KR20140063213A - Substrate aligning apparatus - Google Patents

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KR20140063213A
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김성주
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Abstract

A substrate aligning apparatus comprises a support shaft fixed to a frame; first and second rollers facing each other, installed on the support shaft to relatively move in opposite directions by coming in contact with a substrate; and an elasticity maintaining part installed on the support shaft to elastically move at least one among the first and second rollers.

Description

기판 정렬 장치{SUBSTRATE ALIGNING APPARATUS}[0001] SUBSTRATE ALIGNING APPARATUS [0002]

본 발명은 기판 정렬 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 기판 위치의 비틀림을 정렬시키는 기판 정렬 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate alignment apparatus. More particularly, the present invention relates to a substrate alignment apparatus for aligning twist of a substrate position.

기판 처리 장치는 유리 기판과 같은 기판을 처리하여 평판 디스플레이를 제조할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판 처리 장치는 상기 기판을 처리하기 위한 공정 챔버를 포함할 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 장치는 상기 공정 챔버 내에는 상기 기판을 이송시키기 위한 기판 이송 장치 및 상기 기판 상에 처리액을 분사하기 위한 처리액 분사 장치가 구비될 수 있다.The substrate processing apparatus can process a substrate such as a glass substrate to produce a flat panel display. For example, the substrate processing apparatus may include a processing chamber for processing the substrate. In addition, the substrate processing apparatus may include a substrate transfer device for transferring the substrate, and a processing liquid injection device for injecting the processing liquid onto the substrate.

디스플레이 장치의 제조 공정 시 상기 기판 이송 장치는 상기 기판을 각 공정 챔버로 이송시킬 수 있다. 이 때, 상기 기판 이송 시 진동이나 오작동에 의해 기판의 위치가 비틀리는 경우가 발생할 수 있다. 기판 정렬 장치는 상기 기판의 이송 과정 중에, 특히 각 공정으로의 진입 전에 기판의 정렬 작업을 수행할 수 있다. 그러나, 이러한 기판의 정렬 동작 중에 과도하게 비틀어진 기판과 접촉하여 정위치로 정렬시킬 때 상기 기판과 접촉하는 원통형 정렬 부재에 의해 과부하가 발생하여 기판이 파손되는 문제점이 있다.In the manufacturing process of the display device, the substrate transfer device can transfer the substrate to each process chamber. At this time, the position of the substrate may be twisted due to vibration or malfunction when the substrate is transported. The substrate alignment apparatus can perform the alignment operation of the substrate during the transfer of the substrate, particularly before entering each process. However, there is a problem in that when the substrate is brought into contact with the excessively twisted substrate and aligned in the correct position during the alignment operation of the substrate, the substrate is damaged by overloading due to the cylindrical alignment member contacting the substrate.

본 발명의 일 목적은 기판의 정렬 동작 시 기판의 파손을 방지할 수 있는 기판 정렬 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a substrate alignment apparatus capable of preventing breakage of a substrate during alignment operation of the substrate.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제들이 전술한 과제들에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the problems to be solved by the present invention are not limited by the above-mentioned problems, but may be variously expanded without departing from the spirit and scope of the present invention.

상술한 본 발명의 일 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치는 프레임에 고정되는 지지 샤프트, 상기 지지 샤프트에 서로 마주보도록 설치되며 기판과 접촉하여 서로 반대방향으로 상대 이동하는 제1 및 제2 롤러들, 및 상기 지지 샤프트에 설치되며 상기 제1 및 제2 롤러들 중 적어도 하나를 탄성적으로 이동시키는 탄성 유지부를 포함한다.In order to accomplish one aspect of the present invention, a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments of the present invention includes a support shaft fixed to a frame, a support shaft provided to face the support shaft, First and second rollers moving relative to each other, and an elastic holding part installed on the support shaft and elastically moving at least one of the first and second rollers.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 탄성 유지부는 상기 지지 샤프트에 설치되며 상기 제1 및 제2 롤러들 중 적어도 하나를 지지하는 스프링을 포함할 수 있다.In exemplary embodiments, the resilient holding portion may include a spring mounted on the support shaft and supporting at least one of the first and second rollers.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 롤러는 상기 지지 샤프트에 고정되고, 상기 제2 롤러는 상기 스프링에 의해 상기 지지 샤프트에 지지될 수 있다.In exemplary embodiments, the first roller may be fixed to the support shaft, and the second roller may be supported on the support shaft by the spring.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 상기 스프링에 의해 상기 지지 샤프트에 각각 지지될 수 있다.In exemplary embodiments, the first and second rollers may be respectively supported on the support shaft by the spring.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 상기 기판의 모서리를 수용하기 위한 테이퍼진 측면들을 각각 구비할 수 있다. 상기 제1 및 제2 롤러들은 원뿔대 형상을 가질 수 있다.In exemplary embodiments, the first and second rollers may each have tapered sides for receiving an edge of the substrate. The first and second rollers may have a truncated cone shape.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 상기 지지 샤프트에 회전 가능하도록 설치될 수 있다.In exemplary embodiments, the first and second rollers may be rotatably mounted to the support shaft.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 플라스틱 물질을 포함할 수 있다.In exemplary embodiments, the first and second rollers may comprise a plastic material.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 프레임은 일방향으로 돌출 형성되며 상기 지지 샤프트를 고정하기 위한 적어도 하나의 지지암을 포함할 수 있다.In exemplary embodiments, the frame may protrude in one direction and include at least one support arm for securing the support shaft.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판 정렬 장치는 상기 프레임을 이동시키기 위한 구동부를 더 포함할 수 있다.In exemplary embodiments, the substrate alignment apparatus may further include a driving unit for moving the frame.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 지지 샤프트는 상기 기판에 대하여 수직하게 이동될 수 있다.In exemplary embodiments, the support shaft may be moved perpendicular to the substrate.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치에 있어서, 기판의 모서리와 접촉하여 상기 기판을 정렬시키기 위한 상부 롤러 및 하부 롤러는 상기 기판과의 접촉에 의해 서로반대방향으로 탄성 유지부에 의해 탄성적으로 이동할 수 있다.In the substrate aligning apparatus according to the exemplary embodiments of the present invention, the upper roller and the lower roller for aligning the substrate in contact with the edge of the substrate are held in contact with the substrate by elastic holding members It can move elastically.

따라서, 스프링과 같은 탄성 부재를 갖는 탄성 유지부는 기판(S)에 의한 부하를 분산 및 흡수하므로, 상대적으로 기판(S)에 가해지는 부하를 감소시켜 기판(S)의 파손을 방지할 수 있다. 이로 인해, 기판(S)의 파손으로 인한 부유 파티클 등을 감소시켜 수율을 향상시킬 수 있다.Accordingly, since the elastic holding portion having the elastic member such as the spring disperses and absorbs the load caused by the substrate S, it is possible to reduce the load applied to the substrate S relatively to prevent the substrate S from being damaged. Therefore, it is possible to reduce the floating particles due to the breakage of the substrate S and improve the yield.

다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and may be variously expanded without departing from the spirit and scope of the present invention.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치가 사용되는 상태를 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 기판 정렬 장치를 나타내는 단면도이다.
도3a 및 도 3b는 도 2의 기판 정렬 장치의 동작을 나타내는 단면도들이다.
도 4는 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치를 나타내는 단면도이다.
도 5는 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치를 나타내는 단면도이다.1 is a plan view showing a state in which a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments is used.
2 is a cross-sectional view showing the substrate alignment apparatus of FIG.
3A and 3B are sectional views showing the operation of the substrate alignment apparatus of FIG.
4 is a cross-sectional view illustrating a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments.
5 is a cross-sectional view illustrating a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments.

본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니된다. For the embodiments of the invention disclosed herein, specific structural and functional descriptions are set forth for the purpose of describing an embodiment of the invention only, and it is to be understood that the embodiments of the invention may be practiced in various forms, The present invention should not be construed as limited to the embodiments described in Figs.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러가지 형태를 가질수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든변경, 균등물 내지대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기구성요소들은 상기 용어들에 의해한정되어서는 안 된다. 상기용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성요소도 제 1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms may be used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

어떤 구성요소가 다른구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도마찬가지로 해석되어야 한다. It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "between" or "neighboring to" and "directly adjacent to" should be interpreted as well.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는"가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가가능성을 미리 배제하지 않는것으로 이해되어야 한다. The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprise", "having", and the like are intended to specify the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof, , Steps, operations, components, parts, or combinations thereof, as a matter of principle.

다르게 정의되지 않는한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be construed as meaning consistent with meaning in the context of the relevant art and are not to be construed as ideal or overly formal in meaning unless expressly defined in the present application .

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하고 동일한 구성요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals are used for the same constituent elements in the drawings and redundant explanations for the same constituent elements are omitted.

도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치가 사용되는 상태를 나타내는 평면도이다. 도 2는 도 1의 기판 정렬 장치를 나타내는 단면도이다. 도 3a 및 도 3b는 도 2의 기판 정렬 장치의 동작을 나타내는 단면도들이다.1 is a plan view showing a state in which a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments is used. 2 is a cross-sectional view showing the substrate alignment apparatus of FIG. 3A and 3B are sectional views showing the operation of the substrate alignment apparatus of FIG.

도 1 내지 도 3b를 참조하면, 기판 정렬 장치(100)는 프레임(110)에 고정되는 지지 샤프트(120), 지지 샤프트(130)에 서로 마주보도록 설치되는 제1 및 제2 롤러들(132a, 132b), 및 제1 및 제2 롤러들(132a, 132b) 중 적어도 어느 하나를 탄성적으로 이동시키는 탄성 유지부를 포함할 수 있다.1 to 3B, the substrate aligning apparatus 100 includes a support shaft 120 fixed to a frame 110, first and second rollers 132a and 132b installed to face each other on a support shaft 130, 132b, and an elastic holding portion for elastically moving at least one of the first and second rollers 132a, 132b.

예시적인 실시예들에 있어서, 표시 패널과 같은 기판(S)이 이송 과정 중에 기판(S)의 위치가 정위치(P)를 벗어난 경우, 기판 정렬 장치들(100)은 기판(S)의 각 측면에 배치되어 기판(S)을 정위치(P)로 정렬하는 역할을 수행할 수 있다.In the exemplary embodiments, when the substrate S such as a display panel is moved out of position P during the transfer process, the substrate aligning apparatus 100 moves the substrate S And can align the substrate S to the predetermined position P.

예를 들면, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(S)의 각 측면에 배치되는 기판 정렬 장치들(100)은 전진 이동하면서 기판(S)과 접촉하여 정위치(P)로정렬시킬 수 있다. 이와 같은 정렬 과정은 이에 제한되지 않으며, 기판 정렬 장치들(100)의 개수와 정렬 순서 등은 기판(S)의 해당 공정들에 따라 결정될 수 있다.For example, as shown in FIG. 1, the substrate alignment devices 100 disposed on each side of the substrate S may be moved in contact with the substrate S and aligned in the correct position P . The number of the substrate aligning devices 100 and the order of alignment may be determined according to corresponding processes of the substrate S. For example,

도 2에 도시된 바와 같이, 기판 정렬 장치(100)는 몸체를 이루며 한 쌍의 롤러들(130a, 130b)을 갖는 프레임(110)을 구동시키기 위한 구동부(200)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 구동부(200)는 모터(M)에 의해 구동되며 프레임(110)을 가이드(210)를 따라 수평 이동시킬 수 있다.As shown in FIG. 2, the substrate aligning apparatus 100 may include a driving unit 200 for driving a frame 110 having a pair of rollers 130a and 130b as a body. Specifically, the driving unit 200 may be driven by the motor M to horizontally move the frame 110 along the guide 210.

프레임(110)은 지지 샤프트(120)를 고정하기 위한 적어도 하나의 지지암을 포함할 수 있다. 에를 들면, 프레임(110)은 프레임(110)으로부터 돌출 형성된 제1 지지암(112) 및 제2 지지암(114)을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 지지암들(112, 114)은 프레임(110)으로부터 수평 방향으로 연장할 수 있다.The frame 110 may include at least one support arm for securing the support shaft 120. For example, the frame 110 may include a first support arm 112 and a second support arm 114 protruding from the frame 110. The first and second support arms 112 and 114 may extend in the horizontal direction from the frame 110.

지지 샤프트(120)의 양단부는 제1 및 제2 지지암들(112, 114)에 각각 고정될 수 있다. 지지 샤프트(120)는 제1 및 제2 지지암들(112, 114) 사이에 수직 방향으로 연장할 수 있다.Both ends of the support shaft 120 can be fixed to the first and second support arms 112 and 114, respectively. The support shaft 120 may extend vertically between the first and second support arms 112, 114.

제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)은 지지 샤프트(120)에 서로 마주보도록 설치될 수 있다. 예를 들면, 제1 롤러(130a)는 상대적으로 상부에 위치하는 상부 롤러이고, 제2 롤러(130b)는 상대적으로 하부에 위치하는 하부 롤러일 수 있다.The first and second rollers 130a and 130b may be installed on the support shaft 120 so as to face each other. For example, the first roller 130a may be a top roller positioned at a relatively upper position, and the second roller 130b may be a bottom roller located at a relatively lower position.

제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)은 기판(S)을 정렬하기 위하여 기판(S)과 접촉하여 지지 샤프트(120)를 따라 서로 반대방향으로 상대 이동할 수 있다. 상기 탄성 유지부는 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b) 중 적어도 하나를 탄성적으로 이동시킬 수 있다.The first and second rollers 130a and 130b may be moved relative to each other in the opposite directions along the support shaft 120 in contact with the substrate S to align the substrate S. [ The elastic retaining portion may elastically move at least one of the first and second rollers 130a and 130b.

구체적으로, 제1 롤러(130a)는 지지 샤프트(120)를 따라 이동가능하고, 제2 롤러(130b)는 지지 샤프트(120)에 고정될 수 있다. 상기 탄성 유지부는 제1 롤러(130a)를 지지하도록 지지 샤프트(120)에 설치되는 스프링(140)을 포함할 수 있다.Specifically, the first roller 130a can be moved along the support shaft 120, and the second roller 130b can be fixed to the support shaft 120. [ The elastic retaining portion may include a spring 140 installed on the support shaft 120 to support the first roller 130a.

예를 들면, 제1 롤러(130a)는 스프링(140)에 의해 지지 샤프트(120)에 지지될 수 있다. 스프링(140)은 제1 고정 부재(122)에 의해 지지 샤프트(120)에 결합될 수 있다. 제2 롤러(130b)는 제2 고정 부재(124)에 의해 지지 샤프트(120)에 고정 결합될 수 있다.For example, the first roller 130a may be supported on the support shaft 120 by a spring 140. [ The spring 140 may be coupled to the support shaft 120 by a first securing member 122. And the second roller 130b can be fixedly coupled to the support shaft 120 by the second fixing member 124. [

제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)은 기판(S)의 모서리를 수용하기 위한 테이퍼진 측면들(132a, 132b)을 각각 구비할 수 있다. 따라서, 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)이 기판(S)과 접촉할 때, 기판(S)의 모서리는 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)의 테이퍼진 측면들(132a, 132b) 사이로 수용될 수 있다. 이 때, 제1 롤러(130a)는 지지 샤프트(120)를 따라 위로 탄성적으로 이동함으로써, 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)은 지지 샤프트(120)를 따라 서로 반대방향으로 상대 이동할 수 있다.The first and second rollers 130a and 130b may each have tapered sides 132a and 132b for receiving the edge of the substrate S. [ When the first and second rollers 130a and 130b are in contact with the substrate S, the edge of the substrate S is tapered to the tapered side surfaces 132a of the first and second rollers 130a and 130b , 132b. At this time, the first roller 130a is elastically moved upward along the support shaft 120 so that the first and second rollers 130a and 130b move relative to each other along the support shaft 120 .

제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)은 원뿔대 형상을 가질 수 있다. 또한, 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)은 지지 샤프트(120)에 회전 가능하도록 설치될 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 및 제2 롤러들은 PEEK(PolyEther Ether Ketone)와 같은 플라스틱 물질을 포함할 수 있따.The first and second rollers 130a and 130b may have a frustum shape. In addition, the first and second rollers 130a and 130b may be rotatably installed on the support shaft 120. For example, the first and second rollers may comprise a plastic material such as PEEK (Polyether Ether Ketone).

도3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 기판 정렬 장치(100)는 한 쌍의 롤러들(130a, 130b)을 기판(S)의 모서리와 직접 접촉하여 밀어주는 방식으로 기판 정렬 작업을 수행할 수 있다. 구체적으로, 프레임(110)은 기판(S)을 향하여 수평 방향으로 이동할 수 있고, 지지 샤프트(120)는 기판(S)에 대하여 수직하게 이동될 수 있다.As shown in FIGS. 3A and 3B, the substrate aligning apparatus 100 can perform a substrate aligning operation in such a manner that a pair of rollers 130a and 130b are directly brought into contact with the edge of the substrate S have. Specifically, the frame 110 can move in a horizontal direction toward the substrate S, and the support shaft 120 can move in a direction perpendicular to the substrate S.

구동부(200)에 의해 프레임(110)이 기판(S)을 향하여 이동하고 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)이 기판(S)과 접촉할 때, 기판(S)의 모서리는 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)의 테이퍼진 측면들(132a, 132b) 사이로 들어갈 수 있다. 기판(S)이 테이퍼진 측면들(132a, 132b) 사이로 이동하면, 제1 롤러(130a)는 기판(S)에 의한 부하로 인해 지지 샤프트(120)를 따라 이동하되, 스프링(140)에 의해 탄성적으로 이동할 수 있다.When the frame 110 is moved toward the substrate S by the driving unit 200 and the first and second rollers 130a and 130b contact the substrate S, And the tapered side surfaces 132a, 132b of the second rollers 130a, 130b. When the substrate S moves between the tapered sides 132a and 132b the first roller 130a moves along the support shaft 120 due to the load by the substrate S, It can move elastically.

따라서, 스프링(140)을 갖는 탄성 유지부는 기판(S)에 의한 부하를 분산 및 흡수하므로, 상대적으로 기판(S)에 가해지는 부하를 감소시켜 기판(S)의 파손을 방지할 수 있다. 이로 인해, 기판(S)의 파손으로 인한 부유 파티클 등을 감소시켜 수율을 향상시킬 수 있다.Therefore, since the elastic holding portion having the spring 140 disperses and absorbs the load caused by the substrate S, it is possible to reduce the load applied to the substrate S relatively to prevent the substrate S from being damaged. Therefore, it is possible to reduce the floating particles due to the breakage of the substrate S and improve the yield.

도 4는 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치를 나타내는 단면도이다. 상기 기판 정렬 장치는 탄성 유지부의 위치를 제외하고는 도 2를 참조로 설명한 기판 정렬 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성요소들에 대해서는 동일한 참조부호들로나타내고, 또한 동일한 구성요소들에 대한 반복 설명은 생략한다.4 is a cross-sectional view illustrating a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments. The substrate alignment apparatus is substantially the same as or similar to the substrate alignment apparatus described with reference to Fig. 2, except for the position of the elastic holding section. Accordingly, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and repetitive description of the same constituent elements is omitted.

도 4를 참조하면, 제1 롤러(130a)는 지지 샤프트(120)에 고정될 수 있고, 제2 롤러(130b)는 지지 샤프트(120)를 따라 이동가능할 수 있다. 탄성 유지부는 제2 롤러(130b)를 지지하도록 지지 샤프트(120)에 설치되는 스프링(140)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the first roller 130a may be fixed to the support shaft 120, and the second roller 130b may be movable along the support shaft 120. Referring to FIG. The elastic retaining portion may include a spring 140 installed on the support shaft 120 to support the second roller 130b.

제1 롤러(130a)는 제1 고정 부재(122)에 의해 지지 샤프트(120)에 고정 결합될 수 있다. 제2 롤러(130b)는 스프링(140)에 의해 지지 샤프트(120)에 지지될 수 있다. 스프링(140)은 제2 고정 부재(124)에 의해 지지 샤프트(120)에 결합될 수 있다.The first roller 130a may be fixedly coupled to the support shaft 120 by a first fixing member 122. [ The second roller 130b can be supported on the support shaft 120 by a spring 140. [ The spring 140 may be coupled to the support shaft 120 by a second securing member 124.

제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)이 기판(S)과 접촉하면, 제2 롤러(130b)는 기판(S)에 의한 부하로 인해 지지 샤프트(120)를 따라 아래로 이동하되, 스프링(140)에 의해 탄성적으로 이동할 수 있다.When the first and second rollers 130a and 130b contact the substrate S, the second roller 130b moves downward along the support shaft 120 due to the load by the substrate S, (140). ≪ / RTI >

도 5는 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치를 나타내는 단면도이다. 상기 기판 정렬 장치는 탄성 유지부의 위치를 제외하고는 도 2를 참조로 설명한 기판 정렬 장치와 실질적으로 동일하거나 유사하다. 이에 따라, 동일한 구성요소들에 대해서는 동일한 참조부호들로나타내고, 또한 동일한 구성요소들에 대한 반복 설명은 생략한다.5 is a cross-sectional view illustrating a substrate alignment apparatus according to exemplary embodiments. The substrate alignment apparatus is substantially the same as or similar to the substrate alignment apparatus described with reference to Fig. 2, except for the position of the elastic holding section. Accordingly, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and repetitive description of the same constituent elements is omitted.

도 5를 참조하면, 제1 롤러(130a)는 지지 샤프트(120)를 따라 이동가능하고, 제2 롤러(130b)는 지지 샤프트(120)를 따라 이동가능할 수 있다. 탄성 유지부는 제1 롤러(130a)를 지지하도록 지지 샤프트(120)에 설치되는 제1 스프링(140a) 및 제2 롤러(130b)를 지지하도록 지지 샤프트(120)에 설치되는 제2 스프링(140b)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5, the first roller 130a may be movable along the support shaft 120, and the second roller 130b may be movable along the support shaft 120. Referring to FIG. The elastic retaining portion includes a first spring 140a provided on the support shaft 120 to support the first roller 130a and a second spring 140b provided on the support shaft 120 to support the second roller 130b. . ≪ / RTI >

제1 롤러(130a)는 제1 스프링(140a)에 의해 지지 샤프트(120)에 지지될 수 있다. 제1 스프링(140a)은 제1 고정 부재(122)에 의해 지지 샤프트(120)에 결합될 수 있다. 제2 롤러(130b)는 제2 스프링(140b)에 의해 지지 샤프트(120)에 지지될 수 있다. 제2 스프링(140b)은 제2 고정 부재(124)에 의해 지지 샤프트(120)에 결합될 수 있다.The first roller 130a can be supported on the support shaft 120 by the first spring 140a. The first spring 140a may be coupled to the support shaft 120 by a first fixing member 122. [ And the second roller 130b can be supported on the support shaft 120 by the second spring 140b. The second spring 140b may be coupled to the support shaft 120 by a second securing member 124.

제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)이 기판(S)과 접촉하면, 제1 및 제2 롤러들(130a, 130b)는 기판(S)에 의한 부하로 인해 지지 샤프트(120)를 따라 서로 반대방향으로이동하되, 제1 및 제2 스프링들(140a, 140b)에 의해 탄성적으로 이동할 수 있다.When the first and second rollers 130a and 130b contact the substrate S, the first and second rollers 130a and 130b are moved along the support shaft 120 due to the load by the substrate S. And are elastically moved by the first and second springs 140a and 140b.

상술한 바와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 기판 정렬 장치는 기판의 모서리와 접촉하여 서로 반대방향으로 탄성 유지부에 의해 탄성적으로 이동하는 상부 롤러 및 하부롤러를 포함할 수 있다.As described above, the substrate aligning apparatus according to the exemplary embodiments may include an upper roller and a lower roller that are elastically moved by the elastic holding portion in contact with the corners of the substrate and opposite to each other.

따라서, 스프링과 같은 탄성 부재를 갖는 탄성 유지부는 기판(S)에 의한 부하를 분산 및 흡수하므로, 상대적으로 기판(S)에 가해지는 부하를 감소시켜 기판(S)의 파손을 방지할 수 있다. 이로 인해, 기판(S)의 파손으로 인한 부유 파티클 등을 감소시켜 수율을 향상시킬 수 있다.Accordingly, since the elastic holding portion having the elastic member such as the spring disperses and absorbs the load caused by the substrate S, it is possible to reduce the load applied to the substrate S relatively to prevent the substrate S from being damaged. Therefore, it is possible to reduce the floating particles due to the breakage of the substrate S and improve the yield.

이상에서는 본 발명의 예시적인 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It will be understood that the invention may be modified and varied without departing from the scope of the invention.

100: 기판 정렬 장치 110: 프레임
112: 제1 지지암 114: 제2 지지암
120: 지지 샤프트 122, 124: 고정 부재
130a: 제1 롤러 130b: 제2 롤러
140, 140a, 140b: 스프링100: substrate alignment device 110: frame
112: first support arm 114: second support arm
120: support shaft 122, 124: fixing member
130a: first roller 130b: second roller
140, 140a, 140b: spring

Claims (11)

프레임에 고정되는 지지 샤프트;
상기 지지 샤프트에 서로 마주보도록 설치되며, 기판과 접촉하여 서로 반대방향으로상대 이동하는 제1 및 제2 롤러들; 및
상기 지지 샤프트에 설치되며, 상기 제1 및 제2 롤러들 중 적어도 하나를 탄성적으로 이동시키는 탄성 유지부를 포함하는 기판 정렬 장치.A support shaft fixed to the frame;
First and second rollers installed to face each other on the support shaft, the first and second rollers being in contact with the substrate and moving in opposite directions to each other; And
And an elastic holding portion that is provided on the support shaft and elastically moves at least one of the first and second rollers. 제 1 항에 있어서, 상기 탄성 유지부는 상기 지지 샤프트에 설치되며 상기 제1 및 제2 롤러들 중 적어도 하나를 지지하는 스프링을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.The apparatus of claim 1, wherein the resilient holder comprises a spring mounted on the support shaft and supporting at least one of the first and second rollers. 제 2 항에 있어서, 상기 제1 롤러는 상기 지지 샤프트에 고정되고, 상기 제2 롤러는 상기 스프링에 의해 상기 지지 샤프트에 지지되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.3. The apparatus of claim 2, wherein the first roller is fixed to the support shaft, and the second roller is supported on the support shaft by the spring. 제 2 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 상기 스프링에 의해 상기 지지 샤프트에 각각 지지되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.3. The substrate alignment apparatus according to claim 2, wherein the first and second rollers are respectively supported on the support shaft by the spring. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 상기 기판의 모서리를 수용하기 위한 테이퍼진 측면들을 각각 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.2. The apparatus of claim 1, wherein the first and second rollers each have tapered sides for receiving an edge of the substrate. 제 5 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 원뿔대 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.6. The apparatus of claim 5, wherein the first and second rollers have a truncated conical shape. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 상기 지지 샤프트에 회전 가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.The apparatus of claim 1, wherein the first and second rollers are rotatably mounted on the support shaft. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 롤러들은 플라스틱 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.The apparatus of claim 1, wherein the first and second rollers comprise a plastic material. 제 1 항에 있어서, 상기 프레임은 일방향으로 돌출 형성되며 상기 지지 샤프트를 고정하기 위한 적어도 하나의 지지암을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.The apparatus of claim 1, wherein the frame is protruded in one direction and includes at least one support arm for fixing the support shaft. 제 1 항에 있어서, 상기 프레임을 이동시키기 위한 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.The apparatus according to claim 1, further comprising a driving unit for moving the frame. 제 10 항에 있어서, 상기 지지 샤프트는 상기 기판에 대하여 수직하게 이동되는 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치.11. The substrate alignment apparatus of claim 10, wherein the support shaft is moved perpendicular to the substrate.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20210107292A (en) * 2020-02-24 2021-09-01 피에스케이홀딩스 (주) Alignment apparatus, and substrate processing apparatus comprising the same
KR20210149303A (en) * 2020-06-02 2021-12-09 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) Scribe device with vertical lifting weight
KR20220002936U (en) * 2021-06-07 2022-12-14 주식회사 오엔 Apparatus for grip roller and vacuum stage assembly including the same
KR20230050009A (en) * 2021-10-07 2023-04-14 엘아이지넥스원 주식회사 Device for mounting and demounting board

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