KR20140075905A - Neural stimulation and recording electrode array and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

An electrode array for stimulating and recording a nerve includes an insulation layer, multiple electrodes, a conduction part, a first cover part, and a second cover part. The electrodes are formed to be mutually separated on the insulation layer and deliver an electrical signal. The conduction part is formed on the insulation layer and electrically connects the electrodes. The first cover part covers the lower part of the insulation layer and the second cover part covers the upper part of the insulation layer by being connected with the first cover part and exposes the electrodes. The insulation layer has different widths in an area forming the electrodes and an area forming the conduction part and, especially, the width of the area forming the conduction part may be narrower than the width of the area forming the electrodes. Thereby, flexibility can be obtained in the tangential direction of the electrode array.

Description

신경 자극 및 기록용 전극 어레이 및 이의 제조방법{NEURAL STIMULATION AND RECORDING ELECTRODE ARRAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electrode array for nerve stimulation and recording, and a method for manufacturing the same,

본 발명은 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 생체 내에서 신경 자극, 생체 신호 감지, 생체 신호 기록 등의 기능을 수행하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nerve stimulation and recording electrode array and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a nerve stimulation and recording electrode array that performs functions such as nerve stimulation, biological signal detection, And a manufacturing method thereof.

신경 자극 및 기록용 전극 어레이(이하, 미세 전극 어레이)란, 생화학적인 반응 및 생체 신호를 전기적인 신호로 변환하여 수집하거나 생체 자극을 위한 전기 신호를 신경 조직에 인가하기 위해 생체에 부착되거나 이식되는 구조물을 통칭하는 말이다. 이러한 미세 전극 어레이는 생체의 와우(또는 달팽이관), 인공 망막, 대뇌 피질 등의 신경 자극이 필요한 곳에 삽입되어 세포 등을 자극할 수 있다. 뿐만 아니라, 생체 신호 감지 및 생체 신호 기록 등의 기능을 수행하기도 한다. 이하에서는, 미세 전극 어레이 중 하나로서 와우에 삽입되는 인공 와우를 자세히 설명한다.The electrode array for nerve stimulation and recording (hereinafter referred to as " fine electrode array ") refers to an array of electrodes (hereinafter referred to as " fine electrode arrays ") that are biochemically reacted and collected by converting electrical signals into electrical signals, It is a collective term. Such a microelectrode array can be inserted into a place where nerve stimulation such as a womb (or cochlea) of a living body, artificial retina, or cerebral cortex is required, and can stimulate a cell. In addition, it performs functions such as detection of a living body signal and recording of a living body signal. Hereinafter, the cochlear implant which is inserted into the wau as one of the microelectrode arrays will be described in detail.

귀는 크게 외이, 중이, 내이로 구성되어 있다. 내이는 와우(또는 달팽이관), 전정, 반규관으로 구성되어 있는데, 전정과 반규관은 몸의 균형과 어지러움 등에 주로 관여하고, 청각은 유모세포라 하는 청각세포가 존재하는 와우가 담당한다. 또한, 이소골을 통하여 전달된 소리의 진동은 난원창을 통하여 와우 내에 들어 있는 액체로 된 외림프, 내림프를 진동시키게 된다. 이러한 진동은 호수에 돌을 던질 때 생기는 물결과 같은 파장의 흐름을 유발하게 되고, 이 움직임은 내림프 내의 청각세포를 자극하여 소리의 전달을 전기적인 신호형태로 바꾸게 한다. The ear consists largely of outer ear, middle ear, inner ear. The inner ear consists of a wah (or cochlea), a vestibule, and a vagal gang. The vestibule and the vagus are mainly involved in body balance and dizziness, and auditory cells are responsible for auditory cells called auditory cells. In addition, the vibration of the sound transmitted through the ossicles causes vibrations of the outer lip and the endolymph of the liquid contained in the woW through the lumen. These vibrations cause waves of waves like waves that strike the lake, which motivate auditory cells in the endolymph to turn the transmission of sound into an electrical signal.

청신경은 이러한 청각세포와 연결되어 뇌로 그 신호를 전달하게 되고, 뇌에서는 소리로 인식하게 된다. 즉, 달팽이관 내의 청각세포가 손상되거나 청신경에 장애가 오면 소리의 전달을 할 수가 없게 되고, 이를 감각신경성 난청이라 한다.The auditory neurons connect with these auditory cells to transmit the signals to the brain, and the brain recognizes them as sounds. In other words, when the auditory cells in the cochlea are damaged or the auditory nerve becomes obstructed, it is impossible to transmit the sound, which is called sensory nerve impairment.

상기 내이의 손상으로 인해 고도의 감각신경성 난청 또는 농이 된 환자에게 청신경의 전기 자극으로 청력을 제공해 주는 장치가 인공 와우(cochlear implant)이다. 즉, 상기 인공 와우는 선천적이나 후천적으로 달팽이관 내의 청각세포가 손상되었거나 소실되어 있을 때에 나선신경질 세포나 청신경섬유를 직접 전기적으로 자극함으로써 청각세포의 기능을 대신한다.A cochlear implant is a device that provides hearing by electrical stimulation of the auditory nerve to patients with severe sensory nerve impairment due to damage to the inner ear. That is, the cochlear implant replaces the function of auditory cells by directly electrically stimulating the spinal nerve cells or auditory nerve cells when the auditory cells in the cochlea are damaged or disappeared.

인공 와우의 구조는 크게 체외부분과 체내부분으로 나누어 볼 수 있다. 몸 밖에 설치된 체외부는 마이크로폰(송화기), 어음처리기(언어합성기), 송신용 안테나(발신기)로 되어 있고, 이 때 마이크로폰과 송신용 안테나를 합쳐서 헤드셋이라고 한다. 몸 안에 이식되는 체내부에는 수용/자극기(회로부), 전극으로 구성되어 있다.The structure of the cochlear implant can be divided into the extracorporeal part and the body part. The external body installed outside the body consists of a microphone (transmitter), a speech processor (language synthesizer), and a transmission antenna (transmitter). In this case, the microphone and the transmission antenna are collectively referred to as a headset. Inside the body implanted in the body is composed of a receptive / stimulator (circuit) and an electrode.

인공 와우를 통해 소리를 듣는 과정은 다음과 같다. 소리가 귀 뒤에 걸린 헤드셋에 설치된 작은 마이크로폰 즉, 송화기에 의해 감지되면, 상기 마이크로폰으로부터 전달된 소리는 얇은 전선을 따라 강력한 소형컴퓨터인 어음처리기로 전달된다.The process of listening through the cochlear implant is as follows. When sound is detected by a small microphone installed on a headset behind the ear, that is, a sounder, the sound transmitted from the microphone is transmitted along a thin wire to a powerful small computer sound processor.

상기 어음처리기는 소리를 거르고 분석하여 부호화된 디지털 신호로 바꾼다. 이 신호는 어음처리기로부터 전선을 통하여 송신용 안테나로 보내진다. 상기 송신용 안테나는 신호를 피부를 통하여 피부 내의 와우 이식체인 수용/자극기 즉, 회로부로 보낸다. 상기 수용/자극기는 적절한 전기적 에너지를 와우에 삽입된 일정한 배열을 가진 전극으로 전달한다.The speech processor filters and analyzes the sound and converts it into an encoded digital signal. This signal is sent from the speech processor to the transmitting antenna via wire. The transmitting antenna transmits a signal to the receiving / stimulating unit, that is, the circuit unit, in the skin through the skin. The receiver / stimulator transfers the appropriate electrical energy to the electrodes with a constant array inserted into the wah.

전극은 적절한 수준의 전류신호를 외부로 내보냄으로써 와우 내의 살아 있는 청신경섬유를 자극하게 되고, 결과적으로 전기적인 소리정보는 청신경을 통하여 대뇌로 전달되어, 난청 환자 또는 청각장애인이 소리를 들을 수 있다.Electrodes stimulate live auditory fibers in the woof by sending out the appropriate level of current signal to the outside. As a result, electrical sound information is transmitted to the cerebrum through the auditory nerve, so that the hearing impaired or the hearing impaired can hear the sound.

와우는 속이 비어있고 끝이 막혀있는 관이 약 2.5바퀴 감겨있는 기관으로서, 와우 내부로 삽입되는 전극은 와우 모양에 따라 감겨야 하므로 유연성이 요구된다. 그러나, 전극을 점점 가늘어지는 형상으로 제조하여 전극의 진행 방향으로 유연성이 확보된다고 하더라도 진행 방향의 접선 방향으로는 여전히 단단하므로(rigid), 청각세포를 손상시킬 위험이 있다.The wah is a tube with an open hollow and a closed end wound about 2.5 turns. Flexibility is required because the electrode inserted into the wah should be wound according to the wah shape. However, even if the electrodes are made in a tapered shape and the flexibility in the direction of advance of the electrode is ensured, they are still rigid in the tangential direction of the advancing direction and there is a risk of damaging the auditory cells.

따라서, 신경 자극 및 기록용 전극 어레이가 생체 내부에 삽입되는 경우, 신경 및 조직 손상을 최소화하기 위한 구조적 개선이 요구된다.Therefore, when the nerve stimulation and recording electrode array are inserted into a living body, a structural improvement is required to minimize nerve and tissue damage.

KR 2003-0035758 AKR 2003-0035758 A

이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 유연성 있고, 강성을 조절할 수 있는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a flexible nerve stimulation and recording electrode array capable of adjusting rigidity.

본 발명의 다른 목적은 상기 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 용이한 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for easily manufacturing the nerve stimulation and recording electrode array.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이는, 절연층; 상기 절연층 상에 서로 이격되어 형성되며, 전기적 신호를 전달하는 복수개의 전극들; 상기 절연층 상에 형성되며, 상기 전극들을 전기적으로 연결하는 도선부; 상기 절연층의 하부를 커버하는 제1 커버부; 및 상기 제1 커버부와 결합하여 상기 절연층의 상부를 커버하며, 상기 전극들을 노출하는 제2 커버부를 포함하고, 상기 절연층은 상기 전극들이 형성된 영역과 상기 도선부가 형성된 영역에서 서로 다른 폭을 갖는다.According to an embodiment of the present invention, there is provided an electrode array for nerve stimulation and recording, comprising: an insulating layer; A plurality of electrodes spaced apart from each other on the insulating layer and transmitting an electrical signal; A conductive line formed on the insulating layer and electrically connecting the electrodes; A first cover portion covering a lower portion of the insulating layer; And a second cover portion covering the upper portion of the insulating layer in cooperation with the first cover portion and exposing the electrodes, wherein the insulating layer has a different width in a region where the electrodes are formed and a region where the lead portions are formed .

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층은 상기 도선부가 형성된 영역의 폭이 상기 전극들이 형성된 영역의 폭보다 좁을 수 있다. In an embodiment of the present invention, the width of the insulating layer may be narrower than the width of the region where the electrodes are formed.

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층은 상대적으로 넓은 폭과 상대적으로 좁은 폭을 반복하면서, 상기 전극 어레이의 말단부로 갈수록 폭이 점점 좁아지는 탐침(probe) 형상일 수 있다.In an embodiment of the present invention, the insulating layer may be in the shape of a probe, which repeats a relatively wide width and a relatively narrow width, and tapers down in width toward the distal end of the electrode array.

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층은 서로 길이가 다른 다중층으로 형성되어, 상기 전극 어레이의 말단부로 갈수록 두께가 얇아질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the insulating layer may be formed of multiple layers having different lengths from each other, and the thickness may be thinner toward the distal end of the electrode array.

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층은 상기 제1 커버부와 상기 복수개의 전극들 사이에 형성된 제1 절연층; 및 상기 제1 절연층과 상기 복수개의 전극들 중 일부 전극들 사이에 형성된 제2 절연층을 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the insulating layer includes a first insulating layer formed between the first cover portion and the plurality of electrodes; And a second insulating layer formed between the first insulating layer and some of the plurality of electrodes.

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층은 상기 전극을 격자점으로 하는 격자(lattice) 형상으로 형성될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the insulating layer may be formed in a lattice shape having the electrode as a lattice point.

본 발명의 실시예에서, 상기 전극들의 크기는 동일할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the size of the electrodes may be the same.

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층은 액정폴리머(liquid crystal polymer)를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the insulating layer may comprise a liquid crystal polymer.

본 발명의 실시예에서, 상기 제1 커버부에는 상기 절연층의 외곽모양의 홈(groove)이 형성되고, 상기 절연층은 상기 홈에 소정의 깊이로 삽입될 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first cover part may have an outer groove of the insulating layer, and the insulating layer may be inserted into the groove to a predetermined depth.

본 발명의 실시예에서, 상기 제2 커버부에는 상기 전극들을 노출하기 위한 개구부들(openings)이 형성되고, 상기 제2 커버부는 상기 절연층이 소정의 깊이로 삽입된 상기 제1 커버부의 홈에 끼워지면서 상기 제1 커버부와 결합하여, 상기 전극들을 제외하고 상기 절연층을 밀봉할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, openings for exposing the electrodes are formed in the second cover part, and the second cover part is formed in the groove of the first cover part inserted into the insulating layer to a predetermined depth The first cover portion may be engaged with the first cover portion to seal the insulating layer except for the electrodes.

본 발명의 실시예에서, 상기 제1 및 제2 커버부들은 탄성중합체(elastomer)로 이루어질 수 있으며, 상기 탄성중합체는 실리콘(silicone)을 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first and second cover portions may be made of an elastomer, and the elastomer may include silicone.

상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 제조방법은, 절연층 상에 서로 이격되는 복수개의 전극들 및 상기 전극들을 전기적으로 연결하는 도선부를 형성하는 단계; 상기 절연층에서 상기 전극들 및 상기 도선부가 형성된 영역 이외의 영역을 제거하는 단계; 상기 절연층의 외곽모양의 홈을 갖는 제1 커버부를 형성하는 단계; 상기 전극들 및 도선부가 형성된 상기 절연층을 상기 제1 커버부의 홈에 삽입하는 단계; 및 상기 절연층의 상부를 커버하며, 상기 전극들을 노출하는 제2 커버부를 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a nerve stimulation and recording electrode array, comprising: forming a plurality of electrodes spaced apart from each other on a dielectric layer and a lead portion electrically connecting the electrodes; ; Removing a region of the insulating layer other than the region where the electrodes and the conductive line are formed; Forming a first cover portion having an outer circumferential groove of the insulating layer; Inserting the insulating layer formed with the electrodes and the lead wire into the groove of the first cover portion; And forming a second cover portion covering the upper portion of the insulating layer and exposing the electrodes.

본 발명의 실시예에서, 상기 절연층에서 상기 전극들 및 상기 도선부가 형성된 영역 이외의 영역을 제거하는 단계는, 레이저를 이용하여 상기 절연층 중 상기 전극들 및 상기 도선부로부터 일정간격 이격된 부분을 잘라낼 수 있다.In the exemplary embodiment of the present invention, the step of removing the region other than the region in which the electrodes and the conductive line are formed in the insulating layer may include removing a portion of the insulating layer that is spaced apart from the electrodes and the conductive line portion Can be cut.

본 발명의 실시예에서, 상기 제1 커버부를 형성하는 단계는, 하부 몰드 및 제1 상부 몰드를 얼라인(align)하는 단계; 상기 하부 몰드 및 상기 제1 상부 몰드 사이에 탄성중합체(elastomer)를 주입하는 단계; 및 상기 제1 상부 몰드를 제거하는 단계를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the step of forming the first cover part includes aligning the lower mold and the first upper mold; Injecting an elastomer between the lower mold and the first upper mold; And removing the first upper mold.

본 발명의 실시예에서, 상기 제2 커버부를 형성하는 단계는, 상기 하부 몰드 및 제2 상부 몰드를 얼라인하는 단계; 및 상기 하부 몰드 및 상기 제2 상부 몰드 사이에 탄성중합체를 주입하는 단계를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the step of forming the second cover portion includes aligning the lower mold and the second upper mold; And injecting an elastomer between the lower mold and the second upper mold.

본 발명의 실시예에서, 상기 전극들 및 상기 도선부를 형성하는 단계는, 상기 절연층 상에 금속층을 증착하는 단계; 및 상기 금속층을 패터닝하는 단계를 포함할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the forming of the electrodes and the lead portion includes: depositing a metal layer on the insulating layer; And patterning the metal layer.

본 발명의 실시예에서, 상기 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 제조방법은, 서로 길이가 다른 절연층을 다중층으로 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In the embodiment of the present invention, the nerve stimulation and the manufacturing method of the electrode array for recording may further include the step of forming an insulating layer having a different length from each other as a multilayer.

이와 같은 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 및 그 제조방법에 따르면, 전극 사이의 절연층의 폭이 최소화되어 전극 어레이의 유연성이 뛰어나므로, 신경 및 조직 세포를 손상할 염려 없이 생체 내부에 삽입할 수 있다. 또한, 전극 하부의 절연층의 두께를 조절하여 전극 어레이의 기계적인 강성(stiffness)을 조절할 수 있다.According to the nerve stimulation and recording electrode array and the manufacturing method thereof, since the width of the insulating layer between the electrodes is minimized and the flexibility of the electrode array is excellent, the nerve stimulation and the tissue cell can be inserted into the living body without damaging them . In addition, the mechanical stiffness of the electrode array can be controlled by controlling the thickness of the insulating layer under the electrode.

나아가, 몰드를 이용하여 절연층 모양의 홈을 갖는 커버부를 제조하므로 절연층과 커버부의 얼라인의 오차를 줄일 수 있으므로, 정확하고 용이하게 전극 어레이를 제조할 수 있다.Furthermore, since a cover having an insulating layer-shaped groove is manufactured using a mold, the error of the alignment between the insulating layer and the cover portion can be reduced, so that the electrode array can be manufactured accurately and easily.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 분해도이다.
도 2는 도 1의 A 및 B 영역의 확대도이다.
도 3은 도 1의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 전자 현미경 사진이다.
도 4는 도 3의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 I-I' 라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 5는 도 3의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 Ⅱ-Ⅱ' 라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 6은 도 3의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 Ⅲ-Ⅲ' 라인을 따라 절단한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 단면도이다.
도 8은 와우에 삽입되는 거리에 따라 신경 자극 및 기록용 전극 어레이에 걸리는 힘을 보여주는 그래프이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 분해도이다.
도 10은 도 1의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 제조방법을 설명하는 흐름도이다.
도 11은 도 1의 제1 커버부를 형성하기 위한 몰드의 평면도들이다.
도 12는 도 11의 몰드에 의해 형성된 제1 커버부의 사시도이다.
도 13은 도 1의 제2 커버부를 형성하기 위한 몰드의 평면도들이다.
도 14는 도 1의 제2 커버부 및 제1 커버부의 얼라인을 보여주기 위한 사시도이다.
도 15는 도 9의 제2 커버부 및 제1 커버부의 얼라인을 보여주기 위한 사시도이다.
1 is an exploded view of a nerve stimulation and recording electrode array according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is an enlarged view of the areas A and B of Fig. 1;
3 is an electron micrograph of the nerve stimulation and recording electrode array of Fig. 1;
FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line II 'of the nerve stimulation and recording electrode array of FIG. 3;
5 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of the nerve stimulation and recording electrode array of FIG. 3;
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line III-III 'of the nerve stimulation and recording electrode array of FIG. 3;
7 is a cross-sectional view of a nerve stimulation and recording electrode array according to another embodiment of the present invention.
8 is a graph showing a force applied to the nerve stimulation and the recording electrode array according to the distance to be inserted into the wow.
9 is an exploded view of a nerve stimulation and recording electrode array according to another embodiment of the present invention.
Fig. 10 is a flowchart for explaining the nerve stimulation and the method of manufacturing the recording electrode array of Fig. 1;
11 is a plan view of a mold for forming the first cover portion of Fig.
12 is a perspective view of the first cover portion formed by the mold of FIG.
13 is a plan view of a mold for forming the second cover portion of Fig.
FIG. 14 is a perspective view showing the alignment of the second cover part and the first cover part of FIG. 1; FIG.
FIG. 15 is a perspective view showing the alignment of the second cover part and the first cover part of FIG. 9; FIG.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 분해도이다. 도 2는 도 1의 A 및 B 영역의 확대도이다.1 is an exploded view of a nerve stimulation and recording electrode array according to an embodiment of the present invention. Fig. 2 is an enlarged view of the areas A and B of Fig. 1;

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이(1)는 절연층(10), 전극들(30), 도선부(50), 제1 커버부(70) 및 제2 커버부(90)를 포함한다.1 and 2, the nerve stimulation and recording electrode array 1 according to the present embodiment includes an insulating layer 10, electrodes 30, a lead portion 50, a first cover portion 70, And a second cover portion (90).

도 1에서는 편의상 상기 전극들(30)과 상기 도선부(50)가 형성되어 있는 상기 절연층(10), 상기 절연층(10)을 커버하는 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)로 분해하여 도시하였다. 상기 전극 어레이(1)는 상기 절연층(10), 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)가 결합하여 하나의 패키지를 형성한다. In FIG. 1, the insulating layer 10 on which the electrodes 30 and the lead portions 50 are formed, the first cover portion 70 covering the insulating layer 10, (90). The electrode array 1 is formed by combining the insulating layer 10, the first cover portion 70 and the second cover portion 90 to form one package.

상기 전극 어레이(1)는 생체(예를 들어, 달팽이관, 인공 망막, 대뇌 피질 등)에 삽입되어 신경 자극이 필요한 신경 세포 등을 자극하고, 생체 신호 감지 및 생체 신호 기록 등의 기능을 수행한다. 상기 전극 어레이(1)는 복수개의 전극들(30)을 제외하고, 탄성중합체(elastomer)로 밀봉 패키지 되어있다. 즉, 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)가 상기 전극들(30)과 상기 도선부(50)가 형성되어 있는 상기 절연층(10)을 밀봉한다.The electrode array 1 is inserted into a living body (for example, a cochlea, an artificial retina, a cerebral cortex, etc.) to stimulate nerve cells that require nerve stimulation, and performs functions such as biological signal detection and biological signal recording. The electrode array 1 is hermetically packaged with an elastomer, except for a plurality of electrodes 30. That is, the first cover portion 70 and the second cover portion 90 seal the insulating layer 10 in which the electrodes 30 and the lead portions 50 are formed.

상기 전극 어레이(1)의 상단부는 전기적 에너지를 전달하는 회로부(미도시)와 연결되고, 상기 전극 어레이(1)의 말단부로 갈수록 얇아지는 탐침(probe) 형상일 수 있다. 이는 전극 어레이(1)가 생체에 용이하게 삽입되게 하기 위한 것이다.The upper end of the electrode array 1 may be in the form of a probe connected to a circuit unit (not shown) for transmitting electrical energy and becoming thinner toward the distal end of the electrode array 1. This is for allowing the electrode array 1 to be easily inserted into the living body.

상기 전극들(30)은 상기 절연층(10) 상에 서로 이격되어 형성된다. 상기 전극들(30)은 상기 절연층(10) 상에 일정한 간격으로 형성될 수 있고, 서로 동일한 크기를 가질 수 있다. 상기 전극들(30)은 티타늄(Ti), Pt(백금), Ir(이리듐) 및 금(Au) 등의 금속을 포함할 수 있으며, 예를 들어, Ti/Au, Ti/Au/IrOx, Ti/Pt의 합금으로 형성될 수 있다. 상기 전극들(30)은 구조적으로 단층일 수도 있고 다중층일 수도 있다. The electrodes 30 are formed on the insulating layer 10 so as to be spaced apart from each other. The electrodes 30 may be formed on the insulating layer 10 at regular intervals and may have the same size as each other. The electrodes 30 may include a metal such as titanium (Ti), platinum (Pt), iridium (Ir), and gold / Pt. ≪ / RTI > The electrodes 30 may be structurally single-layered or multi-layered.

상기 전극들(30)은 상기 제2 커버부(90)에 의해 노출되며, 상기 회로부(미도시)로부터 전달되는 전기적 신호를 이용하여 청신경섬유 등을 자극한다. 또한, 상기 전극들(30)은 생체 신호를 감지 또는 기록하여 상기 회로부(미도시)에 전달할 수 있다. The electrodes 30 are exposed by the second cover 90 and stimulate the auditory nerve fibers using an electrical signal transmitted from the circuit unit (not shown). In addition, the electrodes 30 may sense or record a biological signal and transmit the biological signal to the circuit unit (not shown).

예를 들어, 상기 전극들(30)은 8 개 내지 16 개의 전극을 포함할 수 있다. 상기 전극들(30)은 일렬로 형성될 수 있으나, 필요에 따라 여러 열로 형성될 수도 있다. 도 1에서는 상기 전극들(30)이 사각형 형상을 갖는 것으로 도시되었으나, 이에 한정되지 않고 원형 등 형상을 자유롭게 변형할 수 있다.For example, the electrodes 30 may include 8 to 16 electrodes. The electrodes 30 may be formed in a row, but may be formed in several rows as required. In FIG. 1, the electrodes 30 are shown to have a rectangular shape. However, the shape of the electrodes 30 is not limited thereto.

상기 도선부(50, 도 2 참조)는 상기 절연층(10) 상에 형성되며 상기 전극들(30)을 전기적으로 연결한다. 상기 도선부(50)는 상기 전극들(30)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 상기 도선부(50)는 서로 연결되어 상기 회로부(미도시)로부터 제공되는 전기적 신호를 상기 전극들(30)에 전달하거나, 상기 전극들(30)이 수집한 생체 신호를 상기 회로부(미도시)로 전달한다. 2) is formed on the insulating layer 10 and electrically connects the electrodes 30. The conductive layer 50 is formed on the insulating layer 10, The lead portion 50 may include the same material as the electrodes 30. [ The lead portions 50 are connected to each other to transmit an electrical signal provided from the circuit portion to the electrodes 30 or to transmit the bio signal collected by the electrodes 30 to the circuit portion .

도 2에서는 상기 도선부(50)가 상기 전극들(30)의 일측에 형성되는 것으로 도시하였으나, 상기 전극들(30)의 양측에 형성될 수도 있다. 또한, 상기 도선부(50)는 상기 전극들(30)의 일측 및 타측에 번갈아 가면서 형성될 수도 있으며 필요에 따라 다양한 형태를 가질 수 있다. 2, the lead portions 50 are formed on one side of the electrodes 30, but they may be formed on both sides of the electrodes 30. In addition, the lead portion 50 may be alternately formed on one side and the other side of the electrodes 30, and may have various shapes as needed.

상기 절연층(10)은 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)의 외각을 따라 제거된 형상으로, 상기 전극들(30)이 형성된 영역(A)과 상기 도선부(50)가 형성된 영역(B)에서 서로 다른 폭을 갖는다. 다시 말해, 상기 절연층(10)은 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)로부터 일정간격 이격된 부분이 제거된다. 상기 절연층(10)은 상기 도선부(50)가 형성된 영역(B)의 폭(Wb)이 상기 전극들(30)이 형성된 영역(A)의 폭(Wa)보다 좁을 수 있다. The insulating layer 10 is formed along the outer edges of the electrodes 30 and the lead portions 50 and is formed in a region A where the electrodes 30 are formed and the lead portions 50 are formed Regions B have different widths. In other words, the insulating layer 10 is removed at a predetermined distance from the electrodes 30 and the lead portion 50. The width Wb of the region B where the lead portion 50 is formed may be smaller than the width Wa of the region A where the electrodes 30 are formed.

상기 절연층(10)은 상대적으로 넓은 폭(Wa)과 상대적으로 좁은 폭(Wb)이 반복되어 형성될 수 있다. 상기 절연층(10)이 넓은 폭(Wa)과 좁은 폭(Wb)을 반복하므로, 상기 전극 어레이(1)의 길이 방향의 접선 방향으로 유연성을 확보할 수 있다.The insulating layer 10 may be formed by repeating a relatively wide width Wa and a relatively narrow width Wb. Since the insulating layer 10 repeats a wide width Wa and a narrow width Wb, flexibility can be ensured in the tangential direction of the electrode array 1 in the longitudinal direction.

상기 절연층(10)은 섬(island) 모양으로 형성된 상기 전극들(30)이 형성된 형성된 영역(A)에서 상기 전극들(30)의 단부에서 일정부분 연장되는 폭(Wa)을 가지며, 상기 폭(Wa)은 상기 전극 어레이(1)의 말단부로 갈수록 점점 좁아질 수 있다. The insulating layer 10 has a width Wa extending a predetermined distance from an end of the electrodes 30 in an area A where the electrodes 30 are formed in an island shape, (Wa) may gradually become smaller toward the distal end of the electrode array (1).

마찬가지로, 상기 도선부(50)가 형성된 영역(B)의 폭(Wb) 역시 상기 전극 어레이(1)의 말단부로 갈수록 점점 좁아질 수 있다. 따라서, 상기 절연층(10)은 상대적으로 넓은 폭(Wa)과 상대적으로 좁은 폭(Wb)을 반복하면서 상기 전극 어레이(1)의 말단부로 갈수록 점점 폭이 좁아지는 형상을 갖는다. 이로서, 상기 전극 어레이(1)의 길이 방향으로 유연성을 확보할 수 있다.Likewise, the width Wb of the region B where the lead portion 50 is formed may gradually become narrower toward the distal end of the electrode array 1. [ Therefore, the insulating layer 10 has a shape in which the width gradually decreases toward the distal end of the electrode array 1 while repeating a relatively wide width Wa and a relatively narrow width Wb. Thus, flexibility in the longitudinal direction of the electrode array 1 can be secured.

상기 절연층(10)은 폴리이미드 및 패릴린 등의 폴리머를 이용할 수 있으나, 바람직하게 액정폴리머(liquid crystal polymer)로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 액정폴리머 필름을 이용할 수도 있다.The insulating layer 10 may be made of a polymer such as polyimide and parylene, but it may be made of a liquid crystal polymer. For example, a liquid crystal polymer film may be used.

상기 제1 커버부(70)는 상기 절연층(10)의 하부를 커버한다. 상기 제1 커버부(70)에는 상기 절연층(10)의 외곽모양의 홈(groove, 75)이 형성된다. 상기 홈(75)의 깊이(depth)는 상기 절연층(10)의 두께보다 깊게 형성된다. 예를 들어, 상기 홈(75)의 깊이는 약 200 um일 수 있다.The first cover portion 70 covers a lower portion of the insulating layer 10. The first cover portion 70 is formed with an outer groove 75 of the insulating layer 10. The depth of the groove 75 is formed to be deeper than the thickness of the insulating layer 10. For example, the depth of the groove 75 may be about 200 [mu] m.

따라서, 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)가 형성된 상기 절연층(10)은 상기 제1 커버부(70)의 홈(75)에 소정의 깊이로 삽입된다. 상기 소정의 깊이는 상기 제2 커버부(90)의 높이와 동일할 수 있다.The insulating layer 10 having the electrodes 30 and the lead portions 50 is inserted into the groove 75 of the first cover portion 70 to a predetermined depth. The predetermined depth may be the same as the height of the second cover portion 90.

상기 제1 커버부(70)의 홈(75)에 상기 절연층(10)이 삽입되어야 하므로, 상기 홈(75) 역시 상대적으로 넓은 폭(Wc)과 상대적으로 좁은 폭(Wd)이 반복되면서 형성될 수 있다. 상기 폭(Wc)은 상기 절연층(10)의 넓은 폭(Wa)과 대응되고, 상기 폭(Wd)은 상기 절연층(10)의 좁은 폭(Wb)과 대응된다. Since the insulating layer 10 is inserted into the groove 75 of the first cover portion 70, the groove 75 is formed to have a relatively wide width Wc and a relatively narrow width Wd . The width Wc corresponds to the wide width Wa of the insulating layer 10 and the width Wd corresponds to the narrow width Wb of the insulating layer 10. [

상기 제1 커버부(70)의 홈(75)의 폭을 조절하기 위해 상기 제1 커버부(70)의 측면에 형성된 격벽들(71)의 폭을 조절할 수 있다. 즉, 상기 상대적으로 넓은 폭(Wc)에 대응하여 상기 격벽들(71)의 폭을 좁힐 수 있고, 상대적으로 좁은 폭(Wd)에 대응하여 상기 격벽들(71)의 폭을 넓힐 수 있다.The width of the partitions 71 formed on the side surface of the first cover part 70 may be adjusted to adjust the width of the groove 75 of the first cover part 70. [ That is, the width of the barrier ribs 71 can be narrowed corresponding to the relatively wide width Wc, and the width of the barrier ribs 71 can be increased corresponding to the relatively narrow width Wd.

상기 제2 커버부(90)는 상기 절연층(10)의 상부를 커버하며 상기 전극들(30)을 노출한다. 상기 제2 커버부(90)는 상기 절연층(10)이 소정의 깊이로 삽입된 상기 제1 커버부(70)의 홈(75)에 끼워지면서, 상기 제1 커버부(70)와 결합한다. The second cover 90 covers the upper portion of the insulating layer 10 and exposes the electrodes 30. The second cover portion 90 is engaged with the first cover portion 70 while being inserted into the groove 75 of the first cover portion 70 into which the insulating layer 10 is inserted to a predetermined depth .

상기 제2 커버부(90)는 상기 전극들(30)을 제외한 상기 절연층(10)의 상부를 커버한다. 상기 제2 커버부(90)는 상기 전극들(30)을 노출하기 위한 개구부들(openings, 95)이 형성된다. 상기 개구부들(95)의 모양은 상기 전극들(30)의 모양에 따라서 변경될 수 있다. The second cover 90 covers an upper portion of the insulating layer 10 except for the electrodes 30. The second cover 90 is formed with openings 95 for exposing the electrodes 30. The shapes of the openings 95 may be changed according to the shapes of the electrodes 30. [

상기 제2 커버부(90)는 상기 개구부들(95)을 제외하면, 상기 절연층(10)과 동일한 형상을 가질 수 있다. 따라서, 상기 제2 커버부(90) 역시 상대적으로 넓은 폭(We)과 상대적으로 좁은 폭(Wf)이 반복되면서 형성될 수 있다.The second cover portion 90 may have the same shape as the insulating layer 10 except for the openings 95. Accordingly, the second cover portion 90 may be formed by repeating a relatively wide width We and a relatively narrow width Wf.

상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)는 탄성중합체(elastomer)로 이루어질 수 있으며, 상기 탄성중합체는 실리콘(silicone)을 포함할 수 있다. The first cover portion 70 and the second cover portion 90 may be made of an elastomer, and the elastomer may include silicone.

도 3은 도 1의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 전자 현미경 사진이다. 도 4는 도 3의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 I-I' 라인을 따라 절단한 단면도이다. 도 5는 도 3의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 Ⅱ-Ⅱ' 라인을 따라 절단한 단면도이다. 도 6은 도 3의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 Ⅲ-Ⅲ' 라인을 따라 절단한 단면도이다.3 is an electron micrograph of the nerve stimulation and recording electrode array of Fig. 1; FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line I-I 'of the nerve stimulation and recording electrode array of FIG. 3; 5 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of the nerve stimulation and recording electrode array of FIG. 3; FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line III-III 'of the nerve stimulation and recording electrode array of FIG. 3;

도 3을 참조하면, 상기 전극들(30)과 상기 도선부(50)가 형성되어 있는 상기 절연층(10), 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)가 결합한 전극 어레이(1)의 실제 모양을 확인할 수 있다. 상기 전극 어레이(1)는 상단부에서 말단부로 갈수록 얇아지는 형상이다. 예를 들어, 상기 전극 어레이(1)가 와우에 삽입되는 경우 와우 모양에 따라 약 2.5바퀴 감겨지며, 와우 내부로 삽입된다.3, the insulating layer 10, the first cover portion 70, and the second cover portion 90, on which the electrodes 30 and the lead portions 50 are formed, The actual shape of the array 1 can be confirmed. The electrode array 1 has a shape that becomes thinner from the upper end to the distal end. For example, when the electrode array 1 is inserted into the wow, it is wound about 2.5 turns according to the wow shape, and inserted into the wow.

도 4는 상기 상단부 근처의 상기 전극 어레이(1)의 단면을 보여주고, 도 5는 상기 말단부 근처의 상기 전극 어레이(1)의 단면을 보여준다.FIG. 4 shows a cross section of the electrode array 1 near the upper end, and FIG. 5 shows a cross section of the electrode array 1 near the distal end.

도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 상단부 근처의 상기 절연층(10)의 폭(W1)에 비해 상기 말단부 근처의 상기 절연층(10)의 폭(W3)이 좁다. 마찬가지로, 상기 상단부 근처의 상기 제1 커버부(70)의 폭(W2)에 비해 상기 말단부 근처의 상기 제1 커버부(70)의 폭(W4)이 좁다. 예를 들어, 상기 상단부 근처의 상기 제1 커버부(70)의 폭(W2)은 약 850 um이고, 상기 말단부 근처의 상기 제1 커버부(70)의 폭(W4)은 약 500 um일 수 있다.4 and 5, the width W3 of the insulating layer 10 near the distal end is narrower than the width W1 of the insulating layer 10 near the upper end. Similarly, the width W4 of the first cover portion 70 near the distal end is narrower than the width W2 of the first cover portion 70 near the upper end. For example, the width W2 of the first cover portion 70 near the top end is about 850 um, and the width W4 of the first cover portion 70 near the distal end is about 500 um have.

상기 제1 커버부(70)의 두께는 상기 전극 어레이(1)의 상단부에서 말단부로 갈수록 가늘어질 수 있다. 예를 들어, 상기 상단부 근처의 상기 제1 커버부(70)의 두께(T1)는 약 625 um이고, 상기 말단부 근처의 상기 제1 커버부(70)의 두께는 약 450 um일 수 있다. 또한, 상기 절연층(10)은 약 50 um의 두께를 가지고, 상기 제1 커버부(70)에 약 150 um의 깊이로 삽입될 수 있다.The thickness of the first cover portion 70 may be reduced from the upper end portion to the distal end portion of the electrode array 1. For example, the thickness T1 of the first cover portion 70 near the top portion may be about 625 um, and the thickness of the first cover portion 70 near the distal portion may be about 450 um. The insulating layer 10 may have a thickness of about 50 μm and may be inserted into the first cover portion 70 at a depth of about 150 μm.

도 6은 상기 전극 어레이(1)를 길이 방향으로 자른 단면도를 보여준다.6 shows a cross-sectional view of the electrode array 1 cut in the longitudinal direction.

도 6을 참조하면, 상기 제1 커버부(70)의 두께가 상기 전극 어레이(1)의 상단부에서 말단부로 갈수록 얇아짐에 따라, 상기 제1 커버부(70)는 점점 가늘어지는(tapering) 탐침 형상을 갖는다. 예를 들어, 상기 전극 어레이(1)의 길이(L1)는 약 32 mm일 수 있다.Referring to FIG. 6, as the thickness of the first cover part 70 becomes thinner from the upper end to the distal end of the electrode array 1, the first cover part 70 is tapered, Shape. For example, the length L1 of the electrode array 1 may be about 32 mm.

상기 전극 어레이(1)는 전극들(30)을 제외하고 밀봉 패키지 되어 생체에 삽입되고, 노출된 전극들(30)을 통해 신경 자극이 필요한 신경 세포 등을 자극하고, 생체 신호 감지 및 생체 신호 기록 등을 수집한다.The electrode array 1 is packaged in a sealed package except for the electrodes 30, and stimulates nerve cells and the like that require nerve stimulation through the exposed electrodes 30, And so on.

본 실시예에 따르면, 상기 절연층(10)은 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)가 형성된 부분 이외의 부분이 제거되어 폭이 최소화 되므로, 전극 어레이의 접선방향으로도 유연성을 확보할 수 있다. 따라서, 청각세포 등 신경 및 조직을 손상할 염려 없이 상기 전극 어레이를 생체 내부에 용이하게 삽입할 수 있다.
According to the present embodiment, since the portion other than the portions where the electrodes 30 and the lead portions 50 are formed is removed, the width of the insulating layer 10 is minimized, so that flexibility is secured in the tangential direction of the electrode array can do. Therefore, the electrode array can be easily inserted into the living body without fear of damaging nerves and tissues such as auditory cells.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 단면도이다. 도 8은 와우에 삽입되는 거리에 따라 신경 자극 및 기록용 전극 어레이에 걸리는 힘을 보여주는 그래프이다.7 is a cross-sectional view of a nerve stimulation and recording electrode array according to another embodiment of the present invention. 8 is a graph showing a force applied to the nerve stimulation and the recording electrode array according to the distance to be inserted into the wow.

도 7을 참조하면, 본 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이(3)는 제1 절연층(11), 제2 절연층(12), 전극들(30), 도선부(미도시), 제1 커버부(70) 및 제2 커버부(90)를 포함한다. Referring to FIG. 7, the nerve stimulation and recording electrode array 3 according to the present embodiment includes a first insulating layer 11, a second insulating layer 12, electrodes 30, a lead portion (not shown) A first cover portion 70, and a second cover portion 90. As shown in FIG.

상기 전극들(30), 상기 도선부(미도시), 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)는 도 1의 상기 전극들(30), 상기 도선부(50), 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)와 실질적으로 동일하므로 설명을 생략한다. 본 실시예에 따른 전극 어레이(3)는 도 1의 전극 어레이(1)와 달리 다중층의 절연층(11, 12)을 갖는다.The electrodes 30, the lead portions 50, and the first and second cover portions 70 and 90 of FIG. 1 are electrically connected to the electrodes 30, the lead portions (not shown), the first cover portions 70, Are substantially the same as those of the first cover portion 70 and the second cover portion 90, and a description thereof will be omitted. The electrode array 3 according to this embodiment differs from the electrode array 1 of Fig. 1 in that it has multiple layers of insulating layers 11, 12. Fig.

상기 전극 어레이(3)는 상기 제1 커버부(70)와 상기 전체 전극들(30) 사이에 형성된 제1 절연층(11) 및 상기 제1 커버부(70)와 상기 전극들(30) 중 일부의 전극들(30) 사이에 형성된 제2 절연층(12)을 포함한다.The electrode array 3 includes a first insulating layer 11 formed between the first cover portion 70 and the entire electrodes 30 and a second insulating layer 11 between the first cover portion 70 and the electrodes 30 And a second insulating layer 12 formed between the electrodes 30.

예를 들어, 상기 전극 어레이(3)의 길이(L2)가 약 32 mm인 경우, 상기 상단부로부터 약 20 mm까지는 상기 제1 절연층(11) 상기 및 제2 절연층(12)이 형성되고, 상기 상단부로부터 약 20 mm부터 약 32 mm까지는 상기 제1 절연층(11)만이 형성될 수 있다. For example, when the length L2 of the electrode array 3 is about 32 mm, the first insulating layer 11 and the second insulating layer 12 are formed from the upper end to about 20 mm, Only the first insulating layer 11 may be formed from about 20 mm to about 32 mm from the upper end portion.

또는, 상기 전극 어레이(3)가 16 개의 전극들(30)을 갖는 경우, 상기 상단부로부터 1 내지 9번째 전극(30)의 하부에는 상기 제1 절연층(11) 및 상기 제2 절연층(12)이 형성되고, 상기 상단부로부터 10 내지 16번째 전극(30)의 하부에는 상기 제1 절연층(11)만이 형성될 수 있다. Alternatively, when the electrode array 3 has sixteen electrodes 30, the first insulating layer 11 and the second insulating layer 12 are formed under the first through ninth electrodes 30 from the upper end, And only the first insulating layer 11 may be formed under the 10th to 16th electrodes 30 from the upper end.

상기 제1 절연층(11) 및 상기 제2 절연층(12)은 폴리이미드 및 패릴린 등의 폴리머를 이용할 수 있으나, 바람직하게 액정폴리머(liquid crystal polymer)로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 액정폴리머 필름을 이용할 수도 있다.The first insulating layer 11 and the second insulating layer 12 may be made of a polymer such as polyimide and parylene, but may be made of a liquid crystal polymer. For example, a liquid crystal polymer film may be used.

도 7에서는 절연층이 이중층으로 형성되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지 아니하고 필요에 따라 삼중층 이상의 다중층을 가질 수도 있다. 상기 절연층은 전극 어레이(3)의 상단부에서 말단부로 갈수록 단계적으로 얇아지고, 이에 따라 상기 전극 어레이(3)의 강성을 조절할 수 있다. 상기 절연층의 얇아진 두께는 상기 제1 커버부(70)의 두께로 보상할 수 있고, 또는 상기 전극들의 두께를 두껍게 형성하여 높이를 보상할 수 있다.In FIG. 7, the insulating layer is formed as a double layer. However, the insulating layer is not limited thereto, and may have multiple layers of three or more layers as necessary. The insulating layer is gradually thinner from the upper end to the distal end of the electrode array 3, and thus the rigidity of the electrode array 3 can be controlled. The thickness of the insulating layer can be compensated for by the thickness of the first cover 70 or the thickness of the electrodes can be increased to compensate for the height.

도 8을 참조하면, x축은 전극 어레이가 와우에 삽입되는 거리이고, y축은 상기 거리에 따라 삽입되는데 필요한 힘을 나타낸다. 전극 어레이의 약 15 mm 거리 이후에는 삽입되는데 필요한 힘이 급격하게 상승하는 것을 알 수 있다. 즉, 전극 어레이가 와우에 일정 거리가 삽입된 후에는 전극 어레이를 밀어줘야 하는 힘이 증가하게 된다.Referring to FIG. 8, the x-axis represents the distance that the electrode array is inserted into the wah, and the y-axis represents the force required to be inserted according to the distance. It can be seen that the force required to be inserted after the distance of about 15 mm from the electrode array rises sharply. That is, after a certain distance is inserted into the electrode array, the force required to push the electrode array increases.

따라서, 본 실시예에서와 같이 힘을 받는 상단부의 절연층을 말단부보다 두껍게 하여, 상기 전극 어레이가 생체 내부의 깊은 곳까지 용이하게 삽입되도록 할 수 있다. 본 실시예에 따르면, 전극들의 하부에 형성된 절연층의 층수를 부분적으로 조절하여 필요에 따라 전극 어레이의 기계적인 강성(stiffness)을 조절할 수 있다.
Therefore, as in the present embodiment, the upper end of the insulating layer is made thicker than the distal end portion, so that the electrode array can be easily inserted deep into the living body. According to the present embodiment, the number of layers of the insulating layer formed under the electrodes can be partially controlled to adjust the mechanical stiffness of the electrode array as needed.

도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 분해도이다.9 is an exploded view of a nerve stimulation and recording electrode array according to another embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이(5)는 절연층(10a), 전극들(30a), 도선부(미도시), 제1 커버부(70a) 및 제2 커버부(90a)를 포함한다. 9, the nerve stimulation and recording electrode array 5 according to the present embodiment includes an insulating layer 10a, electrodes 30a, a lead portion (not shown), a first cover portion 70a, 2 cover portion 90a.

상기 절연층(10a), 상기 전극들(30a), 상기 도선부(미도시), 상기 제1 커버부(70a) 및 상기 제2 커버부(90a)는 도 1의 상기 절연층(10), 상기 전극들(30), 상기 도선부(50), 상기 제1 커버부(70) 및 상기 제2 커버부(90)와 형상을 제외하고는 실질적으로 동일하므로 설명을 생략한다. 본 실시예에 따른 전극 어레이(5)는 탐침 형상을 갖는 도 1의 전극 어레이(1)와 달리 격자(lattice) 형상을 갖는다.The insulating layer 10a, the electrodes 30a, the lead portions (not shown), the first cover portion 70a, and the second cover portion 90a are formed on the insulating layer 10, Are substantially the same as those of the electrodes 30, the lead portion 50, the first cover portion 70, and the second cover portion 90 except for their shapes. The electrode array 5 according to the present embodiment has a lattice shape unlike the electrode array 1 of Fig. 1 having a probe shape.

상기 전극들(30a)은 전극 어레이(5)가 형성하는 격자의 격자점 위치에 형성된다. 도 9에서는 상기 전극들(30a)이 원형 형상을 갖는 것으로 도시되었으나, 이에 한정되지 아니하고 사각형, 삼각형 등 필요에 따라 변형할 수 있다.The electrodes 30a are formed at the lattice points of the lattice formed by the electrode array 5. [ In FIG. 9, the electrodes 30a are shown to have a circular shape. However, the electrodes 30a are not limited to the circular shape, but may be rectangular, triangular, or the like.

상기 절연층(10a)은 상기 전극들(30a) 및 상기 도선부(미도시)의 외각을 따라 제거된 형상으로, 상기 전극들(30a)이 형성된 영역과 상기 도선부(미도시)가 형성된 영역에서 서로 다른 폭을 갖는다. 다시 말해, 상기 절연층(10a)은 상기 전극들(30a) 및 상기 도선부(미도시)로부터 일정간격 이격된 부분이 제거된다. 상기 절연층(10a)은 상기 도선부(미도시)가 형성된 영역의 폭이 상기 전극들(30a)이 형성된 영역의 폭보다 좁을 수 있다. 도 9에서는 상기 전극들(30a)이 원형 형상을 가지므로, 상기 전극들(30a)로부터 일정영역 이격된 부분이 제거된 상기 절연층(10a) 역시 원형 형상을 갖는다.The insulating layer 10a is formed in a shape removed along the outer edges of the electrodes 30a and the lead portions (not shown) and has a region where the electrodes 30a are formed and a region where the lead portions (not shown) Respectively. In other words, the insulating layer 10a is separated from the electrodes 30a and the lead portions (not shown) by a predetermined distance. The insulating layer 10a may have a width smaller than that of the region where the electrodes 30a are formed. In FIG. 9, since the electrodes 30a have a circular shape, the insulating layer 10a from which the electrodes 30a are separated from the electrodes 30a has a circular shape.

본 실시예에 따른 전극 어레이 역시 상기 전극들 및 상기 도선부가 형성된 부분 이외의 상기 절연층이 제거되므로, 생체 내부에 삽입될 때 전극 어레이의 접선 방향으로 유연성을 확보할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 및 각 구성요소의 형상은 한정되지 않고, 필요에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있다.
Since the insulating layer other than the electrode and the portion where the lead wire is formed is removed in the electrode array according to the present embodiment, flexibility can be secured in the tangential direction of the electrode array when the electrode array is inserted into the living body. In addition, the shape of the nerve stimulation and the electrode array for recording and the constituent elements according to the present invention is not limited, and may be formed into various shapes as necessary.

도 10은 도 1의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 제조방법을 설명하는 흐름도이다. 도 11은 도 1의 제1 커버부를 형성하기 위한 몰드의 평면도들이다. 도 12는 도 11의 몰드에 의해 형성된 제1 커버부의 사시도이다. 도 13은 도 1의 제2 커버부를 형성하기 위한 몰드의 평면도들이다. 도 14는 도 1의 제2 커버부 및 제1 커버부의 얼라인을 보여주기 위한 사시도이다.Fig. 10 is a flowchart for explaining the nerve stimulation and the method of manufacturing the recording electrode array of Fig. 1; 11 is a plan view of a mold for forming the first cover portion of Fig. 12 is a perspective view of the first cover portion formed by the mold of FIG. 13 is a plan view of a mold for forming the second cover portion of Fig. FIG. 14 is a perspective view showing the alignment of the second cover part and the first cover part of FIG. 1; FIG.

도 10을 참조하면, 전극 어레이(1)의 제조방법은, 절연층(10) 상에 서로 이격되는 복수개의 전극들(30) 및 상기 전극들(30)을 전기적으로 연결하는 도선부(50)를 형성하는 단계(단계 S100), 상기 절연층(10)에서 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)가 형성된 영역 이외의 영역을 제거하는 단계(단계 S300), 상기 절연층(10)의 외곽모양의 홈(75)을 갖는 제1 커버부(70)를 형성하는 단계(단계 S500), 상기 전극들(30) 및 도선부(50)가 형성된 상기 절연층(10)을 상기 제1 커버부(70)의 홈(75)에 삽입하는 단계(단계 S700), 및 상기 절연층(10)의 상부를 커버하며, 상기 전극들(30)을 노출하는 제2 커버부(90)를 형성하는 단계(단계 S900)를 포함한다.10, a method of manufacturing the electrode array 1 includes a plurality of electrodes 30 spaced apart from each other on an insulating layer 10 and a lead portion 50 electrically connecting the electrodes 30, (Step S100), removing an area of the insulating layer 10 other than the area where the electrodes 30 and the lead part 50 are formed (step S300) The method comprising the steps of forming a first cover portion 70 having an outer shape groove 75 of the electrode 30 and the conductive portion 50 on the first insulating layer 10, (Step S700) of inserting the insulating layer 10 into the groove 75 of the cover part 70 and forming a second cover part 90 covering the upper part of the insulating layer 10 and exposing the electrodes 30 (Step S900).

상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)를 형성하는 단계(단계 S100)는, 반도체 제조공정을 이용할 수 있다. 구체적으로, 실리콘 웨이퍼 상에 상기 절연층(10)을 형성한다. 예를 들어, 상기 절연층(10)을 형성하기 위해 액정폴리머 필름을 상기 실리콘 웨이퍼 상에 부착한다.In the step of forming the electrodes 30 and the lead portions 50 (Step S100), a semiconductor manufacturing process may be used. Specifically, the insulating layer 10 is formed on a silicon wafer. For example, a liquid crystal polymer film is deposited on the silicon wafer to form the insulating layer 10.

상기 절연층(10) 상에 금속층을 예를 들어, 약 1000 내지 3000 Å 두께로 증착한다. 상기 절연층(10)은 서로 길이가 다른 절연층이 다중으로 형성될 수 있다. 이후, 상기 금속층을 패터닝하여 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)를 형성한다. 상기 금속층은 패턴용 포토 마스크를 이용할 수 있다. A metal layer is deposited on the insulating layer 10 to a thickness of, for example, about 1000 to 3000 ANGSTROM. The insulating layer 10 may have multiple insulating layers having different lengths from each other. Then, the metal layer is patterned to form the electrodes 30 and the lead portions 50. The metal layer may be a patterned photomask.

상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)는 티타늄(Ti), Pt(백금), Ir(이리듐) 및 금(Au) 등의 금속을 포함할 수 있으며 예를 들어, Ti/Au, Ti/Au/IrOx, Ti/Pt의 합금으로 형성될 수 있다. 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)는 구조적으로 단층일 수도 있고 다중층일 수도 있다. 상기 절연층(10) 상에 상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)을 형성한 후, 상기 실리콘 웨이퍼로부터 분리한다.The electrodes 30 and the conductive portion 50 may include metals such as titanium (Ti), platinum (Pt), iridium (Ir), and gold / Au / IrOx, and Ti / Pt. The electrodes 30 and the lead portion 50 may be structurally single-layered or multi-layered. The electrodes 30 and the lead portions 50 are formed on the insulating layer 10 and then separated from the silicon wafer.

상기 전극들(30) 및 상기 도선부(50)가 형성된 영역 이외의 영역을 제거하는 단계(단계 S300)는, 레이저를 이용하여 상기 불필요한 상기 절연층(10)을 잘라낼 수 있다. 상기 절연층(10)을 레이저로 잘라낼 때, 상기 절연층(10)의 외각 형상을 나타내는 설계도를 이용할 수 있다.In the step of removing an area other than the area where the electrodes 30 and the lead part 50 are formed (step S300), the unnecessary insulating layer 10 may be cut off by using a laser. When the insulating layer 10 is cut with a laser, a design drawing showing the outer shape of the insulating layer 10 may be used.

상기 절연층(10)의 외곽모양의 홈(75)을 갖는 제1 커버부(70)를 형성하는 단계(단계 S500)는, 몰드를 이용하여 형성할 수 있다.The step of forming the first cover portion 70 having the groove 75 of the insulating layer 10 (Step S500) can be formed using a mold.

도 11을 참조하면, 도 11(a)는 상기 제1 커버부(70)를 형성하기 위한 하부 몰드(100)이고, 도 11(b)는 상기 제1 커버부(70)를 형성하기 위한 제1 상부 몰드(200)이다. 상기 하부 몰드(100)에는 상기 제1 커버부(70)의 하부 형태의 홈(150)이 형성되고, 상기 제1 상부 몰드(200)에는 상기 제1 커버부(70)의 상부 형태의 돌출부(250)가 형성된다.11 (a) is a bottom mold 100 for forming the first cover part 70, and FIG. 11 (b) is a bottom mold 100 for forming the first cover part 70. Referring to FIG. 11, 1 < / RTI > The lower mold 100 is formed with a groove 150 of a lower shape of the first cover part 70 and a projection 150 of an upper shape of the first cover part 70 250 are formed.

상기 하부 몰드(100)에는 제1 얼라인 홀(110)이 형성되고, 상기 제1 상부 몰드(200)에는 상기 얼라인 홀(110)과 대응되는 제2 얼라인 홀(210)이 형성된다. 상기 하부 몰드(100) 및 상기 제1 상부 몰드(200)는 상기 제1 및 제2 얼라인 홀들(110, 210)을 이용하여 얼라인(align)된다. 상기 제1 및 제2 얼라인 홀들(110, 210)에는 얼라인 핀(미도시)를 삽입하여 얼라인 위치가 이동하지 않게 할 수 있다.A first alignment hole 110 is formed in the lower mold 100 and a second alignment hole 210 is formed in the first upper mold 200 to correspond to the alignment hole 110. The lower mold 100 and the first upper mold 200 are aligned using the first and second alignment holes 110 and 210. An alignment pin (not shown) may be inserted into the first and second alignment holes 110 and 210 to prevent the alignment position from moving.

상기 하부 몰드(100) 및 상기 제1 상부 몰드(200)를 얼라인 시킨 후, 상기 하부 몰드(100) 및 상기 제1 상부 몰드(200) 사이에 실리콘 엘라스토머를 주입하여 경화시킨다. After the lower mold 100 and the first upper mold 200 are aligned, a silicone elastomer is injected between the lower mold 100 and the first upper mold 200 and cured.

도 12를 참조하면, 상기 하부 몰드(100) 및 상기 제1 상부 몰드(200)로부터 분리된 상기 제1 커버부(70)이다. 실제로 공정에서는 상기 제1 상부 몰드(200)만을 제거하고, 상기 제1 커버부(70)가 상기 하부 몰드(100)에 안착된 상태로 다음 공정을 진행할 수 있다.Referring to FIG. 12, the first cover part 70 is separated from the lower mold 100 and the first upper mold 200. In the actual process, only the first upper mold 200 may be removed, and the next process may be performed in a state where the first cover portion 70 is seated in the lower mold 100.

이어, 상기 단계 S300을 거친 상기 절연층(10)을 상기 제1 커버부(70)의 홈(75)에 삽입한다(단계 S700). 이때, 상기 제1 커버부(70)는 상기 하부 몰드(100)에 안착된 상태에서, 상기 전극들(30) 및 도선부(50)가 형성된 상기 절연층(10)이 삽입될 수 있다.Next, the insulating layer 10 that has undergone the step S300 is inserted into the groove 75 of the first cover part 70 (step S700). At this time, the first cover 70 may be inserted into the insulation layer 10 formed with the electrodes 30 and the lead portions 50 in a state where the first cover 70 is seated in the lower mold 100.

이어, 상기 절연층(10)의 상부를 커버하며, 상기 전극들(30)을 노출하는 제2 커버부(90)를 형성한다(단계 S900). 이로서, 상기 제1 커버부(70)와 상기 제2 커버부(90)가 상기 전극들(30)을 제외하고, 상기 절연층(10)을 밀봉하여 하나의 패키지를 형성한다.Next, a second cover 90 covering the upper portion of the insulating layer 10 and exposing the electrodes 30 is formed (Step S900). The first cover part 70 and the second cover part 90 seal the insulating layer 10 except for the electrodes 30 to form one package.

상기 제2 커버부(90)를 형성하는 단계(단계 S900)는, 상기 제1 커버부(70)가 안착되어 있는 상기 하부 몰드(100)에 상기 제2 상부 몰드(400)를 얼라인한다. 따라서, 상기 하부 몰드(100)는 그대로 이용되고, 상기 제1 상부 몰드(200)만이 상기 제2 상부 몰드(400)로 교체된다.The step of forming the second cover part 90 (step S900) aligns the second upper mold 400 with the lower mold 100 on which the first cover part 70 is seated. Therefore, the lower mold 100 is used as it is, and only the first upper mold 200 is replaced with the second upper mold 400.

도 13을 참조하면, 도 13(a)는 도 11(a)와 동일한 상기 하부 몰드(100)이고, 도 13(b)는 상기 제2 커버부(90)를 형성하기 위한 제2 상부 몰드(400)이다. 상기 제2 상부 몰드(400)에는 상기 제2 커버부(90)의 형태의 돌출부(450) 및 제3 얼라인 홀(410)이 형성된다. 상기 제2 커버부(90)의 형태의 돌출부(450)는 상기 절연층(10) 상에 형성된 전극들(30)을 노출할 수 있도록 형성된다. 다시 말해, 상기 제2 커버부(90)의 돌출부(450)가 상기 전극들(30)와 마주보며 접촉하므로, 후에 주입되는 엘라스토머에 의해 상기 전극들(30)이 커버되는 것을 방지한다.13 (a) is the same as the lower mold 100 shown in Fig. 11 (a), and Fig. 13 (b) is a sectional view of the second upper mold 400). The second upper mold 400 has a protrusion 450 and a third aligning hole 410 in the form of the second cover 90. A protrusion 450 in the form of the second cover portion 90 is formed to expose the electrodes 30 formed on the insulating layer 10. In other words, since the projecting portion 450 of the second cover portion 90 is in contact with the electrodes 30, the electrodes 30 are prevented from being covered by the elastomer injected later.

상기 하부 몰드(100) 및 상기 제2 상부 몰드(400)는 상기 제1 및 제3 얼라인 홀들(110, 410)을 이용하여 얼라인(align)된다. 상기 제1 및 제3 얼라인 홀들(110, 410)에는 얼라인 핀(미도시)를 삽입하여 얼라인 위치가 이동하지 않게 할 수 있다.The lower mold 100 and the second upper mold 400 are aligned using the first and third alignment holes 110 and 410. An alignment pin (not shown) may be inserted into the first and third alignment holes 110 and 410 to prevent the alignment position from moving.

상기 하부 몰드(100) 및 상기 제2 상부 몰드(400)를 얼라인 시킨 후, 상기 하부 몰드(100) 및 상기 제2 상부 몰드(400) 사이에 실리콘 엘라스토머를 주입한다. 상기 실리콘 엘라스토머가 경화된 후 상기 하부 몰드(100) 및 상기 제2 상부 몰드(400)를 제거하여, 상기 제2 커버부(90)를 형성한다. 이로서, 상기 제2 커버부(90)와 상기 제1 커버부(70)가 결합된 상기 전극 어레이(1)가 형성된다. 즉, 상기 전극 어레이(1)는 상기 전극들(30)만 제외하고 밀봉 패키지 된다.After the lower mold 100 and the second upper mold 400 are aligned, a silicone elastomer is injected between the lower mold 100 and the second upper mold 400. After the silicone elastomer is cured, the lower mold 100 and the second upper mold 400 are removed to form the second cover 90. Thus, the electrode array 1 in which the second cover portion 90 and the first cover portion 70 are coupled is formed. That is, the electrode array 1 is sealed and packaged except for the electrodes 30.

도 14를 참조하면, 상기 제1 커버부(70)가 상기 전극들(30) 및 도선부(50)가 형성된 상기 절연층(10)이 삽입된 상태에서 상기 제2 커버부(90)와 결합되는 것을 알 수 있다. 이때, 실제로는 상기 제1 커버부(70)는 상기 절연층(10)이 삽입된 상태로 상기 하부 몰드(100)에 안착되며, 상기 제2 커버부(90) 역시 몰딩으로 형성된다.14, the first cover part 70 is coupled with the second cover part 90 in a state where the insulating layer 10 formed with the electrodes 30 and the lead part 50 is inserted, . At this time, in reality, the first cover part 70 is seated in the lower mold 100 with the insulation layer 10 inserted, and the second cover part 90 is also molded.

상기 하부 몰드(100), 상기 제1 상부 몰드(200) 및 상기 제2 상부 몰드(400)의 디자인은 상기 절연층(10)의 외각을 잘라낼 때 이용한 설계도를 이용할 수 있다. 이 경우, 얼라인 오차는 약 5 um 미만으로 줄일 수 있다. 또한, 상기 하부 몰드(100), 상기 제1 상부 몰드(200) 및 상기 제2 상부 몰드(400)는 스테인레스 강(stainless steel) 등의 금속재질로 형성될 수 있다.The design of the lower mold 100, the first upper mold 200, and the second upper mold 400 may be a design used to cut the outer surface of the insulating layer 10. In this case, the alignment error can be reduced to less than about 5 [mu] m. In addition, the lower mold 100, the first upper mold 200, and the second upper mold 400 may be formed of a metal such as stainless steel.

본 실시예에 따르면, 몰드를 이용하여 절연층 모양의 홈을 갖는 커버부를 제조하므로 유연성을 갖는 전극 어레이(1)를 오차 없이 용이하게 제조할 수 있다. 또한, 위치에 따라 상기 절연층(10)을 다중층으로 형성하여 전극 어레이의 기계적인 강성(stiffness)을 조절할 수 있으므로, 생체 내부에 삽입이 용이한 도 7의 전극 어레이(3)를 제조할 수 있다.According to this embodiment, since the cover portion having the groove of the insulating layer is manufactured by using the mold, the flexible electrode array 1 can be easily manufactured without any error. In addition, since the insulating layer 10 can be formed in multiple layers according to the position, the mechanical stiffness of the electrode array can be controlled, so that the electrode array 3 of FIG. have.

상기와 같은 신경 자극 및 기록용 전극 어레이에 따르면, 절연층은 전극들 및 도선부가 형성된 부분 이외의 부분이 제거되어 폭이 최소화 되므로, 전극 어레이의 접선방향으로도 유연성이 뛰어나다. 따라서, 청각세포 등 자극이 필요한 곳의 신경 및 조직을 손상할 염려 없이 전극 어레이를 생체 내부에 용이하게 삽입할 수 있다.According to the nerve stimulation and recording electrode array as described above, the insulating layer is excellent in flexibility in the tangential direction of the electrode array, since portions other than the portions where the electrodes and the lead portions are formed are removed to minimize the width. Therefore, the electrode array can be easily inserted into the living body without fear of damaging nerves and tissues where stimulation such as auditory cells is required.

또한, 상기와 같은 전극 어레이의 제조방법에 따르면, 절연층의 외각 형상을 갖는 홈을 이용한 셀프 얼라인(self-align)을 통해 유연성이 뛰어난 전극 어레이를 정확하고 용이하게 제조할 수 있다.
According to the method for manufacturing an electrode array as described above, it is possible to accurately and easily manufacture an electrode array having excellent flexibility through self-alignment using grooves having an outer shape of an insulating layer.

도 15는 도 9의 제2 커버부 및 제1 커버부의 얼라인을 보여주기 위한 사시도이다.FIG. 15 is a perspective view showing the alignment of the second cover part and the first cover part of FIG. 9; FIG.

도 15를 참조하면, 도 14의 경우와 마찬가지로 상기 제1 커버부(70a)가 상기 전극들(30a) 및 도선부(미도시)가 형성된 상기 절연층(10a)이 삽입된 상태에서 상기 제2 커버부(90a)와 결합되는 것을 알 수 있다. Referring to FIG. 15, the first cover portion 70a is formed with the insulating layer 10a in which the electrodes 30a and the lead portions (not shown) are formed, as in the case of FIG. 14, It can be seen that it is coupled with the cover portion 90a.

도 9의 신경 자극 및 기록용 전극 어레이(5)의 제조방법은 각 구성요소들의 형상이 다른 것을 제외하고, 신경 자극 및 기록용 전극 어레이(1)의 제조방법과 실질적으로 동일하므로 설명을 생략한다.The nerve stimulation and the manufacturing method of the recording electrode array 5 of FIG. 9 are substantially the same as those of the nerve stimulation and the manufacturing method of the recording electrode array 1 except for the different components, .

본 발명에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 및 그 제조방법에 따르면, 전극 사이의 절연층의 폭이 최소화되어 전극 어레이의 유연성이 뛰어나므로, 신경 및 조직 세포를 손상할 염려 없이 생체 내부에 삽입할 수 있다. 또한, 전극 하부의 절연층의 두께 및 층수를 부분적으로 조절하여 전극 어레이의 기계적인 강성(stiffness)을 조절할 수 있다. 나아가, 몰드를 이용하여 절연층 모양의 홈을 갖는 커버부를 제조하므로 절연층과 커버부의 얼라인의 오차를 줄일 수 있으므로, 정확하고 용이하게 전극 어레이를 제조할 수 있다.According to the nerve stimulation and recording electrode array and the manufacturing method thereof according to the present invention, since the width of the insulating layer between the electrodes is minimized and the flexibility of the electrode array is excellent, . In addition, the mechanical stiffness of the electrode array can be controlled by partially controlling the thickness and the number of layers of the insulating layer under the electrodes. Furthermore, since a cover having an insulating layer-shaped groove is manufactured using a mold, the error of the alignment between the insulating layer and the cover portion can be reduced, so that the electrode array can be manufactured accurately and easily.

본 발명에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이는 달팽이관, 인공 망막, 대뇌 피질 등의 생체에 이식되어 신경 자극이 필요한 신경 세포 등을 자극하고, 생체 신호 감지 및 생체 신호 기록 등의 기능을 수행한다. 따라서, 본 발명에 따른 신경 자극 및 기록용 전극 어레이는 인공 와우, 망막 자극 또는 뇌신경 질환의 치료 등으로 다양하게 활용할 수 있다.The nerve stimulation and recording electrode array according to the present invention stimulates nerve cells that are implanted in a living body such as a cochlea, artificial retina, or cerebral cortex to perform nerve stimulation and perform functions such as detecting biological signals and recording biological signals. Accordingly, the nerve stimulation and recording electrode array according to the present invention can be used variously for the treatment of cochlear implant, retinal stimulation, or cranial nerve disease.

이상에서는 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. You will understand.

1, 3, 5: 신경 자극 및 기록용 전극 어레이
10, 10a: 절연층 11: 제1 절연층
12: 제2 절연층 30, 30a: 전극들
50: 도선부 70, 70a: 제1 커버부
75: 홈 90, 90a: 제2 커버부
95: 개구부 100: 하부 몰드
200: 제1 상부 몰드 400: 제2 상부 몰드
110, 210, 410: 얼라인 홀들 150: 몰드에 형성된 홈
250, 450: 몰드에 형성된 돌출부들
1, 3, 5: Nerve Stimulation and Recording Electrode Array
10, 10a: insulating layer 11: first insulating layer
12: second insulating layer 30, 30a: electrode
50: lead portion 70, 70a: first cover portion
75: groove 90, 90a: second cover portion
95: opening portion 100: lower mold
200: first upper mold 400: second upper mold
110, 210, 410: alignment holes 150: grooves formed in the mold
250, 450: protrusions formed on the mold

Claims (18)

절연층;
상기 절연층 상에 서로 이격되어 형성되며, 전기적 신호를 전달하는 복수개의 전극들;
상기 절연층 상에 형성되며, 상기 전극들을 전기적으로 연결하는 도선부;
상기 절연층의 하부를 커버하는 제1 커버부; 및
상기 제1 커버부와 결합하여 상기 절연층의 상부를 커버하며, 상기 전극들을 노출하는 제2 커버부를 포함하고,
상기 절연층은 상기 전극들이 형성된 영역과 상기 도선부가 형성된 영역에서 서로 다른 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
Insulating layer;
A plurality of electrodes spaced apart from each other on the insulating layer and transmitting an electrical signal;
A conductive line formed on the insulating layer and electrically connecting the electrodes;
A first cover portion covering a lower portion of the insulating layer; And
And a second cover portion that covers the upper portion of the insulating layer in combination with the first cover portion and exposes the electrodes,
Wherein the insulating layer has a different width in a region where the electrodes are formed and in a region where the lead portion is formed.
제1항에 있어서, 상기 절연층은,
상기 도선부가 형성된 영역의 폭이 상기 전극들이 형성된 영역의 폭보다 좁은 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The semiconductor device according to claim 1,
Wherein the width of the region where the lead is formed is narrower than the width of the region where the electrodes are formed.
제2항에 있어서, 상기 절연층은,
상대적으로 넓은 폭과 상대적으로 좁은 폭을 반복하면서, 상기 전극 어레이의 말단부로 갈수록 폭이 점점 좁아지는 탐침(probe) 형상인 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The semiconductor device according to claim 2,
Wherein the electrode array is a probe shape having a relatively wide width and a relatively narrow width while being gradually narrowed toward a distal end of the electrode array.
제1항에 있어서, 상기 절연층은,
서로 길이가 다른 다중층으로 형성되어, 상기 전극 어레이의 말단부로 갈수록 두께가 얇아지는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The semiconductor device according to claim 1,
Wherein the electrode array is formed of multiple layers having different lengths, and the thickness of the electrode array is decreased toward the distal end of the electrode array.
제4항에 있어서, 상기 절연층은,
상기 제1 커버부와 상기 복수개의 전극들 사이에 형성된 제1 절연층; 및
상기 제1 절연층과 상기 복수개의 전극들 중 일부 전극들 사이에 형성된 제2 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The semiconductor device according to claim 4,
A first insulating layer formed between the first cover part and the plurality of electrodes; And
And a second insulating layer formed between the first insulating layer and some of the plurality of electrodes.
제2항에 있어서, 상기 절연층은,
상기 전극을 격자점으로 하는 격자(lattice) 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The semiconductor device according to claim 2,
Wherein the electrode is formed in a lattice shape with the electrode as a lattice point.
제1항에 있어서, 상기 전극들의 크기는 동일한 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The electrode array for nerve stimulation and recording according to claim 1, wherein the size of the electrodes is the same.
제1항에 있어서, 상기 절연층은,
액정폴리머(liquid crystal polymer)를 포함하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The semiconductor device according to claim 1,
Wherein the electrode array comprises a liquid crystal polymer.
제1항에 있어서, 상기 제1 커버부에는 상기 절연층의 외곽모양의 홈(groove)이 형성되고, 상기 절연층은 상기 홈에 소정의 깊이로 삽입되는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The recording and reproducing apparatus according to claim 1, wherein an outer groove of the insulating layer is formed in the first cover portion, and the insulating layer is inserted into the groove to a predetermined depth. Array.
제9항에 있어서, 상기 제2 커버부에는 상기 전극들을 노출하기 위한 개구부들(openings)이 형성된 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
The electrode array for nerve stimulation and recording according to claim 9, wherein openings for exposing the electrodes are formed on the second cover part.
제10항에 있어서, 상기 제2 커버부는,
상기 절연층이 소정의 깊이로 삽입된 상기 제1 커버부의 홈에 끼워지면서 상기 제1 커버부와 결합하여, 상기 전극들을 제외하고 상기 절연층을 밀봉하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
11. The apparatus according to claim 10,
Wherein the insulating layer is inserted into the groove of the first cover portion inserted at a predetermined depth and is engaged with the first cover portion to seal the insulating layer except for the electrodes. .
제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 커버부들은,
탄성중합체(elastomer)로 이루어진 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
[2] The apparatus of claim 1, wherein the first and second cover portions comprise:
Wherein the electrode array is made of an elastomer.
제12항에 있어서, 상기 탄성중합체는,
실리콘(silicone)을 포함하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이.
13. The method of claim 12,
Characterized in that it comprises silicone. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
절연층 상에 서로 이격되는 복수개의 전극들 및 상기 전극들을 전기적으로 연결하는 도선부를 형성하는 단계;
상기 절연층에서 상기 전극들 및 상기 도선부가 형성된 영역 이외의 영역을 제거하는 단계;
상기 절연층의 외곽모양의 홈을 갖는 제1 커버부를 형성하는 단계;
상기 전극들 및 도선부가 형성된 상기 절연층을 상기 제1 커버부의 홈에 삽입하는 단계; 및
상기 절연층의 상부를 커버하며, 상기 전극들을 노출하는 제2 커버부를 형성하는 단계를 포함하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이의 제조방법.
Forming a plurality of electrodes spaced apart from each other on the insulating layer and a lead portion electrically connecting the electrodes;
Removing a region of the insulating layer other than the region where the electrodes and the conductive line are formed;
Forming a first cover portion having an outer circumferential groove of the insulating layer;
Inserting the insulating layer formed with the electrodes and the lead wire into the groove of the first cover portion; And
And forming a second cover portion covering the top of the insulating layer and exposing the electrodes. ≪ Desc / Clms Page number 19 >
제14항에 있어서, 상기 절연층에서 상기 전극들 및 상기 도선부가 형성된 영역 이외의 영역을 제거하는 단계는,
레이저를 이용하여 상기 절연층 중 상기 전극들 및 상기 도선부로부터 일정간격 이격된 부분을 잘라내는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 제조방법.
15. The method of claim 14, wherein removing the region of the insulating layer other than the region in which the electrodes and the lead are formed,
Wherein a portion of the insulating layer spaced apart from the electrodes and the lead portion is cut using a laser.
제14항에 있어서, 상기 제1 커버부를 형성하는 단계는,
하부 몰드 및 제1 상부 몰드를 얼라인(align)하는 단계;
상기 하부 몰드 및 상기 제1 상부 몰드 사이에 탄성중합체(elastomer)를 주입하는 단계; 및
상기 제1 상부 몰드를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 어레이 제조방법.
15. The method of claim 14, wherein forming the first cover comprises:
Aligning the lower mold and the first upper mold;
Injecting an elastomer between the lower mold and the first upper mold; And
And removing the first upper mold. ≪ Desc / Clms Page number 19 >
제16항에 있어서, 상기 제2 커버부를 형성하는 단계는,
상기 하부 몰드 및 제2 상부 몰드를 얼라인하는 단계; 및
상기 하부 몰드 및 상기 제2 상부 몰드 사이에 탄성중합체를 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 제조방법.
17. The method of claim 16, wherein forming the second cover comprises:
Aligning the lower mold and the second upper mold; And
And injecting an elastomer between the lower mold and the second upper mold. ≪ RTI ID = 0.0 > 11. < / RTI >
제14항에 있어서,
서로 길이가 다른 절연층을 다중층으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 신경 자극 및 기록용 전극 어레이 제조방법.
15. The method of claim 14,
And forming an insulating layer having a different length from each other in a multilayered structure.
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