KR20130047280A - Manufacturing method of new nvolac resin - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a phenol novolac type resin is provided to obtain divalent or less functional phenols with high purity by using a molar ratio of a phenol/formaldehyde with a specific range, thereby obtaining a commercially usable phenol novolac resin without special treatment. CONSTITUTION: A manufacturing method of a phenol novolac type resin comprises a step of putting phenol, formaldehyde, and acid catalyst into a reactor; a step of stirring and mixing the material and obtaining the phenol novolac type resin by removing water, unreacted water, and residual catalyst from the result. The reaction molar ratio of the phenol and aldehyde is 3-6 moles and desirably 4-5 moles. The acid catalyst is hydrochloric acid, sulfuric acid, salicylic acid, p-toluenesulfonic acid, and organic or inorganic oxalic acid.

Description

신규한 페놀 노볼락형 수지의 제조방법, 이를 이용한 에폭시 수지의 제조방법 및 이를 이용한 난연성 에폭시 수지의 제조방법{Manufacturing method of new nvolac resin}Novel manufacturing method of phenol novolak-type resin, epoxy resin manufacturing method using the same and flame retardant epoxy resin manufacturing method using the same {Manufacturing method of new nvolac resin}

본 발명은 신규 노볼락형 페놀 수지의 제조 방법 및 이를 이용하여 에폭시 수지를 제조하는 방법, 이 에폭시를 이용하여 신규 인함유 난연성 에폭시 수지를 제조하는 방법, 이 난연성 에폭시 수지를 이용하여 프리프레그 및 동박 적층판을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a process for producing a novel novolak-type phenol resin, a method for producing an epoxy resin using the same, a method for producing a new phosphorus-containing flame retardant epoxy resin using the epoxy, a prepreg and a copper foil using the flame-retardant epoxy resin. It relates to a method for producing a laminate.

일반적으로 널리 사용되는 노볼락 페놀수지중 페놀 노볼락 수지는 산촉매 하에서 페놀과 포를알데히드의 축합 반응에 의해서 얻어진다. 통상적으로 페놀과 포름 알데히드의 몰비는 1 ~ 3 몰정도의 범위를 가지고, 평균적으로 한 분자당 4~5개의 페놀체를 함유하고 있고, 2가 이하의 페놀체 함량은 10~30% 중량비를 함유하고 있다. The phenol novolak resin in the widely used novolak phenol resin is obtained by the condensation reaction of phenol and foraldehyde with acid catalyst. Typically, the molar ratio of phenol and formaldehyde is in the range of about 1 to 3 moles, and on average contains 4 to 5 phenolic compounds per molecule, and the phenolic content of divalent or less is 10 to 30% by weight. Doing.

노볼락형 페놀수지의 한 분자당 페놀체의 분포는 페놀류와 알데히드류의 몰비(이하 P/F 몰비)가 결정한다고 알려져 있다. 예를 들어 P/F 몰비가 2.05 로 반응하여 얻어지는 통상적으로 가장 널리 사용되는 페놀 노볼락 에폭시 수지의 원료인 다가 페놀체는 2가이하의 페놀체 함량이 25%, 3가 페놀체 함량이 20%, 4가 페놀체 이상의 함량이 15% 정도로 분포한다. It is known that the distribution of phenols per molecule of the novolak-type phenol resin is determined by the molar ratio (hereinafter, P / F molar ratio) between phenols and aldehydes. For example, polyhydric phenol, which is a raw material of the most widely used phenol novolac epoxy resin obtained by reacting with a P / F molar ratio of 2.05, has a phenolic content of less than 25% and a 20% content of trivalent phenolic content. In addition, the content of tetravalent phenol is more than 15%.

P/F 몰비를 크게 하면, 2가 페놀체의 함량이 높아져 최종 생성물의 분자량이 낮아지고, P/F 몰비가 1에 가까울 수록 2가 페놀체의 함량이 낮아지며 4가이상의 페놀체의 함량이 높아지면서, 최종 생성물인 페놀 노볼락 수지의 분자량이 높아진다. Increasing the P / F molar ratio increases the content of the dihydric phenol, resulting in a lower molecular weight of the final product. The closer the P / F molar ratio is to 1, the lower the dihydric phenol is and the higher the content of the tetravalent phenol. The molecular weight of the phenol novolak resin, which is the final product, increases.

노볼락형 페놀 수지중 2가 페놀체의 함량이 높아지면 전체 분자량이 낮아지는 효과가 있어, 점도가 낮아지고, 이를 이용해서 에폭시 수지를 제조하면 낮은 분자량으로 인해 보다 원활한 제조가 가능하나, 관능기 밀도가 낮아서 목적하는 정도의 물성을 얻기가 힘들어 진다. When the content of the dihydric phenol is increased in the novolak-type phenolic resin, the effect of lowering the overall molecular weight is lowered, and the viscosity is lowered. Is low, making it difficult to obtain the desired properties.

한편, 2가 페놀체의 함량이 낮은 노볼락형 페놀 수지를 제조하기 위하여 P/F 몰비를 낮게하여 제조한다면 점도가 높아지고, 분자량이 높아지며, 이를 이용하여 에폭시 수지를 제조하면 높은 분자량으로 인하여 에폭시화 반응이 원활하게 일어나지 않아, 다량의 부산물이 발생하여 에폭시 수지를 제조하기 힘들어 진다. On the other hand, in order to prepare a novolak-type phenolic resin having a low content of dihydric phenol, if the P / F molar ratio is low, the viscosity is high and the molecular weight is high. The reaction does not occur smoothly, and a large amount of by-products are generated, making it difficult to prepare an epoxy resin.

이처럼 종래의 방법으로 2가 이하의 페놀체 함량을 낮추는 방법은 P/F 몰비를 낮게 하지 않으면 안되며, 이는 필연적으로 고분자량의 다가페놀체가 생성되어, 이후 에폭시화 반응시 많은 문제를 일으킨다.As such, the method of lowering the phenolic content of divalent or less by the conventional method must lower the P / F molar ratio, which inevitably generates a high molecular weight polyhydric phenol, which causes many problems in the epoxidation reaction.

2가 이하의 페놀체 함량이 적은 페놀 노볼락 수지를 제조하기 위한 방법으로 일본 특표소 62-501780호에 기제되어 있는 바와 같이, 반응 후 열수를 사용하여 2가 이하의 페놀체를 추출하는 방법, 일본 특개 90-60915호 공보에 기재되어 있는 바와 같이 물에 다소 용해성이 있는 용매를 가한 다음, 수용성 알콜 및 물을 가하여 저가 페놀체를 제거하는 방법, 또는 특개평6-128183 호에 기재된 것 같이 조 비스페놀 F를 제조한 후 박막 증류를 통하여 고순도 비스페놀 F를 얻은 후 남은 잔존하는 저분자량의 다가 페놀체에 다시 페놀과 알데히드를 반응하여 페놀 노볼락 수지를 얻는 방법 등이 기재되어 있다.A method for producing a phenol novolak resin having a low content of phenolic compounds having a dihydric acid or less, as described in Japanese Patent Office No. 62-501780, a method of extracting a phenolic compound having a dihydric acid or less using hot water after the reaction, As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 90-60915, a slightly soluble solvent is added to water, followed by adding a water-soluble alcohol and water to remove the low-cost phenol, or as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-128183. After preparing bisphenol F and obtaining high purity bisphenol F through thin film distillation, a method of obtaining a phenol novolak resin by reacting phenol and aldehyde again with the remaining low molecular weight polyhydric phenol is described.

그러나, 이들 방법은 공정이 복잡할 뿐 아니라, 2가 이하의 페놀체를 제거하므로서 생산성을 저하하여 상업적 이용에는 한계가 있고, 특개평 6-128183의 방법으로는 고순도 비스페놀 F의 제조에 있어서는 매우 유효하나, 특허에서 개시하는 상업적으로 사용가능한 페놀노볼락의 병산을 위하여는 관출물을 재차 반응하여 생산하는 문제점이 있다. 또한 관출물인 신규 페놀노볼락 수지를 상업적으로 이용하는 방법으로 재차반응하여 고분자량의 페놀노볼락 수지를 제조한다는 의견만 개시할 뿐 에폭시 수지의 원료로서의 가능성에 대한 검토는 없었다.
However, these methods are not only complicated in process, but also have a limitation in commercial use due to the removal of dihydric phenol or lower phenols, and are very effective in producing high-purity bisphenol F by the method of Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-128183. However, for the commercially available phenol novolac co-occurrence disclosed in the patent there is a problem of producing the reaction by reacting again. In addition, only the opinion of producing a high molecular weight phenol novolak resin by reacting again with a commercial method using a new phenol novolak resin, which is a leach product, was disclosed.

본 발명들은 위의 여러 가지 문제점을 면밀히 검토한 결과, 특정한 범위 P/F 몰비를 이용하여 일반적인 페놀노볼락 수지를 제조한 후, 일정부분의 2가 이하의 페놀체를 분리 한다면, 높은 순도의 2가 이하의 페놀류를 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 특별한 처리 없이도 상업적으로 이용 가능한 페놀 노볼락 수지를 얻을 수 있다는 것을 발견하였다.The present invention closely examines the above problems, and as a result, after preparing a general phenol novolak resin using a specific range P / F molar ratio, if a portion of the divalent or less phenol is separated, high purity 2 It has been found that not only the following phenols can be obtained, but also commercially available phenol novolak resins can be obtained without special treatment.

또한, 상기의 방법으로 얻은 페놀노볼락 수지는 2가 페놀체의 함량이 10%이하로 낮음에도 불구하고 통상적으로 에폭시 수지를 제조하기 위한 원료로서 사용되는 페놀 노볼락 수지와 유사한 분자량과 연화점, 에폭시화 반응시 유사한 반응성 및 공정의 유효성을 가지고 있다.In addition, the phenol novolak resin obtained by the above method has a molecular weight, softening point, and epoxy similar to that of the phenol novolak resin commonly used as a raw material for producing an epoxy resin, although the content of dihydric phenol is lower than 10%. The reactions have similar reactivity and process effectiveness.

또한, 상기의 방법으로 얻은 페놀노볼락 수지를 이용하여 에폭시 수지를 제조하면, 에폭시 수지의 통상적인 특성은 매우 유사하게 얻을 수 있으면서, 내열성, 에폭시기 관능기 등이 매우 높은 새로운 에폭시 수지를 얻을 수 있다.In addition, when the epoxy resin is produced using the phenol novolak resin obtained by the above method, it is possible to obtain a new epoxy resin having a very high heat resistance, an epoxy group functional group, etc., while the conventional properties of the epoxy resin can be obtained very similarly.

또한, 상기의 방법으로 얻은 에폭시 수지를 이용하여 반응성이 있는 인화합물과 반응하여 인함유 난연성 에폭시 수지를 제조하면, 상용하는 유사한 분자량의 노볼락 에폭시 수지로부터 얻는 인함유 난연성 에폭시 수지와 비교하여 내열성이 크게 향상되는 것을 발견하였다.In addition, when the phosphorus-containing flame-retardant epoxy resin is prepared by reacting with a reactive phosphorus compound using the epoxy resin obtained by the above method, the heat resistance is higher than that of the phosphorus-containing flame-retardant epoxy resin obtained from commercially available similar molecular weight novolak epoxy resins. It was found to be greatly improved.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명자들은 노볼락형 페놀수지로부터 유도된 에폭시 수지의 분자 구조를 면밀히 살펴본 결과, 2가 이하의 페놀류를 일정 성분 이하로 조절한다면 내열성 및 흡습성, 반응성은 물론이고, 동박적층판 제작 및 PCB 공정에서 일어날 수 있는 수지 흐름문제 (Press Flow) 도 현저히 개선할 수 있다는 것을 발견하였다. In order to solve the above problems, the present inventors closely examined the molecular structure of an epoxy resin derived from a novolak-type phenolic resin, and as a result, if the dihydric phenols are controlled below a certain component, heat resistance, hygroscopicity, reactivity, as well as copper foil laminate It has also been found that resin flow problems that can occur in fabrication and PCB processes can be significantly improved.

일반적인 화학 반응 장치, 예컨대 교반기, 온도조절장치, 냉각기가 장착된 환류장치, 전기장치, 감압장치 등이 갖춘 반응이기에 페놀, 포름알데히드 및 산촉매를 투입하고, 교반하에 일정온도에서 일정 시간 반응시킨다. 반응생성물로부터 생성수, 미반응 페놀, 잔류 촉매를 제거하고 페놀노볼락 수지를 얻는다.Since the reaction is equipped with a general chemical reaction device such as a stirrer, a temperature control device, a reflux device equipped with a cooler, an electric device, and a pressure reduction device, phenol, formaldehyde, and an acid catalyst are added thereto, and the reaction is performed at a constant temperature for a certain time under stirring. The produced product, unreacted phenol and residual catalyst are removed from the reaction product to obtain a phenol novolak resin.

본 발명의 사용되는 페놀로는 페놀외에 o-cresol, m-cresol, p-cresol 등 메틸기가 치환된 페놀류 등 알데히드류와 반응하여 노볼락수지를 제조가능 한 페놀류도체는 제한 없이 사용가능하다.As the phenol used in the present invention, phenol derivatives capable of producing a novolak resin by reacting with aldehydes such as phenols substituted with methyl groups, such as o-cresol, m-cresol, and p-cresol, in addition to phenol, can be used without limitation.

또, 페놀과 알데히드의 반응몰비 P/F 몰비는 통상 3 이상, 바람직하게는 3~6몰, 더욱 바람직하게는 4~5몰이다. P/F 몰비가 3몰이하일 경우 n=0 라 불리는 고순도 비스페놀 F 유출량이 감소하고, 목적하는 신규 페놀노볼락 수지의 분자량이 높아지며, 6몰 이상일 경우는 그 반대의 현상으로 상업적으로 바람직하지 않다. 4.5 몰의 P/F 몰비에서 고순도 비스페놀 F와 상업적으로 바람직한 신규 페놀노볼락 수지의 생산량이 중량기준으로 1:1로 수득할 수 있어, 가장 바람직한 몰비라 판단되어지며, P/F 몰비를 3~6몰로 조절하여 고순도 비스페놀 F 와 신규 페놀노볼락 수지의 생산량을 조절 할 수 있다.Moreover, the reaction molar ratio P / F molar ratio of a phenol and an aldehyde is 3 or more normally, Preferably it is 3-6 mol, More preferably, it is 4-5 mol. When the P / F molar ratio is 3 mol or less, the high purity bisphenol F outflow called n = 0 decreases, the molecular weight of the desired new phenol novolak resin becomes high, and when the molar ratio is 6 mol or more, it is not commercially preferable. The production of high purity bisphenol F and commercially preferred novel phenol novolak resin at a molar ratio of 4.5 moles of P / F can be obtained 1: 1 by weight, which is considered to be the most preferable molar ratio. By controlling the amount to 6 moles, the production of high-purity bisphenol F and novel phenol novolak resins can be controlled.

사용하는 산촉매는 양이온 교환수지와 같은 고체 산촉매 고정베드이어도 좋고, 염산, 황산, 살리실산, p-톨루엔 술폰산 및 옥살 유기산 및 무기산이어도 좋다.The acid catalyst used may be a solid acid catalyst fixed bed such as a cation exchange resin, or may be hydrochloric acid, sulfuric acid, salicylic acid, p-toluene sulfonic acid and oxal organic acid and inorganic acid.

반응 온도 및 시간은 통상적으로 페놀노볼락 수지를 제조하는 반응온도를 그대로 따른다. 통상적으로 페놀노볼락 수지를 제조할 시에 반응 온도는 50~110℃, 시간은 0.5~10시간이다.The reaction temperature and time usually follow the reaction temperature for producing a phenol novolak resin. Usually, when manufacturing a phenol novolak resin, reaction temperature is 50-110 degreeC and time is 0.5 to 10 hours.

촉매의 제거 공정은 촉매의 종류에 따라 다양하나, 통상적으로 사용되는 옥살 유기산(수산)의 경우 유출수 및 페놀 제거 공정에서 동시에 제거된다.The catalyst removal process varies depending on the type of catalyst, but in the case of commonly used oxal organic acid (hydroxyl), both the effluent and the phenol removal process are simultaneously removed.

이어서, 미반응 페놀과 유출수는 감압 증류에 의해 제거한 후 페놀노볼락 수지를 얻는다. 일반적으로 감압 증류시 페놀과 물을 분리하는 공정을 거치고, 최종 감압 단계에서 반응기내 액적속으로 스팀을 스티리핑하는 공정을 거쳐 미반응 페놀의 함량을 극소화하는 것이 바람직하다.Subsequently, unreacted phenol and effluent are removed by distillation under reduced pressure to obtain a phenol novolak resin. In general, it is preferable to minimize the content of unreacted phenol through the process of separating the phenol and water during the distillation under reduced pressure, and the step of steaming steam into the reactor droplets in the final decompression step.

다음에 제조된 페놀노볼락 수지를 냉각장치가 장착된 박막증발기에 연속적으로 공급하고, 압력 10torr 이하, 바람직하게는 5torr 이하, 보다 바람직하게는 3~5torr 이하에서, 증류온도는 250℃ 이상 300℃ 이하, 바람직하게는 260℃ 이상 290℃ 이하, 페놀노볼락 수지를 증류기에 공급하는 속도는 50kg/hr 이상 바람직하게는 80kg/hr 이상, 보다 바람직하게는 100kg/hr 이상 300kg/hr 이하로 증류공정을 실시한다. 증류기 개수는 여러 개일 필요는 없다.The phenol novolac resin thus prepared was continuously supplied to a thin film evaporator equipped with a cooling device, and the distillation temperature was 250 ° C or higher and 300 ° C at a pressure of 10torr or lower, preferably 5torr or lower, more preferably 3-5torr or lower. Below, preferably 260 ° C or more and 290 ° C or less, the rate of supplying the phenol novolak resin to the still is 50 kg / hr or more, preferably 80 kg / hr or more, more preferably 100 kg / hr or more and 300 kg / hr or less Is carried out. The number of distillers does not have to be several.

본 발명과 유사한 공정을 개시하는 일본국 특개평 6-128183 호에는 바람직한 증류온도를 250℃ 이상에서 실시할 경우, 유출물 및 관출물의 색상 및 열분해 우려가 있다고 개시하였지만, 본 발명에서는 상대적으로 고속으로 증류기내 수지를 주입하고, 여러번의 증류를 거치지 않으며 한번의 증류만으로 고온, 적어도 270℃ 이상에서 진행한다면, 생성물의 색상변화 및 열분해 우려 없이 보다 생산성이 향상된다는 것을 발견했다.Japanese Patent Laid-Open No. 6-128183, which discloses a process similar to the present invention, discloses that when a preferable distillation temperature is performed at 250 ° C. or higher, there is a risk of coloration and pyrolysis of effluents and effluents. It was found that if the resin was injected into the still, and the distillation was not performed several times and the distillation was performed at a high temperature, at least 270 ° C. or more, only one distillation was performed, and the productivity was improved without fear of color change and pyrolysis of the product.

상기 방법에 의해서 박막을 통하여 증류되어 얻어지는 고순도 비스페놀 F과, 증류되지 않고 증류기내 남아 있는 신규 페놀노볼락 수지를 얻을 수 있다. By the above method, high-purity bisphenol F obtained by distillation through a thin film and new phenol novolak resin remaining in the still without distillation can be obtained.

상기에 기술한 범위의 P/F 몰비로 공정을 진행할 경우 When the process is carried out in the P / F molar ratio of the above-described range

1) 반응시 미반응으로 남으리라 예상되는 페놀의 량이 6몰이상의 경우보다 적으므로, 단위 배치(batch) 당 생산량이 선행 문헌에서 개시한 방법에 비해 높으므로 생산성이 우수하고,1) Since the amount of phenol expected to remain unreacted during the reaction is less than the case of 6 mol or more, the productivity per unit batch is higher than the method disclosed in the literature, the productivity is excellent,

2) 증류시 얻어지는 고순도 비스페놀 F와 신규 페놀 노볼락의 양이 비슷하므로, 상황에 따른 생산량 조절에 유리하고,2) Since the amount of high-purity bisphenol F and new phenol novolac obtained by distillation is similar, it is advantageous to control the production according to the situation.

3) 증류시 얻어지는 신규 페놀 노볼락의 일반적 특성이 에폭시 수지제조용 범용페놀노볼락과 유사하므로 별다른 조작없이 바로 에폭시 수지 제조용으로 사용할 수 있으므로 상업적으로 유용하다.
3) Since the general properties of the novel phenol novolac obtained during distillation are similar to general purpose phenol novolac for epoxy resin production, it is commercially useful because it can be used for the preparation of epoxy resin without any special operation.

본 발명의 다른 양상으로 상기의 방법으로 얻어진 신규 페놀 노볼락 수지를 원료로서 에폭시 수지를 제조하는 데 있다.Another aspect of the present invention is to prepare an epoxy resin using a novel phenol novolak resin obtained by the above method as a raw material.

상기의 방법으로 얻어진 신규 페놀 노볼락 수지는 외관특성 및 일반적으로 에폭시 반응에 주원료로 사용되는 에피클로로히드린(ECH) 와의 반응시 통상 사용하는 페놀노볼락과 반응성에서 큰 차이를 보이지 않아, 별 다른 공정 변경 없이 바로 에폭시 수지로 제조하여도, 공정성 등에서 큰 차이를 보이지 않으며, 대부분의 일반적인 특성이 유사하면서, 내열성은 크게 향상되는 장점이 있다. The novel phenol novolac resin obtained by the above method does not show a big difference in appearance characteristics and reactivity with phenol novolac commonly used in reaction with epichlorohydrin (ECH), which is generally used as a main raw material for epoxy reactions. Even if the epoxy resin is prepared directly without changing the process, it does not show a big difference in processability, etc., while most of the general characteristics are similar, there is an advantage that the heat resistance is greatly improved.

본 발명의 방법으로 얻을 수 있는 신규 페놀노볼락 수지는 2가 페놀체 함량이 낮고, 3가 이상의 페놀체 함량이 높아 유사한 범위의 분자량을 갖는 상용 페놀노볼락 수지에 비해 말단기 함량이 상대적으로 높다. 이는 에폭시화를 하여 에폭시 수지로 제조하여도 유지되는데, 페놀노볼락수지의 페놀체 함량과 에폭시화 후 에폭시 수지의 에폭시기 함량은 비례한다. 따라서, 본 발명의 방법으로 제조된 신규 페놀노볼락 수지를 이용하여 에폭시화 시킨 에폭시 수지도 2가 에폭시체 함량이 낮고 3가 이상의 에폭시체 함량이 높다. 따라서, 당량, 점도, 분자량등 에폭시 수지 자체의 특성은 일반적인 페놀노볼락 에폭시 수지와 유사하면서, 많은 에폭시 체 함량으로 인한 가교밀도 증가로 내열성 등의 특성이 크게 개선된다.
The novel phenol novolac resin obtainable by the method of the present invention has a relatively high end group content compared to commercial phenol novolac resins having a low molecular weight and a high content of trivalent or higher phenolic compounds, having a similar range of molecular weight. . This is maintained even when the epoxy resin is prepared by epoxidation. The phenol content of the phenol novolak resin and the epoxy group content of the epoxy resin after epoxidation are proportional to each other. Therefore, the epoxy resin epoxidized using the novel phenol novolak resin produced by the method of the present invention also has a low divalent epoxy content and a high trivalent or higher epoxy content. Therefore, the properties of the epoxy resin itself, such as equivalent weight, viscosity, molecular weight, are similar to the general phenol novolac epoxy resin, and the properties such as heat resistance are greatly improved by increasing the crosslinking density due to the content of many epoxy bodies.

본 발명의 또 다른 양상으로 상기의 방법으로 얻어진 신규 페놀노볼락 에폭시 수지를 베이스 수지로 하여 새로운 인함유 난연 에폭시 수지를 얻는 데 있다. In another aspect of the present invention, a novel phosphorus-containing flame-retardant epoxy resin is obtained by using a novel phenol novolac epoxy resin obtained by the above method as a base resin.

상업적으로 인함유 난연 에폭시 수지 제조에 널리 쓰이는 DOPO(9,10-디히드-9-옥시-10-포스파페난트렌-10옥사이드)는 활성수소가 인원자 말단에 하나만 존재하여, DOPO 1 당량당 에폭시기 1당량을 반응을 하여, 그만큼 총 에폭시기가 줄어든다. 에폭시기가 줄어드는 것은 최종 가교반응 후 가교 밀도가 떨어진다는 의미고, 가교밀도가 떨어지면 열특성, 물리적 특성 등이 대체적으로 떨어지는 경향이 있다. 특히. 에폭시 가교밀도는 Tg 등의 내열성과 흡습 등의 환경특성에 지대한 영향을 준다. DOPO (9,10-dihydr-9-oxy-10-phosphaphenanthrene-10oxide), which is widely used in the production of phosphorus-containing flame-retardant epoxy resins, has only one active hydrogen at the end of the phosphorus group, so Reaction with 1 equivalent of epoxy groups reduces the total epoxy groups by that amount. Reducing the epoxy group means that the crosslinking density decreases after the final crosslinking reaction, and when the crosslinking density decreases, thermal characteristics, physical properties, and the like tend to generally fall. Especially. Epoxy crosslinking density has a great influence on environmental properties such as heat resistance and moisture absorption, such as Tg.

신규 페놀노볼락 수지로부터 얻어진 에폭시 수지는 일반적인 페놀노볼락 에폭시 수지에 비해 에폭시기 함량이 높으므로, DOPO 등과 같은 반응기가 하나인 원료로부터 상대적으로 말단기 감소가 덜 일어난다. 이러한 점으로부터 보다 더 높은 가교밀도를 얻을 수 있고, 보다 향상된 Tg 등의 내열특성을 발현할 수 있다.Epoxy resins obtained from novel phenol novolac resins have a higher epoxy group content than conventional phenol novolac epoxy resins, so that less end group reduction occurs from a single reactor raw material such as DOPO. From this point, a higher crosslinking density can be obtained, and more improved heat resistance such as Tg can be expressed.

노볼락형 페놀수지를 구성하는 분자 구조중 특히, 3가 이상의 페놀체의 함량을 유지한 체, 2가이하의 페놀체의 함량을 일정성분이하로 조절한 노볼락 페놀수지로부터 유도된 에폭시 수지를 이용하여 반응성 인화합물과 반응하여 얻어진 난연성 에폭시 수지는 2가 이하의 페놀체의 함량이 조절되지 않은 노볼락 페놀수지로부터 출발한 에폭시 수지를 이용한 것 보다, 내열성, 내전압, 흡습성 등의 일반적인 특성 뿐 만아니라, 안정적인 반응성, 동박 적층판 제조시의 공정성 등이 현저히 향상된다.Among the molecular structures constituting the novolak-type phenolic resins, epoxy resins derived from novolak phenolic resins having a content of at least trivalent or higher phenolic compounds and a bivalent or lower phenolic compound controlled to a certain component or less are used. The flame-retardant epoxy resin obtained by reacting with the reactive phosphorus compound has only general properties such as heat resistance, withstand voltage, and hygroscopicity than those using an epoxy resin originating from a novolak phenol resin having no controlled dihydric phenol content. In addition, stable reactivity, processability at the time of manufacturing a copper foil laminated board, etc. are remarkably improved.

도 1은 실시예 1로부터 얻은 신규 페놀노볼락 수지의 GPC 패턴이다.
도 2는 실시예 2로부터 얻은 페놀노볼락 에폭시 수지의 GPC 패턴이다.
도 3은 비교예 2의 일반 에폭시용 페놀노볼락 수지의 GPC 패턴이다.
도 4는 비교예 2로부터 얻은 페놀노볼락 에폭시 수지의 GPC 패턴이다.
1 is a GPC pattern of a novel phenol novolak resin obtained in Example 1. FIG.
2 is a GPC pattern of a phenol novolac epoxy resin obtained in Example 2. FIG.
3 is a GPC pattern of a phenol novolak resin for general epoxy of Comparative Example 2. FIG.
4 is a GPC pattern of a phenol novolac epoxy resin obtained from Comparative Example 2. FIG.

본 발명은 노볼락 페놀 수지중의 구성중 2가 이하의 페놀체 함량을 조절하는 방법과 2가 이하의 페놀체가 조절된 노볼락 페놀 수지로부터 에폭시 수지를 제조하는 방법과 그 에폭시 수지를 인함유 화합물과 반응하여 새로운 난연성 에폭시 수지를 만드는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for adjusting the phenolic content of divalent or less in the composition of the novolak phenolic resin, a method for producing an epoxy resin from a novolak phenolic resin having a divalent or less phenolic compound and a compound containing the epoxy resin and Reacts to a new flame retardant epoxy resin.

이하, 본 발명을 실시하는 방법을 보다 구체적으로 기술한다. Hereinafter, the method for implementing the present invention will be described in more detail.

[실시예 1]Example 1

교반기, 질소유입구, 냉각관과 연결된 환류관이 장착된 4구 플라스크에 페놀 1300g, PW 144g, 수산 3.9g을 투입하고 80℃에서 용해한다. 37% 포르말린 수용액 249g을 30분간 계에 정량주입하고, 90℃ 승온하여 3시간 반응을 진행한다. 이때 P/F 몰비는 4.5몰이다. 계의 온도를 112℃ 까지 순차적으로 올려 탈수공정을 진행한 후, 180℃, 5torr 까지 계의 액적이 끓어오르는 것을 방지하면서 승온 감압하여 미반응 페놀을 회수한다. 계에서 더 이상 유출물이 나오지 않는 시점에서 감압하에 스팀을 계 내부로 주입하여 스티리핑 공정을 진행하여 잔존하는 미량의 페놀까지 제거하여 페놀노볼락 수지 511g을 얻는다.Into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet, and a reflux tube connected to a cooling tube, 1300 g of phenol, 144 g of PW, and 3.9 g of oxalic acid were added and dissolved at 80 ° C. 249 g of 37% aqueous formalin solution was metered into the system for 30 minutes, and the reaction mixture was heated at 90 ° C. for 3 hours. At this time, the P / F molar ratio is 4.5 mol. The temperature of the system was sequentially raised to 112 ° C., followed by a dehydration step, and then the temperature was reduced under reduced pressure to recover unreacted phenol while preventing droplets of the system from 180 ° C. to 5 torr. When no more effluent comes out of the system, steam is injected into the system under reduced pressure to proceed with the stipping process to remove even the remaining amount of phenol to obtain 511 g of a phenol novolak resin.

제조된 페놀노볼락 수지를 송액 펌프를 이용하여 100kg/hr 의 속도로 박막증발기에 정량 공급한다. 박막증발기의 열매 온도는 285℃, 진공도는 3torr 로 설정한다. 박막을 통과하여 증발된 부분은 재결정화를 통하여 2가 페놀체의 함량이 98%인 251g 고순도 비스페놀 F로 수득하고, 증발되지 않은 부분은 2가 페놀체의 함량이 10%인 260g 신규 페놀노볼락 수지로 수득한다. 신규 페놀노볼락 수지의 분자량은 Mn =500g/mol, 이고, Mw = 565g/mol 이고, Mn/Mw=1.1292 였다. 도 1에 페놀노볼락 수지의 GPC 페턴을 도시하였다. 리텐션 타임 37.325분에 해당하는 영역이 2가 페놀체이고, 그 함량은 9.85%였다.
The prepared phenol novolac resin is quantitatively supplied to the thin film evaporator at a rate of 100 kg / hr using a liquid feeding pump. The fruit temperature of the thin film evaporator is set to 285 ° C. and the degree of vacuum is set to 3 torr. The evaporated portion through the thin film was obtained through recrystallization to give 251g high purity bisphenol F having 98% of dihydric phenol, and the 260g new phenol novolac having 10% of divalent phenol. Obtained as resin. The molecular weight of the novel phenol novolak resin was Mn = 500 g / mol, Mw = 565 g / mol and Mn / Mw = 1.1292. 1 shows a GPC pattern of a phenol novolak resin. The area corresponding to 37.325 minutes of retention time was a dihydric phenol, and its content was 9.85%.

[실시예 2][Example 2]

디켄터가 장착된 냉각관, 교반기, 질소 유입구가 있는 3L의 4구 플라스크에 실시예 1의 신규 페놀노볼락 수지 260g 과 에피클로로 히드린 (ECH) 1030g을 투입하고 60℃ 까지 승온하면서 용해한다. 계내의 용액이 완전히 용해가 되면 50% 가성소다 수용액 16g을 1시간 동안 정량 주입한 후 3시간동안 예비반응을 진행한다. 이후, 65℃, 150torr 의 감압을 계에 가하고, 50%가성 소다 수용액 194g을 4시간에 걸쳐 정량 주입하며 본 반응을 진행한다. 본반응 중 발생하는 물을 디켄터를 통하여 지속적으로 계로부터 제거한다. 본 반응 완료후에 150℃, 5torr 까지 서서히 승온 감압하여 미반응 ECH를 제거 한다. ECH유출이 완료되면 110℃ 까지 감압하고, 메틸이소부틸케톤을 400g 가하여 용해하고, 정제반응을 실시한다. 중화반응 및 물로 2회 수세 후 메틸이소부틸 케톤을 감압 제거하고 신규 페놀노볼락 에폭시 수지를 얻는다. 260 g of the novel phenol novolak resin of Example 1 and 1030 g of epichlorohydrin (ECH) were added to a 3-liter four-necked flask equipped with a decanter, a cooling tube, a stirrer, and a nitrogen inlet, and dissolved by heating to 60 ° C. When the solution in the system is completely dissolved, 16 g of 50% aqueous solution of caustic soda is metered in for 1 hour, followed by preliminary reaction for 3 hours. Thereafter, a reduced pressure of 65 ° C. and 150 torr was added to the system, and 194 g of an aqueous 50% caustic soda solution was metered in for 4 hours to proceed with the present reaction. Water generated during the reaction is continuously removed from the system through a decanter. After completion of the reaction, the reaction mixture was gradually heated and reduced in pressure to 150 to 5torr to remove unreacted ECH. After the completion of the ECH outflow, the mixture was decompressed to 110 ° C., 400 g of methyl isobutyl ketone was added to dissolve, and the purification reaction was carried out. After neutralization reaction and washing with water twice, methyl isobutyl ketone is removed under reduced pressure to obtain a new phenol novolac epoxy resin.

이때 에폭시 당량은 179g/eq, 가수분해 염소분은 50ppm, 점도는 I 이며, 이론 수지량 대비 수율은 98%였다. 통상적으로 상용하는 페놀노볼락 에폭시 수지와 큰 차이를 보이지 않았다. 표1 에 통상적인 페놀노볼락 에폭시 수지와 상기방법으로 제조된 에폭시 수지의 일반적인 특성을 나타내었다. 에폭시 수지의 분자량 분포 (GPC) 는 도2에 나타내었다
In this case, the epoxy equivalent was 179 g / eq, the hydrolyzed chlorine content was 50 ppm, the viscosity was I, and the yield was 98% relative to the theoretical resin amount. There was no significant difference from the commonly used phenol novolac epoxy resin. Table 1 shows the general characteristics of the conventional phenol novolac epoxy resin and the epoxy resin prepared by the above method. The molecular weight distribution (GPC) of the epoxy resin is shown in FIG.

[실시예 3][Example 3]

환류관이 장착된 냉각관, 교반기, 질소 유입구가 있는 2L 4구 플라스크에 실시예 2로부터 얻은 신규 페놀노볼락 에폭시 수지 300g 과 HCA 79.64g을 투입하고, 110℃ 까시 승온하면서 용해한다. 완전히 용해된 계에 트리페닐 포스핀(TPP) 0.16g을 투입하고 160℃에서 3시간동안 반응을 행한다. 반응 종료 후 계에 아세톤 170g을 서서히 가하여 용해하여, 인함유 난연성 에폭시 수지를 얻는다. 이때 이론 인함량은 3%, 에폭시 당량은 298g/eq, 용액의 점도는 290cps@25℃ 이며, 불휘발분은 70.5% 였다. 표 3에 에폭시 수지의 일반 특성과, 경화 특성을 비교하였다.
Into a 2-liter four-necked flask equipped with a reflux tube, a stirrer, and a nitrogen inlet, 300 g of the novel phenol novolac epoxy resin obtained in Example 2 and 79.64 g of HCA were added and dissolved at 110 ° C. at elevated temperature. 0.16 g of triphenyl phosphine (TPP) was added to the completely dissolved system, and the reaction was performed at 160 ° C for 3 hours. After completion of the reaction, 170 g of acetone is gradually added to the system to dissolve, thereby obtaining a phosphorus-containing flame-retardant epoxy resin. At this time, the theoretical phosphorus content was 3%, the epoxy equivalent was 298 g / eq, the viscosity of the solution was 290 cps @ 25 ° C, and the nonvolatile content was 70.5%. Table 3 compares the general properties and the curing properties of the epoxy resins.

[비교예 1]Comparative Example 1

교반기, 질소유입구, 냉각관과 연결된 환류관이 장착된 3L 4구 플라스크에 페놀 2000g과 포르말린 86.3g 및 옥살산 2수화물 5.6g을 장입했다. 이때 P/F 몰비는 20몰이다. 교반하면서 70℃ 까지 가열하고 환류 냉각기를 작동시켜서 대기압하에서 4시간 반응을 실시했다.2000 g of phenol, 86.3 g of formalin and 5.6 g of oxalic acid dihydrate were charged to a 3 L four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet, a reflux tube connected to a cooling tube. At this time, the P / F molar ratio is 20 mol. It heated to 70 degreeC, stirring, and operated the reflux condenser, and reaction was performed at atmospheric pressure for 4 hours.

다음, 수득한 반응생성물을 대기압하에 160℃까지 가열하여 물 및 소량의 페놀을 제거하고, 다이 압력 20torr, 온도 170℃ 가 될 때까지 가열하여 미반응 페놀을 분리했다, 또 압력 6torr, 온도 210℃까지 가열하여 미반응 페놀을 제거하고, 조비스페놀 F를 얻었다. 얻은 조 비스페놀 F는 200g 이고 2가 페놀류의 함량은 87%였다.Next, the obtained reaction product was heated to 160 ° C. under atmospheric pressure to remove water and a small amount of phenol, and heated to a die pressure of 20 tor and a temperature of 170 ° C. to separate unreacted phenol, and a pressure of 6 tor and a temperature of 210 ° C. It heated up to remove unreacted phenol, and obtained the bisphenol F. The obtained bisphenol F was 200 g and the content of dihydric phenols was 87%.

다음에 데미스터(Demister; 상품명)로서 직경 15mm, 높이 20mm의 맥마흔 패킹을 부착한 장치를 사용하여 조비스페놀 F의 증류를 실시했다. 증류는 압력 3mmHg에서 최종온도 250℃가 될 때까지 실시하고 유출물로서 고순도 비스페놀 F 270g, 2가페놀함량이 7%인 페놀노볼락 수지 79g을 얻었다. Next, as a Demister (trade name), the bisphenol F was distilled off using the apparatus which attached the McMahon packing of diameter 15mm and height 20mm. Distillation was carried out at a pressure of 3 mmHg until the final temperature of 250 ° C. to obtain 270 g of high-purity bisphenol F and 79 g of a phenol novolak resin having a divalent phenol content of 7%.

이 공정은 고순도 비스페놀 F를 상업적으로 얻기는 매우 유용했으나, 2가 페놀함량이 낮은 신규 페놀노볼락 수지의 습득량은 복잡한 공정에 비해 매우 적은 양을 습득할 수 있어 생산성면에서는 현저히 불리하였고, 또한 신규 페놀노볼락의 분자량은 상업화 가능한 에폭시 수지를 제조하기에는 너무 작았다.
This process was very useful for commercially obtaining high-purity bisphenol F, but the yield of new phenol novolac resins with low dihydric phenol content was very low compared to the complex process, which was remarkably disadvantageous in terms of productivity. The molecular weight of the new phenol novolac was too small to produce a commercially available epoxy resin.

[비교예 2]Comparative Example 2

디켄터가 장착된 냉각관, 교반기, 질소 유입구가 있는 3L의 4구 플라스크에 KPN-2065(강남화성 (주), 연화점 65℃의 에폭시용 일반 페놀노볼락 수지) 260g 과 에피클로로 히드린 (ECH) 1030g을 투입하고 60℃ 까지 승온하면서 용해한다. 이후 과정은 실시예 2와 동일한 방법으로 진행한다. 260 g of KPN-2065 (general phenol novolak resin for epoxy at a softening point of 65 ° C) and epichlorohydrin (ECH) in a 3-liter four-necked flask equipped with a decanter, a cooling tube, a stirrer and a nitrogen inlet. 1030g is added and dissolved while heating up to 60 ° C. Thereafter, the process proceeds in the same manner as in Example 2.

이때 에폭시 당량은 179.5g/eq, 가수분해 염소분은 52ppm, 점도는 I+, 이론 수지량 대비 수율은 96.5%였다. 에폭시 수지 제조 결과 실시예 2와 비교해서 2가 페놀체 함량을 제외한 대부분의 에폭시 물성과 유사한 수준을 얻었다. At this time, the epoxy equivalent was 179.5 g / eq, the hydrolyzed chlorine was 52 ppm, the viscosity was I +, and the yield was 96.5% compared to the theoretical resin amount. As a result of the epoxy resin production, similar levels were obtained to most of the epoxy physical properties except for the dihydric phenol content compared to Example 2.

일반적인 에폭시용 페놀노볼락 수지(KPN-2065) 의 GPC 패턴을 도3, 이로부터 얻은 페놀노볼락 에폭시 수지의 GPC 패턴을 도 4에 나타내었다.
The GPC pattern of the phenol novolak epoxy resin (KPN-2065) for general epoxy (FIG. 3) and the phenol novolak epoxy resin obtained from it are shown in FIG.

[비교예 3] [Comparative Example 3]

디켄터가 장착된 냉각관, 교반기, 질소 유입구가 있는 3L의 4구 플라스크에 KPN-111(강남화성 (주), 연화점 105℃의 경화제용 일반 페놀노볼락 수지, 2가페놀체 함량 9.87%, Mn=687g/mol, Mw=2360g/mol) 260g 과 에피클로로 히드린 (ECH) 1030g을 투입하고 60℃ 까지 승온하면서 용해한다. 이후 과정은 실시예 2와 동일한 방법으로 진행한다. KPN-111 (Gangnam Chemical Co., Ltd., general phenol novolak resin for curing agent at softening point of 105 ° C, dihydric phenolic substance, 9.87%, Mn =) 260 g of 687 g / mol, Mw = 2360 g / mol) and 1030 g of epichlorohydrin (ECH) were added, and dissolved at a temperature of 60 ° C. Thereafter, the process proceeds in the same manner as in Example 2.

이때 에폭시 당량은 189.5g/eq, 가수분해 염소분은 150ppm, 연화점은 64℃ 였고, 이론 수지량비 수율이 56%였다. 에폭시 수지 제조는 가능하였으나, 원료의 분자량이 매우 높아 본반응 후 및 정제반응 후에 중간물이라고 일컬어지는 고분자량의 부산물이 다량 생성되는 문제로 수율이 매우 낮았다.
At this time, the epoxy equivalent was 189.5 g / eq, the hydrolyzed chlorine content was 150 ppm, the softening point was 64 degreeC, and the theoretical resin yield ratio was 56%. Epoxy resin production was possible, but the yield was very low due to the problem that a large amount of by-products, which are referred to as intermediates, were produced after the main reaction and the purification reaction due to the high molecular weight of the raw material.

[비교예 4][Comparative Example 4]

환류관이 장착된 냉각관, 교반기, 질소 유입구가 있는 2L 4구 플라스크에 YDPN-638(국도화학 제조, 범용페놀노볼락 에폭시 수지) 에폭시 수지 300g 과 HCA 79.64g을 투입하고, 이하 공정은 실시예 3과 동일하게 진행하여, 인함유 난연성 에폭시 수지를 얻는다. 이때 이론 인함량은 3%, 에폭시 당량은 299g/eq, 용액의 점도는 350cps@25℃ 이며, 불휘발분은 70.4% 였다
Into a 2-liter four-necked flask equipped with a reflux tube, agitator, and nitrogen inlet, 300 g of YDPN-638 (manufactured by Kukdo Chemical Co., Ltd., general purpose phenol novolac epoxy resin) epoxy resin and 79.64 g of HCA were added. Proceed in the same manner as 3 to obtain a phosphorus-containing flame-retardant epoxy resin. The theoretical phosphorus content was 3%, epoxy equivalent weight was 299g / eq, solution viscosity was 350cps @ 25 ° C, and the nonvolatile content was 70.4%.

[실시예 4 및 비교예 5]Example 4 and Comparative Example 5

실시예 3 및 비교예 4로부터 얻어진 인함유 에폭시 수지 500g과 디시안 디아마이드 5.1g, 2메틸 이미다졸 0.34g, 2-메톡시에탄올 100g을 3시간동안 교반, 용해하여 인함유 에폭시 수지 바니시 용액을 제조한다. 각각의 제조된 바니시 용액의 170℃ 겔화시간을 표4에 표시하였다The phosphorus-containing epoxy resin varnish solution was prepared by stirring and dissolving 500 g of phosphorus-containing epoxy resin obtained in Example 3 and Comparative Example 4, 5.1 g of dicyanide diamide, 0.34 g of 2-methyl imidazole, and 100 g of 2-methoxyethanol for 3 hours. Manufacture. 170 ° C. gelation time of each prepared varnish solution is shown in Table 4.

제조된 바니시 용액을 직조된 유리섬유에 함침하여 170℃ OVEN 에 4분동안 건조하여 에폭시-유리섬유 프리프레그를 제조하였다. 프리프레그의 반경화물의 겔화 시간 및 경화유동시 최소 점도를 표 3 에 표시하였다.
The prepared varnish solution was impregnated into woven glass fibers and dried in an oven at 170 ° C. for 4 minutes to prepare an epoxy-glass fiber prepreg. The gelation time of the semiprecured semipreg and the minimum viscosity upon cure flow are shown in Table 3.

[실시예 5 및 비교예 6]Example 5 and Comparative Example 6

실시예 4 및 비교예 5로부터 제조된 프리프레그 8장과 1oz 동박을 180℃, 300psi 조건으로 90분간 press 하여 동박적층판을 제작하였다. 동박적층판 제작시 PressFlow 량과 동박적층판의 Tg, Td 값은 표 4 에 표시하였다.Eight prepregs and 1 oz copper foil prepared from Example 4 and Comparative Example 5 were pressed at 180 ° C. and 300 psi for 90 minutes to prepare a copper clad laminate. PressFlow amount and Tg and Td values of the copper clad laminate were shown in Table 4.

실시예 2, 비교예 2, 3으로부터 얻은 에폭시 수지 특성Epoxy Resin Properties Obtained from Example 2, Comparative Examples 2 and 3 항목Item 실시예 2의 에폭시Epoxy of Example 2 비교예 2의 에폭시Epoxy of Comparative Example 2 비교예 3의 에폭시Epoxy of Comparative Example 3 에폭시 당량
(g/eq)
Epoxy equivalent weight
(g / eq)
179179 179.5179.5 189.5189.5
Hy-Cl
(ppm)
Hy-Cl
(ppm)
5050 5252 150150
점도
(Gardener)
Viscosity
(Gardener)
II I+I + --
연화점
(℃)
Softening point
(℃)
-- -- 6565
수율
(%,이론량대비)
yield
(% Of theory)
9898 96.596.5 5656
공정성Fairness 양호Good 양호Good 나쁨Bad 2가
에폭시체함량(area %)
2
Epoxy content (area%)
9.039.03 22.522.5 8.238.23

실시예 2, 비교예 2로부터 얻은 에폭시 수지의 경화 특성Curing Properties of Epoxy Resin Obtained from Example 2 and Comparative Example 2 항목Item 실시예 2Example 2 비교예 2Comparative Example 2 인열강도(MPa)Tear strength (MPa) 6.26.2 6.16.1 굴곡강도(MPa)Flexural Strength (MPa) 117117 120120 인장강도(MPa)Tensile Strength (MPa) 7676 7878 압축강도(MPa)Compressive strength (MPa) 270270 258258 Shore-DShore-d 8686 8484 TgTg 126.7126.7 117.8117.8

※ 경화제 : D-230 (Jeffamine) ※ Curing Agent: D-230 (Jeffamine)

※ 배합비 : 주제 : 경화제 = 100 : 34※ compounding ratio: Subject: Hardener = 100: 34

※ 경화조건 : 80℃×3hr 선경화, 100℃×1hr 후경화※ Curing condition: 80 ℃ × 3hr precure, 100 ℃ × 1hr postcure

※ 측정 법※ How to measure

인열강도 :   Tear strength:

굴곡강도 : ISO-527   Flexural Strength: ISO-527

인장강도 : ISO-178   Tensile Strength: ISO-178

압축강도 : ISO-604   Compressive Strength: ISO-604

Shore-D : ISO-868   Shore-D: ISO-868

Tg: Mettler DSC 823 이용, 20~200℃ 승온속도 20℃/min
Tg: using Mettler DSC 823, 20 ~ 200 ℃ heating rate 20 ℃ / min

실시예 3과 비교예4로부터 얻은 난연에폭시 수지의 특성 비교Comparison of the properties of flame retardant epoxy resins obtained from Example 3 and Comparative Example 4 항목Item 실시예 3Example 3 비교예 4Comparative Example 4 당량
(g/eq)
equivalent weight
(g / eq)
298298 290290
염소분
(ppm)
Chlorine
(ppm)
3333 3232
불휘발분
(%)
Nonvolatile matter
(%)
70.570.5 70.470.4
점도
(cps@25℃)
Viscosity
(cps @ 25 ℃)
290290 299299
인함량
(%)
Phosphorus content
(%)
33 33

실시예 4,5 와 비교예 4, 5 로부터 얻은 물성 비교 Comparison of physical properties obtained from Examples 4 and 5 and Comparative Examples 4 and 5 항목Item 실시예 4,5Example 4,5 비교예 4,5Comparative Example 4, 5 바니시 겔타임
(sec, 170℃)
Varnish Gel Time
(sec, 170 ℃)
260260 255255
프리프레그 겔타임
(sec, 170℃)
Prepreg Gel Time
(sec, 170 ℃)
132132 134134
경화유동시 최소점도
(cps)
Minimum viscosity during hardening flow
(cps)
60006000 52005200
함침성Impregnation 양호Good 양호Good 동박적층판 특성Copper Clad Laminate Characteristics Resin Flow
(%)
Resin Flow
(%)
1%미만Less than 1% 2%2%
Tg
(℃)
Tg
(℃)
151151 133133
Td
(℃)
Td
(℃)
362362 352352

※ 측정 방법 : IPC-TM-650 법.※ Method of measurement: IPC-TM-650 method.

Claims (1)

반응조에 페놀, 포름알데히드 및 산촉매를 투입하고, 교반하에 일정온도에서 일정 시간 반응시킨후 반응생성물로부터 생성수, 미반응 페놀, 잔류 촉매를 제거하고 페놀노볼락 수지를 제조하는 방법으로서,
상기 페놀과 알데히드의 반응몰비(P/F 몰비)가 3~6몰, 더욱 바람직하게는 4~5몰인 것을 특징으로 하는 페놀노볼락 수지를 제조하는 방법.
As a method for preparing a phenol novolak resin by adding phenol, formaldehyde and an acid catalyst to the reaction tank, reacting the reaction product at a constant temperature for a certain time under stirring, and removing the produced water, unreacted phenol and residual catalyst from the reaction product.
The reaction molar ratio (P / F molar ratio) of the said phenol and an aldehyde is 3-6 mol, More preferably, it is 4-5 mol. The manufacturing method of the phenol novolak resin characterized by the above-mentioned.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20150123688A (en) * 2014-04-25 2015-11-04 국도화학 주식회사 Narrowly dispersed phenolic novolak resin production method, and a narrow dispersion phenol novolak resin obtained by the method of manufacturing the same
CN112142934A (en) * 2020-10-27 2020-12-29 江苏准信自动化科技股份有限公司 Phenolic resin for paper-based copper-clad plate and preparation method thereof

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