KR20130015463A - Semiconductor package and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 몰딩층을 따라 재배선층이 형성된 웨이퍼 레벨 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor package and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a wafer level package having a redistribution layer formed along a molding layer and a method for manufacturing the same.
최근 전자 휴대기기의 소형화로 인하여 반도체 패키지의 크기 또한 점점 소형화, 박형화, 정량화되고 있다. 또한, 최근에는 두 가지 이상의 다른 기능을 담당하는 패키지가 하나의 패키지 형태로 적층 되는 POP(Package on Package) 구조가 많이 개발되고 있다. 특히 휴대용 전자 제품들이 더욱 더 경박단소화와 다기능을 요구하면서 POP형태의 패키지의 요구가 증대하고 있다.Recently, due to the miniaturization of electronic portable devices, the size of a semiconductor package is also becoming smaller, thinner, and quantified. In addition, recently, a POP (Package on Package) structure in which two or more different packages are stacked in a single package has been developed. In particular, as portable electronic products demand more and more light weight and small size, the demand for POP type packages is increasing.
상기와 같은 POP 형태의 패키지 기술은 단순한 공정으로 패키지의 제조 단가를 낮출 수 있고, 또한 대량 생산 등의 이점이 있는 반면, 적층 되는 칩의 수 및 크기 증가에 따른 패키지 내부의 전기적 연결을 위한 배선 공간이 부족하다는 단점이 있다.While the POP-type package technology can reduce the manufacturing cost of the package by a simple process, and also has advantages such as mass production, wiring space for electrical connection inside the package according to the increase in the number and size of stacked chips. There is a drawback to this lack.
즉, 기존의 적층 칩 패키지는, 기판의 칩 부착영역에 복수개의 칩이 적층 부착된 상태에서, 각 칩의 본딩 패드와 기판의 전도성 회로 패턴 간에 와이어로 통전 가능하게 연결된 구조로 제조됨에 따라, 와이어 본딩을 위한 공간이 필요하고, 또한 와이어가 연결되는 기판의 회로 패턴 면적이 필요하여, 결국 반도체 패키지의 크기가 증대되는 단점이 있다.That is, the conventional laminated chip package is manufactured in a structure in which a plurality of chips are laminated and attached to the chip attaching region of the substrate, so as to be electrically connected with the wire between the bonding pad of each chip and the conductive circuit pattern of the substrate. A space for bonding is required, and a circuit pattern area of a substrate to which wires are connected is required, and thus, a size of a semiconductor package is increased.
이러한 단점을 감안해, 스택 패키지의 한 예로 관통 실리콘 비아를 이용한 구조가 제안된 바, 레이저 드릴링을 이용하여 칩에 다수개의 수직홀을 가공하고 이 수직홀 내에 전도성 물질을 매립시킨 관통 실리콘 비아끼리 전도성 범프로 연결하여, 칩을 전기적으로 적층 하는 방법이 제안되었다.In view of these shortcomings, a structure using through silicon vias as an example of a stack package has been proposed. Through bumps through the via silicon vias in which a plurality of vertical holes are processed in the chip and embedded with conductive materials in the vertical holes, conductive bumps are formed. In this connection, a method of electrically stacking chips has been proposed.
이러한 관통 실리콘 비아를 이용하여 칩을 적층 하는 방법은 와이어 본딩이 필요 없어 반도체 패키지의 크기를 줄일 수 있지만, 칩에 관통 실리콘 비아를 형성하는 과정 및 칩들을 전기적으로 접속시키는 과정 등이 복잡하여, 보다 단순한 새로운 방식의 칩 적층 방법이 요구되고 있다.The method of stacking chips using the through silicon vias can reduce the size of the semiconductor package by eliminating the need for wire bonding. However, the process of forming the through silicon vias and electrically connecting the chips is complicated. There is a need for a simple new method of stacking chips.
이에 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로, 본 발명의 목적은 몰드 배선 패턴을 포함하는 반도체 패키지를 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem of the present invention was conceived in this respect, and an object of the present invention is to provide a semiconductor package including a mold wiring pattern.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 몰드 배선 패턴을 포함하는 반도체 패키지를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor package including a mold wiring pattern.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 일 실시예에 의한 반도체 패키지는 제1 반도체 칩, 상기 제1 반도체 칩과 전기적으로 연결되는 제1 재배선층, 상기 제1 반도체 칩을 감싸며 형성되고, 측면을 가지는 몰드층, 상기 제1 반도체 칩의 상부에 형성되는 제2 재배선층 및 상기 몰드층의 측면에 형성되어 상기 제1 재배선 층 및 제2 재배선층을 전기적으로 연결하는 몰드 배선 패턴을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, a semiconductor package includes a first semiconductor chip, a first redistribution layer electrically connected to the first semiconductor chip, and surrounds the first semiconductor chip. The branch includes a mold layer, a second redistribution layer formed on the first semiconductor chip, and a mold wiring pattern formed on a side surface of the mold layer to electrically connect the first redistribution layer and the second redistribution layer.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 반도체 칩의 상부에는 상기 제2 재배선층과 전기적으로 연결되는 제2 반도체 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In example embodiments, the first semiconductor chip may further include a second semiconductor chip electrically connected to the second redistribution layer.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 반도체 칩 및 제2 반도체 칩은 범프를 포함하지 않는 비활성면을 서로 마주보게 배치되는 것을 특징으로 할 수 있다.In example embodiments, the first semiconductor chip and the second semiconductor chip may be disposed to face each other with an inactive surface that does not include bumps.
일 실시예에 있어서, 상기 몰드층의 측면은 경사면을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In one embodiment, the mold layer may be characterized in that it comprises an inclined surface.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 반도체 칩 및 제2 반도체 칩 사이 위치하는 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In example embodiments, the semiconductor device may further include an insulating layer positioned between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip.
일 실시예에 있어서, 상기 절연층은 표면에 접착성 물질을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In one embodiment, the insulating layer may be characterized in that it comprises an adhesive material on the surface.
상기한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위한 일 실시예에 의한 반도체 패키지 제조 방법은 캐리어 상에 제1 반도체 칩을 실장하는 단계, 상기 제1 반도체 칩을 감싸는 몰딩 부재를 형성하는 단계, 상기 캐리어를 제거하는 단계, 상기 제1 반도체 칩의 활성면 및 상기 활성면과 평행한 상기 몰딩부재의 제1면에 형성되는 제1 재배선층을 형성하는 단계, 상기 몰딩부재의 제1면과 마주하는 제2 면에 제2 재배선층을 형성하는 단계 및 상기 몰딩 부재의 측면에 상기 제1 재배선층 및 제2 재배선층과 전기적으로 연결되는 몰드 배선 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor package, the method including: mounting a first semiconductor chip on a carrier, forming a molding member surrounding the first semiconductor chip; Removing, forming a first redistribution layer formed on an active surface of the first semiconductor chip and a first surface of the molding member parallel to the active surface, and a second surface facing the first surface of the molding member. Forming a second redistribution layer on a surface and forming a mold wiring pattern on the side of the molding member, the mold wiring pattern being electrically connected to the first redistribution layer and the second redistribution layer.
이와 같은 반도체 패키지의 구조에 따르면, 상부 반도체 칩을 적층함에 있어서, 기존의 관통 실리콘 비아를 통한 전기적 적층 연결 방법과 와이어 본딩을 통한 전기적 적층 연결 방법에 비하여 단순한 구조를 가지면서도 칩간의 전기적 연결이 손쉽게 이루어질 수 있다.According to the structure of the semiconductor package, in the stacking of the upper semiconductor chip, compared to the conventional electrical laminated connection method through the through silicon via and the electrical laminated connection method through the wire bonding, the electrical connection between the chips is easier than the conventional structure. Can be done.
또한, 반도체 칩을 지지하는 몰딩층에 형성된 홈에 따라 상대적인 열팽창 계수가 적은 재배선을 형성함으로써, 몰딩층의 워피지를 어느 정도 방지할 수 있는 장점이 있다. In addition, by forming a redistribution having a relatively small coefficient of thermal expansion according to the grooves formed in the molding layer supporting the semiconductor chip, there is an advantage that the warpage of the molding layer can be prevented to some extent.
도 1a 은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 사시도이다.
도 1b는 도 1a의 I-I'을 따라 절단한 반도체 패키지의 단면도이다.
도 1c는 도 1a의 반도체 패키지의 측면을 도시한 측면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 패키지의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 4a 내지 4e는 도 3의 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 나타내는 단면도들이다.1A is a perspective view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.
FIG. 1B is a cross-sectional view of the semiconductor package taken along the line II ′ of FIG. 1A.
FIG. 1C is a side view illustrating the side surface of the semiconductor package of FIG. 1A.
2 is a cross-sectional view of a semiconductor package in accordance with another embodiment of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semiconductor package according to another embodiment of the present invention.
4A through 4E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package in accordance with the embodiment of FIG. 3.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 방법 및 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a substrate cleaning method and apparatus according to an embodiment of the present invention. The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the present invention in order to clarify the present invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.
이하 첨부되는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention.
도 1a은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지의 사시도이다. 도 1b는 도 1a의 I-I'을 따라 절단한 반도체 패키지의 단면도이다. 도 1c는 도 1a의 반도체 패키지의 측면을 도시한 측면도이다.1A is a perspective view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a cross-sectional view of the semiconductor package taken along the line II ′ of FIG. 1A. FIG. 1C is a side view illustrating the side surface of the semiconductor package of FIG. 1A.
도 1a내지 1c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 패키지는 제1 반도체 칩(110) 및 몰드층(120)과 제1 재배선층(131), 제2 재배선층(132) 및 몰드 배선 패턴(133)을 포함한다. 상기 제1 반도체 칩(110)은 상기 몰드층(120) 내에 몰딩 되어 위치하며, 상기 제1 반도체 칩(110)의 활성면은 상기 제1 재배선층(131)과 전기적으로 연결된다. 상기 제2 재배선층(132)은 상기 제1 재배선층(131)이 위치하는 상기 몰드층(120)의 마주보는 면, 즉 상기 제1 반도체 칩(110)의 상부 방향에 형성된다. 상기 제2 재배선층(132)은 상기 몰드층(120)의 측면(122)에 형성되는 상기 몰드 배선 패턴(133)에 의해 상기 제1 재배선층(131)과 전기적으로 연결된다. 상기 제2 재배선층(132) 상에는 상부 반도체 칩(140)이 실장되어 상기 제2 재배선층(132)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 상부 반도체 칩(140)은 비단 반도체 칩 뿐 아니라 반도체 칩이 패키징 된 형태로도 전기적으로 연결될 수 있다. 기존에는 상기 몰딩층(120)에 별도의 공정을 통하여 비아를 형성하고 상기 비아에 전도성 물질을 충진하여 상부와 하부를 연결하였으나, 본 실시예에서는 이러한 상부와 하부의 연결 수단으로써, 몰딩부의 측면을 이용한다. 또한 상기 몰딩층의 측면(122)은 일정한 경사를 가짐으로써 몰드 배선 패턴을 형성을 더욱 용이하게 할 수 있다.1A to 1C, a semiconductor package according to an exemplary embodiment may include a
도 1a를 참조하면, 본 실시예의 반도체 패키지(100)는 상기 몰딩층(120)의 측면(122)에 복수개의 몰드 배선 패턴(133)이 형성되어 있다. 상기 몰드 배선 패턴(133)은 회로에 필요한 개수만큼 형성될 수 있다. 도 1a에서는 복수개의 배선 패턴이 형성되었으나, 반도체 패키지에 필요한 배선 패턴의 개수가 적은 경우에는 몇 개의 배선 패턴만 형성할 수 있다.Referring to FIG. 1A, in the
상기 몰딩층(120)의 측면(122)에 형성된 몰드 배선 패턴(133)은 하부에 형성되어 있는 제1 재배선층(미도시)과 전기적으로 연결되며 상부의 제2 재배선층(미도시)을 통하여 상기 상부 반도체 칩(140)과 전기적으로 연결된다.The
도 1b및 1c를 참조하면, 상기 제1 반도체 칩(110)은 활성면에 형성되는 복수개의 범프들(113)을 통하여 아래에 형성된 상기 제1 재배선층(131)과 전기적으로 연결된다. 상기 제1 재배선층(131)은 상기 몰딩층(120)의 측면에 형성된 몰드 배선 패턴(133)과 전기적으로 연결되며, 상기 몰드 배선 패턴(133)은 상기 제1 반도체 칩(110)의 상부에 형성되는 제2 재배선층(132)과 전기적으로 연결된다. 상기 제2 재배선층(132) 상에는 상부 반도체 칩(140)이 활성면에 형성된 복수개의 범프들(143)을 통하여 상부 반도체 칩(140)과 전기적으로 연결된다.1B and 1C, the
보다 안전한 반도체 패키징을 위하여 상기 제1 반도체 칩(110) 상에는 별도의 절연층(115)이 형성될 수 있다. 상기 제2 재배선층(132)과 상기 제1 반도체 칩(110) 사이에 상기 절연층(115)이 형성될 수 있으며, 상기 절연층(115) 위로 상기 제2 재배선층(132)의 패턴이 형성된다. 도 2b에서는 상기 제1 재배선층(131) 및 제2 재배선층(132)의 패턴 형상이 구체적으로 나타나 있지는 않지만, 상기 제1 및 제2 재배선층(131, 132)들은 상기 반도체 패키지에 필요한 패턴의 형상으로 형성된다. 상기 제1 재배선층(131)아래에는 복수개의 외부 연결 단자(150)들이 형성되어 반도체 패키지와 외부를 전기적으로 연결하는 통로 역할을 하게 된다.In order to safer semiconductor packaging, a separate insulating
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 패키지의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a semiconductor package in accordance with another embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체 패키지(200)는 제1 반도체 칩(211) 및 제2 반도체 칩(212)을 포함한다. 상기 제1 반도체 칩(211) 및 제2 반도체 칩(212)이 서로 비활성면을 마주하여 배치되고, 상기 제1 반도체 칩(211) 및 제2 반도체 칩(212) 사이에 절연층(215)이 형성되는 것을 제외하고는 실질적으로 도 1a 내지 1c에 도시된 실시예의 반도체 패키지와 그 구성이 동일하다.Referring to FIG. 2, the
상기 제1 반도체 칩(211) 및 제2 반도체 칩(212)이 상기 몰딩층(220)에 의해 몰딩 되며, 상기 제1 반도체 칩(211)의 활성면에서는 복수의 범프들(213)을 통하여 제1 재배선층(231)과 전기적으로 연결되며, 상기 제2 반도체 칩(212)의 활성면에서는 복수의 범프들(214)을 통하여 제2 재배선층(232)과 전기적으로 연결된다. 상기 제1 재배선층(231) 및 제2 재배선층(232)은 상기 몰딩층(22)의 측면에 형성되는 몰드 배선 패턴(233)에 의하여 전기적으로 연결되며, 상기 제2 재배선층(232)은 상기 제2 반도체 칩(212) 뿐 아니라 상부 반도체 칩(240)과도 전기적으로 연결될 수 있다.The
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 나타내는 흐름도이다.3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a semiconductor package according to another embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은 캐리어 상에 제1 반도체 칩을 실장하는 단계(S110), 제1 반도체 칩을 감싸는 몰딩 부재를 형성하는 단계 (S120), 캐리어를 제거하는 단계 (S130), 제1 재배선층을 형성하는 단계 (S140), 제2 재배선층을 형성하는 단계 (S150) 및 몰드 배선 패턴을 형성하는 단계 (S160)를 포함한다. 상기 제1 재배선층 및 제2 재배선층을 전기적으로 연결하는 몰드 배선 패턴은 상기 몰딩 부재의 측면에 형성된다. Referring to FIG. 3, in the method of manufacturing a semiconductor package according to the present exemplary embodiment, a step of mounting a first semiconductor chip on a carrier (S110), forming a molding member surrounding the first semiconductor chip (S120), and forming a carrier Removing (S130), forming a first redistribution layer (S140), forming a second redistribution layer (S150), and forming a mold wiring pattern (S160). A mold wiring pattern electrically connecting the first and second redistribution layers is formed on the side surface of the molding member.
상기 몰딩 부재의 측면에 몰드 배선 패턴을 형성하는 것은 경사진 면상에 회로 패턴을 형성하는 것이므로, 비교적 쉬운 공정으로 형성이 가능하다. 또한, 상기 몰드 배선 패턴은 상기 제1 재배선층 또는 제2 재배선층에 비하여 비교적 단순한 회로 패턴을 포함하기 때문에, 다양한 방법으로 형성될 수 있다.Forming a mold wiring pattern on the side of the molding member is to form a circuit pattern on the inclined surface, it is possible to form in a relatively easy process. In addition, since the mold wiring pattern includes a circuit pattern that is relatively simple as compared with the first or second redistribution layer, the mold wiring pattern may be formed by various methods.
예를 들어, 상기 몰딩 부재의 측면에 몰딩 부재를 형성할 때에 상기 몰드 배선 패턴을 위한 별도의 배선 몰딩부를 형성하고, 상기 배선 몰딩부 상으로 전도성 금속을 주입하여, 상기 몰드 배선 패턴을 형성할 수 있다. 또는 상기 몰딩 부재의 측면에 별도의 식각 공정을 통하여 상기 배선 몰딩부를 형성하고, 상기 배선 몰딩부에 전도성 금속을 주입할 수 있다. For example, when the molding member is formed on the side of the molding member, a separate wiring molding part for the mold wiring pattern is formed, and a conductive metal is injected onto the wiring molding part to form the mold wiring pattern. have. Alternatively, the wiring molding part may be formed on a side surface of the molding member through a separate etching process, and a conductive metal may be injected into the wiring molding part.
상기 몰딩층의 측면에 형성된 몰드 배선 패턴은 상기 제1 재배선층 및 제2 재배선층을 전기적으로 연결함으로써 상부 패키지와 하부패키지를 전기적으로 연결하여 적층 반도체 패키지를 구성하게 된다.The mold wiring pattern formed on the side surface of the molding layer electrically connects the first redistribution layer and the second redistribution layer to electrically connect the upper package and the lower package to form a multilayer semiconductor package.
도 4a 내지 4e는 도 3의 실시예에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 나타내는 단면도들이다.4A through 4E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package in accordance with the embodiment of FIG. 3.
도 4a를 참조하면, 복수개의 범프들(113)을 포함하는 제1 반도체 칩(110) 이 캐리어(170) 상에 실장된다. 상기 캐리어(170)는 상기 제1 반도체 칩(110)을 단순히 실장하기 위한 더미 패널이며, 별도의 전기적인 결합은 이루어지지 않는다. 상기 제1 반도체 칩(110)이 몰딩 공정을 거치기 위해서는 각 반도체 칩(110) 간의 거리가 필요하기 때문에, 이러한 간격에 맞추어 상기 제1 반도체 칩(110)을 나열하여 상기 캐리어(170) 상에 복수개의 반도체 칩(110)이 실장되어 한번의 공정으로 몰딩부를 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4A, a
도 4b를 참조하면, 상기 캐리어(170) 상에 실장된 제1 반도체 칩(110)에 몰딩층(120)을 형성한다. 상기 몰딩층(120)은 경사진 측면(122)을 가지도록 형성하며, 상기 측면(122)은 다양한 방법으로 형성될 수 있다. 상기 몰딩층(120)의 몰딩 자체에 측면을 가지도록 몰딩을 형성할 수 있고, 경우에 따라서는 형성된 상기 몰딩층(120)의 측면을 절단하여 경사면을 형성할 수 있다. 상기 몰딩층(120)의 경사면은 상기 몰드 배선 패턴의 형성을 용이하기 위해 충분히 낮은 경사를 갖도록 제작할 수 있다.Referring to FIG. 4B, the
도 4c를 참조하면, 상기 캐리어(170)는 상기 제1 반도체 칩(110) 및 몰딩층(120)으로부터 제거되고, 상기 몰딩층(120)의 제1면 및 제2면에는 제1 재배선층(131) 및 제2 재배선층(132)이 형성된다. 상기 몰딩층(120)의 제1면은 상기 제1 반도체 칩(110)의 활성면과 같은 평면을 공유하는 면이고, 상기 제2면은 상기 제1면과 마주하는 면이다.Referring to FIG. 4C, the
도 4d를 참조하면, 상기 제1 재배선층(131) 및 제2 재배선층(132)을 전기적으로 연결하는 몰드 배선 패턴(133)을 상기 몰딩층(120)의 측면(122)에 형성한다. 또한, 상기 제1 재배선층(131)에는 외부와 전기적인 연결을 하여 신호를 주고받을 수 있는 외부 연결 부재(150)를 형성한다. 상기 몰드 배선 패턴(133)은 상기 제1 재배선층(131) 또는 제2 재배선층(132)에 비해 비교적 단순한 형태로 형성할 수 있다. 따라서, 상기 몰딩층(120)의 측면(122)에 형성된 배선 몰딩부를 형성하여 상기 배선 몰딩부에 전도성 금속을 주입하여 형성하거나, 다른 용이한 방법으로 상기 몰드 배선 패턴을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4D, a
도 4e를 참조하면, 상기 제2 재배선층(132) 상에 상부 반도체 칩(140)을 실장한다. 상기 제2 재배선층(132)은 상기 상부 반도체 칩(140)에 형성된 복수의 범프들(143)을 통하여 상기 상부 반도체 칩(140)과 전기적으로 연결되며, 상기 복수의 범프들(143)과 전기적으로 연결되는 패드들은 상기 제2 재배선층(132) 에 포함되어 상기 제2 재배선층(132)이 형성과 함께 형성된다.Referring to FIG. 4E, an
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, 상부 반도체 칩을 적층함에 있어서, 기존의 관통 실리콘 비아를 통한 전기적 적층 연결 방법과 와이어 본딩을 통한 전기적 적층 연결 방법에 비하여 단순한 구조를 가지면서도 칩간의 전기적 연결이 손쉽게 이루어질 수 있다.As described above, according to the embodiment of the present invention, in stacking the upper semiconductor chip, the chip has a simple structure compared to the conventional electrical laminated connection method through the through-through silicon via and the electrical laminated connection method through wire bonding. The electrical connection between them can be made easily.
또한, 반도체 칩을 지지하는 몰딩층에 형성된 홈에 따라 상대적을 열팽창 계수가 적은 재배선을 형성함으로써, 몰딩층의 워피지를 어느 정도 방지할 수 있는 장점이 있다. In addition, by forming a redistribution having a relatively small coefficient of thermal expansion according to the grooves formed in the molding layer supporting the semiconductor chip, there is an advantage that the warpage of the molding layer can be prevented to some extent.
이상에서는 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. Although described above with reference to the embodiments, those skilled in the art can be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand.
100 : 반도체 패키지
110 : 제1 반도체 칩 120 : 몰딩층
131 : 제1 재배선층 132 : 제2 재배선층
133 : 몰드 배선 패턴 140 : 상부 반도체 칩
150 : 외부 연결 부재
200 : 반도체 패키지
211 : 제1 반도체 칩 212 : 제2 반도체 칩
220 : 몰딩층 231 : 제1 재배선층
232 : 제2 재배선층 233 : 몰드 배선 패턴
240 : 상부 반도체 칩 250 : 외부 연결 부재100: semiconductor package
110: first semiconductor chip 120: molding layer
131: first redistribution layer 132: second redistribution layer
133
150: external connection member
200: semiconductor package
211: first semiconductor chip 212: second semiconductor chip
220: molding layer 231: first redistribution layer
232: second redistribution layer 233: mold wiring pattern
240: upper semiconductor chip 250: external connection member
Claims (7)
상기 제1 반도체 칩과 전기적으로 연결되는 제1 재배선층;
상기 제1 반도체 칩을 감싸며 형성되고, 측면을 가지는 몰드층;
상기 제1 반도체 칩의 상부에 형성되는 제2 재배선층; 및
상기 몰드층의 측면에 형성되어 상기 제1 재배선 층 및 제2 재배선층을 전기적으로 연결하는 몰드 배선 패턴을 포함하는 반도체 패키지. A first semiconductor chip;
A first redistribution layer electrically connected to the first semiconductor chip;
A mold layer formed to surround the first semiconductor chip and having a side surface;
A second redistribution layer formed on the first semiconductor chip; And
And a mold wiring pattern formed on a side of the mold layer to electrically connect the first and second redistribution layers.
상기 제1 반도체 칩의 상부에는 상기 제2 재배선층과 전기적으로 연결되는 제2 반도체 칩을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지. The method of claim 1,
And a second semiconductor chip electrically connected to the second redistribution layer on the first semiconductor chip.
상기 제1 반도체 칩 및 제2 반도체 칩은 범프를 포함하지 않는 비활성면을 서로 마주보게 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지. The method of claim 2,
The semiconductor package of claim 1, wherein the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are disposed to face each other with an inactive surface including no bumps.
상기 몰드층의 측면은 경사면을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지. The method of claim 1,
The side surface of the mold layer comprises a inclined surface.
상기 제1 반도체 칩 및 제2 반도체 칩 사이 위치하는 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지. The method of claim 1,
The semiconductor package according to claim 1, further comprising an insulating layer located between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip.
상기 절연층은 표면에 접착성 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지. The method of claim 5,
The insulating layer is a semiconductor package, characterized in that it comprises an adhesive material on the surface.
상기 제1 반도체 칩을 감싸는 몰딩 부재를 형성하는 단계;
상기 캐리어를 제거하는 단계;
상기 제1 반도체 칩의 활성면 및 상기 활성면과 평행한 상기 몰딩부재의 제1면에 형성되는 제1 재배선층을 형성하는 단계;
상기 몰딩부재의 제1면과 마주하는 제2 면에 제2 재배선층을 형성하는 단계; 및
상기 몰딩 부재의 측면에 상기 제1 재배선층 및 제2 재배선층과 전기적으로 연결되는 몰드 배선 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 반도체 패키지 제조 방법. Mounting a first semiconductor chip on a carrier;
Forming a molding member surrounding the first semiconductor chip;
Removing the carrier;
Forming a first redistribution layer formed on an active surface of the first semiconductor chip and a first surface of the molding member parallel to the active surface;
Forming a second redistribution layer on a second surface facing the first surface of the molding member; And
Forming a mold interconnection pattern electrically connected to the first redistribution layer and the second redistribution layer on a side surface of the molding member.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101892869B1 (en) * | 2017-10-20 | 2018-08-28 | 삼성전기주식회사 | Fan-out semiconductor package |
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2011
- 2011-08-03 KR KR1020110077468A patent/KR20130015463A/en not_active Application Discontinuation
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