KR20140070456A - Tube bundle reactor - Google Patents

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KR20140070456A
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만 디젤 앤 터보 에스이
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Abstract

The present invention relates to a tube bundle reactor (1) for performing catalyst vapor reaction. A reaction tube (3) bundle (2) is included which is filled with a catalyst when operated and through which a reaction gas (10) flows. A gas inlet side and gas outlet side tube base (4) is included which is connected with the end of the gas inlet side or gas outlet side of the reaction tube (3). The reaction tube (3) is connected with the inside of a gas inlet chamber or gas outlet chamber (7) through the tube base. A reactor jacket (5) is included which has a jacket chamber (12) formed to surround the tube bundle (2) and be connected with and seal the tube base (4) so that the reaction tube is washed by means of a heat transferring medium along with the tube base when the jacket chamber (12) is operated. In this case, the gas outlet side tube base (4) includes at least one first tube base section (16) in which the tube bundle (2) is disposed and at least one second tube base section (17) which does not have a tube bundle. In this case, in the gas outlet chamber (7), at least one first gas outlet chamber section (18) arranged with respect to the first tube base section (16) and at least one second gas outlet chamber section (19) arranged with respect to the second tube base section (17) and including a nullifying space (20) are provided. The tube bundle reactor includes at least one flow guiding device (8) disposed in the second gas outlet chamber section (19). The flow guiding device (9) is formed to guide a partial flow of the reaction gas (10) discharged from the first gas outlet chamber section (18) through a reaction tube (3) into the nullifying space (20).

Description

튜브 번들 반응기{TUBE BUNDLE REACTOR}[0001] TUBE BUNDLE REACTOR [0002]

본 발명은 청구항 제1항의 전제부에 따른 튜브 번들 반응기에 관한 것이다.The present invention relates to a tube bundle reactor according to the preamble of claim 1.

이러한 튜브 번들 반응기들은 예를 들어 US 7,544,836 B2호 및 WO 2008/009466 A1호에 기술되어 있다. 상기 간행물들에서는 재킷 챔버 내의 튜브- 또는 튜브 번들이 없는 영역에 대해 정렬된, 가스 배출 챔버의 섹션들에 변위체들을 배치하는 것이 제안된다. 변위체는 반응 튜브로부터 배출되는 반응 가스가 거기에서 반응 가스 메인 유동 옆에 있는, 가스 배출 챔버의 무효 공간으로 유입되는 것을 저지한다. Such tube bundle reactors are described, for example, in US 7,544,836 B2 and WO 2008/009466 Al. In these publications it is proposed to arrange displacements in the sections of the gas discharge chamber, which are aligned with respect to the tube-free or tube bundle-free areas in the jacket chamber. The displacer prevents the reaction gas discharged from the reaction tube from flowing into the void space of the gas discharge chamber next to the reaction gas main flow there.

본 출원과 관련해서 "무효 공간"이란 반응 튜브로부터 배출되는 반응 가스가 유동 안내 장치에 의하지 않고 수용될 수 있는, 유동 경로 옆에 있는 가스 배출 챔버의 섹션이고, 상기 무효 공간 내에 규정되지 않은 유동비가 존재하기 때문에, 반응 가스는 그곳에서 더 오래 체류하므로, 바람직하지 않은 부반응이 실시될 수 있다. The term "void space" in the context of the present application is a section of a gas discharge chamber next to a flow path in which reaction gases discharged from a reaction tube can be received without a flow guide device, Because it is present, the reaction gas stays there longer, and undesirable side reactions can be carried out.

본 발명의 과제는 가스 배출 챔버의 상기와 같은 무효 공간에서 반응 튜브로부터 배출된 반응 가스의 바람직하지 않은 부반응을 저지하는 것이다. The object of the present invention is to prevent undesired side reactions of the reaction gas discharged from the reaction tube in the above-mentioned invalid space of the gas discharge chamber.

전술한 방식의 튜브 번들 반응기에서 상기 과제는, 본 발명에 따라 적어도 하나의 유동 안내 장치가 반응 튜브로부터 배출된 반응 가스의 부분 유동을 제 1 가스 배출 챔버 섹션으로부터 무효 공간 내로 안내하지 않도록 형성됨으로써 해결된다. The above problem in the tube bundle reactor of the above-mentioned type is solved by the invention in that at least one flow guide device is formed so as not to guide the partial flow of the reaction gas discharged from the reaction tube from the first gas discharge chamber section into the invalid space do.

본 발명에 따른 조치에 의해 반응 튜브로부터 배출되는 반응 가스의 부분 유동은 가스 배출 챔버의 무효 공간으로 안내되고, 상기 무효 공간은 반응 가스-메인 유동에 의해 관류되지 않는다. 본 발명에 따라 그곳으로 안내된 부분 유동은 떨어져 있는 이러한 무효 공간을 세척하고, 반응 가스가 거기에서 오래 체류하여 바람직하지 않은 반응을 실시하는 것을 저지한다. The partial flow of the reaction gas discharged from the reaction tube by the action according to the present invention is guided to the ineffective space of the gas discharge chamber, and the ineffective space is not perfused by the reactive gas-main flow. The partial flow guided therein according to the present invention cleanses this ineffective space away and prevents the reaction gas from staying there for a long time to undergo an undesirable reaction.

본 발명의 바람직한 개선예에서 적어도 하나의 유동 안내 장치는 제 2 가스 배출 챔버 섹션으로부터 제 1 가스 배출 챔버 섹션 내로 연장되고, 상기 유동 안내 장치는, 반응 튜브로부터 배출되는 반응 가스의 부분 유동을 제 1 가스 배출 챔버 섹션으로부터 제 2 가스 배출 챔버 섹션으로 안내하도록 연장된다. 이로 인해 의도하는 원하는 부분 유동이 반응 가스 메인 유동으로부터 분기되어 무효 공간 내로 우회된다. In a preferred refinement of the invention, at least one flow guide device extends from the second gas discharge chamber section into the first gas discharge chamber section, And extends from the gas discharge chamber section to the second gas discharge chamber section. This causes the intended desired partial flow to diverge from the reactive gas main flow and be diverted into the void space.

바람직하게 적어도 하나의 제 2 튜브 베이스 섹션은 튜브 번들과 반응기 재킷의 내벽 사이의 환형 튜브 베이스 섹션이고, 적어도 하나의 유동 안내 장치는, 반응 가스를 가장 외측에 있는 반응 튜브로부터 환형 튜브 베이스 섹션에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션의 무효 공간 내로 안내하도록 배치된다. 이러한 조치에 의해 가스 배출 챔버의 가장자리 섹션이 효과적으로 세척되고, 동시에 유동 안내 장치의 크기는 비교적 작고, 가스 배출 챔버의 훨씬 큰 최대 영역은 부품 없이 지지된다. Preferably, the at least one second tube base section is an annular tube base section between the tube bundle and the inner wall of the reactor jacket, and at least one flow guide device is arranged to receive the reaction gas from the outermost reaction tube to the annular tube base section And is guided into the ineffective space of the aligned second gas discharge chamber section. This action effectively cleans the edge section of the gas discharge chamber while at the same time the size of the flow guide is relatively small and the much larger maximum area of the gas discharge chamber is supported without parts.

본 발명의 바람직한 개선예에서 가스 배출측 튜브 베이스의 중앙에 튜브 번들이 없는 튜브 베이스 섹션을 포함하는 튜브 번들 반응기에서 유동 안내 장치는, 반응 가스를 가장 내측에 있는 반응 튜브로부터 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션의 무효 공간 내로 안내하도록 배치된다. 이로 인해 반응 가스-메인 유동 옆에 있는, 가스 배출 챔버의 중앙 무효 공간이 효과적으로 세척되고, 이때 반응 가스-메인 유동의 훨씬 많은 최대 부분은 영향을 받지 않는다. In a preferred refinement of the invention, the flow guiding device in the tube bundle reactor, which comprises a tube base section without a tube bundle in the center of the gas outlet side tube base, moves the reaction gas from the innermost reaction tube to a center tube And is guided into the ineffective space of the second gas discharge chamber section aligned with respect to the base section. This effectively cleans the central void space of the gas discharge chamber, next to the reactive gas-main flow, where the much larger portion of the reactive gas-main flow is not affected.

바람직하게 적어도 하나의 유동 안내 장치는 유동 안내 박판으로서 형성된다. 이러한 실시예는 매우 저렴한데, 그 이유는 제조 및 조립 비용이 매우 낮기 때문이다. Preferably at least one flow guide device is formed as a flow guide thin plate. This embodiment is very inexpensive, because the manufacturing and assembly costs are very low.

본 발명의 바람직한 실시예에서 유동 안내 박판은 다공성으로 형성되므로, 유동 안내 박판에 부딪히는 반응 가스의 일부는 유동 안내 박판을 통해 스며들고, 일부는 무효 공간 내로 안내된다. 이로써 반응 가스-메인 유동은 한층 덜 영향을 받을 수 있는데, 그 이유는 상기 메인 유동은 유동 안내 박판을 통해 스며들 수 있기 때문이다. In the preferred embodiment of the present invention, the flow guide thin plate is formed to be porous, so that a part of the reaction gas striking the flow guide thin plate permeates through the flow guide thin plate, and a part is guided into the invalid space. This allows the reactive gas-main flow to be less affected because the main flow can permeate through the flow guide plate.

또한, 바람직하게 적어도 하나의 유동 안내 장치는 제 2 가스 배출 챔버 섹션에만 배치될 수 있고, 무효 공간 옆에 및 적어도 상기 무효 공간의 높이에서 반응 튜브-길이 방향으로 연장되고 적어도 무효 공간의 높이에 가스 유입구들을 갖는 평면 구조물일 수 있고, 상기 개구들의 개방 횡단면은 각각, 최저 유동 속도가 주어지도록 설계된다. 이러한 조치에 의해 튜브 번들에 대해 정렬된 제 1 가스 배출 챔버 섹션은 완전히 부품 없이 유지된다. Also preferably, the at least one flow guiding device may be located only in the second gas discharge chamber section and is located next to the void space and at least at the height of the reactive space, The open cross-sections of the openings are each designed to be given a minimum flow rate. By this measure, the first gas discharge chamber section aligned with respect to the tube bundle is completely maintained without parts.

평면 구조물은 바람직하게 튜브로서 형성되고, 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션에 배치되고, 축방향으로 가스 배출측 튜브 베이스로부터 가스 배출관 내로 연장되고, 상기 가스 배출관은 가스 배출측 튜브 베이스를 커버하는 반응기 후드 내에 배치된다. 이로써 평면 구조물은 간단하고 저렴하게 제조된다. The planar structure is preferably formed as a tube and is disposed in a second gas discharge chamber section aligned with the central tube base section without tube bundles and extends axially from the gas discharge side tube base into the gas discharge tube, Is disposed within the reactor hood that covers the gas discharge side tube base. As a result, the planar structure is manufactured simply and inexpensively.

바람직하게 가스 배출측 튜브 베이스는 가스 배출 챔버의 벽을 형성하고, 적어도 하나의 유동 안내 장치는 상기 튜브 베이스에 고정된다. 본 발명의 바람직한 실시예에서 반응기 후드는 가스 배출측 튜브 베이스를 커버하고, 상기 반응기 후드는 가스 배출 챔버의 벽을 형성하고, 적어도 하나의 유동 안내 장치는 반응기 후드에 고정된다. 예를 들어 가스 배출 챔버 내의 다른 부품들의 경우에 각각의 특성에 따라 2개의 해결 방법은 유동 안내 장치를 위한 간단한 고정 가능성을 제공한다.Preferably, the gas discharge side tube base forms a wall of the gas discharge chamber, and at least one flow guide device is fixed to the tube base. In a preferred embodiment of the present invention, the reactor hood covers the gas outlet side tube base, which forms a wall of the gas discharge chamber, and at least one flow guide device is fixed to the reactor hood. For example, in the case of other components in the gas discharge chamber, two solutions according to their respective properties provide a simple fixability for the flow guide.

바람직하게 본 발명에 따른 튜브 번들 반응기는 (메트)아크롤레인의 제조 및 (메트)아크릴산의 제조를 위해 이용된다. Preferably the tube bundle reactor according to the invention is used for the production of (meth) acrolein and for the production of (meth) acrylic acid.

본 발명은 하기에서 도면을 참고로 예시적으로 설명된다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The invention will be described below by way of example with reference to the drawings.

도 1은 본 발명에 따른 튜브 번들 반응기의, 가스 배출 챔버를 포함하는 부분 횡단면을 개략적으로 도시한 도면.
도 2는 본 발명에 따른 튜브 번들 반응기의 제 2 실시예를 도 1과 유사하게 도시한 도면.
도 3은 본 발명에 따른 튜브 번들 반응기의 제 3 실시예를 도 1과 유사하게 도시한 도면.
도 4a는 본 발명에 따른 유동 안내 장치의 실시예의 평면도.
도 4b는 도 4a의 유동 안내 장치를 수직 방향에서 도시한 도면.
도 5a는 도 5b의 라인 Va-Va을 따른, 본 발명에 따른 유동 안내 장치의 다른 실시예를 도 4a와 유사하게 도시한 도면.
도 5b는 장착 상태에서 도 5a의 유동 안내 장치를 도시한 도면.
도 6은 본 발명에 따른 튜브 번들 반응기의 제 4 실시예를 도 1과 유사하게 도시한 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a schematic illustration of a partial cross-sectional view of a tube bundle reactor according to the present invention, including a gas discharge chamber.
Figure 2 shows a second embodiment of a tube bundle reactor according to the invention, similar to Figure 1;
Figure 3 shows a third embodiment of a tube bundle reactor according to the invention, similar to Figure 1;
4A is a plan view of an embodiment of a flow guide device according to the present invention.
FIG. 4B is a view showing the flow guide device of FIG. 4A in a vertical direction; FIG.
FIG. 5A is a view similar to FIG. 4A showing another embodiment of the flow guide device according to the present invention, taken along line Va-Va in FIG. 5B;
Fig. 5B shows the flow guide device of Fig. 5A in the mounted state; Fig.
Figure 6 shows a fourth embodiment of a tube bundle reactor according to the invention, similar to Figure 1;

도면에 도시된 본 발명에 따른 튜브 번들 반응기(1)의 실시예들은 반응 튜브들(3)의 번들(2), (도시되지 않은) 가스 유입측 및 가스 배출측 튜브 베이스(4), 반응기 재킷(5), (도시되지 않은) 가스 유입측 및 가스 배출측 반응기 후드(6) 및, 유동 안내 장치(8)를 구비한 가스 배출 챔버(7)를 포함한다. Embodiments of the tube bundle reactor 1 according to the present invention as shown in the figures include a bundle 2 of reaction tubes 3, a gas inlet side and a gas outlet side tube base 4 (not shown) (Not shown), a gas inlet side and a gas outlet side reactor hood 6 (not shown), and a gas discharge chamber 7 having a flow guiding device 8.

반응 튜브들(3)은 수직으로 연장되고, 튜브 축선(9)이 도시된다. 편의상 12개의 반응 튜브들(3)만이 도시된다. 반응 튜브들(3)의 실제 개수는 훨씬 많을 수 있고, 30,000개 이상일 수 있다. The reaction tubes 3 extend vertically and the tube axis 9 is shown. Only 12 reaction tubes 3 are shown for convenience. The actual number of reaction tubes 3 may be much larger, and may be more than 30,000.

반응 튜브들(3)은 반응기 작동 시 촉매 물질로 채워질 수 있고, 반응 가스(10)에 의해 관류된다. 도시된 실시예에서 반응 가스(10)는 위에서부터 아래로 유동한다. The reaction tubes 3 can be filled with catalytic material during the operation of the reactor and are perfused by the reaction gas 10. In the illustrated embodiment, the reaction gas 10 flows from top to bottom.

반응 튜브들(3)의 단부들은 튜브 베이스(4)의 관통 보어에서 밀봉 용접되고, (도시되지 않은) 가스 유입 챔버 또는 가스 배출 챔버(7) 내로 통한다. 도시된 실시예에서 반응 튜브(3)의 하단부는 상기 반응 튜브의 가스 배출측 단부이고, 상기 단부로부터 반응이 완료된 반응 가스(10)가 가스 배출 챔버(7) 내로 유동한다. The ends of the reaction tubes 3 are sealingly welded at the through bore of the tube base 4 and into the gas inlet chamber (not shown) or the gas outlet chamber 7. In the illustrated embodiment, the lower end of the reaction tube 3 is the gas discharge side end of the reaction tube, and the reaction gas 10, from which reaction has been completed, flows into the gas discharge chamber 7.

가스 배출측 튜브 베이스(4)는 가스 배출측 반응기 후드(6)로 커버되고, 상기 반응기 후드는 반응기 재킷(5) 및/또는 튜브 베이스(4)에 밀봉 연결된다. 반응기 후드는 피크 영역에 가스 배출관(11)을 갖는다. The gas discharge side tube base 4 is covered with a gas discharge side reactor hood 6 and the reactor hood is sealed to the reactor jacket 5 and / The reactor hood has a gas exhaust tube (11) in the peak region.

가스 배출측 반응기 후드(6)와 가스 배출측 튜브 베이스(4)는 가스 배출 챔버(7)의 벽을 형성한다. The gas discharge side reactor hood 6 and the gas discharge side tube base 4 form the wall of the gas discharge chamber 7.

반응기 재킷(5)은 튜브 번들(2)을 둘러싸고, 튜브 베이스(4)에 밀봉 용접된다. 반응기 재킷(5)은 튜브 베이스(4)와 함께 재킷 챔버(12)를 제한하고, 상기 재킷 챔버에서 반응 튜브(3)는 반응기의 작동 중에 열 전달 매체에 의해 세척된다.A reactor jacket (5) surrounds the tube bundle (2) and is sealingly welded to the tube base (4). The reactor jacket 5 limits the jacket chamber 12 with the tube base 4 and the reaction tube 3 in the jacket chamber is cleaned by the heat transfer medium during the operation of the reactor.

도시된 실시예에서 튜브 번들(2)은 반응기-길이방향 축선(13) 둘레에 환형으로, 가장 내측 반응 튜브들(3a) 사이의 튜브 또는 튜브 번들이 없는 중앙 재킷 챔버 섹션(14)과 경우에 따라서 방사방향으로 가장 외측에 있는 반응 튜브들(3b)과 반응기 재킷(5)의 내벽 사이의 튜브 또는 튜브 번들이 없는 외부 환형 챔버(15)로 형성된다. In the illustrated embodiment the tube bundle 2 is annular around the reactor-longitudinal axis 13 and in the case of the central jacket chamber section 14 without tubes or tube bundles between the innermost reaction tubes 3a, And thus is formed into an outer annular chamber 15 without tubes or tube bundles between the reaction tubes 3b which are radially outermost and the inner wall of the reactor jacket 5.

따라서 가스 배출측 튜브 베이스(4)는 (및 가스 유입측 튜브 베이스도) 튜브 번들(2)이 배치된, 이하에서 제 1 튜브 베이스 섹션(16)이라고도 하는 튜브 베이스 섹션(16)과 이하에서 제 2 튜브 베이스 섹션(17)이라고도 하는 튜브 번들이 없는 튜브 베이스 섹션(17)을 포함한다. The gas discharge side tube base 4 (and also the gas inlet side tube base) also includes a tube base section 16, hereinafter also referred to as a first tube base section 16, in which the tube bundle 2 is disposed, And a tube base section 17 without a tube bundle, also referred to as a two tube base section 17.

가스 배출 챔버(7)는 제 1 튜브 베이스 섹션(16)에 대해 정렬된 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18)과 제 2 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)을 포함한다.The gas discharge chamber 7 has a first gas discharge chamber section 18 aligned with respect to the first tube base section 16 and a second gas discharge chamber section 19 aligned with the second tube base section 17, .

제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)은 소위 무효 공간(20)을 갖고, 상기 무효 공간은 유동 경로 옆에 배치되고, 상기 무효 공간에 반응 튜브(3)로부터 배출되는 반응 가스(10)가 유동 안내 장치(8)에 의하지 않고 수용될 수 있다. 무효 공간(20) 내에 규정되지 않은 유동비가 존재하므로, 반응 가스(10)가 거기에서 더 오래 체류할 수 있고, 그 결과 바람직하지 않은 부반응이 실시될 수 있다. The second gas discharge chamber section 19 has a so-called void space 20, the void space is arranged beside the flow path, and the reactive gas 10, which is discharged from the reaction tube 3 into the void space, Can be accommodated without the device (8). Because there is an undefined flow rate in the void space 20, the reaction gas 10 can stay there longer, and undesirable side reactions can be carried out.

도 1에 도시된 실시예에서 유동 안내 박판으로서 형성된 유동 안내 장치(8)는 튜브 또는 튜브 번들이 없는 중앙 재킷 챔버 섹션(14) 아래에 및 상응하게 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션(17) 아래에 배치된, 즉 상기 섹션에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)으로부터, 방사방향으로 가장 내측의 2개의 반응 튜브(3, 3a)의 가스 배출측 단부 아래에까지, 즉 튜브 번들(2) 아래에 배치된, 즉 제 1 튜브 베이스 섹션(16)에 대해 정렬된 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18) 내로 연장된다. 1, a flow guiding device 8, formed as a flow guide plate, is provided underneath a central jacket chamber section 14 without tube or bundle bundles and underneath a corresponding central tube base section 17 without tube bundles From the second gas discharge chamber section 19 arranged in the radial direction, that is to say, below the gas discharge side end of the two radially innermost reaction tubes 3, 3a, that is to say the tube bundles 2 , I.e., into a first gas discharge chamber section 18 that is aligned with respect to the first tube base section 16.

유동 안내 박판(8)은 2개의 섹션들(21, 22)을 포함한다. 제 1 섹션(21)은 반응 튜브(3) 또는 반응기(1)의 길이방향으로 연장된다. 유동 안내 박판(8)의 제 2 섹션(22)은 제 1 섹션(21)으로부터 튜브 베이스(4)로 기울어져 연장되고, 즉 도시된 실시예에서 유동 안내 박판(8)의 제 1 섹션(21)으로부터 튜브 베이스(4)를 향해 위로 연장된다. 따라서 방사방향으로 가장 내측의 2개의 반응 튜브(3, 3a)로부터 배출되는 반응 가스(10)는 유동 안내 박판(8)의 제 2 섹션(22)을 따라서 상기 제 2 가스 배출 섹션(19) 내로 그리고 거기에서 무효 공간(20) 내로 유동하고, 상기 무효 공간은 튜브 번들이 없는 중앙 재킷 챔버 섹션(14) 또는 제 2 튜브 베이스 섹션(17) 아래에 배치되고, 상기 제 2 튜브 베이스 섹션에 인접한다. The flow guide thin plate 8 includes two sections 21 and 22. The first section (21) extends in the longitudinal direction of the reaction tube (3) or the reactor (1). The second section 22 of the flow guide plate 8 extends obliquely from the first section 21 to the tube base 4, ) Toward the tube base 4. [0052] The reaction gas 10 discharged from the two radially innermost reaction tubes 3 and 3a flows into the second gas discharge section 19 along the second section 22 of the flow guide plate 8 And there flowing into the void space (20), said void space being disposed below the central jacket chamber section (14) or the second tube base section (17) without tube bundles and adjacent to said second tube base section .

유동 안내 박판(8)은 고정 장치(25), 예를 들어 바아, 튜브, 트러스트에 의해 가스 배출측 튜브 베이스(4)에 고정될 수 있다. The flow guide thin plate 8 can be fixed to the gas discharge side tube base 4 by a fixing device 25, for example, a bar, a tube or a thrust.

도 2에 도시된 실시예에서 추가로 제 2 유동 안내 박판(8a)이 제공되고, 상기 제 2 유동 안내 박판은 튜브 또는 튜브 번들이 없는 환형 챔버(15) 아래에 - 즉 상응하게 튜브 번들이 없는 환형 튜브 베이스 섹션(17) 아래에 - 배치된 또는 상기 섹션에 대해 정렬된 다른 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)으로부터 튜브 번들(2)에 대해 정렬된 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18) 내로 연장된다. In the embodiment shown in FIG. 2, a second flow guide plate 8a is additionally provided and the second flow guide plate is provided underneath the annular chamber 15 without tubes or tube bundles, i.e. correspondingly without tube bundles Extends into a first gas discharge chamber section (18) aligned with respect to the tube bundle (2) from another second gas discharge chamber section (19) disposed below or aligned with the annular tube base section (17) do.

상기 제 2 유동 안내 박판(8a)은 방사방향 외측에 있는 반응 튜브(3b)의 가스 배출측 단부 아래에까지 연장된다. The second flow guide thin plate 8a extends to below the gas discharge side end of the reaction tube 3b located radially outward.

상기 제 2 유동 안내 박판(8a)도 2개의 섹션(23, 24)을 포함하고, 상기 섹션들 중에 제 1 섹션(23)은 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)에서 반응 튜브(3) 또는 반응기(1)의 길이방향으로 연장되고, 제 2 섹션(24)은 제 1 섹션(23)에 연결되고 튜브 베이스(4)를 향해 기울어져 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18) 내로, 방사방향 외측에 있는 반응 튜브(3b) 아래까지 연장된다.The second flow guide thin plate 8a also includes two sections 23 and 24 and the first section 23 is connected to the reaction tube 3 or the reactor 3 in the second gas discharge chamber section 19, And the second section 24 is connected to the first section 23 and tilted toward the tube base 4 into the first gas discharge chamber section 18 and radially outwardly And extends under the reaction tube 3b.

따라서 상기 반응 튜브(3b)로부터 배출되는 반응 가스(10)는 상기 유동 안내 박판(8a)의 제 2 섹션(24)을 따라 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18)으로부터 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내로 안내된다. The reaction gas 10 discharged from the reaction tube 3b is discharged from the first gas discharge chamber section 18 along the second section 24 of the flow guide plate 8a to the second gas discharge chamber section 19 .

제 2 유동 안내 박판(8a)도 중앙에 배치된 제 1 유동 안내 박판과 유사한 고정 수단에 의해 튜브 베이스(4)에 고정된다. The second flow guide thin plate 8a is also fixed to the tube base 4 by fixing means similar to the first flow guide thin plate disposed at the center.

도 2에 도시된 실시예에서 중앙 유동 안내 박판(8)은 다공성으로 형성된다. 상기 중앙 유동 안내 박판은 홀(26) 또는 가스 투과 영역을 포함하고, 상기 홀 또는 영역을 통해 반응 가스(10)의 일부는 유동 안내 박판(8)을 지나 유동할 수 있으므로, 2개의 가장 내측 반응 튜브(3, 3a)로부터 배출되는 반응 가스(10)의 부분 유동만이 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18)으로부터 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내로 유동한다. In the embodiment shown in Fig. 2, the central flow guide foil 8 is made porous. The central flow guide thin plate includes a hole 26 or a gas permeable region through which a portion of the reaction gas 10 may flow past the flow guide plate 8 so that the two innermost reactions Only partial flow of the reaction gas 10 exiting the tubes 3 and 3a flows from the first gas discharge chamber section 18 into the second gas discharge chamber section 19.

또한, 튜브 베이스(4)를 향한 상기 유동 안내 박판의 측면에 안내 박판(27)이 배치된다. Further, the guide thin plate 27 is disposed on the side surface of the flow guide thin plate facing the tube base 4.

또한, 제 2 유동 안내 박판(8a)도 다공성으로 형성되므로, 방사방향 외측에 있는 반응 튜브(3b)로부터 배출되는 반응 가스(10)의 각각의 부분 유동들은 제 2 유동 안내 박판(8a)을 지나 유동한다. Further, since the second flow guide thin plate 8a is also made porous, each partial flow of the reaction gas 10 discharged from the reaction tube 3b located radially outward passes through the second flow guide thin plate 8a Flow.

또한, 이 실시예에서 가스 배출측 반응기 후드(6)는 맨홀(28)을 포함하고, 상기 맨홀을 통해 설치 기술자가 가스 배출 챔버(7) 내에 도달할 수 있으므로, 거기에서 조립- 또는 보수 작업을 실시할 수 있다. Further, in this embodiment, the gas discharge side reactor hood 6 includes a manhole 28 through which the installer can reach the gas discharge chamber 7, so that the assembly-or repair work .

도 3은 도 1과 유사한 실시예를 도시하고, 이 경우 중앙에 배치된 유동 안내 박판(8)은 고정 장치(29)에 의해 반응기 후드(6)에 고정된다. 도 3에 도시된 고정 장치(29)는 예를 들어 4-레그로서 구현될 수 있으므로, 반응 가스(10)는 장애 없이 고정 장치(29)를 통해 가스 배출관(11)으로 유동할 수 있다. Fig. 3 shows an embodiment similar to that of Fig. 1, in which the centrally disposed flow guide plate 8 is fixed to the reactor hood 6 by means of a securing device 29. Fig. 3 can be implemented as a four-leg, for example, so that the reaction gas 10 can flow to the gas discharge pipe 11 through the fixing device 29 without any trouble.

또한, 도 3에 도시된 실시예에서 유동 안내 박판(8)의 제 1 및 제 2 섹션 사이의 이행부(30)는 아치로 구현된다. 아치 반경은, 반응 가스(10)의 유동에 바람직한 편향이 제공되도록 선택된다. Also, in the embodiment shown in FIG. 3, the transition portion 30 between the first and second sections of the flow guide sheet 8 is embodied as an arch. The arch radius is selected to provide the desired deflection for the flow of reaction gas 10.

도 4a 및 도 4b에는 유동 안내 장치(8)의 다른 실시예가 도시되고, 상기 유동 안내 장치는 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내에 배치되고, 상기 섹션은 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된다. 이러한 실시예에서 유동 안내 장치(8)는 튜브로서 형성되고, 상기 튜브는 가스 배출측 튜브 베이스(4)를 향한 단부에서 횡단면인 파형인 깔때기(31)처럼 확장되거나 또는 가장자리가 구부러진다. 확장된 튜브 단부(31)는 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내의 무효 공간(20)의 높이에 배치된다. 튜브 베이스(4)로부터 떨어져 있는 단부(32)는 사전 설정된 길이 만큼 튜브 베이스(4)로부터 떨어져 있는 측면으로 연장된다. 4A and 4B show another embodiment of a flow guide device 8, which is arranged in a second gas discharge chamber section 19, which section comprises a central tube base section 17 ). In this embodiment, the flow guiding device 8 is formed as a tube, which extends or curves like a funnel 31, which is a cross-section waveform at the end towards the gas outlet side tube base 4. The expanded tube end 31 is disposed at the height of the void space 20 in the second gas discharge chamber section 19. The end 32 remote from the tube base 4 extends to a side away from the tube base 4 by a predetermined length.

튜브 베이스(4)로부터 떨어져 있는 튜브 단부(32)의 횡단면 치수는, 상기 튜브 단부가 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내에만 - 즉, 반응 튜브(3a)의 가장 내측 링(33) 내에 - 위치하도록 설계된다. 그와 달리, 확장된 튜브 단부(31)는 튜브 번들(2) 아래에 배치된 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18) 내로 연장되므로, 반응 튜브(3)로부터 배출되는 반응 가스(10)는 튜브 확장부(31)의 내측면(34)을 따라 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내로 안내되고, 이 경우 파형 확장부를 통해 거기에서 부딪히는 반응 가스(10)는 무효 공간(20) 내로 주입된다. The cross sectional dimension of the tube end 32 remote from the tube base 4 is such that the tube end is only located within the second gas discharge chamber section 19, i.e. within the innermost ring 33 of the reaction tube 3a, . The expanded tube end 31 extends into the first gas discharge chamber section 18 disposed below the tube bundle 2 so that the reaction gas 10 discharged from the reaction tube 3 is expanded Is directed into the second gas exhaust chamber section 19 along the inner side 34 of the portion 31 where the reactive gas 10 impinging thereon through the corrugated extension is injected into the void space 20.

유동 안내 장치(8)는 다수의 부분으로 구현될 수도 있다. 예를 들어 확장되지 않은 튜브 섹션(32)은 시중의 튜브일 수 있고, 확장된 섹션(31)은 아치형으로 커팅된 박판 스트립으로 제조될 수 있고, 상기 스트립의 방사방향으로 연장된 2개의 에지는 깔때기의 형성을 위해 모아져 서로 결합된다. The flow guide device 8 may be embodied in a plurality of parts. For example, the unexpanded tube section 32 may be a commercially available tube, and the extended section 31 may be manufactured as an arcuately cut thin strip, with two radially extending edges of the strip And are gathered and joined together to form a funnel.

도 5a 및 도 5b에 도시된 실시예에서 개별 유동 안내 튜브들(35)은 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)으로부터 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18) 내로 연장된다. 도시된 실시예에서 유동 안내 튜브들(35)은 성형으로 반응기-종축선(13)에 대해 방사방향으로 연장된다. 유동 안내 튜브들(35)은 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)에서 반응기-종축선(13)에 대해 동심으로 연장되는 튜브 홀더(36)의 단부에 고정된다. 상기 유동 안내 튜브들은 도시된 실시예에서 반응 튜브(3a, 3)의 가장 내측의 2개의 열 아래까지 연장되고, 거기에서 자유 단부는 튜브 종축선에 대해 비스듬하게 커팅되므로, 반응 가스(10)를 위한 가능한 한 큰 횡단면을 갖는 유입구(37)가 형성될 수 있다. In the embodiment shown in Figs. 5A and 5B, the individual flow guide tubes 35 extend from the second gas discharge chamber section 19 into the first gas discharge chamber section 18. In the illustrated embodiment, the flow guide tubes 35 extend radially with respect to the reactor-longitudinal axis 13 in shaping. The flow guide tubes 35 are connected to a tube holder 36 extending concentrically with respect to the reactor longitudinal axis 13 in a second gas discharge chamber section 19 aligned with the central tube base section 17 without tube bundles As shown in Fig. The flow guide tubes extend below the innermost two rows of reaction tubes 3a, 3 in the illustrated embodiment, where the free ends are cut obliquely with respect to the longitudinal axis of the tubes, An inlet 37 having as large a cross-section as possible for the sake of convenience can be formed.

각각의 유동 안내 튜브(35)는 자유 단부 근처에서 휘어질 수 있으므로, 상기 유브의 유입구(37)는 튜브 베이스(4)에 대해 거의 평행하게 연장되고, 따라서 유동 안내 튜브(35) 내로 반응 가스(10)의 유입이 쉬워질 수 있다. Each of the flow guide tubes 35 can be bent near the free end so that the inlet 37 of the tube extends substantially parallel to the tube base 4 and thus flows into the flow guide tube 35 10 can be facilitated.

유동 안내 튜브(35) 내로 유동하는 반응 가스(10)의 양을 늘리기 위해, 유입구에 깔때기가 삽입될 수도 있고, 상기 깔때기는 튜브 베이스(4)를 향해 개방되거나, 또는 유동 안내 튜브(35)는 도 5a에 예시적으로 우측 유동 안내 튜브에 도시된 것처럼 분기될 수도 있다(38).A funnel may be inserted into the inlet and the funnel may be opened toward the tube base 4 or the flow guide tube 35 may be opened to increase the amount of the reaction gas 10 flowing into the flow guide tube 35 (38) as illustrated in the right flow guide tube in FIG. 5A by way of example.

이로 인해 수집- 분배 기능은 유사하면서 튜브 홀더(36)에 직접 고정된 유동 안내 튜브들(35)의 개수의 감소가 달성될 수 있다.This allows a reduction in the number of flow guide tubes 35 fixed directly to the tube holder 36 while the collection-dispensing function is similar.

무효 공간(20)의 영역에서 유동 안내 튜브들(35)은 튜브 베이스(4)를 향한 측면에 가스 배출구(39)를 갖고, 상기 배출구를 통해 반응 가스(10)를 유동 안내 튜브(35)로부터 무효 공간(20) 내로 배출한다. 경우에 따라서 측면 또는 하부 가스 배출구가 형성될 수도 있다. The flow guide tubes 35 in the region of the void space 20 have a gas outlet 39 on the side facing the tube base 4 and the reaction gas 10 is discharged from the flow guide tube 35 through the outlet And discharges it into the invalid space (20). Depending on the case, a side or lower gas outlet may be formed.

중앙 튜브 홀더(36) 상의 유동 안내 튜브들(35)의 고정 위치에서 상기 튜브 홀더는 유동 안내 튜브들(35)의 내부 횡단면 내에 마찬가지로 가스 배출구(40)를 가질 수 있고, 상기 배출구로부터 반응 가스(10)가 튜브 홀더(36)의 내측으로 유동한다. 이러한 경우에 튜브 홀더(36)는 한편으로는 다수의 가스 배출구(41)를 갖고, 상기 배출구를 통해 반응 가스(10)가 튜브 홀더(36)로부터 가스 배출 챔버(7) 내로 유동한다. The tube holder at the fixed position of the flow guide tubes 35 on the central tube holder 36 may likewise have a gas outlet 40 in the inner cross section of the flow guide tubes 35, 10 flows into the inside of the tube holder 36. In this case the tube holder 36 has a plurality of gas outlets 41 on the one hand and the reaction gas 10 flows through the outlets into the gas outlet chamber 7 from the tube holder 36.

튜브 홀더(36)는 튜브 베이스(4)에 예를 들어 용접, 납땜, 리벳 또는 나사 결합에 의해 고정된다. The tube holder 36 is secured to the tube base 4, for example by welding, soldering, riveting or screwing.

도 6에 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)에만 유동 안내 장치(8)가 배치된 실시예가 도시되고, 이 경우 상기 섹션은 도시된 실시예에서 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된다. 6 shows an embodiment in which only the second gas discharge chamber section 19 is provided with a flow guiding device 8, in which case the section is shown in the illustrated embodiment with respect to the central tube base section 17 without tube bundles .

도시된 실시예에서 유동 안내 장치(8)는 유동 안내 튜브로서 형성되고, 상기 튜브는 가스 배출측 튜브 베이스(4)로부터 가스 배출관(11)까지 연장되고, 상기 가스 배출관은 반응기 후드(6)에 고정되고, 반응기-종축선(13)에 대해 동축으로 연장된다. 바람직하게 유동 안내 튜브(8)도 상기 가스 배출관(11) 내로 연장된다. In the illustrated embodiment, the flow guiding device 8 is formed as a flow guide tube, which extends from the gas discharge side tube base 4 to the gas discharge tube 11, which is connected to the reactor hood 6 And extends coaxially with the reactor-longitudinal axis 13. Preferably also a flow guide tube 8 extends into the gas discharge tube 11.

반응기 후드(6)는 가스 배출측 튜브 베이스(4)를 커버하고, 도시된 실시예에서 상기 튜브 단부에 플랜지 연결에 의해 밀봉 연결된다.The reactor hood 6 covers the gas outlet side tube base 4 and is sealingly connected by a flange connection to the tube end in the illustrated embodiment.

유동 안내 튜브(8)는 길이방향으로 전체 길이와 가스 유입구(42) 둘레의 전체 원주를 갖고, 상기 가스 유입구를 통해 반응 가스(10)가 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18)으로부터 유동 안내 튜브(8) 내로 유입된다. 유동 안내 튜브(8)에서 반응 가스(10)는 가스 배출관(11)으로 유동한다.   The flow guide tube 8 has an overall length in the longitudinal direction and an entire circumference about the gas inlet 42 through which the reaction gas 10 flows from the first gas discharge chamber section 18 to the flow guide tube & 8). In the flow guide tube 8, the reaction gas 10 flows to the gas discharge pipe 11.

가스 유입구들(42)의 크기는, 반응 가스(10)가 최저 관류 속도로 상기 가스 유입구를 지나 무효 공간(20) 내로 유동하도록 설계된다. 바람직하게 가스 유입구들(42)의 크기는 튜브 베이스(4)로부터 가스 배출관(11)을 향해 감소한다. The size of the gas inlets 42 is designed such that the reactive gas 10 flows through the gas inlet at the lowest perfusion rate into the reactive space 20. Preferably, the size of the gas inlets 42 decreases from the tube base 4 toward the gas discharge tube 11.

도 6에 도시된 실시예에서 반응 가스(10)는 살수기 형태로 유동 안내 튜브(8) 내로 유입되고, 이러한 방식으로 무효 공간(20)을 세척한다. In the embodiment shown in Fig. 6, the reaction gas 10 flows into the flow guide tube 8 in the form of a sprinkler, and cleans the void space 20 in this manner.

유동 안내 튜브(8)는 축방향으로 및/또는 원주 방향으로 다수의 부분으로 구현될 수 있다. 바람직하게는 튜브 베이스(4)에 고정된다. The flow guide tube 8 may be embodied in a plurality of portions in the axial direction and / or in the circumferential direction. And is preferably fixed to the tube base 4.

또한, 반응기 후드(6)에 맨홀(28) 또는 입구가 형성될 수 있고, 여기를 통해 설치 기술자가 반응기 후드(6)에 도달할 수 있으므로, 유동 안내 튜브(8)에서 조립 작업 및/또는 수리 작업을 실시할 수 있다. A manhole 28 or an inlet can also be formed in the reactor hood 6 through which the installation technician can reach the reactor hood 6 so that the assembly work and / The work can be carried out.

본 발명에 따른 튜브 번들 반응기(1)에서 반응 가스(10)가 더 긴 시간 체류할 수 있고 따라서 추가 반응에 의해 바람직하지 않은 부산물이 발생할 수 있는 무효 공간(20)이 효율적으로 세척될 수 있으므로, 이러한 체류 시간과 부산물이 방지된다. Since the reactive gas 10 can stay in the tube bundle reactor 1 according to the present invention for a longer time and therefore the reactive space 20 in which undesirable by-products can be generated by the additional reaction can be efficiently washed, This residence time and by-products are prevented.

1 튜브 번들 반응기
2 튜브 번들
3 반응 튜브
4 튜브 베이스
5 반응기 재킷
6 반응기 후드
7 가스 배출 챔버
8 유동 안내 장치
10 반응 가스
16 제 1 튜브 베이스 섹션
17 제 2 튜브 베이스 섹션
18 제 1 가스 배출 챔버 섹션
19 제 2 가스 배출 챔버 섹션
20 무효 공간
42 가스 유입구1 tube bundle reactor
2 tube bundle
3 reaction tube
4 tube base
5 reactor jacket
6 reactor hood
7 gas discharge chamber
8 Flow guide device
10 Reaction gas
16 First tube base section
17 Second tube base section
18 First gas discharge chamber section
19 Second gas exhaust chamber section
20 invalid space
42 gas inlet

Claims (11)

촉매 기상 반응을 실시하기 위한 튜브 번들 반응기로서,
- 작동시 촉매제로 채워지고 반응 가스가 관류하는 반응 튜브 번들을 포함하고,
- 반응 튜브의 가스 유입측 또는 가스 배출측 단부에 밀봉 연결된 가스 유입측 및 가스 배출측 튜브 베이스를 포함하고, 상기 튜브 베이스를 통해 상기 반응 튜브는 가스 유입 챔버 또는 가스 배출 챔버 내로 통하고,
- 튜브 번들을 둘러싸고 튜브 베이스에 밀봉 연결됨으로써 상기 튜브 베이스와 함께, 작동 시 반응 튜브가 열 전달 매체로 세척되는 재킷 챔버를 형성하는 반응기 재킷을 포함하고,
- 이 경우 가스 배출측 튜브 베이스는 튜브 번들이 배치된 적어도 하나의 제 1 튜브 베이스 섹션과 튜브 번들이 없는 적어도 하나의 제 2 튜브 베이스 섹션을 포함하고,
- 이 경우 가스 배출 챔버 내에 상기 제 1 튜브 베이스 섹션에 대해 정렬된 적어도 하나의 제 1 가스 배출 챔버 섹션과 상기 제 2 튜브 베이스 섹션에 대해 정렬되고 무효 공간을 포함하는 적어도 하나의 제 2 가스 배출 챔버 섹션이 제공되고,
- 상기 제 2 가스 배출 챔버 섹션 내에 배치된 적어도 하나의 유동 안내 장치를 포함하는 튜브 번들 반응기에 있어서,
적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는, 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18)으로부터 반응 튜브(3)로부터 배출되는 반응 가스(10)의 부분 유동을 무효 공간(20) 내로 안내하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.A tube bundle reactor for performing a catalytic gas phase reaction,
A reaction tube bundle filled with a catalyst in operation and through which the reaction gas is perfused,
- a gas inlet side and a gas outlet side tube base sealingly connected to the gas inlet side or the gas outlet side of the reaction tube, the reaction tube passing through the tube base into the gas inlet chamber or the gas outlet chamber,
A reactor jacket surrounding the tube bundle and sealingly connected to the tube base to form a jacket chamber with which the reaction tube, in operation, is washed with the heat transfer medium,
Wherein the gas discharge side tube base comprises at least one first tube base section in which tube bundles are disposed and at least one second tube base section without tube bundles,
At least one first gas discharge chamber section aligned with respect to said first tube base section in said gas discharge chamber and at least one second gas discharge chamber section aligned with said second tube base section and including an invalid space, Section is provided,
- a tube bundle reactor comprising at least one flow guide device disposed in the second gas discharge chamber section,
The at least one flow guide device 8 is characterized in that it is formed to guide the partial flow of the reaction gas 10 exiting the reaction tube 3 from the first gas exhaust chamber section 18 into the void space 20 Tube bundle reactor. 제 1 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는 상기 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)으로부터 상기 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18) 내로 연장되고, 상기 유동 안내 장치(8)는, 상기 반응 튜브(3)로부터 배출되는 상기 반응 가스(10)의 부분 유동을 상기 제 1 가스 배출 챔버 섹션(18)으로부터 상기 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내로 안내하도록 연장되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기. 2. The apparatus according to claim 1, wherein said at least one flow guide device (8) extends from said second gas discharge chamber section (19) into said first gas discharge chamber section (18) , And to guide a partial flow of the reaction gas (10) exiting the reaction tube (3) from the first gas discharge chamber section (18) into the second gas discharge chamber section (19) Tube bundle reactor. 제 2 항에 있어서, 적어도 하나의 제 2 튜브 베이스 섹션(17)은 튜브 번들(2)과 반응기 재킷(5)의 내벽 사이의 환형 튜브 베이스 섹션이고, 상기 적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는, 상기 반응 가스(10)를 가장 외측에 있는 반응 튜브(3b)로부터 상기 환형 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내의 무효 공간(20) 내로 안내하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.3. The apparatus according to claim 2, wherein the at least one second tube base section (17) is an annular tube base section between the tube bundle (2) and the inner wall of the reactor jacket (5) Is arranged to guide the reaction gas 10 from the outermost reaction tube 3b into the void space 20 in the second gas exhaust chamber section 19 aligned with respect to the annular tube base section 17 Lt; RTI ID = 0.0 > 1, < / RTI > 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 가스 배출측 튜브 베이스(4)의 중앙에 튜브 번들이 없는 튜브 베이스 섹션(17)이 형성되고, 유동 안내 장치(8)는 상기 반응 가스(10)를 가장 내측에 있는 반응 튜브(3b)로부터 상기 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19) 내의 무효 공간(20) 내로 안내하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.4. The apparatus according to claim 2 or 3, wherein a tube base section (17) without tube bundles is formed at the center of the gas discharge side tube base (4), and the flow guide device (8) (20) in a second gas discharge chamber section (19) aligned with respect to the central tube base section (17) without the tube bundle from the reaction tube (3b) Bundle reactor. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는 유동 안내 박판으로서 형성되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.5. A tube bundle reactor according to any one of claims 1 to 4, wherein said at least one flow guide device (8) is formed as a flow guide thin plate. 제 5 항에 있어서, 상기 유동 안내 박판(8)은 다공성으로 형성되므로, 상기 유동 안내 박판(8)에 부딪히는 반응 가스(10)의 일부는 상기 유동 안내 박판(8)을 통해 스며들고, 일부는 상기 무효 공간(20) 내로 안내되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.The flow guide plate (8) according to claim 5, wherein the flow guide thin plate (8) is made porous so that a part of the reaction gas (10) striking the flow guide thin plate (8) permeates through the flow guide thin plate Is guided into the void space (20). 제 1 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)에만 배치되고, 상기 무효 공간(20) 옆에 및 적어도 상기 무효 공간의 높이에서 반응 튜브-길이방향으로 연장되고 적어도 상기 무효 공간(20)의 높이에 가스 유입구들(42)을 갖는 평면 구조물이고, 상기 유입구들의 개방 횡단면은 각각, 최저 관류 속도가 주어지도록 설계되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.2. The apparatus according to claim 1, characterized in that said at least one flow guiding device (8) is located only in a second gas discharge chamber section (19) and is located next to said ineffective space (20) , And at least the gas inlets (42) at the height of the ineffective space (20), the open cross-sections of the inlets being each designed to have a lowest perfusion rate. 제 7 항에 있어서, 상기 평면 구조물(8)은 튜브로서 형성되고, 상기 튜브 번들이 없는 중앙 튜브 베이스 섹션(17)에 대해 정렬된 제 2 가스 배출 챔버 섹션(19)에 배치되고, 축방향으로 가스 배출측 튜브 베이스(4)로부터 가스 배출관(11) 내로 연장되고, 상기 가스 배출관은 가스 배출측 튜브 베이스(4)를 커버하는 반응기 후드(6) 내에 배치되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.8. A device according to claim 7, characterized in that the plane structure (8) is formed as a tube and is arranged in a second gas discharge chamber section (19) aligned with respect to a central tube base section (17) Wherein the gas discharge tube extends from the gas discharge side tube base into the gas discharge tube and the gas discharge tube is disposed in the reactor hood covering the gas discharge side tube base. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가스 배출측 튜브 베이스(4)는 가스 배출 챔버(7)의 벽을 형성하고, 적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는 상기 튜브 베이스(4)에 고정되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.9. A device according to any one of the preceding claims, wherein the gas discharge side tube base (4) forms a wall of the gas discharge chamber (7) and at least one flow guide device (8) 4). ≪ / RTI > 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응기 후드(6)는 상기 가스 배출측 튜브 베이스(4)를 커버하고, 상기 가스 배출측 챔버(7)의 벽을 형성하고, 상기 적어도 하나의 유동 안내 장치(8)는 상기 반응기 후드(6)에 고정되는 것을 특징으로 하는 튜브 번들 반응기.9. The apparatus according to any one of the preceding claims, wherein the reactor hood (6) covers the gas discharge side tube base (4) and forms a wall of the gas discharge side chamber (7) Wherein one flow guiding device (8) is fixed to the reactor hood (6). (메트)아크롤레인의 제조 및 (메트)아크릴산의 제조를 위한 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 튜브 번들 반응기의 용도.  Use of a tube bundle reactor according to any one of claims 1 to 10 for the preparation of (meth) acrolein and the production of (meth) acrylic acid.
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