KR20130013990A - Mathod of thin film battery manufacturing by laser trimming of thin film edge - Google Patents

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KR20130013990A
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thin film
shadow mask
laser trimming
film pattern
manufacturing
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KR1020110075969A
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이태석
박호영
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지에스칼텍스 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a thin film battery is provided to remarkably reduce failure rate of a thin film battery, and to remarkably improve productivity by completely removing defects and forming an effective area of a thin film formed by using a patterned mask. CONSTITUTION: A manufacturing method of a thin film battery comprises: a step of forming a thin film pattern by using a patterned shadow mask(S100); and a laser trimming step of removing a shadow part, and removing an edge part by irradiating the edge part with a laser beam. The shadow mask has an opening area which has 10% or larger surface area than the surface area of the thin film pattern formed by the laser trimming. [Reference numerals] (AA) Start; (S100) Forming a thin film using a shadow mask; (S200) Laser trimming

Description

레이저를 이용하여 박막의 엣지를 가공하는 박막 전지의 제조 방법 {MATHOD OF THIN FILM BATTERY MANUFACTURING BY LASER TRIMMING OF THIN FILM EDGE}Manufacturing method of thin film battery which processes edge of thin film using laser {MATHOD OF THIN FILM BATTERY MANUFACTURING BY LASER TRIMMING OF THIN FILM EDGE}

본 발명은 레이저 트리밍을 이용한 박막 전지의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 섀도우 마스크를 사용하여 형성된 박막의 엣지 부분에 레이저 트리밍을 수행하여 용량 감소를 막고 불량률을 감소시킴으로 인해 생산성이 향상되는 박막 전지의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for manufacturing a thin film battery using laser trimming. More particularly, the thin film improves productivity by performing laser trimming on an edge portion of a thin film formed by using a shadow mask to prevent capacity reduction and reduce a defective rate. It relates to a method for producing a battery.

최근 정보 기기의 디지털화, 소형화, 멀티미디어화가 급속히 진행되고 있다. 대표적인 휴대용 정보 기기인 노트북, PDA(Personal Digital Assistant), 이동 통신 단말기 등의 에너지원으로서 중량이 작으면서도 에너지 밀도가 큰 리튬 전지가 시장을 주도하고 있다.Recently, digitalization, miniaturization, and multimedia of information devices are rapidly progressing. As a typical energy source for portable information devices such as notebook computers, PDAs (Personal Digital Assistants), and mobile communication terminals, lithium batteries with low weight and high energy density are leading the market.

이와 같은 정보 기기의 소형화가 더욱 진행될 경우 전지가 시스템의 크기를 결정하는 요소가 된다. 즉, 전지의 소형화가 정보 기기의 소형화를 결정할 수 있는데, 이러한 소형 전지의 대표적인 예로 박막 전지를 들 수 있다.If the miniaturization of such information equipment proceeds further, the battery becomes a factor in determining the size of the system. That is, the miniaturization of the battery can determine the miniaturization of the information device. A representative example of such a small battery is a thin film battery.

상기 박막 전지는 한국공개특허 제10-2003-0041729호에서 개시하고 있듯이 기본적으로 기판 위에 양극 박막, 전해질 박막, 음극 박막 등을 증착하여 성막하는 방식으로 제조된다. 이러한 성막 공정의 경우 상기 박막의 패턴 형성을 위해 섀도우 마스크를 사용하는 것이 일반적이다.The thin film battery is basically manufactured by depositing an anode thin film, an electrolyte thin film, a cathode thin film, etc. on a substrate as disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2003-0041729. In such a film formation process, a shadow mask is generally used for pattern formation of the thin film.

하지만, 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막을 형성하는 경우에는 다양한 문제점이 발생된다.However, various problems arise when forming a thin film using a patterned shadow mask.

먼저, 섀도우 마스크를 사용하여 박막을 형성 시, 성막 공정이 계속될 수록 마스크 엣지부에 박막 형성 물질이 남게 되어 유효 증착 면적이 감소하게 되는 문제점이 발생한다.First, when a thin film is formed using a shadow mask, as the film forming process continues, a thin film forming material remains on the mask edge portion, thereby reducing the effective deposition area.

또한, 섀도우 마스크로 형성된 박막의 엣지(가장자리)부에 미세한 박리 또는 두께 불균일 영역이 발생하게 되어 박막 전지의 불량률이 크게 상승하게 된다. 이와 같은 문제점은 도 1의 사진을 통해서 살펴볼 수 있다. 도 1의 (a)는 박막 전지의 양극 박막 패턴 엣지부에서 리프팅(lifting)이 발생한 것을 보여준다. (b)의 경우는 전해질 박막 패턴의 엣지부가 이상 성장한 형태를 보여주고 있으며, (c)는 섀도우 마스크의 들뜸으로 인해 형성된 패턴이 번지고 틀어진 것을 보여주고 있다.In addition, a minute peeling or a thickness non-uniformity region is generated in the edge portion of the thin film formed by the shadow mask, thereby greatly increasing the defective rate of the thin film battery. This problem can be seen through the photograph of FIG. 1. Figure 1 (a) shows that the lifting (lifting) occurred in the edge of the anode thin film pattern of the thin film battery. In the case of (b), the edge portion of the electrolyte thin film pattern is abnormally grown, and (c) shows that the pattern formed due to the lifting of the shadow mask is spread and distorted.

패턴화된 섀도우 마스크를 사용하지 않고 박막 전지를 제조하게 된다면 상기와 같은 문제점은 발생하지 않을 것이다. 다만, 섀도우 마스크 없이 박막 전지를 제조하게 되면, 박막의 패턴을 정밀하게 형성하는 것이 어렵고 비용이 지나치게 상승하기 때문에 섀도우 마스크의 사용은 필요한 실정이다.
If the thin film battery is manufactured without using the patterned shadow mask, the above problem will not occur. However, when a thin film battery is manufactured without a shadow mask, it is difficult to form a thin film pattern precisely and the use of a shadow mask is necessary because the cost is excessively high.

본 발명의 목적은 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막 패턴을 형성하는 경우, 상기 박막 패턴의 면적 감소와 엣지부에서 발생하는 미세한 박리 또는 두께 불균일 영역을 제거할 수 있는 박막 전지의 제조 방법을 제공하는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a thin film battery that can remove a small area of the thin film pattern and a fine peeling or thickness non-uniformity occurring at an edge when forming a thin film pattern using a patterned shadow mask. It is.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 박막 전지의 제조 방법은 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 기판 상에 박막을 형성하는 박막전지의 제조에 있어서, (a) 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막 패턴을 형성하는 단계 및 (b) 상기 섀도우 마스크를 제거하고, 상기 박막 패턴의 엣지부에 레이저 빔을 조사하여 레이저 트리밍을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
A method of manufacturing a thin film battery according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is in the manufacture of a thin film battery to form a thin film on a substrate using a patterned shadow mask, (a) a patterned shadow mask Forming a thin film pattern using and (b) removing the shadow mask, and irradiating a laser beam to the edge portion of the thin film pattern to perform a laser trimming.

본 발명에 따른 박막 전지의 제조 방법은 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막 패턴을 형성한 후 상기 박막 패턴의 엣지부의 불균일하거나 결함이 존재하는 영역을 레이저 트리밍으로 제거하고 동시에 박막의 유효면적을 일정하게 하여 반복되는 성막에 따른 박막전지의 용량감소를 막을 수 있기 때문에, 박막 전지의 불량률이 획기적으로 줄어들고 생산성도 크게 향상되는 장점이 있다.
In the method of manufacturing a thin film battery according to the present invention, after forming a thin film pattern using a patterned shadow mask, an area in which irregularities or defects exist in the edge portion of the thin film pattern is removed by laser trimming and at the same time the effective area of the thin film is fixed. Since it is possible to prevent the capacity decrease of the thin film battery due to repeated film formation, there is an advantage that the defect rate of the thin film battery is drastically reduced and the productivity is also greatly improved.

도 1은 박막의 증착 공정에서 섀도우 마스크를 사용하는 경우 나타나는 증착 불량을 나타낸 사진이다.
[(a) : 양극 박막 패턴 엣지 리프팅(lifting), (b) : 전해질 박막 패턴 엣지부의 이상 성장, (c) : 섀도우 마스크의 들뜸에 의한 패턴 번짐]
도 2는 박막 전지의 적층구조를 나타내는 분해도이다.
도 3은 박막 전지의 적층구조를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 박막 전지의 제조방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
도 5는 본 발명에 따른 박막 전지의 제조 방법에서 레이저 트리밍 공정을 나타내는 개략도이다.
도 6은 본 발명에 따른 섀도우 마스크를 나타내는 평면도이다.FIG. 1 is a photograph showing deposition failure when a shadow mask is used in a deposition process of a thin film.
[(a): Lifting anode thin film pattern edge, (b): Abnormal growth of electrolyte thin film pattern edge, (c): Pattern bleeding by lifting of shadow mask]
2 is an exploded view showing a laminated structure of a thin film battery.
3 is a cross-sectional view illustrating a laminated structure of a thin film battery.
4 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a thin film battery according to the present invention.
5 is a schematic view showing a laser trimming process in the method of manufacturing a thin film battery according to the present invention.
6 is a plan view illustrating a shadow mask according to the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving the same will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 레이저 트리밍을 이용한 박막 전지의 제조 방법에 관하여 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, a method of manufacturing a thin film battery using laser trimming according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 및 도 3에서는 박막 전지의 일반적인 구조가 도시되어 있다. 도 2 및 도 3을 참조하면 박막 전지는 기본적으로 기판(1) 위에 양극전류집전체(2) 및 양극(3)을 형성하고, 열처리 공정 후 전해질(4), 음극전류집전체(6), 음극(5) 및 보호막(7)이 순차적으로 적층된 구조를 갖는다.2 and 3 show the general structure of a thin film battery. 2 and 3, the thin film battery basically forms the positive electrode current collector 2 and the positive electrode 3 on the substrate 1, and after the heat treatment process, the electrolyte 4, the negative electrode current collector 6, The cathode 5 and the protective film 7 are laminated in this order.

도 4는 상기와 같은 구조를 갖는 본 발명에 따른 박막 전지 제조 방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.4 is a flowchart schematically showing a method for manufacturing a thin film battery according to the present invention having the structure as described above.

도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 박막 전지는 (a) 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막을 형성하는 박막 패턴 형성 단계와, (b) 상기 박막 패턴의 엣지부에 레이저 빔을 조사하는 레이저 트리밍 단계를 포함한다.
Referring to FIG. 4, the thin film battery according to the present invention includes (a) a thin film pattern forming step of forming a thin film using a patterned shadow mask, and (b) a laser beam irradiating a laser beam to an edge portion of the thin film pattern. Trimming step.

(a)박막 패턴 형성 단계(a) Thin film pattern forming step

(a) 단계에서 형성되는 박막 패턴은 양극전류집전체(2), 양극 박막(3), 전해질 박막(4), 음극전류집전체(6), 음극 박막(5) 및 보호막(7)을 모두 포함할 수 있다.The thin film pattern formed in step (a) includes the positive electrode current collector 2, the positive electrode thin film 3, the electrolyte thin film 4, the negative electrode current collector 6, the negative electrode thin film 5, and the protective film 7. It may include.

상기 박막의 형성은 다양한 방법으로 실시될 수 있으며, 주로 스퍼터링 방식이 사용되고 있다. 스퍼터링은 예컨대, 진공 중에 불활성 가스(주로 아르곤)를 도입시키면서 기판과 재료물질인 타겟 사이에 직류 전원(DC) 또는 교류전원(AC)을 인가하여 이온화된 가스이온을 타겟에 충돌시켜서 튕겨져 날아간 타겟 물질을 기판에 성막시키는 방법이다. 공정가스의 경우 성막하고자 하는 물질의 종류에 따라 산소나 질소를 사용하기도 하며, 아르곤과 혼합하여 사용하기도 한다.Formation of the thin film can be carried out in a variety of ways, the sputtering method is mainly used. Sputtering, for example, introduces an inert gas (mainly argon) in a vacuum while applying a direct current (DC) or alternating current (AC) between the substrate and the target material material to collide the ionized gas ions with the target and bounce off the target material. Is deposited on a substrate. In the case of process gas, oxygen or nitrogen may be used depending on the type of material to be formed, or may be mixed with argon.

상기와 같은 박막을 형성하는 공정은 박막 패턴의 형성을 위해 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하게 된다. 즉, 양극전류집전체, 음극 전류집전체, 양극, 전해질 및 음극 등을 기판 상에 집적하여 박막전지를 구성하기 위해서는 각각의 형태에 맞추어 패턴화된 섀도우 마스크가 요구된다. 상기 마스크는 기판표면에 접촉되어 상기 타겟으로부터 입사된 스퍼터링 입자가 선택적으로 패턴화되어 성막될 수 있도록 한다.
In the process of forming a thin film as described above, a patterned shadow mask is used to form a thin film pattern. That is, in order to form a thin film battery by integrating a positive electrode current collector, a negative electrode current collector, a positive electrode, an electrolyte, and a negative electrode on a substrate, a shadow mask patterned for each shape is required. The mask is in contact with the substrate surface to allow the sputtered particles incident from the target to be selectively patterned and deposited.

(b)레이저 트리밍 단계(b) Laser trimming step

(b)단계는 상기 섀도우 마스크를 제거하고, 상기 박막 패턴의 엣지부에 레이저 빔을 조사하여 상기 엣지부를 제거하는 레이저 트리밍을 수행하는 단계이다.In operation (b), the shadow mask is removed, and laser trimming is performed to remove the edge portion by irradiating a laser beam to the edge portion of the thin film pattern.

상기 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막 패턴을 형성한 다음 상기 마스크를 제거한다. 상기 마스크를 제거하게 되면 섀도우 마스크의 오프닝 부(Opening area)를 통해서 형성된 박막 패턴이 기판 상에 남게 된다. 여기서, 섀도우 마스크의 오프닝 부란 패턴화된 구멍을 의미하며, 상기 오프닝 부를 통해서 박막 패턴이 형성된다.A thin film pattern is formed using the patterned shadow mask and then the mask is removed. When the mask is removed, a thin film pattern formed through the opening area of the shadow mask is left on the substrate. Here, the opening portion of the shadow mask means a patterned hole, and a thin film pattern is formed through the opening portion.

한편, 상기 박막 패턴의 엣지부는 상기 마스크의 오프닝 부와 서로 접해서 형성된다. 상기 박막 패턴의 형성 후 상기 마스크를 제거하게 되면 상기 박막 패턴의 엣지부는 마스크 제거에 따른 스트레스로 인해 미세한 박리가 발생하거나, 또는 그 두께가 불균일하게 형성되는 등의 결함을 갖는다. 상기 엣지부의 결함이 발생된 상태로 제조된 박막 전지는 불량률이 크게 상승될 수 있다.
On the other hand, the edge portion of the thin film pattern is formed in contact with each other the opening portion of the mask. When the mask is removed after the thin film pattern is formed, the edge portion of the thin film pattern may have defects such as fine peeling due to stress caused by mask removal or irregular thicknesses thereof. A thin film battery manufactured in a state where a defect of the edge part is generated may have a high defect rate.

본 발명은 박막 전지의 엣지부에서 발생되는 상기와 같은 결함을 제거하기 위해서, 레이저 트리밍 공정을 수행하여 상기 엣지부를 제거하는 것을 기술적 특징으로 한다. 이와 같은 레이저 트리밍 공정은 두께 불균일 및 리프팅(lifting) 등 결함이 있는 박막 패턴의 엣지부 영역에 레이저 빔을 조사하여 상기 엣지부를 제거하는 공정을 의미한다.The present invention is characterized in that the edge portion is removed by performing a laser trimming process in order to remove the defects generated at the edge portion of the thin film battery. The laser trimming process refers to a process of removing the edge portion by irradiating a laser beam to the edge portion region of the defective thin film pattern such as thickness unevenness and lifting.

레이저 트리밍 단계에 대한 개략적인 모식도가 도 5에 도시되어 있다. 도 5를 참조하면, 기판 상에 형성된 박막의 엣지부에 레이저 트리밍 장치(20)를 통해 레이저 빔(21)을 조사하여 상기 엣지부를 제거한다. A schematic diagram of the laser trimming step is shown in FIG. 5. Referring to FIG. 5, the edge portion of the thin film formed on the substrate is irradiated with the laser beam 21 through the laser trimming device 20 to remove the edge portion.

본 발명에 따른 레이저 트리밍 방식은 박막 패턴 물질들의 광학적 흡수 특성에 따라 다양한 형태의 레이저들이 사용될 수 있다. 필요에 따라서 일부 레이저들은 고전력의 CO2 레이저들이 사용될 수 있고, Nd-도핑 고체 상태의 레이저들 및 다이오드 레이저들을 포함할 수 있다. 또한 연속형 및 펄스형 레이저들을 사용할 수 있다.
In the laser trimming method according to the present invention, various types of lasers may be used according to the optical absorption characteristics of the thin film pattern materials. Some lasers may be used with high power CO 2 lasers, as needed, and may include Nd-doped solid state lasers and diode lasers. Continuous and pulsed lasers can also be used.

도 6은 본 발명에 따른 박막 전지의 제조에 사용되는 섀도우 마스크(10)를 나타내는 평면도이다. 6 is a plan view showing a shadow mask 10 used in the manufacture of a thin film battery according to the present invention.

도 6을 참조하면, 상기 섀도우 마스크에 형성되어 있는 오프닝 부(11)를 도시하고 있다. 여기서 점선으로 표시된 영역은 기존의 섀도우 마스크가 갖는 오프닝 부(Opening area)를 나타내는 것이고, 실선으로 표시된 영역은 본 발명에서 바람직하게 사용될 수 있는 섀도우 마스크의 오프닝 부를 나타내는 것이다.Referring to FIG. 6, an opening part 11 formed in the shadow mask is illustrated. Here, the area indicated by the dotted line indicates an opening area of the existing shadow mask, and the area indicated by the solid line indicates the opening part of the shadow mask that can be preferably used in the present invention.

즉, 본 발명에서 바람직하게 사용되는 섀도우 마스크(10)는 기존의 섀도우 마스크에 비하여 오프닝 부(11)가 크게 형성되어 있다. 본 발명에서는 레이저 트리밍 공정을 거쳐 섀도우 마스크로 형성된 박막 패턴의 엣지부를 제거하기 때문에, 상기 섀도우 마스크(10)의 오프닝 부(11) 면적은 최종적으로 형성되어야 할 박막 패턴의 면적보다 충분히 큰 것이 바람직하다. That is, the shadow mask 10 preferably used in the present invention has a larger opening 11 than the conventional shadow mask. In the present invention, since the edge portion of the thin film pattern formed by the shadow mask is removed through a laser trimming process, the area of the opening portion 11 of the shadow mask 10 is preferably sufficiently larger than the area of the thin film pattern to be finally formed. .

상기 섀도우 마스크(10)의 오프닝 부(11) 면적은 박막 패턴 엣지부에서 발생되는 두께 불균일 영역 또는 리프팅 영역 등, 결함이 발생되는 면적을 미리 측정하여 설계할 수 있다. 즉, 섀도우 마스크의 오프닝 부는 제거되어야 할 엣지부 영역을 감안하여 충분히 넓은 면적을 갖도록 설계되는 것이 바람직하다.The area of the opening part 11 of the shadow mask 10 may be designed by measuring in advance an area where a defect occurs, such as a thickness non-uniform area or a lifting area generated in the thin film pattern edge part. That is, the opening portion of the shadow mask is preferably designed to have a sufficiently large area in view of the edge region to be removed.

이에 따라, 상기 오프닝 부(11) 면적과 최종적으로 형성되어야 할 박막 패턴의 면적의 차이가 10% 미만이라면, 박막 패턴의 엣지부에 대한 레이저 트리밍 가공에 보다 큰 정밀도를 요구하게 되고, 따라서 레이저 트리밍 가공 시 박막 패턴 형성 실패에 따른 불량률이 증가할 수 있다. Accordingly, if the difference between the area of the opening portion 11 and the area of the thin film pattern to be finally formed is less than 10%, greater precision is required for laser trimming of the edge portion of the thin film pattern, and thus laser trimming. Failure rate may increase due to the failure to form a thin film pattern during processing.

다만, 기판의 크기 및 박막 패턴 형성에 대한 제조 비용 측면을 감안하여, 상기 오프닝 부(11)의 면적은 최종적으로 형성되어야 할 박막 패턴의 면적보다 10% 이상 20% 이하로 형성되는 것이 바람직하다.
However, in consideration of the size of the substrate and the manufacturing cost for forming the thin film pattern, it is preferable that the area of the opening 11 is formed to be 10% or more and 20% or less than the area of the thin film pattern to be finally formed.

본 발명에 따른 박막 전지의 제조 방법은 패턴화된 섀도우 마스크를 통해서 형성되는 모든 박막의 엣지부를 레이저 트리밍으로 제거하는 단계를 포함할 수 있다. The method of manufacturing a thin film battery according to the present invention may include removing edge portions of all thin films formed through a patterned shadow mask by laser trimming.

다만, 음극 박막 형성 공정부터는 패턴의 면적이 작아지기 때문에 레이저 트리밍 공정의 수행이 어려운 기술적인 문제점이 있을 수 있다. 그리고, 모든 박막에 대하여 레이저 트리밍을 수행하는 경우 제조 공정 단계가 증가하는 문제점도 배제할 수 없다.However, since the area of the pattern is reduced from the cathode thin film forming process, there may be a technical problem that the laser trimming process is difficult to perform. In addition, when laser trimming is performed on all the thin films, a problem in which manufacturing process steps are increased may not be excluded.

따라서, 레이저 트리밍 공정의 기술적인 문제, 제조 공정 단계의 최소화 및 섀도우 마스크의 사용으로 인한 불량 가운데 대부분의 결함이 상기 양극 박막과 전해질 박막의 형성 공정에서 야기되는 점을 감안하면, 박막 전지의 구성 가운데 양극 박막 및 전해질 박막의 형성단계 가운데 적어도 하나 이상의 공정에서만 레이저 트리밍 공정을 수행하는 것이 바람직하다.
Therefore, in view of the technical problems of the laser trimming process, the minimization of the manufacturing process steps, and the defects caused by the use of the shadow mask, most defects are caused in the process of forming the anode thin film and the electrolyte thin film. It is preferable to perform the laser trimming process only in at least one of the steps of forming the anode thin film and the electrolyte thin film.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 기술자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 이하에 기재되는 특허청구범위에 의해서 판단되어야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. . Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.

1: 기판
2: 양극전류집전체
3: 양극
4: 전해질
5: 음극
6: 음극전류집전체
7: 보호막
10: 섀도우 마스크
11: 오프닝 부(Opening area)
20: 레이저 트리밍 장치
21: 레이저 빔1: substrate
2: anode current collector
3: anode
4: electrolyte
5: cathode
6: cathode current collector
7: shield
10: shadow mask
11: opening area
20: laser trimming device
21: laser beam

Claims (4)

패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 기판 상에 박막을 형성하는 박막전지의 제조 방법에 있어서,
(a) 패턴화된 섀도우 마스크를 사용하여 박막 패턴을 형성하는 단계; 및
(b) 상기 섀도우 마스크를 제거하고, 상기 박막 패턴의 엣지부에 레이저 빔을 조사하여 상기 엣지부를 제거하는 레이저 트리밍 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 전지의 제조방법.
In the method of manufacturing a thin film battery which forms a thin film on a substrate using a patterned shadow mask,
(a) forming a thin film pattern using the patterned shadow mask; And
(b) a laser trimming step of removing the shadow mask and irradiating a laser beam to an edge portion of the thin film pattern to remove the edge portion.
제1항에 있어서,
상기 섀도우 마스크는
레이저 트리밍으로 형성된 상기 박막 패턴의 면적보다 10 % 이상 큰 면적을 갖는 오프닝 부(opening area)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 전지의 제조 방법.
The method of claim 1,
The shadow mask is
A method of manufacturing a thin film battery, characterized in that an opening area having an area of at least 10% larger than the area of the thin film pattern formed by laser trimming is formed.
제1항에 있어서,
상기 박막 패턴은
양극 박막 패턴인 것을 특징으로 하는 박막 전지의 제조 방법.
The method of claim 1,
The thin film pattern is
It is a positive electrode thin film pattern, The manufacturing method of the thin film battery characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서,
상기 박막 패턴은
전해질 박막 패턴인 것을 특징으로 하는 박막 전지의 제조 방법.
The method of claim 1,
The thin film pattern is
It is an electrolyte thin film pattern, The manufacturing method of the thin film battery characterized by the above-mentioned.
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