 동안, 소정량의 AlxFy가 챔버 및 공정 키트 부품의 노출된 표면상에 형성된다. 형성된 AlxFy의 양은 높은 플라즈마 에너지 수준에 기인하는 이온 충격(ion bombardment)의 수준에 의해 크게 증가된다. 따라서, 상당한 양의 AlxFy이 시스템 내에 형성될 수 있다. 불행하게도, 이 물질은 공지된 화학 공정으로는 에칭될 수 없고, 따라서 챔버 내부 표면을 닦아 증착물이 물리적으로 제거될 수 있도록, 챔버를 정지시키고 개방하여야 한다.
상기한 것과 같은 챔버 내부로부터 찌꺼기를 제거하기 위해 몇 가지 세척 과정들이 개발되었다. " 습식-세척(wet-clean)" 으로 알려진 한 타입의 과정은 증착 챔버를 부분적으로 분해하고 적당한 세척액으로 표면들을 닦아줌으로써 수행된다.
다른 타입의 세척 프로세스들은 챔버 배기 시스템에 의해 제거될 수 있는 휘발성 생성물로 찌꺼기를 변환함에 의해 찌꺼기를 제거하는 데에 플라즈마를 사용한다. 이러한 프로세스들은 " 건식-세척(dry-clean)" 으로 알려져 있다.
플라즈마 건식-세척에는 두 가지 일반적인 타입들이 있다. 한 타입은 프로세싱 챔버 내부에서, 또는 " 인시튜(in situ)"로 플라즈마를 형성한다. 다른 타입은 원격 플라즈마 발생기에 플라즈마를 형성하고, 그 다음 프로세싱 챔버로 플라즈마를 흘려 보낸다. 그러한 원격 플라즈마 세척 프로세스는 인시튜 플라즈마 시스템을 가지지 않은 증착 시스템에 건식-세척 능력을 제공하는 것과 같은 몇 가지 이점을 제공한다. 더욱이, 원격 플라즈마 시스템은 세척 플라즈마 프리커서 가스 또는 증기들을 플라즈마로 변환하는데 더 능률적일 수 있고, 챔버 외부에서 플라즈마를 형성하는 것은 플라즈마 가열 및 스퍼터링 효과와 같은 플라즈마 형성 프로세스의 바람직하지 않은 잠재적인 부산물들로부터 챔버 내부를 보호한다.
이러한 원격 플라즈마 시스템을 이용하여 챔버를 세척하는 구성에 관한 일 실시예로는, 하기 특허문헌 1의 대한민국 공개특허 제10-2001-0098778호("희석 원격 플라즈마 세척")에, 증착 챔버로부터 유전 물질의 증착물들을 세척하는 방법으로서, 상기 방법으로서, 세척 플라즈마 프리커서(precursor)를 원격 플라즈마 발생기로 흘려주는 단계;와, 상기 증착 챔버의 표면들로부터 상기 유전 물질의 증착물들을 세척하기에 적절한 세척 플라즈마를 형성하기 위하여 상기 원격 플라즈마 발생기내의 세척 플라즈마 프리커서를 조사(irradiate)하는 단계;와, 상기 세척 플라즈마를 상기 원격 플라즈마 발생기로부터 플레넘으로 흘려주는 단계;와, 강화된 에칭 특성의 에칭 혼합물을 형성하기 위해 세척 플라즈마 프리커서 흐름에 대한 희석물 가스 흐름의 선택된 비율로 상기 세척 플라즈마를 비반응성 희석물 가스와 혼합하는 단계로서, 상기 선택된 비율은 약 1:1과 2이하:1 사이인 단계; 및 상기 증착 챔버의 표면들로부터 상기 유전 물질을 제거하기 위해 상기 세척 혼합물을 상기 증착 챔버로 흘려주는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물 세척 방법에 관한 구성이 개시되어 있다.
한편, 상기한 기존 발명에 사용되는 원격 플라즈마 시스템(RPS:Remote Plasma System)을 구성하는 기존의 실시예는 도 1에 나타낸 것과 같이, 전원 모듈로부터 공급받은 전력을 이용하여 고주파(RF) 전력을 발생시키는 주전력 모듈(120)과, 상기 주전력 모듈(120)에 연결되어 고주파 전력의 전압을 승압시키는 점화 전력 모듈(140) 및 점화전력 모듈(140)에 연결되어 플라즈마를 발생시켜 챔버(10)로 전달하는 리액터(150)로 구성되는 것이 일반적이다.
이 경우, 기존의 상기 원격 플라즈마 시스템의 경우 단순히 On/Off 여부 표시 및 알람 기능을 가지고 있는데 불과하여 정상적인 작동 여부를 정확히 파악하는 것이 어려운 것은 물론, 작동 부하에 해당하는 프로세스 챔버(10)의 상황이나 원격 플라즈마 시스템의 성능에 따라 실제 프로세스 챔버(10)에 전달되는 Power량이 차이가 발생할 수 있으나, 이러한 차이를 감지하거나 제어할 수 있는 수단이 없어 성능 관리가 어렵다는 문제점이 있다.
특허문헌 1: 대한민국 공개특허 제10-2001-0098778호 특허문헌 2: 대한민국 등록특허 제10-0526593호
본 발명은 상기한 기존 발명의 문제점을 해결하여, 실시간으로 주전력 모듈의 전류 및 전압, 원격 플라즈마 발생기의 출력을 측정하여 이상 작동 유무를 감지하고 판단하며 표시하는 것과 동시에, 이상 작동이 감지되는 경우 즉각적으로 공정 설비의 작동을 정지시키도록 제어하여 공정 불량을 미연에 방지하여 설비 생산성을 향상시킬 수 있도록 하는 것을 그 과제로 한다.
상기한 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 전원 모듈(110)로부터 공급받은 전력을 이용하여 고주파(RF) 전력을 발생시키는 주전력 모듈(120)과, 상기 주전력 모듈(120)에 연결되어 고주파 전력의 전압을 승압시키는 점화 전력 모듈(140)과, 상기 점화전력 모듈(140)에 연결되어 플라즈마를 발생시켜 프로세스 챔버(10)로 전달하는 리액터(150)를 포함하여 구성되는 원격 플라즈마 발생기의 작동 감시 및 제어 시스템에 있어서, 상기 점화 전력 모듈(140)과 상기 리액터(150) 사이에 각각 설치되는 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 측정값을 실시간으로 전달받아, 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 주제어 장치(160)와, 상기 주제어 장치(160)와 연결되어 작동 이상으로 판단되는 경우 공정 설비(300)의 작동을 정지시키는 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200); 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 주제어 장치(160)는, 기 설정된 소정의 정상 전류 범위값 및 정상 전압 범위값과 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값을 비교하여 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 주제어 장치(160)와 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200)는 중계 서버(170)를 통하여 연결되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 중계 서버(170)는, 알에스(RS)-232 또는 알에스(RS)-485 또는 이더넷(ethernet) 중 어느 하나의 통신 규격을 사용하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 주제어 장치(160)에 연결되어 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값 및 상기 작동 이상 여부를 표시하는 디스플레이(165);를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하는 경우, 실시간으로 주전력 모듈의 전류 및 전압, 원격 플라즈마 발생기의 출력 등 다양한 상태 값을 측정하여 이상 작동 유무를 감지하고 판단하며 표시하는 것과 동시에, 이상 작동이 감지되는 경우 즉각적으로 공정 설비의 작동을 정지시키도록 제어하여 공정 불량을 미연에 방지하여 설비 생산성을 향상시킬 수 있다는 효과가 있다.
도 1: 기존 발명의 일 실시예에 의한 원격 플라즈마 발생기의 구성 블럭 다이어그램.
도 2: 본 발명의 일 실시예에 의한 원격 플라즈마 발생기의 구성 블럭 다이어그램.
이하에서는 첨부된 도면을 참조로 하여, 본 발명의 일 실시 예에 따른 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템을 상세히 설명한다. 우선, 도면들 중, 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 한 동일한 참조부호로 나타내고 있음에 유의하여야 한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다.
본 발명은 크게 도 2에 나타낸 것과 같이, 주전력 모듈(120), 점화전력 모듈(140), 리액터(150), 주제어 장치(160)를 포함하여 구성된다.
먼저, 주전력 모듈(120)에 관하여 설명한다. 상기 주전력 모듈(120)은 도 2에 나타낸 것과 같이, 전원 모듈(110)로부터 공급받은 전력을 이용하여 고주파(RF) 전력을 발생시키는 기능을 가진다. 이 경우, 상기 전원 모듈(110)과 상기 주전력 모듈(120) 사이에는 도 2에 나타낸 것과 같이 퓨즈 모듈(fuse module)(115)이 더 포함되는 것이 바람직하다.
다음으로, 점화전력 모듈(140)에 관하여 설명한다. 상기 점화전력 모듈(Ignition Power module)(140)은 도 2에 나타낸 것과 같이, 상기 주전력 모듈(120)에 연결되어 고주파 전력의 전압을 고전압으로 승압시키는 기능을 가진다.
다음으로, 리액터(150)에 관하여 설명한다. 상기 리액터(150)는 도 2에 나타낸 것과 같이, 상기 점화전력 모듈(140)에 연결되어 플라즈마를 발생시켜 프로세스 챔버(10)로 전달하는 기능을 가진다.
상기 주전력 모듈(120), 상기 점화전력 모듈(Ignition Power module)(140) 및 상기 리액터(150)는 본 발명이 적용되는 원격 플라즈마 발생기(RPS:Remote Plasma system)을 구성하는 기본 구성요소들로, 그 구성 및 작동 원리는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 널리 알려져 실시되고 있는 수준의 기술이므로 상세한 설명은 생략한다.
다음으로, 주제어 장치(160)에 관하여 설명한다. 상기 주제어 장치(160)는 도 2에 나타낸 것과 같이 상기 점화 전력 모듈(140)과 상기 리액터(150) 사이에 각각 설치되는 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 측정값을 실시간으로 전달받아, 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 기능을 가진다 .
이 경우, 상기 주제어 장치(160)는 기 설정된 소정의 정상 전류 범위값 및 정상 전압 범위값과 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값을 비교하여 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 것이 가능하다.
한편, 상기 주제어 장치(160)에는 도 2에 나타낸 것과 같이, 디스플레이(165)가 연결되어 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값 및 상기 작동 이상 여부를 표시하도록 하는 것이 바람직하다.
다음으로, 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200)에 관하여 설명한다. 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200)는 반도체 제작 공정 등에 사용되는 공정 설비(300)의 작동에 있어서의 오류를 감지하고 이를 분류하여 상기 공정 설비(300)의 작동을 제어하는 장치이다. 일반적으로, 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(200)의 구성과 기능은, 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(200)이 사용되는 상기 공정 설비(300)에 따라 규격화되어 있다. 따라서, 상기 규격에 따르는 입력 제어 신호에 따라, 상기 공정 설비(300)의 작동을 제어하는 기능을 가지도록 할 수 있다.
이러한 특징을 이용하여, 본 발명의 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(200)은 도 2에 나타낸 것과 같이, 상기 주제어 장치(160)와 연결되어 상기 주제어 장치(160)에서 작동 이상으로 판단되는 경우 상기 공정 설비(300)의 작동을 정지시키는 기능을 가진다. 따라서, 상기 주전력 모듈(120)에서 정해진 작동 범위를 넘는 전류 또는 전압이 감지되는 경우, 즉각적으로 상기 공정 설비(300)의 작동을 정지시키고 해당 주전력 모듈(120)을 점검하고 수리하거나 교체하도록 하는 것이 가능하게 된다. 이와 같은 기능을 가지도록 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(200)을 규격에 따라 구성하고 프로그래밍하는 기술은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 널리 사용되는 기술수준에 해당하므로, 상세한 설명은 생략한다.
한편, 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200)의 구성이 일반적으로 규격화 되어 있는 점을 고려할 때, 상기 주제어 장치(160)와 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200)는 중계 서버(170)를 통하여 연결되도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 중계 서버(170)는 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(200)의 통신 규격에 대응할 수 있도록, 알에스(RS)-232 또는 알에스(RS)-485 또는 이더넷(ethernet) 중 어느 하나의 통신 규격을 사용하는 것이 바람직하다.
이상, 도면과 명세서에서 최적 실시 예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
10: 프로세스 챔버
100: 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템
110: 전원 모듈 115: 퓨즈 모듈
120: 주 전력 모듈
140: 점화 전력 모듈
150: 리액터
160: 주제어장치
161: 전류 센서 162: 전압센서
163: 프로세스 챔버 센서
165: 디스플레이
170: 중계 서버
200: 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)
300: 공정 설비

Claims (5)

  1. 전원 모듈(110)로부터 공급받은 전력을 이용하여 고주파(RF) 전력을 발생시키는 주전력 모듈(120)과, 상기 주전력 모듈(120)에 연결되어 고주파 전력의 전압을 승압시키는 점화 전력 모듈(140)과, 상기 점화전력 모듈(140)에 연결되어 플라즈마를 발생시켜 프로세스 챔버(10)로 전달하는 리액터(150)를 포함하여 구성되는 원격 플라즈마 발생기의 작동 감시 및 제어 시스템에 있어서,
    상기 점화 전력 모듈(140)과 상기 리액터(150) 사이에 설치되는 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 측정값을 실시간으로 전달받아, 상기 원격 플라즈마 발생기의 출력 및 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 주제어 장치(160);
    상기 주제어 장치(160)와 연결되어 작동 이상으로 판단되는 경우 공정 설비(300)의 작동을 정지시키는 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200); 을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100).
  2. 청구항 제 1항에 있어서,
    상기 주제어 장치(160)는,
    기 설정된 소정의 정상 전류 범위값 및 정상 전압 범위값과 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값을 비교하여 작동 이상 여부를 실시간으로 감지하여 판단하는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100).
  3. 청구항 제 1항 내지 청구항 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 주제어 장치(160)와 상기 오류 감지 및 분류 제어 시스템(FDC: Fault Detection & Classificstion)(200)는 중계 서버(170)를 통하여 연결되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100).
  4. 청구항 제 3항에 있어서,
    상기 중계 서버(170)는,
    알에스(RS)-232 또는 알에스(RS)-485 또는 이더넷(ethernet) 중 어느 하나의 통신 규격을 사용하는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100).
  5. 청구항 제 4항에 있어서,
    상기 주제어 장치(160)에 연결되어 상기 전류 센서(161) 및 전압센서(162)의 실시간 측정값과 상기 원격 플라즈마 발생기의 출력 및 상기 작동 이상 여부를 표시하는 디스플레이(165); 를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 발생기 작동 감시 및 제어 시스템(100).
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