KR20130108355A - Energy-ray-curable resin composition, adhesive comprising same, and cured object obtained therefrom - Google Patents

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Abstract

경화성, 접착성, 저장 안정성을 만족하는 에너지선 경화성 수지 조성물로서, (A) 양이온 중합성 화합물, (B) 특정의 광 양이온 중합 개시제, (C) 페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종 이상을 함유하는 것을 특징으로 한다. 또 해당 에너지선 경화성 수지 조성물이 경화되어 이루어진 경화체, 및 해당 에너지선 경화성 수지 조성물로 이루어진 접착제도 제공한다.An energy ray curable resin composition that satisfies curability, adhesiveness, and storage stability, comprising: (A) a cationically polymerizable compound, (B) a specific photocationic polymerization initiator, (C) a phenolic antioxidant, and a quinone antioxidant It is characterized by containing one or two or more of them. Moreover, the hardening body by which the said energy-beam curable resin composition hardened | cured, and the adhesive agent which consists of this energy-beam curable resin composition are also provided.

Description

에너지선 경화성 수지 조성물과 그것을 이용한 접착제 및 경화체{ENERGY-RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, ADHESIVE COMPRISING SAME, AND CURED OBJECT OBTAINED THEREFROM}Energy-beam curable resin composition, adhesive and hardening body using the same {ENERGY-RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, ADHESIVE COMPRISING SAME, AND CURED OBJECT OBTAINED THEREFROM}

본원발명은 에너지선 경화성 수지 조성물과 그것을 이용한 접착제 및 경화체에 관한 것이다.The present invention relates to an energy ray curable resin composition, an adhesive and a cured product using the same.

최근의 엘렉트로닉스 분야에서는 기기가 고성능화되고 있다. 특히 CD, DVD, 청색 반도체 레이저에 대응한 Blu-ray 디스크, HD-DVD등 광기록 매체의 재생·기록에 이용되는 광픽업 장치나 액정, 유기 전계 발광(organic electroluminescence) 등의 디스플레이 부품이나 CCD, CMOS라는 이미지 센서 등의 전자 부품, 나아가 반도체 부품 등에 이용되는 소자 패키지 등의 접착시에는 접착 후에 부재끼리의 위치가 어긋나면 이들 전자 부품의 동작에 문제가 생긴다. 그래서 높은 접착성과 낮은 경화 수축성을 겸비한 접착제가 요구되고 있다.In the field of electronics in recent years, devices have become high performance. In particular, optical pickup devices used for reproduction and recording of optical recording media such as Blu-ray discs and HD-DVDs corresponding to CD, DVD, blue semiconductor lasers, display components such as liquid crystals, organic electroluminescence, CCDs, In the case of bonding electronic components such as an image sensor such as a CMOS, and also an element package used for a semiconductor component or the like, if the positions of the members are shifted after the bonding, a problem occurs in the operation of these electronic components. Therefore, there is a demand for an adhesive having both high adhesion and low curing shrinkage.

나아가 공예 유리의 받침대, 접시의 고정 용도, 렌즈, 프리즘, 카메라, 쌍안경 및 현미경 등에 이용되는 광학 소자의 접착시에도 부재끼리의 위치가 어긋나면 미관을 해치거나 광학 소자로서 문제가 생기는 경우가 있다. 그래서 엘렉트로닉스 이외의 분야에서도 높은 접착성과 낮은 경화 수축성이 요구되고 있다.Furthermore, when the positions of the members are displaced even during the bonding of optical elements used for craft glass holders, plates for fixing, lenses, prisms, cameras, binoculars, and microscopes, the aesthetics may be impaired or problems may arise as optical elements. Therefore, high adhesiveness and low curing shrinkage are required in fields other than electronics.

이러한 기술의 추세로 높은 접착성과 낮은 경화 수축성을 겸비한 에너지선 경화형 양이온 중합성 화합물이 요구되고 있다.There is a demand for an energy ray-curable cationically polymerizable compound having high adhesion and low curing shrinkage due to the trend of such technology.

일본특개평1-213304호 공보(특허문헌 1)에는 광학적 조형용 수지 조성물에 에너지선 경화성 양이온 중합성 유기물질과 에너지선 감수성 양이온 중합 개시제를 함유시킴으로써 접착성이나 경화 수축성을 개선하는 것이 제안되었다.Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 1-213304 (Patent Document 1) proposes to improve adhesion and curing shrinkage property by containing an energy ray-curable cationically polymerizable organic material and an energy ray-sensitive cationic polymerization initiator in the resin composition for optical molding.

그러나 이러한 에너지선 경화성 수지 조성물은 양이온 중합 개시제의 음이온 부위에 비소(As)나 안티몬(Sb)이라는 독성이 강한 원소가 이용되고 있기 때문에 취급이나 환경에 미치는 영향이 우려되는 문제가 있었다. 또한 해당 음이온 부위의 분해에 의해 불화물 이온을 방출하고 금속에 대한 부식성(이하, 「부식성」이라고 칭한다)을 나타내기 때문에 사용이 한정된다는 문제가 있었다.However, such an energy ray-curable resin composition has a problem that the effect on the handling and the environment is concerned because an toxic element such as arsenic (As) or antimony (Sb) is used in the anion portion of the cationic polymerization initiator. In addition, there is a problem that use is limited because fluoride ions are released by decomposing the anion site and exhibit corrosiveness to the metal (hereinafter referred to as "corrosion").

이 문제를 해결하기 위해 일본특표평11-501909호 공보(특허문헌 2)에서는 광 양이온 중합 개시제를 첨가한 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용함으로써 속(速)경화성을 손상시키지 않고 부식성, 안전성을 개량하는 것이 제안되었다. 그러나 양이온 중합성 화합물에 양이온 중합 개시제를 첨가한 상태에서 장기간에 걸쳐 저장하면 자외선이 차단된 상태에서도 양이온 중합 개시제로부터 양이온이 자연 발생하는 경우가 있었다. 이 양이온에 의해 양이온 중합성 화합물의 중합이 개시되어 증점이나 겔화가 발생하기 때문에 저장 안정성이 부족하다는 문제가 있었다.In order to solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 11-501909 (Patent Document 2) uses an energy ray curable resin composition containing a photocationic polymerization initiator to improve corrosion resistance and safety without impairing fast curing properties. Has been proposed. However, when stored for a long time in a state where a cationic polymerization initiator is added to a cationic polymerizable compound, cations naturally occur from the cationic polymerization initiator even in the state where ultraviolet rays are blocked. Since the cation initiates polymerization of the cationically polymerizable compound and causes thickening and gelation, there is a problem that the storage stability is insufficient.

이러한 문제점을 해결하기 위해 일본특개2003-292606호 공보(특허문헌 3)에서는 옥세탄 화합물에 염기성 화합물, 예를 들면 아민 등의 염기성 유기 화합물을 첨가함으로써 옥세탄 화합물의 중합성을 손상시키지 않고 저장 안정성을 개량하는 것이 제안되었다. 그러나 아민 등의 염기성 유기 화합물의 첨가에 의해서도 여전히 양이온 중합성 화합물의 중합 금지 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있어 실용화할 만한 충분한 저장 안정성을 얻을 수 없다는 문제가 있었다.In order to solve this problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-292606 (Patent Document 3) discloses storage stability without impairing the polymerizability of an oxetane compound by adding a basic compound such as an amine to a oxetane compound. It was proposed to improve the. However, the addition of basic organic compounds such as amines still has a problem that the polymerization inhibitory effect of the cationically polymerizable compound may not be sufficiently obtained, so that sufficient storage stability for practical use cannot be obtained.

저장 안정성의 문제점을 해결하기 위해 일본특개2003-155413호 공보(특허문헌 4)에서는 양이온 중합성기를 가진 화합물에 포스핀옥사이드 유도체를 배합함으로써 양이온 중합 개시제의 중합 성능을 저하시키지 않고 저장 안정성을 향상시키는 것이 제안되었다. 또 일본특개2009-215329호 공보(특허문헌 5)에서는 필러를 함유하는 광 양이온 중합 개시제를 이용한 에너지선 경화성 수지 조성물의 저장 안정성 문제를 해결하는 방법으로서 1ppb 이하의 우라늄 함유 실리카 필러를 이용할 것을 제안하였다. 또한 일본특개2010-24364호 공보(특허문헌 6)에서는 엘렉트로닉스 분야 패키지 접착시에 필요한 높은 접착성과 도포성과 저투습성을 겸비한 접착제가 제안되었다. 그러나 본 발명에 의해 충분한 저장 안정성을 얻을 수 있는 것에 대한 기재는 없다.In order to solve the problem of storage stability, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-155413 (Patent Document 4) discloses that by adding a phosphine oxide derivative to a compound having a cationic polymerizable group, the storage stability can be improved without lowering the polymerization performance of the cationic polymerization initiator. Has been proposed. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-215329 (Patent Document 5) proposes to use a uranium-containing silica filler of 1 ppb or less as a method for solving the storage stability problem of an energy ray-curable resin composition using a photocationic polymerization initiator containing a filler. . In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-24364 (Patent Document 6) proposes an adhesive having both high adhesion, applicability, and low moisture permeability, which are required for bonding electronics packages. However, there is no description that can be obtained sufficient storage stability by the present invention.

특허문헌 1: 일본특개평1-213304호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-213304 특허문헌 2: 일본특표평11-501909호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 11-501909 특허문헌 3: 일본특개2003-292606호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-292606 특허문헌 4: 일본특개2003-155413호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-155413 특허문헌 5: 일본특개2009-215329호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-215329 특허문헌 6: 일본특개2010-24364호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-24364

본 발명은 신속한 경화성을 나타내고, 그리고 장기보관 가능한 저장 안정성을 가진 에너지선 경화성 수지 조성물과 그것을 이용한 접착제에 관한 것이다.The present invention relates to an energy ray curable resin composition exhibiting rapid curability and having a long term storage stability and an adhesive using the same.

본 발명은 이하를 요지로 하는 것이다.The present invention is directed to the following.

(1)(A) 양이온 중합성 화합물, (B) 식(1)로 표시되는 광 양이온 중합 개시제, (C)페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종 이상을 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.(1) It contains 1 type (s) or 2 or more types of the group which consists of (A) cationically polymerizable compound, (B) photocationic polymerization initiator represented by Formula (1), (C) phenolic antioxidant, and quinone antioxidant. An energy ray curable resin composition characterized by the above-mentioned.

[화학식 1][Formula 1]

식(1)Equation (1)

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, A+는 오늄 양이온, B는 CnX2n +1이며, n은 1∼10의 정수를, X는 수소 또는 할로겐 원자를 나타낸다.)
(Wherein A + is an onium cation, B is C n X 2n +1 , n is an integer of 1 to 10, and X represents hydrogen or a halogen atom.)

(2) 상기 (1)에 기재된 식(1)에서의 B가 CF3로 표시되는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.(2) The energy-ray curing resin composition which is B in formula (1) according to (1) being represented by CF 3.

(3) (A) 성분 100질량부, (B)성분 0.1∼10질량부, (C)성분 0.01∼20질량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 (1) 또는 (2) 중 어느 1항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물.(3) 100 mass parts of (A) component, 0.1-10 mass parts of (B) component, and 0.01-20 mass parts of (C) component are contained, The energy in any one of (1) or (2) characterized by the above-mentioned. Line curable resin composition.

(4) (D) 식(2)로 표시되는 염을 함유하는 것을 특징으로 하는 (1)∼(3) 중 어느 1항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물.(4) The energy-beam curable resin composition in any one of (1)-(3) characterized by containing the salt represented by (D) Formula (2).

[화학식 2](2)

식(2)Equation (2)

Figure pct00002
Figure pct00002

(식중, D+는 양이온을, m은 0∼20의 정수를, M은 0∼10의 정수를 나타낸다.)
(Wherein D + represents a cation, m represents an integer of 0 to 20, and M represents an integer of 0 to 10).

(5) (E) 필러를 함유하는 것을 특징으로 하는 (1)∼(4) 중 어느 1항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물.(5) The energy ray curable resin composition in any one of (1)-(4) characterized by containing (E) filler.

(6) 광 증감제를 함유하는 것을 특징으로 하는 (1)∼(5) 중 어느 1항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물.(6) The energy-beam curable resin composition in any one of (1)-(5) characterized by containing a photosensitizer.

(7) 상기 (1)∼(6) 중 어느 1항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물이 경화되어 이루어지는 경화체.(7) The hardened | cured material by which the energy-beam curable resin composition in any one of said (1)-(6) is hardened | cured.

(8) 상기 (1)∼(6) 중 어느 1항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물로 이루어진 접착제.(8) Adhesive which consists of energy-beam curable resin composition in any one of said (1)-(6).

상기 구성으로 이루어진 에너지선 경화성 수지 조성물은, 예를 들면 경화성, 접착성, 저장 안정성을 만족할 수 있다.The energy ray curable resin composition which consists of the said structure can satisfy curability, adhesiveness, and storage stability, for example.

<용어의 설명><Explanation of term>

본원 명세서에서 에너지선 경화성 수지 조성물이란 에너지선을 조사함으로써 경화시킬 수 있는 수지 조성물을 의미한다. 여기서 에너지선이란 자외선, 가시광선 등으로 대표되는 에너지선을 의미한다.In this specification, an energy-beam curable resin composition means the resin composition which can be hardened by irradiating an energy beam. Herein, the energy ray refers to an energy ray represented by ultraviolet rays, visible rays, or the like.

본원 명세서에서 저장 안정성이란 장기간에 걸친 보존 후에도 증점이나 겔화가 생기는 않는 것을 말한다.Storage stability herein means that no thickening or gelation occurs even after long term storage.

이하, 본원발명의 실시형태에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물은 이하에 기재하는 (A) 양이온 중합성 화합물, (B)광 양이온 중합 개시제, (C)페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종을 함유하는 것을 특징으로 한다.The energy-beam curable resin composition which concerns on this embodiment is 1 type from the group which consists of (A) cationically polymerizable compound, (B) photocationic polymerization initiator, (C) phenolic antioxidant, and quinone antioxidant which are described below, or It is characterized by containing 2 types.

상기 구성으로 이루어진 에너지선 경화성 수지 조성물은 우수한 안전성, 부식성, 경화성, 저장 안정성, 접착성을 가진다.Energy-beam curable resin composition which consists of the said structure has the outstanding safety, corrosiveness, curability, storage stability, adhesiveness.

다음으로, 본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물의 성분에 대해 설명하기로 한다.Next, the component of the energy-beam curable resin composition which concerns on this embodiment is demonstrated.

<(A) 양이온 중합성 화합물><(A) cationically polymerizable compound>

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물은 (A) 양이온 중합성 화합물을 필수 성분으로 한다.The energy-beam curable resin composition which concerns on this embodiment makes (A) cationically polymerizable compound an essential component.

(A) 양이온 중합성 화합물로서는 고리형 에테르류, 양이온 중합성 비닐 화합물 등을 들 수 있다. 고리형 에테르류로서는 에폭시, 옥세탄 등의 화합물을 들 수 있다. 양이온 중합성 비닐 화합물로서는 비닐에테르, 비닐아민, 스티렌 등을 들 수 있다. 이들 화합물 혹은 유도체는 단독 또는 2종류 이상을 선택하여 사용해도 된다.(A) As a cationically polymerizable compound, cyclic ethers, a cationically polymerizable vinyl compound, etc. are mentioned. Examples of the cyclic ethers include compounds such as epoxy and oxetane. Vinyl ether, vinylamine, styrene, etc. are mentioned as a cationically polymerizable vinyl compound. These compounds or derivatives may be used alone or in combination of two or more.

여기서 양이온성 중합 화합물로서는 모노머, 올리고머 또는 폴리머 어느 것이든 사용 가능하다.As the cationic polymerization compound, any monomer, oligomer or polymer can be used here.

에폭시 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물, 플루오렌형 에폭시 화합물, 노볼락 페놀형 에폭시 화합물, 크레졸 노볼락형 에폭시 화합물, 이들의 변성물 등의 방향족계 혹은 에틸렌글리콜의 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르 또는 1,6-헥산디올의 디글리시딜에테르 등 알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르, 글리세린 혹은 그 알킬렌옥사이드 부가체의 디 또는 트리글리시딜에테르 등 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜 혹은 그 알킬렌옥사이드 부가체의 디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜 혹은 그 알킬렌옥사이드 부가체의 디글리시딜에테르 등의 폴리알킬렌글리콜의 디글리시딜에테르 등의 지방족계를 들 수 있다. 여기서 알킬렌옥사이드로서는 에틸렌옥사이드 및 프로필렌 옥사이드 등의 지방족계를 들 수 있다.Although it does not specifically limit as an epoxy compound, For example, a bisphenol-A epoxy compound, a bisphenol F-type epoxy compound, a bisphenol S-type epoxy compound, a biphenyl type epoxy compound, a fluorene type epoxy compound, a novolak phenol type epoxy compound, a cresol furnace Divalents of alkylene glycols, such as phenolic epoxy compounds, aromatics such as modified compounds thereof, or diglycidyl ethers of ethylene glycol, diglycidyl ethers of propylene glycol, or diglycidyl ethers of 1,6-hexanediol Polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, such as glycidyl ethers, glycerin or diglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof, polyethylene glycol or diglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof, polypropylene glycols or To diglycidyl of polyalkylene glycol, such as diglycidyl ether of this alkylene oxide adduct There may be mentioned the aliphatic, such as LE. Here, as alkylene oxide, aliphatic systems, such as ethylene oxide and a propylene oxide, are mentioned.

에폭시 화합물 중에서는 우수한 접착성, 저투습성, 접착 내구성을 얻을 수 있다는 점에서 (a-1) 지환식 에폭시 화합물 및/또는 (a-2) 방향환을 가진 에폭시 수지가 바람직하고, (a-1) 지환식 에폭시 화합물 및 (a-2) 방향환을 가진 에폭시 수지를 병용하는 것이 더욱 바람직하다.Among the epoxy compounds, an epoxy resin having (a-1) an alicyclic epoxy compound and / or (a-2) an aromatic ring is preferable in that excellent adhesiveness, low moisture permeability, and adhesive durability can be obtained, and (a-1) It is more preferable to use together the alicyclic epoxy compound and the epoxy resin which has the (a-2) aromatic ring.

(a-1) 지환식 에폭시 화합물로서는 적어도 1개의 시클로헥센 또는 시클로펜텐환, 피넨환 등의 시클로알칸환을 가진 화합물을 과산화수소, 과산 등 적당한 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 화합물 혹은 그 유도체나, 비스페놀 A형 에폭시 화합물 등의 방향족 에폭시 화합물을 수소화하여 얻어지는 수소화 에폭시 화합물 등의 지환식 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 화합물은 1종 또는 2종 이상을 선택하여 사용해도 좋다.As the alicyclic epoxy compound (a-1), a compound obtained by epoxidizing a compound having a cycloalkane ring such as at least one cyclohexene or a cyclopentene ring or a pinene ring with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid, or a derivative thereof, or a bisphenol A Alicyclic epoxy compounds, such as a hydrogenated epoxy compound obtained by hydrogenating aromatic epoxy compounds, such as a type | mold epoxy compound, etc. are mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

이들 중에서는 1분자내에 1개 이상의 에폭시기와 1개 이상의 에스테르기를 함유하는 지환식 에폭시 화합물이 바람직하다. 이러한 지환식 에폭시 화합물은 특히 접착성, 광경화성이 우수하기 때문에 바람직하다.Among these, an alicyclic epoxy compound containing at least one epoxy group and at least one ester group in one molecule is preferable. Such an alicyclic epoxy compound is preferable because it is particularly excellent in adhesiveness and photocurability.

지환식 에폭시 화합물로서는 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카복시레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카복시레이트가 바람직하다.Examples of the alicyclic epoxy compound include 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and the like. Of these, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate is preferable.

(a-2) 방향환을 가진 에폭시 수지로서는 모노머, 올리고머 또는 폴리머 어느것이든 사용 가능하며 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 플루오렌형 에폭시 수지, 노볼락 페놀형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 이들의 변성물 등을 들 수 있다. 이들 에폭시 수지는 1종 또는 2종 이상을 선택하여 사용해도 좋다. 이들 중에서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지로 이루어진 군 중 1종 또는 2종 이상이 접착성, 저투습성이 우수하다는 점에서 바람직하다. 이들 중에서는 비스페놀 F형 에폭시 수지가 바람직하다.(a-2) As the epoxy resin having an aromatic ring, any monomer, oligomer or polymer can be used, and bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol type S epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and naphthalene type epoxy resin can be used. , Fluorene type epoxy resins, novolac phenol type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, modified substances thereof and the like. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. Among these, 1 type (s) or 2 or more types from the group which consists of a bisphenol-A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, and a biphenyl type epoxy resin are preferable at the point which is excellent in adhesiveness and low moisture permeability. In these, bisphenol F-type epoxy resin is preferable.

광경화성, 고정밀도 도포성, 접착성, 투습성, 접착 내구성의 균형을 고려한 경우 (a-1)과 (a-2)의 합계 100질량부 중 (a-2)성분이 20∼80질량부의 범위인 것이 바람직하고, 40∼60질량부의 범위인 것이 더욱 바람직하다.When considering the balance of photocurability, high accuracy coating property, adhesiveness, moisture permeability, and adhesive durability, the range of (a-2) component is 20-80 parts by mass in 100 parts by mass of the total of (a-1) and (a-2). It is preferable that it is and it is more preferable that it is the range of 40-60 mass parts.

옥세탄 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄(일본 도아합성(주)제 상품명 OXT101 등), 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠(일본 도아합성(주)제 상품명 OXT121 등), 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄(일본 도아합성(주)제 상품명 OXT211 등), 디(1-에틸-3-옥세타닐)메틸에테르(일본 도아합성(주)제 상품명 OXT221 등), 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄(일본 도아합성(주)제 상품명 OXT212 등) 등을 들 수 있다. 옥세탄 화합물이란 분자내에 1 이상의 옥세탄환을 가진 화합물을 말한다.Although it does not specifically limit as an oxetane compound, 3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane (trade name of OXT101 by Nippon Doa Synthetic Co., Ltd.), 1, 4-bis [(3-ethyl-3- oxetanyl) me Methoxymethyl] benzene (trade name: OXT121 manufactured by Nippon Doa Synthetic Co., Ltd.), 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane (trade name OXT211, manufactured by Nippon Doa Synthetic Co., Ltd.), di (1-ethyl-3 -Oxetanyl) methyl ether (trade name: OXT221 manufactured by Nippon Doa Synthetic Co., Ltd.), 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane (trade name: OXT212 manufactured by Nippon Doa Synthetic Co., Ltd.), and the like. Can be mentioned. An oxetane compound means the compound which has one or more oxetane rings in a molecule | numerator.

비닐에테르 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만 에틸렌글리콜디비닐에테르, 에틸렌글리콜모노비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜모노비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 프로필렌글리콜디비닐에테르, 디프로필렌글리콜디비닐에테르, 부탄디올디비닐에테르, 헥산디올디비닐에테르, 시클로헥산디메탄올디비닐에테르, 히드록시에틸모노비닐에테르, 히드록시노닐모노비닐에테르, 트리메틸올프로판트리비닐에테르 등의 디 또는 트리비닐에테르 화합물, 에틸비닐에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 옥타데실비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르, 히드록시부틸비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, 시클로헥산디메탄올모노비닐에테르, n-프로필비닐에테르, 이소프로필비닐에테르, 이소프로페닐에테르-o-프로필렌카보네이트, 도데실비닐에테르, 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 옥타데실비닐에테르 등의 모노비닐에테르 화합물 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a vinyl ether compound, Ethylene glycol divinyl ether, ethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol Di or trivinyl ether, such as divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, hydroxyethyl monovinyl ether, hydroxynonyl monovinyl ether, and trimethylol propane trivinyl ether Compound, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol monovinyl ether, n- Propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether-o- Ropil and the like can be mentioned monovinyl ether compounds such as vinylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, octadecyl vinyl ether.

비닐아민 화합물로서는 특별히 한정되지 않지만 N-비닐디메틸아민, N-비닐에틸부틸아민, N-비닐디페닐아민, N-비닐포름아미드, N-비닐아세트아미드 화합물 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a vinylamine compound, N-vinyl dimethylamine, N-vinyl ethyl butylamine, N-vinyl diphenylamine, N-vinylformamide, an N-vinylacetamide compound, etc. are mentioned.

(A) 양이온 중합성 화합물 중에서는 우수한 접착성, 저투습성, 접착 내구성을 얻을 수 있다는 점에서 에폭시 화합물이 바람직하다.Among the cationic polymerizable compounds (A), epoxy compounds are preferred in that excellent adhesion, low moisture permeability, and adhesion durability can be obtained.

<(B) 광 양이온 중합 개시제><(B) photocationic polymerization initiator>

광 양이온 중합 개시제는 에너지선을 조사함으로써 양이온종이 발생하는 이하에 기재된 화합물이다.The photocationic polymerization initiator is a compound described below in which cationic species generate | occur | produce by irradiating an energy ray.

광 양이온 중합 개시제의 양이온종으로서는 오늄 양이온이 바람직하다. 오늄 양이온으로서는 아릴술포늄염 유도체, 아릴요도늄염 유도체 등을 들 수 있다. 광 양이온 중합 개시제의 음이온종으로서는 발암 등의 안전성, 부식성, 경화성, 접착성, 저장 안정성의 점에서 식(1)로 표시되는 화합물을 사용한다.As a cationic species of a photocationic polymerization initiator, an onium cation is preferable. As an onium cation, an arylsulfonium salt derivative, an aryl iodonium salt derivative, etc. are mentioned. As the anionic species of the photocationic polymerization initiator, a compound represented by the formula (1) is used in terms of safety, corrosiveness, curability, adhesion, and storage stability such as carcinogenesis.

[화학식 3](3)

식(1)Equation (1)

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 중, A+는 오늄 양이온, B는 CnX2n +1이며, n은 1∼10의 정수를, X는 수소 또는 할로겐 원자를 나타낸다.)(Wherein A + is an onium cation, B is C n X 2n +1 , n is an integer of 1 to 10, and X represents hydrogen or a halogen atom.)

이들 중에서는 식(1)의 B가 CF3인 것이 바람직하다. 식(1)의 B가 CF3인 광 양이온 중합 개시제로서는 이들로 한정되지는 않지만 치바재팬사제의 비스-(4-t-부틸-페닐)-요도늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드(CGI*BBI C1), 트리페닐술포늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드(CGI*TPS C1), 트리스-{4-아세틸-설파닐}-페닐}-술포늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드(GSID26-1) 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 비스-(4-t-부틸-페닐)-요도늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 트리페닐술포늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드 및 트리스-{4-아세틸-설파닐}-페닐}-술포늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드로 이루어진 군 중 1종 또는 2종 이상이 바람직하고, 비스-(4-t-부틸-페닐)-요도늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드가 더욱 바람직하다.Of these, it is preferable that B in the formula (1) is CF 3. Formula (1) B is CF 3 the photo cationic polymerization initiator as but not limited to those manufactured by Chiba Japan bis - (4-t- butyl-phenyl) iodonium-tris (trifluoromethane sulfonyl) methoxy Tide (CGI * BBI C1), triphenylsulfonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) methide (CGI * TPS C1), tris-'4-acetyl-sulfanyl'-phenyl'-sulfonium-tris ( Trifluoromethanesulfonyl) methide (GSID26-1) and the like. Among these are bis- (4-t-butyl-phenyl) -iodonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) methide, triphenylsulfonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) methide and tris-sulfone 1 type, or 2 or more types are preferable from the group which consists of 4-acetyl- sulfanyl-phenyl- sulfonium- tris (trifluoromethanesulfonyl) metide, and bis- (4-t-butyl-phenyl)- More preferred is iodonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) methide.

(B) 광 양이온 중합 개시제로서는, 예를 들면 아릴술포늄염 유도체(예를 들면 치바재팬사제의 CGI*TPS C1, GSID26-1 등), 아릴요도늄염 유도체(예를 들면 치바재팬사제의 CGI*BBI C1) 등을 들 수 있다. 광 양이온 중합 개시제는 1종 또는 2종 이상을 선택하여 임의의 비율로 사용해도 된다.(B) As a photocationic polymerization initiator, for example, an arylsulfonium salt derivative (for example, CGI * TPS C1 by Chiba Japan, GSID26-1, etc.), an arylyodonium salt derivative (for example, CGI * BBI by Chiba Japan Co., Ltd.) C1) etc. can be mentioned. You may use 1 type (s) or 2 or more types of photocationic polymerization initiators in arbitrary ratios.

(B) 광 양이온 중합 개시제는 (A) 광 양이온 중합 화합물 100질량부에 대해 0.1∼10질량부의 비율로 함유시키는 것이 바람직하다. 이 범위에 있으면 경화성이 나빠지지도 않고 저장 안정성도 저하되지 않는다. 경화성과 저장 안정성의 점에서 광 양이온 중합 개시제의 사용량은 0.5∼5질량부가 더욱 바람직하고, 1∼3질량부가 가장 바람직하다.It is preferable to contain (B) photocationic polymerization initiator in the ratio of 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) photocationic polymerization compounds. If it exists in this range, hardenability will not worsen and storage stability will not fall, either. From the point of curability and storage stability, the amount of the photocationic polymerization initiator to be used is more preferably 0.5 to 5 parts by mass, and most preferably 1 to 3 parts by mass.

<(C)페놀계 산화방지제 및 퀴논계 산화방지제><(C) Phenolic antioxidant and quinone antioxidant>

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물은 산화방지제로서 페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종을 함유하는 것이 필수이다.It is essential for the energy-beam curable resin composition which concerns on this embodiment to contain 1 type or 2 types of the group which consists of a phenolic antioxidant and a quinone antioxidant as antioxidant.

페놀계 산화방지제로서는 페노티아진, 2,2-메틸렌-비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 카테콜, tert-부틸카테콜, 2-부틸-4-히드록시아니솔, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸, 2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트, 2-〔1-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸〕-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 3,9-비스〔2-〔3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시〕-1,1-디메틸에틸〕-2,4,8,10-테트라옥사스피로〔5,5〕운데칸, 펜타에리트리톨테트라키스〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트〕, 티오디에틸렌비스〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트〕, 옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, N,N'-헥산-1,6-디일비스〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온아미드〕, 벤젠프로판산, 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시-C7-C9측쇄 알킬에스테르, 2,4-디메틸-6-(1-메틸펜타데실)페놀, 디에틸〔〔3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐〕메틸〕포스포네이트, 3,3',3",5,5',5"-헥사-tert-부틸-a,a',a"-(메시틸렌-2,4,6-톨릴)트리-p-크레졸, 칼슘디에틸비스〔〔〔3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐〕메틸〕포스포네이트, 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸, 에틸렌비스(옥시에틸렌)비스〔3-(5-tert-부틸-4-히드록시-m-톨릴)프로피오네이트〕, 헥사메틸렌비스〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 1,3,5-트리스〔(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-크실릴)메틸〕-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, N-페닐벤젠아민과 2,4,6-트리메틸펜텐과의 반응 생성물, 2,6-디-tert-부틸-4-(4, 6-비스(옥틸티오)-1,3,5-트리아진-2-일아미노)페놀, 피크르산, 구연산 등을 들 수 있다.Phenothiazine, 2,2-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), catechol, tert-butylcatechol, 2-butyl-4-hydroxyanisole, 2 as a phenolic antioxidant , 6-di-tert-butyl-p-cresol, 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenylacrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenylacrylate, 4,4'-butylidenebis (6-tert-butyl-3 -Methylphenol), 4,4'-thiobis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 3,9-bis [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5- Methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], thiodiethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3 , 5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexane-1,6-diylbis [3- ( 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], benzenepropanoic acid, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy-C7-C9 branched alkyl ester, 2,4-dimethyl-6- (1-methylpentadecyl) phenol, diethyl [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate, 3,3 ', 3", 5,5 ', 5" -hexa-tert-butyl-a, a ', a "-(mesitylene-2,4,6-tolyl) tri-p-cresol, calcium diethylbis [ [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate, 4,6-bis (octylthiomethyl) -o-cresol, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate , 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione , 1,3,5-tris ((4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-xylyl) methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, N-phenylbenzene Reaction product of amine with 2,4,6-trimethylpentene, 2,6-di-tert-butyl-4- (4, 6-bis (octylthio) -1,3,5-triazin-2-yl Amino) phenol, picric acid, citric acid, etc. are mentioned.

퀴논계 산화방지제로서는 β-나프토퀴논, 2-메톡시-1,4-나프토퀴논, 메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 모노-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, p-벤조퀴논, 2,5-디페닐-p-벤조퀴논, 2,5-디-tert-부틸-p-벤조퀴논 등을 들 수 있다.As the quinone antioxidant, β-naphthoquinone, 2-methoxy-1,4-naphthoquinone, methylhydroquinone, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, mono-tert-butylhydroquinone, 2,5-di -tert- butylhydroquinone, p-benzoquinone, 2, 5- diphenyl- p- benzoquinone, 2, 5- di-tert- butyl- p- benzoquinone, etc. are mentioned.

이들 중에서는 펜타에리스리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 옥타데실-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트 및 2,5-디-tert-부틸-하이드로퀴논으로 이루어진 군 중 1종 또는 2종 이상이 바람직하고, 펜타에리스리톨·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]가 더욱 바람직하다.In these, pentaerythryl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl- One or two or more of the group consisting of 4-hydroxyphenyl) propionate and 2,5-di-tert-butyl-hydroquinone are preferable, and pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di -t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is more preferable.

(C)페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종은 (A) 광 양이온 중합 화합물 100질량부에 대해 0.01∼20질량부의 비율로 함유시키는 것이 바람직하다. 0.01질량부 이상이면 저장 안정성이 향상되고, 20질량부 이하이면 경화성을 저하시키지도 않는다. 경화성과 저장 안정성의 점에서 페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종의 사용량은 0.05∼10질량부가 더욱 바람직하고, 0.1∼5질량부가 가장 바람직하다.(C) It is preferable to contain 1 type or 2 types from the group which consists of a phenolic antioxidant and a quinone type antioxidant in the ratio of 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) photocationic polymerization compounds. If it is 0.01 mass part or more, storage stability will improve, and if it is 20 mass parts or less, it will not reduce curability. From the point of curability and storage stability, the amount of one or two of the group consisting of phenolic antioxidants and quinone antioxidants is more preferably 0.05 to 10 parts by mass, and most preferably 0.1 to 5 parts by mass.

<(D) 식(2)로 표시되는 염><Salt represented by (D) Formula (2)>

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물은 저장 안정성의 점에서 (D) 식(2)로 표시되는 포스핀옥사이드 유도체를 사용해도 좋다. (D) 식(2)로 표시되는 염은 1종만 또는 2종 이상을 선택하여 임의의 비율로 사용할 수 있다.The energy-beam curable resin composition which concerns on this embodiment may use the phosphine oxide derivative represented by (D) Formula (2) from a storage stability point. (D) The salt represented by Formula (2) can be used by arbitrary ratios selecting only 1 type or 2 or more types.

[화학식 4][Formula 4]

식(2)Equation (2)

Figure pct00004
Figure pct00004

(식중, D+는 양이온을, m은 0∼20의 정수를, M은 0∼10의 정수를 나타낸다.)
(Wherein D + represents a cation, m represents an integer of 0 to 20, and M represents an integer of 0 to 10).

식(2)로 표시되는 화합물로서는 이것으로 한정되지는 않지만 트리폴리인산나트륨, 테트라폴리인산나트륨, 인산암모늄, 인산삼칼슘, 인산은 등을 들 수 있다. 이들 중에서는 트리폴리인산나트륨이 바람직하다.Examples of the compound represented by the formula (2) include, but are not limited to, sodium tripolyphosphate, sodium tetrapolyphosphate, ammonium phosphate, tricalcium phosphate, and silver phosphate. Of these, sodium tripolyphosphate is preferred.

포스핀옥사이드 유도체는 (A) 광 양이온 중합 화합물 100질량부에 대해 0.01∼10질량부의 비율로 함유시키는 것이 바람직하다. 0.01질량부 이상이면 저장 안정성이 향상되고, 10질량부 이하이면 경화성을 저하시키지도 않는다. 경화성과 저장 안정성의 점에서 포스핀옥사이드 유도체의 사용량은 0.05∼5질량부가 보다 바람직하고, 0.1∼3질량부가 가장 바람직하다.It is preferable to contain a phosphine oxide derivative in the ratio of 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) photocationic polymerization compounds. If it is 0.01 mass part or more, storage stability will improve and if it is 10 mass parts or less, it will not reduce curability. In terms of curability and storage stability, the amount of the phosphine oxide derivative used is more preferably 0.05 to 5 parts by mass, and most preferably 0.1 to 3 parts by mass.

<(E) 필러><(E) filler>

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물은 필러(무기 충전제)를 더 함유해도 좋다.The energy ray curable resin composition which concerns on this embodiment may further contain a filler (inorganic filler).

필러로서는 실리카 입자, 유리 필러, 구상 알루미나, 파쇄 알루미나, 산화마그네슘, 산화베릴륨, 산화티타늄 등의 산화물류, 질화붕소, 질화규소, 질화알루미늄 등의 질화물류, 탄화규소 등의 탄화물류, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘 등의 수산화물류, 구리, 은, 철, 알루미늄, 니켈, 티타늄 등의 금속류나 합금류, 다이아몬드, 카본 등의 탄소계 충전재, 실리카 입자 등을 들 수 있다. 필러의 50%입자지름은 0.1㎛이상 15㎛이하의 범위인 것이 바람직하고, 90%입자지름이 3㎛이상 20㎛이하의 범위인 것이 바람직하다. 이러한 범위인 것으로 인해 입자지름이 너무 작아 응집하기 쉬워지는 일도 없고, 입자지름이 너무 커서 침강되기 쉬워지는 일도 없다. 이들 중에서는 실리카 입자가 바람직하다.As the filler, oxides such as silica particles, glass fillers, spherical alumina, crushed alumina, magnesium oxide, beryllium oxide and titanium oxide, nitrides such as boron nitride, silicon nitride and aluminum nitride, carbides such as silicon carbide, aluminum hydroxide and hydroxide Hydroxides such as magnesium, metals such as copper, silver, iron, aluminum, nickel and titanium, alloys, carbon-based fillers such as diamond and carbon, and silica particles. The 50% particle diameter of the filler is preferably in the range of 0.1 µm or more and 15 µm or less, and it is preferable that the 90% particle diameter is in the range of 3 µm or more and 20 µm or less. Due to such a range, the particle diameter is too small to easily aggregate, and the particle diameter is too large to easily settle. Among these, silica particles are preferable.

여기서 말하는 50%입자지름 및 90%입자지름이란 부피 누적 빈도 50%시 및 90%시의 입자지름을 가리킨다.The 50% particle diameter and the 90% particle diameter referred to here refer to the particle diameter at 50% and 90% of the cumulative volume.

입자지름의 측정 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만 예를 들면 레이저 회절 입도 분포계, 레이저 도플러 입도 분포계, 동적 광 산란 입도 분포계, 초음파 입도 분포계 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a measuring method of particle diameter, For example, a laser diffraction particle size distribution meter, a laser Doppler particle size distribution meter, a dynamic light scattering particle size distribution meter, an ultrasonic particle size distribution meter, etc. are mentioned.

실리카 입자란 화학 조성으로서 SiOX(1≤X≤2)로 표시되는 99%이상의 순도인 실리카 입자로서, 우라늄 함량 1ppb이하의 저우라늄 실리카 입자를 말한다.Silica particles are silica particles having a purity of 99% or more represented by SiO x (1 ≦ X ≦ 2) as a chemical composition and refer to zhouranium silica particles having a uranium content of 1 ppb or less.

실리카 입자의 합성법으로서는 특별히 한정되지 않지만 규산알칼리를 중화, 겔 건조, 분쇄 후 화염 용융하는 방법, 알콕시실란을 화염 분해하는 방법, 사염화규소 등의 휘발성 규소 화합물을 기상 가수분해하는 방법, 저우라늄 수정을 분쇄하고 그것을 용융하여 제조하는 방법 등을 들 수 있다. 이러한 방법은 안정된 저우라늄 실리카 입자를 용이하게 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.The method for synthesizing the silica particles is not particularly limited, but neutralizing alkali gels, drying and pulverizing the flame, and then flame melting the alkoxysilane, vapor phase hydrolysis of volatile silicon compounds such as silicon tetrachloride, and uranium crystal The method of grind | pulverizing and melting it, etc. are mentioned. This method is preferred because it is easy to obtain stable zuranium silica particles.

(E) 필러는 (A) 광 양이온 중합 화합물 100질량부에 대해 50∼300질량부의 비율로 함유시키는 것이 바람직하다. 50질량부 이상이면 저투습성을 얻을 수 있고, 300질량부 이하이면 필러가 응집되지 않고 분산 상태를 유지할 수 있다. 효과가 크다는 점에서 필러의 사용량은 100∼200질량부가 보다 바람직하고, 120∼180질량부가 가장 바람직하다.It is preferable to contain (E) filler in the ratio of 50-300 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) photocationic polymerization compounds. If it is 50 mass parts or more, low moisture permeability can be obtained, and if it is 300 mass parts or less, a filler will not aggregate and it can maintain a dispersed state. Since the effect is large, the usage-amount of a filler is more preferable 100-200 mass parts, and 120-180 mass parts is the most preferable.

<기타 성분><Other ingredients>

(광 증감제)(Sensitizer)

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물은 각종 광 증감제를 병용 해도 좋다. 광 증감제란 에너지선을 흡수하여 광 양이온 중합 개시제로부터 양이온을 효율적으로 발생시키는 화합물을 말한다.The energy ray curable resin composition which concerns on this embodiment may use various photosensitizers together. A photosensitizer means the compound which absorbs an energy ray and generate | occur | produces a cation efficiently from a photocationic polymerization initiator.

광 증감제로서는 특별히 한정되지 않지만 벤조페논 유도체, 페노티아진 유도체, 페닐케톤 유도체, 나프탈렌 유도체, 안트라센 유도체, 페난트렌 유도체, 나프타센 유도체, 크리센 유도체, 페릴렌 유도체, 펜타센 유도체, 아크리딘 유도체, 벤조티아졸 유도체, 벤조인 유도체, 플루오렌 유도체, 나프토퀴논 유도체, 안트라퀴논 유도체, 크산텐 유도체, 크산톤 유도체, 티옥산텐 유도체, 티옥산톤 유도체, 쿠마린 유도체, 케토쿠마린 유도체, 시아닌 유도체, 아진 유도체, 티아진 유도체, 옥사진 유도체, 인돌린 유도체, 아줄렌 유도체, 트리알릴메탄 유도체, 프탈로시아닌 유도체, 스피로피란 유도체, 스피로옥사진 유도체, 티오스피로피란 유도체, 유기루테늄 착체 등을 들 수 있다. 이들로 한정되지는 않으며 공지의 광 증감제를 적용할 수 있다. 이들 중에서는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 등의 페닐케톤 유도체가 바람직하고, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온이 보다 바람직하다.Although it does not specifically limit as a photosensitizer, A benzophenone derivative, a phenothiazine derivative, a phenyl ketone derivative, a naphthalene derivative, an anthracene derivative, a phenanthrene derivative, a naphthacene derivative, a chrysene derivative, a perylene derivative, a pentacene derivative, an acridine Derivatives, benzothiazole derivatives, benzoin derivatives, fluorene derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, xanthene derivatives, xanthone derivatives, thioxanthene derivatives, thioxanthone derivatives, coumarin derivatives, ketocoumarin derivatives, Cyanine derivatives, azine derivatives, thiazine derivatives, oxazine derivatives, indolin derivatives, azulene derivatives, triallyl methane derivatives, phthalocyanine derivatives, spiropyrane derivatives, spiroxazine derivatives, thiospyropyran derivatives, organoruthenium complexes and the like Can be. It is not limited to these, A well-known photosensitizer can be applied. Among these, phenyl ketone derivatives such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one are preferred, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one is more preferred. desirable.

광 증감제는 (A) 광 양이온 중합 화합물 100질량부에 대해 0.1∼10질량부의 비율로 함유시키는 것이 바람직하다. 이 범위에 있으면 경화성이 나빠지지도 않고 저장 안정성도 저하되지 않는다. 경화성과 저장 안정성의 점에서 광 증감제의 사용량은 0.5∼5질량부가 보다 바람직하고, 1∼3질량부가 가장 바람직하다.It is preferable to contain a photosensitizer in the ratio of 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) photocationic polymerization compounds. If it exists in this range, hardenability will not worsen and storage stability will not fall, either. From the point of curability and storage stability, the amount of the photosensitizer used is more preferably 0.5 to 5 parts by mass, and most preferably 1 to 3 parts by mass.

(첨가제)(additive)

본 실시형태의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 아크릴 고무, 우레탄 고무 등 각종 엘라스토머, 메타크릴산메틸-부타디엔-스티렌계 그래프트 공중합체나 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌계 그래프트 공중합체 등의 그래프트 공중합체, 용제, 증량재, 보강재, 가소제, 증점제, 염료, 안료, 난연제 및 계면활성제 등의 첨가제가 함유되어도 좋다.Graft copolymers, such as various elastomers, such as an acrylic rubber and a urethane rubber, a methyl methacrylate butadiene-styrene graft copolymer, an acrylonitrile butadiene-styrene graft copolymer, in the range which does not impair the objective of this embodiment, Additives such as solvents, extenders, reinforcing agents, plasticizers, thickeners, dyes, pigments, flame retardants and surfactants may be contained.

또 공지의 실란 커플링제를 임의의 비율로 함유할 수 있다.Moreover, a well-known silane coupling agent can be contained in arbitrary ratios.

상기 구성으로 이루어진 에너지선 경화성 수지 조성물은 에너지선의 조사에 의해 경화시켜 경화체로 해도 된다.The energy ray curable resin composition which consists of the said structure may be hardened | cured by irradiation of an energy ray, and may be set as a hardened | cured material.

상기 구성으로 이루어진 에너지선 경화성 수지 조성물은 접착제로서 이용해도 된다. 이 접착제는 CD, DVD, 청색 반도체 레이저에 대응한 Blu-ray 디스크, HD-DVD등 광기록 매체의 재생·기록에 이용되는 광픽업 장치나 액정, 유기 전계 발광 등의 디스플레이 부품이나 CCD, CMOS 같은 이미지 센서 등의 전자 부품, 또한 반도체 부품 등에 이용되는 소자 패키지 등의 엘렉트로닉스 분야에서의 접착 등에 매우 바람직하게 이용할 수 있다. 나아가 공예 유리의 받침대, 접시의 고정 용도, 2개 이상의 렌즈나 프리즘, 카메라, 쌍안경 및 현미경 등에 이용되는 광학 소자의 접착시에도 적합한 접착제가 된다.You may use the energy-beam curable resin composition which consists of the said structure as an adhesive agent. This adhesive is used for optical pickup devices used for the reproduction and recording of optical recording media such as Blu-ray discs and HD-DVDs for CD, DVD, blue semiconductor lasers, display components such as liquid crystals, organic electroluminescence, CCDs, CMOS, etc. It can be used very suitably for adhesion | attachment in the electronics field, such as an electronic component, such as an image sensor, and also an element package used for semiconductor components. Furthermore, it becomes a suitable adhesive agent for the bonding of the optical element used for the base of a craft glass, the fixation of a plate, two or more lenses, a prism, a camera, binoculars, and a microscope.

[제조 방법][Manufacturing method]

본 실시형태에 관한 에너지선 경화성 수지 조성물의 제조 방법에 대해서는 상기의 재료를 충분히 혼합할 수 있다면 특별히 제한은 없다. 재료의 혼합 방법으로서는 특별히 한정되지 않지만 프로펠러의 회전에 따른 교반력을 이용하는 교반법, 자전 공전에 의한 유성식 교반기 등 통상의 분산기를 이용하는 방법 등을 들 수 있다. 이러한 혼합 방법은 저비용으로 안정된 혼합을 실시할 수 있기 때문에 바람직하다.There is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of the energy-beam curable resin composition which concerns on this embodiment as long as said material can be fully mixed. Although it does not specifically limit as a mixing method of a material, The stirring method using the stirring force according to the rotation of a propeller, the method of using normal dispersers, such as a planetary stirrer by rotating revolution, etc. are mentioned. Such a mixing method is preferable because stable mixing can be performed at low cost.

상기 혼합을 실시한 후 하기의 광원을 이용한 에너지선의 조사에 의해 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화를 실시해도 좋다.After performing the said mixing, you may harden an energy-beam curable resin composition by irradiation of an energy beam using the following light sources.

(광원)(Light source)

본 실시형태에서 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화, 접착에 이용되는 광원으로서는 특별히 한정되지 않지만 할로겐 램프, 메탈 할라이드 램프, 하이파워 메탈 할라이드 램프(인듐 등을 함유함), 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 크세논 램프, 크세논 엑시머 램프, 크세논 플래시 램프, 라이트 에미팅 다이오드(이하, LED라고 함) 등을 들 수 있다. 이들 광원은 각각의 광중합 개시제의 반응 파장에 대응한 에너지선의 조사를 효율적으로 실시할 수 있다는 점에서 바람직하다.Although it does not specifically limit as a light source used for hardening and bonding of an energy-beam curable resin composition in this embodiment, A halogen lamp, a metal halide lamp, a high power metal halide lamp (containing indium etc.), a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, And ultrahigh pressure mercury lamps, xenon lamps, xenon excimer lamps, xenon flash lamps, light emitting diodes (hereinafter referred to as LEDs), and the like. These light sources are preferable at the point which can irradiate an energy beam corresponding to the reaction wavelength of each photoinitiator efficiently.

상기 광원은 각각 방사 파장, 에너지 분포가 다르다. 따라서 상기 광원은 광중합 개시제의 반응 파장 등에 의해 적절히 선택된다. 또 자연광(태양광)도 반응 개시 광원이 될 수 있다.The light source differs in emission wavelength and energy distribution, respectively. Therefore, the said light source is suitably selected by the reaction wavelength of a photoinitiator, etc. In addition, natural light (sunlight) can also be a reaction start light source.

상기 광원은 직접 조사, 반사경 등에 의한 집광 조사, 파이버 등에 의한 집광 조사를 해도 좋다. 저파장 커트 필터, 열선 커트 필터, 콜드 미러 등도 이용할 수 있다.The light source may be condensed irradiation by direct irradiation, light condensing by a reflector, or the like. A low wavelength cut filter, a hot wire cut filter, a cold mirror, etc. can also be used.

이상, 본 발명의 실시형태에 대해 설명하였으나, 이들은 본 발명의 예시로서, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 상기 이외의 다양한 구성을 채용할 수도 있다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, these are various illustrations other than the above in the range which does not impair the objective of this invention as an illustration of this invention.

<실시예><Examples>

이하, 실시예 및 비교예를 예로 들어 본 발명을 더욱 상세히 설명하는데, 본 발명은 이들로 한정되지는 않는다.Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in more detail, this invention is not limited to these.

실시예 및 비교예에서는 이하의 화합물을 사용했다.In the Examples and Comparative Examples, the following compounds were used.

(A) 성분의 양이온 중합성 화합물로서 하기의 것을 이용했다.The following were used as a cationically polymerizable compound of (A) component.

(A-1) 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카복시레이트(다이셀화학사제 「셀옥사이드2021P」)(A-1) 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate ("cell oxide 2021P" by Daicel Chemical Corporation)

(A-2) 비스페놀 F형 에폭시 수지(재팬에폭시레진사제「YL-938U」)(A-2) Bisphenol F type epoxy resin (`` YL-938U '' made in Japan epoxy resin company)

(A-3) 노볼락 페놀형 에폭시 수지(재팬에폭시레진사제「EP-152」)(A-3) Novolak phenol type epoxy resin (`` EP-152 '' made in Japan epoxy resin company)

(A-4) 폴리프렌글리콜형 에폭시 수지(사카모토약품공업사제「SR-PTMG」)(A-4) Polypren glycol epoxy resin (SR-PTMG, manufactured by Sakamoto Pharmaceutical Co., Ltd.)

(A-5) 디(1-에틸-3-옥세타닐)메틸에테르(도아합성사「OXT221」)(A-5) Di (1-ethyl-3-oxetanyl) methyl ether (Doa synthetic company "OXT221")

(B) 성분의 광 양이온 중합 개시제로서 하기의 것을 이용했다.The following were used as a photocationic polymerization initiator of (B) component.

(B-1) 비스-(4-t-부틸-페닐)-요도늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드(치바재팬사제「CGI*BBI C1」)(B-1) Bis- (4-t-butyl-phenyl)-iodonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) meted ("CGI * BBI C1" by Chiba Japan)

(B-2) 트리페닐술포늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드(치바재팬사제「CGI*TPS C1」)(B-2) triphenylsulfonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) methide (CGI * TPS C1 manufactured by Chiba Japan)

(B-3) 트리스-{4-아세틸-설파닐-페닐}술포늄-트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드(치바재팬사제「GSID26-1」)(B-3) Tris- {4-acetyl-sulfanyl-phenyl} sulfonium-tris (trifluoromethanesulfonyl) methide ("GSID26-1" by the Chiba Japan company)

비교를 위해 하기의 광 양이온 개시제(B-4 및 B-5)를 이용했다.The following photo cationic initiators (B-4 and B-5) were used for the comparison.

(B-4) 요도늄{4-(2-메틸 프로필)페닐}(헥사플루오로포스페이트)(프로필렌카보네이트 용매중에 75질량% 함유)(치바재팬사제「Irgacure-250」)(B-4) iodonium # 4- (2-methylpropyl) phenyl} (hexafluorophosphate) (containing 75% by mass in propylene carbonate solvent) (`` Irgacure-250 '' made by Chiba Japan)

(B-5) 방향족 술포늄PF6염(아데카사제「아데카옵토머SP-150」)(B-5) Aromatic sulfonium PF 6 salt (adeca optomer SP-150)

(C) 페놀계 산화방지제 또는 퀴논계 산화방지제로서 하기의 것을 이용했다.(C) The following were used as a phenolic antioxidant or quinone antioxidant.

(C-1) 펜타에리스리틸·테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트](치바재팬사제「Irganox-1010」)(C-1) pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] ("Irganox-1010" made by Chiba Japan)

(C-2) 옥타데실-3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트(치바재팬사제「Irganox-1076」)(C-2) Octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ("Irganox-1076" made by Chiba Japan)

(C-3) 2,5-디-tert-부틸-하이드로퀴논(가와구치화학공업사제「DBHQ」)(C-3) 2,5-di-tert-butyl-hydroquinone ("DBHQ" made by Kawaguchi Chemical Co., Ltd.)

(C-4) 4,4'-티오비스(6-테트라-부틸1-3-메틸페놀)(C-4) 4,4'-thiobis (6-tetra-butyl 1-3-methylphenol)

(스미토모화학사제 SUMILIZER WX-R)(SUMILIZER WX-R made by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)

광 증감제로서 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온(치바재팬사제「다로큐어1173」)을 사용했다.2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one ("Tarocure 1173" by Chiba Japan Corporation) was used as a photosensitizer.

(D) 식(2)로 표시되는 포스핀옥사이드 유도체로서 하기의 것을 이용했다.(D) The following were used as the phosphine oxide derivative represented by Formula (2).

(D-1) 폴리인산나트륨(간토화학사제)(D-1) Sodium polyphosphate (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.)

비교를 위해 인옥사이드 화합물인 아인산디에틸(D-2)을 이용했다.Diethyl phosphite (D-2), a phosphorus compound, was used for comparison.

(D-2) 아인산디에틸(와코순약공업사제)(D-2) Diethyl Phosphate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

(E) 필러로서는 덴카 용융 실리카 FB-3SDX(전기화학공업사제, 50%입자지름 2.8㎛, 90%입자지름 6.2㎛)를 사용했다.As the filler (E), denka fused silica FB-3SDX (manufactured by Electrochemical Industry Co., Ltd., 50% particle diameter 2.8 μm, 90% particle diameter 6.2 μm) was used.

(실시예 1∼9)(Examples 1 to 9)

표 1에 나타낸 종류의 원재료를 표 1에 나타낸 조성 비율로 혼합하여 실시예 1∼9의 수지 조성물을 조제했다. 광경화성, 인장 전단 접착 강도 및 보존 저장 안정성에 대해 후술하는 평가를 실시하고 결과를 표 1에 나타냈다.The raw materials of the kind shown in Table 1 were mixed by the composition ratio shown in Table 1, and the resin composition of Examples 1-9 was prepared. The evaluation mentioned later about photocurability, tensile shear adhesive strength, and storage storage stability was performed, and the result was shown in Table 1.

[표 1][Table 1]

Figure pct00005
Figure pct00005

(비교예 1∼3)(Comparative Examples 1 to 3)

표 2에 나타낸 종류의 원재료를 표 2에 나타낸 조성 비율로 혼합하여 비교예 1∼3의 수지 조성물을 조제했다. 평가 결과를 표 2에 나타냈다.The raw materials of the kind shown in Table 2 were mixed by the composition ratio shown in Table 2, and the resin composition of Comparative Examples 1-3 was prepared. The evaluation results are shown in Table 2.

[표 2][Table 2]

Figure pct00006
Figure pct00006

(실시예 10∼13)(Examples 10 to 13)

표 3에 나타낸 종류의 원재료를 표 3에 도시한 조성 비율로 혼합하여 실시예 10∼13의 수지 조성물을 조제했다. 평가의 결과를 표 3에 나타냈다.The raw materials of the kind shown in Table 3 were mixed by the composition ratio shown in Table 3, and the resin composition of Examples 10-13 was prepared. Table 3 shows the results of the evaluation.

[표 3][Table 3]

Figure pct00007
Figure pct00007

〔광경화성 평가〕[Photocurability Evaluation]

레오미터(Anton Paar사제「MCR-301」)로는 UV조사하의 강성율을 측정할 수 있다. 측정은 조제한 수지 조성물을 직경 8mm의 원형 플레이트의 양면 사이에 끼우고 해당 수지 조성물에 UV(365nm의 조도:150mW/cm2)를 조사하면서 25℃(±0.5℃), 주파수10Hz에서 실시했다. UV조사 개시 후 200초까지 저장 강성율(G')이 1.00E+4(1.00×104) 이상으로 증가한 것을 양호하다고 판단하고 기호「○」를 붙였다. 한편 UV조사 개시 후 200초까지 저장 강성율(G')이 1.00E+4에 못 미친 것을 불량으로 판단하고 기호「×」를 붙였다.Rheometer ("MCR-301" made by Anton Paar) can measure the stiffness under UV irradiation. The measurement was carried out at 25 ° C. (± 0.5 ° C.) and frequency 10 Hz while sandwiching the prepared resin composition between both surfaces of a circular plate having a diameter of 8 mm and irradiating the resin composition with UV (365 nm roughness: 150 mW / cm 2 ). It was judged good that the storage stiffness (G ') increased to 1.00E + 4 (1.00 * 10 <4> ) or more until 200 second after the start of UV irradiation, and the symbol "(circle)" was attached. On the other hand, it was judged that the storage stiffness (G ') was less than 1.00E + 4 until 200 second after the start of UV irradiation, and the symbol "x" was added.

〔인장 전단 접착 강도의 평가〕[Evaluation of Tensile Shear Adhesion Strength]

인장 전단 접착 강도:JIS K 6850에 따라 측정했다. 구체적으로는 피착재로 한 내열유리(상품명「내열 파이렉스(등록상표) 유리」, 25mm×5mm×2.0mm)를 이용하여 접착 부위를 직경8mm의 원형으로 하여 제작한 해당 수지 조성물로 2장의 내열유리를 맞붙이고 UV조사기를 사용하여 적산 광량 52000mJ/cm2(365nm의 조도:400mW/cm2, 우시오전기사제 「SP-7(수은 크세논 램프 탑재 UV경화 장치)」)의 조건에서 경화시켜 인장 강도 시험편을 제작했다. 제작한 시험편은 23℃, 습도 50%의 환경에서 만능 시험기를 사용하여 인장 전단 접착 강도를 측정했다.Tensile shear bond strength: Measured according to JIS K 6850. Specifically, two pieces of heat-resistant glass were made of the resin composition produced by using a heat-resistant glass (trade name "Heat-resistant Pyrex (registered glass), 25 mm x 5 mm x 2.0 mm) made of an adherend in a circular shape of 8 mm in diameter. Tensile strength test piece using a UV irradiator and cured under the conditions of accumulated light quantity 52000mJ / cm 2 (365 nm illuminance: 400mW / cm 2 , USP's `` SP-7 (UV curing device with mercury xenon lamp) ''). Made. The produced test piece measured tensile shear adhesive strength using the universal testing machine in the environment of 23 degreeC and 50% of humidity.

〔보존 저장 안정성의 평가〕[Evaluation of Preservation Storage Stability]

조성물의 초기 점도(V0)를 측정한 후 용기에 넣고 뚜껑을 덮은 상태(밀폐계)에서 40℃의 고온 환경하에서 양생 촉진 시험을 하고 4주간 후의 조성물의 점도(V4)를 측정했다. 그리고 식:V4/V0에 따라 점도 변화율을 구했다. 점도 변화율이 4 이하인 것을 보존 저장 안정성 양호로 판단했다.After measuring the initial viscosity (V 0 ) of the composition, it was placed in a container and covered with a lid (sealing system) under a high temperature environment at 40 ° C., and the viscosity (V 4 ) of the composition after 4 weeks was measured. And the formula: The viscosity was determined according to the rate of change V 4 / V 0. A viscosity change rate of 4 or less was judged to be good storage stability.

〔점도의 측정〕[Measurement of viscosity]

조성물의 점도는 E형 점토계를 이용하여 온도 25℃, 회전수 10rpm의 조건하에서 측정했다.The viscosity of the composition was measured under conditions of a temperature of 25 ° C. and a rotation speed of 10 rpm using an E-type clay meter.

이상과 같이 본 발명에 의하면, (A) 양이온 중합성 화합물, (B) 광 양이온 중합 개시제, (C) 페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종을 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물이 제공된다. 상기 구성으로 이루어진 에너지선 경화성 수지 조성물은, 높은 접착성과 낮은 경화 수축성을 겸비할 뿐 아니라 부식성, 안전성, 경화성, 저장 안정성을 만족할 수 있다. (D) 포스핀옥사이드 유도체를 사용하면 저장 안정성이 더욱 향상된다.According to the present invention as described above, it contains one or two kinds of the group consisting of (A) cationic polymerizable compound, (B) photocationic polymerization initiator, (C) phenolic antioxidant and quinone antioxidant. An energy ray curable resin composition is provided. The energy-beam curable resin composition which consists of the said structure not only has high adhesiveness and low hardening shrinkage property, but can satisfy | fill corrosiveness, safety, curability, and storage stability. The use of (D) phosphine oxide derivatives further improves storage stability.

에너지선 경화성 수지 조성물은 접착제로서 이용할 수 있다. 이 접착제는 CD, DVD, 청색 반도체 레이저에 대응한 Blu-ray 디스크, HD-DVD 등의 광기록 매체의 재생ㆍ기록에 이용되는 광픽업 장치나 액정, 유기 전계 발광 등의 디스플레이 부품이나 CCD, CMOS라는 이미지 센서 등의 전자 부품, 또한 반도체 부품 등에 이용되는 소자 패키지 등 엘렉트로닉스 분야, 나아가 공예 유리의 받침대, 접시의 고정 용도, 렌즈, 프리즘, 카메라, 쌍안경 및 현미경 등에 이용되는 광학 소자의 접착시에 안전성, 부식성, 경화성, 접착성, 저장 안정성을 만족할 수 있는 매우 적합한 접착제가 된다.An energy ray curable resin composition can be used as an adhesive agent. This adhesive is used for optical pickup devices used for the reproduction and recording of optical recording media such as Blu-ray discs and HD-DVDs corresponding to CD, DVD, blue semiconductor lasers, display components such as liquid crystals, organic electroluminescence, CCD, CMOS, etc. Electronic components such as image sensors, and also electronics fields such as device packages used for semiconductor components, and furthermore, when bonding optical elements used for fixing glass plates, fixing plates, lenses, prisms, cameras, binoculars, and microscopes, etc. It is a very suitable adhesive capable of satisfying safety, corrosiveness, curability, adhesiveness and storage stability.

Claims (8)

(A) 양이온 중합성 화합물, (B) 식(1)로 표시되는 광 양이온 중합 개시제, (C) 페놀계 산화방지제와 퀴논계 산화방지제로 이루어진 군 중 1종 또는 2종을 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.
[화학식 1]
식(1)
Figure pct00008

(식 중, A+는 오늄 양이온, B는 CnX2n +1이며, n은 1∼10의 정수를, X는 수소 또는 할로겐 원자를 나타낸다.)
(A) a cationically polymerizable compound, (B) a photocationic polymerization initiator represented by formula (1), (C) a phenol-based antioxidant and a quinone-based antioxidant. An energy ray curable resin composition.
[Formula 1]
Equation (1)
Figure pct00008

(Wherein A + is an onium cation, B is C n X 2n +1 , n is an integer of 1 to 10, and X represents hydrogen or a halogen atom.)
청구항 1에 있어서, 식(1)에서의 B가 CF3로 표시되는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.The method according to claim 1, formula (1) B is an energy ray curable resin composition, characterized in that represented by CF 3 at. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, (A) 성분 100질량부, (B) 성분 0.1∼10질량부, (C) 성분 0.01∼20질량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.The energy-beam curable resin composition of Claim 1 or 2 containing 100 mass parts of (A) components, 0.1-10 mass parts of (B) components, and 0.01-20 mass parts of (C) component. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, (D) 식(2)로 표시되는 염을 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.
[화학식 2]
식(2)
Figure pct00009

(식중, D+는 양이온, m은 0∼20의 정수를, M은 0∼10의 정수를 나타낸다.)
(D) The salt represented by Formula (2) is contained, The energy-beam curable resin composition of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
(2)
Equation (2)
Figure pct00009

(Wherein D + represents a cation, m represents an integer of 0 to 20, and M represents an integer of 0 to 10).
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, (E) 필러를 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.The energy ray curable resin composition of any one of Claims 1-4 containing (E) filler. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 광 증감제를 함유하는 것을 특징으로 하는 에너지선 경화성 수지 조성물.The energy ray curable resin composition of any one of Claims 1-5 containing a photosensitizer. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물이 경화되어 이루어진 경화체.Hardened | cured material formed by hardening | curing the energy-beam curable resin composition of any one of Claims 1-6. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 기재된 에너지선 경화성 수지 조성물로 이루어진 접착제.The adhesive agent which consists of energy-beam curable resin composition of any one of Claims 1-6.
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