KR20130009679A - Aqueous metal-surface treatment agent and metal material - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A water-based metal surface treatment agent for forming hexa-valent chrome-free surface treatment coating layer and a metal material formed by being treated with a processing agent are provided to prevent metal material, laminate film or resin coated layer from being exfoliated. CONSTITUTION: A water-based metal surface treatment agent comprises organic compound having the molecular weight of 10000 or less and contains two or more carboxyl groups and hydroxyl group, and a crosslinkable compound. The cross-linkable compounds are one or two kinds selected from crosslinking inorganic compound and crosslinking organic compound. The water-based metal surface treatment agent is an agent which forms a surface treating film(2) of resin coated film(3) or laminate film on a metal material(1).

Description

수계 금속 표면 처리제 및 그 처리제로 처리하여 이루어지는 금속 재료 {AQUEOUS METAL-SURFACE TREATMENT AGENT AND METAL MATERIAL}Aqueous metal surface treatment agent and a metal material which is processed by the treatment agent {AQUEOUS METAL-SURFACE TREATMENT AGENT AND METAL MATERIAL}

본 발명은 금속 재료와 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 박리되는 것을 방지할 수 있는 밀착성 및 내약품 밀착 유지성이 우수한 표면 처리 피막을 형성하기 위한 수계 금속 표면 처리제 및 그 금속 표면 처리제로 처리하여 이루어지는 금속 재료에 관한 것이다. 상세하게는, 금속 재료에 수지 필름을 라미네이트하거나 또는 수지 도포막을 형성하고, 그 후에 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 그 라미네이트 필름 등이 박리되지 않는 높은 밀착성을 부여할 수 있고, 게다가 산, 유기 용제 등에 노출되어도 높은 밀착성을 유지할 수 있는 내약품 밀착 유지성이 우수한 6 가 크롬 프리 표면 처리 피막을 형성하기 위한 수계 금속 표면 처리제 등에 관한 것이다.The present invention relates to a metal material formed by treating with a water-based metal surface treatment agent and a metal surface treatment agent for forming a surface treatment film excellent in adhesion and chemical resistance retention resistance which can prevent the metal material and the laminate film or resin coating film from peeling off. It is about. Specifically, even when laminating a resin film or forming a resin coating film on a metal material, and then performing a strict molding process such as a deep drawing process, ironing process or stretch draw process, the laminated film or the like does not peel off. The present invention relates to an aqueous metal surface treatment agent for forming a hexavalent chromium-free surface treatment film that can provide high adhesion and, moreover, has excellent chemical adhesion retention properties that can maintain high adhesion even when exposed to an acid or an organic solvent.

라미네이트 가공은 수지제의 필름 (이하, 「수지 필름」 또는 「라미네이트 필름」이라고 한다) 을 금속 재료의 표면 (이하, 간단히 「금속 표면」이라고도 한다) 에 가열 압착하는 가공 수단으로, 금속 표면을 보호하는 것 또는 의장성을 부여하는 것을 목적으로 한 금속 표면의 피복 방법 중 하나이며, 여러 가지 분야에서 사용되고 있다. 이 라미네이트 가공은, 수지 조성물을 용제 중에 용해 또는 분산시킨 것을 금속 표면에 도포 건조시킴으로써 수지 도포막을 형성하는 방법에 비해, 건조시에 발생하는 용제나 이산화탄소 등의 폐기 가스 또는 온난화 가스의 발생량이 적다. 그 때문에, 환경 보전의 면에서 바람직하게 적용되고, 그 용도는 확대되어, 예를 들어, 알루미늄 박판재, 스틸 박판재, 포장용 알루미늄박 또는 스테인리스박 등을 소재로 한 식품용 캔의 보디 혹은 뚜껑재, 식품용 용기 또는 건전지 용기 등에 사용되고 있다.Lamination processing is a processing means which heat-presses a resin film (hereinafter referred to as a "resin film" or a "laminate film") to the surface of a metal material (hereinafter also simply referred to as a "metal surface"), and protects the metal surface. It is one of the coating | covering methods of the metal surface for the purpose of imparting or giving designability, and is used in various fields. This lamination process has less generation | occurrence | production amount of waste gas or warming gas, such as a solvent and carbon dioxide which generate | occur | produce at the time of drying, compared with the method of forming a resin coating film by apply | coating and drying what melt | dissolved or disperse | distributed the resin composition in the solvent to the metal surface. Therefore, it is applied suitably from the surface of environmental conservation, The use is expanded, For example, the body or lid | cover material of the can for foodstuffs which consists of aluminum foil material, steel foil material, aluminum foil for packaging, stainless steel foil, etc., foodstuff Used for containers for batteries or batteries.

특히 최근에는, 휴대 전화, 전자 수첩, 노트북 컴퓨터 또는 비디오 카메라 등에 사용되는 모바일용 리튬 이온 이차 전지의 외장재 및 탭 리드재로서 경량이며 배리어성이 높은 알루미늄박 또는 스테인리스박 등의 금속박이 바람직하게 사용되고 있고, 이러한 금속박의 표면에 라미네이트 가공이 적용되고 있다. 또, 전기 자동차 또는 하이브리드 자동차의 구동 에너지로서 리튬 이온 이차 전지가 검토되고 있지만, 그 외장재로서도 라미네이트 가공한 금속박이 검토되고 있다.In particular, metal foils such as aluminum foil or stainless steel foil, which are lightweight and have high barrier properties, are preferably used as exterior materials and tab lead materials for mobile lithium ion secondary batteries used in cellular phones, electronic notebooks, notebook computers, video cameras, and the like. Laminating is applied to the surface of this metal foil. Moreover, although the lithium ion secondary battery is examined as a driving energy of an electric vehicle or a hybrid vehicle, the laminated metal foil is also examined as the exterior material.

이러한 라미네이트 가공에 사용하는 라미네이트 필름은 직접 금속 재료에 첩합(貼合)한 후에 가열 압착한다. 그 때문에, 수지 조성물을 도포 건조시켜 이루어지는 일반적인 수지 도포막에 비해, 원재료의 낭비를 억제할 수 있고, 핀홀 (결함부) 이 적으며, 및 가공성이 우수한 등의 이점이 있다. 라미네이트 필름의 재료로는, 일반적으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지나, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀이 사용되고 있다.The laminate film used for such a lamination process is heat-compression crimped after bonding directly to a metal material. Therefore, compared with the general resin coating film which apply | coats and dries a resin composition, waste of a raw material can be suppressed, there are few pinholes (defect part), and there exists an advantage that it is excellent in workability. Generally as a material of a laminate film, polyester-based resins, such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyolefins, such as polyethylene and a polypropylene, are used.

금속 표면에 화성 처리 등의 처리를 하지 않고 라미네이트 가공을 실시하면, 금속 표면으로부터 라미네이트 필름이 박리되거나 금속 재료에 부식이 생기거나 하는 문제가 있다. 예를 들어, 식품용 용기 또는 포재에 있어서는, 라미네이트 가공 후의 용기 또는 포재에 내용물을 첨가한 후에 살균을 목적으로 한 가열 처리를 실시하는데, 그 가열 처리시에 금속 표면으로부터 라미네이트 필름이 박리되는 경우가 있다. 또, 리튬 이온 이차 전지의 외장재 등에 있어서는, 그 제조 공정에서 가공도가 높은 가공을 받는다. 또한, 장기 사용되면, 대기중의 수분이 용기 내에 침입하고, 이것이 전해질과 반응하여 불화수소산을 생성하고, 이것이 라미네이트 필름을 투과하여 금속 표면과 라미네이트 필름의 박리를 발생시킴과 함께, 금속 표면을 부식시킨다는 문제가 있다.If lamination processing is performed on the metal surface without treatment such as chemical conversion treatment, there is a problem that the laminate film is peeled off from the metal surface or corrosion occurs on the metal material. For example, in a food container or packaging material, after the contents are added to the container or packaging material after the laminating process, heat treatment for sterilization is performed, but the laminate film is peeled from the metal surface during the heating treatment. have. Moreover, in the exterior material etc. of a lithium ion secondary battery, processing with high workability is received in the manufacturing process. In addition, after long-term use, moisture in the atmosphere penetrates into the container, which reacts with the electrolyte to produce hydrofluoric acid, which penetrates the laminate film, causing peeling of the metal surface and the laminate film, and corroding the metal surface. There is a problem.

이러한 문제에 대하여, 라미네이트 필름을 금속 표면에 라미네이트 가공할 때, 라미네이트 필름과 금속 표면의 밀착성 및 금속 표면의 내식성을 향상시키기 위해서, 금속 표면을 탈지 세정한 후, 통상, 인산 크로메이트 등의 화성 처리 등이 실시된다. 그러나, 이러한 화성 처리는 처리 후에 잉여의 처리액을 제거하기 위한 세정 공정이 필요하고, 그 세정 공정으로부터 배출되는 세정수의 폐수 처리에 비용이 든다. 특히 인산 크로메이트 등의 화성 처리 등은 6 가 크롬을 함유하는 처리액이 사용되는데, 최근의 환경적 배려로부터 경원되는 경향이 있다.In response to such a problem, when laminating a laminate film on a metal surface, in order to improve the adhesion between the laminate film and the metal surface and the corrosion resistance of the metal surface, after degreasing and cleaning the metal surface, chemical conversion treatment such as phosphate chromate or the like is usually performed. This is carried out. However, such chemical conversion treatment requires a washing step for removing excess treatment liquid after the treatment, and it is costly to treat waste water of the washing water discharged from the washing step. In particular, for chemical conversion treatment such as phosphate chromate, a treatment liquid containing hexavalent chromium is used, but it tends to be saved from recent environmental considerations.

예를 들어, 특허문헌 1 에서는, 특정량의 수용성 지르코늄 화합물과, 특정 구조의 수용성 또는 수분산성 아크릴 수지와, 수용성 또는 수분산성 열경화형 가교제를 함유하는 하지 처리제가 제안되어 있다. 또, 특허문헌 2 에서는, 특정량의 수용성 지르코늄 화합물 및/또는 수용성 티탄 화합물과, 유기 포스폰산 화합물과, 타닌으로 이루어지는 논크롬 금속 표면 처리제가 제안되어 있다. 또, 특허문헌 3 에서는, 아미노화페놀 중합체와, Ti 및 Zr 등의 특정의 금속 화합물을 함유하고, pH 가 1.5 ~ 6.0 의 범위인 금속 표면 처리 약제가 제안되어 있다. 또, 특허문헌 4 에서는, 아미노화페놀 중합체와, 아크릴계 중합체와, 금속 화합물과, 또한 필요에 따라 인 화합물을 함유하는 수지막이 제안되어 있다.For example, Patent Document 1 proposes a ground treatment agent containing a specific amount of a water-soluble zirconium compound, a water-soluble or water-dispersible acrylic resin having a specific structure, and a water-soluble or water-dispersible thermosetting crosslinking agent. Moreover, in patent document 2, the nonchromium metal surface treating agent which consists of a specific amount of water-soluble zirconium compound and / or water-soluble titanium compound, an organic phosphonic acid compound, and tannin is proposed. Moreover, in patent document 3, the metal surface treatment agent containing the amination phenol polymer and specific metal compounds, such as Ti and Zr, and whose pH is 1.5-6.0 is proposed. Moreover, in patent document 4, the resin film containing an amination phenol polymer, an acryl-type polymer, a metal compound, and the phosphorus compound as needed is proposed.

국제 특허 공개공보 WO2002/063703호International patent publication WO2002 / 063703 일본 공개특허공보 2002-265821호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-265821 일본 공개특허공보 2003-313680호Japanese Laid-Open Patent Publication 2003-313680 일본 공개특허공보 2004-262143호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-262143

본 발명의 목적은 금속 재료와 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 박리되는 것을 방지할 수 있는 밀착성 및 내약품 밀착 유지성이 우수한 표면 처리 피막을 형성하기 위한 수계 금속 표면 처리제를 제공하는 것 및 그 금속 표면 처리제로 처리하여 이루어지는 금속 재료를 제공하는 것에 있다. 상세하게는, 금속 재료에 수지 필름을 라미네이트하거나 또는 수지 도포막을 형성하고, 그 후에 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 그 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 박리되지 않는 높은 밀착성을 가짐과 함께, 산 등에 노출되어도 높은 밀착성을 유지할 수 있는 내약품 밀착 유지성이 우수한 6 가 크롬 프리 표면 처리 피막을 형성하기 위한 금속 표면 처리제를 제공하는 것 및 그 금속 표면 처리제로 처리하여 이루어지는 금속 재료를 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an aqueous metal surface treatment agent for forming a surface treatment film which is excellent in adhesion and chemical-resistance adhesion retention which can prevent the metal material and the laminate film or resin coating film from peeling off, and the metal surface treatment agent as the metal surface treatment agent. It is to provide a metal material formed by treatment. Specifically, even when a resin film is laminated on a metal material or a resin coating film is formed, and then strict molding processing such as deep drawing processing, ironing processing or stretch draw processing is performed, the laminated film or resin coating film is peeled off. Providing a metal surface treatment agent for forming a hexavalent chromium-free surface treatment film having excellent adhesion and resistance to chemicals that can maintain high adhesion even when exposed to an acid or the like, while not being exposed to an acid or the like, and treating with the metal surface treatment agent It is to provide a metal material formed by.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제는 카르복실기 및/또는 수산기를 분자량 30 ~ 300 에 1 개의 비율로 1 분자 중에 2 개 이상 함유하고, 분자량이 10000 이하인 유기 화합물 (A) 와, 상기 카르복실기 및/또는 상기 수산기와 반응할 수 있는 구조 단위를 갖는 가교성 유기 화합물 (B1) 및 상기 카르복실기 및/또는 상기 수산기와 반응할 수 있는 원소를 함유하는 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 가교성 화합물 (B) 를 함유하는 것을 특징으로 한다.The aqueous metal surface treating agent which concerns on this invention for solving the said subject contains two or more carboxyl groups and / or hydroxyl groups in 1 molecule by the ratio of 30-300 in molecular weight, and the organic compound (A) whose molecular weight is 10000 or less, and Selected from a crosslinkable organic compound (B1) having a structural unit capable of reacting with the carboxyl group and / or the hydroxyl group, and a crosslinkable inorganic compound (B2) containing an element capable of reacting with the carboxyl group and / or the hydroxyl group. It is characterized by containing 1 type, or 2 or more types of crosslinking | crosslinked compound (B).

이 발명에 의하면, 상기한 유기 화합물 (A) 와 상기한 가교성 화합물 (B) 를 함유하기 때문에, 그 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막은 높은 밀착성을 가짐과 함께, 산 등에 노출되어도 높은 밀착성을 유지할 수 있다. 그 결과, 금속 재료에 수지 필름을 라미네이트하거나 또는 수지 도포막을 형성하고, 그 후에 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 또, 게다가 산이나 유기 용제 등에 노출된 경우에도, 그 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 금속 재료로부터 박리되는 것을 방지할 수 있다.According to this invention, since the said organic compound (A) and said crosslinking | crosslinked compound (B) are contained, even if it is exposed to an acid etc., the surface treatment film obtained by processing with this aqueous metal surface treating agent has high adhesiveness. High adhesiveness can be maintained. As a result, even when a resin film is laminated to a metal material or a resin coating film is formed, and then strict molding processing such as deep drawing processing, ironing processing, or stretch draw processing is performed, further exposure to acid, organic solvent, etc. Even if it is, the laminated film or the resin coating film can be prevented from being peeled from the metal material.

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제에 있어서, 상기 가교성 유기 화합물 (B1) 이 카르보디이미드 결합, 옥사졸린기, 글리시딜에테르기, 이소시아네이트기 및 메틸올기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 구조 단위를 갖는다.In the water-based metal surface treatment agent according to the present invention, the crosslinkable organic compound (B1) is one or two or more structures selected from carbodiimide bonds, oxazoline groups, glycidyl ether groups, isocyanate groups and methylol groups. Has units.

이 발명에 의하면, 가교성 유기 화합물 (B1) 이 상기한 구조 단위를 갖기 때문에, 그 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막은 보다 밀착성이 우수하고, 또, 유기 용제나 산에 노출되어도 장기간에 걸쳐서 보다 안정적인 밀착성을 유지할 수 있다.According to this invention, since a crosslinkable organic compound (B1) has the above-mentioned structural unit, the surface treatment film obtained by processing with this aqueous metal surface treatment agent is more excellent in adhesiveness, and it is long term even if it exposes to an organic solvent or an acid. The more stable adhesiveness can be maintained over.

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제에 있어서, 상기 가교성 무기 화합물 (B2) 가 Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr(Ⅲ), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd 및 La 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 원소를 함유한다.In the water-based metal surface treatment agent according to the present invention, the crosslinkable inorganic compound (B2) is Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr (III), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W It contains one or two or more elements selected from Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd and La.

이 발명에 의하면, 가교성 무기 화합물 (B2) 가 상기한 원소를 함유하기 때문에, 그 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막은 보다 밀착성이 우수하고, 또, 유기 용제나 산에 노출되어도 장기간에 걸쳐서 보다 안정적인 밀착성을 유지할 수 있다.According to this invention, since a crosslinkable inorganic compound (B2) contains the said element, the surface treatment film obtained by processing with this aqueous metal surface treating agent is more excellent in adhesiveness, and it is long term even if exposed to the organic solvent or an acid. The more stable adhesiveness can be maintained over.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 관련된 금속 재료는 상기 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제를 금속 재료 표면에 도포하여 형성된 표면 처리 피막을 갖는 것을 특징으로 한다.The metal material which concerns on this invention for solving the said subject is characterized by having the surface treatment film formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent which concerns on the said invention on the metal material surface.

이 발명에 의하면, 상기 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제를 도포하여 형성된 표면 처리 피막을 갖기 때문에, 그 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료에 라미네이트 가공을 실시하고, 그 후에 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 게다가 산 등에 노출된 경우에도, 금속 재료의 표면에 형성된 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 박리되는 것을 방지할 수 있다.According to this invention, since it has the surface treatment film formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent which concerns on the said invention, it laminates to the metal material which has this surface treatment film, and after that, deep drawing process, ironing process, or Even when strict molding processing such as stretch draw processing or the like is carried out, even when exposed to acid or the like, it is possible to prevent the laminate film or the resin coating film formed on the surface of the metal material from peeling off.

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제에 의하면, 금속 재료와 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 박리되는 것을 방지할 수 있는 밀착성 및 내약품 밀착 유지성이 우수한 표면 처리 피막을 형성하기 위한 수계 금속 표면 처리제를 제공할 수 있다.According to the aqueous metal surface treatment agent which concerns on this invention, the water-based metal surface treatment agent for forming the surface treatment film excellent in the adhesiveness and chemical-resistance adhesive-resistance property which can prevent peeling of a metal material, a laminated film, or a resin coating film can be provided. have.

본 발명에 관련된 금속 재료에 의하면, 그러한 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료를 제공할 수 있다.According to the metal material which concerns on this invention, the metal material which has such a surface treatment film can be provided.

도 1 은 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제를 도포하여 형성된 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is typical sectional drawing which shows an example of the metal material which has a surface treatment film formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent concerning this invention.

이하, 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제 및 그 금속 표면 처리제를 금속 재료의 표면에 도포하여 형성된 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료에 대하여 설명한다. 한편, 이하의 설명 및 도면의 형태에 의해 본 발명의 기술적 범위가 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the metal material which has a surface treatment film formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent concerning this invention and this metal surface treatment agent to the surface of a metal material is demonstrated. In addition, the technical scope of this invention is not limited by the following description and the form of drawing.

[수계 금속 표면 처리제][Aqueous Metal Surface Treatment Agent]

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 기재인 금속 재료 (1) (이하, 「기재 금속 (1)」라고 한다) 의 표면에, 라미네이트 필름 또는 수지 도포막 (3) 의 하지용의 표면 처리 피막 (2) 을 형성하기 위한 처리제이다. 그 특징은 유기 화합물 (A) 와, 가교성 유기 화합물 (B1) 및 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 가교성 화합물 (B) 를 함유하는 것에 있다. 「함유하는」이란, 수계 금속 표면 처리제 중에 유기 화합물 (A) 및 가교성 화합물 (B) 이외의 화합물을 함유하고 있어도 되는 것을 의미하고 있다. 그러한 화합물로는, 예를 들어, 계면 활성제, 소포제, 레벨링제, 방균 방미제, 착색제 등을 들 수 있다. 이들 화합물을, 본 발명의 취지 및 피막 성능을 저해하지 않는 범위에서 함유할 수 있다.As shown in FIG. 1, the water-based metal surface treating agent which concerns on this invention is a laminated film or resin coating film 3 on the surface of the metal material 1 (henceforth a "base metal 1") which is a base material. It is a processing agent for forming the surface treatment film 2 for base materials of the base material. The characteristic is that it contains an organic compound (A), 1 type (s) or 2 or more types of crosslinkable compounds (B) chosen from a crosslinkable organic compound (B1) and a crosslinkable inorganic compound (B2). "Containing" means that the compounds other than the organic compound (A) and the crosslinkable compound (B) may be contained in the aqueous metal surface treatment agent. As such a compound, surfactant, an antifoamer, a leveling agent, an antibacterial fungicide, a coloring agent, etc. are mentioned, for example. These compounds can be contained in the range which does not impair the meaning and film | membrane performance of this invention.

이하, 본 발명의 구성을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure of this invention is demonstrated in detail.

(유기 화합물 (A))(Organic Compound (A))

유기 화합물 (A) 는 관능기인 카르복실기 및/또는 수산기를 함유하는 화합물이다. 이들 카르복실기 및/또는 수산기 (이들을 「관능기」라고도 한다) 를 갖는 유기 화합물 (A) 는, 후술하는 가교성 화합물 (B) 와 반응하여, 얻어지는 표면 처리 피막의 밀착성 및 내약품 밀착 유지성을 높일 수 있다. 유기 화합물 (A) 가 함유하는 상기 카르복실기 및/또는 수산기는 분자량 30 ~ 300 에 1 개의 비율로 1 분자 중에 2 개 이상 함유되어 있다. 이 비율로 상기 카르복실기 및/또는 수산기를 함유하는 유기 화합물 (A) 는 가교성 화합물 (B) 와의 사이에서 보다 반응하기 쉬워진다. 그 결과, 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막이 치밀해지고, 내약품 밀착 유지성을 보다 높일 수 있다. 카르복실기 및/또는 수산기의 함유 비율은 분자량 30 ~ 150 에 1 개의 비율로 1 분자 중에 2 개 이상 갖고 있는 것이 보다 바람직하다.An organic compound (A) is a compound containing the carboxyl group and / or the hydroxyl group which is a functional group. The organic compound (A) having these carboxyl groups and / or hydroxyl groups (also referred to as "functional groups") can be reacted with the crosslinking compound (B) described later to improve the adhesion and the chemical-resistance adhesion-resistance of the surface-treated film obtained. . Two or more said carboxyl groups and / or hydroxyl groups which an organic compound (A) contains are contained in 1 molecule by the ratio of molecular weight 30-300 in one ratio. In this ratio, the organic compound (A) containing the carboxyl group and / or the hydroxyl group is more likely to react with the crosslinkable compound (B). As a result, the surface treatment film obtained by processing with an aqueous metal surface treatment agent becomes dense, and chemical-resistance adhesion retention can be improved more. As for the content rate of a carboxyl group and / or a hydroxyl group, it is more preferable to have two or more in 1 molecule by 1 ratio by molecular weight 30-150.

유기 화합물 (A) 는 분자량이 10000 이하인 화합물이다. 유기 화합물 (A) 의 분자량이 10000 이하이면, 얻어지는 표면 처리 피막의 밀착성을 높일 수 있음과 함께, 내약품 밀착 유지성을 실용 레벨로 할 수 있다. 유기 화합물 (A) 의 분자량이 10000 을 초과하면, 표면 처리 피막이 형성될 때에, 수계 금속 표면 처리제의 이동도가 낮아져, 기재 금속의 표면에 카르복실기나 수산기가 배향되기 어려워지고, 기재 금속과의 밀착성이 낮아져 버리는 경우가 있다. 또, 유기 화합물 (A) 와 가교성 화합물 (B) 의 접촉 기회가 낮아져 가교되지 않는 부위가 발생해 버려, 가교 밀도가 저하되어 버리는 경우가 있다. 그 결과, 표면 처리 피막이 치밀하지 않게 되고, 배리어성이 저하되어 내약품 밀착 유지성이 저하되어 버린다. 배리어성이란, 산이나 유기 용제 등의 약품이 표면 처리 피막에 침투하는 것을 방지하는 성질을 말한다. 유기 화합물 (A) 의 분자량은 5000 이하이면 보다 바람직하고, 3000 이하이면 특히 바람직하다.An organic compound (A) is a compound whose molecular weight is 10000 or less. When the molecular weight of an organic compound (A) is 10000 or less, the adhesiveness of the surface treatment film obtained can be improved, and chemical-resistance adhesiveness retention can be made into a practical level. When the molecular weight of an organic compound (A) exceeds 10000, when a surface treatment film is formed, the mobility of an aqueous metal surface treating agent will become low, it becomes difficult to orientate a carboxyl group and a hydroxyl group on the surface of a base metal, and adhesiveness with a base metal It may be lowered. Moreover, the contact chance of an organic compound (A) and a crosslinkable compound (B) becomes low, a site which does not crosslink arises, and crosslinking density may fall. As a result, the surface treatment film is not dense, the barrier property is lowered, and the chemical-resistance adhesion retention property is lowered. Barrier property means the property which prevents chemicals, such as an acid and an organic solvent, from penetrating into a surface treatment film. The molecular weight of an organic compound (A) is more preferable in it being 5000 or less, and especially preferable in it being 3000 or less.

유기 화합물 (A) 로는, 예를 들어, 옥살산, 말론산, 말레산, 푸마르산, 숙신산, 이타콘산, 프로판디카르복실산, 부탄디카르복실산, 펜탄디카르복실산, 헥산디카르복실산, 헵탄디카르복실산, 부탄트리카르복실산, 부탄테트라카르복실산, 시클로헥산테트라카르복실산 및 헥산트리카르복실산 등의 다가 카르복실산;에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 헥산디올, 폴리글리콜, 티오디글리콜, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 소르비톨, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 다가 알코올;말산, 시트르산, 타르타르산 등의 다가 하이드록시카르복실산;As the organic compound (A), for example, oxalic acid, malonic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, itaconic acid, propanedicarboxylic acid, butanedicarboxylic acid, pentanedicarboxylic acid, hexanedicarboxylic acid, Polyhydric carboxylic acids such as heptanedicarboxylic acid, butanetricarboxylic acid, butanetetracarboxylic acid, cyclohexanetetracarboxylic acid and hexanetricarboxylic acid; ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, hexanediol, Polyhydric alcohols such as polyglycol, thiodiglycol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; polyhydric hydroxycarboxylic acids such as malic acid, citric acid and tartaric acid;

헥사하이드록시벤젠, 피로갈롤, 1,2,4-트리하이드록시벤젠, 플로로글리시놀, 카테콜, 레조르시놀, 하이드로퀴논, 5-메틸피로갈롤, 2-메틸레조르시놀, 5-메틸레조르시놀, 2,5-디메틸레조르시놀, 3-메틸카테콜, 4-메틸카테콜, 메틸하이드로퀴논, 2,6-디메틸하이드로퀴논, 5-메톡시레조르시놀, 3-메톡시카테콜, 메톡시하이드로퀴논, 2,5-디하이드록시-1,4-벤조퀴논, 갈산, 피로갈롤-4-카르복실산, 2-하이드록시벤조산, 3-하이드록시벤조산, 4-하이드록시벤조산, 2,3-디하이드록시벤조산, 2,4-디하이드록시벤조산, 2,5-디하이드록시벤조산, 2,6-디하이드록시벤조산, 3,4-디하이드록시벤조산, 3,5-디하이드록시벤조산, 2,4,6-트리하이드록시벤조산, 2,6-디하이드록시-4-메틸벤조산, 4-하이드록시-3,5-디메틸벤조산, 1,4-디하이드록시-2-나프토산, 갈산메틸, 2,4-디하이드록시벤조산메틸, 2,6-디하이드록시벤조산메틸, 3,4-디하이드록시벤조산메틸, 3,5-디하이드록시벤조산메틸, 3,4-디하이드록시벤조산에틸, 4,6-디아미노레조르시놀이염산염, 4,6-디아미노레조르시놀, 2-니트로레조르시놀, 4-니트로카테콜, 멜리트산, 벤젠펜타카르복실산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 헤미멜리트산, 트리메스산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 2,3-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4-메틸프탈산, 5-메틸이소프탈산, 2,5-디메틸테레프탈산, 4-하이드록시프탈산, 5-하이드록시이소프탈산, 4-니트로프탈산, 5-니트로이소프탈산, 5-아미노이소프탈산, 4-아미노살리실산, 4-아미노-3-하이드록시벤조산, L-아스코르브산 등의 고리형 유기 화합물;Hexahydroxybenzene, pyrogallol, 1,2,4-trihydroxybenzene, phloroglycinol, catechol, resorcinol, hydroquinone, 5-methylpyrogallol, 2-methylresorcinol, 5- Methylresorcinol, 2,5-dimethylresorcinol, 3-methylcatechol, 4-methylcatechol, methylhydroquinone, 2,6-dimethylhydroquinone, 5-methoxyresorcinol, 3-methoxy Catechol, methoxyhydroquinone, 2,5-dihydroxy-1,4-benzoquinone, gallic acid, pyrogallol-4-carboxylic acid, 2-hydroxybenzoic acid, 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxy Benzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, 3,5 -Dihydroxybenzoic acid, 2,4,6-trihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxy-4-methylbenzoic acid, 4-hydroxy-3,5-dimethylbenzoic acid, 1,4-dihydroxy- 2-naphthoic acid, methyl gallate, 2,4-dihydroxybenzoic acid Methyl 2,6-dihydroxybenzoate, methyl 3,4-dihydroxybenzoate, methyl 3,5-dihydroxybenzoate, ethyl 3,4-dihydroxybenzoate, 4,6-diaminoresorcinol Hydrochloride, 4,6-diaminoresorcinol, 2-nitroresorcinol, 4-nitrocatechol, melic acid, benzenepentacarboxylic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, hemimelic acid, trimesic acid, Phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4-methylphthalic acid, 5-methylisophthalic acid, 2, 5-dimethylterephthalic acid, 4-hydroxyphthalic acid, 5-hydroxyisophthalic acid, 4-nitrophthalic acid, 5-nitroisophthalic acid, 5-aminoisophthalic acid, 4-aminosalicylic acid, 4-amino-3-hydroxybenzoic acid, Cyclic organic compounds such as L-ascorbic acid;

타닌산 등의 가수분해성 타닌;감 타닌, 테아플라빈, 테아루비진 등의 축합형 타닌 등을 들 수 있다.Hydrolyzable tannins, such as tannic acid; condensed tannins, such as persimmon tannin, theaflavin, and thearubizin, etc. are mentioned.

수계 금속 표면 처리제에 함유되는 유기 화합물 (A) 의 함유량은, 수계 금속 표면 처리제에 함유되는 전체 고형분에 대하여, 10 질량% ~ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 20 질량% ~ 80 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 질량% ~ 70 질량% 인 것이 특히 바람직하다. 유기 화합물 (A) 의 함유량이 이 범위에 있으면, 표면 처리 피막의 치밀성을 보다 높은 것으로 할 수 있고, 그것에 의해 내약품 밀착 유지성이 더욱 향상된다. 또한, 「전체 고형분」이란, 수계 금속 표면 처리제를 구성하는 성분 중, 용제 등의 휘발 성분 등을 제외한 고형분을 말하며, 구체적으로는, 유기 화합물 (A) 와, 가교성 유기 화합물 (B1) 및 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 가교성 화합물 (B) 의 합계량이다. 따라서, 수계 금속 표면 처리제에 함유되는 유기 화합물 (A) 는, 유기 화합물 (A) 와 가교성 화합물 (B) 의 합계량 (전체 고형분) 에 대하여, 10 질량% ~ 95 질량% 인 것이 바람직하고, 20 질량% ~ 80 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 질량% ~ 70 질량% 인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the organic compound (A) contained in an aqueous metal surface treating agent is 10 mass%-95 mass% with respect to the total solid contained in an aqueous metal surface treatment agent, and it is more preferable that it is 20 mass%-80 mass%. It is preferable and it is especially preferable that they are 20 mass%-70 mass%. When content of an organic compound (A) exists in this range, the density of a surface treatment film can be made higher, and chemical-resistance adhesive-resistance improves further by this. In addition, "total solid content" means solid content except the volatile components, such as a solvent, among the components which comprise an aqueous metal surface treating agent, and specifically, an organic compound (A), a crosslinkable organic compound (B1), and a crosslinking. It is the total amount of 1 type, or 2 or more types of crosslinking | crosslinked compound (B) chosen from an acidic inorganic compound (B2). Therefore, it is preferable that the organic compound (A) contained in an aqueous metal surface treating agent is 10 mass%-95 mass% with respect to the total amount (total solid content) of an organic compound (A) and a crosslinkable compound (B), 20 It is more preferable that it is mass%-80 mass%, and it is especially preferable that it is 20 mass%-70 mass%.

(가교성 화합물 (B))(Crosslinkable Compound (B))

가교성 화합물 (B) 는 가교성 유기 화합물 (B1) 및 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 화합물이다. 수계 금속 표면 처리제가 가교성 화합물 (B) 를 함유함으로써, 그 수계 금속 표면 처리제를 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막의 밀착성 및 내약품 밀착 유지성을 높일 수 있다.The crosslinkable compound (B) is one or two or more compounds selected from a crosslinkable organic compound (B1) and a crosslinkable inorganic compound (B2). When an aqueous metal surface treating agent contains a crosslinkable compound (B), the adhesiveness and chemical-resistance adhesive-resistance of the surface treatment film obtained by processing this aqueous metal surface treating agent can be improved.

(가교성 유기 화합물 (B1))(Crosslinkable Organic Compound (B1))

가교성 유기 화합물 (B1) 은 유기 화합물 (A) 가 갖는 카르복실기 및/또는 수산기와 반응할 수 있는 구조 단위를 갖는 유기 화합물이다. 「반응할 수 있는」이란, 유기 화합물 (A) 가 갖는 카르복실기 및 수산기의 양방 또는 어느 일방에 접촉하여 그것들에 반응할 수 있다는 의미이다. 「구조 단위」란, 관능기 또는 단일 결합 단위이다. 「갖는」이란, 이들 구조 단위 이외에 다른 관능기나 결합 단위를 갖고 있어도 된다는 의미이다. 가교성 유기 화합물 (B1) 로는, 예를 들어, 카르보디이미드 결합, 옥사졸린기, 글리시딜에테르기, 이소시아네이트기 및 메틸올기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 구조 단위를 갖는 유기 화합물을 들 수 있다.A crosslinkable organic compound (B1) is an organic compound which has a structural unit which can react with the carboxyl group and / or the hydroxyl group which the organic compound (A) has. "Reactable" means that both or either one of the carboxyl group and the hydroxyl group which the organic compound (A) has can be contacted, and can react with them. A "structural unit" is a functional group or a single bond unit. "Have" means that you may have other functional groups and coupling units other than these structural units. As a crosslinkable organic compound (B1), the organic compound which has 1 type, or 2 or more types of structural units chosen from a carbodiimide bond, an oxazoline group, glycidyl ether group, an isocyanate group, and a methylol group is mentioned, for example. Can be.

카르보디이미드 결합을 갖는 유기 화합물로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 폴리카르보디이미드 화합물을 사용할 수 있다. 폴리카르보디이미드 화합물은, 예를 들어, 방향고리를 갖는 디이소시아네이트 화합물의 탈탄산 반응, 또는, 방향고리를 갖는 디이소시아네이트 화합물과 지방족 또는 지환식 디이소시아네이트 화합물의 탈탄산 반응에 의해 얻어지는 5 개 ~ 15 개의 카르보디이미드 결합을 갖는 중합체의 양 말단 이소시아네이트기를, 폴리올계 화합물 또는 폴리아민으로 밀봉한 논이온성 또는 카티온성의 폴리카르보디이미드 화합물을 사용할 수 있다. 이소시아네이트기를 폴리아민으로 밀봉한 경우에는, 추가로 산 또는 알킬화제를 작용시켜, 폴리아민 유래의 제 2 급 아민 또는 제 3 급 아민 부분을 형성하는 질소 원자의 적어도 일부에, 수소 원자 또는 알킬기를 결합시켜 카티온화하는 것이 바람직하다.Although it does not specifically limit as an organic compound which has a carbodiimide bond, For example, a polycarbodiimide compound can be used. The polycarbodiimide compound is, for example, five to one obtained by decarboxylation reaction of a diisocyanate compound having an aromatic ring or decarboxylation reaction of a diisocyanate compound having an aromatic ring and an aliphatic or alicyclic diisocyanate compound. Nonionic or cationic polycarbodiimide compounds in which both terminal isocyanate groups of a polymer having 15 carbodiimide bonds are sealed with a polyol compound or a polyamine can be used. In the case where the isocyanate group is sealed with a polyamine, an acid or alkylating agent is further acted to form a cation by bonding a hydrogen atom or an alkyl group to at least a part of the nitrogen atom forming the secondary amine or tertiary amine moiety derived from the polyamine. It is desirable to.

탈탄산 반응에 사용하는 방향고리를 갖는 디이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어, 3,3'-디메톡시-4,4'-비페닐렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 1,5-테트라하이드로나프탈렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 (TDI), 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 (MDI), 2,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 (XDI), 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 (TMXDI) 등을 들 수 있다.As a diisocyanate compound which has an aromatic ring used for decarbonation reaction, 3,3'- dimethoxy-4,4'-biphenylene diisocyanate, 1, 5- naphthalene diisocyanate, 1, 5-, for example Tetrahydronaphthalene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate (TDI), 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 2,4'-diphenylmethane diisocyanate, Phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), tetramethyl xylylene diisocyanate (TMXDI), etc. are mentioned.

탈탄산 반응에 사용하는 지방족 또는 지환식 디이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 (HDI), 리신디이소시아네이트에스테르, 수소첨가 자일릴렌디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실디이소시아네이트, 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 (H12MDI), 2,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 (IPDI) 등을 들 수 있다.As an aliphatic or alicyclic diisocyanate compound used for a decarboxylation reaction, it is tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), lysine diisocyanate ester, hydrogenated xylylene diisocyanate, 1, 4- cyclo, for example. sildi hexyl isocyanate, and the like can be mentioned 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate (H 12 MDI), 2,4'- dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate (IPDI).

탈탄산 반응에 의한 폴리카르보디이미드 화합물의 합성 방법은 특별히 한정되지 않고, 폴리카르보디이미드 화합물의 합성에 통상 사용되는 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기한 각종 디이소시아네이트 화합물을, 불활성 유기 용제 중, 카르보디이미드화 촉매의 존재하, 일정한 온도를 가하여 탈탄산시키는 방법을 들 수 있다. 카르보디이미드화 촉매로는, 1-페닐-2-포스포렌-1-옥사이드, 3-메틸-2-포스포렌-1-옥사이드, 1-에틸-2-포스포렌-1-옥사이드, 1-에틸-3-메틸-2-포스포렌-1-옥사이드 또는 3-메틸-1-페닐-2-포스포렌-1-옥사이드, 또는 이들의 3-포스포렌 이성체 등의 포스포렌옥사이드를 사용할 수 있다. 불활성 유기 용제로는, 예를 들어, 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르계 용제, 시클로헥사논, 아세톤 등의 케톤계 용제 또는 헥산, 벤젠 등의 탄화수소계 용제 등을 사용할 수 있다.The synthesis | combining method of the polycarbodiimide compound by a decarboxylation reaction is not specifically limited, The method normally used for the synthesis | combination of a polycarbodiimide compound can be used. For example, the above-mentioned various diisocyanate compounds can be mentioned in the presence of a carbodiimidation catalyst in an inert organic solvent, and a decarbonation is performed by adding a fixed temperature. Examples of the carbodiimidation catalyst include 1-phenyl-2-phosphorene-1-oxide, 3-methyl-2-phosphorene-1-oxide, 1-ethyl-2-phosphorene-1-oxide, and 1-ethyl. Phosphorene oxides such as 3-methyl-2-phosphorene-1-oxide or 3-methyl-1-phenyl-2-phosphorene-1-oxide or 3-phosphorene isomers thereof can be used. As an inert organic solvent, ether solvents, such as tetrahydrofuran and 1, 4- dioxane, ketone solvents, such as cyclohexanone and acetone, or hydrocarbon solvents, such as hexane and benzene, can be used, for example. .

상기한 탈탄산 반응에 의해 얻어지는 폴리카르보디이미드 화합물 1 분자 중의 카르보디이미드 결합의 수는 5 ~ 15 인 것이 바람직하고, 7 ~ 13 인 것이 보다 바람직하다. 카르보디이미드 결합의 수를 5 ~ 15 의 범위로 함으로써, 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막의 밀착성을 보다 높일 수 있고, 수지 필름 등을 기재 금속에 강력하게 밀착시킬 수 있다. 또, 폴리카르보디이미드 화합물의 구조가 유연해지기 때문에, 얻어지는 표면 처리 피막이 유연성을 갖고, 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 수지 필름 등이 보다 박리되기 어려워진다.It is preferable that it is 5-15, and, as for the number of the carbodiimide bond in 1 molecule of polycarbodiimide compounds obtained by said decarbonation reaction, it is more preferable that it is 7-13. By making the number of carbodiimide bonds into the range of 5-15, the adhesiveness of the surface treatment film obtained by processing with an aqueous metal surface treating agent can be improved more, and a resin film etc. can be strongly adhered to a base metal. Moreover, since the structure of a polycarbodiimide compound becomes flexible, even if the surface treatment film obtained has flexibility and strict molding process is performed, a resin film etc. becomes difficult to peel more.

카르보디이미드 결합의 수가 5 미만인 경우에는, 폴리카르보디이미드 화합물의 반응성이 상승하여, 가교가 지나치게 촉진되어 버리기 때문에, 얻어지는 표면 처리 피막이 딱딱하고 무른 표면 처리 피막이 되기 쉽다. 또, 카르보디이미드 결합의 수가 15 를 초과하는 경우에는, 반응성이 지나치게 저하되어 가교가 불충분해질 뿐만 아니라, 수분산성도 저하된다. 가교가 불충분해지면, 얻어지는 표면 처리 피막이 치밀하지 않게 되어, 내약품 밀착 유지성이 저하되어 버린다.When the number of carbodiimide bonds is less than 5, since the reactivity of the polycarbodiimide compound rises and crosslinking is promoted too much, the surface treatment film obtained tends to be a hard and soft surface treatment film. Moreover, when the number of carbodiimide bonds exceeds 15, reactivity will fall too much and a crosslinking will become inadequate, and water dispersibility will also fall. When crosslinking becomes inadequate, the surface treatment film obtained will become dense and chemical-resistance adhesive-resistance will fall.

상기한 탈탄산 반응에 의해 얻어지는 폴리카르보디이미드 화합물의 용액에, 추가로 폴리올계 화합물 또는 폴리아민을 첨가하고 반응시켜 양 말단의 이소시아네이트기를 밀봉한다. 폴리올계 화합물로는, 하기 화학식 (1) 로 나타내는 폴리(알킬렌글리콜) 또는 그 모노알킬에테르를 들 수 있고, 폴리아민으로는, 하기 화학식 (2) 로 나타내는 폴리아민 또는 하기 화학식 (3) 으로 나타내는 폴리(알킬렌디아민)N-알킬 유도체를 들 수 있다. 또한, 화학식 (1) 중, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 4 의 알킬기를 나타내고, R2 는 탄소수 2 ~ 4 의 알킬렌기를 나타내고, n 은 2 ~ 30 의 정수를 나타내고, 화학식 (2) 중, R3 ~ R6 은 탄소수 1 ~ 4 의 알킬기를 나타내고, R7 은 탄소수 2 ~ 4 의 알칸트리일기를 나타내고, 화학식 (3) 중 R8 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 4 의 알킬기를 나타내고, R9 는 탄소수 1 ~ 4 의 알킬기를 나타내고, R10 은 탄소수 2 ~ 4 의 알킬렌기를 나타내고, m 은 2 ~ 30 의 정수를 나타낸다.A polyol compound or a polyamine is further added and reacted with the solution of the polycarbodiimide compound obtained by the above-mentioned decarbonation reaction, and the isocyanate group of both terminals is sealed. As a polyol type compound, the poly (alkylene glycol) represented by following General formula (1) or its monoalkyl ether is mentioned, As a polyamine, the polyamine represented by following General formula (2) or the poly represented by following General formula (3) (Alkylenediamine) N-alkyl derivatives are mentioned. In the formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, n represents an integer of 2 to 30, and formula (2) In the above, R 3 to R 6 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 7 represents an alkantriyl group having 2 to 4 carbon atoms, and R 8 in formula (3) represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , R 9 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 10 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and m represents an integer of 2 to 30.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
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[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
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[화학식 3](3)

Figure pat00003
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화학식 (1) ~ (3) 에 있어서, R1, R3 ~ R6, R8 및 R9 의 정의에 있어서의 탄소수 1 ~ 4 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 메틸기 및 에틸기가 바람직하다. R2 및 R10 으로는, 에틸렌기, 프로필렌기, n-부틸렌기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 에틸렌기 및 프로필렌기가 바람직하다. R7 로는, 에탄트리일기, 프로판트리일기, 부탄트리일기 등을 들 수 있다.In the formulas (1) to (3), examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the definition of R 1 , R 3 to R 6 , R 8, and R 9 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, Butyl group etc. are mentioned, Especially, a methyl group and an ethyl group are preferable. As R <2> and R <10> , an ethylene group, a propylene group, n-butylene group, etc. are mentioned, Especially, an ethylene group and a propylene group are preferable. As R <7> , an ethane triyl group, a propane triyl group, a butane triyl group, etc. are mentioned.

화학식 (1) 로 나타내는 폴리(알킬렌글리콜) 또는 그 모노알킬에테르로는, 구체적으로는, n 이 2 ~ 30 인 폴리(에틸렌글리콜), 그 모노메틸 또는 그 모노에틸에테르나, n 이 2 ~ 30 인 폴리(프로필렌글리콜), 그 모노메틸 또는 그 모노에틸에테르 등을 들 수 있다. 화학식 (2) 로 나타내는 폴리아민으로는, 구체적으로는, 3,3-비스(디메틸아미노)프로필아민, 3,3-비스(디에틸아미노)프로필아민 등을 들 수 있다. 화학식 (3) 으로 나타내는 폴리(알킬렌디아민)N-알킬 유도체로는, 구체적으로는, m 이 2 ~ 30 인 폴리(에틸렌디아민) 의 말단 아미노기의 일방이 모노메틸화 혹은 디메틸화된 것, 또는, 모노에틸화 혹은 디에틸화된 것 등을 들 수 있다.Specifically as poly (alkylene glycol) represented by General formula (1) or its monoalkyl ether, Poly (ethylene glycol) whose n is 2-30, its monomethyl, or its monoethyl ether, n is 2- 30 phosphorus poly (propylene glycol), its monomethyl, or its monoethyl ether, etc. are mentioned. Specific examples of the polyamine represented by the general formula (2) include 3,3-bis (dimethylamino) propylamine, 3,3-bis (diethylamino) propylamine, and the like. Specifically as a poly (alkylenediamine) N-alkyl derivative represented by General formula (3), the terminal amino group of the poly (ethylenediamine) whose m is 2-30 is monomethylated or dimethylated, or, Monoethylated or diethylated, etc. may be mentioned.

폴리카르보디이미드 화합물의 양 말단 이소시아네이트기의 밀봉을, 화학식 (2) 또는 화학식 (3) 의 폴리아민을 사용하여 실시한 경우에는, 폴리카르보디이미드 화합물을 함유하는 반응 용액에, 추가로 산 또는 알킬화제를 첨가하고, 화학식 (2) 또는 화학식 (3) 에서 유래하는 제 2 급 또는 제 3 급 아민 부분을 형성하는 질소 원자의 적어도 일부에, 수소 원자 또는 알킬기를 결합시켜 카티온화한다.When sealing of both terminal isocyanate groups of a polycarbodiimide compound is performed using the polyamine of Formula (2) or Formula (3), an acid or an alkylating agent is further added to the reaction solution containing the polycarbodiimide compound. A hydrogen atom or an alkyl group is bonded and cationized to at least a part of the nitrogen atom which forms the secondary or tertiary amine moiety derived from general formula (2) or general formula (3).

카티온화에 사용하는 산은 무기산이어도 되고 유기산이어도 되며, 예를 들어, 황산, 할로겐화수소산 (염화수소 가스, 염산, 불화수소산 등), 아인산, 인산, 알킬황산 (메틸황산, 에틸황산 등), 포름산, 아세트산 등을 들 수 있다. 카티온화에 사용하는 알킬화제로는, 예를 들어, 디메틸황산, 디에틸황산 등의 디알킬황산, 염화메틸, 염화에틸, 염화프로필, 염화부틸 등의 할로겐화알킬 등을 들 수 있다.The acid used for the cationization may be either an inorganic acid or an organic acid. For example, sulfuric acid, hydrofluoric acid (hydrogen chloride gas, hydrochloric acid, hydrofluoric acid, etc.), phosphorous acid, phosphoric acid, alkylsulfuric acid (methyl sulfate, ethyl sulfuric acid, etc.), formic acid, acetic acid Etc. can be mentioned. As an alkylating agent used for cationization, halogenated alkyls, such as dialkyl sulfuric acid, such as dimethyl sulfuric acid and diethyl sulfuric acid, methyl chloride, ethyl chloride, a propyl chloride, and butyl chloride, etc. are mentioned, for example.

폴리카르보디이미드 화합물은, 통상, 수용액 형태 또는 수분산 형태로 사용된다. 수분산 형태는 에멀션 형태이어도 되고, 콜로이달 디스퍼전 형태이어도 된다. 수용액 형태 또는 수분산 형태로 하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기와 같이 산 또는 알킬화제에 의해 카티온화한 후, 물을 첨가하고, 이어서, 불활성 유기 용제를 증류 등에 의해 제거하여 수용액 형태 또는 수계 에멀션 형태로 하는 방법을 사용할 수 있다. 물에 대한 용해 또는 분산은 자기 용해성 또는 자기 분산성 중 어느 것에 기초하여 달성되어 있어도 되고, 또, 카티온성 계면 활성제 (예를 들어, 테트라알킬암모늄염 등) 및 논이온성 계면 활성제 (예를 들어, 폴리옥시알킬렌알킬페닐에테르 등) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 존재에 의해 달성되어 있어도 된다. 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막의 밀착성 및 내약품 밀착 유지성을 유지하는 관점에서, 계면 활성제는 사용하지 않고, 폴리카르보디이미드 화합물이 갖고 있는 친수성기의 작용에 의해 자기 용해성 또는 자기 분산성으로 하여 물에 용해 또는 분산시키는 것이 바람직하다.The polycarbodiimide compound is usually used in the form of aqueous solution or water dispersion. The aqueous dispersion may be in the form of an emulsion or may be in the form of a colloidal dispersion. The method of making it into an aqueous solution form or a water dispersion form is not specifically limited. For example, after cationic with an acid or an alkylating agent as described above, water is added, and then an inert organic solvent is removed by distillation or the like to form an aqueous solution or an aqueous emulsion. Dissolution or dispersion in water may be achieved based on either self solubility or self dispersibility, and may also be cationic surfactants (eg, tetraalkylammonium salts, etc.) and nonionic surfactants (eg, Polyoxyalkylene alkylphenyl ether, etc.) may be achieved by the 1 type (s) or 2 or more types selected from them. From the viewpoint of maintaining the adhesion of the surface-treated film obtained by treatment with an aqueous metal surface treatment agent and the chemical-resistance-resistance retention property, no surfactant is used, and self-solubility or self-dispersibility is caused by the action of the hydrophilic group of the polycarbodiimide compound. It is preferable to dissolve or disperse in water.

옥사졸린기를 함유하는 유기 화합물로는, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 에멀션 타입 또는 수용성 타입의 옥사졸린기 함유 수지를 사용할 수 있다. 에멀션 타입 및 수용성 타입의 양방을 사용해도 된다. 에멀션 타입이란, 수중에서 수분산체를 형성하는 타입을 말하며, 수용성 타입이란, 수중에서 수용액을 형성하는 타입을 말한다. 이와 같은 옥사졸린기 함유 수지로는, 예를 들어, 부가 중합성 옥사졸린 화합물과 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 중합한 공중합체를 들 수 있다.It does not specifically limit as an organic compound containing an oxazoline group, Conventionally well-known emulsion type or water-soluble type oxazoline group containing resin can be used. You may use both an emulsion type and a water-soluble type. An emulsion type means the type which forms an aqueous dispersion in water, and a water-soluble type means the type which forms an aqueous solution in water. As such oxazoline group containing resin, the copolymer which superposed | polymerized 1 type (s) or 2 or more types chosen from an addition polymeric oxazoline compound and another monomer is mentioned, for example.

부가 중합성 옥사졸린 화합물로는, 구체적으로는, 2-비닐-2-옥사졸린, 2-비닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-비닐-5-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-4-메틸-2-옥사졸린, 2-이소프로페닐-5-에틸-2-옥사졸린을 들 수 있고, 이들의 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 이들 중, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린이 공업적으로도 입수하기 쉬워 바람직하다.Specifically as an addition polymeric oxazoline compound, 2-vinyl-2- oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2- oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2- oxazoline, 2- Isopropenyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-5-ethyl-2-oxazoline, and 1 selected from the group thereof Species or mixtures of two or more thereof may be used. Among these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferable because it is easy to obtain industrially.

부가 중합성 옥사졸린 화합물의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 부가 중합성 옥사졸린 화합물 및 다른 단량체의 혼합물의 총질량에 대하여, 5 질량% 이상인 것이 바람직하다. 5 질량% 미만의 양에서는 상층과의 가교의 정도가 불충분하고, 내약품 밀착 유지성이 부족한 경향이 있다.Although the usage-amount of an addition polymeric oxazoline compound is not specifically limited, It is preferable that it is 5 mass% or more with respect to the gross mass of the mixture of an addition polymeric oxazoline compound and another monomer. When the amount is less than 5% by mass, the degree of crosslinking with the upper layer is insufficient, and there is a tendency that the chemical-resistance adhesion retention is insufficient.

다른 단량체로는, 옥사졸린기와 반응하지 않고, 또한 부가 중합성 옥사졸린 화합물과 공중합 가능한 단량체이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산메톡시폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산2-아미노에틸 및 그들의 염 등의 (메트)아크릴산에스테르류;(메트)아크릴니트릴 등의 불포화 니트릴류;(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-하이드록시에틸)(메트)아크릴아미드 등의 불포화 아미드류;아세트산비닐, 프로피온산비닐 등의 비닐에스테르류;메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르 등의 비닐에테르류;에틸렌, 프로필렌 등의 α-올레핀류;염화비닐, 염화비닐리덴, 불화비닐 등의 함할로겐 α,β-불포화 단량체류;스티렌, α-메틸스티렌, 스티렌술폰산나트륨 등의 α,β-불포화 방향족 단량체류를 들 수 있다. 이들의 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.It will not specifically limit, if it is a monomer which does not react with an oxazoline group and can copolymerize with an addition polymeric oxazoline compound as another monomer, For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-aminoethyl (meth) acrylate, and salts thereof; Unsaturated nitriles such as meth) acrylonitrile; unsaturated amides such as (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide and N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide; vinyl acetate, propionic acid Vinyl esters such as vinyl; vinyl ethers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; α-olefins such as ethylene and propylene; halogen-containing α, β-fire such as vinyl chloride, vinylidene chloride and vinyl fluoride Saturated monomers; α, β-unsaturated aromatic monomers such as styrene, α-methylstyrene and sodium styrene sulfonate. 1 type, or 2 or more types of mixtures chosen from these group can be used.

에멀션 타입의 옥사졸린기 함유 수지의 제조 방법은 부가 중합성 옥사졸린 화합물과 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 종래 공지된 중합법에 의해 중합시키는 방법을 사용할 수 있다. 종래 공지된 중합법 중, 특히 유화 중합법을 바람직하게 사용할 수 있다.As the method for producing an emulsion type oxazoline group-containing resin, a method of polymerizing one or two or more selected from an addition polymerizable oxazoline compound and the other monomers described above can be used by a conventionally known polymerization method. Of the conventionally known polymerization methods, in particular, emulsion polymerization can be preferably used.

유화 중합법으로는, 종래 공지된 중합 개시제, 계면 활성제, 용제 등을 사용하여 이른바 모노머 적정법, 다단 중합법 또는 프레에멀션법 등의 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 부가 중합성 옥사졸린 화합물과 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 혼합물을, 종래 공지된 계면 활성제를 함유하는 수성 용제 중에 교반 조건하에서 분산시키고, 이어서 중합 개시제를 첨가함으로써 중합시킬 수 있다.As an emulsion polymerization method, methods, such as a monomer titration method, a multistage polymerization method, or a preemulsion method, can be used using a conventionally well-known polymerization initiator, surfactant, a solvent, etc. Specifically, a mixture containing an addition polymerizable oxazoline compound and one or two or more kinds selected from the other monomers described above is dispersed in an aqueous solvent containing a conventionally known surfactant under stirring conditions, followed by a polymerization initiator. It can superpose | polymerize by adding.

계면 활성제로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, n-도데실벤젠술폰산나트륨, 라우르산나트륨 등의 아니온계 계면 활성제;폴리에틸렌글리콜의 노닐페놀에테르 등의 논이온계 계면 활성제를 들 수 있다. 중합 개시제로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 과산화수소, 과황산칼륨, 과황산나트륨, 과황산암모늄, 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠하이드로퍼옥사이드 등의 과산화물;2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-(2,4-디메틸발레로니트릴), 아조비스시아노발레르산, 2,2'-아조비스-(2-아미디노프로판)이염산염 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as surfactant, For example, Anionic surfactant, such as n-dodecylbenzenesulfonate sodium and sodium laurate; Nonionic surfactant, such as nonylphenol ether of polyethyleneglycol, is mentioned. . Although it does not specifically limit as a polymerization initiator, For example, hydrogen peroxide, potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t- butyl peroxide, cumenehydride Peroxides such as loperoxide, t-butylhydroperoxide and diisopropylbenzenehydroperoxide; 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile And azo compounds such as azobiscyano valeric acid and 2,2'-azobis- (2-amidinopropane) dihydrochloride.

수성 용제는 물 또는 물과 유기 용제의 혼합물이다. 유기 용제는 물과 혼합 가능한 것이면 특별히 한정되지 않는다. 그러한 유기 용제로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 터셔리부탄올, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜, 아세톤, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있다.The aqueous solvent is water or a mixture of water and an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited as long as it can be mixed with water. Examples of such organic solvents include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, tert-butanol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol, acetone, methyl ethyl ketone, and the like. Can be mentioned.

에멀션 타입의 옥사졸린기 함유 수지의 구조를 코어 쉘형 구조로 하는 경우에는, 코어부가 모노머로서 부가 중합성 옥사졸린 화합물을 함유하지 않고, 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종을 함유하는 아크릴계 에멀션이고, 쉘부가 모노머로서 부가 중합성 옥사졸린 화합물과, 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 옥사졸린기 함유 중합체층인 옥사졸린기 함유 수지로 할 수 있다. 이와 같은 코어 쉘형 구조의 옥사졸린기 함유 수지의 제조 방법은 다단계 피드법 또는 파워 피드법 등의 공지된 방법을 사용할 수 있다.When making the structure of emulsion type oxazoline group containing resin into a core-shell-type structure, the acryl-type which a core part does not contain an addition polymeric oxazoline compound as a monomer, and contains 1 type or 2 types chosen from the other monomers mentioned above. It is an emulsion and it can be set as the oxazoline group containing resin which is an oxazoline group containing polymer layer in which a shell part contains an addition polymerizable oxazoline compound as a monomer and 1 type (s) or 2 or more types chosen from the above-mentioned other monomer. As the method for producing an oxazoline group-containing resin having such a core-shell structure, a known method such as a multistage feed method or a power feed method can be used.

수용성 타입의 옥사졸린기 함유 수지의 제조 방법은 종래 공지된 중합법을 사용할 수 있고, 예를 들어, 부가 중합성 옥사졸린 화합물과 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을, 수성 용제 중에서 용액 중합시키는 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 부가 중합성 옥사졸린 화합물과 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 혼합물을, 수성 용제 중에 교반 조건하에서 분산시키고, 이어서 중합 개시제를 첨가함으로써 중합시킬 수 있다. 중합 개시제 및 수성 용제로는, 특별히 제한은 없고, 상기한 에멀션 타입의 옥사졸린기 함유 수지를 제조하는 경우와 동일한 물질을 사용할 수 있다.As a manufacturing method of the water-soluble oxazoline group containing resin, a conventionally well-known polymerization method can be used, For example, 1 type (s) or 2 or more types chosen from an addition polymerizable oxazoline compound and the other monomer mentioned above are aqueous solvents. Solution polymerization may be used. Specifically, the polymerization is carried out by, for example, dispersing an addition polymerizable oxazoline compound and a mixture containing one or two or more selected from the other monomers described above under stirring conditions in an aqueous solvent and then adding a polymerization initiator. You can. There is no restriction | limiting in particular as a polymerization initiator and an aqueous solvent, The substance similar to the case of manufacturing the above-mentioned emulsion type oxazoline group containing resin can be used.

「수용성」으로 하기 위해서, 상기한 다른 단량체에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상이 친수성의 단량체를 함유하는 것이 바람직하다. 친수성의 단량체로는, 예를 들어, 상기한 다른 단량체 중, (메트)아크릴산2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산메톡시폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산2-아미노에틸 및 그 염, (메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-하이드록시에틸)(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로니트릴, 스티렌술폰산나트륨 등을 들 수 있다.In order to make it "water-soluble", it is preferable that 1 type (s) or 2 or more types chosen from said other monomer contain a hydrophilic monomer. As a hydrophilic monomer, For example, (meth) acrylic-acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic-acid methoxy polyethyleneglycol, (meth) acrylic-acid 2-aminoethyl, its salt, (meth) Acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, sodium styrene sulfonate, etc. are mentioned.

수용성의 옥사졸린기 함유 수지에 함유되는 친수성 단량체의 비율은, 부가 중합성 옥사졸린 화합물 및 다른 단량체의 혼합물의 총질량에 대하여, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 70 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 친수성 단량체를 50 질량% 함유함으로써, 옥사졸린기 함유 수지를 용이하게 수용성으로 할 수 있다.It is preferable that it is 50 mass% or more with respect to the gross mass of the mixture of an addition polymeric oxazoline compound and another monomer, and, as for the ratio of the hydrophilic monomer contained in water-soluble oxazoline group containing resin, it is more preferable that it is 70 mass% or more. By containing 50 mass% of hydrophilic monomers, oxazoline group containing resin can be made water-soluble easily.

글리시딜에테르기를 갖는 유기 화합물로는, 특별히 한정되지 않지만, 종래 공지된 다가 글리시딜에테르 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세롤디글리시딜에테르, 글리세롤트리글리시딜에테르, 디글리세롤디글리시딜에테르, 폴리글리세롤트리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨테트라글리시딜에테르, 트리메틸올프로판디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as an organic compound which has a glycidyl ether group, A conventionally well-known polyhydric glycidyl ether compound can be used. Specifically, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether Diglycerol diglycidyl ether, polyglycerol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, trimethylol propane diglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, and the like. Can be mentioned.

이소시아네이트기를 갖는 유기 화합물로는, 예를 들어, 톨릴렌디이소시아네이트의 이성체류;4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류;자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향 지방족 디이소시아네이트류;이소포론디이소시아네이트, 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 등의 지환식 디이소시아네이트;헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트류 등을 들 수 있다. 이들 이소시아네이트기를 갖는 유기 화합물은 특별히 한정되지 않지만, 수계 금속 표면 처리제의 안정성의 면에서, 각종 블록제로 블록화한 이소시아네이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 블록제로는, 예를 들어, 페놀계, 알코올계, 옥심계, 활성 메틸렌계, 산아미드계, 카르밤산염계, 아황산염계 등의 각종 블록제를 들 수 있다.Examples of the organic compound having an isocyanate group include isomers of tolylene diisocyanate; aromatic diisocyanates such as 4,4'-diphenylmethane diisocyanate; aromatic aliphatic diisocyanates such as xylylene diisocyanate; isophorone Alicyclic diisocyanates such as diisocyanate and 4,4'-dicyclohexyl methane diisocyanate; aliphatic diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate and 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate. Although the organic compound which has these isocyanate groups is not specifically limited, It is preferable to use the isocyanate compound blocked by various blocking agents from the viewpoint of the stability of an aqueous metal surface treating agent. As a blocking agent, various blocking agents, such as a phenol type, alcohol type, an oxime type, an active methylene type, an acid amide type, a carbamate type, a sulfite type, are mentioned, for example.

메틸올기를 갖는 유기 화합물로는, 예를 들어, 레조르형 페놀 수지, 메틸올멜라민 및 N-메틸올아크릴아미드 모노머에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 구성 단위로 하는 단독 또는 공중합체를 들 수 있다.As an organic compound which has a methylol group, the sole or copolymer which makes 1 type, or 2 or more types chosen from a resor type | mold phenol resin, methylol melamine, and N-methylol acrylamide monomer as a structural unit is mentioned, for example. have.

(가교성 무기 화합물 (B2))(Crosslinkable inorganic compound (B2))

가교성 무기 화합물 (B2) 는 유기 화합물 (A) 가 갖는 관능기인 카르복실기 및/또는 수산기와 반응할 수 있는 원소를 함유하는 화합물이다. 「반응할 수 있는」이란, 카르복실기 및 수산기의 양방 또는 어느 일방에 접촉하여 그것들에 반응할 수 있다는 의미이다. 「함유하는」이란, 이들 원소 이외에 다른 원소를 갖고 있어도 되는 것을 의미하고 있다.A crosslinkable inorganic compound (B2) is a compound containing an element which can react with the carboxyl group and / or the hydroxyl group which is a functional group which the organic compound (A) has. "Reactable" means that both or either of the carboxyl group and the hydroxyl group can be contacted and react with them. "Contains" means that you may have other elements besides these elements.

가교성 무기 화합물 (B2) 로는, 유기 화합물 (A) 가 갖는 카르복실기 및/또는 수산기와 반응할 수 있는 원소를 함유하는 종래 공지된 무기 물질을 사용할 수 있다. 예를 들어, Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr(Ⅲ), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd 및 La 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 원소를 함유하는 무기 화합물을 사용할 수 있다. 그 중에서도, Mg, Al, Ca, Mn, Cr(Ⅲ), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Ce, Te 및 Hf 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 원소를 함유하는 무기 화합물이 보다 바람직하고, Cr(Ⅲ), Zr, Ti, Si, Ce 및 Te 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 원소를 함유하는 무기 화합물이 더욱 바람직하다.As a crosslinkable inorganic compound (B2), the conventionally well-known inorganic substance containing the element which can react with the carboxyl group and / or the hydroxyl group which the organic compound (A) has can be used. For example, Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr (III), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In An inorganic compound containing one or two or more elements selected from, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd, and La can be used. Among them, inorganic compounds containing one or two or more elements selected from Mg, Al, Ca, Mn, Cr (III), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Ce, Te and Hf are more preferable. More preferred is an inorganic compound containing one or two or more elements selected from Cr (III), Zr, Ti, Si, Ce and Te.

구체적으로는, Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr(Ⅲ), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd 및 La 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 원소를 함유하는 염, 착화합물 또는 금속 수화 산화물 (이하, 「염 등」이라고도 한다) 을 들 수 있다.Specifically, Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr (III), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In Salts, complex compounds or metal hydride oxides (hereinafter also referred to as "salts") containing one or more elements selected from Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd and La; Can be.

보다 구체적으로는, 비스(아세틸아세토나토)디아쿠아마그네슘(Ⅱ), 알루민산마그네슘, 벤조산마그네슘, 포름산마그네슘, 옥살산마그네슘, 텅스텐산마그네슘, 메타니오브산마그네슘, 붕산마그네슘, 몰리브덴산마그네슘, 요오드화마그네슘, 이인산마그네슘, 질산마그네슘, 황산마그네슘, 탄산마그네슘, 수산화마그네슘, 불화마그네슘, 인산암모늄마그네슘, 인산수소마그네슘, 산화마그네슘 등의 마그네슘염 등;More specifically, bis (acetylacetonato) diaqua magnesium (II), magnesium aluminate, magnesium benzoate, magnesium formate, magnesium oxalate, magnesium tungstate, magnesium borate, magnesium molybdate, magnesium iodide, and iodide Magnesium salts such as magnesium diphosphate, magnesium nitrate, magnesium sulfate, magnesium carbonate, magnesium hydroxide, magnesium fluoride, magnesium ammonium phosphate, magnesium hydrogen phosphate and magnesium oxide;

질산알루미늄, 황산알루미늄, 황산칼륨알루미늄, 황산나트륨알루미늄, 황산암모늄알루미늄, 인산알루미늄, 탄산알루미늄, 산화알루미늄, 수산화알루미늄, 불화알루미늄, 요오드화알루미늄, 아세트산알루미늄, 벤조산알루미늄, 시트르산알루미늄, 글루콘산알루미늄, 셀렌산알루미늄, 옥살산알루미늄, 타르타르산알루미늄, 락트산알루미늄, 팔미트산알루미늄 등의 알루미늄염 등;Aluminum nitrate, aluminum sulfate, potassium aluminum sulfate, sodium aluminum sulfate, aluminum ammonium sulfate, aluminum phosphate, aluminum carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, aluminum fluoride, aluminum iodide, aluminum acetate, aluminum benzoate, aluminum citrate, aluminum gluconate, selenic acid Aluminum salts such as aluminum, aluminum oxalate, aluminum tartarate, aluminum lactate and aluminum palmitate;

비스(아세틸아세토나토)디아쿠아칼슘(Ⅱ), 벤조산칼슘, 시트르산칼슘, 메타주석산칼슘, 셀렌산칼슘, 텅스텐산칼슘, 탄산칼슘, 사붕산칼슘, 몰리브덴산칼슘, 말레산칼슘, 말산칼슘, 이인산칼슘, 불화칼슘, 포스핀산칼슘, 질산칼슘, 수산화칼슘, 산화칼슘, 옥살산칼슘, 산화칼슘, 아세트산칼슘 등의 칼슘염 등;Bis (acetylacetonato) diaqua calcium (II), calcium benzoate, calcium citrate, calcium metatartrate, calcium selenate, calcium tungstate, calcium carbonate, calcium tetraborate, calcium molybdate, calcium maleate, calcium malate Calcium salts such as calcium phosphate, calcium fluoride, calcium phosphate, calcium nitrate, calcium hydroxide, calcium oxide, calcium oxalate, calcium oxide and calcium acetate;

비스(아세틸아세토나토)디아쿠아망간(Ⅱ), 사산화삼망간, 산화망간(Ⅱ), 산화망간(Ⅲ), 산화망간(Ⅳ), 브롬화망간(Ⅱ), 옥살산망간(Ⅱ), 과망간산(Ⅶ), 과망간산칼륨(Ⅶ), 과망간산나트륨(Ⅶ), 인산이수소망간(Ⅱ), 질산망간(Ⅱ), 황산망간(Ⅱ), 황산망간(Ⅲ), 황산망간(Ⅳ), 불화망간(Ⅱ), 불화망간(Ⅲ), 탄산망간(Ⅱ), 아세트산망간(Ⅱ), 아세트산망간(Ⅲ), 황산암모늄망간(Ⅱ), 요오드화망간(Ⅱ), 수산화망간(Ⅱ) 등의 망간염 등 또는 망간산염 등;Bis (acetylacetonato) diaquamanganese (II), trimanganese tetraoxide, manganese oxide (II), manganese oxide (III), manganese oxide (IV), manganese bromide (II), manganese oxalate (II), permanganic acid (Ⅶ) , Potassium permanganate (Ⅶ), sodium permanganate (Ⅶ), manganese dihydrogen phosphate (II), manganese nitrate (II), manganese sulfate (II), manganese sulfate (III), manganese sulfate (IV), manganese fluoride (II) Manganese salts such as manganese fluoride (III), manganese carbonate (II), manganese acetate (II), manganese acetate (III), ammonium manganese sulfate (II), manganese iodide (II), and manganese hydroxide (II); Acid salts;

비스(아세틸아세토나토)디아쿠아코발트(Ⅱ), 트리스(아세틸아세토나토)코발트(Ⅲ), 술팜산코발트(Ⅱ), 염화코발트(Ⅱ), 클로로펜타암민코발트염화물(Ⅲ), 헥사암민코발트염화물(Ⅲ), 디암민테트라니트로코발트(Ⅲ)산암모늄, 황산코발트(Ⅱ), 황산암모늄코발트, 질산코발트(Ⅱ), 산화코발트이알루미늄, 수산화코발트(Ⅱ), 산화코발트(Ⅱ), 인산코발트, 아세트산코발트(Ⅱ), 포름산코발트(Ⅱ), 사산화삼코발트, 브롬화코발트(Ⅱ), 옥살산코발트(Ⅱ), 셀렌산코발트(Ⅱ), 텅스텐산코발트(Ⅱ), 하이드록시탄산제일코발트(Ⅱ), 몰리브덴산코발트(Ⅱ), 요오드화코발트(Ⅱ), 인산코발트(Ⅱ) 등의 코발트염 등;Bis (acetylacetonato) diaquacobalt (II), tris (acetylacetonato) cobalt (III), sulfamate cobalt (II), cobalt chloride (II), chloropentamincobalt chloride (III), hexaammine cobalt chloride (III), diammine tetranitrocobalt (III) ammonium, cobalt sulfate (II), ammonium cobalt sulfate, cobalt nitrate (II), cobalt dialuminum oxide, cobalt (II), cobalt oxide (II), cobalt phosphate, Cobalt acetate (II), cobalt formate (II), tricobalt tetraoxide, cobalt bromide (II), cobalt oxalate (II), cobalt selenate (II), cobalt tungstate (II), hydroxycobalt carbonate (II), Cobalt salts such as cobalt molybdate (II), cobalt iodide (II), and cobalt phosphate (II);

이술팜산니켈(Ⅱ), 벤조산니켈(Ⅱ), 질산니켈(Ⅱ), 황산니켈(Ⅱ), 탄산니켈(Ⅱ), 니켈아세틸아세토네이트(Ⅱ), 염화니켈(Ⅱ), 헥사암민니켈염화물, 산화니켈, 수산화니켈(Ⅱ), 산화니켈(Ⅱ), 아세트산니켈, 시트르산니켈(Ⅱ), 숙신산니켈(Ⅱ), 브롬화니켈(Ⅱ), 옥살산니켈(Ⅱ), 타르타르산니켈(Ⅱ), 셀렌산니켈(Ⅱ), 하이드록시탄산니켈(Ⅱ), 락트산니켈(Ⅱ), 몰리브덴산니켈(Ⅱ), 요오드화니켈(Ⅱ), 이인산니켈(Ⅱ) 등의 니켈염 등;Nickel sulfamate (II), nickel benzoate (II), nickel nitrate (II), nickel sulfate (II), nickel carbonate (II), nickel acetylacetonate (II), nickel chloride (II), hexaammine nickel chloride, Nickel oxide, nickel hydroxide (II), nickel oxide (II), nickel acetate, nickel citrate (II), nickel succinate (II), nickel bromide (II), nickel oxalate (II), nickel tartarate (II), selenic acid Nickel salts such as nickel (II), nickel hydroxy carbonate (II), nickel lactate (II), nickel molybdate (II), nickel iodide (II) and nickel diphosphate (II);

포름산크롬(Ⅲ), 불화크롬(Ⅲ), 질산크롬(Ⅲ), 황산크롬(Ⅲ), 옥살산크롬(Ⅲ), 아세트산크롬(Ⅲ), 중인산크롬(Ⅲ), 수산화크롬(Ⅲ), 산화크롬(Ⅲ), 브롬화크롬(Ⅲ), 요오드화크롬(Ⅲ) 등의 크롬염 등;Chromium formate (III), chromium fluoride (III), chromium nitrate (III), chromium sulfate (III), chromium oxalate (III), chromium acetate (III), chromium acetate (III), chromium hydroxide (III), oxidation Chromium salts such as chromium (III), chromium bromide (III), and chromium iodide (III);

비스(아세틸아세토나토)아연(Ⅱ), 벤조산아연(Ⅱ), 하이드록시염화아연(Ⅱ), 포름산아연(Ⅱ), 시트르산아연(Ⅱ), 브롬화아연(Ⅱ), 옥살산아연(Ⅱ), 타르타르산아연(Ⅱ), 메타주석산아연(Ⅱ), 셀렌산아연(Ⅱ), 텅스텐산아연(Ⅱ), 불화아연(Ⅱ), 몰리브덴산아연(Ⅱ), 부티르산아연(Ⅱ), 이인산아연(Ⅱ), 황산아연(Ⅱ), 탄산아연(Ⅱ), 염화아연(Ⅱ), 요오드화아연(Ⅱ), 수산화아연(Ⅱ), 산화아연(Ⅱ) 등의 아연염 등;Bis (acetylacetonato) zinc (II), zinc benzoate (II), hydroxy zinc chloride (II), zinc formate (II), zinc citrate (II), zinc bromide (II), zinc oxalate (II), tartaric acid Zinc (II), Meta metatartrate (II), Zinc selenite (II), Zinc tungsten (II), Zinc fluoride (II), Zinc molybdate (II), Zinc butyrate (II), Zinc diphosphate (II) Zinc salts such as zinc sulfate (II), zinc carbonate (II), zinc chloride (II), zinc iodide (II), zinc hydroxide (II) and zinc (II);

비스(아세틸아세토나토)디아쿠아철(Ⅱ), 트리스(아세틸아세토나토)철(Ⅲ), 삼옥살산철삼칼륨, 포름산철(Ⅱ), 사바나딘산철(Ⅲ), 브롬화철(Ⅲ), 타르타르산철(Ⅲ), 락트산철(Ⅱ), 불화철(Ⅱ), 불화철(Ⅲ), 염화철(Ⅱ), 염화철(Ⅲ), 요오드화철(Ⅱ), 요오드화철(Ⅲ), 황산철(Ⅱ), 황산철(Ⅲ), 질산철(Ⅱ), 질산철(Ⅲ), 아세트산철(Ⅱ), 아세트산철(Ⅲ), 시트르산철(Ⅱ), 시트르산철(Ⅲ), 글리신철(Ⅱ), 글리신철(Ⅲ), 옥살산철(Ⅱ), 옥살산철(Ⅲ), 피콜린산철(Ⅱ), 피콜린산철(Ⅲ), L-페닐알라닌철(Ⅱ), L-페닐알라닌철(Ⅲ), 말론산철(Ⅱ), 말론산철(Ⅲ), 수산화철(Ⅱ), 수산화철(Ⅲ), 산화철(Ⅱ), 산화철(Ⅲ), 사산화삼철 등의 철염 등;Bis (acetylacetonato) diaqua iron (II), tris (acetylacetonato) iron (III), tripotassium iron trioxalate, iron formate (II), iron savanadiate (III), iron bromide (III), iron tartarate (III), iron (l), iron fluoride (II), iron fluoride (III), iron chloride (II), iron chloride (III), iron iodide (II), iron iodide (III), iron sulfate (II), Iron (III) sulfate, iron nitrate (II), iron nitrate (III), iron acetate (II), iron acetate (III), iron citrate (II), iron citrate (III), glycine iron (II), glycine iron (III), iron oxalate (II), iron oxalate (III), iron picolate (II), iron picolate (III), L-phenylalanine iron (II), L-phenylalanine iron (III), iron malonate ( Iron salts such as II), iron malonate (III), iron hydroxide (II), iron hydroxide (III), iron oxide (II), iron oxide (III), and triiron tetraoxide;

비스(아세틸아세토나토)디아쿠아스트론튬(Ⅱ), 포름산스트론튬(Ⅱ), 시트르산스트론튬(Ⅱ), 텅스텐산스트론튬, 메타주석산스트론튬, 산화스트론튬(Ⅳ), 산화스트론튬(Ⅱ), 옥살산스트론튬, 메타니오브산스트론튬, 몰리브덴산스트론튬, 요오드화스트론튬, 질산스트론튬, 황산스트론튬, 탄산스트론튬, 아세트산스트론튬, 염화스트론튬, 인산스트론튬, 락트산스트론튬 등의 스트론튬염 등;Bis (acetylacetonato) diaquastrontium (II), strontium formate (II), strontium citrate (II), strontium tungstate, strontium metastannate, strontium oxide (IV), strontium oxide (II), strontium oxalate, metaniob Strontium salts such as strontium oxide, strontium molybdate, strontium iodide, strontium nitrate, strontium sulfate, strontium carbonate, strontium acetate, strontium chloride, strontium phosphate, and strontium lactate;

옥시이옥살산티탄이암모늄, 옥시이옥살산티탄이칼륨, 산화티탄(Ⅱ), 산화티탄(Ⅲ), 산화티탄(Ⅳ), 옥시황산제이티탄, 염기성 인산티탄, 브롬화티탄(Ⅳ), 메타티탄산, 메타티탄산아연(Ⅱ), 티탄산알루미늄(Ⅲ), 메타티탄산칼륨, 메타티탄삼코발트(Ⅱ), 티탄산지르코늄, 메타티탄산스트론튬, 메타티탄삼철(Ⅲ), 메타티탄산구리(Ⅱ), 티탄산나트륨, 이티탄산네오디뮴(Ⅲ), 메타티탄산바륨, 메타티탄산비스무트(Ⅲ), 메타티탄산마그네슘, 티탄산마그네슘, 메타티탄산망간(Ⅱ), 이티탄산란탄(Ⅲ), 메타티탄산리튬, 헥사플루오로티탄(Ⅳ)산암모늄, 헥사플루오로티탄(Ⅳ)산칼륨, 요오드화티탄(Ⅳ), 황산티탄(Ⅲ), 황산티탄(Ⅳ), 염화티탄, 질산티탄, 황산티타닐, 불화티탄(Ⅲ), 불화티탄(Ⅳ), 헥사플루오로티탄산, 락트산티탄, 퍼옥소티탄산, 티탄라우레이트, 티타늄아세틸아세토네이트, 수산화티탄(Ⅳ) 등의 티탄염 등 또는 티탄산염 등;Titanium dioxyammonium oxalate, dipotassium titanium oxyoxalate, titanium (II) oxide, titanium (III) oxide, titanium oxide (IV), titanium oxysulfate, basic titanium phosphate, titanium bromide (IV), metatitanic acid, metatitanic acid Zinc (II), aluminum titanate (III), potassium meta titanate, metatitanium tricobalt (II), zirconium titanate, strontium titanate, triiron titanate (III), copper meta titanate (II), sodium titanate, neodymium titanate (III), barium meta titanate, bismuth meta titanate (III), magnesium metatitanate, magnesium titanate, manganese titanate (II), lanthanum titanate (III), lithium titanate, ammonium hexafluorotitanium (IV), Potassium hexafluorotitanium (IV), titanium iodide (IV), titanium sulfate (III), titanium sulfate (IV), titanium chloride, titanium nitrate, titanium sulfate, titanium fluoride (III), titanium fluoride (IV), Hexafluorotitanic acid, titanium lactic acid, peroxotitanic acid, titanium laurate, titanium Titanium salts such as cetyl acetonate, titanium hydroxide (IV) and the like or titanates;

테트라키스(아세틸아세토나토)지르코늄(Ⅳ), 염화산화지르코늄(Ⅳ), 염화지르코늄(Ⅳ), 규산지르코늄, 아세트산산화지르코늄(Ⅳ), 산화지르코늄(Ⅳ), 질산산화지르코늄(Ⅳ), 메타지르코늄산세슘, 메타지르코늄산리튬, 메타지르코늄산아연(Ⅱ), 메타지르코늄산알루미늄(Ⅲ), 메타지르코늄산칼슘, 메타지르코늄산코발트(Ⅱ), 메타지르코늄산스트론튬, 메타지르코늄산구리(Ⅱ), 메타지르코늄산나트륨, 메타지르코늄산니켈(Ⅱ), 메타지르코늄산바륨, 메타지르코늄산비스무트(Ⅲ), 메타지르코늄산마그네슘, 옥시탄산지르코늄, 헥사플루오로지르코늄(Ⅳ)산암모늄, 헥사플루오로지르코늄(Ⅳ)산칼륨, 요오드화지르코늄, 인산이수소산화지르코늄(Ⅳ), 염기성 탄산지르코늄, 탄산지르코늄암모늄, 탄산지르코닐암모늄, 질산지르코늄, 질산지르코닐, 황산지르코늄(Ⅳ), 황산지르코닐, 헥사플루오로지르코늄산, 옥시인산지르코늄, 피롤린산지르코늄, 인산이수소지르코닐, 옥시염화지르코늄, 불화지르코늄, 아세트산지르코닐, 산화지르코늄, 수산화지르코늄 등의 지르코늄염 등;Tetrakis (acetylacetonato) zirconium (IV), zirconium chloride (IV), zirconium chloride (IV), zirconium silicate, zirconium acetate (IV), zirconium oxide (IV), zirconium oxide (IV), metazirconium Cesium Oxide, Lithium Metazirconate, Zinc Metazirconate (II), Aluminum Metazirconate (III), Calcium Zirconate, Cobalt (II) Metabolite, Strontium Metazirconate, Copper Zirconate (II), Sodium metazirconate, nickel metazirconate (II), barium metazirconate, bismuth metazirconate (III), magnesium metazirconate, zirconium oxycarbonate, ammonium hexafluorozirconium (IV), hexafluorozirconium ( (IV) Potassium acid, zirconium iodide, zirconium dihydrogen phosphate (IV), basic zirconium carbonate, ammonium zirconium carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconium nitrate, zirconyl nitrate, zirconium sulfate ( IV), zirconium salts such as zirconyl sulfate, hexafluorozirconium acid, zirconium oxyphosphate, zirconium pyrophosphate, zirconium dihydrogen zirconate, zirconium oxychloride, zirconium oxychloride, zirconyl acetate, zirconium oxide, zirconium hydroxide and the like;

헥사플루오로규산, 실리카 등의 규산염 등;Silicates such as hexafluorosilicic acid and silica;

염화텅스텐(Ⅵ), 산화텅스텐산철(Ⅲ), 염화텅스텐(Ⅵ), 옥시이염화텅스텐, 이산화텅스텐, 삼산화텅스텐, 메타텅스텐산, 메타텅스텐산암모늄, 메타텅스텐산나트륨, 파라텅스텐산, 파라텅스텐산암모늄, 파라텅스텐산나트륨, 텅스텐산아연(Ⅱ), 텅스텐산칼륨, 텅스텐산칼슘, 텅스텐산코발트(Ⅱ), 텅스텐산스트론튬, 텅스텐산세슘, 텅스텐산구리(Ⅱ), 텅스텐산니켈, 텅스텐산바륨, 텅스텐산마그네슘, 텅스텐산망간(Ⅱ), 텅스텐산리튬, 인텅스텐산, 인텅스텐산암모늄, 인텅스텐산나트륨 등의 텅스텐염 등 또는 텅스텐산염 등;Tungsten chloride (VI), iron tungsten oxide (III), tungsten chloride (VI), tungsten oxychloride, tungsten dioxide, tungsten trioxide, metatungstic acid, ammonium metatungstate, sodium metatungstate, paratungstic acid, paratungstic acid Ammonium, sodium paratungstate, zinc tungstate (II), potassium tungstate, calcium tungstate, cobalt tungstate (II), strontium tungsten, cesium tungstate, copper tungstate (II), nickel tungstate, tungstic acid Tungsten salts such as barium, magnesium tungstate, manganese tungstate (II), lithium tungstate, phosphotungstic acid, ammonium phosphate tungsten and sodium phosphotungate;

트리스(아세틸아세토나토)세륨(Ⅲ), 염화세륨(Ⅲ), 산화세륨(Ⅲ), 산화세륨(Ⅳ), 브롬화세륨(Ⅲ), 옥살산세륨(Ⅲ), 수산화세륨(Ⅳ), 황산제이세륨암모늄(Ⅳ), 황산제일세륨암모늄(Ⅲ), 탄산세륨(Ⅲ), 황산세륨, 아세트산세륨(Ⅲ), 질산세륨(Ⅲ), 황산세륨(Ⅳ), 불화세륨(Ⅲ), 요오드화세륨(Ⅲ), 인산세륨(Ⅲ) 등의 세륨염 등;Tris (acetylacetonato) cerium (III), cerium chloride (III), cerium oxide (III), cerium oxide (IV), cerium bromide (III), cerium oxalate (III), cerium hydroxide (IV), cesium sulfate Ammonium (IV), cerium sulfate ammonium (III), cerium carbonate (III), cerium sulfate, cerium acetate (III), cerium nitrate (III), cerium sulfate (IV), cerium fluoride (III), cerium iodide (III) ), Cerium salts, such as cerium (III) phosphate;

염화몰리브덴(Ⅴ), 산화몰리브덴(Ⅳ), 산화몰리브덴(Ⅵ), 몰리브덴산아연(Ⅱ), 몰리브덴산칼륨, 몰리브덴산칼슘, 몰리브덴산코발트(Ⅱ), 몰리브덴산세슘, 몰리브덴산니켈(Ⅱ), 몰리브덴산바륨, 몰리브덴산비스무트(Ⅲ), 몰리브덴산마그네슘, 몰리브덴산리튬, 파라몰리브덴산리튬, 몰리브덴산스트론튬, 인몰리브덴산, 인몰리브덴산암모늄, 인몰리브덴산나트륨, 몰리브덴산, 몰리브덴산암모늄, 파라몰리브덴산암모늄, 몰리브덴산나트륨 등의 몰리브덴염 등 또는 몰리브덴산염 등;Molybdenum chloride (V), molybdenum oxide (IV), molybdenum oxide (VI), zinc molybdate (II), potassium molybdate, calcium molybdate, cobalt molybdate (II), cesium molybdate, nickel molybdate (II) , Barium molybdate, bismuth molybdate (III), magnesium molybdate, lithium molybdate, lithium paramolybdate, strontium molybdate, phosphomolybdate, ammonium phosphate, sodium phosphate, ammonium molybdate, ammonium molybdate, Molybdenum salts such as ammonium paramolybdate and sodium molybdate or the like;

옥시이염화바나듐, 옥시삼염화바나듐, 삼염화바나듐, 산화바나듐, 사바나딘산철(Ⅲ), 브롬화바나듐(Ⅲ), 옥시옥살산바나듐, 요오드화바나듐(Ⅱ), 오산화바나듐, 메타바나딘산, 피로바나딘산나트륨, 바나딘산나트륨, 메타바나딘산암모늄, 메타바나딘산나트륨, 메타바나딘산칼륨, 옥시삼염화바나듐, 삼산화바나듐, 이산화바나듐, 옥시황산바나듐, 바나듐옥시아세틸아세테이트, 바나듐아세틸아세테이트, 인바나드몰리브덴산 등의 바나듐염 등 또는 바나딘산염 등;Vanadium oxydichloride, vanadium oxytrichloride, vanadium trichloride, vanadium oxide, iron vanadate (III), vanadium bromide (III), vanadium oxyoxalate, vanadium iodide (II), vanadium pentoxide, metavanadine, sodium pyrovanadate Sodium vanadate, ammonium metavanadate, sodium metavanadate, potassium metavanadate, vanadium oxytrichloride, vanadium trioxide, vanadium dioxide, vanadium oxysulfate, vanadium oxyacetylacetate, vanadium acetylacetate, invanad molybdenum Vanadium salts such as acids or vanadate salts;

염화주석(Ⅱ), 아세트산주석(Ⅱ), 옥살산주석(Ⅱ), 타르타르산주석(Ⅱ), 산화주석(Ⅳ), 질산주석, 황산주석, 불화주석(Ⅱ), 요오드화주석(Ⅱ), 요오드화주석(Ⅳ), 피롤린산주석(Ⅱ), 메타주석산, 메타주석산아연, 메타주석산칼슘, 메타주석산스트론튬, 메타주석산바륨, 메타주석산마그네슘 등의 주석염 또는 주석산염 등;Tin chloride (II), tin acetate (II), tin oxalate (II), tin tartarate (II), tin oxide (IV), tin nitrate, tin sulfate, tin fluoride (II), tin iodide (II), tin iodide (IV), tin salts or tartarate salts such as tin pyrolate (II), meta-tartrate, zinc meta-tartrate, calcium meta-stannate, strontium meta-stannate, barium meta-stannate, and magnesium meta-stannate;

벤조산비스무트(Ⅲ), 염화산화비스무트(Ⅲ), 시트르산비스무트(Ⅲ), 옥시아세트산비스무트(Ⅲ), 산화타르타르산비스무트(Ⅲ), 산화비스무트(Ⅲ), 옥시황산이비스무트, 브롬화비스무트(Ⅲ), 타르타르산비스무트(Ⅲ), 수산화비스무트(Ⅲ), 옥시탄산이비스무트, 지르코늄산비스무트(Ⅲ), 옥시질산비스무트, 사티탄산비스무트(Ⅲ), 삼티탄산비스무트(Ⅲ), 불화비스무트(Ⅲ), 몰리브덴산비스무트(Ⅲ), 요오드화비스무트(Ⅲ), 질산비스무트(Ⅲ), 염화비스무트(Ⅲ), 황산비스무트(Ⅲ), 아세트산비스무트(Ⅲ), 인산비스무트(Ⅲ) 등의 비스무트염 등;Bismuth benzoate (III), bismuth chloride (III), bismuth citrate (III), bismuth oxyacetate (III), bismuth oxide tartrate (III), bismuth oxide (III), bismuth oxysulfate, bismuth bromide (III), Bismuth tartarate (III), bismuth hydroxide (III), bismuth oxycarbonate, bismuth zirconate (III), bismuth oxynitrate, bismuth titanate (III), bismuth tricarbonate (III), bismuth fluoride (III), molybdate Bismuth salts such as bismuth (III), bismuth iodide (III), bismuth nitrate (III), bismuth chloride (III), bismuth sulfate (III), bismuth acetate (III) and bismuth phosphate (III);

염화탄탈(Ⅴ), 산화탄탈(Ⅴ), 브롬화탄탈(Ⅴ), 탄탈산, 육탄탈산칼륨, 메타탄탈산스트론튬, 메타탄탈산나트륨, 메타탄탈산리튬, 요오드화탄탈(Ⅴ), 탄탈옥시아세틸아세토네이트, 메타탄탈산, 메타탄탈산암모늄, 헵타플루오로탄탈산칼륨 등의 탄탈염 등 또는 탄탈산염 등;Tantalum chloride (V), tantalum oxide (V), tantalum bromide (V), tantalic acid, potassium tantalate, strontium metatantalate, sodium metatantalate, lithium metatantalate, tantalum iodide (V), tantalum oxyacetylaceto Tantalum salts such as nate, metatantalic acid, ammonium metatantalate, potassium heptafluorotantalate, or the like;

텔루르산, 메타텔루르산암모늄, 메타텔루르산칼륨, 메타텔루르산나트륨, 요오드화텔루르(Ⅳ), 텔루르산칼륨, 텔루르산나트륨, 아텔루르산, 아텔루르산칼륨, 아텔루르산나트륨, 아텔루르산바륨, 아텔루르산리튬, 염화텔루르(Ⅳ), 산화텔루르(Ⅳ), 브롬화텔루르(Ⅳ), 수산화질산삼산화이텔루르, 아텔루르산아연 등의 텔루르염 등 또는 텔루르산염 등;Telluric acid, ammonium metatellurate, potassium metatellurate, sodium metatellurate, tellurium iodide (IV), potassium tellurate, sodium tellurate, at telluric acid, potassium atluate, sodium atluate, barium tellurate Tellurium salts, such as lithium atherosulfate, tellurium chloride (IV), tellurium oxide (IV), tellurium bromide (IV), nitrate trinitrate, zinc atelurate, and tellurium salts;

트리스(아세틸아세토나토)인듐(Ⅲ), 아미드황산인듐(Ⅲ), 이염화인듐, 염화인듐(Ⅰ), 염화인듐(Ⅲ), 아세트산인듐(Ⅲ), 브롬화인듐(Ⅲ), 요오드화인듐(Ⅲ), 질산인듐(Ⅲ), 황산인듐(Ⅲ), 불화인듐(Ⅲ), 산화인듐(Ⅲ), 수산화인듐(Ⅲ) 등의 인듐염 등;Tris (acetylacetonato) indium (III), indium amide sulfate (III), indium dichloride, indium chloride (I), indium chloride (III), indium acetate (III), indium bromide (III), indium iodide (III) ), Indium salts such as indium nitrate, indium sulfate (III), indium fluoride (III), indium oxide (III), and indium hydroxide (III);

비스(아세틸아세토나토)디아쿠아바륨(Ⅱ), 아셀렌산바륨, 아텔루르산바륨, 벤조산바륨, 알루민산바륨, 염화바륨, 포름산바륨, 시트르산바륨, 산화바륨, 브롬화바륨, 옥살산바륨, 타르타르산바륨, 메타지르코늄산바륨, 수산화바륨, 메타주석산바륨, 텅스텐산바륨, 메타티탄산바륨, 메타니오브산바륨, 락트산바륨, 메타붕산바륨, 몰리브덴산바륨, 요오드화바륨, 인산수소바륨, 탄산발륨, 불화바륨 등의 바륨염 등;Bis (acetylacetonato) diaquabarium (II), barium selenite, barium atate, barium benzoate, barium aluminate, barium chloride, barium formate, barium citrate, barium oxide, barium bromide, barium oxalate, barium tartarate , Barium metazirconate, barium hydroxide, barium metastannate, barium tungsten, barium metatitanate, barium metaniobate, barium lactate, barium metaborate, barium molybdate, barium iodide, barium hydrogen phosphate, barium carbonate, barium fluoride, etc. Barium salts;

테트라키스(아세틸아세토나토)하프늄(Ⅳ), 염화하프늄(Ⅳ), 산화하프늄(Ⅳ), 요오드화하프늄(Ⅳ), 황산하프늄(Ⅳ), 질산하프늄(Ⅳ), 옥시옥살산하프늄(Ⅳ), 플루오로하프늄산, 플루오로하프늄산염, 불화하프늄 등의 하프늄염 등 또는 하프늄산염 등;Tetrakis (acetylacetonato) hafnium (IV), hafnium chloride (IV), hafnium oxide (IV), hafnium iodide (IV), hafnium sulfate (IV), hafnium nitrate (IV), hafnium oxyoxalate (IV), fluorine Hafnium salts such as lohafnium acid, fluorohafnium acid salts, and hafnium fluoride;

아셀렌산칼륨, 아셀렌산수소칼륨, 아셀렌산삼수소세슘, 아셀렌산수소나트륨, 아셀렌산수소리튬, 아셀렌산구리(Ⅱ), 아셀렌산나트륨, 아셀렌산바륨, 옥시염화셀렌, 염화셀렌(Ⅰ), 염화셀렌(Ⅳ), 산화셀렌(Ⅳ), 셀렌산알루미늄, 셀렌산, 아셀렌산아연, 셀렌산칼륨, 셀렌산암모늄, 셀렌산칼슘, 셀렌산세슘, 셀렌산코발트, 셀렌산구리(Ⅱ), 셀렌산니켈, 셀렌산나트륨, 셀렌산바륨, 셀렌산아연 등의 셀렌염 등 또는 셀렌산염 등;Potassium selenite, potassium hydrogen selenite, cesium triselenide, sodium selenite, sodium selenite, copper selenite (II), sodium selenite, barium selenite, selenium chloride, selenium chloride (I), selenium chloride (IV), selenium oxide (IV), aluminum selenite, selenic acid, zinc selenite, potassium selenite, ammonium selenate, calcium selenate, cesium selenite, cobalt selenate, selenic acid Selenium salts such as copper (II), nickel selenite, sodium selenite, barium selenite, zinc selenate, or the like;

염화스칸듐(Ⅲ), 포름산스칸듐(Ⅲ), 아세트산스칸듐(Ⅲ), 질산스칸듐(Ⅲ), 산화스칸듐(Ⅲ), 불화스칸듐(Ⅲ), 요오드화스칸듐(Ⅲ), 황산스칸듐(Ⅲ) 등의 스칸듐염 등;Scandium such as scandium chloride (III), scandium formate (III), scandium acetate (III), scandium nitrate (III), scandium oxide (III), scandium fluoride (III), scandium iodide (III), and scandium sulfate (III) Salts;

산화니오브(Ⅱ), 산화니오브(Ⅴ), 오(옥살산수소)니오브, 수산화니오브(Ⅴ), 니오브옥시아세틸아세토네이트, 메타니오브산, 메타니오브산칼슘, 메타니오브산스트론튬, 메타니오브산바륨, 메타니오브산마그네슘, 메타니오브산리튬, 메타니오브산암모늄, 메타니오브산나트륨, 오염화니오브 등의 니오브염 등 또는 니오브산염 등;Niobium (II) oxide, niobium oxide (V), OH (hydrogen oxalate) niobium, niobium hydroxide (V), nioboxyacetylacetonate, metaniobate, calcium metaniobate, strontium metaniobate, barium niobate, Niobium salts such as magnesium metaniobate, lithium metaniobate, ammonium metaniobate, sodium metaniobate, niobium contaminated or the like;

아미드황산구리(Ⅱ), 벤조산구리(Ⅱ), 테트라암민구리(Ⅱ) 질산염, 시트르산구리(Ⅱ), 산화구리(Ⅰ), 브롬화구리(Ⅰ), 옥살산구리(Ⅱ), 포름산구리(Ⅱ), 아세트산구리(Ⅱ), 프로피온산구리(Ⅱ), 발레르산구리(Ⅱ), 글루콘산구리(Ⅱ), 타르타르산구리(Ⅱ), 염화구리(Ⅱ), 브롬화구리(Ⅱ), 수산화구리(Ⅱ), 아세트산구리(Ⅱ), 질산구리(Ⅱ), 황산구리(Ⅱ), 탄산구리(Ⅱ), 산화구리(Ⅱ), 하이드록시질산제이구리, 텅스텐산구리(Ⅱ), 탄산수산화구리(Ⅱ), 락트산구리(Ⅱ), 불화구리(Ⅱ), 요오드화구리(Ⅰ) 등의 구리염 등;Copper amide sulfate (II), copper benzoate (II), tetraammine copper (II) nitrate, copper citrate (II), copper oxide (I), copper bromide (I), copper oxalate (II), copper formate (II), Copper acetate (II), Copper propionate (II), Copper valeric acid (II), Copper gluconate (II), Copper tartarate (II), Copper chloride (II), Copper bromide (II), Copper hydroxide (II), Copper acetate (II), copper nitrate (II), copper sulfate (II), copper carbonate (II), copper oxide (II), hydroxy cupric nitrate, copper tungsten (II), copper carbonate (II), lactic acid Copper salts such as copper (II), copper fluoride (II) and copper iodide (I);

트리스(아세틸아세토나토)이트륨(Ⅲ), 염화이트륨(Ⅲ), 포름산이트륨(Ⅲ), 시트르산이트륨(Ⅲ), 아세트산이트륨(Ⅲ), 산화이트륨(Ⅲ), 옥살산이트륨(Ⅲ), 질산이트륨(Ⅲ), 탄산이트륨(Ⅲ), 불화이트륨(Ⅲ), 요오드화이트륨(Ⅲ), 황산이트륨(Ⅲ), 인산이트륨(Ⅲ) 등의 이트륨염 등;Tris (acetylacetonato) yttrium (III), yttrium chloride (III), yttrium formate (III), yttrium citrate (III), yttrium acetate (III), yttrium oxide (III), yttrium oxalate (III), yttrium nitrate ( Yttrium salts such as III, yttrium carbonate, yttrium fluoride, yttrium iodide, yttrium sulfate and yttrium phosphate;

트리스(아세틸아세토나토)란탄(Ⅲ), 염화란탄(Ⅲ), 포름산란탄(Ⅲ), 아세트산란탄(Ⅲ), 산화란탄(Ⅲ), 옥살산란탄(Ⅲ), 질산란탄(Ⅲ), 탄산란탄(Ⅲ), 불화란탄(Ⅲ), 이티탄산란탄(Ⅲ), 황산란탄(Ⅲ), 인산란탄(Ⅲ), 요오드화란탄(Ⅲ) 등의 란탄염 등;Tris (acetylacetonato) lanthanum (III), lanthanum chloride (III), lanthanum formate (III), lanthanum acetate (III), lanthanum oxide (III), lanthanum oxalate (III), lanthanum nitrate (III), lanthanum carbonate ( Lanthanum salts such as III), lanthanum fluoride (III), lanthanum ititanate (III), lanthanum sulfate (III), lanthanum phosphate (III), and lanthanum iodide (III);

트리스(아세틸아세토나토)네오디뮴(Ⅲ), 염화네오디뮴(Ⅲ), 포름산네오디뮴(Ⅲ), 아세트산네오디뮴(Ⅲ), 산화네오디뮴(Ⅲ), 브롬화네오디뮴(Ⅲ), 옥살산네오디뮴(Ⅲ), 질산네오디뮴(Ⅲ), 탄산네오디뮴(Ⅲ), 이티탄산네오디뮴(Ⅲ), 불화네오디뮴(Ⅲ), 요오드화네오디뮴(Ⅲ), 황산네오디뮴(Ⅲ), 인산네오디뮴(Ⅲ) 등의 네오디뮴염 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 무수물이어도 되고, 수화물이어도 된다. 또, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다. 또한, 수계 금속 표면 처리제 용제 중에 용해되어 있어도 되고, 분산되어 있어도 된다.Tris (acetylacetonato) neodymium (III), neodymium chloride (III), neodymium formate (III), neodymium acetate (III), neodymium oxide (III), neodymium bromide (III), neodymium oxalate (III), neodymium nitrate (III) Neodymium salts, such as (III), neodymium carbonate (III), neodymium nitrate (III), neodymium fluoride (III), neodymium iodide (III), neodymium sulfate (III), and neodymium phosphate (III), etc. are mentioned. These compounds may be anhydrides or hydrates. Moreover, you may use independently and may use in combination of 2 or more type. Moreover, it may melt | dissolve in the aqueous metal surface treating agent solvent, and may be disperse | distributed.

가교성 유기 화합물 (B1) 및 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 가교성 화합물 (B) 의 함유량의 총계 (B = B1+B2) 는, 전체 고형분에 대하여, 5 질량% ~ 90 질량% 인 것이 바람직하고, 10 질량% ~ 80 질량% 인 것이 보다 바람직하고, 20 질량% ~ 80 질량% 인 것이 특히 바람직하다. 가교성 화합물 (B) 의 함유량이 5 질량% ~ 90 질량% 의 범위에 있으면, 표면 처리 피막의 밀착성 및 내약품 밀착 유지성이 더욱 향상된다.The sum total (B = B1 + B2) of content of 1 type (s) or 2 or more types of crosslinkable compound (B) chosen from a crosslinkable organic compound (B1) and a crosslinkable inorganic compound (B2) is 5 mass%-with respect to total solid content. It is preferable that it is 90 mass%, It is more preferable that it is 10 mass%-80 mass%, It is especially preferable that it is 20 mass%-80 mass%. When content of a crosslinking | crosslinked compound (B) exists in the range of 5 mass%-90 mass%, the adhesiveness of surface treatment film and chemical-resistance adhesive-resistance retention improve further.

(용제)(solvent)

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제는, 금속 재료 표면에 도포할 때의 작업성을 양호하게 하기 위해서, 필요에 따라 각종 용제를 함유할 수 있다.In order to improve the workability at the time of apply | coating to the surface of a metal material, the aqueous metal surface treating agent which concerns on this invention can contain various solvents as needed.

용제로는, 예를 들어, 물;헥산, 펜탄 등의 알칸계 용제;벤젠, 톨루엔 등의 방향족계 용제;에탄올, 1-부탄올, 에틸셀로솔브 등의 알코올계 용제;테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 에테르계 용제;아세트산에틸, 아세트산부톡시에틸 등의 에스테르계 용제;디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드계 용제;디메틸술폭사이드 등의 술폰계 용제;헥사메틸인산트리아미드 등의 인산아미드계 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는 상기의 각 용매 중 1 종류를 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이 중, 환경상, 경제상 유리하다는 이유에서, 물이 바람직하다.Examples of the solvent include water; alkanes such as hexane and pentane; aromatic solvents such as benzene and toluene; alcohol solvents such as ethanol, 1-butanol and ethyl cellosolve; tetrahydrofuran and dioxane Ether solvents; ester solvents such as ethyl acetate and butoxyethyl acetate; amide solvents such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; sulfone solvents such as dimethyl sulfoxide; hexamethyl phosphate triamide, etc. Phosphate amide solvents; and the like. These solvents may use one type of said each solvent, and may mix and use 2 or more types. Among them, water is preferable for reasons of environmental and economic advantages.

(그 밖의 첨가제)(Other additives)

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제는 계면 활성제, 소포제, 레벨링제, 방균 방미제, 착색제 등을 본 발명의 취지 및 피막 성능을 저해하지 않는 범위에서 함유할 수 있다.The aqueous metal surface treatment agent which concerns on this invention can contain surfactant, an antifoamer, a leveling agent, antibacterial antiseptic agent, a coloring agent, etc. in the range which does not impair the meaning and film performance of this invention.

(수계 금속 표면 처리제의 조제 방법)(Preparation method of an aqueous metal surface treating agent)

본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제의 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 유기 화합물 (A) 와 가교성 화합물 (B) 는 임의로 함유되는 첨가제 및 임의로 함유되는 용제 등과 섞어, 혼합 믹서 등의 교반기를 사용하여 충분히 혼합함으로써 조제할 수 있다.The manufacturing method of the water-based metal surface treating agent which concerns on this invention is not specifically limited. For example, an organic compound (A) and a crosslinkable compound (B) can be mixed with the additive contained arbitrarily, the solvent optionally contained, etc., and can be prepared by fully mixing using a stirrer, such as a mixing mixer.

[금속 재료][Metallic materials]

본 발명에 관련된 금속 재료 (10) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 기재 금속 (1) 과, 그 표면에 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제를 도포하여 형성된 표면 처리 피막 (2) 을 갖는다. 「도포」란, 후술하는 도포 공정에 의해, 기재 금속 (1) 의 표면에 수계 금속 표면 처리제를 바르는 것을 말한다. 「갖는다」란, 기재 금속 (1) 및 표면 처리 피막 (2) 이외에 다른 구성을 갖고 있어도 되는 것을 의미하고 있다. 예를 들어, 표면 처리 피막 (2) 상에 라미네이트 가공에 의해 형성된 수지 필름 (3) 을 갖고 있어도 된다. 표면 처리 피막 (2) 은 상기한 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제를 기재 금속 (1) 에 도포하여 형성되므로, 밀착성 및 내약품 밀착 유지성이 우수하다.As shown in FIG. 1, the metal material 10 which concerns on this invention has the base metal 1 and the surface treatment film 2 formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent which concerns on this surface to the surface. "Application | coating" means applying an aqueous metal surface treating agent to the surface of the base metal 1 by the application | coating process mentioned later. "Have" means that the structure may have other configurations than the base metal 1 and the surface-treated coating 2. For example, you may have the resin film 3 formed by the lamination process on the surface treatment film 2. Since the surface treatment film 2 is formed by applying the above-mentioned water-based metal surface treatment agent to the base metal 1 according to the present invention, the surface treatment film 2 is excellent in adhesion and chemical-resistance adhesion retention.

금속 재료 (10) 는 그러한 표면 처리 피막 (2) 을 갖기 때문에, 표면 처리 피막 (2) 상에 수지 필름 (3) 또는 수지 도포막 (3) 을 형성한 후, 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 또, 게다가 산 등에 노출된 경우에도, 수지 필름 (3) 또는 수지 도포막 (3) 이 금속 재료 (10) 로부터 박리되는 것을 방지할 수 있다.Since the metal material 10 has such a surface treatment film 2, after forming the resin film 3 or the resin coating film 3 on the surface treatment film 2, deep drawing process, ironing process, or Even when strict molding processing such as stretch draw processing is performed or when exposed to acid or the like, the resin film 3 or the resin coating film 3 can be prevented from being peeled from the metal material 10.

또한, 도 1 에서는, 기재 금속 (1) 의 일방의 표면에, 표면 처리 피막 (2) 과, 수지 필름 (3) 또는 수지 도포막 (3) 을 형성한 예를 나타내고 있지만, 기재 금속 (1) 의 양면에, 즉 타방의 표면에도 표면 처리 피막 (2) 을 형성하고, 또한 수지 필름 (3) 또는 수지 도포막 (3) 을 형성해도 된다.In addition, although the example in which the surface treatment film 2 and the resin film 3 or the resin coating film 3 were formed in one surface of the base metal 1 is shown in FIG. 1, the base metal 1 is shown. The surface treatment film 2 may be formed on both surfaces of the surface, that is, the other surface, and the resin film 3 or the resin coating film 3 may be formed.

기재 금속 (1) 의 종류는 특별히 한정되지 않고, 각종의 것을 적용할 수 있다. 예를 들어, 식품용 캔의 보디 또는 뚜껑재, 식품용 용기, 건전지 용기, 이차 전지의 외장재 등에 적용 가능한 금속 재료를 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않고, 넓은 용도에 응용 가능한 금속 재료를 사용할 수 있다. 특히, 휴대 전화, 전자 수첩, 노트북 컴퓨터 또는 비디오 카메라 등에 사용되는 모바일용 리튬 이온 이차 전지의 외장재, 전기 자동차 또는 하이브리드 자동차의 구동 에너지로서 사용하는 리튬 이온 이차 전지의 외장재로서 이용 가능한 금속 재료를 들 수 있다. 이들 금속 재료 중, 그 표면에 표면 처리 피막을 형성할 수 있고, 또한 표면 처리 피막 상에 수지 필름을 라미네이트하거나 할 수 있고, 그 후에 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시할 수 있는 금속 재료를 바람직하게 사용할 수 있다.The kind of base metal 1 is not specifically limited, Various things are applicable. For example, although the metal material applicable to the body or cover material of a food can, the food container, a battery container, the exterior material of a secondary battery, etc. is mentioned, It is not limited to these, A metal material applicable to a wide use can be used. have. Particularly, metal materials usable as exterior materials of lithium ion secondary batteries for mobiles used in cellular phones, electronic notebooks, notebook computers or video cameras, and exterior materials of lithium ion secondary batteries used as driving energy of electric vehicles or hybrid vehicles. have. Of these metal materials, a surface treatment film can be formed on the surface thereof, and a resin film can be laminated on the surface treatment film, and thereafter, strict molding processing such as deep drawing processing, ironing processing, or stretch draw processing. The metal material which can implement can be used preferably.

그러한 금속 재료로는, 예를 들어, 순구리, 구리 합금 등의 구리 재료, 순알루미늄, 알루미늄 합금 등의 알루미늄 재료, 보통강, 합금강 등의 철 재료, 순니켈, 니켈 합금 등의 니켈 재료 등을 들 수 있다.Examples of such metal materials include copper materials such as pure copper and copper alloys, aluminum materials such as pure aluminum and aluminum alloys, iron materials such as ordinary steel and alloy steel, nickel materials such as pure nickel and nickel alloys, and the like. Can be mentioned.

구리 합금으로는, 구리를 50 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 예를 들어, 황동 등을 사용할 수 있다. 구리 합금에 있어서의 구리 이외의 합금 성분으로는, 예를 들어, Zn, P, Al, Fe, Ni 등을 들 수 있다. 알루미늄 합금으로는, 알루미늄을 50 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 예를 들어, Al-Mg 계 합금 등을 사용할 수 있다. 알루미늄 합금에 있어서의 알루미늄 이외의 합금 성분으로는, 예를 들어, Si, Fe, Cu, Mn, Cr, Zn, Ti 등을 들 수 있다. 합금강으로는, 철을 50 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 예를 들어, 스테인리스강 등을 사용할 수 있다. 합금강에 있어서의 철 이외의 합금 성분으로는, 예를 들어, C, Si, Mn, P, S, Ni, Cr, Mo 등을 들 수 있다. 니켈 합금으로는, 니켈을 50 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 예를 들어, Ni-P 합금 등을 사용할 수 있다. 니켈 합금에 있어서의 니켈 이외의 합금 성분으로는, 예를 들어, Al, C, Co, Cr, Cu, Fe, Zn, Mn, Mo, P 등을 들 수 있다.As a copper alloy, it is preferable to contain 50 mass% or more of copper, For example, brass etc. can be used. As alloy components other than copper in a copper alloy, Zn, P, Al, Fe, Ni etc. are mentioned, for example. As an aluminum alloy, it is preferable to contain 50 mass% or more of aluminum, For example, an Al-Mg type alloy etc. can be used. As alloy components other than aluminum in an aluminum alloy, Si, Fe, Cu, Mn, Cr, Zn, Ti etc. are mentioned, for example. As alloy steel, it is preferable to contain 50 mass% or more of iron, For example, stainless steel etc. can be used. As alloy components other than iron in alloy steel, C, Si, Mn, P, S, Ni, Cr, Mo etc. are mentioned, for example. As nickel alloy, it is preferable to contain 50 mass% or more of nickel, For example, Ni-P alloy etc. can be used. As alloy components other than nickel in a nickel alloy, Al, C, Co, Cr, Cu, Fe, Zn, Mn, Mo, P etc. are mentioned, for example.

기재 금속 (1) 은 상기한 금속 재료 이외의 금속 재료, 세라믹스 재료 또는 유기 재료의 표면에, 상기한 금속 원소를 함유하는 피막을 형성한 것이어도 된다. 그러한 금속 피막은, 예를 들어, 도금, 증착, 클래드 등의 수법에 의해 형성할 수 있다. 또, 기재 금속 (1) 의 형상, 구조 등은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 판상 또는 박상의 금속 재료를 사용할 수 있다.The base metal 1 may be formed by forming a film containing the above-described metal element on the surfaces of metal materials, ceramic materials or organic materials other than the above-described metal materials. Such a metal film can be formed by methods, such as plating, vapor deposition, and a clad, for example. Moreover, the shape, structure, etc. of the base metal 1 are not specifically limited, For example, a plate-shaped or thin metal material can be used.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 관련된 수계 금속 표면 처리제에 의하면, 상기한 유기 화합물 (A) 와, 상기한 가교성 유기 화합물 (B1) 및 상기한 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 가교성 화합물 (B) 를 함유하기 때문에, 그 수계 금속 표면 처리제로 처리하여 얻어지는 표면 처리 피막이 높은 밀착성을 가짐과 함께, 산 등에 노출되어도 높은 밀착성을 유지할 수 있다. 그 결과, 표면 처리 피막이 형성된 금속 재료에 수지 필름을 라미네이트하거나 또는 수지 도포막을 형성하고, 그 후에 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 게다가 산이나 유기 용제 등에 노출된 경우에도, 그 라미네이트 필름 또는 수지 도포막이 금속 재료로부터 박리되는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the water-based metal surface treatment agent which concerns on this invention, 1 type chosen from said organic compound (A), said crosslinkable organic compound (B1), and said crosslinkable inorganic compound (B2), or Since it contains 2 or more types of crosslinking | crosslinked compound (B), while the surface treatment film obtained by processing with this aqueous metal surface treating agent has high adhesiveness, high adhesiveness can be maintained even if exposed to an acid etc. As a result, even when a resin film is laminated or the resin coating film is formed in the metal material in which the surface treatment film was formed, after that, even if strict molding processing such as deep drawing processing, ironing processing or stretch draw processing is performed, an acid or an organic solvent is used. Even when exposed to the back, the laminate film or the resin coating film can be prevented from being peeled from the metal material.

[표면 처리 방법][Surface Treatment Method]

수계 금속 표면 처리제를 사용한 금속 표면의 처리 방법은 수계 금속 표면 처리제를 기재 금속의 표면에 도포하는 도포 공정과, 도포 공정 후, 수세하지 않고 건조시켜, 표면 처리 피막을 형성하는 건조 공정에 의해 형성할 수 있다.The method for treating a metal surface using the water-based metal surface treatment agent may be formed by a coating step of applying the water-based metal surface treatment agent to the surface of the base metal and a drying step of drying without washing with water after the coating step to form a surface treatment film. Can be.

(도포 공정)(Coating step)

도포 공정은 수계 금속 표면 처리제를 기재 금속의 표면에 도포하는 공정이다. 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 스프레이 코트, 딥 코트, 롤 코트, 커튼 코트, 스핀 코트, 또는 이들을 조합한 방법을 사용할 수 있다. 수계 금속 표면 처리제의 사용 조건은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 도포할 때의 수계 금속 표면 처리제 및 금속 재료의 온도는 10 ℃ ~ 90 ℃ 인 것이 바람직하고, 20 ℃ ~ 60 ℃ 인 것이 보다 바람직하다. 온도가 60 ℃ 이하이면, 쓸데없는 에너지의 사용을 억제할 수 있다. 또, 도포하는 시간 및 도포하는 양은 얻어지는 표면 처리 피막의 요구되는 막두께에 따라 적절히 설정할 수 있다.An application | coating process is a process of apply | coating an aqueous metal surface treating agent to the surface of a base metal. The method of apply | coating is not specifically limited, For example, the method of spray coat, dip coat, roll coat, curtain coat, spin coat, or these combination can be used. The use conditions of an aqueous metal surface treating agent are not specifically limited. For example, it is preferable that it is 10 degreeC-90 degreeC, and, as for the temperature of the water-based metal surface treatment agent and a metal material at the time of application | coating, it is more preferable that it is 20 degreeC-60 degreeC. If temperature is 60 degrees C or less, use of wasteful energy can be suppressed. Moreover, the time to apply and the quantity to apply can be suitably set according to the film thickness requested | required of the surface treatment film obtained.

(건조 공정)(Drying step)

건조 공정은, 도포 공정 후, 수세하지 않고 건조시켜, 표면 처리 피막을 형성하는 공정이다. 건조 온도는 사용하는 용제에 맞춘 온도로 할 수 있다. 예를 들어, 물을 용제로서 사용한 경우에는, 50 ℃ ~ 250 ℃ 의 범위인 것이 바람직하다. 건조 장치는 특별히 한정되지 않지만, 배치식, 연속식 또는 열풍 순환식의 건조로(爐), 컨베이어식 열풍 건조로 또는 IH 히터를 사용한 전자 유도 가열로 등을 사용할 수 있고, 그 풍량과 풍속 등은 임의로 설정할 수 있다.A drying process is a process of drying without washing with water after an application | coating process and forming a surface treatment film. Drying temperature can be made into the temperature according to the solvent to be used. For example, when water is used as a solvent, it is preferable that it is the range of 50 degreeC-250 degreeC. The drying apparatus is not particularly limited, but a batch type, continuous or hot air circulation type drying furnace, a conveyor hot air drying furnace, or an electromagnetic induction heating furnace using an IH heater can be used. Can be set arbitrarily.

이렇게 하여 얻어지는 표면 처리 피막은, 그 위에 또한 수지 필름 (라미네이트 필름) 또는 수지 도포막을 형성 후, 딥 드로잉 가공, 아이어닝 가공 또는 스트레치 드로우 가공 등의 엄격한 성형 가공을 실시한 경우에도, 또, 게다가 산 등에 노출되어도, 라미네이트 필름 또는 수지 도포막으로 이루어지는 수지 피막이 박리되는 것을 방지할 수 있다.The surface treatment film thus obtained is further formed with a resin film (laminate film) or a resin coating film, and then subjected to a strict molding process such as a deep drawing process, ironing process or stretch draw process. Even if it exposes, peeling of the resin film which consists of a laminated film or a resin coating film can be prevented.

또한, 얻어지는 표면 처리 피막의 막두께는 0.01 ㎛ ~ 1 ㎛ 로 하는 것이 바람직하고, 0.02 ㎛ ~ 0.05 ㎛ 로 하는 것이 보다 바람직하다. 막두께를 0.01 ㎛ ~ 1 ㎛ 의 범위로 함으로써, 표면 처리 피막의 밀착성 및 내약품 밀착 유지성을 보다 높일 수 있다.Moreover, it is preferable to set it as 0.01 micrometer-1 micrometer, and, as for the film thickness of the surface treatment film obtained, it is more preferable to set it as 0.02 micrometer-0.05 micrometer. By setting the film thickness in the range of 0.01 µm to 1 µm, the adhesion of the surface-treated film and the chemical-resistance adhesion retention can be further improved.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서, 「부」란 「질량부」를 말이며, 「질량%」는 「중량%」와 동일한 의미이고, 이하에서는 특별히 언급하지 않는 한 간단히 「%」라고 표시하는 경우도 있다. 「ppm」은 「㎎/ℓ」와 동일한 의미이다.Hereinafter, an Example and a comparative example demonstrate this invention in detail. This invention is not limited by the following example. In addition, below, "part" means a "mass part", and "mass%" is synonymous with "weight%", and may be represented simply as "%" unless there is particular notice below. "Ppm" has the same meaning as "mg / L".

[유기 화합물 (A)]Organic Compound (A)

사용한 유기 화합물 (A) 를 이하에 나타낸다. 또한, 관능기 함유량이란, 유기 화합물 (A) 의 분자량을, 1 분자에 함유되는, 카르복실기 및/또는 수산기의 합계 함유량으로 나눈 값이다.The used organic compound (A) is shown below. In addition, functional group content is the value which divided the molecular weight of the organic compound (A) by the total content of the carboxyl group and / or the hydroxyl group contained in 1 molecule.

Aa:폴리말레산 (분자량 3000, 관능기 함유량 58) Aa: Polymaleic acid (molecular weight 3000, functional group content 58)

Ab:L-아스코르브산 (분자량 175, 관능기 함유량 43.8) Ab : L-ascorbic acid (molecular weight 175, functional group content 43.8)

Ac:타르타르산 (분자량 150, 관능기 함유량 37.5) Ac: tartaric acid (molecular weight 150, functional group content 37.5)

Ad:피로멜리트산 (분자량 254, 관능기 함유량 63.5) Ad: pyromellitic acid (molecular weight 254, functional group content 63.5)

Ae:부탄테트라카르복실산 (분자량 234, 관능기 함유량 58.5) Ae: Butane tetracarboxylic acid (molecular weight 234, functional group content 58.5)

Af:펜타에리트리톨 (분자량 136, 관능기 함유량 34) Af: pentaerythritol (molecular weight 136, functional group content 34)

Ag:갈산 (분자량 188, 관능기 함유량 47) Ag: gallic acid (molecular weight 188, functional group content 47)

Ah:폴리에틸렌글리콜 (분자량 4000, 관능기 함유량 2000) Ah : Polyethylene glycol (molecular weight 4000, functional group content 2000)

Ai:폴리아크릴산 (분자량 15000, 관능기 함유량 72) Ai: Polyacrylic acid (molecular weight 15000, functional group content 72)

Aj:폴리말레산 (분자량 20000, 관능기 함유량 58)Aj: polymaleic acid (molecular weight 20000, functional group content 58)

[가교성 유기 화합물 (B1)][Crosslinkable Organic Compound (B1)]

(카르보디이미드 결합을 갖는 유기 화합물 Ⅰ;기호 B1a) (Organic compound I having a carbodiimide bond; symbol B1a)

m-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 700 부 (2.87 ㏖) 를, 3-메틸-1-페닐-2-포스포렌-1-옥사이드 (카르보디이미드화 촉매) 14 부의 존재하, 180 ℃ 에서 32 시간 반응시켜, 양 말단이 이소시아네이트기이고 축합도 12 인 폴리카르보디이미드 화합물을 얻었다. 얻어진 폴리카르보디이미드 화합물 224 부에, 중합도 12 의 폴리옥시에틸렌모노메틸에테르 115 부를 첨가하고, 100 ℃ 에서 48 시간 반응시켜 양 말단의 이소시아네이트기를 밀봉하였다. 이어서, 50 ℃ 에서 증류수 509 질량부를 서서히 첨가하여, 폴리카르보디이미드 화합물 수용액 B1a 를 얻었다.700 parts (2.87 mol) of m-tetramethyl xylylene diisocyanate are reacted at 180 degreeC for 32 hours in presence of 14 parts of 3-methyl-1- phenyl- 2-phosphorene-1-oxides (carbodiimidation catalyst) The polycarbodiimide compound which is both isocyanate group and condensation degree 12 was obtained. 115 parts of polyoxyethylene monomethyl ether of the polymerization degree 12 were added to 224 parts of obtained polycarbodiimide compounds, and it reacted at 100 degreeC for 48 hours, and sealed the isocyanate group of both terminals. Subsequently, 509 mass parts of distilled water was gradually added at 50 degreeC, and the polycarbodiimide compound aqueous solution B1a was obtained.

(카르보디이미드 결합을 갖는 유기 화합물 Ⅱ;기호 B1b) (Organic compound II having carbodiimide bond; symbol B1b)

디페닐메탄디이소시아네이트 338 부 (1.35 ㏖) 와, 4,4'-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 354 부 (1.35 ㏖) 를, 3-메틸-1-페닐-2-포스포렌-1-옥사이드 (카르보디이미드화 촉매) 2.9 부의 존재하, 180 ℃ 에서 32 시간 반응시켜, 양 말단이 이소시아네이트기이고 축합도 12 인 폴리카르보디이미드 화합물을 얻었다. 얻어진 폴리카르보디이미드 화합물 224 부에, 중합도 12 의 폴리옥시에틸렌모노메틸에테르 115 부를 첨가하고, 100 ℃ 에서 48 시간 반응시켜 양 말단의 이소시아네이트기를 밀봉하였다. 이어서, 50 ℃ 에서 증류수 509 부를 서서히 첨가하여, 폴리카르보디이미드 화합물 수용액 B1b 를 얻었다.338 parts (1.35 mol) of diphenylmethane diisocyanate and 354 parts (1.35 mol) of 4,4'- dicyclohexyl methane diisocyanate are 3-methyl-1-phenyl-2-phosphorene-1-oxides (car Body imidation catalyst) It was made to react at 180 degreeC for 32 hours in presence of 2.9 parts, and the polycarbodiimide compound which is an isocyanate group and condensation degree 12 was obtained. 115 parts of polyoxyethylene monomethyl ether of the polymerization degree 12 were added to 224 parts of obtained polycarbodiimide compounds, and it reacted at 100 degreeC for 48 hours, and sealed the isocyanate group of both terminals. Subsequently, 509 parts of distilled water were gradually added at 50 degreeC, and the polycarbodiimide compound aqueous solution B1b was obtained.

(카르보디이미드 결합을 갖는 유기 화합물 Ⅲ;기호 B1c) (Organic compound III having a carbodiimide bond; symbol B1c)

m-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 700 부를, 3-메틸-1-페닐-2-포스포렌-1-옥사이드 (카르보디이미드화 촉매) 14 부의 존재하, 180 ℃ 에서 32 시간 반응시켜, 양 말단이 이소시아네이트기이고 축합도 12 인 폴리카르보디이미드 화합물을 얻었다. 얻어진 폴리카르보디이미드 화합물 224.4 부와, 3,3-비스(디메틸아미노)프로필아민 10.2 부를, 80 ℃ 에서 1 시간 반응시킨 후, 디메틸황산 12.6 g 을 첨가하고 1 시간 교반하였다. 이어서, 증류수 509.1 g 을 50 ℃ 에서 서서히 첨가하여, 폴리카르보디이미드 화합물 수용액 B1c 를 얻었다.700 parts of m-tetramethylxylylene diisocyanate was reacted at 180 ° C. for 32 hours in the presence of 14 parts of 3-methyl-1-phenyl-2-phosphorene-1-oxide (carbodiimidation catalyst), The polycarbodiimide compound which is an isocyanate group and condensation degree 12 was obtained. After 224.4 parts of obtained polycarbodiimide compounds and 10.2 parts of 3,3-bis (dimethylamino) propylamine were reacted at 80 ° C for 1 hour, 12.6 g of dimethyl sulfate was added and stirred for 1 hour. Subsequently, 509.1 g of distilled water was added gradually at 50 degreeC, and the polycarbodiimide compound aqueous solution B1c was obtained.

(옥사졸린기를 갖는 유기 화합물 Ⅰ;기호 B1d) (Organic compound I having an oxazoline group; symbol B1d)

교반기, 환류 냉각기, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 플라스크에, 탈이온수 220 부, 1-메톡시-2-프로판올 380 부, 과황산소다 5 부, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 200 부 및 아크릴산에틸 200 부를 주입하고, 천천히 질소 가스를 흘리면서 50 ℃ 로 가열하였다. 플라스크 내의 온도를 50±1 ℃ 로 유지하고, 10 시간 교반을 계속하여 반응을 완결시킨 후 냉각시켜, 불휘발분 40.0 % 의 수용성 옥사졸린기 함유 수지 B1d 를 얻었다. 이 중합체의 수 평균 분자량은 약 2 만이고, 중합체 1 g 당의 옥사졸린기 함유량은 4.5 ㎜ol/g 이었다.In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 220 parts of deionized water, 380 parts of 1-methoxy-2-propanol, 5 parts of sodium persulfate, 200 parts of 2-isopropenyl-2-oxazoline And 200 parts of ethyl acrylate were injected | poured, and it heated at 50 degreeC, flowing nitrogen gas slowly. The temperature in the flask was maintained at 50 ± 1 ° C., stirring was continued for 10 hours to complete the reaction, followed by cooling to obtain a water-soluble oxazoline group-containing resin B1d having a nonvolatile content of 40.0%. The number average molecular weight of this polymer was about 20,000, and the oxazoline group content per 1 g of polymers was 4.5 mmol / g.

(옥사졸린기를 갖는 유기 화합물 Ⅱ;기호 B1e) (Organic compound II having oxazoline group; symbol B1e)

교반기, 환류 냉각기, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 용량 1 리터의 세퍼러블 플라스크에, 탈이온수 228.1 부, 계면 활성제 노닐페놀에톡실레이트 (에틸렌옥사이드 6 몰 부가) 황산암모늄염의 25 % 수용액 1.23 부 및 7 % 암모니아 수용액 1.9 부를 주입하고, 천천히 질소 가스를 흘리면서 70 ℃ 로 승온시켰다. 그 후, 이 세퍼러블 플라스크에, (메트)아크릴산부틸 283.5 부, 스티렌 211.4 부, 디비닐벤젠 0.6 부, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 55.1 부, 탈이온수 158.4 부, 계면 활성제 노닐페놀에톡실레이트 (에틸렌옥사이드 6 몰 부가) 황산암모늄염의 25 % 수용액 31.0 부 및 7 % 암모니아수 0.6 부로 이루어지는 프레에멀션의 10 질량% 를 초기 주입으로서 첨가하였다. 그 후, 이 세퍼러블 플라스크에, 과황산칼륨 2.8 부를 순수 34.4 부에 용해시킨 개시제 수용액을 추가로 첨가하고, 중합을 개시시켰다. 또한 나머지 프레에멀션을 2.5 시간에 걸쳐 적하하고, 교반하면서 반응시키고, 적하 후 80 ℃ 에서 2.5 시간 숙성시켰다. 반응 종료 후, 7 % 암모니아수 1.4 부를 첨가하고, pH 를 8.8 로 조절하여, 불휘발분 55.6 질량% 의 옥사졸린기 함유 아크릴 수분산체 B1e 를 얻었다. 이론 옥사졸린기 당량은 0.90 ㎜ol/g 이었다.To a 1-liter separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 228.1 parts of deionized water, 1.23 parts of a 25% aqueous solution of a surfactant nonylphenolethoxylate (6 moles of ethylene oxide) and 1.9 parts of 7% ammonia aqueous solution was injected | poured, and it heated up at 70 degreeC, flowing nitrogen gas slowly. Then, in this separable flask, 283.5 parts of butyl (meth) acrylate, 211.4 parts of styrene, 0.6 parts of divinylbenzene, 55.1 parts of 2-isopropenyl-2-oxazoline, 158.4 parts of deionized water, and surfactant nonylphenol Toxylate (Addition of 6 mol of ethylene oxide) 10 mass% of the preemulsion which consists of 31.0 parts of 25-% aqueous solution of ammonium sulfate salt, and 0.6 part of 7% ammonia water was added as initial injection. Then, the initiator aqueous solution which melt | dissolved 2.8 parts of potassium persulfate in 34.4 parts of pure waters was further added to this separable flask, and superposition | polymerization was started. Furthermore, the remaining preemulsion was dripped over 2.5 hours, it was made to react with stirring, and it was aged at 80 degreeC after dripping for 2.5 hours. After the reaction was completed, 1.4 parts of 7% ammonia water was added, and the pH was adjusted to 8.8 to obtain an oxazoline group-containing acrylic aqueous dispersion B1e having a nonvolatile content of 55.6% by mass. The theoretical oxazoline group equivalent was 0.90 mmol / g.

(옥사졸린기를 갖는 유기 화합물 Ⅲ:기호 B1f) (Organic compound III having an oxazoline group: symbol B1f)

교반기, 환류 냉각기, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 용량 1 리터의 세퍼러블 플라스크에, 탈이온수 228.1 부, 계면 활성제 노닐페놀에톡실레이트 (에틸렌옥사이드 6 몰 부가) 황산암모늄염의 25 % 수용액 1.23 부, 및 7 % 암모니아 수용액 1.9 부를 주입하고, 천천히 질소 가스를 흘리면서 70 ℃ 로 승온시켰다. 70 ℃ 로 승온 후, 이 세퍼러블 플라스크에, 1 단째 중합 반응의 재료로서 제작한 (메트)아크릴산부틸 170.1 부, 스티렌 159.9 부, 디비닐벤젠 0.4 부, 탈이온수 95.0 부, 계면 활성제 노닐페놀에톡실레이트 (에틸렌옥사이드 6 몰 부가) 황산암모늄염의 25 % 수용액 18.6 부 및 7 % 암모니아수 0.4 부로 이루어지는 프레에멀션 (이하, 「1 단째의 프레에멀션」이라고 한다) 의 10 질량% 를 초기 주입으로서 첨가하였다. 그 후, 이 세퍼러블 플라스크에, 과황산칼륨 2.8 부를 순수 34.4 부에 용해시킨 개시제 수용액을 첨가하고, 중합을 개시시켰다. 또한 나머지 1 단째의 프레에멀션을 1.3 시간에 걸쳐 적하하고, 교반하면서 반응시켰다.In a 1-liter separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, and a thermometer, 228.1 parts of deionized water, 1.23 parts of a 25% aqueous solution of a surfactant nonylphenolethoxylate (6 moles of ethylene oxide), And 1.9 parts of a 7% aqueous ammonia solution were injected, and the temperature was raised to 70 ° C while flowing nitrogen gas slowly. After heating up at 70 degreeC, 170.1 parts of butyl (meth) acrylates, 159.9 parts of styrene, 0.4 parts of divinylbenzenes, 95.0 parts of deionized water, surfactant nonylphenol ethoxyl which were prepared as a material of a 1st stage polymerization reaction in this separable flask 10 mass% of the pre-emulsion (henceforth "pre-emulsion of 1st stage") consisting of 18.6 parts of 25% aqueous solution of ammonium sulfate and 0.4 parts of 7% ammonia water of the ammonium sulfate salt was added as initial injection. Then, the initiator aqueous solution which melt | dissolved 2.8 parts of potassium persulfate in 34.4 parts of pure waters was added to this separable flask, and superposition | polymerization was started. Furthermore, the remaining 1st stage preemulsion was dripped over 1.3 hours, and it was made to react, stirring.

적하 완료 10 분 후부터, 또한 2 단째의 중합 반응으로서, (메트)아크릴산부틸 113.4 부, 스티렌 62.5 부, 디비닐벤젠 0.2 부, 2-이소프로페닐-2-옥사졸린 44.1 부, 탈이온수 63.4 부, 계면 활성제 노닐페놀에톡실레이트 (에틸렌옥사이드 6 몰 부가) 황산암모늄염의 25 % 수용액 12.4 부 및 7 % 암모니아수 0.2 부로 이루어지는 프레에멀션 (이하, 「2 단째의 프레에멀션」이라고 한다) 을, 상기 세퍼러블 플라스크에 1.3 시간에 걸쳐 적하하고, 교반하면서 반응시켰다. 2 단째의 프레에멀션 적하 완료 후 80 ℃ 에서 2.5 시간 숙성시켰다. 반응 종료 후, 7 % 암모니아수 1.4 부를 첨가하고, pH 를 8.9 로 조절하여, 불휘발분 55.6 질량%, 코어/쉘비 = 6/4 의 옥사졸린기 함유 아크릴 수분산체 B1f 를 얻었다. 이론 옥사졸린기 당량은 0.72 ㎜ol/g 이었다.10 minutes after completion of the dropwise addition, 113.4 parts of butyl (meth) acrylate, 62.5 parts of styrene, 0.2 parts of divinylbenzene, 44.1 parts of 2-isopropenyl-2-oxazoline, 63.4 parts of deionized water, Surfactant nonylphenol ethoxylate (6 mole addition of ethylene oxide) A preemulsion (hereinafter, referred to as "second stage preemulsion") consisting of 12.4 parts of 25% aqueous solution of ammonium sulfate and 0.2 parts of 7% ammonia water is used as the separable flask. It dripped over 1.3 hours, and made it react with stirring. After completion of the second drop of the preemulsion, the mixture was aged at 80 ° C. for 2.5 hours. After the reaction was completed, 1.4 parts of 7% ammonia water was added, and the pH was adjusted to 8.9 to obtain an oxazoline group-containing acrylic aqueous dispersion B1f having a nonvolatile content of 55.6 mass% and a core / shell ratio of 6/4. The theoretical oxazoline group equivalent was 0.72 mmol / g.

(글리시딜에테르기를 갖는 유기 화합물;기호 B1g) (Organic compound having glycidyl ether group; symbol B1g)

글리세롤폴리글리시딜에테르 (3 관능, 에폭시 당량 144, 점도 170 mPa·S) 를 사용하였다.Glycerol polyglycidyl ether (trifunctional, epoxy equivalent 144, viscosity 170 mPa · S) was used.

(이소시아네이트기를 갖는 유기 화합물;기호 B1h) (Organic compound having isocyanate group; symbol B1h)

헥사메틸렌디이소시아네이트-아세토아세트산에틸 블록체를 사용하였다.Hexamethylene diisocyanate-acetoacetate acetate block body was used.

(메틸올기를 갖는 유기 화합물;기호 B1i) (Organic compound having a methylol group; symbol B1i)

메틸올멜라민을 사용하였다.Methylolmelamine was used.

[가교성 무기 화합물 (B2)][Crosslinkable Inorganic Compound (B2)]

사용한 가교성 무기 화합물 (B2) 를 이하에 나타낸다.The used crosslinkable inorganic compound (B2) is shown below.

B2a:티탄불화수소산 (농도 40.0 질량%) B2a : Titanium hydrofluoric acid (concentration 40.0 mass%)

B2b:지르코늄불화수소산 (농도 40.0 질량%) B2b : zirconium hydrofluoric acid (concentration 40.0% by mass)

B2c:실리카졸 (표면 전하 카티온, 입자직경 10 ~ 20 ㎚, 19.0 질량%, pH = 4.7)B2c: silica (surface charge cation, particle diameter 10-20 nm, 19.0 mass%, pH = 4.7)

B2d:락트산티탄 (농도 44.0 질량%) B2d : titanium lactate (concentration 44.0% by mass)

B2e:비정질 지르코니아졸 (불휘발분 농도 10.0 질량%, 입자직경 10 ~ 30 ㎚, pH = 2.8)B2e: amorphous zirconia sol (10.0 mass% of non volatile matter concentration, particle diameter 10-30 nm, pH = 2.8)

B2f:규불화수소산 (농도 40.0 질량%) B2f : Hydrofluoric acid (concentration 40.0 mass%)

B2g:불화크롬(Ⅲ) (Cr 농도 1.0 질량%) B2g: Chromium fluoride (III) (Cr concentration 1.0 mass%)

B2h:불화철(Ⅲ) (Fe 농도 2.5 질량%) B2h: Iron fluoride (III) (Fe concentration 2.5 mass%)

B2i;산화셀렌(Ⅳ) B2i's selenium oxide (IV)

B2j;산화세륨졸 (불휘발분 농도 15 %, pH = 3.5) B2j; cerium oxide sol (15% nonvolatile content, pH = 3.5)

B2k;아세트산크롬(Ⅲ)B2k; Chromium acetate (III)

[수계 금속 표면 처리제][Aqueous Metal Surface Treatment Agent]

유기 화합물 Aa ~ Aj 와, 가교성 유기 화합물 B1a ~ B1i 및 가교성 무기 화합물 B2a ~ B2k 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 소정의 함유량으로 조합하고, 용제를 물로 하여, 표 1 ~ 표 6 에 나타내는 실시예 1 ~ 91 및 비교예 1 ~ 20 의 수계 금속 표면 처리제를 준비하였다. 또한, 표 1 ~ 표 6 에 있어서의 「농도」는 수계 금속 표면 처리제에 함유되는 각 화합물의 불휘발분 농도 (질량%) 를 나타낸다. 또, 「A 농도」는 수계 금속 표면 처리제 중의 전체 고형분에 대한 유기 화합물 (A) 의 함유량 (질량%) 을 나타내고, 「B1+B2 농도」는 수계 금속 표면 처리제 중의 전체 고형분에 대한 가교성 화합물 (B) 의 함유량으로서, 가교성 유기 화합물 B1 과 가교성 무기 화합물 B2 의 합계 함유량 (질량%) 을 나타낸다.Organic compound Aa-Aj, 1 type (s) or 2 or more types chosen from crosslinkable organic compounds B1a-B1i and crosslinkable inorganic compounds B2a-B2k are combined with predetermined content, and a solvent is used as Table 1-Table 6, and The aqueous metal surface treating agents of Examples 1-91 and Comparative Examples 1-20 which were shown were prepared. In addition, "concentration" in Table 1-Table 6 shows the non volatile matter concentration (mass%) of each compound contained in an aqueous metal surface treating agent. Moreover, "A density | concentration" shows content (mass%) of the organic compound (A) with respect to the total solid in an aqueous metal surface treatment agent, and "B1 + B2 concentration" shows the crosslinkable compound (B) with respect to the total solid in an aqueous metal surface treatment agent. As content of the sum total content (mass%) of crosslinkable organic compound B1 and crosslinkable inorganic compound B2 is shown.

[금속 재료][Metallic materials]

기재 금속으로서 사용한 금속 재료를 이하에 나타낸다.The metal material used as a base metal is shown below.

Al:A1100P, 두께 0.3 ㎜Al: A1100P, thickness 0.3 mm

Cu:C1020P, 두께 0.3 ㎜Cu: C1020P, thickness 0.3 mm

Ni:순니켈판:(순도 99 질량% 이상), 두께 0.3 ㎜Ni: Pure nickel plate: (99 mass% or more of purity), 0.3 mm in thickness

SUS:SUS304 판, 두께 0.3 ㎜SUS : SUS304 plate, thickness 0.3 mm

Ni 도금 Cu:전기 Ni 도금 Cu 판 (두께 0.3 ㎜, Ni 도금 두께 2 ㎛)Ni-plated Cu: Electro-Ni-plated Cu plate (thickness 0.3 mm, Ni plating thickness 2 micrometers)

이들 금속 재료로부터, 표 1 ~ 표 6 의 「기재」란에 나타내는 금속 재료를 선택하여, 실시예 1 ~ 91 및 비교예 1 ~ 24 의 기재 금속으로서 준비하였다. From these metal materials, the metal material shown by the "base material" column of Table 1-Table 6 was selected, and it prepared as the base metal of Examples 1-91 and Comparative Examples 1-24.

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[공시재의 제작][Production of test materials]

(표면 처리)(Surface treatment)

표 1 ~ 표 6 에 나타낸 실시예 1 ~ 91 및 비교예 1 ~ 20 의 기재 금속을 파인 클리너 359E (닛폰 파카라이징 주식회사 제조의 알칼리 탈지제) 의 3 % 수용액으로 65 ℃, 1 분간 스프레이 탈지한 후, 수세하여 표면을 청정하였다. 계속해서, 금속 재료의 표면의 수분을 증발시키기 위해서, 80 ℃ 에서 1 분간, 가열 건조시켰다. 탈지 세정한 기재 금속의 표면에, 각각, 표 1 ~ 표 6 에 나타낸 실시예 1 ~ 90 및 비교예 1 ~ 20 의 수계 금속 표면 처리제를 #3 SUS 마이어 바를 사용하여 바 코트에 의해 도포하고 (도포 공정), 열풍 순환식 건조로 내에서 200 ℃, 1 분간 건조시켜 (건조 공정), 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료를 얻었다. 또한, 동종의 수계 금속 표면 처리제를 사용하여 표면 처리한 금속 재료를 각각 2 개씩 준비하여, 이하에 나타내는 바와 같이, 표면 처리 피막 상에 각각 다른 방법으로 라미네이트 가공을 실시하였다.After spray-degreasing at 65 degreeC for 1 minute with 3% aqueous solution of the cleaner 359E (an alkali degreasing agent by Nippon Parkarizing Co., Ltd.) which used the base metal of Examples 1-91 and Comparative Examples 1-20 shown in Table 1-Table 6, The surface was washed by washing with water. Subsequently, in order to evaporate the water | moisture content of the surface of a metal material, it heat-dried at 80 degreeC for 1 minute. On the surface of the base metal degreased and cleaned, the aqueous metal surface treatment agents of Examples 1 to 90 and Comparative Examples 1 to 20 shown in Tables 1 to 6, respectively, were coated with a bar coat using a # 3 SUS Meier Bar (coating Process) and it dried in 200 degreeC for 1 minute in a hot-air circulation type drying furnace (drying process), and obtained the metal material which has a surface treatment film. In addition, two metal materials surface-treated using the same type of water-based metal surface treatment agent were prepared, respectively, and as shown below, lamination processing was performed on the surface treatment film by a different method.

또, 비교예 21 ~ 24 에 기재된 금속 재료를 준비하고, 수계 금속 표면 처리제를 도포하지 않고, 상기와 동일하게 탈지, 수세 후에 가열 건조시켜, 표면 처리 피막을 갖지 않는 금속 재료를 얻었다. 또한, 동종의 금속 재료를 2 개씩 준비하여, 이하에 나타내는 바와 같이, 각각 다른 방법으로 표면에 라미네이트 가공을 실시하였다.Moreover, the metal material of Comparative Examples 21-24 was prepared, it was heat-dried after degreasing and water washing similarly to the above, without apply | coating an aqueous metal surface treating agent, and the metal material which does not have a surface treatment film was obtained. Moreover, two metal materials of the same kind were prepared, and the lamination process was given to the surface by the different method, respectively, as shown below.

(라미네이트 가공)(Lamination processing)

2 개씩 준비한 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료 중 1 개에 대하여, 그 표면 처리 피막 상에, 히트 라미네이션에 의한 라미네이트 가공을 실시하였다. 다른 1 개의 표면 처리 피막 상에, 드라이 라미네이션에 의한 라미네이트 가공을 실시하였다. 표면 처리 피막을 갖지 않는 금속 재료에 대해서도, 2 개 중 1 개의 편측 표면에 히트 라미네이션을 실시하고, 다른 1 개의 편측 표면에 드라이 라미네이션을 실시하였다.About one of the metal materials which have the surface treatment film prepared by two, the lamination process by heat lamination was performed on the surface treatment film. On the other surface treatment film, lamination processing by dry lamination was performed. Also about the metal material which does not have a surface treatment film, heat lamination was performed to one one side of two, and dry lamination was performed to the other one side surface.

히트 라미네이션에 의한 라미네이트 가공은 다음과 같이 실시하였다. 산 변성 폴리프로필렌의 디스퍼전 (미츠이 화학 주식회사 제조, 「R120K」, 불휘발분 농도 20 질량%) 을 #8 SUS 마이어 바를 사용하여 바 코트에 의해 도포한 후, 열풍 순환식 건조로 내에서 200 ℃, 1 분간 건조시킴으로써 접착제층을 형성하였다. 그 후, 이 접착제층과, 두께 30 ㎛ 의 폴리프로필렌 필름 (토세로 주식회사 제조, 「CPPS」) 을, 190 ℃, 2 ㎫ 로 10 분간 열압착함으로써 히트 라미네이션에 의한 라미네이트 가공을 실시하여, 폴리프로필렌 필름이 적층된 금속 재료를 얻었다.Lamination processing by heat lamination was performed as follows. Dispersion of acid-modified polypropylene (manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., "R120K", non-volatile content 20 mass%) was applied by a bar coat using a # 8 SUS Meier bar, followed by 200 ° C in a hot air circulating drying furnace. The adhesive bond layer was formed by drying for 1 minute. Then, this adhesive bond layer and the 30-micrometer-thick polypropylene film (Toppero Co., Ltd. make, "CPPS") are thermally crimped at 190 degreeC and 2 Mpa for 10 minutes, and the lamination process by heat lamination is performed and polypropylene The metal material in which the film was laminated | stacked was obtained.

드라이 라미네이션에 의한 라미네이트 가공은 다음과 같이 실시하였다. 우레탄계 드라이 라미네이트 접착제 (토요 모튼 주식회사 제조, 「AD-503/CAT10」, 불휘발분 농도 25 질량%) 를, #8 SUS 마이어 바를 사용하여 바 코트에 의해 도포한 후, 열풍 순환식 건조로 내에서 80 ℃, 1 분간 건조시키고, 그 후, 이 접착제층과 30 ㎛ 의 미연신 폴리프로필렌 필름 (후타무라 화학 공업 주식회사 제조, 「FCZX」) 의 코로나 방전 처리면을 100 ℃, 1 ㎫ 로 압착 후, 40 ℃ 에서 4 일간 양생함으로써, 드라이 라미네이션에 의한 라미네이트 가공을 실시하여, 폴리프로필렌 필름이 적층된 금속 재료를 얻었다.Lamination processing by dry lamination was performed as follows. After urethane-based dry laminate adhesive (Toyo Morton Co., Ltd. make, "AD-503 / CAT10", non-volatile content concentration 25 mass%) was apply | coated by the bar coat using # 8 SUS Meier bar, 80 in hot-air circulation type drying furnace. After drying at 1 degreeC for 1 minute, after crimping | bonding this adhesive bond layer and the corona discharge treated surface of a 30 micrometer unstretched polypropylene film (The FTAmura Chemical Industry Co., Ltd. product, "FCZX") to 100 degreeC and 1 MPa, By curing for 4 days at ° C, lamination was performed by dry lamination to obtain a metal material on which a polypropylene film was laminated.

(성형 가공)(Molding)

히트 라미네이션에 의해 얻은 폴리프로필렌 필름 적층 금속 재료와, 드라이 라미네이션에 의해 얻은 폴리프로필렌 필름 적층 금속 재료를, 각각 드로잉 아이어닝 가공 시험으로 딥 드로잉 가공하였다. 직경 160 ㎜ 로 타발한 피복 금속판을 드로잉 가공 (1 회째) 하여, 직경 100 ㎜ 의 컵을 제작하였다. 계속해서, 그 컵을 직경 75 ㎜ 로 다시 드로잉 가공 (2 회째) 하고, 또한 직경 65 ㎜ 로 드로잉 가공 (3 회째) 하여, 공시재인 캔을 제작하였다. 또한, 1 회째의 드로잉 가공, 2 회째의 드로잉 가공, 3 회째의 드로잉 가공에 있어서의 아이어닝 (박육화분) 율은, 각각, 5 %, 15 %, 15 % 였다.The polypropylene film laminated metal material obtained by heat lamination and the polypropylene film laminated metal material obtained by dry lamination were each deep-drawn by drawing ironing test. The coated metal plate punched out to 160 mm in diameter was draw-processed (first time), and the cup of diameter 100mm was produced. Subsequently, the cup was again drawn into the diameter of 75 mm (second time), and further drawn into the diameter of 65 mm (third time) to prepare a can as a test material. In addition, the ironing (thin powder) rates in the 1st drawing process, the 2nd drawing process, and the 3rd drawing process were 5%, 15%, and 15%, respectively.

[성능 평가][Performance evaluation]

(밀착성)(Adhesion)

성형 가공 후의 캔에 대하여, 폴리프로필렌 필름의 박리 유무 (이하, 「초기 밀착성」이라고 한다) 를 평가하였다. 캔을 제작할 수 있고, 필름의 박리가 없고 초기 밀착성이 우수한 것을 「3 점」으로 하고, 필름의 일부가 박리된 것을 「2 점」으로 하고, 필름이 전체면 박리된 것을 「1 점」으로 하였다. 평가 시험의 결과를 표 7 ~ 표 9 에 나타낸다.About the can after a shaping | molding process, the presence or absence of peeling of a polypropylene film (henceforth "initial adhesiveness") was evaluated. A can was produced, the thing which peeled off the film and was excellent in initial stage adhesiveness was made into "three points", the thing which peeled a part of film into "two points", and the thing in which the film peeled from the whole surface was made into "one point". . The results of the evaluation test are shown in Tables 7 to 9.

(내약품 밀착 유지성)(Drug-resistance adhesion retention)

내약품 밀착 유지성 중, 여기서는, 전해액에 대한 밀착 유지성 (이하, 「내전해액 밀착 유지성」이라고 한다) 에 대하여 평가하였다. 상세하게는, 다음과 같이 하여, 성형 가공 후에 또한 전해액에 침지한 후의 캔에 대하여, 폴리프로필렌 필름의 박리 유무를 평가하였다.Among chemical-resistance adhesive-resistance, it evaluated about adhesive-resistance (henceforth "electrolyte solution adhesion retention" hereafter) with respect to electrolyte solution. In detail, the presence or absence of the peeling of a polypropylene film was evaluated about the can after the molding process and after immersing in electrolyte solution as follows.

딥 드로잉 가공한 후의 캔을, 밀폐 용기 중에 충전된, 이온 교환수를 1000 ppm 첨가한 리튬 이온 이차 전지용 전해액 (전해질;1 ㏖/ℓ 의 LiPF6, 용제;EC:DMC:DEC = 1:1:1 (체적%)) 중에 침지한 후, 60 ℃ 항온조 중에 7 일간 투입하였다. 또한, 「EC」는 에틸렌카보네이트이고, 「DMC」는 디메틸카보네이트이고, 「DEC」는 디에틸카보네이트이다.Of the can after the deep drawing, the charge in the closed container, the ion-exchanged water 1000 ppm addition of a lithium ion secondary battery electrolyte (electrolyte; 1 ㏖ / ℓ of LiPF 6, solvent; EC: DMC: DEC = 1 : 1: It was immersed in 1 (vol%)), and it put in the 60 degreeC thermostat for 7 days. In addition, "EC" is ethylene carbonate, "DMC" is dimethyl carbonate, and "DEC" is diethyl carbonate.

그 후, 공시재를 취출하고, 이온 교환수 중에 1 분간 침지, 요동시킴으로써 세정한 후, 열풍 순환식 건조로 내에서, 100 ℃ 에서 10 분간 건조시켰다. 그 후 필름면을 핀셋 끝으로 긁어, 필름의 박리가 없고 내전해액 밀착 유지성이 우수한 것을 「3 점」으로 하고, 필름의 일부가 박리된 것을 「2 점」으로 하고, 필름이 전체면 박리된 것을 「1 점」으로 하여 평가하였다. 평가 시험의 결과를 표 7 ~ 표 9 에 나타낸다.Thereafter, the test material was taken out and washed by immersion and shaking in ion-exchanged water for 1 minute, and then dried at 100 ° C. for 10 minutes in a hot air circulation drying furnace. After that, the surface of the film was scraped off with a tweezers tip, and the film had no peeling and was excellent in electrolyte-resistance adhesion retention, and the film was peeled off the entire surface. It evaluated as "one point." The results of the evaluation test are shown in Tables 7 to 9.

표 7 ~ 표 9 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1 ~ 91 에 기재된 수계 금속 표면 처리제를 도포하여 형성된 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료는, 히트 라미네이션 및 드라이 라미네이션 중 어느 것에 있어서도, 초기 밀착성 및 내전해액 밀착 유지성이 매우 우수하다는 것이 확인되었다.As shown to Table 7-Table 9, the metal material which has a surface treatment film formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent of Examples 1-91, also has initial stage adhesiveness and electrolyte solution adhesion | attachment in any of heat lamination and dry lamination. It was confirmed that the retention was very excellent.

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1 : 기재 금속
2 : 표면 처리 피막
3 : 수지 필름 (라미네이트 필름) 또는 수지 도포막
10 : 표면 처리 피막을 갖는 금속 재료
1: base metal
2: surface treatment film
3: resin film (laminate film) or resin coating film
10: metal material having a surface treatment film

Claims (4)

카르복실기 및/또는 수산기를 분자량 30 ~ 300 에 1 개의 비율로 1 분자 중에 2 개 이상 함유하고, 분자량이 10000 이하인 유기 화합물 (A) 와, 상기 카르복실기 및/또는 상기 수산기와 반응할 수 있는 구조 단위를 갖는 가교성 유기 화합물 (B1) 및 상기 카르복실기 및/또는 상기 수산기와 반응할 수 있는 원소를 함유하는 가교성 무기 화합물 (B2) 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 가교성 화합물 (B) 를 함유하는 것을 특징으로 하는 수계 금속 표면 처리제.A structural unit capable of reacting two or more carboxyl groups and / or hydroxyl groups in one molecule at a molecular weight of 30 to 300 in one molecule, having a molecular weight of 10000 or less, and the carboxyl group and / or the hydroxyl group It contains 1 type (s) or 2 or more types of crosslinkable compounds (B) chosen from the crosslinkable organic compound (B1) which has and the crosslinkable inorganic compound (B2) containing the element which can react with the said carboxyl group and / or the said hydroxyl group. An aqueous metal surface treatment agent. 제 1 항에 있어서,
상기 가교성 유기 화합물 (B1) 이 카르보디이미드 결합, 옥사졸린기, 글리시딜에테르기, 이소시아네이트기 및 메틸올기에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 구조 단위를 갖는 수계 금속 표면 처리제.
The method of claim 1,
The water-based metal surface treatment agent in which the said crosslinkable organic compound (B1) has 1 type (s) or 2 or more types of structural units chosen from a carbodiimide bond, an oxazoline group, a glycidyl ether group, an isocyanate group, and a methylol group.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 가교성 무기 화합물 (B2) 가 Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr(Ⅲ), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, Ta, Te, In, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd 및 La 에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 원소를 함유하는 수계 금속 표면 처리제.
3. The method according to claim 1 or 2,
The crosslinkable inorganic compound (B2) is Mg, Al, Ca, Mn, Co, Ni, Cr (III), Zn, Fe, Zr, Ti, Si, Sr, W, Ce, Mo, V, Sn, Bi, An aqueous metal surface treating agent containing one or two or more elements selected from Ta, Te, In, Ba, Hf, Se, Sc, Nb, Cu, Y, Nd, and La.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 수계 금속 표면 처리제를 금속 재료 표면에 도포하여 형성된 표면 처리 피막을 갖는 것을 특징으로 하는 금속 재료.The metal material which has a surface treatment film formed by apply | coating the water-based metal surface treatment agent in any one of Claims 1-3 on the metal material surface.
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