KR20140016623A - 터치스크린 패널 및 그 형성방법 - Google Patents

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KR20140016623A
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신동혁
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이엘케이 주식회사
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Abstract

본 발명의 터치스크린 패널은, 일 면에 제1 방향을 따라 배열된 제1 투명전극패턴이 형성된 제1 패널 일 면에 대향하는 면을 통해 제1 패널과 접촉되면서 제2 방향으로 뻗어 있는 제2 투명전극패턴이 형성된 제2 패널 및 제1 패널 또는 제2 패널의 표면을 노출시키게 제1 투명전극패턴 또는 제2 투명전극패턴 상에 소정 간격을 두고 복수 개가 배열된 천공(hole)들을 포함하여 형성된다.

Description

터치스크린 패널 및 그 형성방법{Touch screen panel and the method for fabricating of the same}
본 발명은 터치스크린 패널에 관한 것으로 보다 상세하게는 터치스크린 패널 및 그 형성방법에 관한 것이다.
터치스크린 패널은 디스플레이 전면에 부착되어 사용자의 터치 입력을 수신하는 장치이다. 일반적으로, 터치스크린 패널은 사용자의 접촉 입력의 위치를 감지하고, 감지된 접촉 위치에 관한 정보를 입력 정보로 하여 디스플레이 화면 제어를 포함하는 전자기기의 제어를 수행하기 위한 장치를 일컫는다.
터치스크린 패널은 그 동작 원리에 따라 저항에 의한 전류의 변화를 감지하는 저항식 터치스크린 패널과 커패시턴스의 변화를 감지하는 정전식 터치스크린 패널로 구분된다. 정전식 터치스크린 패널은 저항식 터치스크린 패널에 비하여 터치감이 우수하고 저항식 터치스크린 패널보다 투명도가 높아 점점 사용되는 분야가 증가하고 있다. 일반적인 정전식 터치스크린 패널은 투명한 필름 상에 형성된 투명전극패턴을 터치하여 터치된 영역의 정전용량의 변동에 따라 투명전극패턴에 구비된 센싱 패턴(Sensing pattern)이 이를 감지함으로써 위치 좌표를 찾는 방식으로 사용자의 터치 입력의 위치를 검출하고 있다. 한편, 정전식 터치스크린 패널은 투명전극패턴을 패터닝하여 감지 및 동작 센서를 형성하여 사용함에 따라, 투명전극패턴의 투과율을 극대화하여 시인성을 향상시키는 사안이 중요한 이슈가 되고 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 정전식 터치스크린 패널의 제조 공정을 개선하여 터치스크린 패널의 투과율을 향상시킬 수 있는 터치스크린 패널의 투명전극패턴 형성 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 일 관점에 따른 터치스크린 패널은, 일 면에 제1 방향을 따라 배열된 제1 투명전극패턴이 형성된 제1 패널 상기 일 면에 대향하는 면을 통해 상기 제1 패널과 접촉되면서 제2 방향으로 뻗어 있는 제2 투명전극패턴이 형성된 제2 패널 및 상기 제1 패널 또는 제2 패널의 표면을 노출시키게 상기 제1 투명전극패턴 또는 제2 투명전극패턴 상에 소정 간격을 두고 복수 개가 배열된 천공(hole)들을 포함하여 형성된다.
상기 제1 패널 또는 제2 패널은 글라스, 폴리이미드, 아크릴 또는 피이티(PET)에서 하나 이상의 물질을 단층 또는 복수층으로 적층하여 형성된다.
상기 터치스크린 패널은 제1 패널 및 제2 패널 사이에 삽입된 광학용 투명 접착제층을 더 포함한다.
상기 제1 투명전극패턴 또는 제2 투명전극패턴은 인듐 주석 산화물(ITO), 불소가 도핑된 산화주석(FTO) 또는 인듐 징크 산화물(IZO)을 포함한다.
상기 제1 투명전극패턴은 상기 제1 패널의 표면을 노출시키는 천공들이 소정 간격을 두고 배열되어 있으면서 제1 방향을 따라 배열된 제1 센싱 패턴 및 인접하는 제1 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성된다.
상기 제2 투명전극패턴은 상기 제2 패널의 표면을 노출시키는 천공들이 소정 간격을 두고 배열되어 있으면서 제2 방향을 따라 배열된 제2 센싱 패턴 및 인접하는 제1 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성된다.
상기 제1 센싱 패턴 또는 제2 센싱 패턴은 삼각형, 사각형 또는 마름모꼴을 포함하는 다각형의 형상으로 형성된다.
상기 제1 투명전극패턴 및 제2 투명전극패턴은 서로 직교하는 형상으로 배치된다.
본 발명의 실시예에 따른 터치스크린 패널의 형성방법은, 제1 패널 및 제2 패널에 각각 제1 투명도전층 및 제2 투명도전층을 형성하는 단계 상기 제1 및 제2 투명도전층을 패터닝하여 상기 제1 패널의 제1 방향을 따라 배치된 제1 투명전극패턴 및 상기 제2 패널의 제2 방향을 따라 배치된 제2 투명전극패턴을 형성하는 단계 및 상기 제1 투명전극패턴을 선택적으로 제거하여 상기 제1 투명전극패턴 하부의 제1 패널의 표면을 노출시키는 천공(hole)들을 형성하고, 상기 제2 투명전극패턴을 선택적으로 제거하여 상기 제2 투명전극패턴 하부의 제2 패널의 표면을 노출시키는 천공들을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 있어서, 상기 천공들을 형성하는 단계 이후에, 상기 천공들을 매립하는 투명의 비도전성 유전 매질층을 형성하는 단계를 더 포함한다.
상기 층간 접착제는 광학용 투명 접착제를 포함한다.
상기 제1 패널 또는 제2 패널은 글라스, 폴리이미드, 아크릴 또는 피이티(PET)에서 하나 이상의 물질을 단층 또는 복수층으로 적층하여 형성한다.
상기 제1 투명도전층 또는 제2 투명도전층은 인듐 주석 산화물(ITO), 불소가 도핑된 산화주석(FTO) 또는 인듐 징크 산화물(IZO)을 포함한다.
상기 제1 투명전극패턴은 상기 제1 패널의 종 방향을 따라 배열된 제1 센싱 패턴 및 인접하는 제1 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성하고, 상기 제2 투명전극패턴은 상기 제2 패널의 횡 방향을 따라 배열된 제2 센싱 패턴 및 인접하는 제2 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성한다.
상기 제1 센싱 패턴 또는 제2 센싱 패턴은 삼각형, 사각형 또는 마름모꼴을 포함하는 다각형의 형상으로 형성한다.
상기 천공은 레이저를 조사하여 상기 제1 또는 제2 투명전극패턴을 선택적으로 제거하여 형성한다.
본 발명에 따르면, 레이저등을 이용하여 투명전극패턴 상에 물리적으로 천공을 형성하는 방식을 적용하여 공정 단계를 단순화시킬 수 있다. 또한 센싱 패턴 상에 복수 개의 천공들을 형성하여 센싱 패턴 하부의 글라스와 같은 패널 표면을 노출시킴으로써 투과율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 터치스크린 패널을 설명하기 위해 나타내보인 평면도이다.
도 2 및 도 3은 각각 도 1의 제1 패널 및 제2 패널을 분리하여 나타내보인 평면도이다.
도 4 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 터치스크린 패널의 형성 방법을 설명하기 위해 나타내보인 단면도들이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 실시 예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 장치의 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 상기 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 전체적으로 도면 설명시 관찰자 시점에서 설명하였고, 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 이는 상기 일 요소가 다른 요소 위 또는 아래에 바로 위치하거나 또는 그들 요소들 사이에 추가적인 요소가 개재될 수 있다는 의미를 모두 포함한다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 그리고, 복수의 도면들 상에서 동일 부호는 실질적으로 서로 동일한 요소를 지칭한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 터치스크린 패널을 설명하기 위해 나타내보인 평면도이다. 그리고 도 2 및 도 3은 각각 도 1의 제1 패널 및 제2 패널을 분리하여 나타내보인 평면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 터치스크린 패널은 제1 패널(100), 제2 패널(200), 제1 패널(100) 상에 형성된 제1 투명전극패턴(130) 및 제2 패널(200) 상에 형성된 제2 투명전극패턴(230)을 포함하여 이루어진다. 본 발명에서는 바람직한 실시예로써 2개의 패널(100, 200)을 사용하는 구조를 예를 들어 설명하고 있지만, 두 층 이상의 복수의 패널을 적용할 수 있다. 도 1은 제1 패널(100) 및 제2 패널(200)이 서로 겹쳐져 있는 상태를 나타내며, 제1 패널(100) 및 제2 패널 사이에는 두 패널을 접착시키는 층간 접착층(미도시함)이 배치된다. 도 1의 제1 패널(100) 및 제2 패널(200)을 분리하여 나타내보인 도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 패널(100) 및 제2 패널(200)은 각각 그 위에 제1 투명전극패턴(130) 및 제2 투명전극패턴(230)이 형성될 수 있는 재질을 포함하여 구성된다. 예를 들어, 제1 패널(100) 및 제2 패널(200)은 투명필름인 경우 투명한 유전필름 형태로 이루어지는데, 예컨대, 글라스(Glass), 폴리이미드(PI: Polyimide), 아크릴(Acryl) 또는 피이티(PET: Polyethylene Terephthalate)에서 하나 이상의 물질을 단층 또는 복수층으로 적층하여 형성할 수 있다. 여기서 제1 패널(100) 및 제2 패널(200)은 투명성을 갖는 기판 재료를 이용하는 것이 바람직하다.
제1 투명전극패턴(130) 및 제2 투명전극패턴(230)을 각각 제1 패널(100) 및 제2 패널(200) 상에 접착시키기 위해 층간 접착층(미도시함)이 제1 패널(100)과 제1 투명전극패턴(130), 제2 패널(200)과 제2 투명전극패턴(230) 사이에 삽입될 수 있다. 여기서 층간 접착층은 투명한 재질의 접착제로서, 예를 들어 광학용 투명 접착제(OCA: Optical Clear Adhesive)를 포함하여 사용할 수 있다.
제1 투명전극패턴(130) 및 제2 투명전극패턴(230)은 외부의 물리적 접촉에 대응하여 전기적 신호를 발생시키는 역할을 하는 것으로써, 제1 패널(100) 또는 제2 패널(200)의 표면을 노출시키는 복수 개의 천공(hole, 140, 240)들을 포함하는 센싱 패턴(110, 210) 및 인접하는 센싱 패턴(110, 210)들을 전기적으로 연결하는 연결부(120, 220)를 포함하여 이루어진다. 센싱 패턴(110, 210) 상에 형성된 천공(140, 240)들은 인접하는 천공들끼리 소정 간격을 두고 배열된다. 센싱 패턴(110, 210)은 다각형, 예컨대 삼각형, 사각형 또는 마름모꼴의 형상을 가지게 형성된다. 도 2를 참조하면, 제1 투명전극패턴(130)은 제1 패널(100) 상에 형성되며, 제1 패널(100)의 종 방향, 예컨대 y축 방향을 따라 제1 센싱 패턴(110)들이 소정 간격을 두고 배치된다. 여기서 제1 센싱 패턴(110)은 소정 간격을 두고 배열된 복수 개의 천공(140)들을 포함한다. 인접하는 제1 센싱 패턴(110)들은 연결부(120)를 통해 서로 전기적으로 연결되어 있다. 제1 센싱 패턴(110) 및 연결부(120)를 포함하는 제1 투명전극패턴(130)은 통상적으로 투명 도전물질로 사용되고 있는 인듐 주석 산화물(ITO: Indium tin oxide), 불소가 도핑된 산화주석(FTO: fluorine-doped tin oxide) 또는 인듐 징크 산화물(IZO: Indium zinc oxide)들 중에서 하나 이상의 물질을 선택하여 사용할 수 있다. 그러나 상술한 ITO, FTO 또는 IZO에 한정되는 것은 아니며, 유연성이 우수하고 코팅 공정이 단순한 전도성 고분자를 이용하여 형성할 수도 있다. 천공(140, 240)들은 동작 특성에 영향을 미치지 않는 범위에서 센싱 패턴들의 투과율을 향상시키기 위해 수십 내지 수백 개로 형성되어 있다.
도 3을 참조하면, 제2 투명전극패턴(230)은 제2 패널(200) 상에 형성되며, 제2 패널(200)의 횡 방향, 예컨대 x축 방향을 따라 제2 센싱 패턴(210)들이 소정 간격을 두고 배치된다. 여기서 제2 센싱 패턴(210)은 소정 간격을 두고 배열된 복수 개의 천공(240)들을 포함한다. 천공(240)들은 인접하는 제2 센싱 패턴(210)들은 연결부(220)를 통해 서로 전기적으로 연결되어 있다. 제2 센싱 패턴(210) 및 연결부(220)를 포함하는 제2 투명전극패턴(230)은 통상적으로 투명 도전물질로 사용되고 있는 인듐 주석 산화물(ITO), 불소가 도핑된 산화주석(FTO) 또는 인듐 징크 산화물(IZO)들 중에서 하나 이상의 물질을 선택하여 사용할 수 있다. 그러나 상술한 ITO, FTO 또는 IZO에 한정되는 것은 아니며, 유연성이 우수하고 코팅 공정이 단순한 전도성 고분자를 이용하여 형성할 수 있다.
상술한 바와 같이, 제1 투명전극패턴(130)은 종 방향으로 배치되고, 제2 투명전극패턴(230)은 횡 방향으로 배치됨에 따라 제1 패널(100) 및 제2 패널(200)을 겹쳐서 상부에서 나타내보인 도 1에 도시한 바와 같이, 제1 투명전극패턴(130)의 사이사이의 공간에 제2 투명전극패턴(230)이 배치된 구조로 형성된다. 이에 따라 제1 투명전극패턴(130) 및 제2 투명전극패턴(230)은 상부에서 바라볼 때, 서로 직교하는 형상으로 이루어질 수 있다.
도 4 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 터치스크린 패널의 형성 방법을 설명하기 위해 나타내보인 단면도들이다.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 제1 패널 및 제2 패널(310, 410)의 두 장의 패널에 각각 제1 투명 도전층(320) 및 제2 투명 도전층(420)을 형성한다. 제1 및 제2 패널(310, 410)은 투명성을 갖는 기판 재료로 이루어진다. 예를 들어, 제1 및 제2 패널(310, 410)은 투명한 유전필름 형태로 이루어지는데, 예컨대, 글라스(Glass), 폴리이미드(PI), 아크릴(Acryl) 또는 피이티(PET)에서 하나 이상의 물질을 단층 또는 복수층으로 적층하여 형성할 수 있다. 본 발명에서는 바람직한 실시예로써, 글라스(300) 상에 투명수지층(305)이 적층된 구조를 이용한다. 투명수지층(305)은 예컨대 피이티(PET)를 포함하는 재료로 형성한다. 제1 및 제2 패널(310, 410) 상에 형성된 제1 및 제2 투명 도전층(320, 420)은 투명 도전물질로 사용되고 있는 인듐 주석 산화물(ITO), 불소가 도핑된 산화주석(FTO) 또는 인듐 징크 산화물(IZO)들 중에서 하나 이상의 물질을 선택하여 사용할 수 있다.
도 5a 및 도 5b를 참조하면, 도 4의 제1 및 제2 투명 도전층(320, 420)을 패터닝하여 제1 투명전극패턴(350) 및 제2 투명전극패턴(450)을 형성한다. 도 2의 제1 패널을 A-A'방향을 따라 잘라낸 단면도를 나타내보인 도 5a를 참조하면, 제1 투명전극패턴(350)은, 제1 패널의 종 방향을 따라 배치된 제1 센싱 패턴(330) 및 인접하는 제1 센싱 패턴(330)들을 전기적으로 연결하는 제1 연결부(340)를 포함하는 형상으로 형성한다. 또한, 도 3의 제2 패널을 B-B'방향을 따라 잘라낸 단면도를 나타내보인 도 5b를 참조하면, 제2 투명전극패턴(450)은 제2 패널의 횡 방향을 따라 배치된 제2 센싱 패턴(430) 및 인접하는 제2 센싱 패턴(430)들은 전기적으로 연결하는 제2 연결부(440)를 포함하는 형상으로 형성한다. 제1 및 제2 센싱패턴(330, 430)은 다각형의 형상으로 형성하며, 바람직하게는 마름모 형상으로 형성한다.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 제1 및 제2 센싱 패턴(330, 430) 상에 글라스(300, 400)의 표면을 노출시키는 복수 개의 천공(360, 460)들을 형성한다. 천공(360, 460)들은 제1 및 제2 패널(310, 410) 상에 레이저를 조사하여 형성할 수 있다. 레이저는 투명전극패턴을 구성하는 투명도전물질 뿐만 아니라 제1 및 제2 패널(310, 410)의 투명수지층(305, 405)까지 제거하여 글라스(300, 400)의 표면이 노출되는 시점까지 조사하는 것이 바람직하다. 이러한 천공(360)들은 동작 특성에 영향을 미치지 않는 범위에서 센싱 패턴의 투과율을 향상시키기 위해 개수를 수십 내지 수백 개로 형성하는 것이 바람직하다. 제1 센싱 패턴(330)을 상부에서 나타내보인 도 7을 참조하면, 제1 센싱 패턴(330) 상에 글라스(300) 표면을 노출시키는 복수 개의 천공(360)이 형성됨에 따라 이후 광원을 조사할 때, 글라스(300)를 통해 광원이 직접 투과되어 투과율이 향상된다. 또한 제1 센싱 패턴(330) 상에 천공(360)들이 복수 개 형성됨에 따라 전력 소비를 감소시킬 수 있다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 제1 패널(310) 및 제2 패널(410) 상에 형성된 천공(360, 460)들을 매립하는 투명한 물질의 비도전성 유전 매질층(370, 470)을 형성한다. 여기서 비도전성 유전 매질층(370, 470)은 필요에 따라서 적용하지 않을 수도 있다. 다음에 비록 도면에 도시하지는 않았지만, 제1 패널(310) 기저부에 배치된 글라스(300) 및 제2 패널(410) 기저부에 배치된 글라스(300)를 투명수지층(305, 405)로부터 박리시킨 후, 제1 패널 및 제2 패널을 층간 접착제를 사용하여 접촉시켜 도 1에 도시된 터치스크린 패널을 형성할 수 있다.
한편, 하나의 글라스 기판 상에 제1 방향의 제1 투명전극패턴 및 제1 투명전극패턴과 직교하는 제2 방향의 제2 투명전극패턴을 형성한 다음, 브릿지 패턴을 이용하여 두 투명전극패턴을 전기적으로 연결시키는 구조로 형성할 수도 있다.
본 발명에 따른 터치스크린 패널은 포토리소그래피 공정과 같은 패터닝 공정을 사용하지 않고, 레이저등을 이용하여 물리적으로 천공을 형성하여 공정 단계를 단순화시킬 수 있다. 또한 센싱 패턴 상에 복수 개의 천공들을 형성하여 센싱 패턴 하부의 글라스와 같은 패널 표면을 노출시킴으로써 투과율을 향상시킬 수 있다.
100, 310: 제1 패널 200, 410: 제2 패널
110, 210, 330 : 센싱 패턴 120, 220, 340, 440: 연결부
130, 350: 제1 투명전극패턴 140, 240: 천공
230, 450: 제2 투명전극패턴

Claims (15)

  1. 일 면에 제1 방향을 따라 배열된 제1 투명전극패턴이 형성된 제1 패널
    상기 일 면에 대향하는 면을 통해 상기 제1 패널과 접촉되면서 제2 방향으로 뻗어 있는 제2 투명전극패턴이 형성된 제2 패널 및
    상기 제1 패널 또는 제2 패널의 표면을 노출시키게 상기 제1 투명전극패턴 또는 제2 투명전극패턴 상에 소정 간격을 두고 복수 개가 배열된 천공(hole)들을 포함하여 형성된 터치스크린 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 패널 또는 제2 패널은 글라스, 폴리이미드, 아크릴 또는 피이티(PET)에서 하나 이상의 물질을 단층 또는 복수층으로 적층하여 형성된 터치스크린 패널.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 터치스크린 패널은 제1 패널 및 제2 패널 사이에 삽입된 광학용 투명 접착제층을 더 포함하는 터치스크린 패널.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 투명전극패턴 또는 제2 투명전극패턴은 인듐 주석 산화물(ITO), 불소가 도핑된 산화주석(FTO) 또는 인듐 징크 산화물(IZO)을 포함하는 터치스크린 패널.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 투명전극패턴은 상기 제1 패널의 표면을 노출시키는 천공들이 소정 간격을 두고 배열되어 있으면서 제1 방향을 따라 배열된 제1 센싱 패턴 및 인접하는 제1 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성된 터치스크린 패널.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제2 투명전극패턴은 상기 제2 패널의 표면을 노출시키는 천공들이 소정 간격을 두고 배열되어 있으면서 제2 방향을 따라 배열된 제2 센싱 패턴 및 인접하는 제1 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성된 터치스크린 패널.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 센싱 패턴 또는 제2 센싱 패턴은 삼각형, 사각형 또는 마름모꼴을 포함하는 다각형의 형상으로 형성된 터치스크린 패널.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 투명전극패턴 및 제2 투명전극패턴은 서로 직교하는 형상으로 배치된 터치스크린 패널.
  9. 제1 패널 및 제2 패널에 각각 제1 투명도전층 및 제2 투명도전층을 형성하는 단계
    상기 제1 및 제2 투명도전층을 패터닝하여 상기 제1 패널의 제1 방향을 따라 배치된 제1 투명전극패턴 및 상기 제2 패널의 제2 방향을 따라 배치된 제2 투명전극패턴을 형성하는 단계 및
    상기 제1 투명전극패턴을 선택적으로 제거하여 상기 제1 투명전극패턴 하부의 제1 패널의 표면을 노출시키는 천공(hole)들을 형성하고, 상기 제2 투명전극패턴을 선택적으로 제거하여 상기 제2 투명전극패턴 하부의 제2 패널의 표면을 노출시키는 천공들을 형성하는 단계를 포함하는 터치스크린 패널의 형성방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 천공들을 형성하는 단계 이후에,
    상기 천공들을 매립하는 투명의 비도전성 유전 매질층을 형성하는 단계를 더 포함하는 터치스크린 패널의 형성방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 제1 패널 또는 제2 패널은 글라스, 폴리이미드, 아크릴 또는 피이티(PET)에서 하나 이상의 물질을 단층 또는 복수층으로 적층하여 형성된 터치스크린 패널의 형성방법.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 제1 투명도전층 또는 제2 투명도전층은 인듐 주석 산화물(ITO), 불소가 도핑된 산화주석(FTO) 또는 인듐 징크 산화물(IZO)을 포함하는 터치스크린 패널의 형성방법.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 제1 투명전극패턴은 상기 제1 패널의 종 방향을 따라 배열된 제1 센싱 패턴 및 인접하는 제1 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성하고, 상기 제2 투명전극패턴은 상기 제2 패널의 횡 방향을 따라 배열된 제2 센싱 패턴 및 인접하는 제2 센싱 패턴들을 연결하는 연결부를 포함하여 형성하는 터치스크린 패널의 형성방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 센싱 패턴 또는 제2 센싱 패턴은 삼각형, 사각형 또는 마름모꼴을 포함하는 다각형의 형상으로 형성된 터치스크린 패널의 형성방법.
  15. 제9항에 있어서,
    상기 천공은 레이저를 조사하여 상기 제1 또는 제2 투명전극패턴을 선택적으로 제거하여 형성하는 터치스크린 패널의 형성방법.
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