KR20130132769A - Lithography system arranged on a foundation, and method for arranging a lithography system on said foundation - Google Patents

Lithography system arranged on a foundation, and method for arranging a lithography system on said foundation Download PDF

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KR20130132769A
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Abstract

본 발명은 리소그래피 시스템과 같이 기반(100) 상에 배치된, 예컨대 리소그래피 시스템이 배치된 공간의 바닥 일부에 배치된, 진동 차단이 요구되는 시스템 및 리소그래피 시스템을 기반 상에 배치하는 방법에 관한 것이다. 상기 리소그래피 시스템은 강성 또는 고체의 기저판(110) 위에 배치되고, 상기 기저판에는 리소그래피 시스템을 기반 상에 배치하기 위한 하나 이상의 스트럿(150)이 부착되며, 상기 하나 이상의 스트럿은 상기 기반과 마주하는 기저판의 일면에 배치되고, 상기 기저판에는 리소그래피 시스템의 진공 챔버 아래에 장비를 장착하기 위한 컷아웃(cut-out) 또는 개구가 마련된다. The present invention is directed to a system that requires vibration isolation and a method of placing on a foundation, such as a lithographic system, disposed on a foundation 100, such as a portion of the bottom of a space in which a lithographic system is placed. The lithographic system is disposed on a rigid or solid base plate 110, and the base plate is attached with one or more struts 150 for placing on the base of the lithography system, the one or more struts of the base plate facing the base. Placed on one side, the base plate is provided with a cut-out or opening for mounting the equipment under the vacuum chamber of the lithography system.

Figure P1020137006705
Figure P1020137006705

Description

기반 상에 배치된 리소그래피 시스템과 기반 상에 리소그래피 시스템을 배치하는 방법 {LITHOGRAPHY SYSTEM ARRANGED ON A FOUNDATION, AND METHOD FOR ARRANGING A LITHOGRAPHY SYSTEM ON SAID FOUNDATION}LITHOGRAPHY SYSTEM ARRANGED ON A FOUNDATION, AND METHOD FOR ARRANGING A LITHOGRAPHY SYSTEM ON SAID FOUNDATION

본 발명은 리소그래피 시스템과 같이 기반 상에 배치된 진동 차단이 요구되는 시스템에 관한 것이다. 또한 본 발명은 기반 상에 리소그래피 시스템과 같이 진동 차단이 요구되는 시스템을 배치하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a system requiring vibration isolation disposed on a foundation, such as a lithography system. The invention also relates to a method of placing a system on which a vibration isolation is required, such as a lithography system.

리소그래피 시스템, 예를 들어 마이크로 전자 장치(예컨대, 집적회로)의 생산에서, 정확도 및 정밀도가 극도로 요구된다. 리소그래피는 마이크로 전자 장치의 층을 형성하는데 이용되는 패턴을 반도체 웨이퍼와 같은 적합한 기판의 표면 상에 전이하는 것을 수반한다. 현대의 리소그래피 시스템은 패턴 요소가 기판 상에서 이미지화 또는 문자화되며 기판 상에서 마이크론 미만(sub-micron)의 선 너비(예컨대, 1 마이크로미터 미만)를 가지는 패턴을 제공할 수 있다. 높은 수준의 성능을 얻기 위해서는 리소그래피 시스템의 모든 패턴 전이 시스템, 배치 시스템, 그리고 측정 시스템이 자체의 절대 한계 성능에서 작동할 필요가 있다. 또한, 이러한 성능 수준은 리소그래피 시스템의 구성품들이 서로에 대해 정확하고 실질적으로 고정된 위치에서 장착될 것을 요한다. In the production of lithographic systems, for example microelectronic devices (eg integrated circuits), accuracy and precision are extremely demanded. Lithography involves transferring a pattern used to form a layer of a microelectronic device onto the surface of a suitable substrate, such as a semiconductor wafer. Modern lithography systems can provide a pattern in which the pattern elements are imaged or lettered on the substrate and have a sub-micron line width (eg, less than 1 micron) on the substrate. To achieve high levels of performance, every pattern transfer system, batch system, and measurement system in a lithography system needs to operate at its absolute limit performance. This level of performance also requires that the components of the lithographic system be mounted in an accurate and substantially fixed position relative to each other.

한가지 접근 방법은 시스템의 구성품들을 허니콤 타입의 장착 플랫폼과 같은 강성의 샌드위치형 기저판 위에 장착하는 것이다. 허니콤 구조는 경량이면서 고강성이며 진동이 없는 표면이 요구되는 영역에서 일반적으로 사용된다. 허니콤 기저판의 전형적인 구조는 허니콤 또는 웹 구조가 그 사이에 결합된 상판 및 하판을 포함한다. 이 구조는 플랫폼의 상판에 수직하게 가해지는 압축 하중에 노출될 때 상당한 강성을 제공하는 것으로 알려져 있고, 이는 판들 사이의 확실한 분리를 제공한다. 그러나, 이러한 허니콤 기저판은 매우 고가이며, 디자인이 복잡하고, 긴 주문 시간을 요한다. One approach is to mount the components of the system on a rigid sandwich base plate, such as a honeycomb-type mounting platform. Honeycomb structures are commonly used in areas where lightweight, high rigidity and vibration-free surfaces are required. Typical structures for honeycomb base plates include top and bottom plates with honeycomb or web structures bonded therebetween. This structure is known to provide significant stiffness when exposed to compressive loads applied perpendicular to the top plate of the platform, which provides a secure separation between the plates. However, such honeycomb baseplates are very expensive, complicated in design and require long ordering time.

다른 접근 방법은 구성품들을 두꺼우며 실질적으로 화강암 단일체인 평판 상에 장착하는 것이다. 그러나 리소그래피 시스템을 지지하기 위해 요구되는 강성을 얻기 위하여 이러한 평판은 비교적 두꺼울 필요가 있고(전형적으로 300mm 초과), 그 결과 극도로 무거워 지게 된다. Another approach is to mount the components on a plate that is thick and substantially granite monolithic. However, in order to achieve the stiffness required to support the lithographic system, these plates need to be relatively thick (typically greater than 300 mm) and as a result become extremely heavy.

기저판의 또 다른 양태는 기저판의 치수 및 관련된 부피이다. 리소그래피 시스템과 이의 기저판은 보통 잘 조율된(따라서, 고가인) 공장 홀(소위, 제조 공간)에 배치되기 때문에, 크고 육중한 기저판은 그러한 제조 공간에서 큰 부피를 차지하는 경향이 있다. Another aspect of the base plate is the dimension and associated volume of the base plate. Because lithographic systems and their base plates are usually arranged in well-tuned (and therefore expensive) factory halls (so-called manufacturing spaces), large and heavy base plates tend to occupy a large volume in such manufacturing spaces.

본 발명의 목적은 상술한 단점들 중 하나 이상을 적어도 부분적으로 제거하는 리소그래피 시스템용 기저 구조를 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a base structure for a lithographic system that at least partially eliminates one or more of the above mentioned disadvantages.

제1 양태에 따르면, 본 발명은 강성 또는 고체의 기저판 위에 배치된 리소그래피 시스템을 제공하고, 상기 기저판에는 리소그래피 시스템을 기반 상에 배치하기 위한 하나 이상의 스트럿이 부착되며, 하나 이상의 스트럿은 상기 기반과 마주하는 기저판의 일면에 배치되고, 상기 기저판에는 리소그래피 시스템의 진공 챔버 아래에 장비를 장착하기 위한 컷아웃(cut-out) 또는 개구가 마련된다. According to a first aspect, the present invention provides a lithographic system disposed on a rigid or solid base plate, wherein the base plate is attached with one or more struts for placing the lithographic system on the base, the one or more struts facing the base. The base plate is provided with a cut-out or opening for mounting the equipment under the vacuum chamber of the lithography system.

이러한 기저판의 장점은 기저판의 개구에 (또는 다른 말로, 기저판의 컷아웃에) 리소그래피 시스템의 장비가 적어도 부분적으로 마련되어, 시스템의 잔여부분에 다른 장치 또는 부분을 위한 더 많은 가용공간을 남겨둘 수 있다. 이러한 방식으로 리소그래피 시스템의 전체 부피는 감소할 수 있고, 따라서 제조 공간에서 공간을 절약할 수 있다. The advantage of such a base plate is that the equipment of the lithographic system is at least partially provided in the opening of the base plate (or in other words, the cutout of the base plate), leaving more available space for other devices or parts in the rest of the system. . In this way the total volume of the lithographic system can be reduced, thus saving space in the manufacturing space.

일 실시예에서, 상기 장비는 카메라와 같은 리소그래피 시스템의 측정 장비를 포함한다. In one embodiment, the equipment comprises measurement equipment of a lithographic system, such as a camera.

일 실시예에서, 리소그래피 시스템은 대상물 배치 장치를 포함하고, 상기 장비는 리소그래피 시스템의 대상물 배치 장치를 구동하기 위한 모터를 포함한다. In one embodiment, the lithographic system includes an object placement apparatus, and the equipment includes a motor for driving the object placement apparatus of the lithography system.

일 실시예에서, 상기 장비는 기저판을 통해, 그리고 바람직하게는 기저판 너머로도 연장된다. 일 실시예에서, 상기 장비는 기반을 마주하는 기저판의 일면으로부터 소정 거리만큼 리소그래피 시스템으로부터 연장되고, 상기 거리는 스트럿이 기반을 마주하고 있는 기저판의 일면으로부터 연장된 거리와 실질적으로 동일하다. 통상적으로 기저판과 바닥 사이에 공간이 제공되고, 이 공간의 높이는 실질적으로 스트럿의 높이에 의해 형성된다. 상기 공간은 보통 리소그래피 시스템의 어떤 부분으로도 사용되지 않는다. 본 발명의 이러한 실시예에 있어서, 상기 공간은 기저판으로부터 연장하는 (그리고 바람직하게는 기저판을 통해 연장하는) 임의의 장치에 의해 사용될 수 있다. In one embodiment, the equipment extends through the base plate and preferably beyond the base plate. In one embodiment, the equipment extends from the lithographic system by a distance from one side of the base plate facing the base, the distance being substantially equal to the distance extended from one side of the base plate on which the struts face the base. Typically a space is provided between the base plate and the floor, the height of which is substantially formed by the height of the struts. The space is usually not used as part of the lithography system. In this embodiment of the invention, the space can be used by any device that extends from the base plate (and preferably extends through the base plate).

일 실시예에서, 리소그래피 시스템은 진공 챔버를 포함하고, 리소그래피 시스템과 마주하는 상기 장비의 일면은 진공 챔버 내측에 배치된다. In one embodiment, the lithographic system includes a vacuum chamber, and one side of the equipment facing the lithography system is disposed inside the vacuum chamber.

일 실시예에서, 리소그래피 시스템은 중앙 선 또는 광학 축선을 가진 투사 컬럼을 더 포함하고, 상기 장비, 특히 측정 시스템은 투사 칼럼의 중앙 선 또는 광학 축선과 실질적으로 동일선 상에 있다. 상기 장비, 구체적으로 카메라는 리소그래피 시스템의 패터닝 빔(예컨대, 광선 또는 전자 빔과 같은 하전 입자 빔)의 특성을 분석하는데 사용될 수 있기 때문에, 카메라를 투사 칼럼의 중앙 선 또는 광학 축선에 대해 정렬시키는 것이 유리하고, 투사 칼럼은 웨이퍼와 같은 대상물에 패터닝 빔을 투사한다. In one embodiment, the lithographic system further comprises a projection column having a center line or optical axis, wherein the instrument, in particular the measurement system, is substantially collinear with the center line or optical axis of the projection column. Since the equipment, specifically the camera, can be used to characterize the patterning beam of a lithography system (e.g., a charged particle beam such as a light beam or electron beam), aligning the camera with respect to the center line or optical axis of the projection column Advantageously, the projection column projects the patterning beam onto an object such as a wafer.

일 실시예에서, 기저판과 스트럿은 알루미늄으로 만들어지고, 바람직하게는 기저판과 스트럿은 일체로 형성된다. 이 실시예의 장점은 스트럿을 기저판 상에 배치할 때 배치 오차를 방지한다는 것이다. In one embodiment, the base plate and struts are made of aluminum, preferably the base plate and struts are integrally formed. An advantage of this embodiment is that it prevents placement errors when placing the struts on the base plate.

일 실시예에서, 기저판 및/또는 스트럿은 단일 구조물을 형성한다. In one embodiment, the base plate and / or struts form a unitary structure.

일 실시예에서, 기저판은 화강암 판 또는 알루미늄 판을 포함한다. In one embodiment, the base plate comprises a granite plate or an aluminum plate.

일 실시예에서, 기저판에는 리소그래피 시스템을 기저판 상에 장착하기 위한 장착 부재가 상측에 마련된다. 일 실시예에서, 적어도 하나의 스트럿은 하나의 장착 부재의 아래에 배치된다. In one embodiment, the base plate is provided with a mounting member thereon for mounting the lithography system on the base plate. In one embodiment, at least one strut is disposed under one mounting member.

일 실시예에서, 기저판은 자체 지지형 기저판이다. In one embodiment, the base plate is a self supporting base plate.

일 실시예에서, 기저판은 기반 및/또는 스트럿 상에 분리 가능하도록 배치된다. In one embodiment, the base plate is disposed detachably on the base and / or strut.

일 실시예에서, 기저판에는 세 개의 스트럿이 마련된다. In one embodiment, the base plate is provided with three struts.

일 실시예에서, 스트럿은 기반에 수지 재료에 의해 고정적으로 연결된다. In one embodiment, the struts are fixedly connected by resin material to the base.

일 실시예에서, 하나 이상의 스트럿이 경화된 수지 재료에 적어도 부분적으로 잠긴다. In one embodiment, one or more struts are at least partially submerged in the cured resin material.

일 실시예에서, 수지 재료는 경화 과정에서 수축이 적거나 실질적으로 없는 경화성 수지 재료이다. 일 실시예에서, 상기 수축은 1퍼센트보다 작다. In one embodiment, the resin material is a curable resin material with little or no shrinkage during the curing process. In one embodiment, the shrinkage is less than 1 percent.

일 실시예에서, 경화성 수지 재료는 실질적으로 비수축성인 에폭시를 포함한다. In one embodiment, the curable resin material comprises an epoxy that is substantially non-shrinkable.

일 실시예에서, 에폭시는 실질적으로 용제가 없거나 최소량의 용제를 포함한다. In one embodiment, the epoxy is substantially free of solvent or includes a minimum amount of solvent.

일 실시예에서, 경화성 수지 재료는 접착제를 포함한다. In one embodiment, the curable resin material includes an adhesive.

일 실시예에서, 기반은 기반판을 포함한다. 일 실시예에서, 기반판은 콘크리트 기반판을 포함한다. In one embodiment, the base comprises a base plate. In one embodiment, the base plate comprises a concrete base plate.

제2 양태에 따르면, 본 발명은 기반 상에 배치된 리소그래피 시스템을 제공하고,According to a second aspect, the present invention provides a lithographic system disposed on a foundation,

기반에는 하나 이상의 스트럿이 부착된 자체 지지형의 기저판이 마련되며, 하나 이상의 스트럿은 기반과 마주하는 기저판의 일면에 부착되고, 하나 이상의 스트럿은 수지 재료에 의해 기반에 고정적으로 연결되며, 그리고The base is provided with a self-supporting base plate with one or more struts attached, one or more struts attached to one side of the base plate facing the base, one or more struts fixedly connected to the base by resin material, and

리소그래피 시스템은 기저판 위에 배치된다. The lithographic system is disposed on the base plate.

제3 양태에 따르면, 본 발명은 상술한 바와 같이 리소그래피 시스템에서 사용하기 위한 기저판을 제공한다. According to a third aspect, the present invention provides a base plate for use in a lithography system as described above.

제4 양태에 따르면, 본 발명은 진동 차단형 리소그래피 시스템을 지지하는 기저판을 제공하고, 기저판은 이용시 기반과 마주하는 저면을 포함하며, 저면은 스트럿을 구비하거나 적어도 나사 또는 볼트로 스트럿을 수용하도록 구성되고, 스트럿은 콘크리트 기반 블록과 같은 기반 상에 기저판을 배치하도록 위치한다. According to a fourth aspect, the present invention provides a base plate for supporting a vibration-blocking lithography system, the base plate comprising a bottom facing the base in use, the bottom having a strut or configured to receive the strut with at least a screw or bolt. And the struts are positioned to place the base plate on a foundation such as a concrete foundation block.

일 실시예에서, 스트럿 및 기저판은 일체로 형성된다. 그 대안으로서, 일 실시예에서, 스트럿은 나사 또는 볼트에 의해 기저판에 분리 가능하도록 연결된다.In one embodiment, the struts and base plate are integrally formed. As an alternative, in one embodiment, the struts are detachably connected to the base plate by screws or bolts.

일 실시예에서, 기저판은 이용시 리소그래피 시스템과 마주하는 상면을 포함하고, 상기 상면은 하나 이상의 장착 부재를 포함하거나 적어도 상기 상면에 하나 이상의 장착 부재가 부착된다. In one embodiment, the base plate comprises a top surface facing the lithographic system in use, the top surface comprising one or more mounting members or at least one mounting member attached to the top surface.

일 실시예에서, 리소그래피 시스템은 바닥 벽을 가진 진공 챔버를 포함하고, 기저판은 진공 챔버의 바닥 벽의 적어도 일부이다. 일 실시예에서, 리소그래피 시스템은 바닥 벽을 가진 진공 챔버를 포함하고, 기저판은 상기 진공 챔버의 바닥 벽이다. In one embodiment, the lithographic system includes a vacuum chamber having a bottom wall, and the base plate is at least part of the bottom wall of the vacuum chamber. In one embodiment, the lithographic system comprises a vacuum chamber having a bottom wall and the base plate is the bottom wall of the vacuum chamber.

일 실시예에서, 스트럿은 기저판을 기반에 고정적으로 연결한다. 본 발명의 기저판은 진동 차단이 요구되는 시스템을 지지하기 위한 충분한 강성에 도달하도록 더 얇게 유지될 수 있다. 이러한 얇은 기저판의 장점은 재료 및 운송 비용을 떠나서 더 빠르게 생산될 수 있고 더 용이하게 운송될 수 있다는 것이다. 일반적으로 요구되는 물류 준비가 덜 복잡해질수록, 예컨대 기저판 생산이 가능한 장소뿐만 아니라 운송 수단의 선택의 폭이 상당히 확대된다. In one embodiment, the struts securely connect the base plate to the foundation. The baseplate of the present invention can be kept thinner to reach sufficient stiffness to support systems where vibration isolation is required. The advantage of this thin base plate is that it can be produced faster and transported more easily, regardless of material and transportation costs. In general, the less complex the logistics preparation required, the greater the choice of means of transport, as well as the locations where base plate production is possible, for example.

일 실시예에서, 스트럿은 기저판에 분리 가능하도록 연결된다. 이러한 실시예에서, 필요하다면, 예컨대 어떤 시스템을 업그레이드하는 경우, 기저판은 쉽게 그리고 비용 효율적으로 교체될 수 있다. 또한, 기반 시스템의 비교적 적은 재료만이 이러한 업데이트에서 희생될 필요가 있다. In one embodiment, the struts are detachably connected to the base plate. In this embodiment, the base plate can be replaced easily and cost-effectively if necessary, for example when upgrading a system. In addition, only a relatively small material of the foundation system needs to be sacrificed in this update.

기저판이 마련되고 그리고/또는 운송되는 동안, 기반이 마련될 수 있고 그리고/또는 스트럿이 기반에 연결될 수 있다는 것도 분리 가능한 스트럿의 추가 장점이다. 기반을 마련하기 위해, 경량의, 예컨대 허니콤 보강된 모형판이 원래의 기저판 대신에 사용될 수 있다. 기반 상에 스트럿을 장착하는 것은 기저판 없이 가능하다. 기저판이 도착했을 때, 기저판은 기반에 고정된 스트럿 상에 즉시 배치될 수 있다. It is a further advantage of the detachable struts that the base can be prepared and / or the struts can be connected to the base while the base plate is being prepared and / or transported. To lay the foundation, a lightweight, eg honeycomb reinforced model plate may be used in place of the original base plate. It is possible to mount the struts on the base without the base plate. When the base plate arrives, the base plate can be immediately placed on the strut fixed to the base.

일 실시예에서, 기저판은 자체 지지형의 기저판이다. In one embodiment, the base plate is a self supporting base plate.

일 실시예에서, 기저판은 이용시 리소그래피 시스템과 마주하는 상면을 포함하고, 이 상면은 하나 이상의 장착 부재를 포함하거나 적어도 상면에 하나 이상의 장착 부재가 부착되도록 구성되고, 장착 부재는 기저판과 리소그래피 시스템 사이에 연결될 수 있다. 리소그래피 시스템과 같은 시스템을 기저판에 장착하기 위해, 기저판의 상면에는 장착 부재가 마련된다. In one embodiment, the base plate comprises a top surface facing the lithography system in use, the top surface comprising one or more mounting members or configured to attach at least one mounting member to at least the top surface, the mounting member being between the base plate and the lithography system. Can be connected. In order to mount a system such as a lithography system to the base plate, a mounting member is provided on the top surface of the base plate.

일 실시예에서, 장착 부재 중 적어도 하나는 스트럿 중 적어도 하나와 적어도 부분적으로 일직선을 이룬다. 일 실시예에서 적어도 하나의 스트럿은 하나의 장착 부재 밑에 배치된다. In one embodiment, at least one of the mounting members is at least partially in line with at least one of the struts. In one embodiment at least one strut is disposed under one mounting member.

일 실시예에서, 스트럿 중 적어도 하나에는 상기 기저판으로부터 멀어지는 방향을 향하는 면에 앵커링 부재가 마련된다. In one embodiment, at least one of the struts is provided with an anchoring member on a surface facing away from the base plate.

일 실시예에서, 기저판에는 보어가 마련되고, 이 보어에는 기저판에 스트럿 및/또는 장착 부재를 연결하기 위한 나사형 인서트가 고정적으로 수용된다. In one embodiment, the base plate is provided with a bore which is fixedly received with a threaded insert for connecting the struts and / or mounting members to the base plate.

일 실시예에서, 기저판은 화강암 판을 포함한다. In one embodiment, the base plate comprises a granite plate.

제5 양태에 따르면, 본 발명은 리소그래피 시스템과 같이 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법을 제공하고, 이 방법은,According to a fifth aspect, the present invention provides a method of placing a system on a foundation, such as a lithography system, in which vibration isolation is required, the method comprising:

하나 이상의 스트럿이 부착된 자체 지지형의 강성 기저판을 제공하는 단계로서, 상기 하나 이상의 스트럿은 기반과 마주하는 상기 기저판의 일면에 부착된 것인 기저판을 제공하는 단계;Providing a self-supporting rigid base plate having one or more struts attached thereto, wherein the one or more struts are attached to one side of the base plate facing the base;

스트럿을 구비한 상기 기저판을 상기 기반 상에 배치하는 단계;Placing the base plate with struts on the base;

기저판과 기반 사이의 거리를 조절하기 위한 레벨링 수단을 제공하는 단계;Providing leveling means for adjusting the distance between the base plate and the base;

요구되는 기저판의 높이를 얻기 위하여 상기 기저판과 기반 사이의 거리를 조절하는 단계;Adjusting the distance between the base plate and the base to obtain the required height of the base plate;

스트럿과 기반 사이에 경화성 수지 재료를 제공하는 단계;Providing a curable resin material between the strut and the base;

기반과 스트럿 사이에 강성 연결을 제공하기 위하여 상기 수지 재료를 경화시키는 단계; 및Curing the resin material to provide a rigid connection between the foundation and the struts; And

상기 기저판 위에 상기 시스템을 배치하는 단계를 포함한다. Disposing the system on the base plate.

이 방법을 이용하여, 요구되는 강성을 얻기 위해 기반이 기저판의 강화부로서 사용되는 기저 구조가 제공된다. 고 정밀 환경에서 기저판의 강화부로서 기반이 사용될 수 있도록 구현함에 있어서, 본 발명의 기저 구조의 강성 기저판은 단지 자체 지지형, 즉, 기저판이 그 자체의 무게로 인해 실질적으로 휘어지지 않을 만큼 충분한 강성을 가지기만 하면 된다. 본 특허 출원에서, 기반은 리소그래피 시스템의 하중을 지지하는 건물의 하중 지지부이고, 예컨대 건물의 가장 낮은 하중 지지부 또는 리소그래피 시스템이 배치된 공간의 바닥 일부와 같은 것이다. Using this method, a base structure is provided in which the base is used as the reinforcement of the base plate to obtain the required rigidity. In realizing that the foundation can be used as a reinforcement of the base plate in a high precision environment, the rigid base plate of the base structure of the present invention is only self-supporting, that is, sufficient rigidity that the base plate does not substantially bend due to its weight. You just need to have In this patent application, the base is the load support of a building that supports the load of the lithographic system, such as the lowest load support of the building or the bottom part of the space in which the lithography system is placed.

강성 기저판은 자체적으로 전체 리소그래피 시스템을 지지할 만큼 충분한 강성을 필요로하지 않기 때문에, 기저판은 비교적 간단한 디자인으로 이루어질 수 있다. 이러한 기저판은 과도한 (해외) 운송 비용 없이 리소그래피 시스템의 고객에 의해 주문되어 사전에 설치될 수 있다. Since the rigid base plate does not itself need sufficient rigidity to support the entire lithography system, the base plate can be made of a relatively simple design. Such base plates can be ordered and installed in advance by the customers of the lithography system without excessive (overseas) shipping costs.

경화성 수지 재료가 기반과 강성 기저판의 스트럿 사이의 강성의 연결을 제공하는 데 사용되기 때문에, 본 발명의 방법은 기저판을 기반의 거칠고 단순한 상면에 올바르며 강화시키는 방식으로 고정하게 해준다. 레벨링 수단은 기반의 평탄하며 수평한 평면으로부터 벗어난 어떤 편차도 바로잡을 수 있다. 또한, 경화성 수지 재료는 스트럿과 기반 사이의 어떤 공간도 채우고, 경화 후에 강성 기저판 및 상기 기저판에 배치된 시스템을 지지하는데 충분한 강도를 제공한다. Since the curable resin material is used to provide a rigid connection between the base and the strut of the rigid base plate, the method of the present invention allows the base plate to be fixed in a correct and strengthening manner on the rough and simple top surface of the base. The leveling means can correct any deviations from the flat, horizontal plane of the foundation. In addition, the curable resin material fills any space between the strut and the base and provides sufficient strength to support the rigid base plate and the system disposed on the base plate after curing.

일 실시예에서, 상기 방법은 레벨링 수단을 제거하는 단계를 더 포함한다. 따라서, 레벨링 수단은 강성 기저판을 기반에 배치하는 과정 및 기저판의 스트럿을 기반에 경화성 수지 재료로 연결하는 과정 중에만 필요하다. 경화 후 레벨링 수단은 제거될 수 있다. 이 레벨링 수단은 예컨대, 하나 이상의 유압 리프팅 잭, 스크류잭, 또는 리프팅 스크류를 포함한다. In one embodiment, the method further comprises removing the leveling means. Therefore, the leveling means is only necessary during the process of arranging the rigid base plate on the basis and connecting the struts of the base plate with the curable resin material on the base. After curing the leveling means can be removed. This leveling means comprises, for example, one or more hydraulic lifting jacks, screwjacks, or lifting screws.

일 실시예에서, 상기 방법은 In one embodiment,

기저판에 대한 기반 영역을 둘러싼 림을 기반 상에 제공하는 단계; 및Providing on the foundation a rim surrounding the foundation region for the base plate; And

경화성 수지 재료를 기반 영역 상에 경화성 수지 재료의 풀(pool)로서 제공하는 단계를 더 포함하고, 하나 이상의 스트럿은 경화성 수지 재료의 풀과 접촉하며, 모든 스트럿이 경화성 수지의 풀과 완전히 접촉하는 것이 바람직하다. Providing the curable resin material as a pool of curable resin material on the base region, wherein at least one strut is in contact with the pool of curable resin material, wherein all struts are in full contact with the pool of curable resin material. desirable.

수지 재료가 경화된 후, 수지 재료는 림 안의 기반 영역을 커버하는, 실질적으로 연속하는 수지 재료의 상층을 제공한다. 이 수지 재료의 상층은 넓은 접착 표면을 제공하고, 따라서 기반에 대한 우수한 접착성을 제공한다. After the resin material has cured, the resin material provides an upper layer of substantially continuous resin material that covers the base area within the rim. The upper layer of this resin material provides a wide adhesion surface, and thus provides good adhesion to the foundation.

일 실시예에서, 하나 이상의 스트럿은 경화성 수지 재료의 풀에 적어도 부분적으로 잠긴다. 이는 스트럿과 수지 재료의 상층 사이에 기계적 결합을 제공한다.In one embodiment, the one or more struts are at least partially submerged in the pool of curable resin material. This provides a mechanical bond between the strut and the top layer of resin material.

일 실시예에서, 경화성 수지 재료는 접착제를 포함한다. 이는 스트럿과 수지 재료의 상층 사이에 화학적 결합을 제공한다. In one embodiment, the curable resin material includes an adhesive. This provides a chemical bond between the strut and the top layer of resin material.

바람직한 일 실시예에서, 하나 이상의 스트럿은 접착제의 풀(pool)에 적어도 부분적으로 잠기고, 이는 스트럿과 상층 사이에 기계적 결합 및 화학적 결합을 모두 제공한다. In one preferred embodiment, one or more struts are at least partially submerged in a pool of adhesive, which provides both mechanical and chemical bonds between the struts and the top layer.

경화성 수지의 경화 후에 림은 제거될 수 있으나, 장식용 림을 사용하는 것이 바람직하다. 림이 경화성 수지 재료에 달라붙는 경향이 있기 때문에, 장식용 림을 사용함으로써 림을 제거하는 어려운 과정이 필요 없게 된다. The rim can be removed after curing of the curable resin, but it is preferable to use a decorative rim. Since the rim tends to stick to the curable resin material, the use of decorative rims eliminates the difficult process of removing the rims.

일 실시예에서, 경화성 수지 재료는 경화 과정에서 수축이 적거나 실질적으로 없는 재료이다. 일 실시예에서, 상기 수축은 1 퍼센트 보다 작다. 낮은 수축률의 경화성 수지 재료를 사용하는 것이 수지 재료의 경화 전, 경화 과정 중, 그리고 경화 후의 강성 기저판과 기반 사이의 절대 위치를 적어도 실질적으로 유지시킨다. 또한, 낮은 수축률의 수지 재료를 사용하는 것은 경화 과정 중에 수지 재료 내에 응력이 형성되는 것을 방지한다. In one embodiment, the curable resin material is a material with little or no shrinkage during the curing process. In one embodiment, the shrinkage is less than 1 percent. The use of a low shrinkage curable resin material maintains at least substantially the absolute position between the rigid base plate and the base before curing, during the curing process, and after curing of the resin material. In addition, the use of a low shrinkage resin material prevents stress from forming in the resin material during the curing process.

일 실시예에서, 경화성 수지 재료는 실질적으로 비수축성인 에폭시를 포함한다. 일 실시예에서, 상기 에폭시는 실질적으로 용제가 없거나 최소량의 용제를 포함한다. In one embodiment, the curable resin material comprises an epoxy that is substantially non-shrinkable. In one embodiment, the epoxy is substantially free of solvent or includes a minimum amount of solvent.

일 실시예에서, 하나 이상의 스트럿이 기저판에 분리 가능하도록 연결된다. 이 실시예는 스트럿이 기반에 연결 및/또는 결합되면 기저판을 교체할 수 있게 한다. 분리 가능한 연결은 용이하면서 비교적 저렴하게 시설을 업그레이드할 수 있게 해준다. In one embodiment, one or more struts are detachably connected to the base plate. This embodiment allows the base plate to be replaced when the struts are connected and / or coupled to the foundation. Detachable connections make upgrading the facility easy and relatively inexpensive.

기저판의 저면은 실질적으로 편평한 것이 바람직하다. 이러한 편평한 저면을 구비한 기저판은 또 다른 기저판과 쉽게 교환될 수 있다. 또한, 기저판의 상면도 실질적으로 편평한 것이 바람직하다. The bottom of the base plate is preferably substantially flat. A base plate with such a flat bottom can be easily exchanged with another base plate. It is also preferable that the upper surface of the base plate is also substantially flat.

일 실시예에서, 기반은 기반판 또는 기반블록을 포함한다. 일 실시예에서, 기반판 또는 기반블록은 콘크리트 기반판 또는 기반블록이거나, 강화 콘크리트 기반판 또는 기반블록이다. 이러한 기반판 또는 기반블록은 현장에서 제조될 수 있다. In one embodiment, the base includes a base plate or base block. In one embodiment, the foundation plate or foundation block is a concrete foundation plate or foundation block, or a reinforced concrete foundation plate or foundation block. Such foundation plates or foundation blocks can be manufactured in the field.

일 실시예에서, 기저판은 화강암 판을 포함한다. 기저판은 자체 지지형이기만 하면 되기 때문에, 화강암 판은 비교적 얇고, 구체적으로 150 mm 이하, 바람직하게는 100 mm 이하일 수 있다. 이러한 비교적 얇은 화강암 기저판은 현지(예컨대 고객의 위치에서 가까운 곳)에서 주문할 수 있고, 과도한 운송 비용 없이 기반에 사전 설치될 수 있다. In one embodiment, the base plate comprises a granite plate. Since the base plate only needs to be self-supporting, the granite plate may be relatively thin and specifically 150 mm or less, preferably 100 mm or less. These relatively thin granite baseplates can be ordered locally (eg close to the customer's location) and can be pre-installed on the foundation without excessive shipping costs.

일 실시예에서, 기저판의 상면에는 장착 부재가 마련되고, 이 장착 부재는 기저판 상에 리소그래피 시스템을 장착하기 위한 것이다. 경계부 또는 연결부 같은 장착 부재는 리소그래피 시스템의 지지 부재의 위치에 대응하여 기저판 상에 정확히 배치될 수 있고, 이는 리소그래피 시스템을 기저판 상에 빠르게 설치할 수 있게 해준다. In one embodiment, a mounting member is provided on the top surface of the base plate, which is for mounting the lithography system on the base plate. Mounting members, such as borders or connections, can be precisely placed on the base plate in correspondence with the position of the support members of the lithographic system, which makes it possible to quickly install the lithographic system on the base plate.

일 실시예에서, 적어도 하나의 스트럿은 하나의 장착 부재 아래에, 바람직하게는 하나의 장착 부재의 중앙 선 아래에 배치된다. 이는 장착 부재에 의해 지지되는 리소그래피 시스템의 무게를 적어도 하나의 스트럿을 통해 기반에 직접 전달하도록 해준다. In one embodiment, at least one strut is arranged below one mounting member, preferably below the center line of one mounting member. This allows the weight of the lithographic system supported by the mounting member to be transferred directly to the base via at least one strut.

제6 양태에 따르면, 본 발명은 리소그래피 시스템과 같이 진동 차단이 요구되는 시스템을 지지하기 위한 상술한 기저판의 용도에 관한 것이다. 진동 차단이 요구되는 시스템의 다른 예는 전자 현미경 또는 원자력현미경(atomic force microscope)과 같은 현미경 시스템이다. According to a sixth aspect, the present invention relates to the use of a base plate as described above for supporting a system in which vibration isolation is required, such as a lithography system. Another example of a system in which vibration isolation is required is a microscope system such as an electron microscope or an atomic force microscope.

본 명세서에 기재하고 도시한 다양한 양태 및 특징은 가능하다면 어디든 개별적으로 적용될 수 있다. 이러한 각각의 양태, 특히 종속항에 기재된 양태나 특징은 분할 출원의 대상이 될 수 있다. The various aspects and features described and illustrated herein can be applied individually wherever possible. Each of these aspects, in particular the aspects or features described in the dependent claims, may be the subject of a split application.

첨부된 도면에 도시한 예시적인 실시예에 기초하여 본 발명을 설명한다.
도 1은 본 발명의 강성 기저판의 개략적인 대표도.
도 2 내지 도 5는 기반, 특히 바닥 영역 상에 리소그래피 시스템을 배치하는 방법의 제1 예시의 다양한 단계들을 나타내는 개략적인 측면도.
도 6 내지 도 8은 기반, 특히 바닥 영역 상에 리소그래피 시스템을 배치하는 방법의 제2 예시의 다양한 단계들을 나타내는 개략적인 측면도.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 시스템의 개략적인 단면도. The invention is described based on the exemplary embodiments shown in the accompanying drawings.
1 is a schematic representation of a rigid base plate of the present invention.
2-5 are schematic side views illustrating various steps of a first example of a method of placing a lithographic system on a foundation, in particular a floor area.
6-8 are schematic side views illustrating various steps of a second example of a method of placing a lithographic system on a foundation, in particular a floor area.
9 is a schematic cross-sectional view of a lithographic system according to an embodiment of the invention.

도 1은 기반 상에 리소그래피 시스템을 배치하기 위한 자체 지지형의 강성 기저판(1)을 도시한다. 예를 들어, 기저판(1)은 비교적 얇은 허니콤 타입의 장착 플랫폼을 포함할 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 기저판(1)은 화강암 단일체인 비교적 얇은 판을 포함할 수 있다. 기저판(1)에는 8개의 스트럿(5)이 마련되고, 이 스트럿은 기저판의 저면(2)에 부착되어, 사용시 기반과 마주한다. 1 shows a self-supporting rigid base plate 1 for placing a lithographic system on a foundation. For example, the base plate 1 may comprise a mounting platform of a relatively thin honeycomb type. Preferably, however, the base plate 1 may comprise a relatively thin plate which is a granite monolith. The base plate 1 is provided with eight struts 5, which are attached to the bottom face 2 of the base plate, facing the base in use.

스트럿(5)은 나사 또는 볼트에 의해 저면(2)에 분리 가능하게 부착된다. 각각의 스트럿(5)은 예컨대 10cm 높이의 대체로 편평한 측벽을 가진 대체로 사각형인 실린더를 포함한다. 강한 그리고/또는 견고한 스트럿을 제공하기 위하여 프로파일링 또는 몰딩된 벽 재료를 이용하여 스트럿(5)들을 생산한다. 각각의 스트럿(5)의 상단과 하단에는 플랜지(6)가 마련된다. 플랜지(6)는 스트럿(5)의 측벽의 바깥면 너머로 대략 5cm 연장된다. 상단의 플랜지(도시되지 않음)와 하단의 플랜지(6) 사이에 강화 리브(7)가 마련된다. 강화 리브(7)는 예컨대, 용접에 의하여, 상부 및 하부 플랜지와, 측벽들 중 하나에 고정적으로 연결된다. 사용시 리브(7)는 상부 및 하부 플랜지(6) 사이에서 대체로 수직하게 연장된다. The struts 5 are detachably attached to the bottom face 2 by screws or bolts. Each strut 5 comprises a generally rectangular cylinder with generally flat sidewalls, for example 10 cm high. Struts 5 are produced using profiled or molded wall material to provide a strong and / or rigid strut. Flange 6 is provided at the top and bottom of each strut 5. The flange 6 extends approximately 5 cm beyond the outer surface of the side wall of the strut 5. A reinforcing rib 7 is provided between the upper flange (not shown) and the lower flange 6. The reinforcing ribs 7 are fixedly connected to the upper and lower flanges and to one of the side walls, for example by welding. In use the ribs 7 extend generally vertically between the upper and lower flanges 6.

하부 플랜지(6)는, 아래에 더욱 상세하게 설명하는 바와 같이, 스트럿(5)을 기반에 연결하는 앵커링 부재로서 사용된다. The lower flange 6 is used as an anchoring member for connecting the strut 5 to the foundation, as described in more detail below.

리소그래피 시스템 또는 그 일부는 기저판(1)의 상면(3) 상에 바로 장착될 수 있다. 도 1에 도시한 실시예에서, 기저판(1)의 상면(3)에는 리소그래피 시스템, 특히 이 시스템의 진공 챔버를 기저판(1) 상에 장착하기 위한 장착 부재(4)가 마련된다. The lithographic system or part thereof may be mounted directly on the top surface 3 of the base plate 1. In the embodiment shown in FIG. 1, the upper surface 3 of the base plate 1 is provided with a mounting member 4 for mounting the lithographic system, in particular the vacuum chamber of the system, on the base plate 1.

도 1에 도시한 바와 같이, 장착 부재(4)는 기저판(1)의 일부 상에 마련된다. 이 부분에는 시스템의 진공 챔버 아래의 장비, 특히 카메라와 같은 측정 장비를 장착하기 위한 공간을 제공하는 개구 또는 컷아웃(cut-out)(8)도 마련된다. 종래 기술의 기저판에는, 이러한 컷아웃(8)이 만들어질 수 없었는데, 그 이유는 컷아웃이 기저판의 강성을 상당히 약화시키기 때문이다. 기반 또는 바닥이 기저판(1)용 보강부로서 사용되는 본 발명의 기저판(1)에서는 컷아웃(8)이 기반 또는 바닥과 연결된 기저판(1)의 강성을 실질적으로 약화시키지 않는다. As shown in FIG. 1, the mounting member 4 is provided on a part of the base plate 1. This part is also provided with an opening or cut-out 8 which provides space for mounting equipment below the vacuum chamber of the system, in particular measuring equipment such as cameras. In a base plate of the prior art, such a cutout 8 could not be made, because the cutout significantly weakened the rigidity of the base plate. In the base plate 1 of the present invention in which the base or the bottom is used as a reinforcement for the base plate 1, the cutout 8 does not substantially weaken the rigidity of the base plate 1 connected with the base or the bottom.

기반 또는 바닥에 리소그래피 시스템의 진공 챔버의 무게를 인가하기 위하여 하나 이상의 장착 부재(4)가 하나의 스트럿(5) 위에 배치된다. One or more mounting members 4 are arranged on one strut 5 to apply the weight of the vacuum chamber of the lithographic system to the base or the bottom.

도 1에서 도시한 바와 같이, 리소그래피 시스템의 진공 챔버를 장착하기 위한 장착 부재(4)가 마련된 기저판(1)의 부분 아래에 있는 스트럿(5)은 다른 스트럿 보다 크다. 이 예시에서, 10개의 장착 부재(4)가 4개의 큰 스트럿(5) 위에 균등하게 배치된다. As shown in FIG. 1, the strut 5 below the portion of the base plate 1 provided with the mounting member 4 for mounting the vacuum chamber of the lithographic system is larger than the other struts. In this example, ten mounting members 4 are evenly arranged over four large struts 5.

도 1에서 도시한 바와 같이, 기저판(1)의 제2 부분(9)에는 장착 부재(4)가 마련되지 않는다. 이 부분(9)은 웨이퍼 취급 장비 및 액츄에이터를 장착하는데 이용된다. As shown in FIG. 1, the mounting member 4 is not provided in the second portion 9 of the base plate 1. This portion 9 is used to mount wafer handling equipment and actuators.

리소그래피 시스템을 설치하기 전, 시스템이 설치되어야 하는 장소에 상술한 기저판(1)이 배치된다. 스트럿(15)을 구비한 기저판(11)은 실질적으로 주변 바닥(30)으로부터 분리된 기반(10) 상에 배치된다. 이는 바닥(30) 내에서 또는 바닥(30) 상에서의 진동이 기반(10)에 도달하여 기저판(11)으로 전달되는 것을 적어도 부분적으로 막을 수 있다. Before installing the lithographic system, the base plate 1 described above is placed at the place where the system is to be installed. The base plate 11 with the struts 15 is disposed on the base 10 substantially separated from the peripheral bottom 30. This may at least partially prevent vibrations in or on the floor 30 reaching the base 10 and being transmitted to the base plate 11.

도 2에 도시한 바와 같이, 하나 이상의 스트럿(15)이 부착된 강성의 자체 지지형 기저판(11)이 마련된다. 스트럿(15)의 상단에는 상부 플랜지(18)가 마련되고, 이 상부 플랜지(18)는 기반(10)과 마주하는 기저판(11)의 편평한 저면(12)에 부착된다. 스트럿(15)의 하단에는 앵커링 부재로 작동하는 하부 플랜지(16)가 마련된다. 도 2에 도시한 바와 같이, 기저판(11)의 스트럿(15)은 기반(10) 상에 배치된다. 또한 상면(13)은 장착 부재(14)를 포함한다. As shown in FIG. 2, a rigid self-supporting base plate 11 to which one or more struts 15 is attached is provided. An upper flange 18 is provided at the top of the strut 15, which is attached to the flat bottom 12 of the base plate 11 facing the base 10. At the bottom of the strut 15 is provided a lower flange 16 which acts as an anchoring member. As shown in FIG. 2, the struts 15 of the base plate 11 are disposed on the base 10. The upper surface 13 also includes a mounting member 14.

후속하여, 기저판(11)과 기반(10) 사이의 간격을 조절하기 위한 레벨링 수단(17), 특히 스크류 잭 또는 리프팅 스크류가 마련된다. 도 3에 도시한 바와 같이, 레벨링 수단(17)은 블록(19)의 상부에 위치한다. 레벨링 수단(17)은 요구되는 기저판(11)의 높이를 얻기 위하여 기저판(11)과 기반(10) 사이의 간격을 조절하는 데 제공될 수 있다. Subsequently, there are provided leveling means 17, in particular screw jacks or lifting screws, for adjusting the distance between the base plate 11 and the base 10. As shown in FIG. 3, the leveling means 17 is located on top of the block 19. The leveling means 17 can be provided to adjust the gap between the base plate 11 and the base 10 to obtain the height of the base plate 11 required.

한편으로, 경화성 수지 재료(21)는 국부적으로, 즉, 스트럿(15)의 앵커링 부재에만 또는 그 근처에만 사용된다. On the other hand, the curable resin material 21 is used locally, i.e. only at or near the anchoring member of the strut 15.

다른 한편으로, 경화성 수지 재료(21)는 기저판(11)과 그 주변에 있는 기반 영역을 커버하도록 만들어질 수 있다. 이 선택사항이 도 4의 예시에서 채택되었다. 경화성 수지 재료(21)를 사용하기 전에, 기저판(11)에 대한 영역을 둘러싸는 림(20)이 기반(10)상에 배치된다. 이후 경화 수지 재료(21)가 경화성 수지 재료의 풀(pool)로서 기반 영역 상에 배치되고, 여기서 모든 스트럿(15)의 앵커링 부재(16)가 전체적으로 경화성 수지 재료의 풀과 접촉한다. 경화성 수지 재료(21)는 충전재를 구비하거나 구비하지 않은 2성분형 에폭시(Prokol 사의 Rocapox EPTM)와 같은 실질적으로 비 수축성인 에폭시를 포함한다. 이 재료는 경화 과정에서 낮거나 거의 0의 수축성을 가지며, 구체적으로, 1% 미만의 수축성을 가진다. On the other hand, the curable resin material 21 can be made to cover the base plate 11 and the base area around it. This option was adopted in the example of FIG. 4. Before using the curable resin material 21, a rim 20 surrounding the area for the base plate 11 is disposed on the base 10. Cured resin material 21 is then disposed on the base area as a pool of curable resin material, where the anchoring members 16 of all struts 15 are in contact with the pool of curable resin material as a whole. The curable resin material 21 comprises a substantially non-shrinkable epoxy, such as a two-component epoxy (Rocapox EP ™ from Prokol) with or without filler. This material has a low or almost zero shrinkage during the curing process, specifically less than 1% shrinkage.

도 4에서 도시한 바와 같이, 경화성 수지 재료(21)는 스트럿(15)의 앵커링 부재(16)와 기반(10) 사이에도 마련된다. 모든 스트럿(15)의 앵커링 부재(16)는 경화성 수지 재료(21)의 풀과 완전히 접촉해 있다. 수지 재료(21)는 안정화 또는 경화된 후에 바닥(10)과 스트럿(15) 사이에 견고한 연결을 제공한다. As shown in FIG. 4, the curable resin material 21 is also provided between the anchoring member 16 and the base 10 of the strut 15. The anchoring members 16 of all struts 15 are in complete contact with the pool of curable resin material 21. The resin material 21 provides a firm connection between the bottom 10 and the strut 15 after it has stabilized or cured.

도 5에 개략적으로 도시한 바와 같이, 이제 레벨링 수단(17)은 제거될 수 있고, 기반(10)에 부착된 기저판(10)은 리소그래피 시스템을 수용할 준비가 된 상태이다. As schematically shown in FIG. 5, the leveling means 17 can now be removed and the base plate 10 attached to the base 10 is ready to receive a lithography system.

도 6에 도시한 바와 같이, 제2 예시에서 설치 위치는 단단한 바닥(30)을 포함한다. 기저판(31)은 이 바닥(30) 상에 바로 배치될 수 있다. As shown in FIG. 6, the installation position in the second example includes a hard bottom 30. The base plate 31 may be disposed directly on this bottom 30.

또한, 도 6에서 도시한 바와 같이, 레벨링 수단은 기저판(31)의 아래에서 연장하는 하나 이상의 빔(39)을 포함하고, 각각의 빔(39)은 기저판(31)과 바닥(30) 사이의 간격을 조절하기 위한 두 개의 유압 잭(37) 상에 안착한다. 도 6에 도시한 바와 같이, 유압 잭(37)은 도 7에 도시한 바와 같이 경화성 수지 재료(40)로 덮이도록 예정된 바닥 영역의 외측에, 기저판(31)으로부터 소정 거리를 두고 배치된다. 유압 잭(37)은 요구되는 기저판(31)의 높이를 얻기 위하여 기저판(31)과 바닥(30) 사이의 간격을 조절하는 데 사용된다. 유압 잭(37)에는 레벨링 후에 기저판(31)의 위치를 고정시키기 위해 기계적인 잠금 부재 또는 유지 부재가 마련되는 것이 바람직하다. In addition, as shown in FIG. 6, the leveling means comprises one or more beams 39 extending below the base plate 31, each beam 39 between the base plate 31 and the bottom 30. It rests on two hydraulic jacks 37 for adjusting the gap. As shown in FIG. 6, the hydraulic jack 37 is arrange | positioned at the predetermined distance from the base plate 31 on the outer side of the bottom area | region predetermined to be covered with curable resin material 40, as shown in FIG. The hydraulic jack 37 is used to adjust the gap between the base plate 31 and the bottom 30 to obtain the height of the base plate 31 required. The hydraulic jack 37 is preferably provided with a mechanical locking member or a holding member for fixing the position of the base plate 31 after leveling.

경화성 수지 재료(41)를 제공하기 전에, 기저판(31)에 대한 바닥 영역을 둘러싼 림(40)이 바닥(30) 상에 놓인다. 후속하여, 경화성 수지 재료(41)가 경화성 수지 재료의 풀로서 바닥 영역 상에 마련되고, 스트럿(35)의 앵커링 부재로서 거동하는 플랜지(36) 전부가 실질적으로 완전히 경화성 수지 재료의 풀(41)과 접촉한다. 경화성 수지 재료(21)는 실질적으로 용제가 없거나 최소량의 용제를 포함하는, 실질적으로 비수축성인 에폭시, 예컨대 Prokol사의 Rocapox EPTM를 포함한다. 대안으로서, 실질적으로 비수축성인 접착제가 사용될 수 있다. Prior to providing the curable resin material 41, a rim 40 surrounding the bottom region for the base plate 31 is laid on the bottom 30. Subsequently, a curable resin material 41 is provided on the bottom region as a pool of curable resin material, and all of the flanges 36 which act as anchoring members of the strut 35 are substantially completely full of curable resin material 41. Contact with The curable resin material 21 comprises a substantially non-shrinkable epoxy, such as Rocapox EP ™ from Prokol, which is substantially free of solvent or comprises a minimum amount of solvent. As an alternative, a substantially non-shrinkable adhesive may be used.

도 7에 도시한 바와 같이, 경화성 수지 재료(41)는 모든 스트럿(35)의 앵커링 부재(36)와 바닥(30) 사이에도 마련된다. 수지 재료(41)는 안정화 또는 경화된 후에 바닥(30)과 스트럿(35)들 사이에 견고한 연결을 제공한다. As shown in FIG. 7, the curable resin material 41 is also provided between the anchoring member 36 and the bottom 30 of all struts 35. The resin material 41 provides a firm connection between the bottom 30 and the struts 35 after stabilization or curing.

도 8에서 간략히 도시한 바와 같이, 이제 레벨링 수단(37, 39)과 림(40)은 제거될 수 있고, 바닥(30)에 부착된 기저판(11)은 리소그래피 시스템(32)을 수용할 준비가 된 상태이다. 리소그래피 시스템(32)의 저면에는 도 1의 기저판(1)에서와 유사한 기저판(31)의 컷아웃(8)에 배치된 카메라(33)가 마련된다. As briefly shown in FIG. 8, the leveling means 37, 39 and the rim 40 can now be removed and the base plate 11 attached to the bottom 30 ready to receive the lithography system 32. It is in a state. The bottom of the lithographic system 32 is provided with a camera 33 arranged in a cutout 8 of the base plate 31 similar to that of the base plate 1 of FIG. 1.

이와 같이 도 5 및 도 8은 바닥(30) 또는 기반(10) 상에 배치된 리소그래피 시스템(22, 32)을 도시하고, 여기서 바닥(30) 또는 기반(10)에는 하나 이상의 스트럿(15, 35)이 부착된 자체 지지형의 강성 기저판(11, 31)이 마련되며, 하나 이상의 스트럿(15, 35)은 바닥(30) 또는 기반(10)과 마주하는 기저판(11, 31)의 일면에 부착되고, 하나 이상의 스트럿(15, 35)에서 기저판(11, 31)으로부터 멀어지는 방향을 향하는 면에 앵커링 부재가 마련되며, 이 앵커링 부재는 경화성 수지 재료(21, 41)에 의해 바닥(30) 또는 기반(10)에 고정적으로 연결되고, 그리고 리소그래피 시스템(22, 32)은 기저판(11, 31)의 상부에 배치된다. As such, FIGS. 5 and 8 show a lithographic system 22, 32 disposed on a floor 30 or foundation 10, where the floor 30 or foundation 10 has one or more struts 15, 35. Self-supporting rigid base plates 11, 31 are provided, and one or more struts 15, 35 are attached to one side of the base plate 11, 31 facing the bottom 30 or base 10. And anchoring members are provided on one or more struts 15, 35 facing away from the base plates 11, 31, which are anchored by the curable resin material 21, 41 to the bottom 30 or base. It is fixedly connected to (10), and the lithographic system (22, 32) is arranged on top of the base plates (11, 31).

도 9는 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다. 이 실시예에서, 기저판(110)은 알루미늄과 같은 금속으로 된 두껍고 강성인 블록으로 만들어지는 것이 바람직하다. 기저판(110)의 두께는 25 내지 30cm 범위 내에 있을 수 있다. 9 shows a schematic cross sectional view of a lithographic system according to an embodiment of the invention. In this embodiment, the base plate 110 is preferably made of a thick, rigid block of metal such as aluminum. The thickness of the base plate 110 may be in the range of 25 to 30 cm.

기저판에는 기반(100) 상에서 시스템을 지지하기 위한 스트럿(150)(바람직하게는, 세 개의 스트럿)이 마련될 수 있다. 스트럿(150)은 기저판(110)의 일체형 부분으로서 형성될 수 있는데, 여기서 금속 기저판은 소정 공정에서 높은 정밀도로 금속 블록으로부터 스트럿(150) 및 다른 요소[예컨대, 앵커링 부재(14)]와의 경계부를 형성하도록 기계 가공될 수 있다. The base plate may be provided with struts 150 (preferably three struts) for supporting the system on the foundation 100. The strut 150 may be formed as an integral part of the base plate 110, wherein the metal base plate may be formed at a predetermined process with a boundary between the strut 150 and other elements (eg, the anchoring member 14) from the metal block with high precision. Can be machined to form.

도 9에 도시한 바와 같이, 스트럿(150)은 역피라미드 형상일 수 있고, 이 역피라미드는 세 개 이상의 면과, 그 꼭대기에 각각의 스트럿(150)이 기반(100)에 안착하는 평탄부를 가진다. As shown in FIG. 9, the struts 150 may be inverted pyramid shaped, having three or more faces and a flat portion at each of which the struts 150 rest on the base 100. .

리소그래피 시스템에는 도 9에 부분적으로 도시된 하전입자 광 칼럼이 마련될 수 있다. 광 칼럼은 리소그래피 시스템에서 웨이퍼와 같은 대상물에 하나 이상의 패터닝 빔을 투사하기 위하여 배치된다. The lithographic system may be provided with a charged particle light column partially shown in FIG. 9. The light column is arranged to project one or more patterning beams onto an object, such as a wafer, in a lithographic system.

도 9에 도시된 실시예에서, 리소그래피 시스템은,In the embodiment shown in FIG. 9, the lithographic system is

하전 입자 빔 공급원(101) 및 빔 조준 시스템(102)을 포함하는 조명 광학 모듈(201),An illumination optical module 201 comprising a charged particle beam source 101 and a beam aiming system 102,

조리개 어레이(103)와 콘덴서 렌즈 어레이(104)를 포함하는 조리개 어레이 및 콘덴서 렌즈 모듈(202),Aperture array and condenser lens module 202 including an aperture array 103 and a condenser lens array 104,

빔렛 블랭커 어레이(105; beamlet blanker array)를 포함하는 빔 스위칭 모듈(203), 그리고A beam switching module 203 comprising a beamlet blanker array 105, and

빔 정지 어레이, 빔 편향 어레이, 그리고 투사 렌즈 어레이를 포함하는 투사 광학 모듈(204)을 포함한다. And a projection optics module 204 including a beam stop array, a beam deflection array, and a projection lens array.

도 9에서 도시한 바와 같이, 이들 모듈은 측벽들(400)로 구획된 진공 챔버 내측에 배치된 프레임(205) 안에 배치된다. 도 9의 실시예에서, 기저판(110)은 진공 챔버의 바닥 벽으로 역할한다. As shown in FIG. 9, these modules are placed in a frame 205 disposed inside a vacuum chamber partitioned by sidewalls 400. In the embodiment of FIG. 9, the base plate 110 serves as the bottom wall of the vacuum chamber.

투사 광학 모듈의 아래에는, 캐리어를 운반하는 스테이지 또는 스테이지 어셈블리가 일반적으로 배치되고, 상기 캐리어는 사용시 대상물을 운반한다. 스테이지 또는 스테이지 어셈블리는 투사 광학 모듈에 대하여 캐리어를 이동시킬 수 있다. 캐리어(도시되지 않음)는 웨이퍼 테이블, 척 및 쇼트 스트로크 스테이지(short stroke stage)를 포함할 수 있다. Underneath the projection optical module, a stage or stage assembly for carrying the carrier is generally disposed, which carrier carries the object in use. The stage or stage assembly can move the carrier relative to the projection optical module. The carrier (not shown) may include a wafer table, chuck and short stroke stage.

도 9에는 스테이지의 일부분만이 도시되어 있다. 도 9는 제1 방향(X)을 따라 캐리어(도시되지 않음)를 운반 및 이동시키기 위한 롱 스트로크 스테이지(long stroke stage)를 도시한다. 롱 스트로크 스테이지는 기저판(110) 위에 배치된 두 개의 X-스테이지 운송기(401, 402)를 포함하고, 각각의 X-스테이지 기저부가 X-스테이지 운송기를 운반한다. 기저판(110)에는 두 개의 모터(M1, M2) 중 하나가 배치되는 두 개의 개구 또는 컷아웃이 마련되고, 상기 모터 각각은 대응하는 X-스테이지 운송기(401, 402)를 구동한다. 두 개의 모터(M1, M2)를 기저판(110)의 개구 내에, 그리고 부분적으로 진공 챔버의 외측 아래에 배치하는 것은 클린 룸과 같은 공장 홀에서 작은 공간을 차지하는 컴팩트한 디자인을 제공한다. Only part of the stage is shown in FIG. 9. 9 shows a long stroke stage for carrying and moving a carrier (not shown) along the first direction X. FIG. The long stroke stage includes two X-stage carriers 401, 402 disposed over the base plate 110, with each X-stage base carrying an X-stage carrier. The base plate 110 is provided with two openings or cutouts in which one of the two motors M1 and M2 are disposed, each of which drives the corresponding X-stage transporter 401, 402. Placing the two motors M1, M2 in the opening of the base plate 110 and partially below the outside of the vacuum chamber provides a compact design that occupies a small space in a factory hall such as a clean room.

도 9에서, 실제로 캐리어(도시되지 않음)는 측정 장치(330), 특히 카메라에 패터닝 빔이 도달하게 하기 위하여 시스템의 뒤쪽으로 이동한다. In FIG. 9, the carrier (not shown) actually moves to the back of the system to allow the patterning beam to reach the measuring device 330, in particular the camera.

기저판(110)에는 카메라(330)가 설치된 개구 또는 컷아웃이 마련된다. 카메라는 기저판(110)을 통해 연장된다. 또한, 카메라는 기저판으로부터 기반(100) 방향 및 광 칼럼 방향의 양 방향으로 연장된다. 카메라는 패터닝 빔을 측정 및/또는 분석하기 위하여 광 칼럼, 특히 광 칼럼의 중앙 선 또는 광학 축선(H)에 대해 정렬된다. The base plate 110 is provided with an opening or a cutout in which the camera 330 is installed. The camera extends through the base plate 110. In addition, the camera extends from the base plate in both directions of the base 100 direction and the light column direction. The camera is aligned with respect to the light column, in particular with respect to the center line or optical axis H of the light column, for measuring and / or analyzing the patterned beam.

이는 리소그래피 시스템의 내측으로부터, 특히 진공 챔버의 내측으로부터 카메라(330)로 접근하는데 유리하다. 그렇지 않다면 상술한 기능을 제공하는 카메라(330)에 접근하기 위하여 시스템의 기저판(110) 및/또는 시스템의 기반(100)으로부터 제거될 필요가 있다. 또 다른 해결책은 기저판(110)과 기반(100) 사이에 추가 공간을 형성하여, 이 추가 공간을 통해 카메라(330)에 접근할 수 있게 하는 것이다. 그러나, 기저판(110)과 기반(100) 사이에 추가적인 공간을 만드는 것은 리소그래피 시스템이 제조 공간에서 차지하고 있는 부피를 증가시키는 단점이 있다.This is advantageous for accessing the camera 330 from the inside of the lithographic system, in particular from the inside of the vacuum chamber. If not, it may need to be removed from the base plate 110 of the system and / or the base 100 of the system in order to access the camera 330 providing the functions described above. Another solution is to form an additional space between the base plate 110 and the base 100 to allow access to the camera 330 through this additional space. However, creating additional space between the base plate 110 and the base 100 has the disadvantage of increasing the volume that the lithographic system occupies in the manufacturing space.

리소그래피 시스템에는 대상물 뿐만 아니라 광 칼럼이 있을 수 있는 진공 챔버가 마련될 수 있다. 실시예에서, 기저판(110)은 진공 챔버의 일부를 형성한다.The lithographic system may be provided with a vacuum chamber in which there may be light columns as well as objects. In an embodiment, the base plate 110 forms part of a vacuum chamber.

리소그래피의 다른 부분도 카메라(330) 또는 모터(M1, M2) 대신에 기저판(110)의 개구 또는 컷아웃에 (또는 기저판의 다른 개구 또는 컷아웃에) 마련될 수 있고, 이는 제조 공간 내측에 있는 리소그래피 시스템의 부피를 최소화하는 효과를 가진다. Other portions of lithography may also be provided in the openings or cutouts of the base plate 110 (or in other openings or cutouts of the base plate) instead of the camera 330 or the motors M1, M2, which are located inside the manufacturing space. It has the effect of minimizing the volume of the lithography system.

리소그래피 시스템을 작동시킬 때, 우선 패터닝 빔이 카메라(330)를 사용하여 측정 및/또는 분석된다 (또는 보다 구체적으로는, 교정된다). 이 과정에서 캐리어와 대상물은 (도 9에 도시된 바와 같이) 패터닝 빔 내에 위치하지 않고, 패터닝 빔은 카메라(330)에 의해 수신된다. 패터닝 빔의 교정 이후에, 웨이퍼와 같은 대상물을 구비한 캐리어가 패터닝 빔 내에 있는 카메라(330)와 투사 광학계(204) 사이로 이동하고, 카메라(330)는 더 이상 패터닝 빔을 수신하지 못한다. 후속하여, 캐리어 위에 있는 대상물은 패터닝 빔들을 이용하여 처리된다. When operating the lithographic system, the patterning beam is first measured and / or analyzed using the camera 330 (or more specifically, calibrated). In this process, the carrier and the object are not located in the patterning beam (as shown in FIG. 9), and the patterning beam is received by the camera 330. After calibration of the patterning beam, a carrier with an object, such as a wafer, moves between the camera 330 and projection optics 204 within the patterning beam, and the camera 330 no longer receives the patterning beam. Subsequently, the object on the carrier is processed using patterned beams.

요컨대, 본 발명은 기반 상에, 예컨대 설치되는 공간의 바닥 일부 상에 배치된 리소그래피 시스템과 같이 진동 차단을 필요로 하는 시스템과, 기반 상에 리소그래피 시스템을 배치하는 방법에 관한 것이다. 리소그래피 시스템은 강성의 또는 고체의 기저판의 위에 배치되는데, 기반 상에 리소그래피 시스템을 배치하기 위해 기저판에는 하나 이상의 스트럿이 부착되고, 이 하나 이상의 스트럿은 기반과 마주하는 기저판의 일면에 배치되며, 기저판에는 리소그래피 시스템의 진공 챔버 아래에 장비를 장착하기 위한 컷아웃 또는 개구가 마련된다. In short, the present invention relates to a system that requires vibration isolation, such as a lithography system disposed on a base, for example, on a floor portion of a space to be installed, and a method of placing a lithography system on a foundation. The lithographic system is placed on top of a rigid or solid base plate, where one or more struts are attached to the base plate to place the lithography system on the base, and the one or more struts are disposed on one side of the base plate facing the base. A cutout or opening is provided for mounting the equipment under the vacuum chamber of the lithography system.

실시예에 있어서, 하나 이상의 스트럿은 경화성 수지 재료에 의하여 기반과 고정적으로 연결된다. 이는 기반이 요구되는 강성을 얻기 위한 기저판의 강화부로서 이용되는 기저 구조를 제공한다. 리소그래피 시스템은 기저판 위에 배치된다.In an embodiment, the at least one strut is fixedly connected to the base by the curable resin material. This provides a base structure that is used as a reinforcement part of the base plate to obtain the rigidity required for the foundation. The lithographic system is disposed on the base plate.

상술한 기재는 바람직한 실시예의 작동을 설명하기 위해 포함된 것이며, 본 발명의 범위를 한정하려는 것이 아님을 이해하여야 한다. 상술한 논의로부터, 본 발명의 사상 및 범위에 속하는 많은 변형이 존재한다는 점은 당업자에게 명백할 것이다. It is to be understood that the above description is included to illustrate the operation of the preferred embodiment and is not intended to limit the scope of the invention. From the foregoing discussion, it will be apparent to those skilled in the art that there are many variations that fall within the spirit and scope of the invention.

Claims (35)

강성 또는 고체의 기저판 위에 배치된 리소그래피 시스템으로서, 상기 기저판에는 리소그래피 시스템을 기반 상에 배치하기 위한 하나 이상의 스트럿이 부착되고, 하나 이상의 스트럿은 상기 기반과 마주하는 기저판의 일면에 배치되며, 상기 스트럿은 기저판을 기반에 고정적으로 연결하고, 상기 기저판에는 리소그래피 시스템의 진공 챔버 아래에 장비를 장착하기 위한 컷아웃(cut-out) 또는 개구가 마련되는 것인 리소그래피 시스템. A lithographic system disposed on a rigid or solid base plate, wherein the base plate is attached with one or more struts for placing the lithography system on the foundation, the one or more struts disposed on one side of the base plate facing the foundation, the strut being And a base that is fixedly connected to the base, the base plate being provided with a cut-out or opening for mounting the equipment under the vacuum chamber of the lithography system. 청구항 1에 있어서, 상기 장비는 카메라와 같은 리소그래피 시스템의 측정 장비를 포함하는 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 1, wherein the equipment comprises measurement equipment of a lithographic system such as a camera. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 리소그래피 시스템은 대상물 배치 장치를 포함하고, 상기 장비는 상기 리소그래피 시스템의 대상물 배치 장치를 구동하기 위한 모터를 포함하는 것인 리소그래피 시스템. A lithographic system according to claim 1 or 2, wherein the lithographic system comprises an object placement apparatus and the equipment comprises a motor for driving the object placement apparatus of the lithography system. 청구항 1, 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서, 상기 장비는 기저판을 통해, 그리고 바람직하게는 기저판 너머로도 연장된 것인 리소그래피 시스템. A lithographic system according to claim 1, 2 or 3, wherein the equipment extends through the base plate and preferably beyond the base plate. 청구항 1, 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서, 상기 장비는 기반을 마주하는 상기 기저판의 일면으로부터 소정 거리만큼 상기 리소그래피 시스템으로부터 연장되고, 상기 거리는 상기 스트럿이 기반을 마주하고 있는 상기 기저판의 일면으로부터 연장된 거리와 실질적으로 동일한 것인 리소그래피 시스템. The apparatus of claim 1, wherein the equipment extends from the lithographic system by a distance from one side of the base plate facing the base, the distance extending from one side of the base plate with the strut facing the base. A lithographic system that is substantially the same as distance. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 리소그래피 시스템은 진공 챔버를 포함하고, 리소그래피 시스템과 마주하는 상기 장비의 일면은 상기 진공 챔버 내측에 배치된 것인 리소그래피 시스템. A lithographic system according to any one of the preceding claims, wherein the lithographic system comprises a vacuum chamber and one side of the equipment facing the lithographic system is disposed inside the vacuum chamber. 청구항 2에 의할 때 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, 중앙 선 또는 광학 축선을 가진 투사 칼럼을 더 포함하고, 상기 측정 시스템은 투사 칼럼의 중앙 선 또는 광학 축선과 실질적으로 동일선 상에 있는 것인 리소그래피 시스템. The method of claim 2, further comprising a projection column having a center line or an optical axis, wherein the measurement system is substantially collinear with the center line or optical axis of the projection column. Lithography system. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서, 기저판과 스트럿은 알루미늄으로 만들어지고, 바람직하게는 기저판과 스트럿이 일체로 형성된 것인 리소그래피 시스템. A lithographic system according to claim 1, wherein the base plate and struts are made of aluminum, preferably the base plate and struts are integrally formed. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서, 기저판 및/또는 스트럿이 단일 구조물을 형성하는 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 1, wherein the base plate and / or struts form a unitary structure. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서, 기저판은 자체 지지형 기저판인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 1, wherein the base plate is a self-supporting base plate. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서, 기저판은 기반 상에 분리 가능하도록 배치된 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 1, wherein the base plate is disposed detachably on the substrate. 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 기저판에는 세 개의 스트럿이 마련된 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of any of the preceding claims, wherein the base plate is provided with three struts. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스트럿은 상기 기반에 수지 재료에 의해 고정적으로 연결된 것인 리소그래피 시스템. 13. A lithographic system according to any of the preceding claims, wherein the struts are fixedly connected to the base by resin material. 청구항 13에 있어서, 상기 수지 재료는 경화 과정에서 수축이 적거나 실질적으로 없는 경화성 수지 재료인 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 13, wherein the resin material is a curable resin material with little or no shrinkage during the curing process. 청구항 14에 있어서, 상기 수축은 1퍼센트보다 작은 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 14, wherein the shrinkage is less than 1 percent. 청구항 14에 있어서, 상기 경화성 수지 재료는 실질적으로 비수축성인 에폭시를 포함하는 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 14, wherein the curable resin material comprises a substantially non-shrinkable epoxy. 청구항 16에 있어서, 상기 에폭시는 실질적으로 용제가 없거나 최소량의 용제를 포함하는 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 16, wherein the epoxy is substantially free of solvent or comprises a minimum amount of solvent. 청구항 14에 있어서, 상기 경화성 수지 재료는 접착제인 것인 리소그래피 시스템. The lithographic system of claim 14, wherein the curable resin material is an adhesive. 청구항 1 내지 청구항 18 중 어느 한 항의 리소그래피 시스템에서 사용되는 기저판. A base plate for use in the lithographic system of claim 1. 진동 차단형 리소그래피 시스템을 지지하는 기저판으로서, 이 기저판은 이용시 기반을 마주하는 저면을 포함하고, 상기 저면은 스트럿을 구비하거나 적어도 나사 또는 볼트로 스트럿을 수용하도록 구성되며, 상기 스트럿은 콘크리트 기반 블록과 같은 기반 상에 상기 기저판을 고정적으로 배치하도록 배치된 것인 기저판. A base plate for supporting a vibration-blocking lithography system, the base plate having a bottom facing the base when in use, the bottom having a strut or configured to receive the strut with at least a screw or bolt, the strut being the concrete base block. A base plate disposed to fix the base plate on the same base. 청구항 20에 있어서, 상기 스트럿 및 기저판은 일체로 형성된 것인 기저판.The base plate of claim 20 wherein the strut and base plate are integrally formed. 청구항 20에 있어서, 상기 스트럿은 나사 또는 볼트로 상기 기저판에 분리 가능하도록 연결된 것인 기저판. The base plate of claim 20 wherein the struts are detachably connected to the base plate with screws or bolts. 청구항 20, 청구항 21 또는 청구항 22 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기저판은 이용시 리소그래피 시스템과 마주하는 상면을 포함하고, 상기 상면은 하나 이상의 장착 부재를 포함하거나 적어도 상기 상면에 하나 이상의 장착 부재가 부착된 것인 기저판. 23. The apparatus of any one of claims 20, 21 or 22, wherein the base plate comprises a top surface facing the lithographic system when in use, the top surface comprising one or more mounting members or at least one mounting member attached to the top surface. Base plate. 청구항 20 내지 청구항 23 중 어느 한 항에 있어서, 리소그래피 시스템은 바닥 벽을 가진 진공 챔버를 포함하고, 상기 기저판은 상기 진공 챔버의 바닥 벽의 적어도 일부인 것인 기저판. The baseplate of claim 20, wherein the lithographic system comprises a vacuum chamber having a bottom wall, and the baseplate is at least part of the bottom wall of the vacuum chamber. 청구항 20 내지 청구항 23 중 어느 한 항에 있어서, 리소그래피 시스템은 바닥 벽을 가진 진공 챔버를 포함하고, 상기 기저판은 상기 진공 챔버의 바닥 벽인 것인 기저판. 24. The baseplate of any one of claims 20 to 23, wherein the lithographic system comprises a vacuum chamber having a bottom wall and the base plate is a bottom wall of the vacuum chamber. 청구항 23에 있어서, 상기 장착 부재 중 적어도 하나는 상기 스트럿 중 적어도 하나와 적어도 부분적으로 일직선을 이루는 것인 기저판. The base plate of claim 23 wherein at least one of the mounting members is at least partially in line with at least one of the struts. 청구항 20 내지 청구항 26 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스트럿 중 적어도 하나에는 상기 기저판으로부터 멀어지는 방향을 향하는 면에 앵커링 부재가 마련되는 것인 기저판. 27. The base plate of any one of claims 20 to 26 wherein at least one of the struts is provided with an anchoring member on a surface facing away from the base plate. 청구항 20 내지 청구항 27 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기저판에는 보어가 마련되고, 이 보어에는 상기 기저판에 스트럿 및/또는 장착 부재를 연결하기 위한 나사형 인서트가 고정적으로 수용되는 것인 기저판. 28. The base plate of any one of claims 20 to 27 wherein the base plate is provided with a bore, the bore being fixedly received with threaded inserts for connecting struts and / or mounting members to the base plate. 청구항 20 내지 청구항 28 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기저판은 단일체형 평판인 것인 기저판. The base plate of claim 20, wherein the base plate is a monolithic flat plate. 청구항 29에 있어서, 상기 평판은 화강암 또는 알루미늄으로 만들어진 것인 기저판. The base plate of claim 29 wherein the plate is made of granite or aluminum. 리소그래피 시스템과 같이 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법으로서,
하나 이상의 스트럿이 부착된 자체 지지형의 강성 기저판을 제공하는 단계로서, 상기 하나 이상의 스트럿은 기반에 상기 기저판을 고정적으로 연결하고, 상기 하나 이상의 스트럿은 기반과 마주하는 상기 기저판의 일면에 부착된 것인 기저판을 제공하는 단계;
스트럿을 구비한 상기 기저판을 상기 기반 상에 배치하는 단계;
기저판과 기반 사이의 거리를 조절하기 위한 레벨링 수단을 제공하는 단계;
요구되는 기저판의 높이를 얻기 위하여 상기 기저판과 기반 사이의 거리를 조절하는 단계;
스트럿과 기반 사이에 경화성 수지 재료를 제공하는 단계;
기반과 스트럿 사이에 강성 연결을 제공하기 위하여 상기 수지 재료를 경화시키는 단계; 및
상기 기저판 위에 상기 시스템을 배치하는 단계
를 포함하는 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법. A method of laying on a foundation a system that requires vibration isolation, such as a lithography system,
Providing a self-supporting rigid base plate having one or more struts attached, wherein the one or more struts securely connect the base plate to a base, and the one or more struts are attached to one side of the base plate facing the base. Providing a phosphorus base plate;
Placing the base plate with struts on the base;
Providing leveling means for adjusting the distance between the base plate and the base;
Adjusting the distance between the base plate and the base to obtain the required height of the base plate;
Providing a curable resin material between the strut and the base;
Curing the resin material to provide a rigid connection between the foundation and the struts; And
Placing the system on the base plate
Method of placing on a base system that requires vibration isolation comprising a. 청구항 31에 있어서, 레벨링 수단을 제거하는 단계를 더 포함하는 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법. 32. The method of claim 31, further comprising the step of removing the leveling means. 청구항 31 또는 청구항 32에 있어서:
상기 기저판에 대한 기반 영역을 둘러싼 림을 기반 상에 제공하는 단계; 및
상기 경화성 수지 재료를 기반 상에 경화성 수지 재료의 풀(pool)로서 제공하는 단계
를 더 포함하고, 상기 하나 이상의 스트럿은 모두 경화성 수지 재료의 풀과 접촉하는 것인 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법. The method of claim 31 or 32:
Providing a rim surrounding the base area for the base plate on the base; And
Providing the curable resin material on a substrate as a pool of curable resin material
Further comprising: said at least one strut being all in contact with a pool of curable resin material. 청구항 33에 있어서, 상기 스트럿은 상기 경화성 수지 재료의 풀에 적어도 부분적으로 잠기는 것인 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법.The method of claim 33, wherein the strut is at least partially submerged in the pool of curable resin material. 청구항 33 또는 청구항 34에 있어서, 상기 경화성 수지 재료의 경화 이후에 림을 제거하는 단계를 더 포함하는 진동 차단이 요구되는 시스템을 기반 상에 배치하는 방법. 35. The method of claim 33 or 34, further comprising the step of removing the rim after curing of the curable resin material.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6817621B2 (en) * 2016-10-25 2021-01-20 株式会社マルテー大塚 Road studs and how to repair road studs
US10048599B2 (en) 2016-12-30 2018-08-14 Mapper Lithography Ip B.V. Adjustment assembly and substrate exposure system comprising such an adjustment assembly
IL267672B2 (en) 2016-12-30 2023-04-01 Asml Netherlands Bv Adjustment assembly and substrate exposure system comprising such an adjustment assembly
TWI794964B (en) * 2021-09-09 2023-03-01 協崑股份有限公司 High precision base of extreme ultraviolet lithography (euv) and implementation thereof

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4805000A (en) * 1986-01-17 1989-02-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus
KR100250152B1 (en) * 1997-11-15 2000-03-15 유무성 Exposing apparatus
US6538719B1 (en) * 1998-09-03 2003-03-25 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and device and method for producing the same
AU6365499A (en) * 1998-10-28 2000-05-15 Nikon Corporation Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device
JP2001148341A (en) * 1999-11-19 2001-05-29 Nikon Corp Aligner
JP2004063653A (en) * 2002-07-26 2004-02-26 Nikon Corp Vibration isolator, stage apparatus, and aligner
TWI307526B (en) * 2002-08-06 2009-03-11 Nikon Corp Supporting device and the mamufacturing method thereof, stage device and exposure device
US20040149881A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-05 Allen David S Adjustable support structure for air conditioner and the like
US7460208B2 (en) * 2005-02-18 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2009164307A (en) * 2007-12-28 2009-07-23 Canon Inc Supporting structure, exposing equipment, method of forming supporting structure, and method of manufacturing device
US8739383B2 (en) * 2009-04-20 2014-06-03 Nikon Corporation Method and apparatus for aligning mirror blocks of a multi-element mirror assembly

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