KR20140128880A - 터치 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

Abstract

터치 패널 및 그 제조 방법을 제공한다. 터치 패널은 제1 터치패널부 및 제1 터치패널부 위에 위치하는 제2 터치패널부를 포함한다. 제1 터치패널부 및 제2 터치패널부로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 터치패널부는, i) 터치용 표시영역과 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판, ii) 터치용 표시영역 내에 위치하는 감지전극, iii) 감지전극과 전기적으로 연결되고, 비표시 영역내에 위치하는 인출전극, 및 iv) 인출전극 위에 위치하는 감광층을 포함한다.

Description

터치 패널 및 그 제조 방법 {TOUCH PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

본 발명은 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 감지 전극과 인출전극을 단일 공정으로 함께 제조한 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

터치 패널은 패널에 표시된 화면을 가압하여 화면에 대응되는 정보를 입력한다. 사용상의 편의성으로 인해 최근들어 터치 패널이 모든 디스플레이 장치에 활발하게 적용되고 있다.

일반적으로, 터치 패널은 정전용량방식, 저항막방식, 표면초음파 방식, 적외선방식 등을 이용하여 가압된 부분의 좌표를 추출하고 정보를 입력한다. 여기서, 정전용량방식은 사용자가 화면을 터치하는 경우, 인체의 정전용량을 이용해 전류 변화량을 인식하여 위치를 검출한다.

인출전극을 미세한 패턴으로 형성할 수 있는 터치 패널을 제공하고자 한다. 또한, 전술한 터치 패널의 제조 방법을 제공하고자 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널은, 제1 터치패널부 및 제1 터치패널부 위에 위치하는 제2 터치패널부를 포함한다. 제1 터치패널부 및 제2 터치패널부로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 터치패널부는, i) 터치용 표시영역과 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판, ii) 터치용 표시영역 내에 위치하는 감지전극, iii) 감지전극과 전기적으로 연결되고, 비표시 영역내에 위치하는 인출전극과 인출전극 위에 위치하는 감광층을 포함한다.

감지전극은 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO), 산화아연(ZnO), 산화은(AgO), 그래핀, 탄소나노튜브, 금속나노와이어 및 전도성 고분자로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 소재를 포함할 수 있다. 인출전극은 구리 및 은으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 소재를 포함할 수 있다. 인출전극은 금속나노와이어를 포함할 수 있다. 인출전극은 비표시 영역 위에 전면으로 형성될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널은, i) 터치용 표시영역과 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판, ii) 터치용 표시영역 내에 위치하는 감지전극, iii) 감지전극과 전기적으로 연결되고, 비표시 영역내에 위치하는 인출전극 및 iv) 인출전극 위에 위치하는 감광층을 포함한다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, i) 터치용 표시영역과 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판을 제공하는 단계, ii) 광투과성 기판 위에 제1 도전층을 제공하는 단계, iii) 비표시 영역내에 제2 도전층을 제공하는 단계, iv) 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계, v) 투과영역이 형성된 마스크를 이용하여 감광층을 노광하는 단계, vi) 감광층과 제2 도전층을 현상하여 패터닝하는 단계, 및 vii) 제2 도전층에 광을 조사하여 제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계를 포함한다.

제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계에서, 광은 광투과성 기판을 통과하여 제2 도전층에 조사될 수 있다. 제2 도전층을 제공하는 단계에서, 제2 도전층은 스크린 인쇄, 슬릿 코팅(slit coating), 롤투롤(roll to roll), 롤투플레이트(roll to plate), 옵셋인쇄(offset printing), 라미네이션(lamination) 및 잉크젯 프린팅(inkjet printing)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 방법을 통하여 제공될 수 있다. 감광층을 제공하는 단계에서, 감광층은 스크린 인쇄, 슬릿 코팅(slit coating), 롤투롤(roll to roll), 롤투플레이트(roll to plate) 및 라미네이션(lamination)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 방법을 통하여 제공될 수 있다. 제2 도전층을 제공하는 단계에서, 제2 도전층은 비표시 영역에 전면 도포되거나 복수의 라인들로 형성될 수 있다.

감광층을 제공하는 단계에서, 감광층은 액상 또는 드라이필름레지스트(dry film resist, DFR)로 제공될 수 있다. 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계에서, 제2 도전층은 감광성 메탈 페이스트 또는 현상성을 가진 메탈 페이스트로 형성되고, 감광층을 노광하는 단계에서 감광층만을 노광할 수 있다. 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계에서, 제2 도전층은 감광성 메탈 페이스트로 형성되고, 감광층을 노광하는 단계에서 감광층과 제2 도전층을 함께 노광할 수 있다. 감광층과 제2 도전층을 현상하여 패터닝하는 단계에서, 개구부와 제2 도전층을 함께 현상하여 제2 도전층을 현상액에 용해시킬 수 있다. 현상액은 탄산나트륨, 수산화테트라메틸암모늄 및 수산화칼륨으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 용액일 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은, i) 터치용 표시영역과 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판을 제공하는 단계, ii) 광투과성 기판 위에 제1 도전층을 제공하는 단계, iii) 비표시 영역내에 제2 도전층을 제공하는 단계, iv) 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계, v) 투과영역이 형성된 마스크를 이용하여 감광층을 노광하는 단계, vi) 감광층을 현상하여 감광층에 개구부를 형성하는 단계, vii) 개구부에 의해 노출된 제2 도전층을 에칭하여 패터닝하는 단계, 및 viii) 제2 도전층에 광을 조사하여 제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계를 포함한다.

제2 도전층을 제공하는 단계에서, 제2 도전층은 나노 메탈 페이스트를 포함할 수 있다. 나노 메탈 페이스트는, i) 1nm 이상이고 10nm 미만의 평균 크기를 가지는 1차 입자들, 및 ii) 1차 입자들이 모여서 형성되고, 10nm 내지 500nm의 평균 크기를 가지는 2차 입자들을 포함할 수 있다. 나노 메탈 페이스트는 바인더리스 형태로 제조될 수 있다.

인출전극을 미세한 패턴으로 형성할 수 있다. 그 결과, 터치 패널의 대량 제조가 용이할 뿐만 아니라 인출전극의 선폭 및 두께를 일정하게 조절할 수 있고, 인출전극의 광반응 균일성과 현상액 반응 균일성을 향상시킬 수 있다. 따라서 인출전극의 전기적 연결에 대한 신뢰성을 높일 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 개략적인 사시도이다.
도 2는 도 1의 II 부분의 확대 평면도이다.
도 3은 도 1의 터치 패널의 제조 방법의 개략적인 순서도이다.
도 4 내지 도 11은 도 3의 터치 패널의 제조 방법의 각 단계들을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법의 개략적인 순서도이다.
도 13 및 도 14는 도 12의 터치 패널의 제조 방법의 일부 단계들을 개략적으로 나타낸 단면도이다.

어느 부분이 다른 부분의 "위에" 있다고 언급하는 경우, 이는 바로 다른 부분의 위에 있을 수 있거나 그 사이에 다른 부분이 수반될 수 있다. 대조적으로 어느 부분이 다른 부분의 "바로 위에" 있다고 언급하는 경우, 그 사이에 다른 부분이 개재되지 않는다.

여기서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.

"아래", "위" 등의 상대적인 공간을 나타내는 용어는 도면에서 도시된 한 부분의 다른 부분에 대한 관계를 좀더 쉽게 설명하기 위해 사용될 수 있다. 이러한 용어들은 도면에서 의도한 의미와 함께 사용중인 장치의 다른 의미나 동작을 포함하도록 의도된다. 예를 들면, 도면중의 장치를 뒤집으면, 다른 부분들의 "아래"에 있는 것으로 설명된 어느 부분들은 다른 부분들의 "위"에 있는 것으로 설명된다. 따라서 "아래"라는 예시적인 용어는 위와 아래 방향을 전부 포함한다. 장치는 90ㅀ 회전 또는 다른 각도로 회전할 수 있고, 상대적인 공간을 나타내는 용어도 이에 따라서 해석된다.

다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널(100)를 개략적으로 나타낸다. 도 1의 터치 패널(100)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 터치 패널(100)의 구조를 다른 형태로도 변형할 수 있다. 한편, 도 1에는 편의상 감지전극들(1011, 1031)을 크게 형성하였지만, 실제로는 매우 미세하게 형성되어 있으므로, 터치에 따라 X축 좌표 및 Y축 좌표를 파악할 수 있다.

도 1에 도시한 바와 같이, 터치 패널(100)은 제1 터치패널부(101) 및 제2 터치패널부(103)를 포함한다. 제2 터치패널부(103)는 제1 터치패널부(101) 위에 위치한다. 제1 터치패널부(101) 및 제2 터치패널부(103)에는 각각 감지전극들(1011, 1031)이 형성된다. 감지전극들(1011, 1031) 중에서 감지전극(1011)은 제1 터치패널부(101)에 형성되고, 감지전극(1031)은 제2 터치패널부(103)에 형성된다. 감지전극(1011)은 x축 방향을 따라 상호 연결되어 그 단부에 위치한 인출전극(미도시)을 통해 감지신호를 외부로 전송한다. 한편, 감지전극(1031)은 y축 방향을 따라 상호 연결되어 그 단부에 위치한 인출전극(미도시)을 통해 감지신호를 외부로 전송한다. 따라서 외부로 전송된 감지신호에 의해 터치 패널(100)을 사용할 수 있다. 이하에서는 도 2를 통하여 도 1의 터치 패널(100)의 내부 구조를 좀더 상세하게 설명한다.

도 2는 도 1의 II 부분을 확대하여 나타낸 평면도이다. 도 2의 확대원에는 AA선을 따라 표시 영역(D)과 비교시 영역(ND)의 경계(B) 부분을 확대하여 나타낸다. 도 2에는 도 1의 제1 터치패널부(101)를 확대하여 나타내었지만, 제2 터치패널부(103)에도 도 2의 구조를 동일하게 적용할 수 있다.

도 2에 도시한 바와 같이, 기판(10)은 터치용 표시 영역(D)과 비표시 영역(ND)을 포함한다. 터치용 표시 영역(D)에는 화상이 표시되고, 비표시 영역(ND)에는 화상이 표시되지 않는다. 비표시 영역(ND)은 터치용 표시 영역(D)의 한 가장자리와 인접한다.

도 2의 확대원에 도시한 바와 같이, 감지전극(105)과 인출전극(107)은 상호 전기적으로 연결된다. 감지전극(105)은 터치용 표시영역(D) 내에 위치하고, 인출전극(109)은 비표시 영역(ND) 내에 위치한다. 인출전극(109)은 터치에 의한 감지 전극(105)의 정전 용량 변화 등을 인출 단자(111)로 송신한다. 인출 단자(111)는 커넥터(미도시, 이하 동일)와 연결되어 전기 신호를 외부로 송신한다.

도 2의 확대원에 도시한 바와 같이, 경계(B)의 좌측에는 비표시 영역(ND)이 형성되고, 경계(B)의 우측에는 터치용 표시 영역(D)이 형성된다. 인출전극(109)은 비표시 영역(ND)의 전면에 형성되거나 복수의 라인들로 형성될 수 있다.

도 3은 도 1의 터치 패널(100)의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다. 도 3의 터치 패널의 제조 방법은 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 터치 패널의 제조 방법을 다르게 변형할 수 있다.

도 3에 도시한 바와 같이, 터치 패널의 제조 방법은, 터치용 표시영역과 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판을 제공하는 단계(S10), 광투과성 기판 위에 제1 도전층을 제공하는 단계(S20), 제1 도전층을 패터닝하는 단계(S30), 비표시 영역 내에 제2 도전층을 제공하는 단계(S40), 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계(S50), 마스크를 이용하여 감광층을 노광하는 단계(S60), 감광층과 제2 도전층을 현상하여 패터닝하는 단계(S70), 그리고 제2 도전층에 광을 조사하여 제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계(S80)를 포함한다. 이외에, 필요에 따라 터치 패널의 제조 방법은 다른 단계들을 더 포함할 수 있다.

한편, 도 4 내지 도 11은 도 3의 터치 패널의 제조 방법의 각 단계들을 개략적으로 나타낸다. 이하에서는 도 3의 각 단계들을 도 4 내지 도 11을 참조하여 좀더 상세하게 설명한다.

먼저, 도 3의 단계(S10)에서는 광투과성 기판(10)을 제공한다. (도 4에 도시) 광투과성 기판(10)은 광이 투과되는 유리, PET(polyethelene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PI(polyimide) 또는 아크릴(acryl) 등의 소재를 사용할 수 있다. PET, PEN, PI 또는 아크릴, FRP(Fiber Reinforced plastics, 섬유강화 플라스틱) 등을 사용하여 광투과성 기판(10)을 제조하는 경우, 광투과성 기판(10)의 두께가 너무 크면 광이 광투과성 기판(10)을 투과하지 못할 수 있다. 따라서 광투과성 기판(10)의 두께를 작게 조절한다. 광투과성 기판(10)은 절연성을 가지는 유기물로 제조할 수 있으며, 필름 형태로 제조할 수도 있다. 광투과성 기판(10)은 터치용 표시영역과 비표시 영역을 포함한다. 비표시 영역은 터치용 표시영역의 가장자리와 인접하고, 필요에 따라 터치용 표시영역을 둘러싸면서 형성될 수도 있다.

도 3의 단계(S20)에서는 광투과성 기판(10) 위에 제1 도전층(20)을 제공한다. (도 5에 도시) 제1 도전층(20)의 소재로는 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO), 인듐 아연 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 산화아연(ZnO), 산화은(AgO), 그래핀, 탄소나노튜브, 금속나노와이어, 및 전도성 고분자 등을 사용할 수 있다. 제1 도전층(20)은 투명 또는 불투명한 소재로 사용할 수 있다. 터치 패널을 디스플레이용으로 사용하는 경우, 제1 도전층(20)을 투명한 소재로 제조할 수 있다. 반대로, 터치 패널을 스마트 TV 등의 리모컨용 부품으로 사용하는 경우, 투명한 소재가 불필요하므로 전기전도성이 우수한 불투명한 소재를 사용할 수도 있다. 제1 도전층(20)은 스퍼터링 등에 의한 진공 증착하거나 도포 또는 라미네이션하여 제공할 수 있다.

다음으로, 도 3의 단계(S30)에서는 제1 도전층(20)(도 5에 도시, 이하 동일)을 패터닝하여 감지 전극(105)을 제공한다. (도 6에 도시) 그 결과, 제1 도전층(20)은 감지용에 적합한 형상으로 패터닝된다. 이와는 달리, 단계(S30)를 생략하고 광투과성 기판(10) 위에 바로 패터닝된 감지 전극(105)을 제공할 수도 있다.

도 3의 단계(S40)에서는 비표시 영역내에 제2 도전층(22)을 제공한다. (도 7에 도시) 도 7에는 편의상 2개의 제2 도전층들(22)이 서로 가깝게 위치하는 것으로 도시하였지만 실제로는 도 7보다 훨씬 크게 이격되어 있다. 제2 도전층(22)은 스크린 인쇄, 슬릿 코팅(slit coating), 롤투롤(roll to roll), 롤투플레이트(roll to plate) 또는 옵셋인쇄(offset printing), 라미네이션(lamination) 또는 잉크젯 프린팅(inkjet printing) 등의 방법을 통하여 기판(10) 위에 제공될 수 있다. 예를 들면, 1㎛ 내지 100㎛의 두께 및 0.5㎛ 내지 50㎛의 폭을 가지도록 제2 도전층(22)을 형성할 수 있다. 또한, 제2 도전층(22)은 비표시 영역에 전면 도포하거나 복수의 라인들로 형성할 수 있다. 제2 도전층(22)을 복수의 라인들로 형성하는 경우, 인쇄 방법을 통하여 그 사용량을 줄일 수 있다.

제2 도전층(22)은 비표시 영역내에 위치하므로, 우수한 전기전도성을 가지는 불투명한 소재로 제조할 수 있다. 예를 들면, 제2 도전층(22)을 구리 또는 은으로 제조할 수 있다. 구리 또는 은을 사용하여 제2 도전층(22)을 제조하기가 용이할 뿐만 아니라 전기 전도도를 향상시킬 수 있다. 또한, 제2 도전층(22)을 감광성 메탈 페이스트를 이용해 제조함으로써 제2 도전층(22)의 전기전도도를 크게 향상시킬 수 있다.

여기서, 제2 도전층(22)은 감광성 페이스트로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제2 도전층(22)을 감광성 은 페이스트로 제조할 수 있다. 감광성 은 페이스트에는 광에 반응하는 물질이 첨가되므로, 광을 받은 부분과 광을 받지 않은 부분의 현상액에 대한 용융 속도를 다르게 함으로써 선택적으로 패턴을 형성할 수 있다. 예를 들면, 제2 도전층(22)은 현상성을 가진 페이스트로 형성될 수도 있다. 현상성을 가진 페이스트는 광에는 반응하지 않지만 감광층(30)(도 8에 도시, 이하 동일) 등의 현상 방해막을 형성하여 현상 공정시 제2 도전층(22) 상부에의 감광층(30) 형성 여부에 따라 현상액에 대한 용융 속도를 변화시켜서 선택적으로 패턴을 만들 수 있다.

도 3의 단계(S50)에서는 제2 도전층(22) 위에 감광층(30)을 제공한다. (도 8에 도시) 감광층(30)으로는 드라이필름레지스트(dry film resist, DFR) 또는 액상의 포토레지스트 등을 사용할 수 있다. 감광층(30)으로는 그 특성에 따라 포지티브(positive) 감광층 또는 네거티브(negative) 감광층을 사용할 수 있다. 감광층(30)은 스크린 인쇄, 슬릿 코팅(slit coating), 롤투롤(roll to roll), 롤투플레이트(roll to plate) 또는 라미네이션(lamination) 등의 방법으로 제공될 수 있다. 전술한 방법을 이용하여 감광층(30)을 제2 도전층(22) 위에 제공한다. 후속 공정에서는 절연층으로서 기능하면서 광에 반응하는 감광층(30)을 제2 도전층(22) 위에 도포하고, 감광층(30)을 광에 노출시킨 후 감광층(30)의 감광성을 이용하여 감광층(30)과 제2 도전층(22)을 함께 현상해 인출 전극(109)(도 10에 도시)을 형성할 수 있다.

다음으로, 도 3의 단계(S60)에서는 감광층(30) 위에 선택적으로 투과가 가능한 투과영역(42)이 형성된 마스크(40)을 이용하여 감광층(30)을 노광한다. (도 9에 도시) 여기서, 마스크(40)의 투과영역(42)은 인출전극(미도시)을 형성하기 위한 패턴에 따라 제공된다. 마스크(40)의 투과영역(42)은 패터닝 위치에 대응된다. 따라서 마스크(40)의 투과영역(42)을 통과한 빛이 감광층(30)을 노광시킨다. 또한, 노광하는 빛의 세기를 조절하여 감광층(30)과 제2 도전층(22)를 동시에 노광시킬 수도 있다. 감광층(30)과 제2 도전층(22)를 동시에 노광하는 경우, 감광층(30)과 제2 도전층(22)이 현상액에 반응하는 속도를 빠르게 할 수 있고, 제2 도전층(22)이 형성되는 측면의 경사도를 조절할 수 있다. 이 경우, 제2 도전층(22)은 감광성 메탈 페이스트로 형성될 수 있다. 이와는 반대로, 도 3의 단계(S60)에서는 감광층(30)만을 노광할 수도 있다. 즉, 노광하는 빛의 세기를 다소 약하게 조절하여 제2 도전층(22)을 노광시키지 않고 감광층(30)만을 선택적으로 노광시킬 수 있다. 이 경우, 제2 도전층(22)은 감광성 메탈 페이스트 또는 현상성을 가진 메탈 페이스트로 형성될 수 있다. 한편, 표시영역의 감지전극(105)은 이미 형성된 상태이므로, 이에 대응하는 부분에는 마스크(40)에 별도로 투과영역을 형성하지 않는다.

그리고 도 3의 단계(S70)에서는 감광층(30)과 제2 도전층(22)을 현상액에 반응시켜 동시에 현상함으로써 개구부(32)를 형성한다. 그 결과, 감광층(30)의 아래에 인출전극(109)을 제조할 수 있다. (도 10에 도시) 즉, 상부의 감광층(30)을 현상액에 반응시켜 감광층(30)에 개구부(32)를 형성하고, 감광층(30)의 개구부(32)를 통하여 현상액에 노출된 제2 도전층(22)(도 9에 도시)을 현상액으로 용융시켜 인출전극(109)을 제조할 수 있다. 이 경우, 현상액으로서 탄산나트륨, 수산화테트라메틸암모늄 또는 수산화칼륨 등의 용액을 사용할 수 있다. 현상액을 이용하여 상호 상이한 소재로 된 감광층(30)과 제2 도전층(22)을 함께 현상할 수 있다. 단계(S70)에서 감광층(30)은 제2 도전층(22)을 보호하여 현상시 제2 도전층(22)의 표면이 현상되는 것을 방지하며 제2 도전층(22)을 일정한 두께와 선폭을 가지는 인출전극(109)으로 제조할 수 있다. 한편, 감광층(30)을 박리하지 않는 경우, 감광층(30)이 인출전극(109) 위에 존재하여 절연층으로서 기능하므로, 인출전극(109)간의 터치 신호 간섭으로 인한 이상 감지 현상을 방지할 수 있다. 그 결과, 터치 패널(100)의 소비 전력을 저감시킬 수 있다.

종래에 제2 도전층(22)의 소재로서 감광성 페이스트를 사용하는 경우 인출전극을 50㎛ 이하의 미세 패턴으로 구현할 수 있었다. 그러나 포토리소그래피 공정을 이용하여 인출전극을 제조하는 경우, 광반응 균일성, 현상액에 대한 반응 균일성의 한계로 인해 포토리소그래피 공정 후 인출전극의 선폭, 두께 또는 표면의 편차가 발생하여 30㎛ 이하의 고미세 인출전극을 제조하기가 어려웠다. 이와는 대조적으로, 본 발명의 일 실시예처럼 감광층(30)을 제2 도전층(22) 위에 형성한 후 감광층(30)과 제2 도전층(22)을 함께 현상하는 경우, 감광층(30)이 인출전극(109)을 보호하므로, 인출전극(109)을 고미세 구조로 형성할 수 있다.

마지막으로, 단계(S80)에서는 광투과성 기판(10)의 후면을 통하여 광을 제2 도전층(22)에 조사함으로써 제2 도전층(22)의 내화학성을 강화시킨다. (도 11에 도시) 즉, 광이 광투과성 기판(10)을 통하여 제2 도전층(22)에 조사된다. 만약, 감광층(30)을 스트립하여 제거하는 경우, 제2 도전층(22)이 감광층(30)과 함께 박리될 수 있다. 따라서 광을 조사하여 제2 도전층(22)의 내화학성을 강화시킴으로써 제2 도전층(22)이 박리되는 현상을 방지할 수 있다. 또한, 제2 도전층(22)의 내화학성을 강화시켜서 온도, 습도 등 외부환경변화에 따른 제2 도전층(22)의 물리적 변형 또는 화학적 변형을 방지할 수 있다.

도 12는 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법의 순서도를 개략적으로 나타낸다. 도 12의 터치 패널의 제조 방법은 도 3의 단계(S40) 및 단계(S70)를 제외하고는 도 3의 터치 패널의 제조 방법과 동일하므로, 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며, 그 상세한 설명을 생략한다.

먼저, 도 12의 단계(S40)에서는 비표시 영역내에 제2 도전층(22)을 제공한다. 여기서, 제2 도전층(22)은 나노 메탈 페이스트로 형성될 수 있다. 나노 메탈 페이스트는 1차 입자들과 이들이 모여서 형성되는 2차 입자들을 포함할 수 있다. 여기서, 1차 입자들의 평균 크기는 1nm 이상이고 10nm 미만이며, 2차 입자들의 평균 크기는 10nm 내지 500nm이다. 또한, 나노 메탈 페이스트는 바인더리스(binderless) 형태로 제조될 수 있다. 종래의 메탈 페이스트는 식각액에 바인더가 산화되지 않아 제2 도전층(22)를 식각하기 쉽지 않았다. 그러나 바인더리스 형태의 나노 메탈 페이스트를 사용함으로써 제2 도전층(22)을 용이하게 식각할 수 있다.

그리고 도 12의 단계(S72)에서는 감광층(30)을 현상하여 감광층(30)에 개구부(32)를 형성한다. 다음으로, 도 12의 단계(S74)에서는 감광층(30)의 개구부(32)에 의해 노출된 제2 도전층(22)을 에칭하여 제2 도전층(22)을 패터닝한다. (도 13에 도시) 그 결과, 비표시 영역내에 인출전극(109)를 용이하게 형성할 수 있다. (도 14에 도시)

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.

10. 광투과성 기판 20, 22. 도전층
30. 감광층 32. 개구부
40. 마스크층 42. 투과영역
100. 터치 패널 101, 103. 터치패널부
105. 감지전극 109. 인출전극
111. 인출 단자 B. 경계
D. 터치용 표시 영역 ND. 비표시 영역

Claims (20)

1. 제1 터치패널부 및 상기 제1 터치패널부 위에 위치하는 제2 터치패널부를 포함하는 터치 패널로서,
   상기 제1 터치패널부 및 상기 제2 터치패널부로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 터치패널부는,
   터치용 표시영역과 상기 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판,
   상기 터치용 표시영역 내에 위치하는 감지전극,
   상기 감지전극과 전기적으로 연결되고, 상기 비표시 영역내에 위치하는 인출전극, 및
   상기 인출전극 위에 위치하는 감광층
   을 포함하는 터치 패널.
2. 제1항에 있어서,
   상기 감지전극은 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO), 산화아연(ZnO), 산화은(AgO), 그래핀, 탄소나노튜브, 금속나노와이어 및 전도성 고분자로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 소재를 포함하는 터치 패널.
3. 제1항에 있어서,
   상기 인출전극은 구리 및 은으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 소재를 포함하는 터치 패널.
4. 제1항에 있어서,
   상기 인출전극은 금속나노와이어를 포함하는 터치 패널.
5. 제1항에 있어서,
   상기 인출전극은 상기 비표시 영역 위에 전면으로 형성된 터치 패널.
6. 터치용 표시영역과 상기 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판,
   상기 터치용 표시영역 내에 위치하는 감지전극,
   상기 감지전극과 전기적으로 연결되고, 상기 비표시 영역내에 위치하는 인출전극 및
   상기 인출전극 위에 위치하는 감광층
   을 포함하는 터치 패널.
7. 터치용 표시영역과 상기 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판을 제공하는 단계,
   상기 광투과성 기판 위에 제1 도전층을 제공하는 단계,
   상기 비표시 영역내에 제2 도전층을 제공하는 단계,
   상기 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계,
   투과영역이 형성된 마스크를 이용하여 상기 감광층을 노광하는 단계,
   상기 감광층과 상기 제2 도전층을 현상하여 패터닝하는 단계, 및
   상기 제2 도전층에 광을 조사하여 상기 제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계
   를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
8. 제7항에 있어서,
   상기 제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계에서, 상기 광은 상기 광투과성 기판을 통과하여 상기 제2 도전층에 조사되는 터치 패널의 제조 방법.
9. 제7항에 있어서,
   상기 제2 도전층을 제공하는 단계에서, 상기 제2 도전층은 스크린 인쇄, 슬릿 코팅(slit coating), 롤투롤(roll to roll) 및 롤투플레이트(roll to roll plate), 옵셋인쇄(offset printing), 라미네이션(lamination) 및 잉크젯 프린팅(inkjet printing)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 방법을 통하여 제공되는 터치 패널의 제조 방법.
10. 제7항에 있어서,
    상기 감광층을 제공하는 단계에서, 상기 감광층은 스크린 인쇄, 슬릿 코팅(slit coating), 롤투롤(roll to roll), 롤투플레이트(roll to plate) 및 라미네이션(lamination)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 방법을 통하여 제공되는 터치 패널의 제조 방법.
11. 제7항에 있어서,
    상기 제2 도전층을 제공하는 단계에서, 상기 제2 도전층은 상기 비표시 영역에 전면 도포되거나 복수의 라인들로 형성되는 터치 패널의 제조 방법.
12. 제7항에 있어서,
    상기 감광층을 제공하는 단계에서, 상기 감광층은 액상 또는 드라이필름레지스트(dry film resist, DFR)로 제공되는 터치패널의 제조 방법
13. 제7항에 있어서,
    상기 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계에서, 상기 제2 도전층은 감광성 메탈 페이스트 또는 현상성을 가진 메탈 페이스트로 형성되고, 상기 감광층을 노광하는 단계에서 상기 감광층만을 노광하는 터치 패널의 제조 방법.
14. 제7항에 있어서,
    상기 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계에서, 상기 제2 도전층은 감광성 메탈 페이스트로 형성되고, 상기 감광층을 노광하는 단계에서 상기 감광층과 상기 제2 도전층을 함께 노광하는 터치 패널의 제조 방법.
15. 제7항에 있어서,
    상기 감광층과 상기 제2 도전층을 현상하여 패터닝하는 단계에서, 상기 개구부와 상기 제2 도전층을 함께 현상하여 상기 제2 도전층을 현상액에 용해시키는 터치 패널의 제조 방법.
16. 제13항에 있어서,
    상기 현상액은 탄산나트륨, 수산화테트라메틸암모늄 및 수산화칼륨으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 용액인 터치 패널의 제조 방법.
17. 터치용 표시영역과 상기 터치용 표시영역의 한 가장자리와 인접하는 비표시 영역을 포함하는 광투과성 기판을 제공하는 단계,
    상기 광투과성 기판 위에 제1 도전층을 제공하는 단계,
    상기 비표시 영역내에 제2 도전층을 제공하는 단계,
    상기 제2 도전층 위에 감광층을 제공하는 단계,
    투과영역이 형성된 마스크를 이용하여 상기 감광층을 노광하는 단계,
    상기 감광층을 현상하여 감광층에 개구부를 형성하는 단계,
    상기 개구부에 의해 노출된 제2 도전층을 에칭하여 패터닝하는 단계, 및
    상기 제2 도전층에 광을 조사하여 상기 제2 도전층의 내화학성을 강화하는 단계
    를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
18. 제17항에 있어서,
    상기 제2 도전층을 제공하는 단계에서, 상기 제2 도전층은 나노 메탈 페이스트를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
19. 제18항에 있어서
    상기 나노 메탈 페이스트는,
    1nm 이상이고 10nm 미만의 평균 크기를 가지는 1차 입자들, 및
    상기 1차 입자들이 모여서 형성되고, 10nm 내지 500nm의 평균 크기를 가지는 2차 입자들
    을 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
20. 제18항에 있어서
    상기 나노 메탈 페이스트는 바인더리스 형태로 제조된 터치 패널의 제조 방법.

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