KR20130062658A - Apparatus and method for measuring oxide layer thickness of steel plate - Google Patents

Apparatus and method for measuring oxide layer thickness of steel plate Download PDF

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KR20130062658A
KR20130062658A KR1020110129049A KR20110129049A KR20130062658A KR 20130062658 A KR20130062658 A KR 20130062658A KR 1020110129049 A KR1020110129049 A KR 1020110129049A KR 20110129049 A KR20110129049 A KR 20110129049A KR 20130062658 A KR20130062658 A KR 20130062658A
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임충수
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허형준
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Abstract

PURPOSE: An apparatus and a method for measuring the thickness of an oxide layer are provided to measure the thickness of the oxide layer with high accuracy by automatically correcting spectrum distortion due to the contamination of an observation door. CONSTITUTION: An apparatus for measuring the thickness of an oxide layer comprises a reflection plate(30), a light source part(10), a light collecting part(20), and a signal processing part(40). The reflection plate is positioned between an observation door(2) and a steel plate(1) according to control signals. The light source part penetrates through the observation door and irradiates measuring light to the steel plate or the reflection plate. The light collecting part collects first reflection light reflected from the reflection plate and second reflection light reflected from the steel plate. The signal processing part corrects distortion due to the observation door using the first reflection light and calculates the thickness of the oxide layer of the steel plate using the second reflection light.

Description

산화층 두께 측정 장치 및 산화층 두께 측정 방법 {Apparatus and method for measuring oxide layer thickness of steel plate}Apparatus and method for measuring oxide layer thickness of steel plate}

본 발명은 산화층 두께 측정 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 관찰창의 오염에 의한 반사간섭광의 왜곡을 보정할 수 있는 산화층 두께 측정 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an oxide layer thickness measuring apparatus and method, and more particularly, to an oxide layer thickness measuring apparatus and method capable of correcting distortion of reflected interference light due to contamination of an observation window.

용융아연도금 공정(CGL: Continuous galvanizing line)에서는 냉연강판에 대한 열처리를 통해 소둔(annealing)한 후, 아연욕조(Zn-pot)을 통과시켜 도금을 한다. 냉연강판의 소둔을 위한 열처리공정에서는 강판을 고온(600~800°C)으로 가열하기 때문에 표면 산화층이 형성될 가능성이 있으며 이와 같은 표면 산화층은 강판의 도금품질을 저하시킨다. 즉, 도금 전에 강판 표면에 산화층이 형성될 경우 강판의 아연 젖음성(Zn wetability)이 저하되어 미도금, 도금박리와 같은 결함이 발생할 수 있다. 따라서 상기 소둔을 위한 열처리는 산화층 형성을 방지하기 위해 강한 환원성 분위기에서 이루어진다. 그러나 강종에 따른 산화/환원 특성이나 가열로 제어 상의 문제점 등으로 인해 산화층이 형성될 가능성이 항상 상존하므로, 산화층 생성 여부를 생산라인에서 온라인으로 측정하고 이를 통해 열처리 조건을 제어하는 것이 필수적이다.In the continuous galvanizing line (CGL) process, the annealing is performed by heat treatment on a cold rolled steel sheet, followed by plating through a zinc bath (Zn-pot). In the heat treatment process for the annealing of the cold rolled steel sheet, because the steel sheet is heated to a high temperature (600 ~ 800 ° C), there is a possibility that a surface oxide layer is formed, such a surface oxide layer reduces the plating quality of the steel sheet. That is, when the oxide layer is formed on the surface of the steel sheet before plating, zinc wettability (Zn wetability) of the steel sheet is lowered and defects such as unplating and plating peeling may occur. Therefore, the heat treatment for the annealing is performed in a strong reducing atmosphere to prevent the formation of an oxide layer. However, since there is always a possibility that an oxide layer is formed due to oxidation / reduction characteristics according to steel grades or problems in the control of a heating furnace, it is essential to measure whether the oxide layer is produced online in a production line and to control the heat treatment conditions through it.

또한 산화성 합금원소를 다량 함유하는 자동차용 고강도 강판을 생산하는 경우 산화성 합금원소의 표면농화 방지를 통한 도금성 향상을 위해 도금 전에 산화/환원 공정을 실시한다. 본 산화/환원공정을 통해 도금성을 향상시키기 위해서는 최적 두께의 산화층 형성이 필요하다. 따라서 산화/환원 공정을 적용하여 도금성 향상을 구현하기 위해서라도 온-라인(On-line) 산화층 두께측정 및 이를 통한 산화층 두께 제어가 필수적이다.In addition, in the case of producing a high strength steel sheet for automobiles containing a large amount of oxidizing alloy element, the oxidation / reduction process is performed before plating to improve the plating property by preventing the surface concentration of the oxidizing alloy element. In order to improve plating properties through the oxidation / reduction process, an oxide layer having an optimal thickness is required. Therefore, in order to realize the plating property by applying the oxidation / reduction process, it is necessary to measure the thickness of the on-line oxide layer and control the thickness of the oxide layer through the same.

이와 같은 온-라인 산화층 두께측정을 위해서는 비접촉식 방법을 이용한 간접측정이 필수적이며, 특히 반사간섭광 분광법이 활용될 수 있다.In order to measure the thickness of the on-line oxide layer, indirect measurement using a non-contact method is essential, and in particular, reflection coherence spectroscopy may be used.

상기 반사간섭광 분광법은, 일정한 스펙트럼을 갖는 빛을 강판의 측정지점에 조사하고, 이 지점으로부터 반사된 빛을 포집한 후 변화된 스펙트럼을 측정함으로써 산화층의 두께를 측정하는 방식이다. The reflection coherence spectroscopy is a method of measuring the thickness of an oxide layer by irradiating light having a constant spectrum to a measurement point of the steel sheet, collecting light reflected from this point, and measuring the changed spectrum.

상기 강판은 가열로 내부 또는 직후단을 통과하는 강판에 대하여 이루어지므로, 상기 스펙트럼 측정을 위해서는 투명한 관찰창을 통하여 상기 강판에 스펙트럼 측정용 빛을 조사할 필요가 있다.Since the steel sheet is made of a steel sheet passing through the inside or immediately after the heating furnace, it is necessary to irradiate the steel sheet for spectrum measurement light through the transparent observation window for the spectrum measurement.

다만, 상기 투명 관찰창은 고온, 고압, 고분진의 환경에 놓여있기 때문에 오염될 가능성이 매우 높고, 상기 투명 관찰창의 오염에 의하여 상기 산화층 두께 측정을 위한 스펙트럼이 왜곡되어, 상기 산화층 두께 측정의 정확도가 떨어질 수 있다는 문제점이 존재한다.However, the transparent observation window is very likely to be contaminated because it is placed in an environment of high temperature, high pressure, and high dust, and the spectrum for measuring the oxide layer thickness is distorted due to the contamination of the transparent observation window, so that the accuracy of the oxide layer thickness measurement is correct. There is a problem that can fall.

본 발명은 관찰창의 오염에 의한 왜곡을 보정할 수 있는 산화층 두께 측정 장치 및 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide an oxide layer thickness measuring apparatus and method capable of correcting distortion caused by contamination of an observation window.

본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정장치는, 관찰창을 투과하여 강판 또는 반사판에 측정광을 조사하는 광원부; 상기 반사판에서 반사된 제1반사광 또는 상기 강판에서 반사된 제2반사광을 포집하는 광 포집부; 제어신호에 따라 상기 관찰창과 강판 사이에 위치하는 것으로서, 표면에서 상기 측정광을 반사시켜 제1반사광을 생성하고, 상기 제1반사광을 상기 광 포집부로 반사시키는 반사판; 및 상기 제1반사광을 이용하여 상기 관찰창에 의한 왜곡을 보정하고, 상기 제2반사광을 이용하여 상기 강판의 산화층의 두께를 계산하는 신호처리부를 포함할 수 있다.Oxide layer thickness measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, the light source unit for transmitting the measurement light to the steel sheet or reflecting plate through the observation window; A light collecting unit collecting the first reflected light reflected by the reflector or the second reflected light reflected by the steel plate; A reflection plate positioned between the observation window and the steel sheet according to a control signal, reflecting the measurement light from a surface to generate first reflection light, and reflecting the first reflection light to the light collecting part; And a signal processor configured to correct distortion caused by the observation window using the first reflected light, and calculate a thickness of an oxide layer of the steel sheet using the second reflected light.

여기서 상기 산화층 두께 측정장치는, 상기 관찰창 및 상기 강판사이에 구비되는 차폐판 가이드; 및 상기 차폐판 가이드를 따라 상하로 이송가능한 차폐판을 포함하는 것으로서, 상기 반사판이 상기 차폐판에 부착되는 반사판 이송부를 더 포함할 수 있다.Here, the oxide layer thickness measuring apparatus, the shielding plate guide provided between the observation window and the steel sheet; And a shielding plate which is movable up and down along the shielding plate guide, wherein the reflecting plate is further attached to the shielding plate.

여기서 상기 반사판은, 표면에 다면 구조를 가지는 것으로서, 상기 다면 구조는 상기 측정광이 반사되어 상기 광 포집부로 포집되는 광경로를 제공할 수 있다.The reflective plate may have a multi-faceted structure on a surface thereof, and the multi-faceted structure may provide an optical path through which the measurement light is reflected and collected by the light collecting unit.

여기서 상기 신호처리부는, 제1반사광을 이용하여 상기 관찰창에서의 파장별 투과율을 계산하고, 상기 파장별 투과율을 이용하여 상기 제2반사광의 스펙트럼을 보정한 후, 상기 강판의 표면에 생성된 산화층의 두께를 계산할 수 있다.
Here, the signal processing unit calculates transmittance for each wavelength in the observation window using the first reflected light, corrects the spectrum of the second reflected light using the transmittance for each wavelength, and then forms an oxide layer formed on the surface of the steel sheet. The thickness of can be calculated.

본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정방법은, 관찰창을 투과하여 반사판에 측정광을 조사하고, 상기 반사판에서 반사된 제1반사광을 포집하는 반사판 반사단계; 상기 제1반사광의 스펙트럼을 이용하여 상기 관찰창에서의 파장별 투과율을 계산하는 투과율 계산단계; 상기 관찰창을 투과하여 강판에 상기 측정광을 조사하고, 상기 강판에서 반사된 제2반사광을 포집하는 강판 반사단계; 및 상기 파장별 투과율을 이용하여 상기 제2반사광의 스펙트럼을 보정한 후, 상기 강판의 표면에 생성된 산화층의 두께를 계산하는 산화층 두께 계산단계를 포함할 수 있다.Oxide layer thickness measurement method according to an embodiment of the present invention, the reflecting plate reflecting step of irradiating the measurement light to the reflecting plate through the observation window, and collecting the first reflected light reflected from the reflecting plate; A transmittance calculation step of calculating transmittance for each wavelength in the observation window by using the spectrum of the first reflected light; A steel sheet reflection step of irradiating the measurement light to the steel sheet through the observation window and collecting second reflected light reflected from the steel sheet; And an oxide layer thickness calculating step of calculating a thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet after correcting the spectrum of the second reflected light by using the transmittance for each wavelength.

본 발명의 일 실시예에 의한 강판의 산화층 두께 측정장치 및 방법에 의하면, 관찰창의 오염에 의한 스펙트럼 왜곡을 자동으로 보정하여 산화층 두께를 높은 정밀도로 측정할 수 있다.According to the oxide layer thickness measuring apparatus and method of the steel sheet according to an embodiment of the present invention, the spectral distortion caused by the contamination of the observation window can be automatically corrected to measure the oxide layer thickness with high precision.

특히, 관찰창과 강판 사이에 개폐가 가능한 반사판을 설치하여 필요시 또는 주기적으로 반사판의 스펙트럼을 측정할 수 있으므로, 관찰창의 오염에 의한 스펙트럼 변화량 측정이 가능하고, 이를 이용한 강판의 반사광 스펙트럼 변화량을 보정이 가능하다.In particular, by installing a reflecting plate that can be opened and closed between the observation window and the steel sheet can measure the spectrum of the reflecting plate when necessary or periodically, it is possible to measure the amount of spectral change caused by contamination of the observation window, it is possible to correct the reflected light spectrum change of the steel sheet using this It is possible.

도1은 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정장치를 나타내는 개략도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 의한 반사판 이송부를 나타내는 개략도이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 의한 반사판의 다면 구조를 나타내는 개략도이다.
도4는 관찰창의 오염에 의한 강판 스펙트럼의 왜곡을 나타내는 그래프이다.
도5는 관찰창의 오염에 의한 반사판 스펙트럼의 왜곡을 나타내는 그래프이다.
도6은 관찰창의 오염에 의한 왜곡을 보정한 강판 스펙트럼을 나타내는 그래프이다.
도7은 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정방법을 나타내는 순서도이다.
1 is a schematic view showing an oxide layer thickness measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram showing a reflector plate transfer unit according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic view showing a multi-sided structure of a reflecting plate according to an embodiment of the present invention.
4 is a graph showing distortion of the steel plate spectrum due to contamination of the observation window.
5 is a graph showing distortion of a reflector plate spectrum due to contamination of an observation window.
6 is a graph showing a steel plate spectrum which is corrected for distortion caused by contamination of the observation window.
7 is a flowchart illustrating a method of measuring an oxide layer thickness according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. In the following detailed description of the preferred embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. In the drawings, like reference numerals are used throughout the drawings.

덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 '연결'되어 있다고 할 때, 이는 '직접적으로 연결'되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 '간접적으로 연결'되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
In addition, in the entire specification, when a part is referred to as being 'connected' to another part, it may be referred to as 'indirectly connected' not only with 'directly connected' . Also, to "include" an element means that it may include other elements, rather than excluding other elements, unless specifically stated otherwise.

도1은 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정장치를 나타내는 개략도로서, 도1(a)는 반사판이 위치하지 않는 경우를 나타내는 것이고, 도1(b)는 상기 반사판이 위치하는 경우를 나타낸 것이다.Figure 1 is a schematic diagram showing an oxide layer thickness measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 1 (a) shows a case where the reflector is not located, Figure 1 (b) shows a case where the reflector is located. will be.

상기 도1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정장치는, 강판(1), 관찰창(2), 광원부(10), 광 포집부(20), 반사판(30) 및 신호처리부(40)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, an oxide layer thickness measuring apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention includes a steel plate 1, an observation window 2, a light source unit 10, a light collecting unit 20, a reflecting plate 30, and a signal. It may include a processor 40.

이하, 도1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정장치를 설명한다.
Hereinafter, an oxide layer thickness measuring apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1.

광원부(10)는, 관찰창(2)을 투과하여 강판(1) 또는 반사판(30)에 측정광을 조사할 수 있다.The light source part 10 can transmit the measurement light to the steel plate 1 or the reflecting plate 30 through the observation window 2.

상기 강판(1)은 소둔(annealing)을 위한 열처리 공정에서 고온으로 가열될 수 있으며, 상기 강판(1)은 내화물로 구성되는 로벽(furnace wall) 내에 위치할 수 있다. 상기 로벽 내부는 통상 고온, 고압, 고분진 환경에 있기 때문에, 상기 로벽 내부에 상기 광원부(10)를 설치하여 직접 상기 강판(1)에 측정광을 조사하기 어렵다. 따라서, 상기 로벽 밖에서, 상기 로벽에 위치하는 투명한 관찰창(2)으로 상기 광원부(10)의 측정광을 조사하여, 상기 강판(1)의 표면에서 상기 측정광이 반사되도록 할 수 있다. The steel sheet 1 may be heated to a high temperature in a heat treatment process for annealing, and the steel sheet 1 may be located in a furnace wall made of refractory material. Since the inside of the furnace wall is usually in a high temperature, high pressure, and high dust environment, it is difficult to directly install the light source unit 10 inside the furnace wall and directly irradiate the measurement light to the steel plate 1. Therefore, outside the furnace wall, the measurement light of the light source unit 10 may be irradiated to the transparent observation window 2 positioned on the furnace wall so that the measurement light is reflected from the surface of the steel plate 1.

여기서, 상기 강판(1)과 관찰창(2) 사이에 반사판(30)이 위치하는 경우에는, 상기 광원부(10)는 관찰창(2)을 통하여 상기 반사판(30)에 측정광을 조사할 수 있다.Here, when the reflecting plate 30 is positioned between the steel plate 1 and the observation window 2, the light source unit 10 can irradiate the measurement light to the reflecting plate 30 through the observation window (2). have.

상기 광원부(10)가 조사하는 측정광은 기 설정된 스펙트럼을 가지는 것일 수 있으며, 상기 측정광이 반사되는 반사표면의 성질에 따라 상기 스펙트럼이 달라질 수 있다. 따라서, 상기 반사된 반사광의 스펙트럼을 분석하면 상기 강판(1)의 표면에 형성된 산화층의 두께를 측정할 수 있다.
The measurement light irradiated by the light source unit 10 may have a predetermined spectrum, and the spectrum may vary according to a property of a reflective surface on which the measurement light is reflected. Therefore, when the spectrum of the reflected reflected light is analyzed, the thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet 1 may be measured.

광 포집부(20)는, 상기 반사판(30)에서 반사된 제1반사광 또는 상기 강판(1)에서 반사된 제2반사광을 포집할 수 있다. The light collecting unit 20 may collect the first reflected light reflected from the reflector 30 or the second reflected light reflected from the steel sheet 1.

도1에 도시된 바와 같이, 상기 관찰창(1)을 통하여 입사된 측정광은 상기 강판(1) 또는 반사판(30)에서 반사되어 다시 상기 관찰창(2)을 통하여 상기 광 포집부(20)로 유입될 수 있다.As shown in FIG. 1, the measurement light incident through the observation window 1 is reflected by the steel sheet 1 or the reflector 30 and is again reflected through the observation window 2 to the light collecting unit 20. Can be introduced into.

상기 광 포집부(20)는, 상기 광원부(10)가 상기 강판(1)에 조사하는 측정광의 입사각(θ) 및 반사각(θ)에 따라 위치가 설정될 수 있다. 즉, 상기 강판(1)의 표면에서 반사되는 반사광을 포집하기에 적합한 각도에 위치할 수 있다. 상기 입사각 및 반사각의 크기는 현장설치 조건과 광학계 구성 등을 고려하여 결정될 수 있다.The light collecting unit 20 may be positioned according to an incident angle θ and a reflection angle θ of the measurement light emitted from the light source unit 10 to the steel sheet 1. That is, it may be positioned at an angle suitable for collecting the reflected light reflected from the surface of the steel sheet (1). The size of the incident angle and the reflection angle may be determined in consideration of field installation conditions and an optical system configuration.

상기 광포집부(20)에서 포집한 반사광은 상기 신호처리부(40)로 전송될 수 있으며, 신호처리부(40)는 상기 반사광을 이용하여 상기 강판(1)의 산화층 두께를 계산할 수 있다.
The reflected light collected by the light collecting unit 20 may be transmitted to the signal processing unit 40, and the signal processing unit 40 may calculate the oxide layer thickness of the steel sheet 1 using the reflected light.

반사판(30)는, 제어신호에 따라 상기 관찰창(2)과 강판(1) 사이에 위치하는 것으로서, 표면에서 상기 측정광을 반사시켜 제1반사광을 생성하고, 상기 제1반사광을 상기 광 포집부(20)로 반사시킬 수 있다. The reflector 30 is positioned between the observation window 2 and the steel sheet 1 according to a control signal, reflects the measurement light from the surface to generate a first reflected light, and collects the first reflected light into the light. It can reflect to the part 20.

도1(b)에 도시된 바와 같이, 상기 반사판(30)은 상기 관찰창(2)을 통하여 입사된 측정광을 반사시켜, 다시 상기 관찰창(2)을 통하여 상기 광 포집부(20)로 보낼 수 있다. As shown in FIG. 1B, the reflecting plate 30 reflects the measurement light incident through the observation window 2, and then returns to the light collecting unit 20 through the observation window 2. can send.

상기 반사판(30)은 제어신호에 따라 상하로 이송되는 것일 수 있으며, 상기 반사판(30)이 위로 이송되면 상기 광원부(10)의 측정광은 상기 강판(1)으로 조사되고, 상기 반사판(30)이 아래로 이송되면 상기 광원부(10)의 측정광은 상기 반사판(30)으로 조사될 수 있다.The reflective plate 30 may be transported up and down according to a control signal. When the reflective plate 30 is transferred upward, the measurement light of the light source unit 10 is irradiated onto the steel plate 1, and the reflective plate 30 is applied. When the light is transferred downward, the measurement light of the light source unit 10 may be irradiated to the reflector plate 30.

상기 반사판(30)은 상기 측정광이 조사되면, 기 설정된 반사율로 상기 측정광을 반사하여 제1반사광을 생성할 수 있다. 여기서 상기 반사판(30)은 표면의 상태를 항상 동일하게 유지하여, 상기 측정광이 동일하게 입력되는 이상 일정한 스펙트럼을 가지는 제1반사광을 생성하는 것일 수 있다. When the measurement light is irradiated, the reflector 30 may reflect the measurement light with a predetermined reflectance to generate first reflection light. In this case, the reflector 30 may maintain the same state of the surface at all times, thereby generating first reflected light having an abnormally constant spectrum in which the measured light is equally input.

다만, 상기 제1반사광은 상기 관찰창(2)의 표면 오염에 의하여 스펙트럼에 왜곡이 발생할 수 있다. 즉, 상기 관찰창(2)의 표면은 쉽게 오염될 수 있으며, 상기 관찰창(2)의 표면 오염은 상기 제1반사광의 스펙트럼에 영향을 주어 상기 스펙트럼이 왜곡되도록 할 수 있다.However, the first reflected light may cause distortion in the spectrum due to surface contamination of the observation window 2. That is, the surface of the observation window 2 may be easily contaminated, and the surface contamination of the observation window 2 may affect the spectrum of the first reflected light so that the spectrum is distorted.

구체적으로 도5를 참조하면, 도5는 제1반사광의 스펙트럼을 나타낸 것으로서, a는 상기 관찰창(2)의 표면 오염이 없는 경우의 스펙트럼이고, b는 상기 관찰창(2)의 표면 오염이 있는 경우의 스펙트럼이다. 따라서, 상기 도5에 나타난 바와 같이, 상기 스펙트럼의 왜곡이 크게 나타날 수 있다Specifically, referring to FIG. 5, FIG. 5 shows a spectrum of the first reflected light, where a is a spectrum when there is no surface contamination of the observation window 2, and b is a surface contamination of the observation window 2. If there is a spectrum. Therefore, as shown in FIG. 5, the distortion of the spectrum may appear large.

하지만, 상기 표면오염 전의 스펙트럼과 상기 표면오염 후의 스펙트럼을 비교를 통하여 상기 관찰창(2)의 표면오염에 의한 스펙트럼의 변화정도를 알 수 있으며, 이는 이후 스펙트럼 왜곡 보정에 활용될 수 있다.
However, the degree of change of the spectrum due to the surface contamination of the observation window 2 can be known by comparing the spectrum before the surface contamination with the spectrum after the surface contamination, which can then be used for spectral distortion correction.

여기서 상기 반사판(30)은, 표면에 다면 구조를 가지는 것으로서 상기 다면 구조는 상기 측정광이 반사되어 상기 광 포집부(20)로 포집되는 광경로를 제공할 수 있다.The reflector 30 may have a multi-sided structure on its surface, and the multi-sided structure may provide an optical path through which the measurement light is reflected and collected by the light collecting unit 20.

도3을 참조하면, 상기 반사판(30)은 다면구조(P)를 가질 수 있다. 도3에 도시된 바와 같이, 상기 다면구조는 상기 광원부(10) 및 광 포집부(20)의 위치 변경없이 상기 반사판(30)에서 반사된 제1반사광이 상기 광 포집부에서 포집되도록 할 수 있다. Referring to FIG. 3, the reflector 30 may have a multi-sided structure P. Referring to FIG. As shown in FIG. 3, the multi-faceted structure may allow the first reflected light reflected by the reflector 30 to be collected at the light collecting unit without changing the positions of the light source unit 10 and the light collecting unit 20. .

상기 다면구조는 도3에 도시된 구조 이외에도, 상기 광원부(10) 및 광 포집부(20)의 위치 변경없이 상기 반사판(30)에서 반사된 제1반사광이 상기 광 포집부로 포집되게 하는 것이면 어떠한 것이라도 활용될 수 있다.
In addition to the structure shown in FIG. 3, the multi-faceted structure may be any type of material that allows the first reflected light reflected from the reflector 30 to be collected by the light collecting unit without changing the position of the light source unit 10 and the light collecting unit 20. Can also be utilized.

상기 반사판(30)은 제어신호에 따라 상기 관찰창(2) 및 강판(1) 사이에 위치할 수 있는 것으로서, 상기 제어신호에 따른 반사판(30)의 이송은 반사판 이송부(50)에 의하여 수행될 수 있다. The reflection plate 30 may be located between the observation window 2 and the steel plate 1 according to a control signal, and the transfer of the reflection plate 30 according to the control signal may be performed by the reflection plate transfer unit 50. Can be.

도2에 도시된 바와 같이, 상기 반사판 이송부(50)는 차폐판 가이드(51) 및 차폐판(52)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 2, the reflector plate transfer unit 50 may include a shield plate guide 51 and a shield plate 52.

차폐판 가이드(51)는 상기 관찰창(2) 및 상기 강판(1)사이에 구비되는 것으로서, 상기 차폐판(52)이 상하로 이동할 수 있도록 하는 틀을 제공할 수 있다.The shielding plate guide 51 is provided between the observation window 2 and the steel sheet 1, and may provide a frame for allowing the shielding plate 52 to move up and down.

차폐판(52)은 상기 차폐판 가이드를 따라 상하로 이송가능한 것으로서, 상기 차폐판(52)의 표면에 상기 반사판(30)이 부착될 수 있다. The shield plate 52 is movable up and down along the shield plate guide, and the reflector plate 30 may be attached to the surface of the shield plate 52.

상기 차폐판이 상승하면, 상기 광원부(10)가 발생한 측정광이 관찰창(2)을 투과하여 상기 강판(1)으로 조사되며, 상기 강판(1)에서 반사된 제2반사광이 상기 광 포집부(20)로 전송될 수 있다. When the shielding plate is raised, the measurement light generated by the light source unit 10 passes through the observation window 2 and is irradiated onto the steel plate 1, and the second reflected light reflected from the steel plate 1 is collected by the light collecting unit ( 20).

반대로, 상기 차폐판(52)이 하강하게 되면, 상기 광원부(10)와 강판(1) 사이의 광경로가 차단되며, 상기 광원부(10)가 조사한 측정광은 상기 차폐판(52)의 표면에 부착된 반사판(30)에 의하여 반사되어 상기 제1 반사광이 상기 광 포집부(20)로 전송될 수 있다.On the contrary, when the shielding plate 52 is lowered, the optical path between the light source unit 10 and the steel plate 1 is blocked, and the measurement light irradiated by the light source unit 10 is applied to the surface of the shielding plate 52. The first reflected light may be transmitted to the light collecting unit 20 by reflecting by the attached reflector 30.

상기 차폐판(52)의 상하 이송과 관련하여, 구동부(53)을 더 포함할 수 있으며, 상기 구동부(53)는 모터 등을 이용하여 상기 차폐판(52)을 상하로 이송할 수 있다.
In relation to the vertical transfer of the shield plate 52, the driving unit 53 may be further included, and the driving unit 53 may transfer the shield plate 52 up and down using a motor or the like.

신호처리부(40)는, 상기 제1반사광을 이용하여 상기 관찰창(2)에 의한 왜곡을 보정하고, 상기 제2반사광을 이용하여 상기 강판(1)의 산화층의 두께를 계산할 수 있다.The signal processor 40 may correct the distortion caused by the observation window 2 using the first reflected light, and calculate the thickness of the oxide layer of the steel sheet 1 using the second reflected light.

신호처리부(40)는 상기 광 포집부(20)에서 포집된 제2반사광을 이용하여 상기 강판(1)의 산화층의 두께를 계산할 수 있다. 구체적으로 신호처리부(40)는 상기 제2반사광을 분광하여 파장별 스펙트럼을 측정한 이후에, 각각의 파장에서의 상대적 세기를 비교하여 상기 강판의 표면에 형성된 산화층의 두께를 구할 수 있다.The signal processor 40 may calculate the thickness of the oxide layer of the steel sheet 1 by using the second reflected light collected by the light collector 20. In detail, the signal processing unit 40 may spectrograph the second reflected light to measure the wavelength-specific spectrum, and then compare the relative intensities at the respective wavelengths to obtain the thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet.

도1에 도시된 바와 같이, 일정한 스펙트럼을 가지는 측정광을 강판(1)에 입사하면, 상기 측정광 중 일부는 상기 강판(1)에 형성된 산화층의 표면에서 반사되고, 나머지 일부는 상기 강판(1)의 표면에서 반사할 수 있다. 이때, 상기 산화층의 표면에서 반사된 빛과, 상기 강판의 표면에서 반사한 빛은 경로 차에 따라서 위상(phase)이 달라질 수 있으며, 상기 반사된 각각의 빛은 서로 간섭(interfering) 할 수 있다. As shown in Fig. 1, when the measurement light having a constant spectrum is incident on the steel sheet 1, some of the measurement light is reflected on the surface of the oxide layer formed on the steel sheet 1, and the other part is the steel sheet 1 Can be reflected from the surface of In this case, the light reflected from the surface of the oxide layer and the light reflected from the surface of the steel sheet may have a different phase according to a path difference, and each of the reflected lights may interfere with each other.

따라서, 상기 광 포집부에서 포집한 제2반사광은 상기 강판의 표면 및 산화층의 표면에서 반사된 빛이 간섭(interfering)된 반사 간섭광으로서, 상기 제2반사광의 스펙트럼은 상기 산화층 두께에 따른 경로차에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 상기 제2반사광의 파장에 따른 빛의 세기 변화를 이용하여 상기 산화층의 두께를 측정할 수 있다.Accordingly, the second reflected light collected by the light collecting unit is reflected interference light interfering with the light reflected from the surface of the steel sheet and the surface of the oxide layer, and the spectrum of the second reflected light is a path difference according to the thickness of the oxide layer. It may vary. Therefore, the thickness of the oxide layer may be measured using a change in intensity of light according to the wavelength of the second reflected light.

구체적으로, 상기 제2반사광은 하기 수학식 1에 의하여 구할 수 있다.Specifically, the second reflected light can be obtained by Equation 1 below.

Figure pat00001
Figure pat00001

여기서, λ는 빛의 파장이고, SR(λ)는 제2반사광의 반사 간섭광 스펙트럼, d는 산화층 두께, nf는 산화층의 굴절률 그리고 θ는 강판(1)으로 조사되는 빛의 입사각이다.
Is the wavelength of light, S R (λ) is the reflected interference light spectrum of the second reflected light, d is the oxide layer thickness, n f is the refractive index of the oxide layer, and θ is the incident angle of light irradiated onto the steel sheet 1.

상기 수학식1에 의하면, 상기 cos(δ)가 최대 또는 최소가 되는 조건을 이용하여, 상기 SR(λ)에서의 상쇄/보강 간섭되는 파장을 알 수 있다. (도4참조)According to Equation (1), it is possible to know the wavelength of the cancellation / reinforcement interference in S R (λ) by using the condition that the cos (δ) is maximum or minimum. (See Fig. 4)

상기 상쇄, 보강간섭 파장을 이용하면, 상기 산화층 두께 d를 하기 수학식2에 의하여 구할 수 있다.Using the offset and constructive interference wavelengths, the oxide layer thickness d can be obtained by Equation 2 below.

Figure pat00002
Figure pat00002

여기서, λM은 상기 상쇄/보강간섭 파장이다. 따라서, 상기 제2반사광의 반사 간섭광 스펙트럼을 구한 이후에, 상기 보강/ 상쇄 간섭 파장(λM)을 이용하여 상기 산화층의 두께를 구할 수 있다. 상기 n은 공기의 굴절률이고, k는 임의의 자연수를 의미한다.Here, λ M is the destructive / constructive interference wave. Therefore, after obtaining the reflected interference light spectrum of the second reflected light, the thickness of the oxide layer may be obtained using the constructive / destructive interference wavelength λ M. N is the refractive index of air, k means any natural number.

따라서, 상기 수학식 2로부터 상기 산화층 두께 d를 계산할 수 있다.
Accordingly, the oxide layer thickness d may be calculated from Equation 2.

다만, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 강판(1)은 로벽내에 위치하고 있으며, 상기 로벽 내부는 고온, 고압, 고분진의 환경이므로, 관찰창(2)을 통하여 상기 측정광을 조사하고, 반사광을 포집하여야 한다. 여기서 상기 관찰창(2)은, 투명한 재질로 구성될 수 있으나, 상기 고온, 고압, 고분진의 환경 하에서 표면이 쉽게 오염될 수 있다. 상기 반사광은 상기 관찰창(2)을 통하여 포집될 수 밖에 없으므로, 상기 관찰창(2)의 표면의 오염에 의하여 상기 반사광의 스펙트럼은 왜곡될 수 있다.However, as described above, the steel sheet 1 is located in the furnace wall, and the inside of the furnace wall is an environment of high temperature, high pressure, and high dust. Therefore, the measurement light must be irradiated through the observation window 2 and the reflected light must be collected. do. Here, the observation window 2 may be made of a transparent material, but the surface may be easily contaminated under the environment of high temperature, high pressure, and high dust. Since the reflected light can only be collected through the observation window 2, the spectrum of the reflected light may be distorted due to contamination of the surface of the observation window 2.

구체적으로 도4를 참조하면, 도4(a)는 상기 관찰창(2)이 오염되기 전의 반사광 스펙트럼을 나타내는 것이고, 도4(b)는 상기 관찰창(2)이 오염된 경우의 반사광 스펙트럼을 나타낸 것이다. 상기 도4는 동일한 산화층 두께를 갖는 동일한 강판에 대하여 측정한 것으로서, 상기 도4(a) 및 도4(b)를 비교하면, 상기 관찰창(2)의 오염에 의하여 스펙트럼이 크게 왜곡될 수 있음을 알 수 있다. 따라서, 상기 반사광 스펙트럼으로부터 구하는 상쇄/보강간섭 파장의 위치도 크게 변화하여 상기 수학식2에 의하여 계산되는 산화층 두께에도 오차가 발생하게 된다.Specifically, referring to FIG. 4, FIG. 4 (a) shows the reflected light spectrum before the observation window 2 is contaminated, and FIG. 4 (b) shows the reflected light spectrum when the observation window 2 is contaminated. It is shown. 4 is measured with respect to the same steel sheet having the same oxide layer thickness, and comparing the Figure 4 (a) and Figure 4 (b), the spectrum may be greatly distorted by the contamination of the observation window (2) It can be seen. Therefore, the position of the offset / reinforcement interference wavelength obtained from the reflected light spectrum is also greatly changed, so that an error occurs in the oxide layer thickness calculated by Equation (2).

따라서, 상기 산화층 두께를 정확하게 측정하기 위해서는 상기 관찰창(2)의 오염에 따른 반사광 스펙트럼의 왜곡을 보정할 필요가 있으며, 상기 신호처리부(40)는 상기 왜곡에 대한 보정을 수행할 수 있다.
Therefore, in order to accurately measure the thickness of the oxide layer, it is necessary to correct distortion of the reflected light spectrum due to contamination of the observation window 2, and the signal processor 40 may perform correction for the distortion.

상기 광 포집부(20)에서 포집하는 제2반사광의 스펙트럼은 반사 간섭광의 스펙트럼, 강판의 반사율 및 광원부의 측정광 스펙트럼에 의하여 영향을 받을 수 있으며, 이는 하기의 수학식 3으로 표현될 수 있다.The spectrum of the second reflected light collected by the light collecting unit 20 may be affected by the spectrum of the reflected interference light, the reflectance of the steel sheet, and the measured light spectrum of the light source unit, which may be expressed by Equation 3 below.

Figure pat00003
Figure pat00003

여기서, 상기 SA(λ)는 상기 광 포집부(20)에서 포집하는 제2반사광의 스펙트럼이고, R(λ)은 상기 강판(1)에서의 반사율, SL(λ)은 상기 광원부(10)의 측정광의 스펙트럼, SR(λ)는 반사 간섭광의 스펙트럼일 수 있다.
Here, S A (λ) is a spectrum of the second reflected light collected by the light collecting unit 20, R (λ) is a reflectance at the steel sheet 1, and S L (λ) is the light source unit 10. The spectrum of the measurement light, S R (λ) may be the spectrum of the reflected interference light.

앞서 설명의 용이를 위하여, 상기 광 포집부(20)로 유입되는 제2 반사광을 상기 반사 간섭광과 동일한 것으로 가정하였으나, 실제로는 상기 상기 반사 간섭광 이외에도 상기 강판(1)에서의 반사율 및 상기 광원부(10)의 측정광에 의하여도 영향을 받을 수 있다. 이외에 고온으로 가열된 상기 강판(1)의 복사광에 의한 스펙트럼도 고려될 수 있으나, 상기 복사광 스펙트럼은 상기 측정광에 의한 스펙트럼에 비하여 매우 작으므로 이에 의한 영향은 생략하였다.For ease of explanation, it is assumed that the second reflected light flowing into the light collecting unit 20 is the same as the reflected interference light, but in fact, in addition to the reflected interference light, the reflectance in the steel sheet 1 and the light source unit The measurement light of (10) may also be affected. In addition, although the spectrum due to the radiation of the steel sheet 1 heated to a high temperature may be considered, the radiation spectrum is very small compared to the spectrum due to the measurement light, the effect thereof is omitted.

상기 광 포집부(20)가 포집한 제2반사광 중에서 실제로 상기 산화층 두께와 관련된 스펙트럼은 상기 반사 간섭광의 스펙트럼(SR(λ))이므로, 나머지 강판(1)의 반사율(R(λ)) 및 측정광의 스펙트럼(SL(λ))에 의한 영향은 제거하거나 최소한으로 줄일 필요가 있다. 이를 위하여 상기 강판(1) 및 광원부(10)를 규격화할 수 있다.Since the spectrum related to the thickness of the oxide layer among the second reflected light collected by the light collecting unit 20 is the spectrum S R (λ) of the reflected interference light, the reflectance R (λ) of the remaining steel sheet 1 and The influence by the spectrum S L (λ) of the measurement light needs to be eliminated or minimized. To this end, the steel sheet 1 and the light source unit 10 may be standardized.

즉, 상기 강판(1)은 강종에 따라서 반사율(R(λ))이 달라질 수 있으므로, 각각의 강판(1)의 강종에 따른 반사율(R(λ))을 미리 측정하여 저장한 이후, 선택된 강종에 맞게 상기 반사율(R(λ))을 선택하여 적용하는 방식으로 규격화를 할 수 있다.That is, since the reflectance R (λ) of the steel sheet 1 may vary depending on the steel grade, the steel sheet 1 may be selected in advance after measuring and storing the reflectance R (λ) according to the steel grade of each steel sheet 1. Standardization may be performed by selecting and applying the reflectance R (λ).

또한, 상기 측정광의 스펙트럼(SL(λ))에 의한 영향은 상기 광원부(10)의 광도, 광원의 사용시간, 주변환경 등에 의하여 결정될 수 있다. 따라서, 상기 광원부(10)에서 빛을 발생시키는 램프의 교체 주기 등을 일정하게 규격화하여 상기 측정광의 스펙트럼(SL(λ))에 의한 효과를 줄일 수 있다.In addition, the influence of the spectrum (S L (λ)) of the measurement light may be determined by the light intensity of the light source unit 10, the use time of the light source, the surrounding environment. Therefore, the replacement cycle of the lamp for generating the light in the light source unit 10 may be regularly standardized to reduce the effect due to the spectrum S L (λ) of the measurement light.

상기와 같은 규격화에 의하면 상기 반사율(R(λ)) 및 측정광의 스펙트럼(SL(λ))은 일정한 상수로 취급할 수 있으므로, 상기 광 포집부(20)로 유입되는 제2반사광은 상기 반사 간섭광의 스펙트럼에 의하여 결정되는 것으로 볼 수 있다.
According to the standardization, such as the second reflected light is introduced to the reflectance (R (λ)) and the measurement light spectrum (S L (λ)) is the light-collecting section 20 can be handled by a fixed constant is the reflection It can be seen that determined by the spectrum of the interference light.

다만, 앞서 살핀 바와 같이, 상기 광 포집부(20)에서 포집하는 전체 스펙트럼은 상기 관찰창(2)의 오염에 의하여 왜곡될 수 있으므로, 상기 수학식3은, 상기 관찰창(2)의 오염에 의한 스펙트럼의 변화를 고려하여 이하의 수학식4와 같이 수정될 수 있다.However, as described above, since the entire spectrum collected by the light collecting unit 20 may be distorted by the contamination of the observation window 2, Equation 3 is based on the contamination of the observation window 2. By considering the change in the spectrum by the following equation (4) it can be modified.

Figure pat00004
Figure pat00004

여기서 T(λ)는, 상기 관찰창(2)의 투과율이며, 상기 T(λ)는 상기 관찰창(2)의 오염정도에 따라 달라질 수 있다.Here, T (λ) is the transmittance of the observation window 2, the T (λ) may vary depending on the degree of contamination of the observation window (2).

앞서 살핀바와 같이, 상기 반사율(R(λ)) 및 측정광의 스펙트럼(SL(λ))은 상기 규격화를 통하여 일정한 상수로 나타낼 수 있으므로, 상기 관찰창(2)의 투과율(T(λ))을 구하면, 상기 관찰창(2)의 오염에 의한 전체 스펙트럼(SA(λ))의 변화를 보정할 수 있다.
As described above, the reflectance (R (λ)) and the spectrum of measurement light (S L (λ)) may be represented by a constant through the standardization, and thus, the transmittance (T (λ)) of the observation window 2. In this equation, it is possible to correct the change in the entire spectrum S A (λ) due to the contamination of the observation window 2.

상기 관찰창(2)의 투과율(T(λ))을 구하기 위하여, 상기 반사판(30)을 상기 관찰창(2) 및 강판(1) 사이에 위치시키고, 측정광을 조사하여 제1반사광을 얻을 수 있다. 이때, 상기 반사판의 표면상태를 항상 일정하게 유지한다면, 상기 수학식 4의 R(λ)SL(λ)SR(λ)는 상수 A로 볼 수 있다. (수학식 5참조)In order to obtain the transmittance T (λ) of the observation window 2, the reflecting plate 30 is positioned between the observation window 2 and the steel sheet 1, and the measurement light is irradiated to obtain the first reflection light. Can be. At this time, if the surface state of the reflecting plate is always kept constant, R (λ) S L (λ) S R (λ) of Equation 4 can be seen as a constant A. (See Equation 5)

Figure pat00005
Figure pat00005

따라서, 상기 반사판(30)에 대하여 측정광을 조사하여 상기 광 포집부(20)로 제1반사광을 포집하면, 상기 관찰창(2)의 투과율(T(λ))을 얻을 수 있다.
Accordingly, when the reflecting plate 30 is irradiated with the measurement light to collect the first reflected light by the light collecting unit 20, the transmittance T (λ) of the observation window 2 can be obtained.

상기 수학식 5를 참조하면, 상기 제1반사광의 스펙트럼(SA1(λ))은 투과율(T(λ))에 따라 비례하므로, 상기 관찰창(2)의 오염 전후에 따른 상기 제1반사광의 스펙트럼의 변화를 아래의 수학식 6과 같이 표현할 수 있다.Referring to Equation 5, since the spectrum S A1 (λ) of the first reflected light is proportional to the transmittance T (λ), the first reflected light according to the contamination of the observation window 2 before and after The change in the spectrum may be expressed as Equation 6 below.

Figure pat00006
Figure pat00006

여기서, 상기 T0(λ)는 상기 관찰창(2)이 오염되기 전의 투과율, 상기 TC(λ)은 오염된 이후의 투과율을 나타내는 것이고, 상기 SA1(λ)는 오염되기 전에 측정한 전체 스펙트럼(

Figure pat00007
Figure pat00008
)이고, 상기 SA1'(λ)는 오염된 이후에 측정한 전체 스펙트럼(
Figure pat00009
)이다. Here, T 0 (λ) is the transmittance before the observation window 2 is polluted, T C (λ) is the transmittance after the contamination, and S A1 (λ) is the total measured before contamination spectrum(
Figure pat00007
Figure pat00008
) And S A1 '(λ) is the full spectrum measured after contamination (
Figure pat00009
)to be.

상기의 비례식을 이용하면, 상기 관찰창(2)의 오염에 의한 제2반사광 스펙트럼의 왜곡을 보정할 수 있다. 구체적으로 수학식 7에 의하여 보정을 할 수 있다.By using the above proportional expression, distortion of the second reflected light spectrum due to contamination of the observation window 2 can be corrected. In more detail, the correction may be performed by Equation 7.

Figure pat00010
Figure pat00010

여기서, 상기 SA''(λ)strip은 제2반사광의 보정 후 스펙트럼이고, SA'(λ)strip은 상기 제2반사광의 보정전 스펙트럼(

Figure pat00011
Figure pat00012
)이다. Here, the S A '' (λ) strip is the corrected spectrum of the second reflected light, S A '(λ) are the uncorrected spectrum of the strip and the second reflected light (
Figure pat00011
Figure pat00012
)to be.

따라서, 상기 관찰창(2)의 오염에 의한 왜곡을 보정하기 위하여, 상기 수학식6의 비례식을 이용할 수 있다.Therefore, in order to correct distortion caused by contamination of the observation window 2, a proportional expression of Equation 6 may be used.

상기 보정된 제2반사광은 도6에 예시되어 있으며, 도4(a)의 오염전 제2반사광의 스펙트럼과 매우 유사한 형태로 얻을 수 있다.
The corrected second reflected light is illustrated in FIG. 6 and can be obtained in a form very similar to the spectrum of the second reflected light before pollution in FIG.

상기 신호처리부(40)는, 필요시 또는 주기적으로 반사판(30)에서 반사된 반사광 즉, 제1반사광을 입력받아 상기 투과율(TC(λ))을 계산할 수 있으며, 상기 투과율(TC(λ))을 이용하여 강판(1)에서 반사된 반사광 즉, 제2반사광을 보정할 수 있다.
The signal processing unit 40, receives the reflected light that is first reflected light reflected by the reflecting plate 30 in the demand or periodically, and to calculate the transmittance (T C (λ)), the transmittance (T C (λ The reflected light reflected from the steel sheet 1, that is, the second reflected light, can be corrected using the)).

도7는 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정방법을 나타낸 순서도이다.7 is a flowchart illustrating a method of measuring an oxide layer thickness according to an embodiment of the present invention.

도7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정방법은, 오염도 판단단계(S10), 반사판 반사단계(S20), 투과율 계산단계(S30), 강판 반사단계(S40) 및 산화층 두께 계산 단계(S50)를 포함할 수 있다.7, the oxide layer thickness measurement method according to an embodiment of the present invention, pollution degree determination step (S10), reflector reflection step (S20), transmittance calculation step (S30), steel sheet reflection step (S40) and oxide layer thickness It may include a calculation step (S50).

이하, 상기 도7를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 산화층 두께 측정방법을 설명한다.
Hereinafter, an oxide layer thickness measuring method according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7.

오염도 판단단계(S10)는, 관찰창의 오염에 의한 반사광의 왜곡을 보정하기 위하여, 상기 관찰창의 오염정도를 측정할 것인지 여부를 판단하는 단계이다. The contamination level determining step (S10) is a step of determining whether to measure the contamination level of the observation window in order to correct distortion of reflected light due to contamination of the observation window.

상기 산화층 두께 측정방법은, 소둔을 위한 열처리 공정 이후에, 강판의 표면에 형성된 산화층의 두께를 측정하는 것으로서, 상기 강판은 내화물로 구성되는 로벽 내에 위치할 수 있다. 상기 로벽 내부는 통상적으로 고온, 고압, 고분진의 환경이므로, 상기 로벽 밖에서 관찰창을 통하여 상기 강판에 측정광을 조사할 수 있다.The oxide layer thickness measuring method is to measure the thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet after the heat treatment process for annealing, the steel sheet may be located in the furnace wall made of refractory. Since the inside of the furnace wall is typically an environment of high temperature, high pressure, and high dust, measurement light may be irradiated onto the steel sheet through an observation window outside the furnace wall.

다만, 상기 고온, 고압, 고분진의 환경은 상기 관찰창을 쉽게 오염시킬 수 있으며, 상기 관찰창의 오염에 의하여 반사광의 스펙트럼이 왜곡될 수 있다. 상기 반사광의 스펙트럼 왜곡을 보정하기 위하여 상기 산화층 두께 측정방법은 상기 관찰창의 오염정도를 고려할 수 있다.However, the high temperature, high pressure, and high dust environment may easily pollute the observation window, and the spectra of the reflected light may be distorted by the contamination of the observation window. In order to correct the spectral distortion of the reflected light, the oxide layer thickness measuring method may consider the degree of contamination of the observation window.

여기서 상기 오염도 판단단계(S10)는 상기 관찰창의 오염정도를 고려할 것인지 여부를 판단할 수 있다. 구체적으로, 상기 오염도 판단단계(S10)는 기 설정된 주기가 도래하면 상기 관찰창의 오염정도를 측정하거나, 사용자의 관찰창 오염정도 측정 신호가 입력되면 상기 관찰창의 오염정도를 측정하도록 할 수 있다. 상기 관찰창 오염정도 측정의 주기는, 측정 시간 및 정확도를 고려하여 최적화된 주기로 설정할 수 있다.Here, the pollution degree determining step (S10) may determine whether to consider the degree of contamination of the observation window. Specifically, the contamination level determining step (S10) may measure the contamination level of the observation window when a predetermined cycle arrives, or may measure the contamination level of the observation window when a user's observation window contamination level measurement signal is input. The period of the observation window contamination degree measurement may be set to an optimized period in consideration of the measurement time and accuracy.

상기 오염도 판단단계(S10)에서, 상기 관찰창의 오염정도를 측정하는 것으로 판단되면 상기 반사판 반사단계(S20)로 진행하고, 상기 관찰창의 오염정도를 측정하지 않는 것으로 판단되면 상기 강판반사단계(S40)로 진행할 수 있다.
If it is determined that the contamination level of the observation window is measured in the contamination determination step (S10), the process proceeds to the reflection plate reflection step (S20), and if it is determined that the contamination degree of the observation window is not determined, the steel sheet reflection step (S40). You can proceed to.

반사판 반사단계(S20)는, 관찰창을 투과하여 반사판에 측정광을 조사하고, 상기 반사판에서 반사된 제1반사광을 포집할 수 있다. 상기 반사판 반사단계(S20)에서는 상기 관찰창과 강판 사이에 상기 반사판을 위치시킬 수 있으며, 상기 관찰창을 투과하여 입사된 측정광을 상기 반사판에서 반사시킬 수 있다.Reflecting plate The reflecting step (S20) may transmit the measurement light to the reflecting plate through the observation window, and collect the first reflected light reflected from the reflecting plate. In the reflecting plate reflecting step (S20), the reflecting plate may be positioned between the viewing window and the steel plate, and the measured light incident through the viewing window may be reflected by the reflecting plate.

상기 반사판 반사단계(S20)에서는, 광원부에서 조사된 측정광이 상기 관찰창을 거쳐 상기 반사판에서 반사되고, 다시 상기 관찰창을 통하여 광 포집부로 들어가게 된다. 상기 관찰창에 오염이 없는 경우의 반사광 스펙트럼을 이미 알고 있으므로, 상기 제1반사광으로부터 상기 관찰창 오염에 의한 스펙트럼 왜곡을 추출할 수 있다.In the reflecting plate reflecting step (S20), the measurement light irradiated from the light source unit is reflected from the reflecting plate through the observation window, and then enters the light collecting unit through the observation window. Since the reflected light spectrum when the observation window is free of contamination is already known, the spectral distortion caused by the observation window contamination can be extracted from the first reflected light.

여기서, 상기 반사판은 반사판 이송부에 의하여 상기 강판과 관찰창 사이에 위치될 수 있는 것으로서, 상기 반사판 이송부는 제어신호에 따라 상기 반사판을 선택적으로 상기 강판과 관찰창 사이에 위치시킬 수 있다. 즉, 상기 반사판 반사단계(S20)에서는, 상기 반사판 이송부에 대하여 상기 반사판이 상기 강판과 관찰창 사이에 위치하도록 제어신호를 전송할 수 있다.
Here, the reflector may be positioned between the steel plate and the observation window by a reflector plate transfer part, and the reflector plate transfer part may selectively position the reflector between the steel plate and the observation window according to a control signal. That is, in the reflective plate reflection step S20, a control signal may be transmitted to the reflective plate transfer unit so that the reflective plate is positioned between the steel plate and the observation window.

투과율 계산단계(S30)는, 상기 제1반사광의 스펙트럼을 이용하여 상기 관찰창에서의 파장별 투과율을 계산할 수 있다.In the transmittance calculation step S30, the transmittance of each wavelength in the observation window may be calculated using the spectrum of the first reflected light.

구체적으로, 상기 반사판에 의하여 반사된 제1반사광은

Figure pat00013
로 나타낼 수 있다. 여기서 상기 제1반사광은 SA1(λ), 상기 관찰창의 투과율은 T(λ)이고, 상기 A는 임의의 상수이다. 즉, 상기 제1반사광은 상기 관찰창의 투과율과 비례한다.Specifically, the first reflected light reflected by the reflector
Figure pat00013
. Wherein the first reflected light is S A1 (λ), the transmittance of the observation window is T (λ), and A is any constant. That is, the first reflected light is proportional to the transmittance of the observation window.

따라서, 상기 관찰창의 오염 전후에 따른 상기 제1반사광의 스펙트럼의 변화는

Figure pat00014
와 같이 나타낼 수 있다. 여기서, 상기 T0(λ)는 상기 관찰창이 오염되기 전의 투과율, 상기 TC(λ)은 오염된 이후의 투과율을 나타내는 것이고, 상기 SA1(λ)는 오염되기 전에 측정한 제1반사광의 스펙트럼, 상기 SA1'(λ)는 오염된 이후에 측정한 제1반사광이다. Therefore, the change in the spectrum of the first reflected light before and after the contamination of the observation window
Figure pat00014
As shown in Fig. Here, T 0 (λ) is the transmittance before the observation window is contaminated, T C (λ) is the transmittance after the contamination, and S A1 (λ) is the spectrum of the first reflected light measured before being contaminated S A1 '(λ) is the first reflected light measured after being contaminated.

즉, 관찰창 오염 전후에 상기 제1반사광의 스펙트럼을 측정하여 그 비를 구하면, 상기 오염 후의 투과율을 구할 수 있다.
In other words, if the spectrum of the first reflected light is measured before and after the observation window contamination and the ratio thereof is obtained, the transmittance after the contamination can be obtained.

강판 반사단계(S40)는, 상기 관찰창을 투과하여 강판에 상기 측정광을 조사하고, 상기 강판에서 반사된 제2반사광을 포집할 수 있다. 이때, 상기 측정광이 상기 강판에 조사되어야 하므로, 상기 반사판은 이송되어 상기 측정광이 상기 반사판에 조사되지 않도록 할 수 있다. Steel plate reflection step (S40), through the observation window to irradiate the measurement light to the steel sheet, it may collect the second reflected light reflected from the steel sheet. In this case, since the measurement light should be irradiated to the steel sheet, the reflecting plate may be transferred so that the measuring light is not irradiated to the reflecting plate.

상기 제2반사광은 상기 강판의 표면에서 반사되는 빛과 상기 산화층의 표면에서 반사되는 빛이 간섭을 일으킨 반사간섭광의 스펙트럼, 강판의 반사율 및 광원부의 측정광 스펙트럼 그리고, 관찰창의 투과율에 의하여 영향을 받을 수 있다.The second reflected light may be affected by the spectrum of the reflected interference light caused by the light reflected from the surface of the steel sheet and the surface of the oxide layer, the reflectance of the steel sheet and the measured light spectrum of the light source, and the transmittance of the observation window. Can be.

이는

Figure pat00015
로 표현될 수 있으며, 여기서, SA'(λ)는 제2반사광의 스펙트럼이고, R(λ)은 강판의 반사율, SL(λ)은 상기 광원부의 측정광 스펙트럼, SR(λ)는 반사간섭광의 스펙트럼이며, TC(λ)는 상기 관찰창의 투과율이다. 여기서, 강판의 반사율(R(λ)) 및 상기 광원부의 측정광 스펙트럼(SL(λ))은 규격화를 통하여 일정한 크기의 상수로 취급할 수 있다. this is
Figure pat00015
Where S A '(λ) is the spectrum of the second reflected light, R (λ) is the reflectance of the steel sheet, S L (λ) is the measured light spectrum of the light source unit, and S R (λ) is It is the spectrum of reflected coherence light, and T C (λ) is the transmittance of the observation window. Here, the reflectance R (λ) of the steel sheet and the measurement light spectrum S L (λ) of the light source unit may be treated as constants of a constant size through standardization.

구체적으로, 상기 강판의 반사율은 강종에 따른 반사율을 미리 측정하여, 선택한 강조에 맞게 상기 반사율을 적용하는 방식으로 규격화할 수 있으며, 상기 측정광의 스펙트럼은 상기 광원부의 램프 교체 주기 등을 일정하게 설정하여 규격화할 수 있다.Specifically, the reflectance of the steel sheet may be normalized by measuring the reflectance according to steel grade in advance, and applying the reflectance according to the selected emphasis, and the spectrum of the measured light may be set by constantly setting a lamp replacement cycle of the light source unit. Can be standardized.

따라서, 상기 제2반사광의 스펙트럼은 상기 관찰창의 투과율 및 반사간섭광의 스펙트럼에 의하여 결정될 수 있다.
Therefore, the spectrum of the second reflected light may be determined by the transmittance of the observation window and the spectrum of the reflected interference light.

산화층 두께 계산단계(S50)는, 상기 파장별 투과율을 이용하여 상기 제2반사광의 스펙트럼을 보정한 후, 상기 강판의 표면에 생성된 산화층의 두께를 계산할 수 있다.In the oxide layer thickness calculating step S50, after correcting the spectrum of the second reflected light by using the transmittance for each wavelength, the thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet may be calculated.

앞서 살핀바와 같이, 제2반사광의 스펙트럼은

Figure pat00016
로 표현될 수 있고, 상기 관찰창의 투과율은,
Figure pat00017
와 같이 나타낼 수 있다.
Like Salpin Bar earlier, the spectrum of the second reflected light
Figure pat00016
It may be expressed as, the transmittance of the observation window,
Figure pat00017
As shown in Fig.

상기의 수식을 이용하여 관찰창의 오염에 의한 제2반사광의 스펙트럼을 보정하면, If the spectrum of the second reflected light due to contamination of the observation window is corrected using the above formula,

Figure pat00018
으로 나타낼 수 있다. 여기서, 상기 SA''(λ)strip은 보정된 제2반사광의 스펙트럼이고, SA'(λ)strip은 보정전 제2반사광의 스펙트럼이다.
Figure pat00018
It can be represented as Here, the S A '' (λ) strip is the corrected spectrum of the second reflected light, S A '(λ) is a strip pre-compensation spectrum of the second reflected light.

따라서, 상기 파장별 투과율을 이용하여 상기 제2반사광의 스펙트럼을 보정할 수 있다.Therefore, the spectrum of the second reflected light may be corrected by using the transmittance for each wavelength.

상기 보정된 제2반사광의 스펙트럼은 도6에 제시되어 있으며, 도4(a)의 오염전 제2반사광의 스펙트럼과 매우 유사한 형태로 얻을 수 있다.
The corrected spectrum of the second reflected light is shown in FIG. 6, and can be obtained in a form very similar to that of the pre-contaminated second reflected light of FIG. 4 (a).

상기 보정된 제2반사광의 스펙트럼을 이용하여, 상기 강판의 표면에 형성된 산화층의 두께를 계산할 수 있다.The thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet may be calculated using the corrected spectrum of the second reflected light.

앞서 살핀바와 같이, 상기 강판의 반사율(R(λ)) 및 상기 광원부의 측정광 스펙트럼(SL(λ))은 상수로 취급할 수 있으므로, 상기 제2반사광은 상기 반사간섭광에 의하여 결정되는 것일 수 있다.As described above, since the reflectance R (λ) of the steel sheet and the measurement light spectrum S L (λ) of the light source unit may be treated as constants, the second reflected light may be determined by the reflected interference light. It may be.

상기 반사간섭광은, 강판의 표면에서 반사된 빛과 산화층의 표면에서 반사된 빛이 경로차에 의하여 서로 간섭된 것으로서, 상기 산화층의 두께에 따라, 각각의 파장에 따른 빛의 세기가 달라질 수 있다. 그러므로, 상기 제2반사광의 파장에 따른 빛의 세기 변화를 이용하여 상기 산화층의 두께를 측정할 수 있다.The reflection coherence light, the light reflected from the surface of the steel sheet and the light reflected from the surface of the oxide layer interfere with each other by the path difference, the intensity of light according to each wavelength may vary according to the thickness of the oxide layer. . Therefore, the thickness of the oxide layer may be measured using a change in intensity of light according to the wavelength of the second reflected light.

구체적으로,

Figure pat00019
의 관계식이 성립하므로, 상기 cos(δ)가 최대 또는 최소가 되는 조건을 이용하여, 상기 SR(λ)에서의 상쇄/보강간섭되는 파장을 알 수 있다. Specifically,
Figure pat00019
Since the relational expression holds, the wavelength at which the cancellation / reinforcement interference in S R (λ) can be known using the condition that the cos (δ) becomes the maximum or the minimum.

상기 상쇄, 보강간섭 파장을 이용하면, 상기 산화층 두께 d는,

Figure pat00020
의 관계식에 의하여 구할 수 있다.When the offset and constructive interference wavelengths are used, the oxide layer thickness d is
Figure pat00020
It can be obtained by the relational expression of.

여기서, λM은 상기 상쇄/보강간섭 파장이다. 따라서, 상기 제2반사광의 반사 간섭광 스펙트럼을 구한 이후에, 상기 보강/ 상쇄 간섭 파장(λM)을 이용하여 상기 산화층의 두께를 구할 수 있다. 상기 n은 공기의 굴절률이고, k는 임의의 자연수를 의미한다.Here, λ M is the destructive / constructive interference wave. Therefore, after obtaining the reflected interference light spectrum of the second reflected light, the thickness of the oxide layer may be obtained using the constructive / destructive interference wavelength λ M. N is the refractive index of air, k means any natural number.

따라서, 상기 산화층 두께 계산단계(S50)는, 상기 산화층 두께 d를 계산할 수 있다.
Accordingly, in the oxide layer thickness calculating step S50, the oxide layer thickness d may be calculated.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되지 아니한다. 첨부된 청구범위에 의해 권리범위를 한정하고자 하며, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.
The present invention is not limited by the above-described embodiment and the accompanying drawings. It is intended that the scope of the invention be defined by the appended claims, and that various forms of substitution, modification, and alteration are possible without departing from the spirit of the invention as set forth in the claims. Will be self-explanatory.

1: 강판 2: 관찰창
10: 광원부 20: 광 포집부
30: 반사판 40: 신호처리부
50: 반사판 이송부 51: 차폐판 가이드
52: 차폐판 53: 구동부
S10: 오염도 판단단계 S20: 반사판 반사단계
S30: 투과율 계산단계 S40: 강판 반사단계
S50: 산화층 두께 계산단계
1: steel plate 2: observation window
10: light source unit 20: light collecting unit
30: reflector 40: signal processing unit
50: reflector plate transfer portion 51: shield plate guide
52: shield plate 53: drive unit
S10: pollution degree determination step S20: reflection plate reflection step
S30: transmittance calculation step S40: steel plate reflection step
S50: oxide layer thickness calculation step

Claims (5)

제어신호에 따라 관찰창과 강판 사이에 위치하는 반사판;
상기 관찰창을 투과하여 강판 또는 반사판에 측정광을 조사하는 광원부;
상기 측정광이 상기 반사판에서 반사된 제1반사광 또는 상기 측정광이 상기 강판에서 반사된 제2반사광을 포집하는 광 포집부; 및
상기 제1반사광을 이용하여 상기 관찰창에 의한 왜곡을 보정하고, 상기 제2반사광을 이용하여 상기 강판의 산화층의 두께를 계산하는 신호처리부를 포함하는 산화층 두께 측정장치.
A reflection plate positioned between the observation window and the steel sheet according to the control signal;
A light source unit transmitting the measurement light to the steel sheet or the reflecting plate through the observation window;
A light collecting unit collecting the first reflection light reflected by the measurement light from the reflection plate or the second reflection light reflected by the measurement steel plate; And
And a signal processing unit for correcting distortion caused by the observation window using the first reflected light and calculating a thickness of an oxide layer of the steel sheet using the second reflected light.
제1항에 있어서,
상기 관찰창 및 상기 강판사이에 구비되는 차폐판 가이드; 및
상기 차폐판 가이드를 따라 상하로 이송가능한 차폐판을 포함하는 것으로서, 상기 반사판이 상기 차폐판에 부착되는 반사판 이송부를 더 포함하는 산화층 두께 측정장치.
The method of claim 1,
A shielding plate guide provided between the observation window and the steel sheet; And
An oxide layer thickness measuring apparatus including a shielding plate which is movable up and down along the shielding plate guide, wherein the reflecting plate is attached to the shielding plate.
제1항에 있어서, 상기 반사판은
표면에 다면 구조를 가지는 것으로서,
상기 다면 구조는 상기 측정광이 반사되어 상기 광 포집부로 포집되는 광경로를 제공하는 산화층 두께 측정장치.
The method of claim 1, wherein the reflector is
As having a multi-faceted structure on the surface,
And the multi-sided structure provides an optical path through which the measurement light is reflected and collected by the light collecting unit.
제1항에 있어서, 상기 신호처리부는
제1반사광을 이용하여 상기 관찰창에서의 파장별 투과율을 계산하고, 상기 파장별 투과율을 이용하여 상기 제2반사광의 스펙트럼을 보정한 후, 상기 강판의 표면에 생성된 산화층의 두께를 계산하는 산화층 두께 측정장치.
The method of claim 1, wherein the signal processing unit
The oxide layer calculates the transmittance for each wavelength in the observation window using the first reflected light, corrects the spectrum of the second reflected light using the transmittance for each wavelength, and then calculates the thickness of the oxide layer formed on the surface of the steel sheet. Thickness measuring device.
관찰창을 투과하여 반사판에 측정광을 조사하고, 상기 반사판에서 반사된 제1반사광을 포집하는 반사판 반사단계;
상기 제1반사광의 스펙트럼을 이용하여 상기 관찰창에서의 파장별 투과율을 계산하는 투과율 계산단계;
상기 관찰창을 투과하여 강판에 상기 측정광을 조사하고, 상기 강판에서 반사된 제2반사광을 포집하는 강판 반사단계; 및
상기 파장별 투과율을 이용하여 상기 제2반사광의 스펙트럼을 보정한 후, 상기 강판의 표면에 생성된 산화층의 두께를 계산하는 산화층 두께 계산단계를 포함하는 산화층 두께 측정방법.
A reflection plate reflection step of irradiating measurement light to the reflection plate through the observation window and collecting the first reflection light reflected by the reflection plate;
A transmittance calculation step of calculating transmittance for each wavelength in the observation window by using the spectrum of the first reflected light;
A steel sheet reflection step of irradiating the measurement light to the steel sheet through the observation window and collecting second reflected light reflected from the steel sheet; And
And an oxide layer thickness calculation step of calculating a thickness of an oxide layer formed on a surface of the steel sheet after correcting a spectrum of the second reflected light by using the wavelength-specific transmittance.
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KR20200036446A (en) * 2018-09-28 2020-04-07 주식회사 포스코 Apparatus for measuring surface and annealing furnace having the same and method for measuring surface

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