KR20130042798A - Electron microscope - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An electron microscope is provided to easily perform the rotation of a stage by comprising first and second position control units. CONSTITUTION: A stage(40) is positioned inside a chamber. A sample(30) is settled at the stage. A first position control unit controls the stage to move rectilinearly. A second position control unit(55) is formed on the chamber or the stage. The second position control unit controls the stage to rotate by the rectilinear movement of the first position control unit. The stage comprises a stage head(41), a head support(42), a head rotary shaft(43), and a rotation support(45).

Description

전자현미경{ELECTRON MICROSCOPE}Electron Microscopy {ELECTRON MICROSCOPE}

본 발명은 전자현미경에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 시료가 안착되어 있는 스테이지의 회전을 용이하게 수행할 수 있는 전자현미경에 관한 것이다.The present invention relates to an electron microscope, and more particularly, to an electron microscope capable of easily performing a rotation of a stage on which a sample is seated.

전자현미경은, 빛 대신 전자를 매체로 사용하여 시료를 확대하여 관측하는 영상 계측 장비이다. 전자현미경은, 방식에 따라서 투과 전자현미경(TEM), 주사 전자현미경(SEM), 반사 전자현미경(REM), 투사주사 전자현미경(STEM), 저전압 전자현미경(LVEM) 등으로 구분한다.Electron microscopy is an image measuring equipment that magnifies and observes a sample by using electrons as a medium instead of light. The electron microscope is classified into a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), a reflection electron microscope (REM), a projection scanning electron microscope (STEM), a low voltage electron microscope (LVEM) and the like depending on the method.

전자현미경은 피사체를 수십만 배 이상 확대하여 관찰할 수 있어, 연구 개발 및 품질 관리 등에 주로 사용한다.The electron microscope can magnify and observe the subject hundreds of thousands of times, and is mainly used for research and development and quality control.

전자현미경은 시료인 시료를 스테이지에 올려놓은 상태에서 동작한다. 통상적으로, 전자현미경의 다른 부분은 고정되어 있고 스테이지가 이동하여 시료의 다양한 부분이 관찰되도록 한다. 즉, 스테이지가 직선운동 내지 회전운동하며 조작자가 원하는 지점이 관찰될 수 있도록 함을 의미한다.The electron microscope operates with the sample, which is the sample, placed on the stage. Typically, other parts of the electron microscope are fixed and the stage moves to allow the various parts of the sample to be observed. That is, it means that the stage is linear or rotational movement so that the desired point can be observed by the operator.

종래의 경우, 스테이지의 다양한 방향으로의 직선 및 회전운동이 이루어지도록 하기 위해서는 복잡한 링크 및/또는 기어가 포함된 위치조정유닛이 필요하였다. 이와 같은 위치조정유닛은 고가이며 유지보수가 쉽지 않다. 특히, 전자현미경의 스테이지는 진공 내부에서 동작되므로 진공 외부에서 조작하는 것은 진공 유지에 영향을 주기 때문에 설계의 복잡성을 더하게 된다.In the related art, a position adjusting unit including a complicated link and / or gear is required in order to perform linear and rotary motions in various directions of the stage. Such positioning unit is expensive and not easy to maintain. In particular, since the stage of the electron microscope is operated inside the vacuum, operation outside the vacuum adds to the complexity of the design because it affects the vacuum maintenance.

나아가, 복잡한 구조의 위치조정유닛으로 인하여, 컴팩트한 싸이즈의 전자현미경에 대한 설계에 제약이 있다.Further, due to the complicated structure of the positioning unit, there is a limitation in the design of the compact size electron microscope.

본 발명은 시료가 안착되어 있는 스테이지의 회전을 용이하게 수행할 수 있는 전자현미경에 관한 것이다.The present invention relates to an electron microscope that can easily perform the rotation of the stage on which the sample is seated.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경은, 챔버; 상기 챔버 내에 위치하며, 시료가 안착되는 스테이지; 상기 스테이지를 직선운동하게 하는 제1 위치조정유닛; 및 상기 챔버와 상기 스테이지 중 적어도 일측에 마련되어, 상기 제1 위치조정유닛의 직선운동에 의하여 상기 스테이지가 회전운동 하도록 하는 제2 위치조정유닛을 포함할 수 있다.Electron microscope according to an embodiment of the present invention for realizing the above object, the chamber; Located in the chamber, the stage on which the sample is seated; A first position adjusting unit for linearly moving the stage; And a second position adjusting unit provided on at least one side of the chamber and the stage to rotate the stage by a linear movement of the first position adjusting unit.

상기 제2 위치조정유닛은, 상기 스테이지에 마련된 적어도 하나의 돌출물일 수 있다.The second position adjusting unit may be at least one protrusion provided on the stage.

상기 적어도 하나의 돌출물은, 가상의 축을 중심으로 상기 스테이지가 일방향 및 타방향으로 회전가능하도록 일정 거리 이격되어 상기 챔버의 내측 벽면을 향해 설치된 제1,2 돌출바일 수 있다.The at least one protrusion may be first and second protrusion bars spaced apart from each other by a predetermined distance such that the stage is rotatable in one direction and the other direction about a virtual axis.

상기 적어도 하나의 돌출물은, 가상의 축을 중심으로 상기 스테이지가 일방향 및 타방향으로 회전가능하도록 상기 상기 챔버와 상기 스테이지 중 적어도 일측에 연속적으로 형성된 돌출리브(rib)일 수 있다.The at least one protrusion may be a protrusion rib continuously formed on at least one of the chamber and the stage such that the stage is rotatable in one direction and the other direction about a virtual axis.

상기 돌출리브는, 기울기가 변경되는 곡선 궤적의 형상으로 마련될 수 있다.The protruding ribs may be provided in the shape of a curved trajectory whose slope is changed.

상기 제2 위치조정유닛은 상기 The second position adjusting unit is 챔버의Of chamber 외부의 구조물과 연결되어 있지 않은 것이 바람직하다. It is preferable that it is not connected to an external structure.

본 발명에 따른 전자현미경은, 시료가 안착되어 있는 스테이지의 회전을 용이하게 수행할 수 있는 효과가 있다.The electron microscope according to the present invention has the effect of easily rotating the stage on which the sample is seated.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경의 개념도이다.
도 2는 도 1 스테이지 부분의 사시도이다.
도 3 및 도 4는 도 2 돌출물에 의한 스테이지의 회전운동을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자현미경의 챔버에 마련된 돌출물을 도시한 도면이다.1 is a conceptual diagram of an electron microscope according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of the stage portion of FIG. 1. FIG.
3 and 4 are diagrams showing the rotational movement of the stage by the projections of FIG.
5 is a view showing the protrusion provided in the chamber of the electron microscope according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 상술한 목적, 특징들 및 장점은 첨부된 도면과 관련된 다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해질 것이다. 다만, 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예들을 가질 수 있는 바, 이하에서는 특정 실시예들을 도면에 예시하고 이를 상세히 설명하고자 한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 원칙적으로 동일한 구성요소들을 나타낸다. 또한, 본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서의 설명 과정에서 이용되는 숫자(예를 들어, 제1, 제2 등)는 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위한 식별기호에 불과하다The above objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings. It is to be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and similarities. Like reference numerals designate like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. In addition, the numbers (eg, first, second, etc.) used in the description process of the present specification are merely identification symbols for distinguishing one component from another component.

이하, 본 발명과 관련된 이동 단말기에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. Hereinafter, a mobile terminal related to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경의 개념도이다.1 is a conceptual diagram of an electron microscope according to an embodiment of the present invention.

이에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경(10)은, 진공챔버(11)와, 전자빔을 사출하는 전자총(15)과, 사출된 전자총(15)을 스테이지(40) 상의 시료(30)까지 유도하는 렌즈 어셈블리(29)와, 시료(30)로부터 방출된 2차전자를 감지하는 검출기(50)와, 제어부(90)를 포함할 수 있다.As shown in the drawing, the electron microscope 10 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a vacuum chamber 11, an electron gun 15 for emitting an electron beam, and an injected electron gun 15 on the stage 40. It may include a lens assembly 29 to guide the sample 30, a detector 50 for detecting the secondary electrons emitted from the sample 30, and the controller 90.

진공챔버(11)는 진공펌프(13) 등에 의하여 진공으로 유지될 수 있다. 전자는 공기분자 등의 이물질에 의하여 쉽게 산란될 수 있다. 전자가 산란되면, 시료(30)에 대한 주사(scan)이 이루어지지 못할 수 있다. 따라서 전자현미경(10)을 이용한 시료(30)의 스캔을 위하여, 진공챔버(11) 내부는 진공으로 유지된다.The vacuum chamber 11 may be maintained in vacuum by the vacuum pump 13 or the like. The former can be easily scattered by foreign substances such as air molecules. When the electrons are scattered, a scan of the sample 30 may not be performed. Therefore, in order to scan the sample 30 using the electron microscope 10, the inside of the vacuum chamber 11 is maintained in a vacuum.

렌즈 어셈블리(29)는, 전자총(15)에서 사출된 전자빔을 목적한 특정 지점으로 유도할 수 있다. 렌즈 어셈블리(29)는 코일이 권취된 전자석이며, 자기장을 발생시킨다. 렌즈 어셈블리(29)에서 발생된 자기장은 광축에 대하여 원대칭을 이루도록 형성되어, 광축을 따라 진행하는 가속된 전자가 나선형 궤적을 이루면서 초점을 형성하도록 한다. 렌즈 어셈블리(29)는, 집속렌즈(21)와, 편향코일(23)과, 대물렌즈(25)와, 대물렌즈(25)의 역할을 보조하는 보조코일(27)을 포함할 수 있다.The lens assembly 29 may direct the electron beam emitted from the electron gun 15 to a specific point of interest. The lens assembly 29 is an electromagnet in which a coil is wound and generates a magnetic field. The magnetic field generated by the lens assembly 29 is formed to be symmetrical with respect to the optical axis, so that the accelerated electrons traveling along the optical axis form a focal point while forming a spiral trajectory. The lens assembly 29 may include a focusing lens 21, a deflection coil 23, an objective lens 25, and an auxiliary coil 27 to assist the objective lens 25.

집속렌즈(21)는, 전자총(15)에서 사출된 전자빔을 집속시키는 역할을 할 수 있다. 집속렌즈(21)의 성능에 따라서 전자빔의 세기가 결정될 수 있다.The focusing lens 21 may serve to focus the electron beam emitted from the electron gun 15. The intensity of the electron beam may be determined according to the performance of the focusing lens 21.

편향코일(23)은, 사출된 전자빔의 진향 방향을 일 방향으로 편향시키는 역할을 할 수 있다.The deflection coil 23 may serve to deflect the direction of propagation of the emitted electron beam in one direction.

대물렌즈(25)는, 시료(30)에 조사되는 전자빔의 초점거리를 조절할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경(10)의 대물렌즈(25)는, 자화성이 적은 소재로 구성될 수 있다. 자화성이 적은 소재의 대물렌즈(25)는, 초점거리를 빠르게 변경할 수 있다. 따라서 복수의 사용자로부터의 조작신호에 대응한 시료(30)의 다양한 부분에 대한 스캔을 빠르게 수행할 수 있다.The objective lens 25 can adjust the focal length of the electron beam irradiated to the sample 30. The objective lens 25 of the electron microscope 10 according to the exemplary embodiment of the present invention may be formed of a material having low magnetization. The objective lens 25 of the material with low magnetization can change the focal length quickly. Therefore, it is possible to quickly scan various portions of the sample 30 corresponding to the operation signals from the plurality of users.

검출기(50)는 시료(30)로부터 방출된 2차 전자를 검출한다. 검출기(50)로부터의 신호는 증폭기(미도시)를 통하여 증폭되며, A/D 변환기(70)를 통하여 디지털 신호로 변환될 수 있다.The detector 50 detects secondary electrons emitted from the sample 30. The signal from the detector 50 may be amplified by an amplifier (not shown) and converted into a digital signal through the A / D converter 70.

변환된 디지털 신호는, 영상처리부(80)에서 시각적으로 인지될 수 있는 영상으로 가공될 수 있다. 영상처리부(80)에서 가공된 영상은 메모리(85)에 저장될 수 있다.
The converted digital signal may be processed into an image that can be visually recognized by the image processor 80. The image processed by the image processor 80 may be stored in the memory 85.

도 2는 도 1 스테이지 부분의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of the stage portion of FIG. 1. FIG.

이에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경(10)의 스테이지(40)는 스테이지헤드(41)와, 헤드지지대(42)와, 헤드회전축(43)과 회전지지대(45)를 포함할 수 있다.As shown in the drawing, the stage 40 of the electron microscope 10 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a stage head 41, a head support 42, a head rotation shaft 43, and a rotation support 45. It may include.

스테이지(40)는 시료(30)가 올려진 상태에서 이동하여, 조작자가 원하는 지점이 관측될 수 있도록 할 수 있다. 조작자가 원하는 지점에 시료가 위치되도록 하기 위하여, 스테이지(40)는 직선운동 및 회전운동할 수 있다.The stage 40 may move in a state where the sample 30 is raised, so that a desired point can be observed by the operator. In order to position the sample at the point desired by the operator, the stage 40 can be linear and rotational.

스테이지(40)의 직선운동은, X, Y, Z축 방향의 운동일 수 있다. 즉, 특정 평면 상에서 이동하거나, 상하 방향으로 이동할 수 있음을 의미한다. 스테이지(40)의직선운동은, 전자현미경(10) 외부에 장착된 조작버튼(미도시)를 통하여 직접적으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, X방향의 직선운동에 대응된 조작버튼(미도시)을 조작하면 스테이지(40)가 X방향으로 이동할 수 있음을 의미한다. 스테이지(40)의 직선운동은, 사용자의 조작에 의하여 스테이지(40)를 포함하는 관련 어셈블리 전체가 X,Y,Z 방향으로 이동하는 방법으로 이루어질 수 있다. 스테이지(40)를 포함하는 관련 어셈블리가 X, Y, Z 방향으로 직선운동 하도록 하는 구조를 제1 위치조정유닛으로 볼 수 있다. 제 1 위치조정유닛은 조작버튼이 진공외부에 위치하여 진공내부에 있는 스테이지의 직선운동을 구동한다.The linear motion of the stage 40 may be a motion in the X, Y, and Z axis directions. That is, it means that it can move on a specific plane or move up and down. The linear movement of the stage 40 can be made directly through an operation button (not shown) mounted outside the electron microscope 10. For example, when the operation button (not shown) corresponding to the linear motion in the X direction is operated, it means that the stage 40 can move in the X direction. The linear motion of the stage 40 may be made by a method in which the entire related assembly including the stage 40 moves in the X, Y, and Z directions by a user's manipulation. A structure for causing the associated assembly including the stage 40 to linearly move in the X, Y, and Z directions can be seen as the first positioning unit. The first position adjusting unit has an operation button located outside the vacuum to drive the linear movement of the stage inside the vacuum.

스테이지(40)의 회전운동은, R, T 방향의 운동일 수 있다. 즉, X축을 중심으로 시계방향이나 반시계방향으로 회전하거나, Z축을 중심으로 신계방향이나 반시계방향으로 회전하는 운동일 수 있음을 의미한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경(10)에서의 스테이지(40)의 회전운동은, 간접적으로 이루어질 수 있다. X, Y, Z 방향의 직선운동을 회전운동되도록 하는 구조를 제2 위치조정유닛으로 볼 수 있다.The rotational movement of the stage 40 may be a movement in the R and T directions. That is, it means that the motion may be rotated clockwise or counterclockwise about the X axis, or rotated in the new system direction or counterclockwise about the Z axis. The rotational movement of the stage 40 in the electron microscope 10 according to an embodiment of the present invention may be indirectly performed. The second position adjusting unit can be viewed as a structure for rotating the linear movement in the X, Y, Z directions.

스테이지(40)의 회전운동을 구현하기 위해서, 종래에는 회전운동을 위한 별도의 기구구조를 채용하고 있었다. 즉, 진공외부에 조작버튼을 두고 제 1위치조작유닛과 유사한 구조로 진공내부에 있는 스테이지를 구동한다. 따라서 구조가 복잡해지고 이에 따라서 전자현미경(10)의 전체적인 싸이즈가 커지는 이유가 되었다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자현미경(10)은, 직선운동을 통하여 회전운동이 수행되도록 할 수 있다. 회전운동을 위한 구조가 진공외부에서 연결되는 것을 생략함으로 인하여, 전자현미경(10)의 전체적인 구조가 간단해질 수 있다.In order to implement the rotational motion of the stage 40, conventionally, a separate mechanism structure for the rotational motion was employed. That is, the operation button is placed outside the vacuum to drive the stage inside the vacuum in a structure similar to the first position operation unit. Therefore, the structure becomes complicated and accordingly, the overall size of the electron microscope 10 becomes a reason. Electron microscope 10 according to an embodiment of the present invention, it is possible to perform a rotary motion through a linear motion. By omitting that the structure for the rotational movement is connected outside the vacuum, the overall structure of the electron microscope 10 can be simplified.

스테이지(40)의 회전운동은, 챔버(11)의 내측 벽면 및/또는 스테이지(40)에 마련된 위치조정유닛을 통하여 수행될 수 있다. 위치조정유닛은, 챔버(11)의 내측 벽면 및/또는 스테이지(40)에 마련된 구조물인 돌출바(55)이거나, 챔버(11)의 내측 벽면 및/또는 스테이지(40)에 마련된 홈(slit)일 수 있다. 다만, 이하에서는, 명확한 이해를 휘하여 구조물이 스테이지(40) 측에서 돌출된 경우를 설명함으로써, 다른 경우에 대한 설명에 갈음하도록 한다.The rotational movement of the stage 40 may be performed through an inner wall surface of the chamber 11 and / or a positioning unit provided in the stage 40. The positioning unit is a protrusion bar 55 which is a structure provided in the inner wall and / or the stage 40 of the chamber 11 or a slit provided in the inner wall and / or the stage 40 of the chamber 11. Can be. However, hereinafter, by explaining the case where the structure protrudes from the stage 40 by a clear understanding, it will replace the description of the other case.

돌출바(55)는, 스테이지(41)에서 챔버(11)의 내측 벽면 방향을 향하여 돌출되어 있을 수 있다. 돌출바(55)는, 스테이지(40)가 X-Y 평면상에서 이동하는 경우에 챔버(11)의 내측 벽면에 마련된 결합공(57)에 결합될 수 있는 영역까지 돌출되어 있을 수 있다. The protrusion bar 55 may protrude from the stage 41 toward the inner wall surface of the chamber 11. The protrusion bar 55 may protrude to an area that can be coupled to the coupling hole 57 provided in the inner wall surface of the chamber 11 when the stage 40 moves on the X-Y plane.

돌출바(55)가 결합공(57)에 결합되면, 스테이지(40)가 회전할 수 있다. 예를 들어, 돌출바(55)의 끝단이 결합공(57)에 삽입된 상태에서 스테이지(41)가 X 방향과 Y방향을 번갈아가며 결합공(57)을 원점으로 하고 돌출바(55)가 반지름으로 형성되는 원주를 따라 짧은 직선운동을 할 수 있다. 스테이지(41)가 원주를 따라 짧은 직선 운동을 반복하게 될 경우, 돌출부(55)의 끝단은 결합공(57)에 고정되어 움직이지 못한다. 따라서 돌출바(55)의 끝단을 한 지점으로 하여 스테이지(41)가 곡선운동 하며 R 방향으로 회전할 수 있다. R 방향의 회전은, 돌출바(55)와 결합공(57)의 간섭에 의한 외력이 헤드지지대(42)를 거쳐 회전지지대(45)에 이르러 회전지지대(45)가 회전됨으로써 이루어질 수 있다.When the protruding bar 55 is coupled to the coupling hole 57, the stage 40 may rotate. For example, while the end of the protruding bar 55 is inserted into the engaging hole 57, the stage 41 alternates the X and Y directions, and the engaging bar 57 is the origin, and the protruding bar 55 is A short linear motion can be made along the circumference formed by the radius. When the stage 41 repeats a short linear motion along the circumference, the end of the protrusion 55 is fixed to the coupling hole 57 and cannot move. Therefore, the stage 41 may be rotated in the R direction with the curved end of the protruding bar 55 as one point. Rotation in the R direction may be achieved by the rotational support 45 is rotated by the external force due to the interference of the protrusion bar 55 and the coupling hole 57 reaches the rotation support 45 through the head support 42.

돌출바(55)가 결합공(57)에 결합된 상태에서, 스테이지(40)는 Z 방향으로 직선운동 할 수 있다. 스테이지(41)가 Z 방향으로 직선운동하면, 돌출바(55)의 끝단을 한 지점으로 하여 스테이지가 곡선운동 하며 T 방향으로 회전할 수 있다. T 방향의 회전은, 스테이지(41)가 헤드회전축(43)을 중심으로 회전됨으로써 이루어질 수 있다.In a state in which the protruding bar 55 is coupled to the coupling hole 57, the stage 40 may linearly move in the Z direction. When the stage 41 is linearly moved in the Z direction, the stage may be curved and rotate in the T direction with the end of the protruding bar 55 as a point. Rotation in the T direction may be achieved by rotating the stage 41 about the head rotation shaft 43.

챔버(11)의 내측 벽에는, 결합공(57) 외에 결합슬릿(58)이 더 마련되어 있을 수 있다. 즉, 직선 및/또는 곡선 형태로 챔버(11)의 내측 벽면이 홈이 위치하고 있을 수 있음을 의미한다. 조작자 및/또는 제어부(90)는, 스테이지(41)의 현재 위치 및/또는 회전각도 등을 고려하여 결합공(57) 또는 결합슬릿(58)에 돌출바(55)를 삽입한 채로 직선운동 할 수 있다.In the inner wall of the chamber 11, a coupling slit 58 may be further provided in addition to the coupling hole 57. That is, the inner wall surface of the chamber 11 in the form of a straight line and / or curve means that the groove may be located. The operator and / or the controller 90 may linearly move with the protrusion bar 55 inserted into the coupling hole 57 or the coupling slit 58 in consideration of the current position and / or rotation angle of the stage 41. Can be.

도 3 및 도 4는 도 2 돌출물에 의한 스테이지의 회전운동을 도시한 도면이다.3 and 4 are diagrams showing the rotational movement of the stage by the projections of FIG.

이에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 스테이지(40)는 직선운동을 통하여 원하는 회전운동이 이루어지도록 할 수 있다.As shown in this, the stage 40 according to an embodiment of the present invention may be a desired rotational motion through a linear motion.

도 3의 (a)에 도시한 바와 같이, 사용자 및/또는 제어부(90)는, 스테이지(40)가 Y방향으로 이동되도록 할 수 있다. Y 방향으로 이동하는 스테이지(40)의 경로상에는 결합공(57)이 위치하고 있을 수 있다. Y 방향으로의 이동은 돌출바(55)가 결합공(57)에 삽입될 때까지 계속될 수 있다. 돌출바(55)가 결합공(57)에 삽입되면, 스테이지(40)는 X 방향으로 직선운동 할 수 있다.As shown in FIG. 3A, the user and / or the controller 90 may cause the stage 40 to move in the Y direction. The coupling hole 57 may be located on the path of the stage 40 moving in the Y direction. Movement in the Y direction may continue until the protruding bar 55 is inserted into the coupling hole 57. When the protruding bar 55 is inserted into the coupling hole 57, the stage 40 may linearly move in the X direction.

도 3의 (b)에 도시한 바와 같이, 돌출바(55)가 결합공(57)에 삽입된 상태에서 X 방향으로 직선운동하면, 스테이지헤드(41)는 R 방향으로 회전할 수 있다. 즉, 전술한 바와 같이, 돌출바(55)의 끝단은 결합공(57)에 의하여 이동이 제한되므로 스테이지헤드(41)가 X 방향으로 이동하면, 결과적으로 스테이지헤드(41)가 R 방향으로 곡선운동 하게 됨을 의미한다.As shown in FIG. 3B, when the protrusion bar 55 is linearly moved in the X direction while the protrusion bar 55 is inserted into the coupling hole 57, the stage head 41 may rotate in the R direction. That is, as described above, since the end of the protruding bar 55 is restricted by the coupling hole 57, when the stage head 41 moves in the X direction, the stage head 41 is curved in the R direction as a result. It means to exercise.

도 4의 (a) 및 (b)는, 스테이지헤드(41)와 돌출바(55) 간의 간섭을 상측에서 관찰한 도면이다.4A and 4B are diagrams illustrating the interference between the stage head 41 and the protruding bar 55 from above.

도 4의 (a)에 도시한 바와 같이, 돌출바(55)가 결합공(57)에 결합된 상태에서 X1 방향으로 직선운동하면, 스테이지헤드(41)는 R1 방향으로 회전할 수 있다. 또한, 도 4의 (b)에 도시한 바와 같이, 스테이지헤드(41)가 X2 방향으로 직선운동하면, 스테이지헤드(41)는 R2 방향으로 회전할 수 있다. 즉, 돌출바(55)로 인하여, 조작자가 원하는 R 방향 회전을 자연스럽게 수행할 수 있음을 의미한다.As shown in FIG. 4A, when the protrusion bar 55 is linearly moved in the X1 direction while the protrusion bar 55 is coupled to the coupling hole 57, the stage head 41 may rotate in the R1 direction. As shown in FIG. 4B, when the stage head 41 linearly moves in the X2 direction, the stage head 41 can rotate in the R2 direction. That is, due to the protrusion bar 55, it means that the operator can naturally perform the desired rotation in the R direction.

도 4의 (c) 및 (d)는, 스테이지헤드(41)와 돌출바(55) 간의 간섭을 측면에서 관찰한 도면이다.(C) and (d) of FIG. 4 are the figures which observed the interference between the stage head 41 and the protrusion bar 55 from the side.

도 4의 (c)에 도시한 바와 같이, 돌출바(55)가 결합공(57)에 삽입된 상태에서 Z1 방향으로 직선운동하면, 스테이지헤드(41)는 T1 방향으로 회전할 수 있다. 또한, 도 4의 (d)에 도시한 바와 같이, 스테이지헤드(41)가 Z2 방향으로 직선운동하면, 스테이지헤드(41)는 T2 방향으로 회전할 수 있다. 따라서 조작자가 원하는 T 방향 회전을 자연스럽게 수행할 수 있다.As shown in FIG. 4C, when the protrusion bar 55 is linearly moved in the Z1 direction while the protrusion bar 55 is inserted into the coupling hole 57, the stage head 41 may rotate in the T1 direction. As shown in FIG. 4D, when the stage head 41 linearly moves in the Z2 direction, the stage head 41 can rotate in the T2 direction. Thus, the operator can naturally perform the desired T direction rotation.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자현미경의 챔버에 마련된 돌출물을 도시한 도면이다.5 is a view showing the protrusion provided in the chamber of the electron microscope according to another embodiment of the present invention.

이에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자현미경의 챔버(11)의 내벽에는 다양한 돌출물이 마련되어 있을 수 있다. 즉, 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자현미경(10)에서는, 스테이지헤드(41)가 아닌 챔버(11)의 내벽에 다양한 돌출물이 마련되어 있을 수 있음을 의미한다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 전자현미경(10)은, 돌출물의 위치가 상이할 뿐 스테이지헤드(41)의 직선운동을 곡선운동으로 변경할 수 있다는 점은 동일하므로 관련된 설명은 생략하도록 한다.As shown in the drawing, various protrusions may be provided on the inner wall of the chamber 11 of the electron microscope according to another embodiment of the present invention. That is, in the electron microscope 10 according to another embodiment of the present invention, it means that various protrusions may be provided on the inner wall of the chamber 11 instead of the stage head 41. The electron microscope 10 according to another embodiment of the present invention is the same as that the position of the protrusions may be different and the linear movement of the stage head 41 may be changed to the curved movement.

돌출바(55)는, 복수개가 서로 이격되어 마련되어 있을 수 있다. 예를 들어, 제1 돌출바(55a)는 상측에 위치하고 제2 돌출바(55b)는 하측에 위치할 수 있다. 또는, 제1 돌출바(55a)는 좌측에 위치하고 제2 돌출바(55b)는 우측에 위치할 수 있다. 따라서 필요한 회전운동의 방향에 따라서 가까운 위치의 돌출바(55)를 사용할 수 있다.The protrusion bar 55 may be provided with a plurality of spaced apart from each other. For example, the first protrusion bar 55a may be located above and the second protrusion bar 55b may be located below. Alternatively, the first protrusion bar 55a may be located at the left side and the second protrusion bar 55b may be located at the right side. Therefore, it is possible to use the protruding bar 55 in the close position according to the direction of the required rotational movement.

직선리브(58)는, 챔버(11)의 내벽에 일정한 기울기로 마련된 돌출리브(rib)일 수 있다. 즉, 챔버(11)의 내벽에서 스테이지헤드(41)를 향하여 돌출된 구조일 수 있음을 의미한다. 스테이지헤드(41)가 직선리브(58)에 충돌하면, 스테이지헤드(41)는 직선리브(58)의 기울기만큼 회전할 수 있다. 예를 들어, 직선리브(58)가 수평에 대해서 10도의 기울기로 마련되어 있다면, 이에 충돌한 스테이지헤드(41)도 자연스럽게 10도의 기울기로 회전할 수 있음을 의미한다. 직선리브(58)는, 다양한 기울기로 복수개가 마련되어 있을 수 있다.The straight ribs 58 may be protruding ribs provided on the inner wall of the chamber 11 at a predetermined slope. That is, it means that the structure may protrude toward the stage head 41 from the inner wall of the chamber 11. When the stage head 41 collides with the straight ribs 58, the stage head 41 may rotate by the inclination of the straight ribs 58. For example, if the straight ribs 58 are provided at an inclination of 10 degrees with respect to the horizontal, it means that the stage head 41 collided therewith can also be naturally rotated at an inclination of 10 degrees. The plurality of straight ribs 58 may be provided in various inclinations.

곡선리브(59)는, 챔버(11)의 내벽에 기울기가 변경되도록 마련된 돌출리브일 수 있다. 즉, 챔버(11)의 내벽에서 스테이지헤드(41)를 향하야 돌출되되, 그 기울기가 연속적으로 변경된 구조일 수 있음을 의미한다. 스테이지헤드(41)가 곡선리브(59)에 충돌하면, 스테이지헤드(41)는 곡선리브(59)의 기울기를 따라 연속적으로 회전할 수 있다. 예를 들어, 곡선리브(59)가 1도에서 20도를 거쳐 다시 1도의 기울기로 마련되어 있다면, 이에 충돌한 스테이지헤드(41)도 자연스럽게 1도에서 20도를 거쳐 다시 1도의 기울기로 회전할 수 있음을 의미한다.The curved rib 59 may be a protruding rib provided to change the inclination of the inner wall of the chamber 11. That is, the inner wall of the chamber 11 protrudes toward the stage head 41, which means that the inclination may be continuously changed. When the stage head 41 collides with the curved rib 59, the stage head 41 may rotate continuously along the inclination of the curved rib 59. For example, if the curved rib 59 is provided with a slope of 1 degree again through 1 to 20 degrees, the stage head 41 that has collided with it may naturally rotate through 1 degree to 20 degrees and then again by 1 degree of inclination. It means that there is.

본 발명은 기재된 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

10 : 전자현미경 40 : 스테이지
41 : 스테이지헤드 42 :헤드지지대
45 : 회전지지대 55 : 돌출바10: electron microscope 40: stage
41: stage head 42: head support
45: rotation support 55: protrusion bar

Claims (6)

챔버;
상기 챔버 내에 위치하며, 시료가 안착되는 스테이지;
상기 스테이지를 직선운동하게 하는 제1 위치조정유닛; 및
상기 챔버와 상기 스테이지 중 적어도 일측에 마련되어, 상기 제1 위치조정유닛의 직선운동에 의하여 상기 스테이지가 회전운동 하도록 하는 제2 위치조정유닛을 포함하는 전자현미경.chamber;
Located in the chamber, the stage on which the sample is seated;
A first position adjusting unit for linearly moving the stage; And
An electron microscope provided on at least one side of the chamber and the stage, the second positioning unit configured to rotate the stage by a linear movement of the first positioning unit. 제1 항에 있어서,
상기 제2 위치조정유닛은,
상기 스테이지에 마련된 적어도 하나의 돌출물인 것을 특징으로 하는 전자현미경.The method according to claim 1,
The second position adjusting unit,
Electron microscope, characterized in that at least one protrusion provided on the stage. 제2 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 돌출물은,
가상의 축을 중심으로 상기 스테이지가 일방향 및 타방향으로 회전가능하도록 일정 거리 이격되어 상기 챔버의 내측 벽면을 향해 설치된 제1,2 돌출바인 것을 특징으로 하는 전자현미경.The method of claim 2,
The at least one protrusion,
An electron microscope, characterized in that the first and second protruding bars spaced apart from each other by a predetermined distance so as to be rotatable in one direction and another direction about an imaginary axis. 제2 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 돌출물은,
가상의 축을 중심으로 상기 스테이지가 일방향 및 타방향으로 회전가능하도록 상기 상기 챔버와 상기 스테이지 중 적어도 일측에 연속적으로 형성된 돌출리브(rib)인 것을 특징으로 하는 전자현미경.The method of claim 2,
The at least one protrusion,
An electron microscope according to claim 1, wherein the stage is a protrusion rib continuously formed on at least one side of the chamber and the stage such that the stage is rotatable in one direction and the other direction. 제4 항에 있어서,
상기 돌출리브는,
기울기가 변경되는 곡선 궤적의 형상으로 마련된 것을 특징으로 하는 전자현미경.5. The method of claim 4,
The protruding rib,
Electron microscope, characterized in that provided in the shape of a curved trajectory change slope. 제 1 항 내지 5 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5,
상기 제2 위치조정유닛은 상기 The second position adjusting unit is 챔버의Of chamber 외부의 구조물과 연결되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 전자현미경. Electron microscope, characterized in that not connected to the external structure.

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