KR20130125147A - Blending apparatus and method of cleaning impeller thereof - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a stirrer having a structure capable of cleaning impeller according to a simple process and enhancing cleaning ability for rudimentum mixed in the impeller. The stirrer according to the present invention comprises a chamber unit which includes a floor plate, a cover plate which faces with the floor plate, a side wall which connects the floor plate to the cover plate, and an inner space in which mixture is contained; a stirring unit which includes a rotary shaft which penetrates through the cover plate and the impeller which is connected to one end of the rotary shaft and is located with distance from the inner surface of the chamber unit in the inner space of the chamber unit; and at least one of gas spraying unit which equips with at least one spraying nozzle opened towards the inner space from the side wall.

Description

교반기 및 임펠러 세척 방법{Blending apparatus and method of cleaning impeller thereof}Blending apparatus and method of cleaning impeller

본 발명은 교반기 및 임펠러 세척 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 간소한 공정에 의해 임펠러에 교착된 혼합물을 제거할 수 있는 구조를 갖는 교반기 및 상기 교반기의 임펠러를 세척하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a stirrer and an impeller cleaning method, and more particularly, to a stirrer having a structure capable of removing a mixture stuck to an impeller by a simple process and a method for washing the impeller of the stirrer.

이차전지용 전극판은 알루미늄(Al) 또는 구리(Cu) 재질의 집전판에 양극 활물질 또는 음극 활물질을 코팅함으로써 형성된다. 상기 활물질은 전극판과의 결합력, 유연성 및 그 밖의 다양한 특성의 향상을 위하여 도전재, 바인더 등의 물질과 함께 용매 내에 혼합됨으로써 활물질 슬러리(Slurry)를 형성한다. The electrode plate for secondary batteries is formed by coating a positive electrode active material or a negative electrode active material on a current collector plate made of aluminum (Al) or copper (Cu). The active material is mixed with a material such as a conductive material and a binder in a solvent in order to improve bonding strength, flexibility, and various other properties with the electrode plate, thereby forming an active material slurry.

상기 활물질 슬러리는 교반기에 주입된 후 혼합의 균일도를 높이기 위해 임펠러(Impeller)에 의해 저어지는 혼합 균일화 공정을 거치게 되는데, 이러한 혼합 균일화 공정을 거치면서 임펠러의 날개에는 활물질 슬러리의 잔유물이 교착된다. 이 때, 임펠러 표면에 교착된 잔유물을 제거하지 않은 채로 혼합 균일화 공정을 반복하게 되면 교착되는 잔유물의 부피가 점점 커짐으로써 혼합 균일화 공정이 효과적으로 이루어지기 어렵다. 따라서, 활물질 슬러리와 같은 혼합물에 대한 혼합 균일화 공정을 효율적으로 수행하기 위해서는 주기적으로 임펠러를 세척하는 공정이 수행되어야 한다.The active material slurry is injected into the stirrer and then subjected to a mixing homogenization process performed by an impeller in order to increase the uniformity of the mixing. Residues of the active material slurry are stuck on the wings of the impeller during the mixing homogenization process. At this time, if the mixing homogenization process is repeated without removing the residues stuck on the impeller surface, the mixing homogenization process is difficult to be effectively performed by increasing the volume of the remaining residues. Therefore, in order to efficiently perform the mixing homogenization process for the mixture such as the active material slurry, a process of periodically cleaning the impeller should be performed.

그러나, 대형 교반기에 있어서는 교반기를 분해하여 임펠러를 세척하는 공정이 용이하지 않아 임펠러의 세척에 많은 노력과 시간이 요구되며, 이에 따라 활물질 슬러리로부터 얻어지는 활물질 혼합물을 이용한 극판 제조에 있어서 생산성이 저하되는 문제점이 있다. 따라서, 간소한 공정에 의해 임펠러의 세척이 가능한 구조를 갖는 교반기가 요구되는 실정이다.However, in the large stirrer, the process of disassembling the stirrer and washing the impeller is not easy, which requires a lot of effort and time for washing the impeller. Accordingly, the productivity decreases in the production of the electrode plate using the active material mixture obtained from the active material slurry. There is this. Therefore, an agitator having a structure capable of washing the impeller by a simple process is required.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술을 고려하여 창안된 것으로서, 교반기를 분해하지 않고도 임펠러를 효율적으로 세척하는 것이 가능한 구조를 갖는 교반기를 제공하며, 그 임펠러의 세척 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention has been made in consideration of the prior art as described above, and provides an agitator having a structure capable of efficiently washing the impeller without disassembling the agitator, and an object thereof is to provide a method for cleaning the impeller.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 교반기는, 바닥 플레이트, 상기 바닥 플레이트와 마주보는 덮개 플레이트 및 상기 바닥 플레이트와 덮개 플레이트 사이를 연결하는 측벽을 포함하며, 혼합물이 수용되는 내부 공간을 구비하는 챔버부; 상기 덮개 플레이트를 관통하는 회전 축 및 상기 회전 축의 일측 단부와 연결되며 상기 챔버부의 내부 공간에서 상기 챔버부의 내측 면과 이격되어 위치하는 임펠러를 포함하는 교반부; 및 상기 측벽으로부터 상기 내부 공간을 향하는 방향으로 개방된 적어도 하나의 분사 노즐을 구비하는 적어도 하나의 기체 분사부를 포함할 수 있다.In accordance with an aspect of the present invention, a stirrer includes a bottom plate, a cover plate facing the bottom plate, and sidewalls connecting the bottom plate and the cover plate, and having an inner space in which the mixture is accommodated. Chamber portion; A stirring part including a rotating shaft passing through the cover plate and an end of the rotating shaft and an impeller spaced apart from an inner surface of the chamber part in an inner space of the chamber part; And at least one gas injection unit having at least one injection nozzle opened in a direction from the side wall toward the internal space.

본 발명의 일 측면에 따르면, 상기 분사 노즐은, 상기 챔버의 내부 공간에서 상기 임펠러와 대응되는 높이에 위치하거나, 상기 임펠러보다 더 높게 위치할 수 있다.According to an aspect of the present invention, the injection nozzle may be located at a height corresponding to the impeller in the inner space of the chamber, or may be located higher than the impeller.

바람직하게, 상기 임펠러는, 상기 교반기가 상기 혼합물을 젓는 혼합 균일화 모드인 경우 상기 분사 노즐보다 더 낮게 위치하며, 상기 교반기가 상기 임펠러의 표면에 교착된 혼합물을 제거하는 세척 모드인 경우 상기 분사 노즐과 대응되는 높이에 위치할 수 있다.Preferably, the impeller is positioned lower than the spray nozzle when the stirrer is in a mixing homogenization mode to stir the mixture, and the spray nozzle and when the stirrer is in a cleaning mode to remove the mixture stuck to the surface of the impeller. It may be located at a corresponding height.

바람직하게, 상기 분사 노즐은, 상기 교반기가 상기 세척 모드인 경우 상기 임펠러를 향할 수 있다.Preferably, the injection nozzle may face the impeller when the stirrer is in the cleaning mode.

바람직하게, 상기 회전 축의 타측 단부와 연결되는 구동부를 더 포함하며, 상기 구동부는 상기 회전 축과 직접 또는 간접적으로 연결되어 상기 회전 축에 회전 동력을 전달하도록 설치된 회전 구동부를 포함할 수 있다.Preferably, the apparatus further includes a driving unit connected to the other end of the rotating shaft, and the driving unit may include a rotating driving unit installed to directly or indirectly connect with the rotating shaft to transmit rotational power to the rotating shaft.

바람직하게, 상기 회전 구동부로서 전동식 모터가 적용될 수 있다.Preferably, an electric motor may be applied as the rotation driving unit.

바람직하게, 상기 구동부는 상기 회전 축과 직접 또는 간접적으로 연결되어 상기 교반부를 승강시킬 수 있도록 설치된 승강 구동부를 더 포함할 수 있다.Preferably, the driving unit may further include a lift drive unit installed to directly or indirectly connect with the rotation shaft to lift the stirring unit.

바람직하게, 상기 승강 구동부로서 피스톤-실린더 장치, 밸트-풀리 장치 및 랙-기어 장치 중 선택된 어느 하나가 적용될 수 있다.Preferably, any one selected from a piston-cylinder device, a belt-pulley device and a rack-gear device may be applied as the lift drive.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 분사 노즐은 상기 측벽으로부터 상기 회전 축을 향하는 방향을 기준으로 소정의 각도만큼 틸팅(Tilting)될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the injection nozzle may be tilted by a predetermined angle with respect to the direction from the side wall toward the rotation axis.

바람직하게, 상기 챔버부는 원통형이며, 상기 임펠러는 복수개의 교반 날개를 구비할 수 있다.Preferably, the chamber portion is cylindrical, the impeller may be provided with a plurality of stirring blades.

바람직하게, 상기 복수개의 교반 날개 각각은, 상기 회전 축의 둘레로부터 상기 측벽을 향해 일정 길이로 연장되며, 서로 일정한 간격으로 위치할 수 있다.Preferably, each of the plurality of stirring vanes, extending from the periphery of the rotation axis toward the side wall at a predetermined length, may be located at a constant interval from each other.

바람직하게, 상기 분사 노즐의 틸팅 각도는 0°초과

Figure pat00001
Figure pat00002
이하일 수 있다.(n: 교반 날개의 개수, L: 교반 날개의 길이, R: 회전 축으로부터 측벽의 내측 면에 이르는 최단 거리)Preferably, the tilt angle of the spray nozzle is greater than 0 °
Figure pat00001
Figure pat00002
(N: number of stirring blades, L: length of stirring blades, R: shortest distance from the axis of rotation to the inner side of the side wall)

바람작하게, 상기 틸팅 방향은 상기 회전 축의 회전 방향과 동일할 수 있다.Preferably, the tilting direction may be the same as the rotational direction of the rotational axis.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 분사 노즐은 상기 측벽 둘레를 따라 복수개 설치될 수 있다.According to another aspect of the invention, the injection nozzle may be provided in plurality along the circumference of the side wall.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 분사 노즐은 상기 바닥 플레이트로부터 이르는 거리가 서로 다른 적어도 2 이상의 분사 노즐을 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the spray nozzle may include at least two or more spray nozzles having different distances from the bottom plate.

바람직하게, 상기 교반기가 세척 모드인 경우 상기 분사 노즐 각각은 상기 임펠러의 최 하단 및 최 상단 사이에 위치할 수 있다.Preferably, when the stirrer is in the cleaning mode, each of the spray nozzles may be located between the bottom and top of the impeller.

바람직하게, 상기 분사 노즐은 상기 측벽에 매립될 수 있다.Preferably, the injection nozzle may be embedded in the side wall.

바람직하게, 상기 기체는 불활성 기체일 수 있다.Preferably, the gas may be an inert gas.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 임펠러 세척 방법은, 상기 교반기의 임펠러를 세척하는 방법으로서, (a) 상기 교반기가 혼합 균일화 모드인 상태에서 상기 승강 구동 장치를 작동시켜 상기 임펠러를 상승시키는 단계; (b) 상기 기체 분사부를 작동시켜 상기 임펠러 표면에 교착된 혼합물을 제거하는 단계; 및 (c) 상기 승강 구동 장치를 작동시켜 상기 임펠러를 하강시키는 단계를 포함할 수 있다.On the other hand, the impeller cleaning method according to the present invention for achieving the technical problem, as a method for washing the impeller of the stirrer, (a) operating the lift drive device in the state in which the stirrer is mixed homogenization mode to the impeller Elevating; (b) operating the gas injector to remove the mixture stuck to the impeller surface; And (c) operating the lift drive device to lower the impeller.

바람직하게, 상기 (a) 단계는, 상기 임펠러를 상기 분사 노즐과 대응되는 높이에 위치시키는 단계일 수 있다.Preferably, the step (a) may be a step of placing the impeller at a height corresponding to the injection nozzle.

바람직하게, 상기 분사 노즐을 통해 상기 임펠러에 기체를 분사하는 단계일 수 있다.Preferably, the step of injecting gas to the impeller through the injection nozzle.

바람직하게, 상기 (b) 단계는, 상기 임펠러의 회전 및 상기 기체의 분사가 함께 수행되는 단계일 수 있다.Preferably, step (b) may be a step in which the rotation of the impeller and the injection of the gas are performed together.

바람직하게, 상기 (c) 단계는, 상기 분사 노즐보다 낮은 위치로 상기 임펠러를 하강시키는 단계일 수 있다.Preferably, step (c) may be a step of lowering the impeller to a position lower than the injection nozzle.

본 발명의 일 측면에 따르면, 간소한 공정에 따라 교반기의 임펠러를 세척할 수 있다.According to one aspect of the invention, it is possible to wash the impeller of the stirrer according to a simple process.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 교반기의 임펠러에 교착된 잔유물에 대한 세척도를 향상시킬 수 있다.According to another aspect of the present invention, it is possible to improve the washing degree of the residue stuck to the impeller of the stirrer.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술되는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 교반기를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 교반기의 완성 사시도이다.
도 3a는 도 1에 도시된 교반기가 혼합 균일화 모드인 경우의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 3b는 도 1에 도시된 교반기가 세척 모드인 경우의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 4a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 교반기의 수평 단면도이다.
도 4b는 도 4a에 도시된 교반기에 있어서, 분사 노즐이 틸팅(Tilting)되는 각도의 범위를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 교반기를 나타내는 수평 단면도이다.
도 6은 본 발명의 앞선 실시예와는 또 다른 실시예에 따른 교반기를 나타내는 수직 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 임펠러 세척 방법을 나타내는 순서도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate preferred embodiments of the invention and, together with the description of the invention given below, serve to further the understanding of the technical idea of the invention. And should not be construed as limiting.
1 is an exploded perspective view showing a stirrer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a complete perspective view of the stirrer shown in FIG. 1.
FIG. 3A is a diagram for describing an operation when the stirrer shown in FIG. 1 is in a mixing homogenization mode.
3B is a view for explaining an operation when the stirrer shown in FIG. 1 is in a washing mode.
Figure 4a is a horizontal cross-sectional view of a stirrer according to another embodiment of the present invention.
FIG. 4B is a view for explaining a range of angles at which the spray nozzle is tilted in the stirrer shown in FIG. 4A.
5 is a horizontal cross-sectional view showing a stirrer according to another embodiment of the present invention.
6 is a vertical cross-sectional view showing a stirrer according to another embodiment of the present invention.
7 is a flow chart showing an impeller cleaning method according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일부 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention, and not all of the technical ideas of the present invention are described. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.

먼저 도 1 내지 도 3b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 교반기(1)의 구조를 설명하기로 한다. First, the structure of the agitator 1 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3B.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 교반기를 나타내는 분해 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 교반기의 완성 사시도이고, 도 3a는 도 1에 도시된 교반기가 혼합 균일화 모드인 경우의 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 3b는 도 1에 도시된 교반기가 세척 모드인 경우의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
1 is an exploded perspective view showing an agitator according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a complete perspective view of the agitator shown in FIG. 1, and FIG. 3A is an operation when the agitator shown in FIG. 1 is in a mixing homogenization mode. 3B is a diagram for describing an operation when the stirrer shown in FIG. 1 is in a washing mode.

도 1 내지 도 3b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 교반기(1)는 챔버부(10), 교반부(20), 구동부(30) 및 기체 분사부(40)를 포함한다. 상기 교반기(1)는 이차전지용 활물질에 바인더, 도전재와 같은 첨가물 및 용매를 섞어 만든 활물질 슬러리와 같은 혼합물에 있어서, 그 내용물들이 서로 잘 섞일 수 있도록 저어줌으로써 혼합 균일도를 향상시키는 기구이다. 다만, 이로써 본 발명의 용도가 활물질 슬러리에 대한 혼합 균일화를 위한 것으로 한정되는 것은 아니며, 다양한 혼합물에 대한 혼합 균일화에 적용될 수 있는 것임은 자명한 것이다.1 to 3B, the stirrer 1 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a chamber part 10, a stirring part 20, a driving part 30, and a gas injection part 40. The stirrer 1 is a mechanism for improving the mixing uniformity by stirring the contents of the secondary battery active material slurry such as an active material slurry made by mixing a binder, an additive such as a conductive material, and a solvent, so that the contents can be mixed well with each other. However, it is obvious that the use of the present invention is not limited to the mixing homogenization for the active material slurry, it can be applied to the mixing homogenization for a variety of mixtures.

상기 챔버부(10)는 내부에 수용 공간(S)이 형성된 대략 원통 형상을 가지며, 측벽(11), 바닥 플레이트(12) 및 덮개 플레이트(13)를 포함한다. 즉, 서로 마주보도록 위치하는 바닥 플레이트(12) 및 덮개 플레이트(13) 사이를 측벽(11)이 연결함으로써 수용 공간(S)을 형성한다. 상기 수용 공간(S)에 수용되는 혼합물은 바닥 플레이트(12)에 의해 지지된다. The chamber part 10 has a substantially cylindrical shape in which an accommodation space S is formed, and includes a side wall 11, a bottom plate 12, and a cover plate 13. That is, the side wall 11 is connected between the bottom plate 12 and the cover plate 13 positioned to face each other to form the accommodation space S. The mixture accommodated in the accommodation space S is supported by the bottom plate 12.

본 발명에서 상기 챔버부(10)의 형상을 원통형으로 한정하는 것은 아니나, 수용되는 혼합물에 대한 혼합 균일도의 효율적인 향상의 측면에서 챔버부(10)의 형상은 원통형인 것이 바람직하다.In the present invention, the shape of the chamber portion 10 is not limited to a cylindrical shape, but the shape of the chamber portion 10 is preferably cylindrical in terms of efficient improvement of the mixing uniformity for the mixture to be accommodated.

상기 덮개 플레이트(13)는 측벽(12)으로부터 완전히 분리가 가능하거나 뚜껑처럼 열리는 구조를 가질 수 있을 뿐만 아니라, 측벽(12)에 고정되거나 측벽(12)과 일체로 형성된 구조를 가지는 경우 역시 가능하다. 상기 덮개 플레이트(13)가 측벽(12)에 고정되거나 측벽(12)과 일체로 형성된 구조를 갖는 경우, 챔버부(10)는 수용 공간(S)에 혼합물을 주입하고 빼내기 위한 적어도 하나의 통로(미도시)를 구비한다.The cover plate 13 may not only have a structure that can be completely detached from the side wall 12 or open like a lid, but also has a structure fixed to the side wall 12 or integrally formed with the side wall 12. . When the cover plate 13 is fixed to the side wall 12 or has a structure formed integrally with the side wall 12, the chamber portion 10 is at least one passage for injecting and withdrawing the mixture into the receiving space (S) ( Not shown).

상기 교반부(20)는 수용 공간(S)에 수용되는 혼합물을 젓는 역할을 하는 것으로서, 회전 축(21) 및 임펠러(Impeller)(22)를 포함한다. The stirring unit 20 serves to stir the mixture accommodated in the accommodation space S, and includes a rotation shaft 21 and an impeller 22.

상기 회전 축(21)은 챔버부(10)의 수용 공간(S)으로부터 덮개 플레이트(13)를 관통하여 챔버부(10)의 외측으로 연장된다. 상기 임펠러(22)는 수용 공간(S) 내에서 회전 축(21)의 일측 단부와 연결됨으로써 회전 축(21)이 회전 및/또는 승강함에 따라 수용 공간(S) 내에서 회전 및/또는 승강이 가능하다. 상기 회전 축(21) 및 임펠러(22)의 구체적인 승강 범위에 대해서는 도 3a 및 도 3b를 참조하여 상세히 후술하기로 한다. The rotating shaft 21 extends through the cover plate 13 from the accommodation space S of the chamber portion 10 to the outside of the chamber portion 10. The impeller 22 is connected to one end of the rotating shaft 21 in the receiving space (S), so that the rotating shaft 21 is rotated and / or lifted in the receiving space (S) can be rotated and / or lifted Do. Specific lifting ranges of the rotary shaft 21 and the impeller 22 will be described later in detail with reference to FIGS. 3A and 3B.

상기 임펠러(22)는 복수개의 교반 날개(22a)를 포함한다. 상기 교반 날개(22a)는 회전 축(21) 둘레로부터 챔버부(10)의 측벽(11)을 향해 일정 길이로 연장되며, 챔버부(10)의 측벽(11) 및 바닥 플레이트(12)로부터 이격되도록 위치한다. 이 때, 상기 교반 날개(22a)는 서로 일정한 간격을 두고 위치하는 것이 바람직하다. The impeller 22 includes a plurality of stirring vanes 22a. The stirring blade 22a extends in a predetermined length from around the rotation axis 21 toward the side wall 11 of the chamber portion 10, and is spaced apart from the side wall 11 and the bottom plate 12 of the chamber portion 10. To be located. At this time, the stirring vanes 22a are preferably positioned at regular intervals from each other.

한편, 본 발명의 도면에서는 상기 교반 날개(22a)의 개수가 4개인 경우 및 그 형상이 평평한 판상형인 경우만을 도시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 교반 날개(22a)는 2개, 3개 또는 4개 이상으로 형성될 수 있으며, 전체적으로 굴곡진 형상 또는 적어도 일부가 일정 각도만큼 절곡된 형상 등 다양한 형상이 선택적으로 적용될 수 있음은 자명한 것이다. Meanwhile, in the drawings of the present invention, only the case where the number of the stirring blades 22a is four and the shape of the flat plate is shown, but the present invention is not limited thereto. That is, the stirring vanes 22a may be formed in two, three, or four or more, and it is obvious that various shapes such as a curved shape or a shape in which at least a portion is bent by a predetermined angle may be selectively applied. will be.

상기 구동부(30)는 별도의 브라켓(미도시) 또는 지면에 고정되며, 챔버부(10)의 외측에서 교반부(20)의 회전 축(21) 단부와 연결되어 교반부(20)에 회전 동력 및 승강 동력을 전달하는 역할을 한다. 상기 구동부(30)는 교반부(20)에 회전 동력을 전달하는 회전 구동부(31) 및 승강 동력을 전달하는 승강 구동부(32)를 포함한다. The drive unit 30 is fixed to a separate bracket (not shown) or the ground, and is connected to the end of the rotation shaft 21 of the stirring unit 20 outside the chamber 10, the rotational power to the stirring unit 20 And it serves to transfer the lifting power. The drive unit 30 includes a rotation drive unit 31 for transmitting rotational power to the stirring unit 20 and a lift drive unit 32 for transferring lift power.

상기 회전 구동부(31)는 챔버부(10)의 외측에서 교반부(20)의 회전 축(21) 단부에 결합되어 회전 축(21)에 회전 동력을 전달함으로써 임펠러(22)가 수용 공간(S) 내에서 회전하도록 한다. 상기 회전 구동부(31)로서는 회전 동력 전달 기능을 갖는 일반적인 전동식 모터가 사용될 수 있다. The rotary drive unit 31 is coupled to the end of the rotating shaft 21 of the stirring unit 20 outside the chamber 10 to transmit the rotational power to the rotating shaft 21 by the impeller 22 receiving space (S) ) To rotate within. As the rotary driver 31, a general electric motor having a rotational power transmission function may be used.

상기 승강 구동부(32)는 회전 구동부(31)와 결합되어 회전 구동부(31)에 승강 동력을 전달한다. 이에 따라, 상기 승강 구동부(32)는 교반부(20)가 수용 공간(S) 내에서 바닥 플레이트(12)로부터 덮개 플레이트(13)를 향하는 방향 및 그 역방향으로 승강할 수 있도록 한다. 상기 승강 구동부(32)의 구체적인 동작 범위에 대해서는 도3a 및 도 3b를 참조하여 상세히 후술하기로 한다. 상기 승강 구동부(32)로서는 실린더(32a) 및 그 내측에 삽입된 피스톤(32b)이 적용된 실린더-피스톤 장치가 사용될 수 있다. 다만, 이로써 상기 승강 구동부(32)의 종류를 한정하는 것은 아니다. 즉, 밸트-풀리 장치 및 랙-기어 장치와 같이 물체를 승강시킬 수 있도록 구동되는 액추에이터라면 제한 없이 승강 구동부(32)로서 사용될 수 있음은 자명한 것이다.The lift driver 32 is coupled to the rotation driver 31 to transmit lift power to the rotation driver 31. Accordingly, the elevating drive unit 32 allows the stirring unit 20 to elevate in the receiving space S from the bottom plate 12 toward the cover plate 13 and in the reverse direction thereof. A specific operation range of the lift driver 32 will be described later in detail with reference to FIGS. 3A and 3B. As the lift driver 32, a cylinder-piston device to which the cylinder 32a and the piston 32b inserted therein may be applied. However, this does not limit the type of the lift driver 32. That is, it will be apparent that any actuator that is driven to lift and lower an object, such as a belt-pulley device and a rack-gear device, can be used as the lift driver 32 without limitation.

한편, 본 발명의 도면에서는 상기 승강 구동부(32)가 회전 구동부(31)를 통해 회전 축(21)과 간접적으로 연결되어 교반부(20)에 승강 구동력을 간접적으로 전달하는 경우만을 도시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 승강 구동부(32)가 회전 축(21)과 직접 연결되고, 회전 구동부(31)는 승강 구동부(32)를 통해 회전 축(21)과 간접적으로 연결되는 경우도 가능함은 자명한 것이다. On the other hand, in the drawings of the present invention, the lift drive unit 32 is indirectly connected to the rotary shaft 21 through the rotation drive unit 31, but only illustrates the case of indirectly transferring the lift drive force to the stirring unit 20, The present invention is not limited thereto. That is, it is apparent that the lift driver 32 may be directly connected to the rotation shaft 21, and the rotation drive 31 may be indirectly connected to the rotation shaft 21 through the lift driver 32.

상기 기체 분사부(40)는 임펠러(22)에 교착된 혼합물을 제거하는 역할을 하는 것으로서, 에어 콤프레서(Compressor)(41) 및 분사 노즐(42)을 포함한다. The gas injector 40 serves to remove the mixture stuck to the impeller 22, and includes an air compressor 41 and an injection nozzle 42.

상기 에어 콤프레서(41)는 분사 노즐(42)을 통해 강한 압력으로 기체를 분사하기 위해 기체를 압축하는 역할을 한다. 상기 에어 콤프레서(41)는 챔버부(10)의 외측에 설치되며, 별도의 브라켓(미도시) 또는 지면에 고정될 수 있다.The air compressor 41 serves to compress the gas to inject the gas at a strong pressure through the injection nozzle 42. The air compressor 41 is installed outside the chamber part 10 and may be fixed to a separate bracket (not shown) or the ground.

상기 분사 노즐(42)은 에어 콤프레서(41)의 일측으로부터 연장되어 챔버부(10)의 측벽(11)을 관통한다. 상기 분사 노즐(42)은 챔버부(10)의 측벽(11)으로부터 내부 공간(S)을 향하는 방향으로 개방되어 에어 콤프레서(41)에서 압축된 기체를 분사하는 역할을 한다. The injection nozzle 42 extends from one side of the air compressor 41 and penetrates the side wall 11 of the chamber part 10. The injection nozzle 42 is opened in the direction toward the internal space S from the side wall 11 of the chamber part 10 and serves to inject the compressed gas in the air compressor 41.

상기 분사 노즐(42)의 구체적인 설치 위치 및 임펠러(22)와의 위치 관계에 대해서는 도 3a 및 도 3b를 참조하여 상세히 후술하기로 한다. The specific installation position of the injection nozzle 42 and the positional relationship with the impeller 22 will be described later in detail with reference to FIGS. 3A and 3B.

한편, 본 발명의 도면에서는 상기 분사 노즐(42)이 측벽(11)의 내측 면으로부터 내부 공간(S)을 향하는 방향으로 돌출된 경우만을 도시하고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 분사 노즐(42)은 측벽(11)에 매립되어 측벽(11)의 내측 면으로부터 돌출되지 않도록 설치되는 것도 가능함은 자명한 것이다. 상기 분사 노즐(42)이 측벽(11)의 내측 면으로부터 돌출되지 않도록 설치된 경우, 상기 교반 날개(22a)의 길이를 더 길게 형성할 수 있는 공간이 확보된다. 또한, 상기 교반 날개(22a)의 길이가 더 길게 형성되는 경우 교반기(1)의 혼합물 교반 능력이 향상되는 효과를 얻을 수 있다.
Meanwhile, in the drawings of the present invention, only the case where the injection nozzle 42 protrudes from the inner surface of the side wall 11 toward the internal space S, but the present invention is not limited thereto. That is, it is apparent that the injection nozzle 42 may be installed so as not to protrude from the inner side of the side wall 11 is embedded in the side wall (11). When the injection nozzle 42 is installed so as not to protrude from the inner side surface of the side wall 11, a space for forming a longer length of the stirring blade 22a is secured. In addition, when the length of the stirring blade (22a) is formed longer, it is possible to obtain the effect of improving the stirring ability of the mixture of the stirrer (1).

다음은, 도 3a 및 도 3b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 교반기(1)의 동작을 설명하기로 한다. Next, the operation of the stirrer 1 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3A and 3B.

도 3a는 도 1에 도시된 교반기가 혼합 균일화 모드인 경우의 동작을 설명하기 위한 도면이고, 도 3b는 도 1에 도시된 교반기가 세척 모드인 경우의 동작을 설명하기 위한 도면이다.FIG. 3A is a view for explaining an operation when the agitator shown in FIG. 1 is in a mixing homogenization mode, and FIG. 3B is a view for explaining an operation when the agitator shown in FIG. 1 is in a washing mode.

도 3a 및 도 3b를 참조하면, 상기 교반기(1)의 동작 모드는 챔버부(10)에 수용되는 혼합물을 젓는 혼합 균일화 모드 및 임펠러(22)의 교반 날개(22a)에 교착된 혼합물을 제거하는 세척 모드를 포함한다.3A and 3B, the operation mode of the stirrer 1 is a mixing homogenization mode for stirring the mixture accommodated in the chamber portion 10 and a mixture that is stuck to the stirring blade 22a of the impeller 22. Washing mode.

상기 교반기(1)가 혼합 균일화 모드에 있는 경우, 임펠러(22)는 바닥 플레이트(12)로부터 일정 거리(D1) 이격된 상태에서 분사 노즐(42)이 설치된 높이(H1) 및 혼합물이 채워진 높이보다 낮은 높이에 위치한다. 즉, 상기 바닥 플레이트(12)로부터 임펠러(22)의 최상단에 이르는 거리(D2)는 바닥 플레이트(12)로부터 분사 노즐(42)에 이르는 거리(H1)보다 가깝다. 또한, 상기 혼합물은 분사 노즐(42)이 설치된 높이(H1)보다 낮은 높이로 채워진다. 따라서, 상기 교반기(1)가 혼합 균일화 모드에 있는 경우, 임펠러(22)는 혼합물 속에 잠긴 상태에서 회전 축(21)의 회전 방향(M)으로 혼합물을 젓는 동작을 수행하며, 분사 노즐(42)은 혼합물 외부로 노출된 상태를 유지한다.(도 3a 참조)When the stirrer 1 is in the mixing homogenization mode, the impeller 22 has a height H1 in which the spray nozzle 42 is installed and a height at which the mixture is filled in a state spaced apart from the bottom plate 12 by a predetermined distance D1. It is located at a low height. That is, the distance D2 from the bottom plate 12 to the top of the impeller 22 is closer than the distance H1 from the bottom plate 12 to the injection nozzle 42. The mixture is also filled at a height lower than the height H1 provided with the spray nozzle 42. Therefore, when the stirrer 1 is in the mixing homogenization mode, the impeller 22 stirs the mixture in the rotational direction M of the rotation shaft 21 while being immersed in the mixture, and the injection nozzle 42 Remains exposed to the outside of the mixture (see FIG. 3A).

상기 교반기(1)의 동작 상태가 혼합 균일화 모드에서 세척 모드로 변경되는 경우, 승강 구동부(32)의 피스톤(32b)이 상승함으로써 임펠러(22)는 분사 노즐(42)과 대응되는 높이로 상승하게 된다. 즉, 상기 바닥 플레이트(12)를 기준으로 할 때, 분사 노즐(42)에 이르는 거리(H1)는 임펠러(22)의 최하단에 이르는 거리(D3)보다 멀고, 임펠러(22)의 최 상단에 이르는 거리(D4)보다 가깝다. 또한, 상술한 바와 같이 분사 노즐(42)이 설치된 높이(H1)는 혼합물이 채워지는 높이보다 높게 형성된다. 따라서, 상기 교반기(1)가 세척 모드에 있는 경우, 임펠러(22)는 혼합물보다 높게 위치하여 혼합물 외부로 노출된 분사 노즐(42)과 마주보게 되며, 분사 노즐(42)로부터 분사되는 기체의 분사 압력에 의해 세척된다. 바람직하게, 상기 세척 모드에 있어서, 기체의 분사 동작은 회전 축(21)의 회전 동작과 함께 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 기체의 분사가 복수개의 교반 날개(22a) 중 일부에만 집중되는 것을 방지함으로써 임펠러(22)가 전체적으로 세척되도록 하는 것이 가능하다. (도 3b 참조)When the operating state of the stirrer 1 is changed from the mixing homogenization mode to the washing mode, the piston 32b of the elevating drive unit 32 is raised so that the impeller 22 is raised to a height corresponding to the injection nozzle 42. do. That is, based on the bottom plate 12, the distance H1 to the injection nozzle 42 is farther than the distance D3 to the bottom of the impeller 22, and reaches the top of the impeller 22. It is closer than the distance D4. In addition, as described above, the height H1 provided with the injection nozzle 42 is formed higher than the height at which the mixture is filled. Therefore, when the stirrer 1 is in the cleaning mode, the impeller 22 is positioned higher than the mixture to face the injection nozzle 42 exposed to the outside of the mixture, and the injection of the gas injected from the injection nozzle 42. Washed by pressure; Preferably, in the washing mode, the spraying operation of the gas may be performed together with the rotating operation of the rotating shaft 21. In this case, it is possible to allow the impeller 22 to be cleaned as a whole by preventing the injection of the gas from concentrating on only a part of the plurality of stirring vanes 22a. (See FIG. 3B)

상기 교반기(1)는 세척 모드가 종료된 후, 다시 승강 구동부(32)의 피스톤(32b)이 하강함으로써 교반 모드로 전환되며, 이로써 세척이 완료된 임펠러(22)를 이용하여 혼합물을 다시 저을 수 있는 상태가 된다. After the washing mode is finished, the stirrer 1 is switched to the stirring mode by lowering the piston 32b of the elevating driving unit 32 again, whereby the mixture can be stir again using the impeller 22 which has been cleaned. It becomes a state.

한편, 상기 기체 분사부(40)로부터 분사되는 기체로는 네온(Ne), 아르곤(Ar) 등과 같은 불활성 기체가 사용되는 것이 바람직하다. 이는, 챔버부(10) 내부에 수용되는 혼합물과 기체 사이의 화학 반응이 일어남으로써 혼합물이 변질되는 것을 방지하기 위함이다. 다만, 이로써 본 발명이 상기 기체의 종류를 한정하는 것은 아니며, 챔버부(10) 내에 수용되는 혼합물의 종류에 따라 이와 반응을 일으키지 않는 기체라면 제한 없이 사용될 수 있음은 자명한 것이다. On the other hand, it is preferable that an inert gas such as neon (Ne), argon (Ar) or the like is used as the gas injected from the gas injection unit 40. This is to prevent the mixture from being deteriorated by a chemical reaction between the gas and the mixture contained in the chamber 10. However, the present invention does not limit the type of the gas, and it is obvious that the gas may be used without limitation as long as the gas does not cause reaction according to the type of the mixture accommodated in the chamber part 10.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 교반기(1)는 혼합물이 교착된 교반 날개(22a)를 간편한 공정에 의해 세척할 수 있는 구조를 가짐으로써 혼합물의 품질을 효율적으로 높이는 효과를 갖는다.
As described above, the stirrer 1 according to the present invention has an effect of efficiently improving the quality of the mixture by having a structure capable of washing the stirring blade 22a in which the mixture is interlaced by a simple process.

다음은, 도 4a 및 도 4b를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 교반기(1a)를 설명하기로 한다.Next, a stirrer 1a according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4A and 4B.

도 4a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 교반기의 수평 단면도이고, 도 4b는 도 4a에 도시된 교반기에 있어서, 분사 노즐이 틸팅(Tilting)되는 각도의 범위를 설명하기 위한 도면이다.4A is a horizontal cross-sectional view of a stirrer according to another embodiment of the present invention, and FIG. 4B is a view for explaining a range of angles at which the spray nozzle is tilted in the stirrer shown in FIG. 4A.

상기 교반기(1a)는 앞선 실시예에 따른 교반기(1)와 비교할 때, 분사 노즐(42)의 설치 방향을 제외한 다른 구성요소는 동일하다. 따라서, 상기 교반기(1a)를 설명함에 있어서, 앞선 실시예와 중복되는 설명은 생략하기로 하며, 분사 노즐(42)의 설치 방향을 중점적으로 설명하기로 한다.Compared with the stirrer 1 according to the previous embodiment, the stirrer 1a has the same components except for the installation direction of the spray nozzle 42. Therefore, in the description of the stirrer 1a, a description overlapping with the foregoing embodiment will be omitted, and the installation direction of the injection nozzle 42 will be mainly described.

도 4a를 참조하면, 상기 교반기(1a)의 분사 노즐(42)은 측벽(11)으로부터 교반부(20)의 회전 축(21)을 향하는 방향을 기준으로 일정 각도(T)만큼 틸팅된 방향(F)을 향하도록 설치된다. 이는 상기 분사 노즐(42)로부터 분사되는 기체의 분사 압력이 교반 날개(22a)에 잘 전달되도록 하기 위함이다. 이 때, 상기 틸팅 방향은 회전 축(21)이 회전하는 방향(M)과 동일한 방향임이 바람직하다. 도면에서는 상기 회전 축(21)의 회전 방향(M) 및 분사 노즐(42)의 틸팅 방향이 반시계 방향인 경우만을 도시하고 있으나, 시계 방향으로 회전하는 것도 가능함은 자명한 것이다. 상기 회전 축(21)의 회전 방향(M)과 분사 노즐(42)의 틸팅 방향이 일치하는 경우, 분사 노즐(42)을 통해 분사되는 기체의 압력이 교반 날개(22a)에 더욱 잘 전달될 수 있다.Referring to FIG. 4A, the spray nozzle 42 of the stirrer 1a is tilted by a predetermined angle T with respect to the direction from the side wall 11 toward the rotation axis 21 of the stirring unit 20 ( F) is installed to face. This is to ensure that the injection pressure of the gas injected from the injection nozzle 42 is well transmitted to the stirring blade 22a. At this time, the tilting direction is preferably the same direction as the direction (M) that the rotation axis 21 rotates. In the drawings, only the case in which the rotation direction M of the rotation shaft 21 and the tilting direction of the injection nozzle 42 are counterclockwise is shown, but it is also possible to rotate clockwise. When the rotation direction M of the rotation shaft 21 and the tilting direction of the injection nozzle 42 coincide, the pressure of the gas injected through the injection nozzle 42 may be better transmitted to the stirring vane 22a. have.

도 4b를 참조하면, 분사 노즐(42)의 틸팅 각도(T)는 삼각 함수 계산법에 따라 0°초과

Figure pat00003
Figure pat00004
이하의 값을 갖는 것이 바람직하다. (n: 교반 날개(22a)의 개수/ L: 교반 날개(22a)의 길이/ R: 회전 축(21)으로부터 측벽(11)의 내측 면에 이르는 최단 거리) 4B, the tilting angle T of the spray nozzle 42 exceeds 0 ° according to the trigonometric function calculation method.
Figure pat00003
Figure pat00004
It is preferable to have the following values. (n: number of stirring vanes 22a / L: length of stirring vanes 22a / R: shortest distance from the rotational axis 21 to the inner side of the side wall 11)

상기 틸팅 각도(T)의 최대 값은, 틸팅된 분사 노즐(42)이 향하는 방향을 나타내는 연장선이 임펠러(22)의 회전에 따라 분사 노즐(42)에 가장 근접한 교반 날개(22a1) 및 이웃하는 바로 다음 교반 날개(22a2) 각각의 단부와 동시에 접하는 조건을 만족하는 값이다. 따라서, 상기 틸팅 각도(T)가

Figure pat00005
Figure pat00006
이하의 값을 갖는 경우 분사 노즐(42)은 임펠러(22)가 회전하는 동안 언제나 교반 날개(22a)를 향하게 되며, 이로써 임펠러(22)의 세척에 대한 효율을 높일 수 있다.The maximum value of the tilting angle T is such that an extension line indicating the direction in which the tilted injection nozzle 42 is directed is adjacent to the stirring vane 22a 1 closest to the injection nozzle 42 as the impeller 22 rotates. It is a value that satisfies the condition of contact with the ends of each of the immediately following stirring vanes 22a 2 . Therefore, the tilting angle T is
Figure pat00005
Figure pat00006
In the case of having the following values, the injection nozzle 42 always faces the stirring vanes 22a while the impeller 22 rotates, thereby increasing the efficiency for cleaning the impeller 22.

다음은, 도 5를 참조하여 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 교반기(1b)를 설명하기로 한다. Next, a stirrer 1b according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 교반기를 나타내는 수평 단면도이다.5 is a horizontal cross-sectional view showing a stirrer according to another embodiment of the present invention.

상기 교반기(1b)는 앞선 실시예에 따른 교반기(1,1a)와 비교할 때, 분사 노즐(42)의 설치 개수를 제외한 다른 구성요소는 동일하다. 따라서, 상기 교반기(1b)를 설명함에 있어서, 앞선 실시예와 중복되는 설명은 생략하기로 하며, 분사 노즐(42)의 설치 개수에 대해서 중점적으로 설명하기로 한다.Compared with the stirrers 1 and 1a according to the previous embodiment, the stirrer 1b has the same components except for the number of installation of the spray nozzles 42. Therefore, in the description of the stirrer 1b, the description overlapping with the foregoing embodiment will be omitted, and the number of installations of the injection nozzles 42 will be mainly described.

도 5를 참조하면, 상기 교반기(1b)는 챔버부(10)의 측벽(11) 둘레에 구비된 복수개의 분사 노즐(42)을 구비한다. 이 경우, 상기 에어 콤프레서(41)는 분사 노즐(42)마다 하나씩 연결되거나, 적어도 2 이상의 분사 노즐(42)과 연결된다. 상술한 바와 같이 복수개의 분사 노즐(42)이 형성된 교반기(1b)는 임펠러(22)의 세척 효율이 증가하는 효과를 갖는다. 특히, 상기 복수개의 분사 노즐(42) 각각이 앞선 실시예에 따른 교반기(1a)의 분사 노즐(42)과 같이 일정 범위로 틸팅되어 형성되는 경우, 임펠러(22)에 대한 더욱 우수한 세척 효과를 기대할 수 있다.
Referring to FIG. 5, the stirrer 1b includes a plurality of spray nozzles 42 provided around the side wall 11 of the chamber part 10. In this case, one air compressor 41 is connected to each injection nozzle 42 or at least two or more injection nozzles 42. As described above, the stirrer 1b having the plurality of injection nozzles 42 formed therein has an effect of increasing the washing efficiency of the impeller 22. In particular, when each of the plurality of injection nozzles 42 is formed to be tilted in a predetermined range, such as the injection nozzle 42 of the stirrer 1a according to the previous embodiment, a better cleaning effect on the impeller 22 is to be expected. Can be.

다음은, 도 6을 참조하여 본 발명의 앞선 실시예와는 또 다른 실시예에 따른 교반기(1c)를 설명하기로 한다.Next, a stirrer 1c according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 6.

도 6은 본 발명의 앞선 실시예와는 또 다른 실시예에 따른 교반기를 나타내는 수직 단면도이다.6 is a vertical cross-sectional view showing a stirrer according to another embodiment of the present invention.

상기 교반기(1c)는 앞선 실시예에 따른 교반기(1b)와 비교할 때, 복수개의 분사 노즐(42)이 형성된 위치가 다를 뿐 다른 구성요소는 동일하다. 따라서, 상기 교반기(1c)를 설명함에 있어서, 앞선 실시예와 중복되는 설명은 생략하기로 하며, 분사 노즐(42)의 형성 위치에 대해서 중점적으로 설명하기로 한다.Compared with the stirrer 1b according to the previous embodiment, the stirrer 1c has a different position except that the plurality of injection nozzles 42 are formed. Therefore, in the description of the stirrer 1c, the description overlapping with the foregoing embodiment will be omitted, and the formation position of the injection nozzle 42 will be mainly described.

도 6을 참조하면, 상기 복수개의 분사 노즐(42) 중 적어도 하나는 나머지 중 적어도 하나와 챔버부(10)의 바닥 플레이트(12)로부터 이르는 거리가 서로 다르다. 즉, 상기 복수개의 분사 노즐(42) 각각이 바닥 플레이트(12)로부터 이르는 거리가 모두 동일하지는 않다. 이 경우, 상기 교반기(1c)가 세척 모드인 경우에 있어서, 바닥 플레이트(12)로부터 수개의 분사 노즐(42) 각각에 이르는 거리는, 바닥 플레이트(12)로부터 임펠러(22)의 최 하단에 이르는 거리(D3)보다 크고, 최 상단에 이르는 거리(D4)보다 작다. Referring to FIG. 6, at least one of the plurality of spray nozzles 42 has a distance from at least one of the remaining portions to the bottom plate 12 of the chamber portion 10. That is, the distances which each of the plurality of injection nozzles 42 reach from the bottom plate 12 are not all the same. In this case, when the stirrer 1c is in the washing mode, the distance from the bottom plate 12 to each of the several injection nozzles 42 is the distance from the bottom plate 12 to the bottom of the impeller 22. It is larger than (D3) and smaller than the distance (D4) to the highest point.

상술한 바와 같이, 상기 교반기(1C)는 상기 복수개의 분사 노즐(42) 중 적어도 일부가 나머지 중 적어도 일부와 서로 다른 높이에서 교반 날개(22a)와 마주보는 구조를 가짐으로써 교반 날개(22a)를 폭 방향(W)으로 넓은 범위에서 세척하는 것이 가능하다.
As described above, the stirrer 1C has a structure in which at least some of the plurality of injection nozzles 42 face the stirring vanes 22a at different heights from at least some of the others, thereby allowing the stirring vanes 22a to be separated. It is possible to wash in a wide range in the width direction (W).

다음은, 도 7을 참조하여 본 발명에 따른 교반기(1~1c)의 임펠러(22)를 세척하는 방법에 대해 설명하기로 한다.Next, a method of washing the impeller 22 of the agitators 1 to 1c according to the present invention will be described with reference to FIG. 7.

도 7은 본 발명에 따른 임펠러 세척 방법을 나타내는 순서도이다.7 is a flow chart showing an impeller cleaning method according to the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명에 따른 임펠러 세척 방법은, (S1) 임펠러(22)를 상승시키는 단계, (S2) 기체 분사부(40)를 작동시키는 단계 및 (S3) 임펠러(22)를 하강시키는 단계를 포함한다.Referring to Figure 7, the impeller cleaning method according to the present invention, (S1) raising the impeller 22, (S2) operating the gas injection unit 40 and (S3) descending the impeller 22 It comprises the step of.

상기 (S1) 단계는, 교반기(1~1c)를 혼합 균일화 모드에서 세척 모드로 전환시키는 단계이다. 즉, 상기 (S1) 단계는, 임펠러(22)가 혼합물 속에 잠겨 있는 상태에서 승강 구동부(32)를 작동시켜 피스톤(32b)을 상승시킴으로써 임펠러(22)의 교반 날개(22a)가 분사 노즐(42)과 마주보도록 하는 단계이다.The step (S1) is a step of switching the stirrer 1 to 1c from the mixing homogenization mode to the washing mode. That is, in the step (S1), the stirring blade (22a) of the impeller 22 is the injection nozzle 42 by operating the lifting drive unit 32 while raising the piston (32b) while the impeller 22 is locked in the mixture. ).

상기 (S2) 단계는, 상승된 임펠러(22)에 분사 노즐(42)을 통해 기체를 분사시킴으로써 교반 날개(22a)에 교착된 혼합물을 씻어내는 단계이다. 상술한 바와 같이 상기 기체의 분사는 임펠러(22)의 회전과 함께 이루어지는 것이 바람직하다. 따라서, 상기 (S2) 단계는 회전 구동부(31)를 작동시키는 단계를 더 포함할 수 있다.Step (S2) is a step of washing the mixture stuck to the stirring blade (22a) by injecting gas through the injection nozzle 42 to the raised impeller (22). As described above, the injection of the gas is preferably performed together with the rotation of the impeller 22. Therefore, the step S2 may further include operating the rotation driver 31.

상기 (S3) 단계는, (S2) 단계를 통해 세척이 완료된 임펠러(22)를 다시 하강시킴으로써 교반기(1~1c)를 혼합 균일화 모드로 전환시키는 단계이다. 즉, 상기 (S3) 단계는, 승강 구동부(32)를 작동시켜 피스톤(32b)을 하강시킴으로써 임펠러(22)가 분사 노즐(42)보다 더 낮게 위치하도록 함과 동시에 혼합물 속에 잠기도록 하는 단계이다. The step (S3) is a step of converting the stirrers 1 to 1c into the mixing homogenization mode by lowering the impeller 22 which has been cleaned through the step (S2). That is, the step (S3) is to operate the lifting drive unit 32 to lower the piston 32b so that the impeller 22 is positioned lower than the injection nozzle 42 and at the same time soaked in the mixture.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 임펠러 세척 방법은, 혼합물이 교착된 임펠러(22)의 교반 날개(22a)를 간편하게 세척함으로써 양질의 혼합물을 효율적으로 생산할 수 있도록 하는 효과를 가져온다.
As described above, the impeller cleaning method according to the present invention, by simply washing the stirring blade (22a) of the impeller 22 in which the mixture is interlocked, has the effect of efficiently producing a good mixture.

이상에서 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not to be limited to the details thereof and that various changes and modifications will be apparent to those skilled in the art. And various modifications and variations are possible within the scope of the appended claims.

1,1a,1b,1c: 교반기 10: 챔버부
11: 측벽 12: 바닥 플레이트
13: 덮개 플레이트 20: 교반부
21: 회전 축 22: 임펠러
22a: 교반 날개 30: 구동부
31: 회전 구동부 32: 승강 구동부
32a: 실린더 32b: 피스톤
40: 기체 분사부 41: 에어 콤프레서
42: 분사 노즐
1, 1a, 1b, 1c: Stirrer 10: Chamber part
11: side wall 12: bottom plate
13: cover plate 20: stirring section
21: axis of rotation 22: impeller
22a: stirring blade 30: drive part
31: rotation drive unit 32: lifting drive unit
32a: cylinder 32b: piston
40: gas injection part 41: air compressor
42: spray nozzle

Claims (23)

바닥 플레이트, 상기 바닥 플레이트와 마주보는 덮개 플레이트 및 상기 바닥 플레이트와 덮개 플레이트 사이를 연결하는 측벽을 포함하며, 혼합물이 수용되는 내부 공간을 구비하는 챔버부;
상기 덮개 플레이트를 관통하는 회전 축 및 상기 회전 축의 일측 단부와 연결되며 상기 챔버부의 내부 공간에서 상기 챔버부의 내측 면과 이격되어 위치하는 임펠러를 포함하는 교반부; 및
상기 측벽으로부터 상기 내부 공간을 향하는 방향으로 개방된 적어도 하나의 분사 노즐을 구비하는 적어도 하나의 기체 분사부를 포함하는 교반기.
A chamber part including a bottom plate, a cover plate facing the bottom plate, and a side wall connecting the bottom plate and the cover plate, the chamber part having an inner space in which the mixture is accommodated;
A stirring part including a rotating shaft passing through the cover plate and an end of the rotating shaft and an impeller spaced apart from an inner surface of the chamber part in an inner space of the chamber part; And
And at least one gas jet having at least one jet nozzle open in a direction from the side wall toward the internal space.
제1항에 있어서,
상기 분사 노즐은,
상기 챔버의 내부 공간에서 상기 임펠러와 대응되는 높이에 위치하거나, 상기 임펠러보다 더 높게 위치하는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 1,
The spray nozzle
Stirrer is located at a height corresponding to the impeller in the inner space of the chamber, or higher than the impeller.
제2항에 있어서,
상기 임펠러는,
상기 교반기가 상기 혼합물을 젓는 혼합 균일화 모드인 경우 상기 분사 노즐보다 더 낮게 위치하며,
상기 교반기가 상기 임펠러의 표면에 교착된 혼합물을 제거하는 세척 모드인 경우 상기 분사 노즐과 대응되는 높이에 위치하는 것을 특징으로 하는 교반기.
3. The method of claim 2,
The impeller
The stirrer is lower than the spray nozzle when in a mixing homogenization mode to stir the mixture,
And the stirrer is positioned at a height corresponding to the spray nozzle when the stirrer is in a washing mode to remove the mixture adhering to the surface of the impeller.
제3항에 있어서,
상기 분사 노즐은,
상기 교반기가 상기 세척 모드인 경우 상기 임펠러를 향하는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 3,
The spray nozzle
Stirrer, characterized in that facing the impeller when the stirrer is in the cleaning mode.
제1항에 있어서,
상기 회전 축의 타측 단부와 연결되는 구동부를 더 포함하며,
상기 구동부는 상기 회전 축과 직접 또는 간접적으로 연결되어 상기 회전 축에 회전 동력을 전달하도록 설치된 회전 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 1,
Further comprising a drive unit connected to the other end of the rotation axis,
The drive unit is agitator, characterized in that it comprises a rotary drive connected to the rotary shaft directly or indirectly installed to transmit rotational power to the rotary shaft.
제5항에 있어서,
상기 회전 구동부로서 전동식 모터가 적용되는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 5,
Stirrer characterized in that the electric motor is applied as the rotation drive.
제5항에 있어서,
상기 구동부는 상기 회전 축과 직접 또는 간접적으로 연결되어 상기 교반부를 승강시킬 수 있도록 설치된 승강 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 5,
The drive unit is a stirrer, characterized in that it further comprises a lifting drive unit which is connected to the rotary shaft directly or indirectly to lift the stirring unit.
제7항에 있어서,
상기 승강 구동부로서 피스톤-실린더 장치, 밸트-풀리 장치 및 랙-기어 장치 중 선택된 어느 하나가 적용되는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 7, wherein
An agitator, characterized in that any one selected from a piston-cylinder device, a belt-pulley device and a rack-gear device is applied as the lift drive.
제1항에 있어서,
상기 분사 노즐은 상기 측벽으로부터 상기 회전 축을 향하는 방향을 기준으로 소정의 각도만큼 틸팅(Tilting)된 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 1,
And the spray nozzle is tilted by a predetermined angle with respect to the direction from the side wall toward the rotation axis.
제9항에 있어서,
상기 챔버부는 원통형이며,
상기 임펠러는 복수개의 교반 날개를 구비하는 것을 특징으로 하는 교반기.
10. The method of claim 9,
The chamber portion is cylindrical,
The impeller is agitator, characterized in that provided with a plurality of stirring blades.
제10항에 있어서,
상기 복수개의 교반 날개 각각은,
상기 회전 축의 둘레로부터 상기 측벽을 향해 일정 길이로 연장되며,
서로 일정한 간격으로 위치하는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 10,
Each of the plurality of stirring vanes,
Extends a predetermined length from the circumference of the rotational axis toward the side wall,
Stirrer, characterized in that located at regular intervals from each other.
제11항에 있어서,
상기 분사 노즐의 틸팅 각도는 0°초과
Figure pat00007
Figure pat00008
이하인 것을 특징으로 하는 교반기.(n: 교반 날개의 개수, L: 교반 날개의 길이, R: 회전 축으로부터 측벽의 내측 면에 이르는 최단 거리)
12. The method of claim 11,
The tilt angle of the spray nozzle is greater than 0 °
Figure pat00007
Figure pat00008
(N: the number of stirring blades, L: the length of the stirring blades, R: the shortest distance from the rotational axis to the inner side of the side wall)
제9항에 있어서,
상기 틸팅 방향은 상기 회전 축의 회전 방향과 동일한 것을 특징으로 하는 교반기.
10. The method of claim 9,
The tilting direction is the stirrer, characterized in that the same as the rotation direction of the rotation axis.
제1항에 있어서,
상기 분사 노즐은 상기 측벽 둘레를 따라 복수개 설치되는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 1,
A plurality of spray nozzles are installed along the circumference of the side wall.
제3항에 있어서,
상기 분사 노즐은 상기 바닥 플레이트로부터 이르는 거리가 서로 다른 적어도 2 이상의 분사 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 3,
And the spray nozzle comprises at least two spray nozzles having different distances from the bottom plate.
제15항에 있어서,
상기 교반기가 세척 모드인 경우 상기 분사 노즐 각각은 상기 임펠러의 최 하단 및 최 상단 사이에 위치하는 것을 특징으로 하는 교반기.
16. The method of claim 15,
And wherein each of said spray nozzles is located between the bottom and top of said impeller when said stirrer is in wash mode.
제1항에 있어서,
상기 분사 노즐은 상기 측벽에 매립된 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 1,
And the spray nozzle is embedded in the side wall.
제1항에 있어서,
상기 기체는 불활성 기체인 것을 특징으로 하는 교반기.
The method of claim 1,
The gas is an agitator, characterized in that the inert gas.
제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 교반기의 임펠러를 세척하는 방법으로서,
(a) 상기 교반기가 혼합 균일화 모드인 상태에서 상기 승강 구동 장치를 작동시켜 상기 임펠러를 상승시키는 단계;
(b) 상기 기체 분사부를 작동시켜 상기 임펠러 표면에 교착된 혼합물을 제거하는 단계; 및
(c) 상기 승강 구동 장치를 작동시켜 상기 임펠러를 하강시키는 단계를 포함하는 임펠러 세척 방법.
A method of washing an impeller of a stirrer according to any one of claims 1 to 18,
(a) operating the lift drive device to raise the impeller while the stirrer is in a mixing homogenization mode;
(b) operating the gas injector to remove the mixture stuck to the impeller surface; And
(c) operating the lift drive device to lower the impeller.
제19항에 있어서,
상기 (a) 단계는,
상기 임펠러를 상기 분사 노즐과 대응되는 높이에 위치시키는 단계임을 특징으로 하는 임펠러 세척 방법.
20. The method of claim 19,
The step (a)
Impeller cleaning method, characterized in that for positioning the impeller at a height corresponding to the injection nozzle.
제19항에 있어서,
상기 (b) 단계는,
상기 분사 노즐을 통해 상기 임펠러에 기체를 분사하는 단계임을 특징으로 하는 임펠러 세척 방법.
20. The method of claim 19,
The step (b)
Impeller cleaning method characterized in that for injecting gas to the impeller through the injection nozzle.
제19항에 있어서,
상기 (b) 단계는,
상기 임펠러의 회전 및 상기 기체의 분사가 함께 수행되는 단계임을 특징으로 하는 임펠러 세척 방법.
20. The method of claim 19,
The step (b)
Impeller cleaning method characterized in that the step of performing the rotation of the impeller and the injection of the gas together.
제19항에 있어서,
상기 (c) 단계는,
상기 분사 노즐보다 낮은 위치로 상기 임펠러를 하강시키는 단계임을 특징으로 하는 임펠러 세척 방법.
20. The method of claim 19,
The step (c)
Impeller cleaning method, characterized in that for lowering the impeller to a lower position than the injection nozzle.
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