KR20140018090A - A method for preparing hexaza[3.3.3]propellane compounds as key intermediates for new molecular explosives - Google Patents

A method for preparing hexaza[3.3.3]propellane compounds as key intermediates for new molecular explosives Download PDF

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Abstract

The present invention relates to a hexaza[3.3.3]propellane compound denoted by chemical formula I capable of being used as a major skeleton structure of a new molecular explosive, and a method for preparing the same. In the chemical formula I: R is a foreign atom selected from H, oxygen, nitrogen, sulfur, or halogen, or C-20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl, or aryl capable of including an unsaturated group; and X is H2, O, or S.

Description

신규 분자화약 중간체로 사용가능한 헥사아자〔3.3.3〕프로펠레인 화합물의 제조방법{A METHOD FOR PREPARING HEXAZA[3.3.3]PROPELLANE COMPOUNDS AS KEY INTERMEDIATES FOR NEW MOLECULAR EXPLOSIVES}Method for preparing hexaaza propane compound that can be used as a new molecular chemical intermediate {3.3.3] PROPELLANE COMPOUNDS AS KEY INTERMEDIATES FOR NEW MOLECULAR EXPLOSIVES

본 발명은 신규의 분자화약으로 사용 가능한 화합물인 헥사니트로헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 주요 골격구조인, 구체적으로 신규의 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing a novel hexaaza [3.3.3] propane compound, which is a main skeleton of the hexanitrohexaaza [3.3.3] propane compound, which is a compound that can be used as a novel molecular chemical. It is about.

현재까지 미국 등 선진 각국에서 개발되어 온 고밀도, 다중고리 둔감성 분자화약물질들 중 가장 뛰어난 폭발특성을 나타낸다고 알려진 화합물은 isowurtzitane구조의 HNIW 화합물과 cubane구조의 옥타니트로큐반(ONC)으로, 그 폭발특성은 현재 상용되는 HMX, RDX에 비해 월등히 뛰어남이 알려져 있다. 이 화합물들의 다양한 기존 연구를 통해 고리구조의 원자밀도가 높은 화합물이 폭발특성에 유리한 구조임을 알 수 있으나, HNIW나 ONC화합물의 기존 합성법들이 여러 단계의 복잡한 과정을 거치거나 수율이 낮은 단점이 있다. 따라서 HNIW나 ONC와 같은 고리긴장이 크고 원자밀도가 높은 화합물을 개발하고자 삼중고리 화합물인 프로펠레인 구조를 구상하였으며, 특히 [3.3.3]프로펠레인은 분자의 고리긴장 에너지가 28kcal/mol로 잠재에너지도 비교적 높지만 생성에너지(ΔHf(kcal/mol))가 -30Kcal/mol로 안정하여 합성이 가능할 것으로 예상하였고, 이에 질소원자를 다수 치환한 아자프로펠레인 화합물을 구상하였다. 아자프로펠레인 구조의 화합물은 합성 및 고에너지 물질로 적용된 예가 적으며, 그 중 헥사아자[3.3.3]프로펠레인은 아직 합성되거나 사용된 예가 없다. Among the high-density, multicyclic, insensitive molecular chemicals that have been developed in advanced countries such as the United States, the most explosive properties are the isowurtzitane-structured HNIW compound and the cubane-octane trocuban (ONC). It is known to be superior to HMX and RDX that are currently commercially available. Various researches on these compounds show that the compounds with high atomic density of the ring structure are advantageous for the explosive properties, but existing synthesis methods of HNIW or ONC compounds have a complicated process or a low yield. Therefore, in order to develop compounds with high ring tension and high atomic density, such as HNIW and ONC, the tricyclic compound propane structure was designed. Especially, [3.3.3] propane has a ring tension energy of 28 kcal / mol. The potential energy was also relatively high, but the production energy (ΔH f (kcal / mol)) was -30 Kcal / mol, which was expected to be possible to synthesize. Therefore, azapropane compound substituted with many nitrogen atoms was designed. Compounds with azapropane structure are rarely applied as synthetic and high energy materials, and hexaaza [3.3.3] propane has not been synthesized or used yet.

본 발명의 목적은 분자화약으로 적용 시 에너지성이 높은 신규의 고밀도 다중고리 둔감성 분자화약 물질인, 헥사니트로헥사아자[3.3.3]프로펠레인 구조의 주요 골격인 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물로 프로펠레인 골격구조에 질소 6개가 치환된 화합물 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is hexaaza [3.3.3] pro, which is the main skeleton of hexanitrohexaaza [3.3.3] propane structure, which is a novel high-density, multicyclic, insensitive molecular chemical substance having high energy when applied as a molecular chemical. It is to provide a compound in which 6 nitrogen is substituted in the propane skeleton as a pellane compound and a method for producing the same.

본 발명은 분자화약으로 사용될 수 있는 신규의 고에너지물질의 핵심 구조인 하기 화학식 (I)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물을 제공한다.The present invention provides a hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following general formula (I), which is a core structure of a novel high energy material that can be used as a molecular powder.

[화학식 I](I)

Figure pat00001
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상기 식 중, R은 H, C1~C20 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬, 또는 아릴이고, 상기 알킬 또는 아릴은 산소, 질소, 황 등의 이종원자, 또는 불포화기를 그 안에 포함할 수 있으며; X는 H2, O 또는 S이다.Wherein R is H, C 1 -C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl, or aryl, and the alkyl or aryl may include heteroatoms such as oxygen, nitrogen, sulfur, or an unsaturated group therein; X is H 2 , O or S.

또한, 본 발명은 상기 화학식 (I)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법을 제공하며, 특히, 하기 반응식 1에 나타낸 화합물 (3), (4), (5), (6) 및 (7)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 구조의 화합물의 제조방법을 제공한다.The present invention also provides a method for preparing a hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the above formula (I), and in particular, the compounds (3), (4) and (5) shown in Scheme 1 below. It provides a method for producing a compound of hexaaza [3.3.3] propane structure represented by (6) and (7).

[반응식 1][Reaction Scheme 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 반응식 1 중, Y는 O 또는 S이며; R1 및 R2는, 일반적으로 아민의 보호기로 적용될 수 있는 유기 작용기이면 특별히 제한되지는 않지만, 예로서 각각 산소, 질소, 황, 할로겐 등의 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴을 나타낸다.In Scheme 1, Y is O or S; R 1 and R 2 are generally not particularly limited as long as they are organic functional groups that can be applied as protecting groups of amines. For example, C 1 to C may include heteroatoms such as oxygen, nitrogen, sulfur, halogen, or unsaturated groups. 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl.

상기 반응식 1에 나타낸 것과 같은, 본 발명에 따른 상기 화학식 (I)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법에 있어서, 특히 화학식 (I)의 화합물들 중 X가 O 또는 S인 경우를 포함하는, 상기 반응식 1에 나타낸 화합물 (3)으로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 구조의 화합물의 제조방법이 제공된다.In the method for preparing the hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the formula (I) according to the present invention, as shown in Scheme 1, in particular, X among the compounds of formula (I) is O or Provided is a method for preparing a compound having a hexaaza [3.3.3] propane structure represented by Compound (3) shown in Scheme 1, including the case of S.

상기 반응식 1에서, 상기 화합물 (2)로는, 예로서, 요산(uric acid)으로부터 포타슘 시안화철(K3Fe(CN)6), 수산화암모늄을 반응시켜 제조되는 글리콜유릴 디아민(Y가 O인 경우)이 사용될 수 있다.In Scheme 1, as the compound (2), for example, glycoluril diamine (Y is O prepared by reacting potassium iron cyanide (K 3 Fe (CN) 6 ) and ammonium hydroxide from uric acid) ) Can be used.

상기 화합물 (2)에 R-CO-X 시약을 이용하여 카르보닐기를 도입하여, 본 발명에 따른 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 구조의 화합물 중 하나인 화합물(3)을 제조할 수 있다. 상기 R-CO-X 시약 중, R은 H, 또는 산소, 질소, 황, 염소 등의 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 알콕시, 아릴알킬 또는 아릴을 나타내고, X는 Cl, Br, I, H, 또는 R과 같거나 같지 않은 산소, 질소, 황 등의 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 알콕시, 아릴알킬 또는 아릴을 나타낸다. 상기 정의에 해당하는 R-CO-X 시약의 구체적인 종류는 당업자에 의해 임의 선택되어 사용될 수 있는 것이나, 예로서 벤질클로로포르메이트 등의 포르메이트류; 디터셔리부틸 디카보네이트 등의 카보네이트류; 디이미다졸카보닐 등의 우레아류; 카바메이트류; 옥살릭클로라이드 등의 포스젠류; 포름알데하이드 등의 알데하이드류가 언급될 수 있다.Compound (3) which is one of the compounds of the hexaaza [3.3.3] propane structure according to the present invention can be prepared by introducing a carbonyl group into the compound (2) using an R-CO-X reagent. In the R-CO-X reagent, R is H, or C 1 ~ C 20 alkyl, cycloalkyl, alkoxy, arylalkyl or aryl which may include heteroatoms such as oxygen, nitrogen, sulfur, chlorine or unsaturated groups. X represents C 1 -C 20 alkyl, cycloalkyl, alkoxy, arylalkyl which may include heteroatoms or unsaturated groups such as oxygen, nitrogen, sulfur and the like, which are not equal to or equal to Cl, Br, I, H, or R Or aryl. Specific types of R-CO-X reagents corresponding to the above definitions may be arbitrarily selected and used by those skilled in the art. For example, formates such as benzyl chloroformate; Carbonates such as dietary butyl dicarbonate; Ureas such as diimidazole carbonyl; Carbamates; Phosgenes such as oxalic chloride; Aldehydes such as formaldehyde may be mentioned.

상기 카르보닐기의 도입반응은 당업계에 알려진 통상의 반응 조건에 의하여 수행될 수 있으나, 예로서 실온이나 환류조건의 온도에서 1시간 혹은 그 이상의 시간 조건에 의해 실시될 수 있고, 필요에 따라 통상적으로 사용되는 적당한 염기 또는 산 보조시약이 사용될 수 있다.The introduction of the carbonyl group may be carried out by conventional reaction conditions known in the art, but may be carried out by, for example, one hour or more at a temperature of room temperature or reflux condition, and is commonly used if necessary. Any suitable base or acid coagent may be used.

상기 반응식 1에 나타낸 것과 같은, 본 발명에 따른 상기 화학식 (I)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법에 있어서, 특히 화학식 (I)의 화합물들 중 X가 O, S 또는 H인 경우를 포함하는, 화합물 (4), (5), (6) 및 (7)으로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 구조의 화합물들의 제조방법이 제공된다.In the method for preparing the hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the formula (I) according to the present invention, as shown in Scheme 1, in particular, X among the compounds of formula (I) is O, A process for the preparation of hexaaza [3.3.3] propane structured compounds represented by compounds (4), (5), (6) and (7), including the case of S or H, is provided.

상기 반응식 1에서 합성된 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 구조의 화합물 (3)은, 필요에 따라 하기 설명되는 것과 같이 그 보호기를 비교적 자유롭게 전환시킬 수 있어, 이에 따라 화합물 (3)으로부터 상기 반응식 1에 나타낸 바와 같은 화합물 (4), (5), (6) 및 (7)로 표시되는 다양한 화합물들의 합성이 가능하며, 이는 하기에서 더욱 구체적으로 설명되는 바와 같다.Compound (3) having a hexaaza [3.3.3] propelane structure synthesized in Scheme 1 above can convert the protecting group relatively freely, as described below, according to the necessity. The synthesis of various compounds represented by compounds (4), (5), (6) and (7) as shown in Scheme 1 is possible, as described in more detail below.

상기 반응식 1에 나타낸 화합물들의 제조에 있어서, 화합물 (3)으로부터 화합물 (4), (5), (6) 및 (7)의 제조는 다음 단계들을 포함한다: 화합물 (3)으로부터 질소에 결합된 유기 작용기들(R1)을 제거, 즉 질소를 탈보호시키므로써 화합물 (4)를 제조하고; 제조된 화합물 (4)를 다시 다른 유기 화합물(R2-X)과 반응시켜 질소를 보호화시켜 화합물 (5)를 제조하고; 화합물 (5)의 Y(카르보닐기 또는 티오카르보닐기)를 [M]-Hn을 이용하여 환원시키므로써 화합물 (6)을 제조하고; 화합물 (6)으로부터 질소에 결합된 유기 작용기들(R2)을 제거, 즉 질소를 탈보호시키므로써 화합물 (7)을 제조한다.In preparing the compounds shown in Scheme 1, the preparation of compounds (4), (5), (6) and (7) from compound (3) comprises the following steps: bound to nitrogen from compound (3) Compound (4) is prepared by removing organic functional groups (R 1 ), ie deprotecting nitrogen; Reacting the compound (4) thus prepared with another organic compound (R 2 -X) to protect nitrogen to prepare compound (5); Compound (6) was prepared by reducing Y (carbonyl or thiocarbonyl) of Compound (5) with [M] -H n ; Compound (7) is prepared by removing organic functional groups (R 2 ) bound to nitrogen from compound (6), ie deprotecting nitrogen.

더욱 구체적으로, 상기 반응식 1에 나타낸 화합물들의 제조에 있어서, 화합물 (3)으로부터 화합물 (4)의 제조는 상기 화합물 (3)의 질소에 결합된 유기 작용기 R1들을 제거하는 질소의 탈보호화에 의해 수행된다. 상기 탈보호화는 상기 화합물 (3)에 존재하는 작용기(R1기)에 따라, 적당한 염산, 황산, 질산, 초산, 트리플루오로아세트산 등을 포함하는 유기산 또는 무기산의 조건 하에서, 또는 수산화나트륨 용액, 암모니아 용액, 하이드라이드, 삼차아민 등의 유기, 무기 염기의 조건 하에서, 또는 중성 조건 하에서, 구리, 세슘, 철, 할로알루미늄, 사마륨(samarium), 마그네슘, 이터븀, 티타늄, 주석 등의 금속 촉매 또는 비금속 촉매를 사용하여 실시될 수 있다. 상기 탈보호 조건 및 적당한 촉매는 특별히 제한되지 않으며, 제거하고자 하는 작용기에 따라 당업자에 의해 적절하게 선택되어 실시할 수 있다.More specifically, in the preparation of the compounds shown in Scheme 1, the preparation of compound (4) from compound (3) is carried out by deprotection of nitrogen to remove organic functional groups R 1 bonded to the nitrogen of compound (3). Is performed. The deprotection may be carried out under the conditions of an organic or inorganic acid containing a suitable hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, or the like, depending on the functional group (R 1 group) present in the compound (3), or sodium hydroxide solution, Metal catalysts such as copper, cesium, iron, haloaluminum, samarium, magnesium, ytterbium, titanium, tin, or the like under organic or inorganic base conditions such as ammonia solution, hydride, tertiary amine or neutral conditions, or It can be carried out using a nonmetallic catalyst. The deprotection conditions and suitable catalyst are not particularly limited and may be appropriately selected and implemented by those skilled in the art according to the functional group to be removed.

상기 반응식 1에 나타낸 화합물들의 제조에 있어서, 화합물 (4)로부터 화합물 (5)의 제조는, 보호기를 제공하는 R2-X 화합물을 상기 화합물 (4)와 반응시키므로써, 화합물 (4)의 아민기에 보호기를 도입하여 실시될 수 있다. 상기 R2-X에서, R2는 일반적인 아민 보호기인 한 특별히 제한되는 것은 아니지만, 산소, 질소, 황, 할로겐 등의 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴을 나타내고, X는 Cl, Br, I, H, 또는 R2와 같거나 같지않은, 산소, 질소, 황, 할로겐 등의 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 알콕시, 아릴알킬 또는 아릴을 나타낸다. 상기 보호기 도입 과정에서 사용되는 염기는 수소화나트륨, 수산화나트륨, 수산화리튬, 부틸리튬, 탄산칼륨, 탄산나트륨, 중탄산나트륨, 디알킬아민 리튬과 같은 유기 또는 무기의 염기가 사용될 수 있다. 상기 보호기 도입 조건 및 염기는 특별히 제한되지 않으며, 당업자에 의해 적절하게 선택되어 실시할 수 있다.In the preparation of the compounds represented by the above Scheme 1, the preparation of the compound (5) from the compound (4), by reacting the R 2 -X compound providing a protecting group with the compound (4), the amine of the compound (4) It can be carried out by introducing a protecting group to the group. In R 2 -X, R 2 is not particularly limited as long as it is a general amine protecting group, but C 1 -C 20 alkyl, cycloalkyl, which may include heteroatoms such as oxygen, nitrogen, sulfur, halogen, or unsaturated groups Arylalkyl or aryl, wherein X represents a C 1 to C 20 group which may include heteroatoms or unsaturated groups such as oxygen, nitrogen, sulfur, halogen, etc., which may or may not be equal to Cl, Br, I, H, or R 2 ; Alkyl, cycloalkyl, alkoxy, arylalkyl or aryl. As the base used in the introduction of the protecting group, an organic or inorganic base such as sodium hydride, sodium hydroxide, lithium hydroxide, butyllithium, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium bicarbonate and lithium dialkylamine may be used. The protecting group introduction conditions and the base are not particularly limited and may be appropriately selected and implemented by those skilled in the art.

한편, 상기 반응식 1에 나타낸 화합물 (5)에서, Y는 O 또는 S일 수 있으며, 하기 반응식 2에 나타낸 것과 같이, 화합물 (5)에서 Y가 O(카르보닐기)인 경우, 상기 Y는 Lawesson의 시약 등을 환류 조건에서 사용하면 S(티오카르보닐기)로 치환될 수 있다고 유사한 경우들이 잘 알려져 있다. R2는 상기 반응식 1에서 화합물 (5)의 제조와 관련하여 설명된 R2-X에서의 R2에 대한 정의와 동일하다. 이러한 치환단계는 특별히 제한되지는 않고, 통상의 치환방법이 사용될 수 있으며, 이러한 방법은 당업자에 의해 적절하게 실시될 수 있다. 예로써 Lawesson의 시약을 이용하여 벤젠 등의 적절한 용매에 환류조건으로 치환 시킬 수 있다.On the other hand, in compound (5) shown in Scheme 1, Y may be O or S, as shown in Scheme 2, when Y in compound (5) is O (carbonyl group), Y is Lawesson's reagent Similar cases are well known that, when used under reflux conditions, they can be substituted with S (thiocarbonyl group). R 2 is identical to the definition for R 2 in R 2 -X described in connection with the preparation of compound (5) in Scheme 1 above. This substitution step is not particularly limited, and conventional substitution methods may be used, and such methods may be appropriately performed by those skilled in the art. For example, Lawesson's reagent can be used to substitute reflux in a suitable solvent such as benzene.

[반응식 2][Reaction Scheme 2]

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상기 반응식 1에 나타낸 화합물들의 제조에 있어서, 화합물 (5)로부터 화합물 (6)의 제조는, 카르보닐기 또는 티오카르보닐기인 Y를 반응식 1에 나타낸 바와 같이 [M]-Hn을 이용하여 환원시키므로써 실시될 수 있으며, 상기 식 중 M은 알루미늄, 붕소 등의 금속으로 이루어지는 군으로 선택되고, n은 1~4의 정수이다. 상기 환원제인 [M]-Hn의 구체적인 예들은, 수소화 붕소, 수소화 붕소 리튬, 수소화 붕소 나트륨, 수소화 알루미늄, 수소화 알루미늄 나트륨, 수소화 알루미늄 리튬, 시안화 수소화 붕소 나트륨, 수소화 디알킬아민 붕소 나트륨, 수소화 디알킬알루미늄, 라니(Raney) 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나이다. 이는 단독으로 사용되어 상기 환원과정을 수행할 수 있거나, 또는 요오드, 황산, 염화 티타늄, 염화 알루미늄, 염화 주석, 아연, 트리에틸에테르 테트라플루오로 붕산염으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나를 같이 사용하여 상기 환원과정을 수행할 수 있다.In the preparation of the compounds shown in Scheme 1, the preparation of the compound (6) from the compound (5) is carried out by reducing Y, which is a carbonyl group or a thiocarbonyl group, using [M] -H n as shown in Scheme 1. Wherein M is selected from the group consisting of metals such as aluminum and boron, and n is an integer of 1 to 4. Specific examples of the reducing agent [M] -H n are boron hydride, lithium borohydride, sodium borohydride, aluminum hydride, sodium aluminum hydride, lithium aluminum hydride, sodium borohydride, sodium borohydride, sodium borohydride It is any one selected from the group consisting of alkyl aluminum and Raney nickel. It may be used alone to perform the reduction process, or may be used together with any one selected from the group consisting of iodine, sulfuric acid, titanium chloride, aluminum chloride, tin chloride, zinc, triethylether tetrafluoroborate, and the like. The reduction process can be carried out.

상기 반응식 1에 나타낸 화합물들의 제조에 있어서, 화합물 (6)으로부터 화합물 (7)의 제조는, 상기 화합물 (3)으로부터 화합물 (4)의 제조와 관련하여 상기 설명된 것과 유사한 방식으로, 화합물 (6)을 탈보호하므로써 실시될 수 있다. 상기 탈보호 단계는 상기 화합물(6)에 존재하는 작용기(R2기)에 따라, 적당한 염산, 황산, 질산, 초산, 트리플루오로 아세트산 등을 포함하는 유기산 또는 무기산의 조건 하에서, 또는 수산화나트륨 용액, 암모니아 용액, 하이드라이드, 삼차아민 등의 유기, 무기의 염기 조건 하에서, 또는 중성 조건 하에서, 구리, 세슘, 철, 할로알루미늄, 사마륨(samarium), 마그네슘, 이터븀, 티타늄, 주석 등의 금속 촉매 또는 비금속 촉매를 사용하여 작용기를 제거하는 탈보호 과정을 실시한다. 상기 탈보호 조건 및 적당한 촉매는 특별히 제한되지 않으며, 제거하고자하는 작용기에 따라 당업자에 의해 적절하게 선택되어 실시할 수 있다.In the preparation of the compounds represented by Scheme 1, the preparation of compound (7) from compound (6) is carried out in a manner similar to that described above in connection with the preparation of compound (4) from compound (3). Can be carried out by deprotection. The deprotection step may be carried out under the conditions of an organic or inorganic acid containing appropriate hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, trifluoro acetic acid, or the like, depending on the functional group (R 2 group) present in the compound (6), or sodium hydroxide solution. Metal catalysts such as copper, cesium, iron, haloaluminum, samarium, magnesium, ytterbium, titanium, tin and the like under organic or inorganic base conditions such as ammonia solution, hydride, tertiary amine, or neutral conditions Or a deprotection process to remove the functional groups using a nonmetallic catalyst. The deprotection conditions and suitable catalyst are not particularly limited and may be appropriately selected and implemented by those skilled in the art according to the functional group to be removed.

합성된 상기 헥사아자트리시클로[3.3.3]운데케인 화합물들의 구조는 NMR 등의 기기분석 및 X선 회절분석을 통해 확인가능하다.The structure of the synthesized hexaazatricyclo [3.3.3] undecane compounds can be confirmed through instrumental analysis such as NMR and X-ray diffraction analysis.

본 발명에 따라, 신규의 고밀도, 다중고리 둔감성 분자화약 물질인 헥사니트로헥사아자프로펠레인 화합물의 핵심 구조의 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 합성방법이 제공되며, 상기 합성된 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물은 그 보호기를 필요에 따라 자유롭게 전환할 수 있어 추후 니트로기를 도입하거나 유사한 다른 화합물을 합성하는데 상황에 따른 적절한 보호기를 도입하여 원활한 합성을 진행 할 수 있는 유리한 점이 있으며, 고에너지 분자화약의 기본 골격으로 사용된 경우, 기존의 분자화약 물질들에 비해 잠재 에너지가 높다는 장점이 있다. 또한, 기존의 분자화약 물질들의 수명과 같이 본 발명의 분자화약 화합물의 수명도 최소 20년 이상일 것으로 예측된다.According to the present invention, there is provided a method for synthesizing a hexaaza [3.3.3] propelane compound having a core structure of a hexanitrohexaazapropelone compound, which is a novel high-density, multicyclic, insensitive molecular chemical substance. The aza [3.3.3] propane compound can be freely converted to its protecting group as necessary, so that it is advantageous to smoothly synthesize it by introducing appropriate protecting group according to the situation in order to introduce nitro group or synthesize other similar compounds. In addition, when used as the basic skeleton of the high-energy molecular powder, there is an advantage that the potential energy is higher than the conventional molecular powder. In addition, the lifetime of the molecular powder compound of the present invention is expected to be at least 20 years, such as the life of conventional molecular powder materials.

도 1, 도 2 및 도 3은 각각 실시예 1, 2 및 4에서 수득된 화합물에 대한 X선 회절 분석결과이다.1, 2 and 3 are X-ray diffraction analysis results for the compounds obtained in Examples 1, 2 and 4, respectively.

이하, 본 발명을 구체적인 실시예에 의해 보다 더 상세히 설명하고자 한다. 하지만, 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of specific examples. However, the present invention is not limited by the following examples.

시약 및 재료Reagents and Materials

포타슘 시안화철(K3Fe(CN)6), 디터셔리부틸 디카보네이트(BoC2O), 트리에틸아민(TEA), N,N-디메틸아미노 피리딘(DMAP), 벤질 브로마이드, 알릴브로마이드, 수소화 나트륨(NaH) 및 리튬 수소화알루미늄(LAH)은 시그마-알드리치사의 시약을 사용하였다. 트리플루오로아세트산, 수산화암모늄, 아세톤, 에탄올, 테트라하이드로퓨란, 디메틸 설폭사이드, 디메틸 포름아미드 및 염화 메틸의 용매류는 OCI사 및 대정사로부터 구입한 것을 이용하였다.
Potassium iron cyanide (K 3 Fe (CN) 6 ), dietary butyl dicarbonate (BoC 2 O), triethylamine (TEA), N, N -dimethylamino pyridine (DMAP), benzyl bromide, allyl bromide, sodium hydride (NaH) and lithium aluminum hydride (LAH) used a reagent from Sigma-Aldrich. Solvents of trifluoroacetic acid, ammonium hydroxide, acetone, ethanol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, dimethyl formamide, and methyl chloride were used from OCI and Grand Tablet.

실시예Example 1 One

2,4,6,8,9,11-2,4,6,8,9,11- 헥사Hexa -- NN -- BocBoc -3,7,10--3,7,10- 트리옥소Trioxo -2,4,6,8,9,11--2,4,6,8,9,11- 헥사아자[3.3.3]프로펠레인Hexaaza [3.3.3] propane (3')의 합성 Synthesis of 3 '

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 반응식에 나타낸 것과 같이, 글리콜유릴 디아민 (2')(0.5g, 2.90밀리몰)과 디터셔리부틸 디카보네이트(6.7mL, 29.04밀리몰)를 디메틸설폭사이드(2mL)에 녹였다. 디메틸아미노 피리딘(1.42g, 11.62밀리몰)을 천천히 가하고, 6시간 이상 실온에서 교반하였다. 반응 후 디에틸에테르로 추출하여 감압 증류한 다음 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피를 이용하여 (전개액: 헥산:에틸 아세테이트=4:1) 정제하였다. 흰색 고체 화합물(1.88g, 수율 81%)을 얻었고, 이를 염화 메틸렌으로 결정화한 다음 X선 회절분석을 이용해 결정구조를 분석하여 그 결과를 도 1에 나타내었으며, 이에 따라 화합물 3'가 합성되었음을 확인하였다.As shown in the reaction scheme, glycoluril diamine (2 ') (0.5 g, 2.90 mmol) and dietary butyl dicarbonate (6.7 mL, 29.04 mmol) were dissolved in dimethyl sulfoxide (2 mL). Dimethylamino pyridine (1.42 g, 11.62 mmol) was added slowly and stirred at room temperature for 6 hours or more. After the reaction, the mixture was extracted with diethyl ether, distilled under reduced pressure, and purified using silica gel column chromatography (eluent: hexane: ethyl acetate = 4: 1). A white solid compound (1.88 g, yield 81%) was obtained, which was crystallized with methylene chloride and analyzed by crystal structure using X-ray diffraction analysis. The results are shown in FIG. 1 to confirm that the compound 3 'was synthesized. It was.

NMR분석 결과:NMR analysis results:

1H NMR (CDCl3) δ 1.54 (s, 54H) 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 1.54 (s, 54H)

13C NMR (CDCl3) δ 147.6, 144.4, 85.2, 83.2, 27.8 13 C NMR (CDCl 3 ) δ 147.6, 144.4, 85.2, 83.2, 27.8

IR (KBr) νmax : 2938, 2936, 2045, 1802, 1775, 1628, 1475, 1458 cm-1 IR (KBr) ν max : 2938, 2936, 2045, 1802, 1775, 1628, 1475, 1458 cm -1

원소분석 결과:Elemental analysis:

계산치: C-52.62, H-6.81, N-10.52Calculations: C-52.62, H-6.81, N-10.52

실측치: C-52.57, H-7.06, N-10.12
Found: C-52.57, H-7.06, N-10.12

실시예Example 2 2

3,7,10-3,7,10- 트리옥소Trioxo -2,4,6,8,9,11-헥사아자[3.3.3]-2,4,6,8,9,11-hexaaza [3.3.3] 프로펠레인Propane (4')의 합성Synthesis of 4 '

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 반응식에 나타낸 것과 같이, 상기 실시예 1에서 합성된 화합물 (3') (1.0g, 1.25밀리몰)에 트리플루오로 아세트산을 기포가 생기지 않을 때까지 실온에서 천천히 적가하고 1시간 동안 교반한 뒤, 트리플루오로 아세트산을 감압 증류하여 제거하였다. 에탄올(20mL)을 적가하여 침전물이 생기면 거른 뒤 아세톤으로 충분히 씻어낸 다음, 거른 침전물은 건조하여 흰색 고체(0.25ㅎ, 수율: 99%)를 얻었다. 이 고체를 디메틸설폭사이드를 이용해 재결정하여 바늘모양의 무색결정을 얻었고, 이를 X선 회절 분석을 이용하여 구조를 확인하였으며, 그 결과를 도 2에 나타내었고, 이에 따라 화합물 4'가 합성되었음을 확인하였다.As shown in the above scheme, to the compound (3 ') (1.0 g, 1.25 mmol) synthesized in Example 1 was slowly added dropwise trifluoro acetic acid at room temperature until no bubbles formed and stirred for 1 hour, Trifluoro acetic acid was removed by distillation under reduced pressure. Ethanol (20 mL) was added dropwise to form a precipitate, which was filtered off and washed with acetone sufficiently. The filtered precipitate was dried to give a white solid (0.25 ㅎ, yield: 99%). The solid was recrystallized using dimethyl sulfoxide to obtain needle-shaped colorless crystals. The structure was confirmed by X-ray diffraction analysis. The results are shown in FIG. 2, and thus compound 4 'was synthesized. .

NMR 분석 결과:NMR analysis results:

1H NMR (DMSO-d 6) δ 8.06 (s, 6H) 1 H NMR (DMSO- d 6) δ 8.06 (s, 6H)

13C NMR (DMSO-d 6) δ 159.4, 85.2 13 C NMR (DMSO- d 6) δ 159.4, 85.2

IR (KBr) νmax : 3217, 2830, 1748, 1688, 1524, 1473cm-1 IR (KBr) ν max : 3217, 2830, 1748, 1688, 1524, 1473 cm -1

HRMS (FAB): C5H7N6O3 [M]+에 대한 계산치: 199.0574, 실측치: 199.0584HRMS (FAB): Calcd for C 5 H 7 N 6 0 3 [M] +: 199.0574, found: 199.0584.

원소분석 결과:Elemental analysis:

계산치: C-30.31, H-3.05, N-42.41Calculation: C-30.31, H-3.05, N-42.41

실측치: C-30.70, H-3.33, N-42.39
Found: C-30.70, H-3.33, N-42.39

실시예Example 3 3

2,4,6,8,9,11-2,4,6,8,9,11- 헥사Hexa -- NN -벤질-3,7,10-Benzyl-3,7,10 트리옥소Trioxo -2,4,6,8,11--2,4,6,8,11- 헥사아자[3.3.3]프로펠레인Hexaaza [3.3.3] propane (5')의 합성 Synthesis of 5 '

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 반응식에 나타낸 것과 같이, 상기 실시예 2에서 합성한 화합물 (4') (0.7g, 3.53밀리몰)를 질소분위기하에서 N,N-디메틸포름아미드(4mL)와 디메틸설폭사이드(1mL)의 혼합물에 녹인 뒤 벤질브로마이드(3.4mL, 28.28 밀리몰)를 가하고 반응온도를 0℃ 이하로 내리고 교반하였다. 5분 뒤 수소화 나트륨(1.13g, 28.28밀리몰)을 가하였다. 반응 온도를 천천히 실온으로 올리고 6시간을 더 교반하였다. 반응이 끝나고 다시 온도를 0℃로 내린 뒤, 염화 암모늄 수용액을 가하고, 디에틸에테르로 추출하였다. 유기층을 감압증류 한 뒤에 실리카 겔 크로마토그래피(전개액: 헥산:에틸 아세테이트 = 4:1)로 정제하여 흰색 고체(1.28g, 수율 49%)로서, 상기 반응식에 나타낸 것과 같은 화합물 (5')를 합성하였다.As shown in the above scheme, compound (4 ') (0.7 g, 3.53 mmol) synthesized in Example 2 was added to a mixture of N, N-dimethylformamide (4 mL) and dimethyl sulfoxide (1 mL) under nitrogen atmosphere. After melting, benzyl bromide (3.4 mL, 28.28 mmol) was added, and the reaction temperature was lowered to 0 ° C. or lower and stirred. After 5 minutes sodium hydride (1.13 g, 28.28 mmol) was added. The reaction temperature was slowly raised to room temperature and further stirred for 6 hours. After the reaction was completed, the temperature was lowered to 0 ° C., and an aqueous ammonium chloride solution was added thereto, followed by extraction with diethyl ether. The organic layer was distilled under reduced pressure, and then purified by silica gel chromatography (eluent: hexane: ethyl acetate = 4: 1), to obtain a white solid (1.28 g, yield 49%). Synthesized.

NMR분석 결과:NMR analysis results:

1H NMR (CDCl3) δ 7.32-7.27 (m, 18H), 7.12-7.09 (m, 12H), 4.32 (s, 12H) 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 7.32-7.27 (m, 18H), 7.12-7.09 (m, 12H), 4.32 (s, 12H)

13C NMR (CDCl3) δ 157.3, 136.8, 128.8, 127.7, 126.6, 89.5, 45.8 13 C NMR (CDCl 3 ) δ 157.3, 136.8, 128.8, 127.7, 126.6, 89.5, 45.8

IR (KBr) νmax : 3086. 3059. 2693, 2927, 1718, 1472, 1450, 1421cm-1 IR (KBr) ν max : 3086. 3059. 2693, 2927, 1718, 1472, 1450, 1421cm -1

HRMS (FAB+): C47H42N6O3 [M]+에 대한 계산치: 739.3391, 실측치: 739.3395HRMS (FAB +): Calcd for C 47 H 42 N 6 O 3 [M] +: 739.3391. Found: 739.3395

원소분석 결과:Elemental analysis:

계산치: C-76.40, H-5.73, N-11.37Calculations: C-76.40, H-5.73, N-11.37

실측치: C-76.24, H-5.89, N-11.57
Found: C-76.24, H-5.89, N-11.57

실시예Example 4 4

2,4,6,8,9,11-2,4,6,8,9,11- 헥사Hexa -- NN -벤질-2,4,6,8,11-Benzyl-2,4,6,8,11 헥사아자[3.3.3]프로펠레인Hexaaza [3.3.3] propane (6')의 합성 Synthesis of 6 '

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 반응식에 나타낸 것과 같이, 무수테트라하이드로퓨란(7mL)을 LAH (0.46g, 12.20밀리몰)가 담긴 초자 반응기에 질소분위기하에서 천천히 가한 뒤 온도를 0℃ 이하로 내렸다. 실시예 3에서 합성한 화합물 (5')(0.5g, 0.68밀리몰)를 천천히 가하고 교반하였다. 40분 뒤 실온(20℃)으로 천천히 올리고, 40℃에서 12시간동안 교반하였다. 반응 후 온도를 다시 0℃ 이하로 내리고 교반하였다. 5분 뒤 에틸 아세테이트(15mL)를 천천히 가하여 30분 동안 교반하였다. 용액을 셀라이트 패드와 실리카 겔 패드로 순차적으로 거른 뒤 감압 증류하여 흰색 고체 (0.38g, 수율: 81%)를 얻었다. 이를 염화 메틸렌을 이용해 결정화하여, 상기 반응식에 나타낸 것과 같은 화합물 (6')를 합성하였다. 이를 X선 회절 분석을 이용하여 구조를 확인하였으며, 그 결과를 도 3에 나타내었고, 이에 따라 화합물 (6')가 합성되었음을 확인하였다.As shown in the reaction scheme, anhydrous tetrahydrofuran (7 mL) was slowly added to a vitreous reactor containing LAH (0.46 g, 12.20 mmol) under nitrogen atmosphere, and then the temperature was lowered to 0 ° C or lower. Compound (5 ') (0.5 g, 0.68 mmol) synthesized in Example 3 was slowly added and stirred. After 40 minutes, the temperature was slowly raised to room temperature (20 ° C) and stirred at 40 ° C for 12 hours. After the reaction, the temperature was lowered to 0 ° C. or lower and stirred. After 5 minutes, ethyl acetate (15 mL) was slowly added and stirred for 30 minutes. The solution was filtered sequentially using a pad of celite and a pad of silica gel, and then distilled under reduced pressure to obtain a white solid (0.38 g, yield: 81%). This was crystallized with methylene chloride to synthesize compound (6 ') as shown in the above scheme. This structure was confirmed by X-ray diffraction analysis, and the results are shown in FIG. 3, whereby it was confirmed that the compound (6 ′) was synthesized.

NMR분석 결과 ;NMR analysis result;

1H NMR (CDCl3) δ 7.18-7.41 (m, 30H), 4.16 (s, 12H), 3.75 (s, 6H) 1 H NMR (CDCl 3 ) δ 7.18-7.41 (m, 30H), 4.16 (s, 12H), 3.75 (s, 6H)

13C NMR (CDCl3) δ 140.2, 128.3, 128.1, 126.7, 108.9, 76.5, 52.2 13 C NMR (CDCl 3 ) δ 140.2, 128.3, 128.1, 126.7, 108.9, 76.5, 52.2

원소분석 결과:Elemental analysis:

계산치: C-81.00, H-6.94, N-12.06Calculations: C-81.00, H-6.94, N-12.06

실측치: C-81.01, H-6.99, N-11.92Found: C-81.01, H-6.99, N-11.92

Claims (5)

R-CO-X 화합물을 이용하여 하기 화합물 (2)에 카르보닐기를 도입하는 것을 포함하는, 하기 화합물 (3)으로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법:
Figure pat00008

상기 화합물 (2)의 구조식 중, Y는 O 또는 S이고;
Figure pat00009

상기 화합물 (3)의 구조식 중, R1은 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴을 나타내고, Y는 O 또는 S이고;
상기 R-CO-X 화합물 중, R은 H, 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 알콕시, 아릴알킬 또는 아릴을 나타내고, X는 Cl, Br, I, H, 또는 R과 같거나 같지않은, 산소, 질소, 황, 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 알콕시, 아릴알킬 또는 아릴을 나타낸다.
A method for producing a hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following compound (3), comprising introducing a carbonyl group into the following compound (2) using an R-CO-X compound:
Figure pat00008

In the structural formula of the compound (2), Y is O or S;
Figure pat00009

In the structural formula of the compound (3), R 1 represents C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl which may include a heteroatom or an unsaturated group selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen, and Y Is O or S;
Among the R-CO-X compounds, R is C 1 ~ C 20 Alkyl, cycloalkyl, alkoxy, arylalkyl or aryl which may include heteroatoms or unsaturated groups selected from H, oxygen, nitrogen, sulfur and halogen. Wherein X is a C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, which may include heteroatoms or unsaturated groups selected from oxygen, nitrogen, sulfur, and halogen, equal or not equal to Cl, Br, I, H, or R , Alkoxy, arylalkyl or aryl.
하기 화합물 (3)으로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 보호기를 금속 촉매 또는 비금속 촉매를 사용하여 제거하는 탈보호 과정을 실시하는 것을 포함하는, 하기 화합물 (4)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법:
Figure pat00010

상기 화합물 (3)의 구조식 중, R1은 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴을 나타내고, Y는 O 또는 S이고;
Figure pat00011

식 중, Y는 O, S이다.
Represented by the following compound (4), comprising carrying out a deprotection process of removing a protecting group of a hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following compound (3) using a metal catalyst or a non-metal catalyst Method for preparing hexaaza [3.3.3] propane compound:
Figure pat00010

In the structural formula of the compound (3), R 1 represents C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl which may include a heteroatom or an unsaturated group selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen, and Y Is O or S;
Figure pat00011

In the formula, Y is O and S.
하기 화합물 (5)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물에, R2-X (식 중, R2는 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴이고; X는 Cl, Br, I, H, 또는 R2와 같거나 같지 않은, 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 알콕시, 아릴알킬 또는 아릴이다) 화합물을 염기 존재 하에 반응시키므로써, 하기의 화합물 (4)의 아민기에 보호기를 도입하는 것을 포함하는, 하기 화합물 (5)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법:
Figure pat00012

식 중, Y는 O, S이고;
Figure pat00013

식 중, 상기 R2는, 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴이고; Y는 O 또는 S이다.
In the hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following compound (5), R 2 -X (wherein R 2 may include a heteroatom or an unsaturated group selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen) C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl; X is a heteroatom selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen, which is not equal to or equal to Cl, Br, I, H, or R 2 or Reacting a C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, alkoxy, arylalkyl or aryl compound which may include an unsaturated group in the presence of a base, thereby introducing a protecting group to the amine group of the following compound (4) A process for producing a hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following compound (5):
Figure pat00012

Wherein Y is O, S;
Figure pat00013

Wherein R 2 is C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl which may include heteroatoms or unsaturated groups selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen; Y is O or S.
하기 화합물 (5)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물 중, Y를 [M]-Hn(식 중, M은 알루미늄 및 보론으로 이루어지는 군으로 선택되고, n은 1~4 의 정수)을 이용하여 환원시키는 것을 포함하는, 하기 화합물 (6)으로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법:
Figure pat00014

식 중, 상기 R2는, 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴이고; Y는 O 또는 S이고;
Figure pat00015

식 중, 상기 R2는, 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴이다.
In the hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following compound (5), Y is selected from the group consisting of [M] -H n ( wherein M is made of aluminum and boron, and n is 1 to 4). A method for producing a hexaaza [3.3.3] propane compound represented by the following compound (6), which comprises reducing the same by using an integer of
Figure pat00014

Wherein R 2 is C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl which may include heteroatoms or unsaturated groups selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen; Y is O or S;
Figure pat00015

Wherein R 2 is C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl which may contain heteroatoms or unsaturated groups selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen.
하기 화합물 (6)으로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 보호기 R2를 금속 촉매 또는 비금속 촉매를 사용하여 제거하는 탈보호 과정을 실시하는 것을 포함하는, 하기 화합물 (7)로 표시되는 헥사아자[3.3.3]프로펠레인 화합물의 제조방법:
Figure pat00016

식 중, 상기 R2는, 산소, 질소, 황 및 할로겐으로부터 선택되는 이종원자 또는 불포화기를 포함할 수 있는 C1~C20의 알킬, 시클로알킬, 아릴알킬 또는 아릴이다.
Figure pat00017
.
With the following compound (7) which comprises carrying out the deprotection process of removing the protecting group R < 2 > of the hexaaza [3.3.3] propane compound represented by following compound (6) using a metal catalyst or a nonmetal catalyst. Method for preparing the indicated hexaaza [3.3.3] propane compound:
Figure pat00016

Wherein R 2 is C 1 to C 20 alkyl, cycloalkyl, arylalkyl or aryl which may contain heteroatoms or unsaturated groups selected from oxygen, nitrogen, sulfur and halogen.
Figure pat00017
.
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